WO2016035245A1 - 積層体、ならびに撮像素子パッケージ、撮像装置および電子機器 - Google Patents

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WO2016035245A1
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啓之 伊藤
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ソニー株式会社
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    • H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
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    • H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N23/00—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof
    • H04N23/50—Constructional details
    • H04N23/55—Optical parts specially adapted for electronic image sensors; Mounting thereof

Definitions

  • the present technology relates to a laminated body, and an image pickup device package, an image pickup apparatus, and an electronic device including the same.
  • the present invention relates to a laminated body having an antireflection function, and an image pickup device package, an image pickup apparatus, and an electronic apparatus including the same.
  • the optical adjustment function refers to an optical adjustment function of transmission characteristics and / or reflection characteristics.
  • Patent Document 2 proposes a technique in which a force is physically applied to the moth eye structure by rubbing to tilt and align the moth eye structure.
  • JP 2011-053495 A Japanese Patent No. 5108151
  • An object of the present technology is to provide a laminate having an excellent optical adjustment function, and an image pickup device package, an image pickup apparatus, and an electronic apparatus including the same.
  • the first technique is: A first layer having first irregularities; A second layer having second irregularities, The arithmetic average roughness of the second unevenness is 0.1 ⁇ m or more and 48 ⁇ m or less,
  • the first layer includes a plurality of structures constituting the first unevenness,
  • the plurality of structures are stacked bodies that are provided on the second unevenness at a pitch equal to or less than the wavelength of light for the purpose of reducing reflection and have a plurality of orientations.
  • the second technology is An image sensor; Including a light-transmitting part and a package for accommodating an image sensor,
  • the translucent part is A first layer having first irregularities;
  • the arithmetic average roughness of the second unevenness is 0.1 ⁇ m or more and 48 ⁇ m or less
  • the first layer includes a plurality of structures constituting the first unevenness,
  • the plurality of structures are image pickup device packages that are provided on the second unevenness at a pitch equal to or less than the wavelength of light for the purpose of reducing reflection and have a plurality of orientations.
  • the third technology is Optical system, An image sensor package, and At least one of the optical system and the image sensor package is A first layer having first irregularities; A second layer having second irregularities, The arithmetic average roughness of the second unevenness is 0.1 ⁇ m or more and 48 ⁇ m or less,
  • the first layer includes a plurality of structures constituting the first unevenness, The plurality of structures are imaging devices which are provided on the second unevenness with a pitch equal to or less than the wavelength of light for the purpose of reducing reflection and have a plurality of orientations.
  • the fourth technology is Optical system, An image sensor package, and At least one of the optical system and the image sensor package is A first layer having first irregularities; A second layer having second irregularities, The arithmetic average roughness of the second unevenness is 0.1 ⁇ m or more and 48 ⁇ m or less,
  • the first layer includes a plurality of structures constituting the first unevenness, The plurality of structures are electronic devices that are provided on the second unevenness with a pitch equal to or less than the wavelength of light for the purpose of reducing reflection and have a plurality of orientations.
  • FIG. 1A is a cross-sectional view illustrating an example of a configuration of an optical laminated body according to the first embodiment of the present technology.
  • 1B is an enlarged cross-sectional view illustrating a part of the surface of the optical layered body illustrated in FIG. 1A.
  • FIG. 2A is a schematic diagram for explaining the orientation direction of a structure having a convex shape with respect to the surface of the first layer.
  • FIG. 2B is a schematic diagram for explaining the orientation direction of a structure having a concave shape with respect to the surface of the first layer.
  • 3A to 3C are process diagrams for explaining an example of the method for manufacturing the optical layered body according to the first embodiment of the present technology.
  • FIG. 4A to 4C are process diagrams for explaining an example of the method for manufacturing the optical laminated body according to the first embodiment of the present technology.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating an example of the configuration of the optical layered body according to Modification Example 1 of the first embodiment of the present technology.
  • FIG. 6A is a cross-sectional view illustrating an example of a configuration of a third layer of the optical layered body according to the second embodiment of the present technology.
  • FIG. 6B is a cross-sectional view illustrating an example of the configuration of the second layer of the optical layered body according to the second embodiment of the present technology.
  • FIG. 6B is a cross-sectional view illustrating an example of the configuration of the first layer of the optical layered body according to the second embodiment of the present technology.
  • FIG. 7A to 7C are process diagrams for explaining an example of a method for manufacturing an optical laminated body according to the second embodiment of the present technology.
  • FIG. 8A is a cross-sectional view illustrating an example of a configuration of an optical laminated body according to the third embodiment of the present technology.
  • FIG. 8B is an enlarged cross-sectional view illustrating a part of the surface of the optical layered body illustrated in FIG. 8A.
  • FIG. 9A is a cross-sectional view illustrating an example of a configuration of an image sensor package according to a fourth embodiment of the present technology.
  • FIG. 9B is a cross-sectional view illustrating an example of a configuration of an image sensor package according to a modification of the fourth embodiment of the present technology.
  • FIG. 8A is a cross-sectional view illustrating an example of a configuration of an optical laminated body according to the third embodiment of the present technology.
  • FIG. 8B is an enlarged cross-sectional view illustrating a part of the surface of the optical
  • FIG. 10 is a cross-sectional view illustrating an example of a configuration of a camera module according to the fifth embodiment of the present technology.
  • FIG. 11 is a schematic diagram illustrating an example of a configuration of an imaging device according to the sixth embodiment of the present technology.
  • FIG. 12 is a schematic diagram illustrating an example of a configuration of an imaging device according to the seventh embodiment of the present technology.
  • FIG. 13 is a perspective view illustrating an example of an appearance of a first electronic device according to the eighth embodiment of the present technology.
  • FIG. 14A is a perspective view illustrating an example of an appearance on the front surface side of a second electronic apparatus according to the eighth embodiment of the present technology.
  • FIG. 14B is a perspective view illustrating an example of the appearance of the back surface side of the second electronic device according to the eighth embodiment of the present technology.
  • FIG. 15A is a perspective view illustrating an example of an appearance on the front surface side of a third electronic apparatus according to the eighth embodiment of the present technology.
  • FIG. 15B is a perspective view illustrating an example of the appearance of the back surface side of the third electronic device according to the eighth embodiment of the present technology.
  • FIG. 16 is a diagram showing measurement results of loss elastic modulus and storage elastic modulus of the first layer and the second layer of the optical layered body of Example 1.
  • the optical laminated body 10 includes a first layer 11 having a first unevenness 11s and a second layer 12 having a second unevenness 12s.
  • the first layer 11 is provided on the second unevenness 12 s of the second layer 12.
  • an arrow n indicates the normal direction of a plurality of curved surfaces and / or planes constituting the second unevenness 12s.
  • the first unevenness 11s is for reducing light reflection
  • the second unevenness 12s is for imparting orientation to the first unevenness 11s.
  • the optical laminated body 10 has transparency.
  • the transparency is, for example, transparency to at least one kind of light among ultraviolet light, visible light, and infrared light.
  • ultraviolet light is light in a wavelength band of 10 nm to less than 350 nm
  • visible light is light in a wavelength band of 350 nm to 850 nm
  • infrared light is light in a wavelength band of more than 850 nm to 1 mm or less.
  • a refractive index adjusting layer may be further provided on the surface of the first layer 11 on the first unevenness 11s side, between the first layer 11 and the second layer 12, or on the surface of the second layer 12 opposite to the second unevenness 12s.
  • an adhesion improving process may be performed between the first layer 11 and the second layer 12.
  • Applicable objects of the optical laminate 10 include, for example, a light guide material provided with an arbitrary light extraction shape, a polarization control optical element, a window material such as an image sensor cover glass, a filter such as a camera ND filter, and a camera. Examples thereof include, but are not limited to, optical elements such as lenses such as lenses for use, transflective mirrors, light control elements, prisms, and display front plates. Moreover, you may use the optical laminated body 10 as a low reflection light transmissive layer which can maintain a low reflectance also with respect to a microlens array and low angle incident light, for example.
  • the first layer 11 is transparent to light and has first irregularities 11s on the surface.
  • the first unevenness 11s is an unevenness finer than the second unevenness 12s, and has a nano-order pitch, for example. More specifically, the 1st unevenness
  • the first layer 11 is an antireflection layer having an antireflection function.
  • the first layer 11 includes a structural layer including a plurality of first structural bodies 11a.
  • the first layer 11 may further include an intermediate layer (optical layer) 11 b provided between the structural layer including the plurality of first structural bodies 11 a and the second layer 12.
  • the plurality of first structures 11a are not limited to the configuration provided on the entire surface of the second unevenness 12s, but are selectively provided in a portion such as the top of the second unevenness 12s. May be.
  • the first structure 11a is a so-called sub-wavelength structure.
  • the first structure 11 a has a convex shape or a concave shape with respect to the surface of the first layer 11.
  • FIG. 1B shows an example in which the first structure 11a has a convex shape.
  • the plurality of first structures 11a are arranged at a pitch P equal to or less than the wavelength band of light for the purpose of reducing reflection, and have a plurality of orientations.
  • the wavelength band of light for the purpose of reducing reflection is, for example, the wavelength band of ultraviolet light, the wavelength band of visible light, or the wavelength band of infrared light.
  • the wavelength band of ultraviolet light is a wavelength band of 10 nm or more and less than 350 nm
  • the wavelength band of visible light is a wavelength band of 350 nm or more and 850 nm or less
  • the wavelength band of infrared light is a wavelength band of more than 850 nm and 1 mm or less.
  • the aspect ratio (height / arrangement pitch) of the first structure 11a is preferably in the range of 0.81 to 1.46, more preferably 0.94 to 1.28. If the ratio is less than 0.81, the reflection characteristics and the transmission characteristics tend to be lowered. If the ratio exceeds 1.46, the peeling characteristics are lowered during the formation of the first structure 11a, and the replica cannot be reproduced neatly. Because there is.
  • the orientation direction of the plurality of first structures 11a is preferably substantially perpendicular to the plurality of curved surfaces and / or planes constituting the second unevenness 12s. However, the orientation direction of the plurality of first structures 11a provided in the top and valley portions of the second unevenness 12s is excluded. By making the orientation direction substantially vertical as described above, the orientation directions of the plurality of first structures 11a can be accurately set by adjusting the shape of the second unevenness 12s of the second layer 12.
  • the term “substantially perpendicular” refers to the orientation direction m of the first structure 11a and the normal direction n of the plurality of curved surfaces and / or planes constituting the second unevenness 12s.
  • the angle ⁇ formed by is within ⁇ 10 °.
  • 2A shows an example in which the first structure 11a has a convex shape with respect to the surface of the first layer 11, and FIG. 2B shows the first structure 11a with respect to the surface of the first layer 11.
  • An example having a concave shape is shown.
  • a plurality of first structures 11a in which the orientation direction m exceeds ⁇ 10 ° may be included in a part as long as the antireflection characteristic is not deteriorated.
  • the orientation direction of the first structure 11a is as shown in FIG. 2A. This is the direction from the center Pc of the bottom surface toward the vertex Pt.
  • the first structure 11a has a concave shape with respect to the surface of the first layer 11, as shown in FIG. 2B, the direction from the vertex Pt of the first structure 11a to the center Pc of the bottom surface It is.
  • the plurality of first structures 11 a are arranged so as to form a plurality of rows on the surface of the second layer 12, for example.
  • the row may have either a linear shape or a curved shape.
  • a plurality of rows in a part of the surface of the second layer 12 may be linear, and a plurality of rows in other regions may be curved.
  • Examples of the curve include a curve meandering periodically or aperiodically. Examples of such curves include waveforms such as sine waves and triangular waves, but are not limited thereto.
  • the arrangement of the plurality of first structures 11a on the surface of the second layer 12 may be either regular arrangement or irregular arrangement.
  • a lattice arrangement such as a tetragonal lattice, a quasi-tetragonal lattice, a hexagonal lattice, or a quasi-hexagonal lattice is preferable.
  • the tetragonal lattice means a regular tetragonal lattice.
  • a quasi-tetragonal lattice means a distorted regular tetragonal lattice unlike a regular tetragonal lattice.
  • the hexagonal lattice means a regular hexagonal lattice.
  • the quasi-hexagonal lattice means a distorted regular hexagonal lattice unlike a regular hexagonal lattice.
  • the shape of the first structure 11a include a cone shape, a column shape, a needle shape, a hemispherical shape, a semi-ellipsoidal shape, and a polygonal shape, but are limited to these shapes. Instead, other shapes may be employed.
  • the cone shape include a cone shape with a sharp top, a cone shape with a flat top, and a cone shape with a convex or concave curved surface at the top, but are not limited to these shapes. is not.
  • Examples of the cone shape having a convex curved surface at the top include a quadric surface shape such as a parabolic shape. Further, the cone-shaped cone surface may be curved concavely or convexly.
  • the plurality of first structures 11a provided on the surface of the second layer 12 may all have the same size, shape and height, or the plurality of first structures 11a Those having different sizes, shapes or heights may be included. Moreover, the some 1st structure 11a may contain what is connected so that lower parts may overlap.
  • the thickness d of the structural layer is, for example, 100 nm or more and 400 nm or less.
  • the thickness D of the intermediate layer 11b is, for example, not less than 50 nm and not more than 16000 nm.
  • the thickness d of the structure layer means the height of the first structure 11a when the first structure 11a is convex, and the first structure 11a is concave. In the case, it means the depth of the first structure 11a.
  • the thickness D of the intermediate layer 11b means the distance from the surface of the second layer 12 to the deepest position of the valley portion between the adjacent first structures 11a.
  • the thickness d of the structural layer is in the range of about 100 nm to about 400 nm
  • the ratio R is out of the range of 50% to 4000%
  • the alignment process becomes difficult. More specifically, when the ratio R is less than 50%, the first structure 11a is broken from the root during the transfer process of the second structure 12a described later (that is, during the alignment process). It becomes difficult to orient the first structure 11a.
  • the ratio R exceeds 4000%, the intermediate structure 11a is broken during the transfer process of the second structure 12a described later (that is, during the alignment process), and the first structure 11a is aligned. It becomes difficult to make.
  • the second layer 12 is transparent to light and has second irregularities 12s on the surface.
  • the second unevenness 12s is an unevenness larger than the first unevenness, and has, for example, a micro-order pitch.
  • corrugation 12s is a lens pattern (for example, micro lens pattern) which has directivity (for example, condensing property).
  • the second unevenness 12s is constituted by a plurality of second structures 12a arranged one-dimensionally or two-dimensionally on the surface of the second layer 12.
  • the second structural body 12 a has a convex shape or a concave shape with respect to the surface of the second layer 12.
  • FIG. 1A shows an example in which the second structure 12a has a convex shape.
  • the arrangement of the plurality of second structures 12a on the surface of the second layer 12 may be either a regular arrangement or an irregular arrangement. Irregularity may be imparted to the size and shape of the second structure 12a.
  • the second structure 12a has a curved surface and / or a planar side surface.
  • the side surface refers to a surface excluding a top portion of the second structure 12a and a portion between the adjacent second structures 12a.
  • the orientation direction of the plurality of first structures 11a is preferably substantially perpendicular to the side surface of the second structure 12a.
  • the second structures 12a arranged one-dimensionally are, for example, columnar structures extending in one direction.
  • the plurality of second structures 12 a having a columnar shape are arranged one-dimensionally in one direction on the surface of the second layer 12.
  • Examples of the shape of the second structures 12a arranged one-dimensionally include a lenticular shape such as a prism shape, a shape obtained by rounding the top of the prism shape, and a cylindrical shape.
  • the lenticular shape means that the cross-sectional shape perpendicular to the ridge line of the convex portion is an arc shape or a substantially arc shape, an elliptic arc shape or a substantially elliptic arc shape, or a part of a parabolic shape or a substantially parabolic shape. Therefore, a cylindrical shape is also included in the lenticular shape.
  • the ridge line portion may have a curvature R.
  • the shape of the second structures 12a arranged one-dimensionally is not limited to the shape described above, and may be a toroidal shape, a hyperbolic column shape, an elliptical column shape, a polygonal column shape, or a free-form surface shape. Also, the apex of the prism shape and the lenticular shape may be a polygonal shape.
  • Examples of the shape of the second structures 12a arranged two-dimensionally include a corner cube shape, a hemispherical shape, a semi-elliptical spherical shape, a prism shape, a free-form surface shape, a polygonal shape, a conical shape, a polygonal pyramid shape, Examples include a parabolic shape.
  • the bottom surface of the second structure 12a has, for example, a circular shape, an elliptical shape, or a polygonal shape such as a triangular shape, a quadrangular shape, a hexagonal shape, or an octagonal shape.
  • the configuration and arrangement of the second structures 12a are not limited to the above example.
  • a plurality of second structures 12a extending in a circular shape may be arranged concentrically.
  • a specific example of such a shape is a Fresnel lens.
  • the arrangement of the second structures 12a is preferably an arrangement in the most densely packed state.
  • a dense array such as a square dense array, a delta dense array, or a hexagonal dense array may be formed by two-dimensionally arranging the second structures 12a on the surface of the second layer 12 in the most densely packed state.
  • the second structures 12a having a square bottom surface are arranged in a square dense form.
  • the second structures 12a having a triangular bottom surface are arranged in a hexagonal dense form.
  • the hexagonal close-packed array is obtained by arranging second structures 12a having hexagonal bottom surfaces in a hexagonal close-packed shape.
  • the second layer 12 has transparency.
  • an organic material or an inorganic material may be used.
  • the inorganic material include quartz, sapphire, and glass.
  • a general polymer material can be used as the organic material.
