TW201224642A - Mask for near-field lithography and fabrication the same - Google Patents

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Description

201224642 六、發明說明： 本申請案主張2010年8月23日Boris Kobrin提出申 請名稱爲“MASK FOR NEAR-FIELD LITHOGRAPHY AND FABRICATION OF S A Μ E ” 之優先臨時申請案 6 1/4 0 2，0 8 5 之權利，該全部內容倂入本文參考》 【發明所屬之技術領域】 本發明之實施例係有關製造近場光學微影術遮罩的方 法。 【先前技術】 本節描述與本發明所揭示之實施例有關的先前技術主 題。在此並無意明示或暗示本節所討論的先前技術在法律 上構成習知技術。 目前很多應用及工業上需要奈米結構，很多新技術及 未來的先進產品也需要奈米結構。例如但非限於對於目前 諸如太陽電池及LED等領域之應用，以及下一代的資料 儲存裝置，在效率方面都可獲增進。 例如，可用來製造奈米結構之基板的技術諸如有電子 束直寫、深UV微影術、奈米球微影術、奈米壓印微影術 、近場相移微影術、及電漿子微影術。 先前的作者等人已建議根據專利申請案 W02009094009及US20090297989中所描述之近場光學微 影術而將大面積之硬質與可撓性基板材料奈米圖案化的方 -5- 201224642 法’其中’使用可轉動的遮罩在對於輻射敏感的材料上成 像。典型上’可轉動的遮罩包含圓筒或錐形筒。奈米圖案 化技術利用近場光學微影術，其中，使用來圖案化基板的 遮罩與基板相接觸。近場光學微影術利用彈性體相位遮罩 或可使用表面電漿子技術，其中，轉動的圓筒表面’包含金 屬奈米孔或奈米顆粒。在一種實施中，這類遮罩爲近場相 移遮罩。近場相移微影術包括在遮罩與光阻正形相接觸（ conformal contact)之時，以通過彈性體相位遮罩的紫外 線（UV )對光阻層曝光。使彈性體相位遮罩與光阻薄層 相接觸，致使光阻“浸潤（wet ) ”遮罩之接觸面的表面。 在遮罩與光阻相接觸之時使UV光通過遮罩，使光阻曝露 於在遮罩之表面所產生的光強度分佈。相位遮罩形成有其 深度係設計成以π强度來調變透射光之相位的浮雕。相位 調變的結果是，強度中的局部空白，出現在形成於遮罩上 之浮雕圖案中的步階邊緣。當使用正光阻時，經由此遮罩 的曝光，接著顯影，以得到其寬度等於強度中空白之特徵 寬度的光阻線。對於與習用之光阻相組合的365奈米之近 UV光而言，強度中之空白的寬度大約100奈米。PDMS 遮罩可被使用來與光阻層形成正形、原子尺度的接觸。此 接觸可在接觸時自然地建立，不需要施加壓力。廣義的黏 著力導引此程序，並提供了遮罩在垂直於光阻表面之方向 在角度及位置方面簡單且習用的對正方法，以建立完美的 接觸。遮罩相關於光阻沒有實體的間隙。PDMS對於波長 大於300奈米的UV光透明。在PDMS與光阻層正形接觸
S -6 - 201224642 之時，使來自水銀燈（其主光譜線爲3 55-3 65奈米）的光 通過PDMS，使光阻曝露於形成在遮罩上之強度分佈。 遮罩的另一實施尙包括表面電漿子（plasmon)技術 ，其中，在可轉動之遮罩的外表面上層疊或沈積金屬層或 膜》金屬層或膜具有一特定系列的貫通奈米孔。在表面電 漿子技術的另一實施例中，在透明之可轉動遮罩的外表面 上沈積金屬奈米顆粒層，以藉由增強的奈米圖案化來獲得 表面電漿子。 以上提及的申請案建議從主基板（使用其中一種已知 的奈米微影術技術所製造，諸如電子束、深UV、干涉與 奈米壓印微影術）來製造此種遮罩的方法，並接著藉由模 造聚合物材料、硬化該聚合物以形成複製膜來產生主基板 的複製品。但不幸的是，此方法無可避免地會在各片聚合 物膜之間產生某些“微”接縫線（即使主基板非常大，且僅 只需要一片聚合物膜即可覆蓋整個圓筒的表面，但仍無法 避免有一條接縫線）。 本專利申請案建議一些爲“滾動遮罩”微影術設備製造 遮罩的新方法。 【發明內容】 本發明的實施例提出製造具有光學透明圓筒之近場光 學微影術遮罩的問題，該透明圓筒之本體的內部或外部具 有光源，且以層疊、沈積或其它方法而形成在圓筒外表面 上之透明彈性體膜的膜外表面上具有奈米結構。該遮罩可 201224642 具有尺寸範圍從大約1奈米到大約100奈米的特徵，較佳 爲從大約10奈米至大約1微米，更佳爲從大約50奈米至 大約5 00奈米。該遮罩可被使用來印刷尺寸範圍從大約1 奈米到大約1 00 0奈米的特徵，較佳爲從大約10奈米至大 約500奈米，更佳爲從大約50奈米至大約200奈米。 本發明的實施例係有關有用於“滾動遮罩”微影術之近 場光學微影術遮罩的製造之方法。圓筒遮罩係塗覆以聚合 物，其係圖案化有所想要的特徵，以便獲得到用於相移微 影術或電漿子印刷的遮罩。聚合物（例如，彈性體）可在 圖案化之前或之後被配置於圓筒表面上。 供影像轉移到圓筒表面的主圖案係使用習知的微米微 影術或奈奈米微影術法（例如，奈米壓印微影術、高能射 束、UV光微影術、干涉微影術、自組合、奈米多孔材料 或自然奈米結構表面）來予以產生。 主基板可以是具有所想要奈米尺度之特徵的平坦硬板 或可撓性膜。 以下的方法被建議用來使衆合物層圖案化於圓筒表面 上：“平板-至-圓筒”奈米壓印微影術、標準接觸或近場組 態的光學微影術、接合分離或印花轉印微影術、微接觸印 刷' 奈米轉印印刷、及掃瞄束干涉微影術。 所有建議的方法都可按連續的模式來予以實施，其中 ’在微影術製程期間，圓筒連續地轉動。或者，所有建議 的方法都可按“步進·與-轉動，，的模式來予以實施，其中， 在兩個製程之間，隨著後續的轉動步進而一次進行圓筒的 δ -8 - 201224642 一段地完成微影術。 【實施方式】 關於詳細描述的前言，須注意，本說明書及所附之申 請專利範圍中所使用單數形式的"a"，” a η "，與” t h e "包括複 數個對象，除非上下文中有明確的另有所指定。 在以下的詳細描述中將參考構成本說明書之一部分的 附圖，且其中係藉由說明可實行本發明的特定實施例來顯 示。關於此，諸如“頂部”、“底部”、“前方”、“背部，’、“ 在前的”、“尾接” '“在上方”、“在下方，，等方向名詞，係 用來參考所描述之各圖的方向。由於本發明之各實施例的 各組件可置於若干個不同的方向上，因此，所使用的方向 名詞只是爲說明之目的’絕非限制。須瞭解，也可利用其 它的實施例，且可做結構上及邏輯上的改變，不會偏離本 發明之範圍。因此’以下的詳細描述並無限制之意，且本 發明的範圍係由所附之申請專利範圍來予以界定。 作者等人早先在國際專利申請案公告號 W〇2〇09094〇09中已描述了“滾動遮罩”近場奈米微影術系 統’其被倂入本文做爲參考資料。在圖1所示的實施例的 其中之一中’ “滾動遮罩”係由中空圓筒11形狀的玻璃（ 石英）框所構成’其包含光源12。層疊於圓筒11外表面 的彈性體膜13具有按照所想要之圖案而製造的奈米圖案 14。使滾動遮罩與塗覆有光敏材料16的基板15相接觸。 奈米圖案14可被設計成用來實施相移曝光，且在此 -9- 201224642 情況中，可被製造成奈米溝槽、支柱或立柱，或包含任何 形狀之特徵的陣列。或者，奈米圖案可被製造成奈米金屬 島的陣列或圖案用於電漿子印刷。滾動遮罩上的奈米圖案 可具有尺寸範圍從大約1奈米到大約100奈米的特徵，較 佳爲從大約10奈米到大約1微米，更佳爲從大約50奈米 到大約500奈米。滾動遮罩可被使用來印刷尺寸範圍從大 約1奈米到大約1 000奈米的特徵，較佳爲從大約10奈米 至大約500奈米，更佳爲從大約50奈米至大約200奈米 〇 用於滾動遮罩近場光學微影術之光學機構系統的整體 視圖係見於圖2，其中，圓筒21係懸吊在彈簧27上。 圖3描繪本發明的第一實施例，其中，使用“平板· 到-圓筒”組態的奈米壓印微影術技術以將沈積在圓筒表面 的聚合物層圖案化。使用浸漬、噴灑、滾子塗覆、刀緣塗 覆、或其它方法在中空透明的圓筒31上塗覆以聚合物材 料32»接著，使圓筒31與具有浮雕外形輪廓34之形成 有奈米結構的主基板33相接觸，並使浮雕外形輪廓34壓 印到聚合物材料32中。使圓筒表面的壓印部分熱硬化或 使用UV光使其硬化（分別用於熱可硬化或UV可硬化的 聚合物）。在壓印製程期間，主基板與可轉動的圓筒相接 觸，藉由在主基板表面上轉動圓筒或移動主基板，此製程 可用連續的模式完成。圓筒31與主基板33相接觸部分之 壓印條紋的熱硬化可使用諸如熱風槍之熱源3 5經由出熱 孔36所吹出的熱氣來予以完成。或者，可使用IR燈做爲 -10- 201224642 熱源35。出熱孔36可被組構成用來隔離圓筒31之被加 熱的部分。如果主基板33係由透明材料所製成，則從主 基板的另一側來看，熱源35可位於圓筒31的內部或圓筒 的外部。出熱孔3 6可包括冷卻機構，以提供加熱區較佳 的熱隔離。使用UV燈或UV LED，可完成UV硬化。再 次’光圈或光學系統可被使用來將光僅聚焦在壓印的區域 。或者，可將主基板33加熱，以使聚合物之與主基板相 接觸的部分可被動態地硬化。可實施冷卻遮蔽以熱隔離圓 筒之未與主基板33相接觸的區域。 可用做爲聚合物32之熱硬化聚合物的例子爲彈性體 ，諸如聚二甲基矽氧烷（PDMS ) 。UV可硬化聚合物的例 子可以是環氧矽利康材料或聚二甲基矽氧烷-氨基甲酸乙 酯丙烯酸酯。在此動態壓印製程期間，圓筒31與主基板 33的平移同步轉動，直到圓筒31的表面未被完全圖案化 爲止。使用精密的角度編碼器可精確地控制圓筒的轉動， 以避免圖案的重疊或使其最小化。 圖4顯示另一實施例，其中，用來產生圖案的接觸光 學微影術使用光學遮罩41，其可以是具有透明及不透明 特徵的光罩、或具有表面浮雕的相移遮罩、或電漿子遮罩 、或所有此2或3種遮罩的混合式遮罩。來自光源43的 光通過光學系統44被導引到接觸區上。轉動的速度經過 設計，以提供45所想要的曝光。曝光製程之後接著是聚 合物的顯影，其溶解被曝光的區域（如果聚合物爲正調） ，及未曝光的區域（如果聚合物爲負調的情況）。 -11 - 201224642 圖5顯示另一實施例，其中，使用所謂的接合-分離 微影術來圖案化沈積於圓筒51上的聚合物52。聚合物層 52例如是以彈性體材料所製成，特別是聚二甲基矽氧烷 (PDMS) β聚合物52 (或其前質）被沈積於圓筒5 1上 。由玻璃或其它適當材料所製成的基板53上沈積或生長 有氧化物層。在一個實施例中，圖案5 4係以沈積在玻璃/ 氧化物上的金層之方式來予以製造。在其它實施例中，圖 案54可以是由鐵氟龍或聚對二甲苯基層所製成。將聚合 物52與基板53上之氧化物54的外露部分曝露於氧氣或 空氣電漿、或UV臭氧、或電暈放電55，以使此兩表面被 活化。接著，在被活化的聚合物5 2與被活化的氧化物5 4 之間接觸時，它們以強的Si-O-Si鍵而被接合在一起。.此 接合的強度可藉由使用熱源56的快速熱硬化來予以增強 ，諸如熱風槍或IR燈通過孔或屏蔽罩5 7提供僅接觸區的 局部加熱。或者，基板53可被加熱，以促使PDMS-氧化 物接觸時之接合的快速硬化。某些被活化的聚合物（例如 ，PDMS )無法與金表面產生接合。圓筒一旦轉動，基板 上的氧化物就將聚合物52的接合部分拉出圓筒51，其在 圓筒51的表面上形成與氧化物表面上之金圖案互補的圖 案。 在又一實施例中，可使用印花轉印微影術來圖案化圓 筒。在這類實施例中，主基板可以是由沈積在基板上並且 被圖案化有所想要之特徵的薄彈性體層（例如，PDMS ) 所製成。圖6顯示如何藉由使圖案化之彈性體主基板64
S -12- 201224642 與圓筒62上之未圖案化之彈性體曝露於例如UV、臭氧、 氧氣或空氣電漿、或電暈放電等活化源而使此兩表面被活 化，並在圓筒62轉動期間使兩者相接觸。結果是，主基 板上之彈性體的特徵係接合於圓筒62的彈性體層，且在 圓筒轉動之時，其特徵從主基板被轉移到圓筒的表面上。 在另一更佳的較佳中，彈性體主基板可被重複使用。 在這類情況中，以所想要的特徵來圖案化由玻璃或矽或其 它硬質材料所製成的硬主基板，接著，在此表面浮雕的頂 部上沈積以指定厚度的薄彈性體（例如PDMS )。在相移 遮罩的情況中，彈性體層的厚度較佳爲等於或接近相移遮 罩表面浮雕之所想要的厚度。視配合遮罩所使用之光的波 長及遮罩材料的折射率而定，理想的厚度可能是在100奈 米至500奈米的範圍。藉由非限制的例子，對於365奈米 的光源及市售商用成分的 PDMS (諸如，Sylgard 184 PDMS)，理想的厚度爲約400奈米。在以UV臭氧、氧 氣或空氣電漿、或電暈放電活化之時，與圓筒表面上的 PDMS層相接觸。接著，可去除主基板上之剩餘的PDMS 材料，並再塗覆PDMS供下次製程使用。 接下來將描述製造電漿子近場遮罩的方法。 在第一實施例中，如圖7所示，使用與前述用於相移 遮罩製造類似之方法的其中之一來製造電漿子近場遮罩。 近場遮罩包括其上形成有奈米圖案之彈性體層71的圓筒 72。藉由使用沈積在被圖案化之基板75上之光阻表面74 上的金屬薄膜73，可獲致電漿子效果。當來自光源76的 -13- 201224642 UV光通過局部之形成有奈米圖案的彈性體層71時，由於 入射光子與金屬膜73之表面上的自由電子之間的交互作 用，表面電漿子被激發。電漿子的激發致使大量的能量累 積在奈米圖案之邊緣的四周。彈性體遮罩圖案邊緣提供了 光阻中光場的調變，其被使用來在基板75中產生對應的 圖案。 或著，首先，在圓筒表面上直接沈積薄金屬層，接著 ，在金屬層的上方沈積薄彈性體層（例如，小於1 00奈米 )，並按照本發明中所描述的任何一方法來予以圖案化。 所得到的遮罩可用做爲電漿子遮罩，其中，彈性體遮罩圖 案邊緣提供使用來產生圖案之光阻中的光場之調變。 在圖8所示的另一實施例中，電漿子遮罩之製造開始 於a )按照上述任一方法（例如，奈米壓印或光學微影術 )在圓筒82上沈積光阻81並圖案化。接著，b)在光阻 圖案的上方沈積金屬層，接著c)去除製程（溶解光阻） ，在圓筒82的表面上留下金屬圖案84。最後，d)在金 屬圖案84上沈積薄彈性體（例如，PDMS )層85。所得 到的遮罩可用做爲奈米近場遮罩。 另一實施例使用微接觸印刷技術以將金屬圖案轉移到 圓筒表面。圖9a)顯示此方案，其中，首先在圓筒91上 塗覆薄金屬層92 (例如，金層），接著，與其上沈積有 自組性單分子層（SAM ) 94之經圖案化的基板（主基板 )93相接觸，主基板93以由軟材料所製成者爲較佳，以 確保主基板93與圓筒91之間的緊密接觸。因此，彈性體