  • the general polymer material examples include triacetyl cellulose (TAC), polyester (TPEE), polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyimide (PI), polyamide (PA), Aramid, polyethylene (PE), polyacrylate, polyether sulfone, polysulfone, polypropylene (PP), diacetyl cellulose, polyvinyl chloride, acrylic resin (PMMA), polycarbonate (PC), epoxy resin, urea resin, urethane resin, melamine Resins, cycloolefin polymers (COP), cycloolefin copolymers and the like.
  • an undercoat layer is provided as a surface treatment in order to improve the surface energy, coatability, slipperiness and flatness of the surface of the second layer 12. Also good.
  • the material for the undercoat layer include organoalkoxy metal compounds, polyesters, acrylic-modified polyesters, and polyurethanes.
  • the surface of the second layer 12 may be subjected to a surface treatment such as corona discharge or UV irradiation treatment.
  • the shape of the second layer 12 examples include a film shape, a plate shape, and a block shape, but are not particularly limited to these shapes.
  • the film shape is defined to include a sheet shape.
  • the thickness of the second layer 12 is, for example, about 25 ⁇ m to 500 ⁇ m.
  • the second layer 12 is obtained by, for example, a method of stretching the above-mentioned resin or diluting with a solvent, forming a film, and drying the film. Can do.
  • the second layer 12 may be a component such as a member or an apparatus to which the optical laminate 10 is applied.
  • the arithmetic average roughness Ra of the second unevenness is preferably 0.1 ⁇ m or more and 48 ⁇ m or less.
  • the arithmetic average roughness Ra is less than 0.1 ⁇ m, it is difficult to adjust the orientation direction of the first structure 11a due to the second unevenness 12s of the second layer 12, and reflection with respect to incident light is reflected. There exists a tendency for the prevention effect to fall.
  • the arithmetic average roughness Ra exceeds 48 ⁇ m, the antireflection effect tends to decrease due to the second layer 12 breaking or the like.
  • a first master 21 having a molding surface 21s as one main surface is prepared.
  • the molding surface 21s is a concavo-convex surface and includes a plurality of structures 21a arranged two-dimensionally.
  • the structure 21a has, for example, a concave shape or a convex shape with respect to one main surface of the first master 21.
  • the plurality of structures 21a constituting the molding surface 21s and the plurality of first structures 11a constituting the first unevenness 11s described above have substantially the same shape, and the inverted unevenness relationship. It is in.
  • the material of the first master 21 for example, silicon, glass, metal or the like can be used, but it is not particularly limited to these materials.
  • a method for producing the first master 21 a method in which photolithography, anodic oxidation, an optical disc master production process and an etching process are combined (for example, see Patent Document 1) can be used. Further, a duplicate master may be produced from the first master 21 by electroforming and used.
  • the specific method of transfer varies depending on the type of transfer material 24.
  • the transfer material 24 is an energy ray curable resin composition
  • the first master 21 and the transfer material 24 applied on the second layer 12 are brought into close contact with each other, and energy rays such as ultraviolet rays are applied.
  • the transfer material 24 is irradiated from the energy ray source 25 to be cured.
  • the second layer 12 integrated with the cured transfer material 24 is peeled off.
  • the transfer material 24 is a thermosetting resin
  • the first master 21 and the transfer material 24 applied onto the second layer 12 are brought into close contact with each other, and the transfer material 24 is heated by a heat source such as a heater.
  • the transfer material 24 is cured.
  • the second layer 12 integrated with the cured transfer material 24 is peeled off.
  • the energy ray source 25 can emit energy rays such as electron beam, ultraviolet ray, infrared ray, laser beam, visible ray, ionizing radiation (X ray, ⁇ ray, ⁇ ray, ⁇ ray, etc.), microwave, or high frequency. There is no particular limitation as long as it is sufficient.
  • the transfer material 24 it is preferable to use an energy beam curable resin composition or a thermosetting resin, and these may be used in combination.
  • the energy ray curable resin composition and the thermosetting resin include acrylic resin, methacrylic resin, urethane resin, epoxy (oxetane) resin, siloxane resin, thiol resin, macromer having hyperbranched structure, polysilane, silazane, Silsesquioxane or the like can be used. These blending amounts are preferably selected as appropriate in consideration of the elastic modulus of the first layer 11.
  • the transfer material 24 may contain a filler, a functional additive, etc. as needed.
  • an ultraviolet curable resin composition is preferably used.
  • an acrylic or epoxy ultraviolet curable resin composition can be used.
  • the ultraviolet curable resin composition contains, for example, an acrylate and an initiator.
  • the ultraviolet curable resin composition includes, for example, a monofunctional monomer, a bifunctional monomer, a polyfunctional monomer, and the like.
  • the ultraviolet curable resin composition is a single material or a mixture of the following materials.
  • Monofunctional monomers include, for example, carboxylic acids (acrylic acid), hydroxys (2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate), alkyls, alicyclics (isobutyl acrylate, t-butyl acrylate) , Isooctyl acrylate, lauryl acrylate, stearyl acrylate, isobornyl acrylate, cyclohexyl acrylate), other functional monomers (2-methoxyethyl acrylate, methoxyethylene crycol acrylate, 2-ethoxyethyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, benzyl acrylate, Ethyl carbitol acrylate, phenoxyethyl acrylate, N, N-dimethylaminoethyl acrylate, N, N -Dimethylaminopropylacrylamide, N, N-di
  • bifunctional monomer examples include tri (propylene glycol) diacrylate, trimethylolpropane diallyl ether, urethane acrylate, and the like.
  • polyfunctional monomer examples include trimethylolpropane triacrylate, dipentaerythritol penta and hexaacrylate, and ditrimethylolpropane tetraacrylate.
  • the initiator examples include 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, and the like. Can be mentioned.
  • inorganic fine particles examples include metal oxide fine particles such as SiO 2 , TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2 , and Al 2 O 3 .
  • Examples of the functional additive include a leveling agent, a surface conditioner, and an antifoaming agent.
  • the molding method of the second layer 12 is not particularly limited, and may be an injection molded body, an extruded molded body, or a cast molded body. If necessary, surface treatment such as corona treatment may be applied to the surface of the second layer 12.
  • the material of the second layer 12 is not particularly limited as long as it is a resin material having heat softening properties.
  • the resin material having thermosoftening properties include thermoplastic resins and low-melting glass. You may use what mixed porous material, microparticles
  • a second master 22 having a molding surface 22s as one main surface is prepared.
  • the molding surface 22s is a concavo-convex surface and includes a plurality of structures 22a arranged one-dimensionally or two-dimensionally.
  • the structure 22a has, for example, a concave shape or a convex shape with respect to one main surface of the second master 22.
  • the plurality of structures 22a constituting the molding surface 22s and the plurality of second structures 12a constituting the second irregularities 12s have substantially the same shape and have an inverted irregularity relationship. .
  • the material of the second master 22 for example, silicon, glass, metal or the like can be used, but is not particularly limited to these materials.
  • a method for manufacturing the second master 22 photolithography, cutting (for example, hairline processing), or the like can be used. Further, a duplicate master may be produced from the second master 22 by electroforming and used.
  • the elastic modulus of the first layer 11 is preferably higher than the elastic modulus of the second layer 12 at the transfer temperature in the second transfer step.
  • the transfer temperature in the second transfer step means the temperature of the molding surface 22s of the second master 22 at the time of shape transfer.
  • the softening point of the second layer 12 is preferably lower than the softening point of the first layer 11. This is because it can be suppressed that the shape of the first structure 11a is deformed by sticking or the like and the antireflection characteristic of the first layer 11 is deteriorated.
  • the first layer 21 having the first unevenness 11s is formed on the surface of the second layer 12 by curing the first master 21 while pressing it against the transfer material 24. Then, the second master 22 is pressed against the first unevenness 11 s while being heated, so that the second unevenness 12 s is applied to the surface of the second layer 12. Therefore, the orientation of the first structure 11a can be controlled by selecting the shape of the molding surface 22s of the second master 22 according to the orientation direction desired to be imparted to the first structure 11a.
  • the first structure 11a is not oriented by physically applying force to the first structure 11a by rubbing or the like, but is transferred by shape transfer by the second master 22.
  • the structure 11a is oriented. Therefore, even when a resin material having a high glass transition point Tg is used as the material of the first structure 11a, the micro-order orientation can be patterned without causing the first structure 11a to be bent.
  • the first embodiment when the elastic modulus of the first layer 11 at the transfer temperature in the second transfer step is set higher than the elastic modulus of the second layer 12, the first It is possible to suppress a decrease in the antireflection effect due to sticking occurring in the structure 11a.
  • the second transfer step for imparting the second unevenness 12s to the second layer 12 is performed last, so that a concave portion that cannot be realized by the rubbing process described in Patent Document 2 or the like is obtained.
  • an alignment treatment can be performed.
  • the antireflection effect of the first structure 11a can be imparted to a functional shape such as a lens shape or a micro shape.
  • the optical laminate 10 may be provided on the surface of the substrate 31.
  • the optical laminated body 10 may be directly provided on the surface of the base material 31, or the adhesive layer 32 may be provided between the optical laminated body 10 and the base material 31, and the two may be bonded together.
  • the adhesive constituting the adhesive layer 32 for example, one or more selected from the group consisting of acrylic adhesives, silicone adhesives, urethane adhesives, and the like can be used.
  • pressure sensitive adhesion is defined as a kind of adhesion.
  • the adhesive layer is regarded as a kind of adhesive layer.
  • the base material 31 has transparency, for example.
  • the optical layered body 10 may have light absorptivity.
  • the light absorptivity is, for example, a light absorptivity for at least one of ultraviolet light, visible light, and infrared light.
  • at least one of the first layer 11 and the second layer 12 includes, for example, a light-absorbing material. From the viewpoint of improving the light absorption, the first layer 11 and the second layer It is preferable that both of the twelve layers contain a light absorbing material.
  • the light-absorbing material for example, at least one of a black colorant, an ultraviolet absorber, and an infrared absorber can be used.
  • the optical layered body 10 is, for example, a low reflection light absorbing layer that can maintain a low reflectance even with respect to low-angle incident light.
  • black colorant examples include carbon black, titanium black, graphite, iron oxide, and titanium oxide, but are not particularly limited to these materials. Among these, carbon black, titanium black, and graphite are preferable, and carbon black is more preferable. These may be used in combination of two or more in addition to being used alone.
  • carbon black for example, commercially available carbon black can be used. Specifically, for example, # 980B, # 850B, MCF88B, # 44B manufactured by Mitsubishi Kasei, BP-800, BP-L, REGAL-660, REGAL-330 manufactured by Cabot, and Raven- manufactured by Colombian Carbon 1255, RAVEN-1250, RAVEN-1020, RAVEN-780, RAVEN-760, Printex-55, Printex-75, Printex-25, Printex-45, and SB-550 manufactured by Degussa. These can be used alone or in combination.
  • the optical layered body 30 according to the second embodiment further includes a third layer 13 having third unevenness 13s, and the second layer 12 is provided on the third unevenness 13s. This is different from the optical laminated body 10 according to the first embodiment. Note that in the second embodiment, the same portions as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.
  • the second layer 12 is provided on the third unevenness 13s of the third layer 13, and as illustrated in FIG. 6B, the first layer 11 is The second layer 12 is provided on the second unevenness 12s. Then, as shown in FIG. 6C, the first layer 11 constitutes the outermost surface of the optical laminate 30.
  • the third unevenness 13s is a prism-shaped uneven pattern
  • the second unevenness 12s is a corner cube-shaped uneven pattern
  • the first unevenness 11s is a cone.
  • corrugated pattern is shown.
  • the third layer 13 is transparent to light and has third unevenness 13s on the surface.
  • the third unevenness 13s is an unevenness larger than the second unevenness, and has a micro-order pitch, for example.
  • the third unevenness 13s is a lens pattern (for example, a microlens pattern) having directivity (for example, light condensing property).
  • the third unevenness 13 s is configured by a plurality of third structures 13 a that are one-dimensionally or two-dimensionally arranged on the surface of the third layer 13.
  • the third structure 13 a has a convex shape or a concave shape with respect to the surface of the third layer 13.
  • An example of the shape of the third structure 13a is the same as that of the second structure 12a.
  • FIG. 6A shows an example in which the third structure 13a has a convex shape.
  • 6B shows an example in which the second structure 12a has a concave shape
  • FIG. 6C shows an example in which the first structure 11a has a con
  • the manufacturing method of the optical layered body 30 according to the second embodiment of the present technology is the same as the first embodiment in that it further includes a third master preparation step and a third transfer step after the second transfer step. It differs from the manufacturing method of the optical laminated body 10 which concerns. Accordingly, only the third master preparation step and the third transfer step will be described below.
  • a third master 23 having a molding surface 23s on one main surface is prepared.
  • the molding surface 23s is an uneven surface, and is composed of a plurality of structures 23a arranged one-dimensionally or two-dimensionally.
  • the structure 23a has a concave shape or a convex shape with respect to one main surface of the third master 23, for example.
  • the plurality of structures 23a constituting the molding surface 23s and the plurality of third structures 13a constituting the third unevenness 13s have substantially the same shape and have an inverted unevenness relationship.
  • the material of the third master 23 for example, silicon, glass, metal or the like can be used, but the material is not particularly limited to these materials.
  • a method for manufacturing the third master 23 photolithography, cutting (for example, hairline processing), or the like can be used. Further, a duplicate master may be produced from the third master 23 by electroforming and used.
  • the elastic modulus of the first layer 11 and the second layer 12 at the transfer temperature in the third transfer step is preferably higher than the elastic modulus of the third layer 13. This is because even if the first layer 11 and the second layer 12 are heated and pressed in the third transfer step, the shapes of the first unevenness 11s and the second unevenness 12s can be prevented from being broken. Therefore, even after the third transfer step, the antireflection function of the first layer 11 can be maintained, and the optical characteristics (for example, directivity such as light condensing property) of the second unevenness 12s can be maintained.
  • the transfer temperature in the third transfer step means the temperature of the molding surface 23s of the third master 23 during shape transfer.
  • the orientation of the plurality of first structures 11 a included in the first layer 11 is set so that the second irregularities 12 s of the second layer 12 and the third irregularities 13 s of the third layer 13 are obtained. Therefore, it is possible to control the orientation more precisely than in the first embodiment.
  • the optical laminate 30 may be provided on the surface of the substrate.
  • the optical laminated body 30 may be directly provided on the surface of the base material, or an adhesive layer may be provided between the optical laminated body 30 and the base material, and the two may be bonded together.
  • the optical layered body 30 may have light absorptivity.
  • at least one of the first layer 11, the second layer 12, and the third layer 13 includes, for example, a light-absorbing material.
  • the optical layered body 40 according to the third embodiment has a second unevenness 41s having diffusivity instead of the second unevenness 12s (see FIG. 1A) having directivity (for example, light collecting property). This is different from the optical laminate 10 according to the first embodiment in that the layer 41 is provided. Note that in the third embodiment, the same portions as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.
  • the optical laminate 40 is, for example, a directional light diffusion film, an antiglare film having a low reflection function, or the like.
  • the second unevenness 41s may be a regular or irregular uneven pattern.
  • an antiglare layer antiglare layer
  • the optical laminate 40 may be provided on the surface of the substrate.
  • the optical laminated body 40 may be directly provided on the surface of the base material, or an adhesive layer may be provided between the optical laminated body 40 and the base material, and the two may be bonded together.
  • the optical laminate 40 may have light absorption.
  • at least one of the first layer 11 and the second layer 41 includes, for example, a light absorbing material.
  • an image sensor package (hereinafter referred to as “element package”) 114a includes a package 121, an image sensor 122 accommodated in the package 121, and a package 121.
  • the translucent part 123a fixed so as to cover the open window is provided.
  • the translucent portion 123 a includes a cover glass (cover body) 124 that is a base material, and an optical laminate 125 provided on the surface of the cover glass 124.
  • the optical laminate 125 is the optical laminate 10 according to the first embodiment, the optical laminate 30 according to the second embodiment, or the optical laminate 40 according to the third embodiment.
  • the cover glass 124 has a front surface (first surface) 124s 1 on which light from a subject is incident and a back surface (second surface) 124s 2 on which light incident from the front surface is emitted.
  • the optical laminated body 125 is provided on one of the front surface 124s 1 and the back surface 124s 2 and is preferably provided on both of them from the viewpoint of improving the antireflection characteristics and the transmission characteristics.
  • FIG. 9A shows an example in which the optical laminated body 125 is provided only on the front surface 124s 1 .
  • the image sensor 122 for example, a charge coupled device (CCD) image sensor element or a complementary metal oxide semiconductor (COMS) image sensor element is used.
  • CCD charge coupled device
  • COMP complementary metal oxide semiconductor
  • the optical laminated body 125 is provided on the surface of the cover glass 124, antireflection characteristics can be imparted to the surface of the cover glass 124 without causing interference fringes. .
  • an element package 114b according to a modification of the fourth embodiment includes an optical low-pass filter 126 and an infrared light cut filter (hereinafter referred to as “IR”) between the cover glass 124 and the optical laminate 125.
  • IR infrared light cut filter
  • FIG. 9B shows an example in which an optical low-pass filter 126 is provided on the surface of the cover glass 124, and an infrared filter 127 is provided on the surface of the optical low-pass filter 126. It is not limited to.
  • a camera module (imaging module) 131 includes a lens 132, an IR cut filter 133, an imaging element 134, a housing 135, and a circuit board 136.
  • the camera module 131 is suitable for application to electronic devices such as personal computers, tablet computers, and mobile phones.
  • the image sensor 134 is mounted at a predetermined position on the surface of the circuit board 136.
  • a housing 135 is fixed to the surface of the circuit board 136 so as to accommodate the imaging element 134.