S -14- 201224642 (例如’ PDMS)可被使用於此目的^ SAM 94被選擇而使 其與金屬層92中之金屬原子具有親和性（在金的情況中 ，SAM可具有露出的硫醇基）。在圓筒91與主基板93 之間相接觸時，SAM分子將接合於金屬表面92，且當圓 筒轉動且SAM分子與主基板93分離時，此分子被轉移到 圓筒的表面。此將在金屬表面b)產生光阻遮罩95 。接 著，此光阻可被使用做爲蝕刻遮罩來蝕刻金屬以產生金屬 奈米結構96。最後，c)以薄彈性體層97塗覆於此奈米 結構，以提供圓筒與主基板間之透明正形介面做無滑動移 動(slip-free movement ) ° 另一實施例使用微轉移印刷技術以在圓筒表面產生金 屬奈米圖案的。此製程爲上述微接觸印刷的反向製程。此 時，如圖1 〇所示，薄金屬層（例如，金）係從以軟彈性 體材料（例如，PDMS )所製成的主圖案1 0 1被印刷到圓 筒102之上，圓筒102被具有金屬親合性之外露基團的 SAM層103所包覆（在與金親合的情況中，例如其爲末 端含硫醇基的SAM)。在主圖案與圓·筒相接觸之時，圓 筒102上之SAM層103與主圖案101上之金屬間形成共 價鍵。轉動圓筒102導致金屬-主圖案介面處的破壞（例 如，金不再牢固地黏合於PDMS ) ’並將金屬圖案轉移到 圓筒表面94。 最後，在電漿子遮罩的另一實施例中，在彈性體材料 (例如，PDMS )的製備期間，將奈米金屬顆粒與聚合物 前質混合，形成所謂的浸金屬彈性體（例如，浸金屬的 -15- 201224642 PDMS )，接著，使用上述任何方法將圓筒表面圖案化。 所得到的遮罩可用做爲電漿子遮罩，其中，彈性體遮罩圖 案邊緣提供被用來產生圖案之光阻中的光場調變。 由於製造具有奈米尺寸特徵之大面積主基板的成本更 爲昂貴，因此希望限制主基板表面面積。在此情況，所提 及的所有實施例都可用本文中稱爲“步進-與-轉動”模式的 方式來予以實施。在此模式中，如圖11所示，使具有聚 合物層112的圓筒111與經圖案化之主基板114的窄條紋 113相接觸，接著，使用以上所建議的其中一種方法（奈 米壓印微影術、光微影術、印花轉印或接合·分離微影術 )以使沈積在圓筒上的聚合物112圖案化。及最後，圓筒 脫離主基板，轉動的角度足夠來定位，且圓筒之未曝光/ 未壓印/未印刷的部分在主基板表面的上方，並使其與主 基板相接觸以便再一次圖案化。可使用角度編碼器來精確 地控制圓筒的轉動。此步進-與·轉動的製程可被重複，直 到整個圓筒表面均被圖案化爲止。 另一實施例使用其上製造有多特徵圖案或不同尺寸圖 案之梯度的主基板’且基板可被平移以使用其中一種或另 —種圖案來壓印/曝光圓筒，如圖11所示。 另一實施例包括上述的任一實施例，其中，使用奈米 結構化聚合物、金屬、或由其它材料所製成之可撓性膜之 形式的可撓性基板來取代平基板。圖12顯示此類系統的 例子’其中，圓筒122上之聚合物層121藉由從第一捲盤 124被傳送到第二捲盤125的可撓性主基板123來予以壓
S -16- 201224642 印。另一圓筒125係用來施加壓力及支撐可撓性主基板膜 。可撓性主基板123同樣也可以是奈米壓印主基板或是具 有表面浮雕的相移遮罩、或具有不透明區與透明區的光罩 、或用於接合-分離或印花轉印微影術之經圖案化及被活 化的彈性體膜。 另一實施例使用干涉/全像微影術來圖案化沈積在圓 筒之表面上的光敏層。圖13顯示描繪掃瞄束光學干涉微 影術（SBIL )之配置（setup )的簡化槪示圖。一對低失 真的窄雷射光束131重疊於沈積在圓筒表面上之光敏聚合 物132的表面上以產生小的光柵影像。圓筒在光束之下於 X-Y方向上移動，並轉動以將光柵影像寫在圓筒的整個表 面上。接著，光學系統（或圓筒）可轉動90度，並再次 重複該製程，其可建立用來產生很多應用都會使用到之立 柱或孔洞陣列所需的棋盤圖案。
在本發明的某些實施例中，如圖14所示，平坦的聚 合物膜141被奈米圖案化，並獲得到可貼附於圓筒142表 面之經奈米圖案化的聚合物膜1 4 3。最後獲得到圓筒形遮 罩1 44。經由非限制的例子，平坦的聚合物膜可使用透明 的轉動圓筒遮罩來予以微影術地圖案化，例如，如2009 年4月1日Boris Kobrin等人提出申請之一般地讓予共同 待審之美國專利申請案號12/384,219名稱爲“LARGE AREA NANOPATTERNING METHOD AND APPARATUS”， 並於20 10年5月20日公告爲美國專利申請案公告號 20100123885中所描述’該兩者全部內容併入本文中以供 -17- 201224642 參考。可使用任何適當的奈米微影術技術來使彈性體膜奈 米結構化。適合技術的例子包括但不限於奈米壓印微影術 、紫外線（UV )微影術、包括有步進機、電子束微影術 等。該膜在奈米圖案化之後可被貼附於（例如，層疊於） 圓筒的外表面。經奈米圖案化的膜143可被製造得比圓筒 142的圓周稍長，當貼附於圓筒時，可使膜本身的兩端稍 微重疊。在微影術期間，當膜上的圖案被轉移到基板時， 此重疊可避免或減少圖案中的“接縫”145。或者，可使用 與圓筒之曲率半徑相同之曲率半徑的彎曲主基板（或子主 基板）來圖案化該接縫（seam)。 可修改圖14所示的實施例來製造電漿子遮罩，如圖 15所示。在與製造電漿子遮罩相關的實施例中，以薄的 金屬塗層152塗覆於聚合物（例如，彈性體）膜151，並 在金屬塗層152中形成奈米結構的圖案。所獲得到的合成 奈米圖案化膜1 5 3可被貼附於圓筒1 5 4的表面，例如經由 層疊。結果獲得到圓筒形的電漿子遮罩1 5 5。藉由非限制 的例子，此電漿子遮罩之形成，可藉由以奈米結構之圖案 來圖案化彈性體膜1 5 1，而後所形成的電漿子遮罩接著包 覆該奈米結構圖案金屬以形成金屬的奈米結構，而後將彈 性體膜貼附於圓筒，以使金屬的奈米結構係位在外側。 在某些實施例中，奈米圖案化的膜可直接被製造於圓 筒上。例如，如圖16所示，例如，藉由浸漬、滾塗或噴 霧塗覆，液態聚合物前質的膜161可被沈積在圓筒162的 外表面上。接著，使用適當的奈米壓印法（例如’平板-
-18- S 201224642 到-圓筒）和熱或UV硬化、或如果聚合物層爲光敏聚合 物’可使用光學微影術、或接合-分離微影術，將奈米圖 案163從平坦的主基板（或子主基板）164轉移到膜161 °硬化液體聚合物膜161以固定奈米圖案並完成圓筒形遮 罩 165。 在某些實施中，吾人希望在將奈米圖案壓印到聚合物 之前（或在其上形成金屬層之前），先將聚合物部分硬化 。否則將不易控制聚合物層之厚度的均勻性。 在上述的各不同實施例中，單層的聚合物膜可用包括 兩或更多層來予以取代。例如，如圖1 7所示，聚合物膜 171可包括直接被沈積在圓筒172上做爲“軟墊”之較厚（ 例如’厚度爲0.5至5毫米）的第一層172彈性體。可使 用本申請案中所描述之方法，將模數比第一層171更高之 非常薄的第二層174(例如，厚度爲100至1〇〇〇奈米） 聚合物形成在第一層上或貼附於第一層，並奈米圖案化。 在另一實施例中，如圖18所示，第一（緩衝）層 181可被形成爲密實層來取代，並層疊於圓筒182的表面 上。接著’在第一層181的上方沈積較薄且較剛性的第二 層183，而後使用本文所描述的方法將其圖案化。在另一 實施中’可在圓筒的表面上沈積第一層，而後將其部分或 完全硬化，並接著可先圖案化較薄且較剛性的第二層，然 後再層疊於第一層181的上方。 須注意，在上述之本發明的某些實施例中，大面積的 主基板被使用來直接對圓筒圖案化，或將後續要被層疊於 -19- 201224642 圓同的聚合物層圖案化。此種大面積的主基 同的方法來形成’這些方法可劃分成兩大主 可歸類爲以後續的疊層來圖案化平坦的膜。 歸類爲直接以圓筒來圖案化。 在平坦膜的圖案化中，聚合物膜可在其 化，而後被貼附於圓筒的表面。有若干不同 在膜平坦時將其圖案化。 在第一例中，可製造小的主基板，例如 E-束）、深紫外線（DUV )、或全相微影術 案到矽（S i )或玻璃內。小主基板的尺寸可 數厘米。小主基板上的圖案可被轉移到一或 板上（例如聚合物材料，諸如聚胺基甲酸酯 SSQ、MRI等）。接著，可使用子主基板做 圖案壓印在要被層疊於圓筒上之大片的聚合 主基板的圖案化，可藉由壓印-及-步進法及 度的平移來予以完成，以提供各圖案場間最 模的尺寸（亦即，主基板的尺寸）可被選擇 案場間的步階，以使圖案中有非常小的重疊 積模具之連續無間隙的圖案。如前文的解釋 間隙可被塡充及圖案化》 另一選擇是使用干涉微影術來圖案化大 面，而後使用此基板以在聚合物中產生二次 著，將所獲得到的圖案化聚合物層疊於於圓 有若干不同的技術可被設想來直接將圓 板可有若干不 類。第一主類 第二主類可被 平坦時被圖案 的可能方法能 使用電子束（ 等而將奈米圖 以是數毫米至 很多個子主基 、環氧樹脂、 爲模具，以將 物材料上。子 在二維中高精 小的間隙。印 而稍較大於圖 ，以提供大面 ，圖案場間的 面積的基板表 複製圖案。接 筒表面。 筒圖案化。例
S -20- 201224642 如’如圖19所示，可對塗覆於圓筒192上的光阻ι91施 行干涉微影術（掃瞄或步進·與·重複）。將光阻191顯影 以得到可被電鍍到圓筒上的圖案，例如，經由被顯影之光 阻1 9 1之圖案中的開孔，而將例如金屬的材料丨93電鍍到 圓筒上。在去除光阻191之後，保留被電鍍的金屬，且所 獲得到具有奈米結構的圓筒194可接著用來做“圓筒-至-圓筒”的奈米壓印圖案轉移到材料1 9 5 (例如，部分硬化 的聚合物或第二圓筒196上的另一光阻）。 須注意，在另一實施中，可使用不電鍍的干涉微影術 。例如，某些經烘烤的光阻材料好到足可在“平板-至-圓 筒”或“圓筒-至-圓筒”模式中用於直接的奈米壓印，例如 ，環氧樹脂型的光阻，諸如SU-8光阻。 在某些實施例中，可使用沈積在圓筒表面上之聚合物 材料的雷射消融（例如，2或3光子蝕刻）來做爲干涉微 影術的另一選擇，以用來製造用於“圓筒-至-圓筒”奈米壓 印圖案轉移的遮罩或主基板。在2或3光子蝕刻中，兩或 更多個雷射光束交叉於圓筒表面上的一點。在雷射光束交 叉處發生2光子或3光子處理，其導致的交互作用會局部 地去除圓筒表面上的材料。 在另一實施例中，使用塗覆以奈米結構之氧化鋁的主 圓筒，使用“圓筒-至-圓筒”奈米壓印微影術，將奈米圖案 轉移到塗覆有聚合物的遮罩上。奈米孔的氧化鋁可使用具 有所想要之孔尺寸及孔密度的奈米孔結構來予以形成’而 不使用遮罩或微影術。 -21 - 201224642 圖20說明製造圓筒遮罩的又另一方法。首先，使用 步進-與-重複奈米壓印或干涉微影術、或陽極氧化銘多孔 表面製造、或球或奈米顆粒之自組與後續之触刻，或其它 已知的奈米微影術技術將平坦基板201 (例如，玻璃、砂 、金屬或聚合物）圖案化，以產生具有特定奈米結構圖案 2 02之所想要的表面浮雕。 接著，使塗覆有UV可硬化液態聚合物前質材料204 的石英圓筒203與經圖案化之表面202相接觸，使液態聚 合物前質流入經圖案化之表面202的表面浮雕結構內。 UV光源205放射UV光到圓筒203之表面與聚合物前質 材料204相接觸之區域。UV光硬化聚合物材料204，使 來自經圖案化之表面202之被硬化之聚合物的圖案凝固到 圓筒20 3的表面上。在基板平移期間發生此壓印，由於圓 筒上之聚合物材料2〇4與基板201之間的摩擦力而使圓筒 203轉動。UV光源205可位於圓筒203內部。或者，UV 光源2〇5可位於圓筒203外部，且UV光可被放射到內部 ，並落在圓筒203之表面與聚合物前質材料204相接觸的 區域上。 雖然以上完整描述了本發明的較佳實施例，但其可使 用各種不同的替換 '修改、及均等物。因此，本發明的範 圍並非參考以上的描述來決定，而是參考所附申請專利範 圍連同其均等物的整個範圍來予以決定。任何特徵，無論 是否爲較佳特徵，都可與任何其它無論是否爲較佳特徵相 結合。在以下的申請專利範圍中，除非另有說明，否則，
S -22- 201224642 不定冠詞"A"或"An"意指跟在該冠詞後之項目之一或更多 個的量。所附申請專利範圍不能被解釋成包括手段-加-功 能（means-plus-function)限制，除非在某指定申請項中 使用片語"機構用於”（"means for”）來予以明確地陳述。 申請項中未被明確陳述爲”機構用於”實施某指定功能的任 何元件，不能解釋成如35 USC §1 12，6中所規定的“機 構”或“步驟”子句。 【圖式簡單說明】 圖1的槪示圖說明“滾動遮罩”近場奈米微影術。 圖2的槪示圖說明用於滾動遮罩近場光學微影術的光 學機構系統。 圖3的槪示圖說明按照本發明之實施例，在“平板-到-圓筒”組態中使用奈米壓印微影術技術來圖案化形成在 圓筒表面上的聚合物層。 圖4的槪示圖說明按照本發明之實施例，使用接觸光 學微影術技術來圖案化形成在圓筒表面上的聚合物層。 圖5的槪示圖說明按照本發明之實施例，使用接合_ 分離微影術技術來圖案化形成在圓筒表面上的聚合物層。 圖6的槪示圖說明按照本發明之實施例，使用印花轉 印微影術技術來圖案化形成在圓筒表面上的聚合物層❶ 圖7的槪示圖說明按照本發明之實施例，在形成於圓 筒表面上的聚合物層上製造電漿子近場遮罩圖案。 圖8之序列的槪示圖說明按照本發明之實施例，在形 «-1 -23- 201224642 成於圓筒表面上的聚合物層上製造電漿子近場遮罩圖案的 另一技術。 圖9之序列的槪示圖說明按照本發明之實施例，使用 微接觸印刷技術將金屬圖案轉移到圓筒表面。 圖1〇之槪示圖說明按照本發明之實施例，使用奈米 轉移印刷在形成於圓筒表面上的彈性體層上產生金屬奈米 圖案。 圖11之槪示圖說明按照本發明之實施例，使用“步 進-與-轉動”模式在形成於圓筒表面上的彈性體層上產生 奈米圖案。 圖12之槪示圖說明按照本發明之實施例，使用可撓 性主基板在形成於圓筒表面上的彈性體層上產生奈米圖案 〇 圖1 3之槪示圖說明按照本發明之實施例，使用干涉 微影術在形成於圓筒表面上的彈性體層上產生奈米圖案。 圖1 4之序列的槪示圖說明按照本發明之實施例，製 造奈米圖案化的聚合物層並接著將聚合物層貼附於圓筒。 圖1 5之序列的槪示圖說明按照本發明之實施例，在 聚合物層上製造奈米圖案化的金屬層，並接著將聚合物層 貼附於圓筒。 圖1 6之序列的槪示圖說明按照本發明之實施例，藉 由將奈米圖案從平坦遮罩轉移到圓筒上之聚合物層來製造 奈米圖案化的圓筒遮罩。 ' 圖1 7之序列的槪示圖說明按照本發明之實施例’製
S -24- 201224642 造具有雙層聚合物之奈米圖案化的圓筒遮罩。 圖1 8之序列的槪示圖說明按照本發明另一實施例’ 製造具有雙層聚合物之奈米圖案化的圓筒遮罩。 圖19之序列的槪示圖說明按照本發明另一實施例’ 使用直接“圓筒-至-圓筒”奈米壓印圖案轉移來製造奈米圖 案化的圓筒遮罩。 圖2〇之序列的槪示圖說明按照本發明另一實施例， 在透明圓筒的表面上，使用聚合物之前質的直接奈米壓印 來製造奈米圖案化的圓筒遮罩。 【主要元件符號說明】 1 1 :圓筒 1 2 :光源 1 3 :彈性體膜 14 :奈米圖案 15 :基板 1 6 :光敏材料 21 :圓筒 2 7 :彈簧 31 :圓筒 32 :聚合物材料 3 3 :主基板 34:浮雕外形輪廓 3 5 :熱源 -25- 201224642 3 6 :出熱孔 41 :光學遮罩 43 :光源 44 :光學系統 4 5 :光敏聚合物 51 :圓筒 5 2 :聚合物 53 :基板 54 :圖案 55 :電暈放電 5 6 :熱源 5 7 :屏蔽罩 6 2:圓筒 6 4 :主基板 71 :彈性體層 72 :圓筒 73 :金屬薄膜 74 :光阻表面 75 :基板 7 6 :源 81 :光阻 82 :圓筒 8 4 ·金屬圖案 85 :彈性體層