  • a lens 132 and an IR cut filter 133 are accommodated in the housing 135.
  • the lens 132 and the IR cut filter 133 are provided at a predetermined interval in this order from the subject toward the image sensor 134.
  • Light from the subject is collected by the lens 132 and imaged on the imaging surface of the imaging element 134 via the IR cut filter 133.
  • the optical laminate 10 according to the first embodiment, the optical laminate 30 according to the second embodiment, or the optical laminate 40 according to the third embodiment is provided on the surfaces of the lens 132 and the IR cut filter 133. It has been.
  • the front surface means at least one of a front surface on which light from a subject is incident and a rear surface on which light incident from the front surface is emitted.
  • the optical laminate 10 according to the second modification of the first embodiment, the optical laminate 30 according to the second modification of the second embodiment, or the third embodiment is provided on the inner peripheral surface of the housing 135.
  • the optical laminated body 40 according to Modification 2 may be provided.
  • the optical laminate 10 according to the first embodiment, the optical laminate 30 according to the second embodiment, or the optical laminate 40 according to the third embodiment is applied to an imaging apparatus. An example will be described.
  • An imaging apparatus 100 according to the sixth embodiment is a so-called digital camera (digital still camera), and includes a housing 101, a lens barrel 102, and imaging optics provided in the housing 101 and the lens barrel 102.
  • a system 103, an element package 114, and an autofocus sensor 115 are provided.
  • the housing 101 and the lens barrel 102 may be configured to be detachable.
  • At least one of the imaging optical system 103 and the element package 114 includes the optical laminate 10 according to the first embodiment, the optical laminate 30 according to the second embodiment, and the optical laminate 40 according to the third embodiment. Includes at least one of them.
  • the imaging optical system 103 includes a lens 111, a light amount adjustment device 112, and a transflective mirror 113.
  • the lens 111, the light amount adjusting device 112, and the semi-transmissive mirror 113 are provided in this order from the tip of the lens barrel 102 toward the element package 114.
  • At least one selected from the group consisting of the lens 111, the light amount adjusting device 112, the transflective mirror 113, and the element package 114 is provided with an antireflection function.
  • the autofocus sensor 115 is provided at a position where the light L reflected by the transflective mirror 113 can be received.
  • the imaging apparatus 100 may further include a filter 116 as necessary. When the filter 116 is provided in this way, the filter 116 may be provided with an antireflection function.
  • each component and the antireflection function will be sequentially described.
  • the lens 111 condenses the light L from the subject toward the element package 114.
  • the light amount adjusting device 112 is a stop device that adjusts the size of the stop aperture with the optical axis of the imaging optical system 103 as the center.
  • the light amount adjusting device 112 includes, for example, a pair of diaphragm blades and an ND filter that reduces the amount of transmitted light.
  • a driving method of the light amount adjusting device 112 for example, a method of driving a pair of diaphragm blades and an ND filter with one actuator, and a method of driving a pair of diaphragm blades and an ND filter with two independent actuators are used. However, it is not particularly limited to these methods.
  • ND filter a filter having a single transmittance or density or a filter whose transmittance or density changes in a gradation can be used. Further, the number of ND filters is not limited to one, and a plurality of ND filters may be stacked and used.
  • the transflective mirror 113 is a mirror that transmits part of incident light and reflects the rest. Specifically, the semi-transmissive mirror 113 reflects a part of the light L collected by the lens 111 toward the autofocus sensor 115, while directing the rest of the light L toward the element package 114. To Penetrate. Examples of the shape of the semi-transmissive mirror 113 include a sheet shape and a plate shape, but are not particularly limited to these shapes. Here, the sheet is defined as including a film.
  • the element package 114 receives the light transmitted through the transflective mirror 113, converts the received light into an electrical signal, and outputs it to a signal processing circuit (not shown).
  • the autofocus sensor 115 receives the light reflected by the transflective mirror 113, converts the received light into an electrical signal, and outputs it to a control circuit (not shown).
  • the filter 116 is provided at the tip of the lens barrel 102 or in the imaging optical system 103.
  • FIG. 11 shows an example in which the filter 116 is provided at the tip of the lens barrel 102.
  • the filter 116 may have a configuration that is detachable from the distal end of the lens barrel 102.
  • a filter generally provided at the tip of the lens barrel 102 or in the imaging optical system 103 is used, but is not particularly limited thereto.
  • Illustrative examples include polarization (PL) filters, sharp cut (SC) filters, color enhancement and effect filters, neutral density (ND) filters, color temperature conversion (LB) filters, color correction (CC) filters, and white balance acquisition. Filter, lens protection filter and the like.
  • a plurality of optical elements that is, the lens 111, the light amount adjusting device 112, and the semi-transmissive light
  • the mold mirror 113 and the cover glass of the element package 114 an optical element that transmits light from the subject in the imaging apparatus 100 until it reaches the imaging element.
  • the filter 116 is also regarded as a type of transmissive optical element.
  • the optical laminated body 10 On the surface of at least one transmissive optical element among the plurality of transmissive optical elements, the optical laminated body 10 according to the first embodiment, the optical laminated body 30 according to the second embodiment, or the third The optical laminate 40 according to the embodiment is provided.
  • the surface of the transmissive optical element means an incident surface on which the light L from the subject is incident, or an exit surface from which the light L incident from the incident surface is emitted.
  • the element package 114 the element package 114a according to the above-described fourth embodiment or the element package 114b according to a modification thereof can be used.
  • the optical laminate 40 according to Example 2 may be provided. Thereby, generation
  • An imaging apparatus 201 according to the seventh embodiment is a so-called digital video camera, and includes a first lens group L1, a second lens group L2, a third lens group L3, a fourth lens group L4, an element package 202, a low-pass filter. 203, a filter 204, a motor 205, an iris blade 206, and an electric dimmer 207.
  • an image pickup optical system includes a lens first group L1, a lens second group L2, a lens third group L3, a lens fourth group L4, a low-pass filter 203, a filter 204, an iris blade 206, and an electric light control element 207.
  • the iris blade 206 and the electric light control element 207 constitute an optical adjustment device. At least one selected from the group consisting of a first lens group L1, a second lens group L2, an electric light control element 207, a third lens group L3, a fourth lens group L4, a filter 204, a cover glass with a low-pass filter 203, and the like. Is provided with an antireflection function.
  • At least one of the imaging optical system and the element package 202 includes the optical laminate 10 according to the first embodiment, the optical laminate 30 according to the second embodiment, and the optical laminate 40 according to the third embodiment. At least one of the following. Hereinafter, each component and the antireflection function will be sequentially described.
  • the first lens group L1 and the third lens group L3 are fixed lenses.
  • the second lens group L2 is a zoom lens.
  • the fourth lens group is a focusing lens.
  • the element package 202 converts incident light into an electrical signal and supplies the signal to a signal processing unit (not shown).
  • the low-pass filter 203 is provided, for example, on the front surface of the element package 202, that is, on the light incident surface of the cover glass.
  • the low-pass filter 203 is for suppressing a false signal (moire) generated when a striped pattern image or the like close to the pixel pitch is taken, and is made of, for example, an artificial crystal.
  • the filter 204 for example, cuts the infrared region of light incident on the element package 202, suppresses the floating of the spectrum in the near infrared region (630 nm to 700 nm), and makes the light intensity in the visible region (400 nm to 700 nm) uniform. It is for making.
  • the filter 204 includes, for example, an infrared light cut filter (hereinafter referred to as an IR cut filter) 204a and an IR cut coat layer 204b formed by laminating an IR cut coat on the IR cut filter 204a.
  • the IR cut coat layer 204b is formed, for example, on at least one of the subject side surface of the IR cut filter 204a and the surface of the IR cut filter 204a on the element package 202 side.
  • FIG. 12 shows an example in which an IR cut coat layer 204b is formed on the subject side surface of the IR cut filter 204a.
  • the motor 205 moves the lens fourth group L4 based on a control signal supplied from a control unit (not shown).
  • the iris blade 206 is for adjusting the amount of light incident on the element package 202 and is driven by a motor (not shown).
  • the electric light control element 207 is for adjusting the amount of light incident on the element package 202.
  • the electric light control element 207 is an electric light control element made of a liquid crystal containing at least a dye-based pigment, for example, an electric light control element made of a dichroic GH liquid crystal.
  • a plurality of optical elements (the first lens group L 1, the second lens group L 2, the electric light control element 207, the first lens element 207) until the light from the subject reaches the imaging element in the element package 202. 3 group L3, lens 4th group L4, filter 204, and cover glass with low pass filter 203).
  • a transmissive optical element On the surface of at least one transmissive optical element among the plurality of transmissive optical elements, the optical laminated body 10 according to the first embodiment, the optical laminated body 30 according to the second embodiment, or the third The optical laminate 40 according to the embodiment is provided.
  • the element package 202 the element package 114a according to the above-described fourth embodiment or the element package 114b according to a modification example thereof can be used.
  • the optical laminate 40 according to Example 2 may be provided. Thereby, generation
  • An electronic apparatus includes a camera module 131 according to the fifth embodiment.
  • examples of electronic devices according to the eighth embodiment of the present technology will be described.
  • the notebook personal computer 301 includes a computer main body 302 and a display 303.
  • the computer main body 302 includes a housing 311, a keyboard 312 and a touch pad 313 housed in the housing 311.
  • the display 303 includes a housing 321, a display element 322 and a camera module 131 housed in the housing 321.
  • the display surface of the display element 322 may include the optical laminate 10 according to the first embodiment, the optical laminate 30 according to the second embodiment, or the optical laminate 40 according to the third embodiment. Good.
  • the optical laminate 10 according to the first embodiment, the optical laminate 30 according to the second embodiment, or the third is provided on the surface of the front plate.
  • the optical laminate 40 according to the embodiment may be provided.
  • the surface means at least one of a front surface on which external light is incident and a rear surface on which external light incident from the front surface is emitted.
  • the mobile phone 331 is a so-called smartphone, and includes a housing 332, a display element with a touch panel 333 and a camera module 131 housed in the housing 332.
  • the display element 333 with a touch panel is provided on the front side of the mobile phone 331, and the camera module 131 is provided on the back side of the mobile phone 331.
  • the optical laminate 10 according to the first embodiment, the optical laminate 30 according to the second embodiment, or the optical laminate 40 according to the third embodiment is provided on the input operation surface of the display element 333 with a touch panel. You may make it provide.
  • the tablet computer 341 includes a housing 342, a display element with a touch panel 343 and a camera module 131 housed in the housing 342.
  • the display element 343 with a touch panel is provided on the front side of the tablet computer 341, and the camera module 131 is provided on the back side of the tablet computer 341.
  • the optical laminate 10 according to the first embodiment, the optical laminate 30 according to the second embodiment, or the optical laminate 40 according to the third embodiment is provided on the input operation surface of the display element 343 with a touch panel. You may make it provide.
  • the arithmetic average roughness Ra, the intermediate layer thickness D, the ratios R1 and R2, the softening point, the elastic modulus, the height H and the pitch P of the moth-eye structure in this example were determined as follows.
  • the arithmetic average roughness Ra of the second unevenness was measured according to JIS B0601. Specifically, the roughness of the second unevenness was measured using a fine shape measuring device (P-15, manufactured by KLA-Tencor) as a measuring device, and the arithmetic average roughness Ra was obtained. Note that the scan condition may be changed according to the value of Ra.
  • DVA-225 dynamic viscoelasticity measuring apparatus
  • Tan ⁇ dielectric loss
  • the storage elastic modulus was measured using a dynamic viscoelasticity measuring apparatus (DVA-225, manufactured by IT Measurement Co., Ltd.), and this storage elastic modulus was defined as the elastic modulus (“elastic modulus” in Table 1).
  • Example 1 a PMMA (Tg: 90 ° C.) film was prepared as the second layer.
  • a photocurable resin manufactured by Toyo Gosei Kogyo Co., Ltd., PAK-01
  • PAK-01 photocurable resin
  • the intermediate layer has a thickness of 0.126 ⁇ m
  • the pitch and height of the moth-eye structure are The moth-eye shape was transferred so as to be 250 nm and 250 nm, respectively.
  • the 1st layer which has a moth-eye shape was formed in the surface of the 2nd layer.
  • the hairline shape having an arithmetic average roughness Ra: 0.1 ⁇ m and a ratio R2: 54% is formed in the second layer. Formed on the surface.
  • the target optical layered body was obtained as described above.
  • Example 2 Except that the moth-eye shape was transferred so that the thickness of the intermediate layer was 10 ⁇ m, and that the hairline shape of arithmetic average roughness Ra: 0.1 ⁇ m, ratio R2: 2% was formed on the surface of the second layer, An optical laminate was obtained in the same manner as Example 1.
  • Example 3 Except that the moth-eye shape was transferred so that the thickness of the intermediate layer was 0.5 ⁇ m, and that the hairline shape of arithmetic average roughness Ra: 0.5 ⁇ m, ratio R2: 14% was formed on the surface of the second layer Obtained an optical laminate in the same manner as in Example 1.
  • Example 4 Arithmetic mean roughness Ra: An optical laminate was obtained in the same manner as in Example 3 except that a hairline shape of 1.2 ⁇ m was formed.
  • Example 5 By transferring the moth-eye shape so that the thickness of the intermediate layer is 0.5 ⁇ m, and pressing the master having a prism shape with a V-shaped cross section against the first layer at 110 ° C. and 5 MPa, the arithmetic average roughness An optical layered body was obtained in the same manner as in Example 1 except that a prism shape having a V-shaped cross section of Ra: 1.8 ⁇ m and a ratio R2: 4% was formed on the surface of the second layer.
  • Example 6 Arithmetic mean roughness Ra: An optical layered body was obtained in the same manner as in Example 5 except that a prism shape having a V-shaped cross section with a diameter of 20 ⁇ m was formed.
  • Example 7 Arithmetic mean roughness Ra: An optical layered body was obtained in the same manner as in Example 5 except that a prism shape having a V-shaped cross section of 48 ⁇ m was formed.
  • Example 8 By transferring the moth-eye shape so that the thickness of the intermediate layer is 0.5 ⁇ m, and by pressing a master having a retroreflective prism shape (corner cube pattern shape) on the first layer at 110 ° C. and 5 MPa An optical laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that a retroreflective prism shape having an arithmetic average roughness Ra: 48 ⁇ m and a ratio R2: 4% was formed on the surface of the second layer.
  • Example 9 The moth-eye shape was transferred so that the thickness of the intermediate layer was 0.5 ⁇ m, and the pitch and height of the moth-eye structure were 150 nm and 150 nm, respectively. Moreover, the hairline shape of arithmetic average roughness Ra: 0.1 micrometer and ratio R2: 14% was formed in the surface of the 2nd layer. Other than this, an optical laminate was obtained in the same manner as in Example 1.
  • Example 10 The moth-eye shape was transferred so that the thickness of the intermediate layer was 0.525 ⁇ m, and the pitch and height of the moth-eye structure were 350 nm and 350 nm, respectively. Moreover, the hairline shape of arithmetic average roughness Ra: 0.7micrometer and ratio R2: 13% was formed in the surface of the 2nd layer. Other than this, an optical laminate was obtained in the same manner as in Example 1.
  • Example 11 First, a PMMA (Tg: 90 ° C.) film was prepared as the second layer. Next, a photocurable resin (manufactured by Toyo Gosei Co., Ltd., PAK-01) was applied to the surface of the second layer, the thickness of the intermediate layer was 1 ⁇ m, the pitch and height of the moth-eye structure were 250 nm, The moth-eye shape was transferred to 250 nm. Thereby, the 1st layer which has a moth-eye shape was formed in the surface of the 2nd layer. Next, the hairline-processed stainless steel plate was pressed against the first layer at 110 ° C. and 5 MPa to form a hairline shape on the surface of the second layer.
  • a photocurable resin manufactured by Toyo Gosei Co., Ltd., PAK-01
  • a prism processed film was obtained.
  • a prism-processed film was sandwiched between mirror-finished stainless steel plates and pressed under a condition of 3 MPa at 100 ° C. to return it to a substantially flat state. This obtained the target optical laminated body.
  • Example 12 What applied PMMA (Tg: 90 degreeC) on the glass plate was used as a 2nd layer. The moth-eye shape was transferred so that the thickness of the intermediate layer was 1 ⁇ m. A prism shape having a V-shaped cross section with an arithmetic average roughness Ra: 20 ⁇ m and a ratio R2: 2% was formed on the surface of the second layer. Other than this, an optical laminate was obtained in the same manner as in Example 5.
  • Condition A The orientation of the moth-eye structure is ⁇ 30 ° or more from the normal of the optical laminate (front surface of the optical laminate (the front of the moth-eye structure)), and the orientation of the moth-eye structure is the second structure ( Hairline shape, prism shape or CCP shape) is within a range of ⁇ 10 ° or less from the slope normal line
  • Condition B The moth-eye structure is continuously formed on the surface of the first layer
  • the incident light angle ⁇ was set to 0 ° or 30 °.
  • average reflectances at incident angles of 0 ° and 30 ° in the wavelength range of 380 nm to 780 nm were obtained from the measured reflection spectrum.
  • the average reflectivity (hereinafter ““ The “average reflectance at an incident angle of 30 ° in the case of having a flat second layer” is appropriately measured) in the same manner as in Examples 1 to 12 and Reference Examples 1 to 7 described above.
  • Ratio Rb 30 [(average reflectance at an incident angle of 30 ° when having a shape-transferred second layer) / (average reflectance at an incident angle of 30 ° when having a flat second layer)]
  • Table 1 shows the configurations of the optical laminates of Examples 1 to 12 and Reference Examples 1 to 7.