S -26- 201224642 91 :圓筒 92 :薄金屬層 93 :主基板 94 :自組性單分子層 95 :光阻遮罩 96·金屬奈米結構 9 7 :彈性體層 101 :主圖案 1 02 :圓筒 1 〇 3 :自組性單分子層 1 1 1 :圓筒 1 1 2 :聚合物層 1 1 3 :條紋 1 1 4 :主基板 1 2 1 :聚合物層 1 22 :圓筒 1 2 3 :可撓性基板 124 :第一轉盤 125 :第二轉盤 1 26 :圓筒 1 3 1 :雷射光束 1 3 2 :光敏聚合物 141 :平坦的聚合物膜 1 4 2 :圓筒 -27- 201224642 143 ： 144 ： 145 ： 15 1： 152 ： 153 ： 154： 161 : 162 ： 163 ： 164 ： 165 ： 17 1： 172 ： 173 ： 174 ： 18 1： 182 ： 183 : 191 ： 192 ： 193 ： 194 ： 195 ： 經奈米圖案化的聚合物膜 圓筒形遮罩 接縫 聚合物膜 薄金屬塗層 經奈米圖案化的膜 圓筒 液態聚合物膜 圓筒 奈米圖案 主基板 圓筒形遮罩 聚合物膜 第一層彈性體 圓筒 第二層聚合物 第一層 圓筒 第二層 光阻 圓筒 電鍍材料 奈米圖案化的圓筒 材料
S -28- 201224642 196 :第二圓筒 2 0 1 .平坦基板 202 :奈米結構圖案 203 :石英圓筒 204 :聚合物前質材料 205 ： UV 光源

Claims (1)

  1. 201224642 七、申請專利範圍： 1. 一種形成有奈米圖案之圓筒形光罩的形成方法，包 含： 在主基板上形成主圖案，其中，該主圖案包括尺寸範 圍從大約1奈米到大約100微米的特徵； 在透明圓筒的表面上形成彈性體材料層； 將該主圖案從該主基板轉印到該圓筒之該表面上的彈 性體材料層。 2. 如申請專利範圍第1項的方法，其中，該主基板爲 平坦剛性基板。 3. 如申請專利範圍第1項的方法，其中，該主基板係 由可撓性材料所製成。 4. 如申請專利範圍第1項的方法，其中，將該主圖案 從該主基板轉移到該圓筒之該表面上的該彈性體材料層包 括“平板到圓筒”之奈米壓印微影術、標準接觸或近場組態 的光學微影術、接合分離或印花轉印微影術、微接觸印刷 、奈米轉印印刷、及掃瞄束干涉微影術。 5. 如申請專利範圍第1項的方法，其中，將該主圖案 從該主基板轉移到該圓筒之該表面上的該彈性體材料層包 括使用該主基板做爲微影術遮罩的微影術處理期間，連續 地轉動該圓筒。 6. 如申請專利範圍第1項的方法，其中，將該主圖案 從該主基板轉移到該圓筒之該表面上的該彈性體材料層包 括或“步進-與-轉動”模式，其中，在微影處理之間，隨著 S -30- 201224642 後續的轉動步進而一次進行圓筒的一段地完成微影術。 7. 如申請專利範圍第1項的方法，其中，將該主圖案 從該主基板轉移到該圓筒之該表面上的該彈性體材料層包 括呈“平板-到-圓筒”組態的奈米壓印微影技術。 8. 如申請專利範圍第7項的方法，其中，該奈米壓印 微影技術包括使該圓筒與具有浮雕外形輪廓之奈米結構的 主基板相接觸，以將該浮雕外形輪廓壓印到該圓筒之該表 面上的該彈性體材料內。 9 ·如申請專利範圍第8項的方法，進一步包含使該彈 性體材料之在該圓筒之該表面上的壓印部分硬化。 1 〇 .如申請專利範圍第1項的方法，其中，將該主圖 案從該主基板轉移到該圓筒之該表面上的該彈性體材料層 包括使用接觸光學微影術。 11. 如申請專利範圍第1項的方法，其中，將該主圖 案從該主基板轉移到該圓筒之該表面上的該彈性體材料層 包括使用接合-分離微影技術。 12. 如申請專利範圍第11項的方法，其中，該接合-分離微影技術包括形成該主圖案，該主圖案係形成在其上 沉積或生長有氧化物層之基板上的金屬層中；藉由曝露於 電漿、UV、臭氧、或藉由電暈放電以活化該彈性體及該 氧化物層：使該經活化之氧化物層的露出部分與經活化之 彈性體相接觸，以使他們兩者接合在一起，而該氧化物層 的金屬塗覆部分並沒有；及轉動該圓筒，以將該彈性體之 接合部分拉出該圓筒。 -31 - 201224642 13.如申請專利範圍第1項的方法，其中，該圖案包 括尺寸範圍從大約10奈米到大約丨微米的特徵。 I4·如申請專利範圍第1項的方法，其中，該圖案包 括尺寸範圍從大約50奈米到大約500奈米的特徵。 15. —種形成有奈米圖案之圓筒形光罩的形成方法， 包含： 在彈性體基板上形成圖案，其中，該圖案包括尺寸範 圍從大約1奈米到大約100微米的特徵； 將該形成有圖案的彈性體基板層疊於圓筒的表面。 16. 如申請專利範圍第15項的方法，其中，該形成有 奈米圖案之彈性體被做成比該圓筒的圓周稍長，而使得當 貼於該圓筒時，使該膜在其本身的兩端梢爲重疊。 17. 如申請專利範圍第15項的方法，進一步包含以該 圖案來塡充該圓筒上之該彈性體膜之兩端間的接縫。 18. 如申請專利範圍第15項的方法，其中，以薄金屬 塗層來塗覆該彈性體膜，且該奈米結構圖案係形成於該金 屬塗層中，其中，該彈性體係貼於該圓筒，以使該彈性體 係位於該圓筒與形成在該金屬塗層內之該奈米結構之間’ 藉此’該光罩爲電漿子遮罩。 19·如申請專利範圍第15項的方法，其中，該彈性體 膜包括2或更多層。 2〇.如申請專利範圍第19項的方法，其中，該2或更 多層包括相對厚且軟的第一層，與相對薄且硬的第二層’ 其中，該第一與第二層係層疊於該圓筒之該表面’使得該 -32- S 201224642 第一層係位於該圓筒之該表面與該第二層之間，其中，該 奈米結構圖案係形成在該第二層內。 21. 如申請專利範圍第15項的方法，其中，在該彈性 體基板上形成該圖案包括形成具有對應於該圖案之要被形 成於該彈性體基板上的部分之圖案的小主基板；將小主基 板上之圖案轉移到一或多個子主基板上；使用該子主基板 做爲模具而將圖案壓印在該彈性體基板上。 22. 如申請專利範圍第21項的方法，其中，藉由壓 印-與-步進法來完成使該（等）子主基板圖案化。 2 3.如申請專利範圍第22項的方法，其中，該子主基 板的尺寸被選擇而稍微大於兩圖案場之間的步階，以使圖 案中之小的重疊提供連續無間隙的圖案於該彈性體基板上 〇 24. 如申請專利範圍第15項的方法，其中，在該彈性 體基板上形成該圖案包括使用干涉微影術而使彈性體薄片 圖案化，並產生用來形成該彈性體基板之二次複製的該材 料。 25. 如申請專利範圍第15項的方法，其中，該圖案包 括尺寸範圍從大約10奈米到大約1微米的特徵❶ 26. 如申請專利範圍第15項的方法，其中，該圖案包 括尺寸範圍從大約50奈米到大約500奈米的特徵。 - 27. —種形成有奈米圖案之圓筒形光罩的形成方法， 包含： 在透明圓筒的表面上形成彈性體材料層； -33- 201224642 藉由直接圖案化製程，在該透明圓筒之該表面上之該 彈性體材料上形成圖案，其中’該圖案包括尺寸範圍從大 約1奈米到大約100微米的特徵。 28. 如申請專利範圍第27項的方法，其中，在該彈性 體材料上形成該圖案包括在該透明圓筒之外表面上沉積液 態聚合物先質、從平坦的主（或子主）聚合物先質轉移該 圖案、硬化該聚合物先質，以形成其中固定有該圖案的聚 合物膜。 29. 如申請專利範圍第28項的方法，其中，轉印該圖 案包括以該主基板來奈米壓印該圖案° 3 0.如申請專利範圍第29項的方法，進一步包含在奈 米壓印之前，先部分地硬化該聚合物先質。 3 1 .如申請專利範圍第2 7項的方法’其中’該彈性體 膜係塗覆以薄的金屬塗層’且該奈米結構圖案係形成在該 金屬塗層中，其中，該彈性體係位於該透明圓筒與形成在 該金屬塗層中之該奈米結構圖案之間’藉此’該光罩爲電 漿子遮罩。 3 2.如申請專利範圍第27項的方法，其中，該彈性體 膜包括2或更多層。 3 3.如申請專利範圍第32項的方法，其中’該2或更 多層包括相對厚且軟的第一層’及相對薄且硬的第二層’ 其中，該第一與第二層係層疊在該透明圓筒之該表面’以 使該第一層係位於該圓筒之該表面與該第二層之間’其中 ，該奈米結構圖案係形成在該第二層內。 S -34- 201224642 3 4.如申請專利範圍第27項的方法，其中，藉由直接 圖案化製程，在透明圓筒之表面上形成圖案於該彈性體材 料上包括對塗覆於該圓筒上的光阻實施干涉微影術：顯影 該光阻、透過經顯影之光阻中之該圖案中的開口而電鍍材 料於該圓筒上；去除該光阻，將該電鍍材料中的該圖案留 在該主圓筒剩餘物之該表面上，藉以形成具有奈米結構的 主圓筒；並使用該具有奈米結構的主圓筒做“圓筒-至-圓 筒”的奈米壓印圖案而轉印到該透明圓筒上的該液態聚合 物。 35. 如申請專利範圍第27項的方法，其中，藉由直接 圖案化製程，在透明圓筒之表面上形成圖案於該彈性體材 料上包括對該透明圓筒之該表面上的該彈性體材料實施雷 射消融。 36. 如申請專利範圍第27項的方法，其中，實施雷射 消融包括使用2-光子或3-光子蝕刻。 3 7.如申請專利範圍第27項的方法，其中，藉由直接 圖案化製程，在透明_筒之表面上形成圖案於該彈性體材 料上包括以具有奈米結構的氧化鋁塗覆主圓筒，並使用“ 圓筒-至-圓筒”的奈米壓印微影術，將具有奈米結構之氧 化鋁中的奈米圖案轉印到該透明圓筒之該表面上的該彈性 體材料。 3 8.如申請專利範圍第27項的方法，其中，藉由直接 圖案化製程，在透明圓筒之表面上形成圖案於該彈性體材 料上包括使平坦的基板圖案化而產生具有所想要之奈米結 -35- 201224642 構的表面浮雕圖案；以UV可硬化液態聚合物先質材料塗 覆該透明圓筒；使該UV可硬化液態聚合物材料與奈米結 構之表面浮雕圖案相接觸，以使該液態聚合物先質材料流 入該表面浮雕圖案；使該透明圓筒之該表面與該UV可硬 化液態聚合物先質材料兩者間接觸的區域曝光於UV光， 以硬化該透明圓筒之該表面上之部分的U V可硬化液態聚 合物先質；以及由於該圓筒與該基板之間的摩擦力而致使 該透明圓筒轉動並轉印該基板。 39.如申請專利範圍第27項的方法，其中，該圖案包 括尺寸範圍從大約10奈米到大約1微米的特徵。 4 0.如申請專利範圍第27項的方法，其中，該圖案包 括尺寸範圍從大約50奈米到大約5〇〇奈米的特徵。 S -36-
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Families Citing this family (50)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9465296B2 (en) * 2010-01-12 2016-10-11 Rolith, Inc. Nanopatterning method and apparatus
US9126432B2 (en) * 2011-09-20 2015-09-08 Phoseon Technology, Inc. Differential Ultraviolet curing using external optical elements
KR102149669B1 (ko) * 2011-12-19 2020-09-01 몰레큘러 임프린츠 인코퍼레이티드 임프린트 리소그래피용 이음매 없는 대면적 마스터 템플릿의 제조
WO2013158543A1 (en) * 2012-04-17 2013-10-24 The Regents Of The University Of Michigan Methods for making micro- and nano-scale conductive grids for transparent electrodes and polarizers by roll to roll optical lithography
WO2013157356A1 (ja) * 2012-04-19 2013-10-24 株式会社ニコン マスクユニット及び基板処理装置
US20150336301A1 (en) 2012-05-02 2015-11-26 Rolith, Inc. Cylindrical polymer mask and method of fabrication
US9481112B2 (en) 2013-01-31 2016-11-01 Metamaterial Technologies Usa, Inc. Cylindrical master mold assembly for casting cylindrical masks
US9782917B2 (en) 2013-01-31 2017-10-10 Metamaterial Technologies Usa, Inc. Cylindrical master mold and method of fabrication
JP6278954B2 (ja) * 2012-05-02 2018-02-14 メタマテリアル テクノロジーズ ユーエスエー インコーポレイテッド 円柱状ポリマーマスクおよび製造方法
US10807119B2 (en) 2013-05-17 2020-10-20 Birmingham Technologies, Inc. Electrospray pinning of nanograined depositions
CN103332031B (zh) 2013-05-30 2016-02-10 合肥京东方光电科技有限公司 印刷版的制作方法、散射膜层及其制作方法、显示装置
CN104216230B (zh) * 2013-06-05 2018-06-05 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 圆筒形掩模板的涂布装置和涂布方法
US9223201B2 (en) * 2013-06-27 2015-12-29 Uni-Pixel Displays, Inc. Method of manufacturing a photomask with flexography
US10559864B2 (en) 2014-02-13 2020-02-11 Birmingham Technologies, Inc. Nanofluid contact potential difference battery
US9244356B1 (en) * 2014-04-03 2016-01-26 Rolith, Inc. Transparent metal mesh and method of manufacture
WO2015183243A1 (en) 2014-05-27 2015-12-03 Rolith, Inc. Anti-counterfeiting features and methods of fabrication and detection
CN105439076A (zh) * 2014-06-10 2016-03-30 上海量子绘景电子股份有限公司 一种微纳结构的压印装置及方法
US11086217B2 (en) * 2014-12-22 2021-08-10 Koninklijke Philips N.V. Patterned stamp manufacturing method, patterned stamp and imprinting method
WO2016109204A1 (en) * 2014-12-31 2016-07-07 3M Innovative Properties Company Apparatus and method of microcontact printing for improving uniformity