  • HL hairline shape
  • V prism shape with V-shaped cross section
  • CCP corner cube pattern shape
  • Ra arithmetic average roughness
  • R1 (D / d) ⁇ 100 [%]
  • D intermediate layer thickness
  • d moth eye structure Height (structure layer thickness)
  • R2 (k / D) ⁇ 100 [%] (k: curvature of the tip of the convex portion of the second unevenness, D: thickness of the intermediate layer)
  • Table 2 shows the evaluation results of the optical laminates of Examples 1 to 12 and Reference Examples 1 to 7.
  • first layer shape collapse specifically mean the following states.
  • First layer shape collapse State in which the moth-eye shape of the first layer is crushed
  • First layer shape collapse State in which the shape rupture occurs in the moth-eye shape of the first layer
  • First layer crack First When cracks occur in the layer
  • the present technology can also employ the following configurations.
  • the first layer includes a plurality of structures constituting the first unevenness, The plurality of structures are provided on the second unevenness with a pitch equal to or less than the wavelength of light for the purpose of reducing reflection, and have a plurality of orientations.
  • the second unevenness includes a plurality of curved surfaces or planes, The laminated body according to any one of (1) to (4), wherein an orientation direction of the plurality of structures is substantially perpendicular to the curved surface or the plane.
  • corrugation is a laminated body in any one of (1) to (5) which has diffusibility.
  • the laminate according to any one of (1) to (5), wherein the second unevenness has directivity.
  • the laminate according to any one of (1) to (5), wherein the second unevenness is a lens pattern.
  • (10) (1) The image pick-up element package containing the laminated body in any one of (8).
  • (11) (1)
  • (12) (1) The electronic device containing the laminated body in any one of (9).
  • the second layer is formed on the surface of the third layer, The method for producing a laminate according to (13) or (14), further including providing third irregularities on the surface of the third layer after imparting the second irregularities.

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Abstract

　積層体は、第１の凹凸を有する第１の層と、第２の凹凸を有する第２の層とを含んでいる。第２の凹凸の算術平均粗さが、０．１μｍ以上４８μｍ以下であり、第１の層は、第１の凹凸を構成する複数の構造体を含み、複数の構造体は、反射の低減を目的とする光の波長以下のピッチで第２の凹凸上に設けられるとともに、複数の配向性を有している。

Description

積層体、ならびに撮像素子パッケージ、撮像装置および電子機器
　本技術は、積層体、ならびにそれを備える撮像素子パッケージ、撮像装置および電子機器に関する。詳しくは、反射防止機能を有する積層体、ならびにそれを備える撮像素子パッケージ、撮像装置および電子機器に関する。
　従来より、光学素子の技術分野においては、光学調整機能を表面に付与するための技術が種々提案されている（例えば特許文献１参照）。それらの技術の１つとして、光学素子表面にサブ波長構造体を形成するものがある。ここで、光学調整機能とは、透過特性および／または反射特性の光学調整機能を示す。
　近年では、上述の光学素子の光学調整機能を向上すべく、サブ波長構造体の形状について種々検討されている。例えば、特許文献２では、ラビングによりモスアイ構造に物理的に力を加えて、モスアイ構造を傾斜配向させる技術が提案されている。
特開２０１１－０５３４９５号公報 特許第５１０８１５１号公報
　本技術の目的は、優れた光学調整機能を有する積層体、ならびにそれを備える撮像素子パッケージ、撮像装置および電子機器を提供することにある。
　上述の課題を解決するために、第１の技術は、
　第１の凹凸を有する第１の層と、
　第２の凹凸を有する第２の層と
　を含み、
　第２の凹凸の算術平均粗さが、０．１μｍ以上４８μｍ以下であり、
　第１の層は、第１の凹凸を構成する複数の構造体を含み、
　複数の構造体は、反射の低減を目的とする光の波長以下のピッチで第２の凹凸上に設けられるとともに、複数の配向性を有している積層体である。
　第２の技術は、
　撮像素子と、
　透光部を有し、撮像素子を収容するパッケージと
　を含み、
　透光部は、
　第１の凹凸を有する第１の層と、
　第２の凹凸を有する第２の層と
　を含み、
　第２の凹凸の算術平均粗さが、０．１μｍ以上４８μｍ以下であり、
　第１の層は、第１の凹凸を構成する複数の構造体を含み、
　複数の構造体は、反射の低減を目的とする光の波長以下のピッチで第２の凹凸上に設けられるとともに、複数の配向性を有している撮像素子パッケージである。
　第３の技術は、
　光学系と、
　撮像素子パッケージと
　を備え、
　光学系および撮像素子パッケージのうちの少なくとも一方が、
　第１の凹凸を有する第１の層と、
　第２の凹凸を有する第２の層と
　を含み、
　第２の凹凸の算術平均粗さが、０．１μｍ以上４８μｍ以下であり、
　第１の層は、第１の凹凸を構成する複数の構造体を含み、
　複数の構造体は、反射の低減を目的とする光の波長以下のピッチで第２の凹凸上に設けられるとともに、複数の配向性を有している撮像装置である。
　第４の技術は、
　光学系と、
　撮像素子パッケージと
　を備え、
　光学系および撮像素子パッケージのうちの少なくとも一方が、
　第１の凹凸を有する第１の層と、
　第２の凹凸を有する第２の層と
　を含み、
　第２の凹凸の算術平均粗さが、０．１μｍ以上４８μｍ以下であり、
　第１の層は、第１の凹凸を構成する複数の構造体を含み、
　複数の構造体は、反射の低減を目的とする光の波長以下のピッチで第２の凹凸上に設けられるとともに、複数の配向性を有している電子機器である。
　以上説明したように、本技術によれば、優れた光学調整機能を実現できる。
図１Ａは、本技術の第１の実施形態に係る光学積層体の構成の一例を示す断面図である。図１Ｂは、図１Ａに示した光学積層体の表面の一部を拡大して表す断面図である。 図２Ａは、第１の層の表面に対して凸状を有する構造体の配向方向を説明するための概略図である。図２Ｂは、第１の層の表面に対して凹状を有する構造体の配向方向を説明するための概略図である。 図３Ａ～図３Ｃは、本技術の第１の実施形態に係る光学積層体の製造方法の一例について説明するための工程図である。 図４Ａ～図４Ｃは、本技術の第１の実施形態に係る光学積層体の製造方法の一例について説明するための工程図である。 図５は、本技術の第１の実施形態の変形例１に係る光学積層体の構成の一例を示す断面図である。 図６Ａは、本技術の第２の実施形態に係る光学積層体の第３の層の構成の一例を示す断面図である。図６Ｂは、本技術の第２の実施形態に係る光学積層体の第２の層の構成の一例を示す断面図である。図６Ｂは、本技術の第２の実施形態に係る光学積層体の第１の層の構成の一例を示す断面図である。 図７Ａ～図７Ｃは、本技術の第２の実施形態に係る光学積層体の製造方法の一例について説明するための工程図である。 図８Ａは、本技術の第３の実施形態に係る光学積層体の構成の一例を示す断面図である。図８Ｂは、図８Ａに示した光学積層体の表面の一部を拡大して表す断面図である。 図９Ａは、本技術の第４の実施形態に係る撮像素子パッケージの構成の一例を示す断面図である。図９Ｂは、本技術の第４の実施形態の変形例に係る撮像素子パッケージの構成の一例を示す断面図である。 図１０は、本技術の第５の実施形態に係るカメラモジュールの構成の一例を示す断面図である。 図１１は、本技術の第６の実施形態に係る撮像装置の構成の一例を示す概略図である。 図１２は、本技術の第７の実施形態に係る撮像装置の構成の一例を示す概略図である。 図１３は、本技術の第８の実施形態に係る第１の電子機器の外観の一例を示す斜視図である。 図１４Ａは、本技術の第８の実施形態に係る第２の電子機器の前面側の外観の一例を示す斜視図である。図１４Ｂは、本技術の第８の実施形態に係る第２の電子機器の背面側の外観の一例を示す斜視図である。 図１５Ａは、本技術の第８の実施形態に係る第３の電子機器の前面側の外観の一例を示す斜視図である。図１５Ｂは、本技術の第８の実施形態に係る第３の電子機器の背面側の外観の一例を示す斜視図である。 図１６は、実施例１の光学積層体の第１の層と第２の層の損失弾性率および貯蔵弾性率の測定結果を示す図である。
　本技術の実施形態について、以下の順序で説明する。
１　第１の実施形態（光学積層体の例）
　１．１　光学積層体の構成
　１．２　光学積層体の製造方法
　１．３　効果
　１．４　変形例
２　第２の実施形態（光学積層体の例）
　２．１　光学積層体の構成
　２．２　光学積層体の製造方法
　２．３　効果
　２．４　変形例
３　第３の実施形態（光学積層体の例）
　３．１　光学積層体の構成
　３．２　変形例
４　第４の実施形態（光学積層体を撮像素子パッケージに適用した例）
５　第５の実施形態（光学積層体を撮像装置に適用した例）
６　第６の実施形態（光学積層体を撮像装置に適用した例）
７　第７の実施形態（光学積層体をデジタルビデオカメラに適用した例）
８　第８の実施形態（光学積層体を電子機器に適用した例）
＜１．第１の実施形態＞
［１．１　光学積層体の構成］
　以下、図１Ａ、図１Ｂを参照して、本技術の第１の実施形態に係る光学積層体１０の構成の一例について説明する。光学積層体１０は、第１の凹凸１１ｓを有する第１の層１１と、第２の凹凸１２ｓを有する第２の層１２とを含んでいる。第１の層１１は、第２の層１２の第２の凹凸１２ｓ上に設けられている。なお、図１Ａ、図１Ｂにおいて、矢印ｎは、第２の凹凸１２ｓを構成する複数の曲面および／または平面の法線方向を示している。
　第１の凹凸１１ｓは、光の反射を低減するためのものであり、第２の凹凸１２ｓは、第１の凹凸１１ｓに配向性を付与するためのものである。光学積層体１０は、透明性を有している。ここで、透明性は、例えば、紫外光、可視光および赤外光のうちの少なくとも１種の光に対する透明性である。なお、本技術において、紫外光とは１０ｎｍ以上３５０ｎｍ未満の波長帯域の光、可視光とは３５０ｎｍ以上８５０ｎｍ以下の波長帯域の光、赤外光とは８５０ｎｍを超えて１ｍｍ以下の波長帯域の光をいう。
　第１の層１１の第１の凹凸１１ｓ側の面、第１の層１１と第２の層１２との間、または第２の層１２の第２の凹凸１２ｓとは反対側の面に、屈折率調整層をさらに設けるようにしてもよい。また、第１の層１１と第２の層１２との間に密着性改善処理を施してもよい。
　光学積層体１０の適用対象物としては、例えば、任意の光取り出し形状が付与された導光材、偏光制御光学素子、イメージセンサ用カバーガラスなどの窓材、カメラ用ＮＤフィルタなどのフィルタ、カメラ用レンズなどのレンズ、半透過型ミラー、調光素子、プリズム、ディスプレイ用前面板などの光学素子が挙げられるが、これに限定されるものではない。また、光学積層体１０を、例えば、マイクロレンズアレイ、低角度入射光に対しても低い反射率を維持できる低反射光透過層として用いてもよい。
　以下、光学積層体１０に含まれる第１の層１１、および第２の層１２について順次説明する。
（第１の層）
　第１の層１１は、光に対して透明性を有すると共に、第１の凹凸１１ｓを表面に有する。第１の凹凸１１ｓは、第２の凹凸１２ｓより微細な凹凸であり、例えば、ナノオーダーのピッチを有している。より具体的には、第１の凹凸１１ｓは、第２の凹凸１２ｓの表面に２次元配列された複数の第１の構造体１１ａにより構成されている。
　第１の層１１は、反射防止機能を有する反射防止層である。第１の層１１は、複数の第１の構造体１１ａを含む構造層を含んでいる。第１の層１１は、複数の第１の構造体１１ａを含む構造層と、第２の層１２との間に設けられた中間層（光学層）１１ｂをさらに含んでいてもよい。複数の第１の構造体１１ａは、第２の凹凸１２ｓの表面の全体に設けられた構成に限定されるものではなく、第２の凹凸１２ｓのうち頂部などの部分に選択的に設けられていてもよい。
　第１の構造体１１ａは、いわゆるサブ波長構造体である。第１の構造体１１ａは、第１の層１１の表面に対して凸状または凹状を有する。なお、図１Ｂでは、第１の構造体１１ａが凸状を有する例が示されている。複数の第１の構造体１１ａは、反射の低減を目的とする光の波長帯域以下のピッチＰで配置されているとともに、複数の配向性を有している。ここで、反射の低減を目的とする光の波長帯域は、例えば、紫外光の波長帯域、可視光の波長帯域または赤外光の波長帯域である。紫外光の波長帯域とは１０ｎｍ以上３５０ｎｍ未満の波長帯域、可視光の波長帯域とは３５０ｎｍ以上８５０ｎｍ以下の波長帯域、赤外光の波長帯域とは８５０ｎｍを超えて１ｍｍ以下の波長帯域をいう。第１の構造体１１ａのアスペクト比（高さ／配置ピッチ）は、好ましくは０．８１以上１．４６以下、より好ましくは０．９４以上１．２８以下の範囲内である。０．８１未満であると反射特性および透過特性が低下する傾向にあり、１．４６を超えると第１の構造体１１ａの形成時において剥離特性が低下し、レプリカの複製が綺麗に取れなくなる傾向があるからである。
　複数の第１の構造体１１ａの配向方向は、第２の凹凸１２ｓを構成する複数の曲面および／または平面に対して、ほぼ垂直であることが好ましい。但し、第２の凹凸１２ｓの頂部、および谷部に設けられた複数の第１の構造体１１ａの配向方向は除くものとする。上述のように配向方向をほぼ垂直とすることで、第２の層１２の第２の凹凸１２ｓの形状の調整により、複数の第１の構造体１１ａの配向方向を精度良く設定可能となる。ここで、ほぼ垂直とは、図２Ａおよび図２Ｂに示すように、第１の構造体１１ａの配向方向ｍと、第２の凹凸１２ｓを構成する複数の曲面および／または平面の法線方向ｎとのなす角θが±１０°以内であることを意味する。図２Ａは、第１の構造体１１ａが第１の層１１の表面に対して凸状を有する例を示し、図２Ｂは、第１の構造体１１ａが第１の層１１の表面に対して凹状を有する例を示している。なお、反射防止特性の低下を招かない範囲で、配向方向ｍが±１０°を超える複数の第１の構造体１１ａを一部に含んでいてもよい。
　第１の構造体１１ａが第１の層１１の表面に対して凸状を有する場合には、第１の構造体１１ａの配向方向は、図２Ａに示すように、第１の構造体１１ａの底面の中心Ｐｃから頂点Ｐｔに向かう方向である。一方、第１の構造体１１ａが第１の層１１の表面に対して凹状を有する場合には、図２Ｂに示すように、第１の構造体１１ａの頂点Ｐｔから底面の中心Ｐｃに向かう方向である。
　複数の第１の構造体１１ａが、例えば、第２の層１２の表面において複数の列をなすように配列されている。その列は、直線状および曲線状のいずれを有していてもよい。第２の層１２の表面のうちの一部の領域の複数の列を直線状とし、他の領域の複数の列を曲線状としてもよい。曲線としては、周期的または非周期的に蛇行する曲線が挙げられる。このような曲線としては、例えば、サイン波、三角波などの波形を挙げることができるが、これに限定されるものではない。
　第２の層１２の表面における複数の第１の構造体１１ａの配置は、規則的配置および不規則的配置のいずれであってもよい。規則的配置としては、四方格子、準四方格子、六方格子、準六方格子などの格子状の配置が好ましい。ここで、四方格子とは、正四角形状の格子のことをいう。準四方格子とは、正四角形状の格子とは異なり、歪んだ正四角形状の格子のことをいう。六方格子とは、正六角形状の格子のことをいう。準六方格子とは、正六角形状の格子とは異なり、歪んだ正六角形状の格子のことをいう。
　第１の構造体１１ａの具体的な形状としては、例えば、錐体状、柱状、針状、半球体状、半楕円体状、多角形状などが挙げられるが、これらの形状に限定されるものではなく、他の形状を採用するようにしてもよい。錐体状としては、例えば、頂部が尖った錐体形状、頂部が平坦な錐体形状、頂部に凸状または凹状の曲面を有する錐体形状が挙げられるが、これらの形状に限定されるものではない。頂部に凸状の曲面を有する錐体形状としては、放物面状などの２次曲面状などが挙げられる。また、錐体状の錐面を凹状または凸状に湾曲させるようにしてもよい。
　第２の層１２の表面に設けられた複数の第１の構造体１１ａはすべて、同一の大きさ、形状および高さを有していてもよいし、複数の第１の構造体１１ａが、異なる大きさ、形状または高さを有するものを含んでいてもよい。また、複数の第１の構造体１１ａが、下部同士を重ね合うようにして繋がっているものを含んでいてもよい。
　構造層の厚さｄは、例えば、１００ｎｍ以上４００ｎｍ以下である。中間層１１ｂの厚さＤは、例えば、５０ｎｍ以上１６０００ｎｍ以下である。ここで、構造層の厚さｄとは、第１の構造体１１ａが凸状である場合には、第１の構造体１１ａの高さを意味し、第１の構造体１１ａが凹状である場合には、第１の構造体１１ａの深さを意味する。また、中間層１１ｂの厚さＤとは、第２の層１２の表面から、隣接する第１の構造体１１ａ間の谷部分の最も深い位置までの距離を意味する。
　構造層の厚さｄに対する中間層１１ｂの厚さＤの割合Ｒ（＝（Ｄ／ｄ）×１００）は、好ましくは５０％以上４０００％以下、より好ましくは１５０％以上４０００％以下の範囲である。構造層の厚さｄが約１００ｎｍ以上約４００ｎｍ以下の範囲である場合、割合Ｒが５０％以上４０００％以下の範囲から外れると、配向処理が困難になる。より具体的には、上記割合Ｒが５０％未満であると、後述する第２の構造体１２ａの転写工程時（すなわち配向処理時）に、第１の構造体１１ａが根元から折れるなどして、第１の構造体１１ａを配向させることが困難になる。一方、上記割合Ｒが４０００％を超えると、後述する第２の構造体１２ａの転写工程時（すなわち配向処理時）に、中間層１１ｂの部分から割れてしまい、第１の構造体１１ａを配向させることが困難になる。
（第２の層）
　第２の層１２は、光に対して透明性を有すると共に、第２の凹凸１２ｓを表面に有する。第２の凹凸１２ｓは、第１の凹凸よりも大きい凹凸であり、例えばマイクロオーダーのピッチを有している。第２の凹凸１２ｓは、指向性（例えば集光性）を有するレンズパターン（例えばマイクロレンズパターン）である。第２の凹凸１２ｓは、第２の層１２の表面に１次元配列または２次元配列された複数の第２の構造体１２ａにより構成されている。第２の構造体１２ａは、第２の層１２の表面に対して凸状または凹状を有している。なお、図１Ａでは、第２の構造体１２ａが凸状を有する例が示されている。第２の層１２の表面における複数の第２の構造体１２ａの配置は、規則的配置および不規則的配置のいずれであってもよい。第２の構造体１２ａの大きさや形状などに不規則性を付与してもよい。
　第２の構造体１２ａは、曲面状および／または平面状の側面を有している。ここで、側面とは、第２の構造体１２ａの頂部、および隣接する第２の構造体１２ａの間の部分を除く面のことをいう。複数の第１の構造体１１ａの配向方向は、第２の構造体１２ａの側面に対して、ほぼ垂直であることが好ましい。
　１次元配列される第２の構造体１２ａは、例えば、一方向に延在された柱状の構造体である。この柱状を有する複数の第２の構造体１２ａが、第２の層１２の表面において、一方向に向かって一次元配列されている。１次元配列される第２の構造体１２ａの形状としては、例えば、プリズム形状、プリズム形状の頂部に丸みを付与した形状、シリンドリカル形状などのレンチキュラー形状を挙げることができる。ここで、レンチキュラー形状とは、凸部の稜線に垂直な断面形状が円弧状もしくはほぼ円弧状、楕円弧状もしくはほぼ楕円弧状、または放物線状もしくはほぼ放物線状の一部となっているものをいう。したがって、シリンドリカル形状もレンチキュラー形状に含まれる。なお、稜線部分には曲率Ｒがあっても良い。また、１次元配列される第２の構造体１２ａの形状は、上述の形状に限定されるものではなく、トロイダル形状、双曲柱状、楕円柱状、多角柱状、自由曲面状としてもよい。また、プリズム形状、およびレンチキュラー形状の頂部を多角形状としてもよい。
　２次元配列される第２の構造体１２ａの形状としては、例えば、コーナーキューブ状、半球状、半楕円球状、プリズム状、自由曲面状、多角形状、円錐形状、多角錐状、円錐台形状、放物面状などが挙げられる。第２の構造体１２ａの底面は、例えば、円形状、楕円形状、または三角形状、四角形状、六角形状もしくは八角形状などの多角形状を有している。
　なお、第２の構造体１２ａの構成および配列は、上述の例に限定されるものではない。例えば、円形状に延在された複数の第２の構造体１２ａを同心円状に配列するようにしてもよい。このような形状の具体例としては、フレネルレンズが挙げられる。
　第２の構造体１２ａの配列は、最稠密充填状態での配列であることが好ましい。例えば、第２の構造体１２ａを第２の層１２の表面に最稠密充填状態で２次元配列することにより正方稠密アレイ、デルタ稠密アレイ、六方稠密アレイなどの稠密アレイが形成されていてもよい。正方稠密アレイは、正方形状の底面を有する第２の構造体１２ａを正方稠密状に配列させたものである。デルタ稠密アレイは、三角形状の底面を有する第２の構造体１２ａを六方稠密状に配列させたものである。六方周密アレイは、六角形状の底面を有する第２の構造体１２ａを六方稠密状に配列させたものである。
　第２の層１２は、透明性を有している。第２の層１２の材料としては、有機材料および無機材料のいずれを用いてもよい。無機材料としては、例えば、石英、サファイア、ガラスなどが挙げられる。有機材料としては、例えば、一般的な高分子材料を用いることができる。一般的な高分子材料としては、具体的には例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエステル（ＴＰＥＥ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリアミド（ＰＡ）、アラミド、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリアクリレート、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン（ＰＰ）、ジアセチルセルロース、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、エポキシ樹脂、尿素樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、シクロオレフィンコポリマーなどが挙げられる。
　第２の層１２の材料として有機材料を用いる場合、第２の層１２の表面の表面エネルギー、塗布性、すべり性および平面性などを改善するために、表面処理として下塗り層を設けるようにしてもよい。この下塗り層の材料としては、例えば、オルガノアルコキシメタル化合物、ポリエステル、アクリル変性ポリエステル、ポリウレタンなどが挙げられる。また、下塗り層を設けるのと同様の効果を得るために、第２の層１２の表面に対してコロナ放電、ＵＶ照射処理などの表面処理を施すようにしてもよい。
　第２の層１２の形状としては、例えば、フィルム状、板状、ブロック状を挙げることができるが、特にこれらの形状に限定されるものではない。ここで、フィルム状にはシート状が含まれるものと定義する。第２の層１２の厚さは、例えば２５μｍ～５００μｍ程度である。第２の層１２がプラスチックフィルムである場合には、第２の層１２は、例えば、上述の樹脂を延伸、または溶剤に希釈後、フィルム状に成膜して乾燥するなどの方法で得ることができる。第２の層１２が、光学積層体１０の適用対象である部材や機器などの構成要素であってもよい。
　第２の凹凸の算術平均粗さＲａが、０．１μｍ以上４８μｍ以下であることが好ましい。算術平均粗さＲａが０．１μｍ未満であると、第２の層１２の第２の凹凸１２ｓにより第１の構造体１１ａの配向方向を調整することが困難になり、射入射する光に対する反射防止効果が低下する傾向がある。一方、算術平均粗さＲａが４８μｍを超えると、第２の層１２が破断するなどして、反射防止効果が低下する傾向がある。
［１．２　光学積層体の製造方法］
　次に、図３Ａ～図４Ｃを参照しながら、本技術の第１の実施形態に係る光学積層体１０の製造方法の一例について説明する。
（第１の原盤準備工程）
　まず、図３Ａに示すように、成形面２１ｓを一主面に有する第１の原盤２１を準備する。成形面２１ｓは、凹凸面であり、２次元配列された複数の構造体２１ａにより構成されている。構造体２１ａは、例えば、第１の原盤２１の一主面に対して凹状または凸状を有している。成形面２１ｓを構成している複数の構造体２１ａと、上述の第１の凹凸１１ｓを構成している複数の第１の構造体１１ａとは、ほぼ同一の形状を有し、反転した凹凸関係にある。
　第１の原盤２１の材料としては、例えばシリコン、ガラス、金属などを用いることができるが、これらの材料に特に限定されるものではない。第１の原盤２１の作製方法としては、フォトリソグラフィ、陽極酸化、光ディスクの原盤作製プロセスとエッチングプロセスとを融合した方法（例えば特許文献１参照）などを用いることができる。また、第１の原盤２１から電鋳により複製原盤を作製して使用してもよい。
（第１の転写工程）
　次に、図３Ｂに示すように、第２の層１２の表面に転写材料２４を塗布し、第１の原盤２１の成形面２１ｓの形状を転写材料２４に転写する。これにより、図３Ｃに示すように、第２の層１２の表面に第１の層１１が形成される。
　転写の具体的な方法は、転写材料２４の種類により異なる。例えば、転写材料２４がエネルギー線硬化性樹脂組成物である場合には、第１の原盤２１と、第２の層１２上に塗布された転写材料２４とを密着させ、紫外線などのエネルギー線をエネルギー線源２５から転写材料２４に照射して転写材料２４を硬化させる。その後、硬化した転写材料２４と一体となった第２の層１２を剥離する。転写材料２４が熱硬化性樹脂である場合には、第１の原盤２１と、第２の層１２上に塗布された転写材料２４とを密着させ、ヒータなどの熱源により転写材料２４を加熱して転写材料２４を硬化させる。その後、硬化した転写材料２４と一体となった第２の層１２を剥離する。
　エネルギー線源２５としては、電子線、紫外線、赤外線、レーザ光線、可視光線、電離放射線（Ｘ線、α線、β線、γ線など）、マイクロ波、または高周波などエネルギー線を放出可能なものであればよく、特に限定されるものではない。
　転写材料２４としては、エネルギー線硬化性樹脂組成物または熱硬化性樹脂を用いることが好ましく、これらを混合して用いてもよい。エネルギー線硬化性樹脂組成物および熱硬化性樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、メタアクリル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ（オキセタン）樹脂、シロキサン樹脂、チオール樹脂、超分岐構造を有するマクロマー、ポリシラン、シラザン、シルセスキオキサンなどを用いることができる。それら配合量は、第１の層１１の弾性率を考慮して、適宜選択することが好ましい。転写材料２４が、必要に応じてフィラーや機能性添加剤などを含んでいてもよい。
　エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、紫外線硬化性樹脂組成物を用いることが好ましく、例えば、アクリル系、エポキシ系などの紫外線硬化性樹脂組成物を用いることができる。紫外線硬化性樹脂組成物は、例えばアクリレートおよび開始剤を含んでいる。紫外線硬化性樹脂組成物は、例えば、単官能モノマー、二官能モノマー、多官能モノマーなどを含み、具体的には、以下に示す材料を単独または、複数混合したものである。
　単官能モノマーとしては、例えば、カルボン酸類（アクリル酸）、ヒドロキシ類（２－ヒドロキシエチルアクリレート、２－ヒドロキシプロピルアクリレート、４－ヒドロキシブチルアクリレート）、アルキル、脂環類（イソブチルアクリレート、ｔ－ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート）、その他機能性モノマー（２－メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレンクリコールアクリレート、２－エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ-ジメチルアミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、Ｎ－イソプロピルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチルアクリルアミド、Ｎ－ビニルピロリドン、２－（パーフルオロオクチル）エチルアクリレート、３－パーフルオロヘキシル－２－ヒドロキシプロピルアクリレート、３－パーフルオロオクチルー２－ヒドロキシプロピルアクリレート、２－（パーフルオロデシル）エチル　アクリレート、２－（パーフルオロー３－メチルブチル）エチル　アクリレート）、２，４，６－トリブロモフェノールアクリレート、２，４，６－トリブロモフェノールメタクリレート、２－（２，４，６－トリブロモフェノキシ）エチルアクリレート）、２－エチルヘキシルアクリレートなどを挙げることができる。
　二官能モノマーとしては、例えば、トリ（プロピレングリコール）ジアクリレート、トリメチロールプロパンジアリルエーテル、ウレタンアクリレートなどを挙げることができる。
　多官能モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ及びヘキサアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレートなどを挙げることができる。
　開始剤としては、例えば、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン、１－ヒドロキシ－シクロヘキシルフェニルケトン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オンなどを挙げることができる。
　フィラーとしては、例えば、無機微粒子および有機微粒子のいずれも用いることができる。無機微粒子としては、例えば、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＳｎＯ2、Ａｌ2Ｏ3などの金属酸化物微粒子を挙げることができる。
　機能性添加剤としては、例えば、レベリング剤、表面調整剤、消泡剤などを挙げることができる。
　第２の層１２の成形方法は特に限定されず、射出成形体でも押し出し成形体でも、キャスト成形体でもよい。必要に応じて、コロナ処理などの表面処理を第２の層１２の表面に施すようにしてもよい。
　第２の層１２の材料は、熱軟化性を有する樹脂材料であればよく、特に限定されるものではない。熱軟化性を有する樹脂材料としては、例えば、熱可塑性樹脂、低融点ガラスなどが挙げられる。それらの樹脂材料に多孔質材料や微粒子などを混合したものを用いてもよい。
（第２の原盤準備工程）
　次に、図４Ａに示すように、成形面２２ｓを一主面に有する第２の原盤２２を準備する。成形面２２ｓは、凹凸面であり、１次元または２次元配列された複数の構造体２２ａにより構成されている。構造体２２ａは、例えば、第２の原盤２２の一主面に対して凹状または凸状を有している。成形面２２ｓを構成している複数の構造体２２ａと、第２の凹凸１２ｓを構成している複数の第２の構造体１２ａとは、ほぼ同一の形状を有し、反転した凹凸関係にある。
　第２の原盤２２の材料としては、例えばシリコン、ガラス、金属などを用いることができるが、これらの材料に特に限定されるものではない。第２の原盤２２の作製方法としては、フォトリソグラフィ、切削加工（例えばヘアライン加工）などを用いることができる。また、第２の原盤２２から電鋳により複製原盤を作製して使用してもよい。
（第２の転写工程）
　次に、図４Ｂに示すように、第２の原盤２２を加熱しながら第１の層１１の第１の凹凸１１ｓ上に押し付け、その成形面２２ｓの形状を第２の層１２に転写する。これにより、図４Ｃに示すように、目的とする光学積層体１０が得られる。次に、必要に応じて、光学積層体１０を所望とする大きさに切り出すようにしてもよい。
　第２の転写工程の転写温度において、第１の層１１の弾性率は、第２の層１２の弾性率よりも高いことが好ましい。第２の転写工程において、第１の凹凸１１ｓにスティッキングが発生するなどして、第１の凹凸１１ｓの形状（すなわち第１の構造体１１ａの形状）が崩れることを抑制できる。したがって、第２の転写工程後においても、第１の層１１の反射防止機能を維持できる。ここで、第２の転写工程の転写温度は、形状転写時における第２の原盤２２の成形面２２ｓの温度を意味する。
　第２の層１２の軟化点は、第１の層１１の軟化点よりも低いことが好ましい。第１の構造体１１ａの形状がスティッキングなどにより変形し、第１の層１１の反射防止特性が低下することを抑制できるからである。