KR20160096368A (ko) * 2015-02-05 2016-08-16 삼성전자주식회사 반사 방지 구조물 제조 장치 및 이를 이용한 반사 방지 구조물 제조 방법
KR102352740B1 (ko) 2015-04-30 2022-01-18 삼성디스플레이 주식회사 마스크의 제조 방법 및 표시 장치의 제조 방법
KR20180014073A (ko) * 2015-06-15 2018-02-07 사빅 글로벌 테크놀러지스 비.브이. Oled 조명 적용을 위한 금속 전극 형성
CN105459396B (zh) * 2015-11-17 2017-06-23 西安科技大学 一种基于紫外曝光动态掩膜版技术的快速成形装置及方法
WO2018191383A1 (en) * 2017-04-11 2018-10-18 Carpe Diem Technologies, Inc. System and method of manufacturing a cylindrical nanoimprint lithography master
US20210170667A1 (en) * 2017-12-06 2021-06-10 Agency For Science, Technology And Research An Imprinted Polymeric Substrate
WO2019126543A1 (en) * 2017-12-20 2019-06-27 The Regents Of The University Of Michigan Plasmonic lithography for patterning high aspect-ratio nanostructures
KR102108385B1 (ko) * 2018-07-11 2020-05-07 한국기계연구원 마이크로 소자의 곡면 전사방법 및 마이크로 소자의 곡면 전사장치
US10695961B2 (en) * 2018-08-01 2020-06-30 Ultra Small Fibers, LLC Method for modifying the wettability of surfaces
KR102096606B1 (ko) * 2018-08-29 2020-04-02 부산대학교 산학협력단 실린더 표면의 나노구조 임프린트를 위한 소프트 몰드 제조 및 이를 이용한 나노임프린트 공정 방법
GB2576922B (en) * 2018-09-06 2021-10-27 Stensborg As An optical engine for an imprinter
GB2576921B (en) * 2018-09-06 2021-10-27 Stensborg As Method of, and apparatus for, production of surface relief structures
KR102105929B1 (ko) * 2018-09-10 2020-04-29 중앙대학교 산학협력단 나노갭을 패터닝하여 형성하는 방법 및 패턴화된 나노갭
CN113165376A (zh) * 2018-12-03 2021-07-23 J·F·巴伯兰拉托雷 用于在基底上获得凸起图案的方法和装置
US10950706B2 (en) 2019-02-25 2021-03-16 Birmingham Technologies, Inc. Nano-scale energy conversion device
US11101421B2 (en) 2019-02-25 2021-08-24 Birmingham Technologies, Inc. Nano-scale energy conversion device
US11244816B2 (en) 2019-02-25 2022-02-08 Birmingham Technologies, Inc. Method of manufacturing and operating nano-scale energy conversion device
KR102180106B1 (ko) * 2019-04-26 2020-11-18 부산대학교 산학협력단 슬리브형 나노 및 마이크로 패턴을 가지는 롤 금형 제조 방법
US11046578B2 (en) 2019-05-20 2021-06-29 Birmingham Technologies, Inc. Single-nozzle apparatus for engineered nano-scale electrospray depositions
US11124864B2 (en) 2019-05-20 2021-09-21 Birmingham Technologies, Inc. Method of fabricating nano-structures with engineered nano-scale electrospray depositions
US11014029B2 (en) 2019-05-24 2021-05-25 Ultra Small Fibers, LLC Filter media ribbons with nanofibers formed thereon
CN110181934B (zh) * 2019-07-03 2021-01-26 京东方科技集团股份有限公司 一种印刷装置、印刷系统及其印刷方法
GB201914539D0 (en) * 2019-10-08 2019-11-20 Univ Oxford Innovation Ltd Print head
RU2760178C2 (ru) * 2020-04-13 2021-11-22 Общество с ограниченной ответственностью "ФЛЕКСОНИ" Активный литографический шаблон с микромеханически подвижными элементами, способ его получения и способ формирования функциональной структуры с использованием активного шаблона
US11649525B2 (en) 2020-05-01 2023-05-16 Birmingham Technologies, Inc. Single electron transistor (SET), circuit containing set and energy harvesting device, and fabrication method
TWI765276B (zh) * 2020-06-12 2022-05-21 光群雷射科技股份有限公司 透鏡的轉印式製造方法及透鏡轉印層的製造方法
KR102450952B1 (ko) * 2020-08-11 2022-10-04 부산대학교 산학협력단 천공구조를 갖는 분자각인 고분자 물질층을 포함하는 고분자 물질 기반 시트와 그 제조방법 및 고분자 물질 기반 시트를 적용한 장치