［１．３　効果］
　第１の実施形態では、複数の第１の構造体１１ａの配向が第２の層１２の第２の凹凸１２ｓにより調整されているので、優れた光学調整機能を有する光学積層体１０を得ることができる。
　第１の実施形態では、第１の原盤２１を転写材料２４に押し付けながら硬化することにより、第１の凹凸１１ｓを有する第１の層１１を第２の層１２の表面に形成する。そして、第２の原盤２２を加熱しながら第１の凹凸１１ｓに押し付けて、第２の凹凸１２ｓを第２の層１２の表面に付与する。したがって、第２の原盤２２の成形面２２ｓの形状を、第１の構造体１１ａに付与したい配向方向に応じて選択することで、第１の構造体１１ａの配向性を制御できる。
　第１の実施形態では、ラビングなどにより第１の構造体１１ａに物理的に力を加えて、第１の構造体１１ａを配向させるのではなく、第２の原盤２２による形状転写により、第１の構造体１１ａを配向させる。したがって、第１の構造体１１ａの材料としてガラス転移点Ｔｇが高い樹脂材料を用いた場合にも、第１の構造体１１ａに形状の折れが生じることなく、マイクロオーダーの配向性をパターニングできる。
　反射防止フィルムのモスアイ構造を配向させることにより、反射防止フィルムに拡散性を付与する場合や、光入射角度が大きい主面を有するレンズや導波路などにモスアイ構造を適用する場合には、より精密な配向制御が求められる。しかし、特許文献２などに記載の配向制御技術では、精密な配向制御が困難である。
　これに対して、第１の実施形態では、第１の転写工程において第２の層１２の表面に複数の第１の構造体１１ａを形成した後、第２の転写工程において第２の層１２の表面に凹凸を付与することにより、複数の第１の構造体１１ａを配向させる。したがって、第２の転写工程にて付与する凹凸形状を選択することにより、第１の構造体１１ａに対する精密な配向制御を行うことが可能である。
　また、特許文献２などに記載の配向制御技術では、ガラス転移点Ｔｇが高い樹脂材料を用いて、硬いモスアイ構造を形成した場合には、ラビングの際にモスアイ構造が折れてしまい、モスアイ構造を配向させることができない。そのため、ガラス転移点Ｔｇが比較的低い樹脂材料を用いてモスアイ構造を形成することになるが、そうすると、モスアイ構造にスティッキングなどが生じやすく、反射防止効果が低下する。
　これに対して、第１の実施形態では、第２の転写工程の転写温度における第１の層１１の弾性率を第２の層１２の弾性率よりも高く設定した場合には、第１の構造体１１ａにスティッキングが発生するなどして、反射防止効果が低下することを抑制できる。
　第１の実施形態では、第２の凹凸１２ｓを第２の層１２に付与する第２の転写工程を最後に行うことで、特許文献２などに記載されたラビング処理では実現できない凹形状部分に対して、配向処理を施すことができる。また、第１の構造体１１ａによる反射防止効果を、レンズ形状やマイクロ形状などの機能性形状にも付与できる。
［１．４　変形例］
（変形例１）
　図５に示すように、光学積層体１０を基材３１の表面に設けるようにしてもよい。この場合、基材３１の表面に光学積層体１０を直接設けてもよいし、光学積層体１０と基材３１との間に接着層３２を設け、両者を貼り合わせるようにしてもよい。接着層３２を構成する接着剤としては、例えば、アクリル系接着剤、シリコーン系接着剤およびウレタン系接着剤などからなる群より選ばれる１種以上を用いることができる。本技術において、粘着（pressure sensitive adhesion）は接着（adhesion）の一種と定義する。この定義に従えば、粘着層は接着層の一種と見なされる。基材３１は、例えば透明性を有している。基材３１の材料としては、上述の第２の層１２と同様の材料を例示することができる。
（変形例２）
　上述の第１の実施形態では、光学積層体１０が光に対して透明性を有している構成を例として説明したが、光学積層体１０が光吸収性を有していてもよい。ここで、光吸収性は、例えば、紫外光、可視光および赤外光のうちの少なくとも１種の光に対する光吸収性である。この場合、第１の層１１および第２の層１２のうちの少なくとも一層が、例えば、光吸収性の材料を含み、光吸収性向上の観点からすると、第１の層１１および第２の層１２の両層が、光吸収性の材料を含んでいることが好ましい。光吸収性の材料としては、例えば、黒色系の着色剤、紫外線吸収剤および赤外線吸収剤のうちの少なくとも１種を用いることができる。この光学積層体１０は、例えば、低角度入射光に対しても低い反射率を維持できる低反射光吸収層である。
　黒色系の着色剤としては、例えば、カーボンブラック、チタンブラック、グラファイト、酸化鉄、酸化チタンなどが挙げられるが、特にこれらの材料に限定されるものではない。中でも、カーボンブラック、チタンブラック、グラファイトが好ましく、さらにカーボンブラックが好ましい。これらは、一種単独で用いる以外に二種以上を併用することもできる。
　カーボンブラックとしては、例えば、市販のカーボンブラックを使用することができる。具体的には例えば、三菱化成社製の＃９８０Ｂ、＃８５０Ｂ、ＭＣＦ８８Ｂ、＃４４Ｂ、キャボット社製のＢＰ－８００、ＢＰ－Ｌ、ＲＥＧＡＬ－６６０、ＲＥＧＡＬ－３３０、コロンビヤンカーボン社製のＲＡＶＥＮ－１２５５、ＲＡＶＥＮ－１２５０、ＲＡＶＥＮ－１０２０、ＲＡＶＥＮ－７８０、ＲＡＶＥＮ－７６０、デグサ社製のＰｒｉｎｔｅｘ－５５、Ｐｒｉｎｔｅｘ－７５、Ｐｒｉｎｔｅｘ－２５、Ｐｒｉｎｔｅｘ－４５、ＳＢ－５５０などが挙げられる。これらを単独、あるいは混合して使用することができる。
（変形例３）
　第２の転写工程後に、平面状などの成形面を有する第３の原盤を加熱しながら第１の層１１に押し付け、第２の層１２の第２の凹凸１２ｓの形状を整える、もしくは第２の層１２の第２の凹凸１２ｓをほぼ平面状に戻す工程をさらに備えるようにしてもよい。
＜２．第２の実施形態＞
［２．１　光学積層体の構成］
　以下、図６Ａ～図６Ｃを参照しながら、本技術の第２の実施形態に係る光学積層体３０の構成の一例について説明する。第２の実施形態に係る光学積層体３０は、第３の凹凸１３ｓを有する第３の層１３をさらに備え、この第３の凹凸１３ｓ上に第２の層１２が設けられている点において、第１の実施形態に係る光学積層体１０とは異なっている。なお、第２の実施形態において、第１の実施形態と同一の箇所には同一の符号を付して説明を省略する。
　具体的には、図６Ａに示すように、第２の層１２が、第３の層１３の第３の凹凸１３ｓ上に設けられ、図６Ｂに示すように、第１の層１１が、第２の層１２の第２の凹凸１２ｓ上に設けられている。そして、図６Ｃに示すように、第１の層１１が、光学積層体３０の最表面を構成している。なお、図６Ａでは、第３の凹凸１３ｓがプリズム形状の凹凸パターンであり、図６Ｂでは、第２の凹凸１２ｓがコーナーキューブ状の凹凸パターンであり、図６Ｃでは、第１の凹凸１１ｓが錐体状の凹凸パターンである例が示されている。
　第３の層１３は、光に対して透明性を有すると共に、第３の凹凸１３ｓを表面に有する。第３の凹凸１３ｓは、第２の凹凸よりも大きい凹凸であり、例えばマイクロオーダーのピッチを有している。第３の凹凸１３ｓは、指向性（例えば集光性）を有するレンズパターン（例えばマイクロレンズパターン）である。第３の凹凸１３ｓは、第３の層１３の表面に１次元配列または２次元配列された複数の第３の構造体１３ａにより構成されている。第３の構造体１３ａは、第３の層１３の表面に対して凸状または凹状を有している。第３の構造体１３ａの形状としては、第２の構造体１２ａと同様のものを例示することができる。なお、図６Ａでは、第３の構造体１３ａが凸状を有する例が示されている。また、図６Ｂでは、第２の構造体１２ａが凹状を有し、図６Ｃでは、第１の構造体１１ａが凸上を有する例が示されている。
［２．２　光学積層体の製造方法］
　本技術の第２の実施形態に係る光学積層体３０の製造方法は、第２の転写工程後に、第３の原盤準備工程および第３の転写工程をさらに備える点において、第１の実施形態に係る光学積層体１０の製造方法とは異なっている。したがって、以下では、第３の原盤準備工程および第３の転写工程についてのみ説明する。
（第３の原盤準備工程）
　まず、図７Ａに示すように、成形面２３ｓを一主面に有する第３の原盤２３を準備する。成形面２３ｓは、凹凸面であり、１次元または２次元配列された複数の構造体２３ａにより構成されている。構造体２３ａは、例えば、第３の原盤２３の一主面に対して凹状または凸状を有している。成形面２３ｓを構成する複数の構造体２３ａと、第３の凹凸１３ｓを構成する複数の第３の構造体１３ａとは、ほぼ同一の形状を有し、反転した凹凸関係にある。
　第３の原盤２３の材料としては、例えばシリコン、ガラス、金属などを用いることができるが、これらの材料に特に限定されるものではない。第３の原盤２３の作製方法としては、フォトリソグラフィ、切削加工（例えばヘアライン加工）などを用いることができる。また、第３の原盤２３から電鋳により複製原盤を作製して使用してもよい。
（第３の転写工程）
　次に、図７Ｂに示すように、第３の原盤２３を加熱しながら第３の層１３に押し付け、その成形面２３ｓの形状を第３の層１３に転写する。これにより、図７Ｃに示すように、目的とする光学積層体３０が得られる。
　第３の転写工程の転写温度における第１の層１１および第２の層１２の弾性率は、第３の層１３の弾性率よりも高いことが好ましい。第３の転写工程において第１の層１１および第２の層１２を加熱および加圧しても、第１の凹凸１１ｓおよび第２の凹凸１２ｓの形状が崩れること抑制できるからである。したがって、第３の転写工程後においても、第１の層１１の反射防止機能を維持できると共に、第２の凹凸１２ｓの光学特性（例えば集光性など指向性）を維持できる。ここで、第３の転写工程の転写温度は、形状転写時における第３の原盤２３の成形面２３ｓの温度を意味する。
［２．３効果］
　第２の実施形態では、第１の層１１に含まれる複数の第１の構造体１１ａの配向を、第２の層１２の第２の凹凸１２ｓおよび第３の層１３の第３の凹凸１３ｓにより設定することができるので、第１の実施形態によりも精密な配向制御が可能である。
［２．４　変形例］
（変形例１）
　光学積層体３０を基材の表面に設けるようにしてもよい。この場合、基材の表面に光学積層体３０を直接設けてもよいし、光学積層体３０と基材との間に接着層を設け、両者を貼り合わせるようにしてもよい。
（変形例２）
　上述の第１の実施形態では、光学積層体３０が光に対して透明性を有している構成を例として説明したが、光学積層体３０が光吸収性を有していてもよい。この場合、第１の層１１、第２の層１２および第３の層１３のうち少なくとも一層が、例えば、光吸収性の材料を含んでいる。
＜３．第３の実施形態＞
［３．１　光学積層体の構成］
　以下、図８Ａ、図８Ｂを参照しながら、本技術の第３の実施形態に係る光学積層体４０の構成の一例について説明する。第３の実施形態に係る光学積層体４０は、指向性（例えば集光性）を有する第２の凹凸１２ｓ（図１Ａ参照）に代えて、拡散性を有する第２の凹凸４１ｓを有する第２の層４１を備える点において、第１の実施形態に係る光学積層体１０とは異なっている。なお、第３の実施形態において、第１の実施形態と同一の箇所には同一の符号を付して説明を省略する。
　光学積層体４０は、例えば、指向性光拡散フィルム、低反射機能を有する防眩性フィルムなどである。第２の凹凸４１ｓは、規則的および不規則的な凹凸パターンのいずれであってもよい。第２の層４１としては、例えば、防眩層（アンチグレア層）を用いることができる。
［３．２　変形例］
（変形例１）
　光学積層体４０を基材の表面に設けるようにしてもよい。この場合、基材の表面に光学積層体４０を直接設けてもよいし、光学積層体４０と基材との間に接着層を設け、両者を貼り合わせるようにしてもよい。
（変形例２）
　上述の第１の実施形態では、光学積層体４０が光に対して透明性を有している構成を例として説明したが、光学積層体４０が光吸収性を有していてもよい。この場合、第１の層１１および第２の層４１のうち少なくとも一層が、例えば、光吸収性の材料を含んでいる。
＜４．第４の実施形態＞
　図９Ａに示すように、本技術の第４の実施形態に係る撮像素子パッケージ（以下「素子パッケージ」という。）１１４ａは、パッケージ１２１と、このパッケージ１２１に収容された撮像素子１２２と、パッケージ１２１の開口窓を覆うように固着された透光部１２３ａを備える。
　透光部１２３ａは、基材であるカバーガラス（カバー体）１２４と、このカバーガラス１２４の表面に設けられた光学積層体１２５とを備える。光学積層体１２５は、第１の実施形態に係る光学積層体１０、第２の実施形態に係る光学積層体３０、または第３の実施形態に係る光学積層体４０である。カバーガラス１２４は、被写体からの光が入射する前面（第１の面）１２４ｓ1と、この前面から入射した光が出射される背面（第２の面）１２４ｓ2とを有している。光学積層体１２５は、前面１２４ｓ1および背面１２４ｓ2のうち一方に設けられ、反射防止特性および透過特性の向上の観点からすると、それらの両方に設けられることが好ましい。なお、図９Ａでは、光学積層体１２５が前面１２４ｓ1にのみ設けられた例が示されている。
　撮像素子１２２としては、例えば、ＣＣＤ（Charge Coupled Device）イメージセンサ素子またはＣＯＭＳ（Complementary Metal Oxide Semiconductor）イメージセンサ素子などが用いられる。
　第４の実施形態に係る素子パッケージ１１４ａでは、カバーガラス１２４の表面に光学積層体１２５が設けられているので、干渉縞の発生を招くことなく、カバーガラス１２４の表面に反射防止特性を付与できる。
（変形例）
　図９Ｂに示すように、第４の実施形態の変形例に係る素子パッケージ１１４ｂは、カバーガラス１２４と光学積層体１２５との間に、光学的ローパスフィルタ１２６および赤外光カットフィルタ（以下「ＩＲカットフィルタ」という。）１２７がさらに設けられた透光部１２３ｂを備える点において、第４の実施形態に係る素子パッケージ１１４ａとは異なっている。図９Ｂでは、カバーガラス１２４の表面に光学的ローパスフィルタ１２６が設けられ、この光学的ローパスフィルタ１２６の表面に赤外フィルタ１２７が設けられた例が示されているが、積層の順序はこの例に限定されるものではない。
＜５．第５の実施形態＞
　図１０に示すように、本技術の第５の実施形態に係るカメラモジュール（撮像モジュール）１３１は、レンズ１３２、ＩＲカットフィルタ１３３、撮像素子１３４、筐体１３５および回路基板１３６を備える。このカメラモジュール１３１は、パーソナルコンピュータ、タブレット型コンピュータ、携帯電話などの電子機器に適用して好適なものである。
　回路基板１３６の表面の所定位置に、撮像素子１３４が実装されている。この撮像素子１３４を収容するようにして、回路基板１３６の表面に筐体１３５が固定されている。この筐体１３５内にレンズ１３２およびＩＲカットフィルタ１３３が収容されている。レンズ１３２、ＩＲカットフィルタ１３３は、被写体から撮像素子１３４の方向に向かってこの順序で所定間隔離して設けられている。被写体からの光は、レンズ１３２により集光されて、ＩＲカットフィルタ１３３を介して撮像素子１３４の撮像面に結像される。レンズ１３２およびＩＲカットフィルタ１３３の表面には、第１の実施形態に係る光学積層体１０、第２の実施形態に係る光学積層体３０、または第３の実施形態に係る光学積層体４０が設けられている。ここで、表面とは、被写体からの光が入射する前面、およびこの前面から入射した光が出射される背面のうちの少なくとも一方を意味する。また、筐体１３５の内周面に、第１の実施形態の変形例２に係る光学積層体１０、第２の実施形態の変形例２に係る光学積層体３０、または第３の実施形態の変形例２に係る光学積層体４０が設けられていてもよい。
＜６　第６の実施形態＞
　第６の実施形態では、上述の第１の実施形態に係る光学積層体１０、第２の実施形態に係る光学積層体３０、または第３の実施形態に係る光学積層体４０を撮像装置に適用した例について説明する。
　以下、図１１を参照して、本技術の第６の実施形態に係る撮像装置１００の構成の一例について説明する。第６の実施形態に係る撮像装置１００は、いわゆるデジタルカメラ（デジタルスチルカメラ）であって、筐体１０１と、レンズ鏡筒１０２と、筐体１０１およびレンズ鏡筒１０２内に設けられた撮像光学系１０３と、素子パッケージ１１４と、オートフォーカスセンサ１１５とを備える。筐体１０１とレンズ鏡筒１０２とが着脱自在に構成されていてもよい。撮像光学系１０３および素子パッケージ１１４の少なくとも一方が、第１の実施形態に係る光学積層体１０、第２の実施形態に係る光学積層体３０、および第３の実施形態に係る光学積層体４０のうちの少なくとも１つを含んでいる。
　撮像光学系１０３は、レンズ１１１と、光量調整装置１１２と、半透過型ミラー１１３とを備える。レンズ１１１、光量調整装置１１２、半透過型ミラー１１３は、レンズ鏡筒１０２の先端から素子パッケージ１１４に向かってこの順序で設けられている。レンズ１１１、光量調整装置１１２、半透過型ミラー１１３および素子パッケージ１１４からなる群より選ばれる少なくとも１種には、反射防止機能が付与されている。オートフォーカスセンサ１１５は、半透過型ミラー１１３により反射された光Ｌを受光可能な位置に設けられている。撮像装置１００が、必要に応じてフィルタ１１６をさらに備えるようにしてもよい。このようにフィルタ１１６を備える場合には、フィルタ１１６に反射防止機能が付与されていてもよい。以下、各構成要素および反射防止機能について順次説明する。
（レンズ）
　レンズ１１１は、被写体からの光Ｌを素子パッケージ１１４に向けて集光する。
（光量調整装置）
　光量調整装置１１２は、撮像光学系１０３の光軸を中心とする絞り用開口の大きさを調整する絞り装置である。光量調整装置１１２は、例えば、一対の絞り羽根と、光の透過光量を減少させるＮＤフィルタとを備えている。光量調整装置１１２の駆動方式としては、例えば、一対の絞り羽根とＮＤフィルタとを１つのアクチュエータで駆動する方式、一対の絞り羽根とＮＤフィルタとをそれぞれ独立した２つのアクチュエータで駆動する方式を用いることができるが、これらの方式に特に限定されるものではない。ＮＤフィルタとしては、透過率もしくは濃度が単一のフィルタ、または透過率もしくは濃度がグラデーション状に変化するフィルタを用いることができる。また、ＮＤフィルタの数は１枚に限定されるものではなく、複数枚のＮＤフィルタを積層して用いるようにしてもよい。
（半透過型ミラー）
　半透過型ミラー１１３は、入射する光の一部を透過し、残りを反射するミラーである。具体的には、半透過型ミラー１１３は、レンズ１１１により集光された光Ｌの一部をオートフォーカスセンサ１１５に向けて反射するのに対して、光Ｌの残りを素子パッケージ１１４に向けて透過する。半透過型ミラー１１３の形状としては、例えば、シート状、プレート状を挙げることができるが、特にこれらの形状に限定されるものではない。ここで、シートにはフィルムが含まれるものと定義する。
（素子パッケージ）
　素子パッケージ１１４は、半透過型ミラー１１３を透過した光を受光し、受光した光を電気信号に変換し、信号処理回路（図示せず）に出力する。
（オートフォーカスセンサ）
　オートフォーカスセンサ１１５は、半透過型ミラー１１３により反射された光を受光し、受光した光を電気信号に変換し、制御回路（図示せず）に出力する。
（フィルタ）
　フィルタ１１６は、レンズ鏡筒１０２の先端、または撮像光学系１０３内に設けられる。なお、図１１では、フィルタ１１６をレンズ鏡筒１０２の先端に備える例が示されている。この構成を採用する場合、フィルタ１１６は、レンズ鏡筒１０２の先端に対して着脱自在の構成を有していてもよい。
　フィルタ１１６としては、レンズ鏡筒１０２の先端、または撮像光学系１０３内に一般的に設けられるものが用いられるが、特にこれに限定されるものではない。例示するならば、偏光（ＰＬ）フィルタ、シャープカット（ＳＣ）フィルタ、色彩強調および効果用フィルタ、減光（ＮＤ）フィルタ、色温度変換（ＬＢ）フィルタ、色補正（ＣＣ）フィルタ、ホワイトバランス取得用フィルタ、レンズ保護用フィルタなどが挙げられる。
（反射防止機能）
　撮像装置１００では、被写体からの光Ｌが、レンズ鏡筒１０２の先端から素子パッケージ１１４内の撮像素子に到達するまでの間に複数の光学素子（すなわち、レンズ１１１、光量調整装置１１２、半透過型ミラー１１３、素子パッケージ１１４のカバーガラス）を透過する。以下では、このように被写体からの光Ｌが撮像装置１００内に取り込まれてから撮像素子に到達するまでの間に透過する光学素子を「透過型光学素子」という。撮像装置１００がフィルタ１１６をさらに備える場合には、フィルタ１１６も透過型光学素子の一種と見なされる。
　これらの複数の透過型光学素子のうちの少なくとも１つの透過型光学素子の表面には、第１の実施形態に係る光学積層体１０、第２の実施形態に係る光学積層体３０、または第３の実施形態に係る光学積層体４０が設けられている。ここで、透過型光学素子の表面とは、被写体からの光Ｌが入射する入射面、またはこの入射面から入射した光Ｌが出射される出射面を意味する。具体的には例えば、素子パッケージ１１４としては、上述の第４の実施形態に係る素子パッケージ１１４ａまたはその変形例に係る素子パッケージ１１４ｂを用いることができる。
　レンズ鏡筒１０２の内周面に、第１の実施形態の変形例２に係る光学積層体１０、第２の実施形態の変形例２に係る光学積層体３０、または第３の実施形態の変形例２に係る光学積層体４０が設けられていてもよい。これにより、迷光などの発生を抑制することができる。
＜７　第７の実施形態＞
　上述の第６の実施形態では、撮像装置としてデジタルカメラ（デジタルスチルカメラ）に本技術を適用する場合を例として説明したが、本技術の適用例はこれに限定されるものではない。本技術の第７の実施形態では、デジタルビデオカメラに本技術を適用した例について説明する。
　以下、図１２を参照して、本技術の第７の実施形態に係る撮像装置の構成の一例について説明する。第７の実施形態に係る撮像装置２０１は、いわゆるデジタルビデオカメラであって、レンズ第１群Ｌ１、レンズ第２群Ｌ２、レンズ第３群Ｌ３、レンズ第４群Ｌ４、素子パッケージ２０２、ローパスフィルタ２０３、フィルタ２０４、モータ２０５、アイリス羽根２０６および電気調光素子２０７を備える。この撮像装置２０１では、レンズ第１群Ｌ１、レンズ第２群Ｌ２、レンズ第３群Ｌ３、レンズ第４群Ｌ４、ローパスフィルタ２０３、フィルタ２０４、アイリス羽根２０６および電気調光素子２０７により撮像光学系が構成される。アイリス羽根２０６および電気調光素子２０７により光学調整装置が構成される。レンズ第１群Ｌ１、レンズ第２群Ｌ２、電気調光素子２０７、レンズ第３群Ｌ３、レンズ第４群Ｌ４、フィルタ２０４、およびローパスフィルタ２０３付きカバーガラスなどからなる群より選ばれる少なくとも１種には、反射防止機能が付与されている。撮像光学系および素子パッケージ２０２の少なくとも一方が、第１の実施形態に係る光学積層体１０、第２の実施形態に係る光学積層体３０、および第３の実施形態に係る光学積層体４０のうちの少なくとも１つを含んでいる。以下、各構成要素および反射防止機能について順次説明する。
（レンズ群）
　レンズ第１群Ｌ１およびレンズ第３群Ｌ３は、固定レンズである。レンズ第２群Ｌ２は、ズーム用レンズである。レンズ第４群は、フォーカス用レンズである。
（素子パッケージ）
　素子パッケージ２０２は、入射された光を電気信号に変換し、図示を省略した信号処理部に供給する。
（ローパスフィルタ）
　ローパスフィルタ２０３は、例えば、素子パッケージ２０２の前面、すなわちカバーガラスの光入射面に設けられる。ローパスフィルタ２０３は、画素ピッチに近い縞模様の像などを撮影した場合に生じる偽信号（モワレ）を抑制するためのものであり、例えば、人工水晶から構成される。
　フィルタ２０４は、例えば、素子パッケージ２０２に入射する光の赤外域をカットするとともに、近赤外域（６３０ｎｍ～７００ｎｍ）の分光の浮きを抑え、可視域帯（４００ｎｍ～７００ｎｍ）の光強度を一様にするためのものである。このフィルタ２０４は、例えば、赤外光カットフィルタ（以下、ＩＲカットフィルタ）２０４ａと、このＩＲカットフィルタ２０４ａ上にＩＲカットコートを積層させて形成されたＩＲカットコート層２０４ｂとから構成される。ここで、ＩＲカットコート層２０４ｂは、例えば、ＩＲカットフィルタ２０４ａの被写体側の面およびＩＲカットフィルタ２０４ａの素子パッケージ２０２側の面の少なくとも一方に形成される。図１２では、ＩＲカットフィルタ２０４ａの被写体側の面にＩＲカットコート層２０４ｂが形成される例が示されている。
　モータ２０５は、図示を省略した制御部から供給された制御信号に基づき、レンズ第４群Ｌ４を移動する。アイリス羽根２０６は、素子パッケージ２０２に入射する光量を調整するためのものであり、図示を省略したモータにより駆動される。
　電気調光素子２０７は、素子パッケージ２０２に入射する光量を調整するためのものである。この電気調光素子２０７は、少なくとも染料系色素を含んだ液晶からなる電気調光素子であり、例えば、２色性ＧＨ液晶からなる電気調光素子である。
（反射防止機能）
　撮像装置２０１では、被写体からの光が素子パッケージ２０２内の撮像素子に到達するまでの間に、複数の光学素子（レンズ第１群Ｌ１、レンズ第２群Ｌ２、電気調光素子２０７、レンズ第３群Ｌ３、レンズ第４群Ｌ４、フィルタ２０４、およびローパスフィルタ２０３付きカバーガラス）を透過する。以下では、このように被写体からの光Ｌが撮像素子に到達するまでの間に透過する光学素子を「透過型光学素子」という。これらの複数の透過型光学素子のうちの少なくとも１つの透過型光学素子の表面には、第１の実施形態に係る光学積層体１０、第２の実施形態に係る光学積層体３０、または第３の実施形態に係る光学積層体４０が設けられている。具体的には例えば、素子パッケージ２０２としては、上述の第４の実施形態に係る素子パッケージ１１４ａまたはその変形例に係る素子パッケージ１１４ｂを用いることができる。
　鏡筒２０８の内周面２０８ｓに、第１の実施形態の変形例２に係る光学積層体１０、第２の実施形態の変形例２に係る光学積層体３０、または第３の実施形態の変形例２に係る光学積層体４０が設けられていてもよい。これにより、迷光などの発生を抑制することができる。
＜８　第８の実施形態＞
　第８の実施形態に係る電子機器は、第５の実施形態に係るカメラモジュール１３１を備えている。以下に、本技術の第８の実施形態に係る電子機器の例について説明する。
　図１３を参照して、電子機器がノート型パーソナルコンピュータ３０１である例について説明する。ノート型パーソナルコンピュータ３０１は、コンピュータ本体３０２と、ディスプレイ３０３とを備える。コンピュータ本体３０２は、筐体３１１と、この筐体３１１に収容されたキーボード３１２およびタッチパッド３１３を備える。
　ディスプレイ３０３は、筐体３２１と、この筐体３２１に収容された表示素子３２２およびカメラモジュール１３１とを備える。表示素子３２２の表示面に、第１の実施形態に係る光学積層体１０、第２の実施形態に係る光学積層体３０、または第３の実施形態に係る光学積層体４０を備えるようにしてもよい。
　ディスプレイ３０３の前面に前面板が設けられている場合には、その前面板の表面に、第１の実施形態に係る光学積層体１０、第２の実施形態に係る光学積層体３０、または第３の実施形態に係る光学積層体４０を備えるようにしてもよい。ここで、表面とは、外光が入射する前面、およびこの前面から入射した外光が出射される背面のうちの少なくとも一方を意味する。
　図１４Ａ、図１４Ｂを参照して、電子機器が携帯電話３３１である例について説明する。携帯電話３３１は、いわゆるスマートフォンであり、筐体３３２と、この筐体３３２に収容されたタッチパネル付き表示素子３３３およびカメラモジュール１３１とを備える。タッチパネル付き表示素子３３３は携帯電話３３１の前面側に設けられ、カメラモジュール１３１は携帯電話３３１の背面側に設けられる。ここで、タッチパネル付き表示素子３３３の入力操作面に、第１の実施形態に係る光学積層体１０、第２の実施形態に係る光学積層体３０、または第３の実施形態に係る光学積層体４０を備えるようにしてもよい。
　図１５Ａ、図１５Ｂを参照して、電子機器がタブレット型コンピュータ３４１である例について説明する。タブレット型コンピュータ３４１は、筐体３４２と、この筐体３４２に収容されたタッチパネル付き表示素子３４３およびカメラモジュール１３１とを備える。タッチパネル付き表示素子３４３はタブレット型コンピュータ３４１の前面側に設けられ、カメラモジュール１３１はタブレット型コンピュータ３４１の背面側に設けられる。ここで、タッチパネル付き表示素子３４３の入力操作面に、第１の実施形態に係る光学積層体１０、第２の実施形態に係る光学積層体３０、または第３の実施形態に係る光学積層体４０を備えるようにしてもよい。
　以下、実施例により本技術を具体的に説明するが、本技術はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
　本実施例における算術平均粗さＲａ、中間層の厚さＤ、割合Ｒ１、Ｒ２、軟化点、弾性率、およびモスアイ構造体の高さＨ、ピッチＰは、以下のようにして求めた。
（算術平均粗さＲａ）
　第２の凹凸の算術平均粗さＲａは、ＪＩＳ　Ｂ０６０１に準拠して測定した。具体的には、測定装置として微細形状測定装置（ＫＬＡ－Ｔｅｎｃｏｒ社製、Ｐ－１５）を用いて、第２の凹凸の粗度を測定し、算術平均粗さＲａを求めた。なお、スキャン条件はＲａの値に応じて変更しても良い。
（中間層の厚さＤ）
　まず、光学積層体をモスアイ構造体の頂部を含むように切断し、その断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）にて撮影した。次に、撮影したＴＥＭ写真から、中間層の厚さＤを求めた。
（モスアイ構造体の高さ（構造層の厚さ）ｄに対する中間層の厚さＤの割合Ｒ１）
　まず、光学積層体をモスアイ構造体の頂部を含むように切断し、その断面をＴＥＭにて撮影した。次に、撮影したＴＥＭ写真から、モスアイ構造体の高さｄおよび中間層の厚さＤを求めた。次に、上述のようにして求めたモスアイ構造体の高さｄおよび中間層の厚さＤを用いて、モスアイ構造体の高さ（構造層の厚さ）ｄに対する中間層の厚さＤの割合Ｒ１（＝（Ｄ／ｄ）×１００［％］）を求めた。
（中間層の厚さＤに対する第２の凹凸のうち凸部の先端の曲率ｋの割合Ｒ２）
　まず、光学積層体をモスアイ構造体の頂部を含むように切断し、その断面をＴＥＭにて撮影した。次に、撮影したＴＥＭ写真から、中間層の厚さＤおよび第２の凹凸のうち凸部の先端の曲率ｋを求めた。次に、上述のようにして求めた中間層の厚さＤおよび曲率ｋを用いて、中間層の厚さＤに対する第２の凹凸のうち凸部の先端の曲率ｋの割合Ｒ２（＝（ｋ／Ｄ）×１００［％］）を求めた。
（軟化点）
　軟化点は、動的粘弾性測定装置（アイティー計測株式会社製、ＤＶＡ－２２５）を用いて損失弾性率および貯蔵弾性率を測定し、損失弾性率／貯蔵弾性率＝誘電損失（ｔａｎδ）のピークの値を求め、その値を軟化点とした。図１６に、実施例１の光学積層体の第１の層と第２の層の損失弾性率および貯蔵弾性率の測定結果を示す。
（弾性率）
　動的粘弾性測定装置（アイティー計測株式会社製、ＤＶＡ－２２５）を用いて貯蔵弾性率を測定し、この貯蔵弾性率を弾性率（表１中の「弾性率」）とした。
（モスアイ構造体の高さＨ、ピッチＰ）
　まず、光学積層体をモスアイ構造体の頂部を含むように切断し、その断面をＴＥＭにて撮影した。次に、撮影したＴＥＭ写真から、モスアイ構造体の高さＨおよびピッチＰを求めた。
（実施例１）
　まず、第２の層としてＰＭＭＡ（Ｔｇ：９０℃）フィルムを準備した。次に、この第２の層の表面に光硬化性樹脂（東洋合成工業株式会社製、ＰＡＫ－０１）を塗布し、中間層の厚さが０．１２６μｍ、モスアイ構造体のピッチ、高さがそれぞれ２５０ｎｍ、２５０ｎｍになるように、モスアイ形状を転写した。これにより、モスアイ形状を有する第１の層が第２の層の表面に形成された。次に、ヘアライン加工を施したステンレス板を１１０℃、５ＭＰａの条件で第１の層に押し付けることにより、算術平均粗さＲａ：０．１μｍ、割合Ｒ２：５４％のヘアライン形状を第２の層の表面に形成した。以上により、目的とする光学積層体が得られた。
（実施例２）
　中間層の厚さが１０μｍになるようにモスアイ形状を転写したこと、算術平均粗さＲａ：０．１μｍ、割合Ｒ２：２％のヘアライン形状を第２の層の表面に形成したこと以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。
（実施例３）
　中間層の厚さが０．５μｍになるようにモスアイ形状を転写したこと、算術平均粗さＲａ：０．５μｍ、割合Ｒ２：１４％のヘアライン形状を第２の層の表面に形成したこと以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。
（実施例４）
　算術平均粗さＲａ：１．２μｍのヘアライン形状を形成したこと以外は、実施例３と同様にして光学積層体を得た。
（実施例５）
　中間層の厚さが０．５μｍになるようにモスアイ形状を転写したこと、断面Ｖ字状のプリズム形状を有する原盤を１１０℃、５ＭＰａの条件で第１の層に押し付けることにより、算術平均粗さＲａ：１．８μｍ、割合Ｒ２：４％の断面Ｖ字状のプリズム形状を第２の層の表面に形成したこと以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。
（実施例６）
　算術平均粗さＲａ：２０μｍの断面Ｖ字状のプリズム形状を形成したこと以外は、実施例５と同様にして光学積層体を得た。
（実施例７）
　算術平均粗さＲａ：４８μｍの断面Ｖ字状のプリズム形状を形成したこと以外は、実施例５と同様にして光学積層体を得た。
（実施例８）
　中間層の厚さが０．５μｍになるようにモスアイ形状を転写したこと、再帰性反射プリズム形状（コーナーキューブパターン形状）を有する原盤を１１０℃、５ＭＰａの条件で第１の層に押し付けることにより、算術平均粗さＲａ：４８μｍ、割合Ｒ２：４％の再帰性反射プリズム形状を第２の層の表面に形成したこと以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。
（実施例９）
　中間層の厚さが０．５μｍ、モスアイ構造のピッチ、高さがそれぞれ１５０ｎｍ、１５０ｎｍになるように、モスアイ形状を転写した。また、算術平均粗さＲａ：０．１μｍ、割合Ｒ２：１４％のヘアライン形状を第２の層の表面に形成した。これ以外のことは、実施例１と同様にして光学積層体を得た。
（実施例１０）
　中間層の厚さが０．５２５μｍ、モスアイ構造のピッチ、高さがそれぞれ３５０ｎｍ、３５０ｎｍになるように、モスアイ形状を転写した。また、算術平均粗さＲａ：０．７μｍ、割合Ｒ２：１３％のヘアライン形状を第２の層の表面に形成した。これ以外のことは、実施例１と同様にして光学積層体を得た。
（実施例１１）
　まず、第２の層としてＰＭＭＡ（Ｔｇ：９０℃）フィルムを準備した。次に、この第２の層の表面に光硬化性樹脂（東洋合成工業株式会社製、ＰＡＫ－０１）を塗布し、中間層の厚さが１μｍ、モスアイ構造のピッチ、高さがそれぞれ２５０ｎｍ、２５０ｎｍになるように、モスアイ形状を転写した。これにより、モスアイ形状を有する第１の層が第２の層の表面に形成された。次に、ヘアライン加工を施したステンレス板を１１０℃、５ＭＰａの条件で第１の層に押し付けて、ヘアライン形状を第２の層の表面に形成した。これにより、プリズム加工フィルムを得た。次に、鏡面加工を施したステンレス板の間にプリズム加工フィルムを挟み、１００℃で３ＭＰａの条件で押し付け、ほぼ平らに戻した。これにより、目的とする光学積層体を得た。
（実施例１２）
　ガラス板上にＰＭＭＡ（Ｔｇ：９０℃）を塗布したものを第２の層として用いた。中間層の厚さが１μｍになるようにモスアイ形状を転写した。また、算術平均粗さＲａ：２０μｍ、割合Ｒ２：２％の断面Ｖ字状のプリズム形状を第２の層の表面に形成した。これ以外のことは、実施例５と同様にして光学積層体を得た。
（参考例１）
　光硬化性樹脂として、東洋合成工業株式会社製、ＰＡＫ－０１と、共栄社化学株式会社製、ライトアクリレート４ＥＧ－Ａを質量比で５０：５０の割合で混合したものを用いた。中間層の厚さが１μｍになるようにモスアイ形状を転写した。算術平均粗さＲａ：０．１μｍ、割合Ｒ２：７％のヘアライン形状を第２の層の表面に形成した。これ以外のことは、実施例１と同様にして光学積層体を得た。
（参考例２）
　中間層の厚さが０．１μｍになるようにモスアイ形状を転写したこと、割合Ｒ２：７０％のヘアライン形状を第２の層の表面に形成したこと以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。
（参考例３）
　中間層の厚さが１１μｍになるようにモスアイ形状を転写したこと、算術平均粗さＲａ：０．１μｍ、割合Ｒ２：２．２％のヘアライン形状を第２の層の表面に形成したこと以外は、実施例２と同様にして光学積層体を得た。
（参考例４）
　中間層の厚さが１μｍになるようにモスアイ形状を転写したこと、第２の層の表面に対する凹凸形状の形成を省略すること以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。
（参考例５）
　中間層の厚さが１μｍになるようにモスアイ形状を転写したこと、算術平均粗さＲａ：５０μｍ、割合Ｒ２：２％のプリズム形状を第２の層の表面に形成したこと以外は、実施例５と同様にして光学積層体を得た。
（参考例６）
　中間層の厚さが１μｍ、モスアイ構造のピッチ、高さがそれぞれ１５０ｎｍ、１５０ｎｍになるように、モスアイ形状を転写した。また、第２の層の表面に対する凹凸形状の形成を省略した。これ以外のことは、実施例１と同様にして光学積層体を得た。
（参考例７）
　中間層の厚さが０．５μｍ、モスアイ構造のピッチ、高さがそれぞれ３５０ｎｍ、３５０ｎｍになるように、モスアイ形状を転写した。また、第２の層の表面に対する凹凸形状の形成を省略した。これ以外のことは、実施例１と同様にして光学積層体を得た。
（比較例１－１～１－１２）
　第１の層の形成を省略する以外は、実施例１～１２と同様にして、光学体を得た。
（比較例２－１～２－７）
　第１の層の形成を省略する以外は、参考例１～７と同様にして、光学体を得た。
（比較例３－１～３－１２）
　第２の層の表面に対する凹凸形状の付与を省略する以外は、実施例１～１２と同様にして、光学積層体を得た。
（比較例４－１～４－３、４－５）
　第２の層の表面に対する凹凸形状の付与を省略する以外は、参考例１～３、５と同様にして、光学積層体を得た。
（反射率）
　上述のようにして得られた実施例１～１２、参考例１～７の光学積層体の反射率を以下のようにして評価した。まず、光学積層体の裏面にブラックテープを貼り合わせた。次に、ブラックテープが貼り合わされた側とは反対側となる表面（モスアイ構造面）から光を入射して、光学積層体の反射スペクトルを、日本分光社製の評価装置（Ｖ－５５０）を用いて測定した。なお、入射光の角度は３０°とした。ここで、入射光の角度（θ＝３０°）は、光学積層体の表面（モスアイ構造面）を正面からみたときの角度を基準（θ＝０°）とした。次に、測定した反射スペクトルから、波長域３８０ｎｍから７８０ｎｍまでの平均反射率を求めた。その結果を表２に示した。
（配向性）
　上述のようにして得られた実施例１～１２、参考例１～７の光学積層体の配向特性を以下のようにして評価した。まず、光学積層体をモスアイ構造体の頂部を含むように切断し、その断面をＴＥＭにて撮影した。次に、撮影したＴＥＭ写真から、モスアイ構造体が以下の条件Ａ、Ｂを満たしているか否かを評価した。
　条件Ａ：モスアイ構造体の配向が光学積層体の垂線（光学積層体の表面（モスアイ構造面）の正面）から±３０°以上であり、かつ、モスアイ構造体の配向が第２の構造体（ヘアライン形状、プリズム形状またはＣＣＰ形状）の斜面の法線から±１０°以下の範囲である
　条件Ｂ：モスアイ構造体が第１の層表面に連続して形成されている
　次に、条件Ａ、Ｂの評価結果に基づき、以下の基準により配向性を評価した。
　○：条件Ａおよび条件Ｂの両方の条件を満たす
　×：条件Ａおよび条件Ｂの両方の条件を満たさないか、もしくはいずれか一方の条件を満たさない
（反射防止特性）
　上述のようにして得られた実施例１～１２、参考例１～７の光学積層体の入射角度０°、３０°の平均反射率（以下「第１の層有りの場合の入射角度０°、３０°の平均反射率」または「形状転写された第２の層を有する場合の入射角度３０°の平均反射率」と適宜称する。）を以下のようにして測定した。まず、光学積層体の裏面にブラックテープを貼り合わせた。次に、ブラックテープが貼り合わされた側とは反対側となる表面（モスアイ構造面）から光を入射して、光学積層体の反射スペクトルを、日本分光社製の評価装置（Ｖ－５５０）を用いて測定した。なお、入射光の角度θは０°または３０°とした。ここで、入射光の角度θは、光学積層体の表面（モスアイ構造面）を正面からみたときの角度を基準（θ＝０°）とした。次に、測定した反射スペクトルから、波長域３８０ｎｍから７８０ｎｍまでの入射角度０°、３０°の平均反射率をそれぞれ求めた。
　次に、上述のようにして得られた比較例１－１～１－１２、比較例２－１～２－７の光学体の入射角度０°、３０°の平均反射率（以下「第１の層無しの場合の入射光の角度０°、３０°の平均反射率」と適宜称する。）を、上述の実施例１～１２、参考例１～７と同様にして測定した。
　次に、上述のようにして得られた比較例３－１～３－１２、比較例４－１～４－３、４－５の光学積層体の入射角度３０°の平均反射率（以下「平坦な第２の層を有する場合の入射角度３０°の平均反射率」と適宜称する。）を、上述の実施例１～１２、参考例１～７と同様にして測定した。
　次に、上述のようにして求めた「第１の層有りの場合の入射角度０°、３０°の平均反射率」および「第１の層無しの場合の入射角度０°、３０°の平均反射率」を用いて、以下の比率Ｒａ0、Ｒａ30（第１の層の有無による平均反射率の変化率）を求めた。
　比率Ｒａ0＝［（第１の層有りの場合の入射角度０°の平均反射率）／（第１の層無しの場合の入射角度０°の平均反射率）］
　比率Ｒａ30＝［（第１の層有りの場合の入射角度３０°の平均反射率）／（第１の層無しの場合の入射角度３０°の平均反射率）］
　次に、上述のようにして求めた「形状転写された第２の層を有する場合の入射角度３０°の平均反射率」および「平坦な第２の層を有する場合の入射角度３０°の平均反射率」を用いて、以下の比率Ｒｂ30（第２の層の形状の有無による平均反射率の変化率）を求めた。
　比率Ｒｂ30＝［（形状転写された第２の層を有する場合の入射角度３０°の平均反射率）／（平坦な第２の層を有する場合の入射角度３０°の平均反射率）］
　次に、上述のようにして求めた比率Ｒａ0、Ｒａ30および比率Ｒｂ30を用いて、以下の基準により反射特性を評価した。
　○：比率Ｒａ0、Ｒａ30≦０．８、および、Ｒｂ30≦０．８の両方の関係を満たす
　×：比率Ｒａ0、Ｒａ30≦０．８、および、Ｒｂ30≦０．８の両方の関係を満たさないか、もしくはいずれかの関係を満たさない
　表１は、実施例１～１２、参考例１～７の光学積層体の構成を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 　ＨＬ：ヘアライン形状
　Ｖ：断面Ｖ字のプリズム形状
　ＣＣＰ：コーナーキューブパターン形状
　Ｒａ：算術平均粗さ
　Ｒ１：（Ｄ／ｄ）×１００［％］（Ｄ：中間層の厚さ、ｄ：モスアイ構造体の高さ（構造層の厚さ））
　Ｒ２：（ｋ／Ｄ）×１００［％］（ｋ：第２の凹凸のうち凸部の先端の曲率、Ｄ：中間層の厚さ）
　表２は、実施例１～１２、参考例１～７の光学積層体の評価結果を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
 　なお、配向性の評価結果欄において、「第１の層形状潰れ」、「第１の層形状崩れ」および「第１の層割れ」は、具体的には以下の状態を意味している。
　第１の層形状潰れ：第１の層のモスアイ形状に潰れが発生した状態
　第１の層形状崩れ：第１の層のモスアイ形状に形状崩れが発生した状態
　第１の層割れ：第１の層に割れが発生した状態
　表１、表２から以下のことがわかる。
　参考例１では、第１の層の軟化点が第２の層の軟化点よりも低いため、モスアイ形状潰れが発生している。参考例２では、割合Ｒ１が５０％未満であるため、モスアイ形状に崩れが発生している。参考例３では、割合Ｒ１が４０００％を超えるため、第１の層に割れが発生している。参考例４では、算術平均粗さＲａが０．１μｍ未満であるため、モスアイ構造体が、光学積層体の表面に対して斜め方向に殆ど配向しない。参考例５では、算術平均粗さＲａが４８μｍを超えているため、第１の層に割れが発生している。参考例６、７では、算術平均粗さＲａが０．１μｍ未満であるため、光学積層体の表面に対して斜め方向に殆ど配向しない。したがって、参考例１～６では、射入射に対する反射率が高く、かつ、反射防止特性の評価結果も悪い。
　一方、実施例１～１２では、算術平均粗さＲａが０．１μｍ以上４８μｍ以下であり、かつ、割合Ｒ１が５０％以上４０００％以下であるため、良好な配向性（斜め方向の配向性）が得られている。したがって、実施例１～１２では、射入射に対する反射率が低く、かつ、反射防止特性の評価結果も良好である。
　以上、本技術の実施形態およびその変形例について具体的に説明したが、本技術は、上述の実施形態およびその変形例に限定されるものではなく、本技術の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。
　例えば、上述の実施形態およびその変形例において挙げた構成、方法、工程、形状、材料および数値などはあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる構成、方法、工程、形状、材料および数値などを用いてもよい。
　また、上述の実施形態およびその変形例の構成、方法、工程、形状、材料および数値などは、本技術の主旨を逸脱しない限り、互いに組み合わせることが可能である。
　また、本技術は以下の構成を採用することもできる。
（１）
　第１の凹凸を有する第１の層と、
　第２の凹凸を有する第２の層と
　を含み、
　上記第２の凹凸の算術平均粗さが、０．１μｍ以上４８μｍ以下であり、
　上記第１の層は、上記第１の凹凸を構成する複数の構造体を含み、
　上記複数の構造体は、反射の低減を目的とする光の波長以下のピッチで上記第２の凹凸上に設けられるとともに、複数の配向性を有している積層体。
（２）
　上記第１の層は、
　上記複数の構造体を含む構造層と、
　上記構造層と上記第２の層との間に設けられた中間層と
　を含み、
　上記構造層の厚さｄに対する上記中間層の厚さＤの割合Ｒ（＝（Ｄ／ｄ）×１００）は、５０％以上４０００％以下である（１）に記載の積層体。
（３）
　上記第２の層の軟化点は、上記第１の層の軟化点よりも低い（１）または（２）に記載の積層体。
（４）
　第３の凹凸を有する第３の層をさらに備え、
　上記第２の層は、上記第３の凹凸上に設けられている（１）から（３）のいずれかに記載の積層体。
（５）
　上記第２の凹凸は、複数の曲面または平面を含み、
　上記複数の構造体の配向方向は、上記曲面または上記平面に対してほぼ垂直である（１）から（４）のいずれかに記載の積層体。
（６）
　上記第２の凹凸は、拡散性を有している（１）から（５）のいずれかに記載の積層体。
（７）
　上記第２の凹凸は、指向性を有している（１）から（５）のいずれかに記載の積層体。
（８）
　上記第２の凹凸は、レンズパターンである（１）から（５）のいずれかに記載の積層体。
（９）
　上記第１の層および上記第２の層の少なくとも一方が、光吸収性を有している（１）から（８）のいずれかに記載の積層体。
（１０）
　（１）から（８）のいずれかに記載の積層体を含んでいる撮像素子パッケージ。
（１１）
　（１）から（９）のいずれかに記載の積層体を含んでいる撮像装置。
（１２）
　（１）から（９）のいずれかに記載の積層体を含んでいる電子機器。
（１３）
　反射の低減を目的とする光の波長以下のピッチで設けられた複数の構造体により構成された第１の凹凸を有する第１の層を、第２の層の表面に形成し、
　上記第２の層の表面に、算術平均粗さ０．１μｍ以上４８μｍ以下の第２の凹凸を付与する
　ことを含んでいる積層体の製造方法。
（１４）
　上記第１の凹凸に原盤を押し付けることにより、上記第２の層の表面に上記第２の凹凸を付与する（１３）に記載の積層体の製造方法。
（１５）
　上記第２の層の表面に対する上記第１の層の形成前において、上記第２の層を第３の層の表面に形成し、
　上記第２の凹凸の付与後において、上記第３の層の表面に第３の凹凸を付与する
　ことをさらに含んでいる（１３）または（１４）に記載の積層体の製造方法。
（１６）
　上記第１の凹凸に原盤を押し付けることにより、上記第３の層の表面に上記第３の凹凸を付与する（１５）に記載の積層体の製造方法。
（１７）
　上記第２の凹凸の付与後において、平坦な成形面を有する原盤を上記第１の凹凸に押し付けることをさらに含んでいる（１３）から（１６）のいずれかに記載の積層体の製造方法。
（１８）
　上記第２の凹凸の付与後において、上記第２の凹凸をほぼ平面状に戻すことをさらに含んでいる（１３）から（１７）のいずれかに記載の積層体の製造方法。
　１０　　透明積層体
　１１　　第１の層
　１１ａ　　第１の構造体
　１１ｂ　　中間層
　１１ｓ　　第１の凹凸
　１２　　第２の層
　１２ａ　　第２の構造体
　１２ｓ　　第２の凹凸
　１３　　第３の層
　１３ａ　　第３の構造体
　１３ｓ　　第３の凹凸
　１１４　　撮像素子パッケージ
　１３１　　カメラモジュール
　１００、２０１　　撮像装置
　３０１、３３１、３４１　　電子機器

Claims (12)

  1. 　第１の凹凸を有する第１の層と、
    　第２の凹凸を有する第２の層と
    　を含み、
    　上記第２の凹凸の算術平均粗さが、０．１μｍ以上４８μｍ以下であり、
    　上記第１の層は、上記第１の凹凸を構成する複数の構造体を含み、
    　上記複数の構造体は、反射の低減を目的とする光の波長以下のピッチで上記第２の凹凸上に設けられるとともに、複数の配向性を有している積層体。
  2. 　上記第１の層は、
    　上記複数の構造体を含む構造層と、
    　上記構造層と上記第２の層との間に設けられた中間層と
    　を含み、
    　上記構造層の厚さｄに対する上記中間層の厚さＤの割合Ｒ（＝（Ｄ／ｄ）×１００）は、５０％以上４０００％以下である請求項１に記載の積層体。
  3. 　上記第２の層の軟化点は、上記第１の層の軟化点よりも低い請求項１に記載の積層体。
  4. 　第３の凹凸を有する第３の層をさらに備え、
    　上記第２の層は、上記第３の凹凸上に設けられている請求項１に記載の積層体。
  5. 　上記第２の凹凸は、複数の曲面または平面を含み、
    　上記複数の構造体の配向方向は、上記曲面または上記平面に対してほぼ垂直である請求項１に記載の積層体。
  6. 　上記第２の凹凸は、拡散性を有している請求項１に記載の積層体。
  7. 　上記第２の凹凸は、指向性を有している請求項１に記載の積層体。
  8. 　上記第２の凹凸は、レンズパターンである請求項１に記載の積層体。
  9. 　上記第１の層および上記第２の層の少なくとも一方が、光吸収性を有している請求項１に記載の積層体。
  10. 　撮像素子と、
    　透光部を有し、上記撮像素子を収容するパッケージと
    　を含み、
    　上記透光部は、
    　第１の凹凸を有する第１の層と、
    　第２の凹凸を有する第２の層と
    　を含み、
    　上記第２の凹凸の算術平均粗さが、０．１μｍ以上４８μｍ以下であり、
    　上記第１の層は、上記第１の凹凸を構成する複数の構造体を含み、
    　上記複数の構造体は、反射の低減を目的とする光の波長以下のピッチで上記第２の凹凸上に設けられるとともに、複数の配向性を有している撮像素子パッケージ。
  11. 　光学系と、
    　撮像素子パッケージと
    　を備え、
    　上記光学系および上記撮像素子パッケージのうちの少なくとも一方が、
    　第１の凹凸を有する第１の層と、
    　第２の凹凸を有する第２の層と
    　を含み、
    　上記第２の凹凸の算術平均粗さが、０．１μｍ以上４８μｍ以下であり、
    　上記第１の層は、上記第１の凹凸を構成する複数の構造体を含み、
    　上記複数の構造体は、反射の低減を目的とする光の波長以下のピッチで上記第２の凹凸上に設けられるとともに、複数の配向性を有している撮像装置。
  12. 　光学系と、
    　撮像素子パッケージと
    　を備え、
    　上記光学系および上記撮像素子パッケージのうちの少なくとも一方が、
    　第１の凹凸を有する第１の層と、
    　第２の凹凸を有する第２の層と
    　を含み、
    　上記第２の凹凸の算術平均粗さが、０．１μｍ以上４８μｍ以下であり、
    　上記第１の層は、上記第１の凹凸を構成する複数の構造体を含み、
    　上記複数の構造体は、反射の低減を目的とする光の波長以下のピッチで上記第２の凹凸上に設けられるとともに、複数の配向性を有している電子機器。
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