US11417506B1 (en) 2020-10-15 2022-08-16 Birmingham Technologies, Inc. Apparatus including thermal energy harvesting thermionic device integrated with electronics, and related systems and methods
US11147900B1 (en) 2021-04-29 2021-10-19 Ultra Small Fibers, LLC Biomimetic nanofiber tissue scaffolds
US11616186B1 (en) 2021-06-28 2023-03-28 Birmingham Technologies, Inc. Thermal-transfer apparatus including thermionic devices, and related methods
CN113618090B (zh) * 2021-08-11 2022-06-07 吉林大学 一种微纳结构辊筒模具加工与压印成形机床及其控制方法

Family Cites Families (101)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2310586A1 (fr) 1975-05-07 1976-12-03 Thomson Brandt Procede de fabrication de supports d'informations lisibles optiquement par variation d'absorption et support ainsi obtenu
JPS59200419A (ja) 1983-04-28 1984-11-13 Toshiba Corp 大面積露光装置
JPH02110841A (ja) * 1988-10-19 1990-04-24 Canon Inc 情報記録媒体用基板の成形用ロール状スタンパーの製造方法及びそれを用いた情報記録媒体用基板の製造方法
US5147763A (en) 1988-10-19 1992-09-15 Canon Kabushiki Kaisha Process for producing molding stamper for data recording medium substrate
SU1688223A1 (ru) * 1988-12-29 1991-10-30 Московский Полиграфический Институт Устройство дл изготовлени цилиндрических фотополимерных форм дл глубокой печати
JPH0343185A (ja) 1989-07-12 1991-02-25 Toshiba Corp 搬送装置
JPH0477746A (ja) 1990-07-19 1992-03-11 Sony Corp 化学増幅型レジストのパターン形成方法
US5298366A (en) 1990-10-09 1994-03-29 Brother Kogyo Kabushiki Kaisha Method for producing a microlens array
JP3043185B2 (ja) 1992-09-14 2000-05-22 日本碍子株式会社 放射性グラファイト廃棄物の処理方法
US5512131A (en) 1993-10-04 1996-04-30 President And Fellows Of Harvard College Formation of microstamped patterns on surfaces and derivative articles
JPH08288195A (ja) 1995-04-13 1996-11-01 Sumitomo Heavy Ind Ltd 露光装置
EP0784543B1 (en) 1995-08-04 2000-04-26 International Business Machines Corporation Lithographic surface or thin layer modification
US6518168B1 (en) 1995-08-18 2003-02-11 President And Fellows Of Harvard College Self-assembled monolayer directed patterning of surfaces
KR19990063832A (ko) 1995-09-29 1999-07-26 세이즈 테크놀러지, 인코오포레이티드 광학 디지탈 매체 기록 및 재생 시스템
US5725788A (en) 1996-03-04 1998-03-10 Motorola Apparatus and method for patterning a surface
JP3361695B2 (ja) * 1996-05-31 2003-01-07 セイコーインスツルメンツ株式会社 円筒状フォトマスクを用いた動圧発生溝の形成方法
US6753131B1 (en) 1996-07-22 2004-06-22 President And Fellows Of Harvard College Transparent elastomeric, contact-mode photolithography mask, sensor, and wavefront engineering element
US6060143A (en) 1996-11-14 2000-05-09 Ovd Kinegram Ag Optical information carrier
US5928815A (en) 1997-11-14 1999-07-27 Martin; Joseph Proximity masking device for near-field optical lithography
JP2000035677A (ja) * 1998-07-17 2000-02-02 Adtec Engineeng:Kk 露光装置
EP1003078A3 (en) * 1998-11-17 2001-11-07 Corning Incorporated Replicating a nanoscale pattern
US6274294B1 (en) 1999-02-03 2001-08-14 Electroformed Stents, Inc. Cylindrical photolithography exposure process and apparatus
US6383690B1 (en) * 1999-12-09 2002-05-07 Autologic Information International, Inc. Platemaking system and method using an imaging mask made from photochromic film
DE10001163C2 (de) 2000-01-13 2003-04-17 Haertl Erwin Verfahren zum Beschichten einer Platte und Plattenbeschichtungsanlage und Plattenbeschichtungsvorrichtung
JP4466979B2 (ja) 2000-02-01 2010-05-26 信越石英株式会社 高均質の光学用合成石英ガラスおよびその製造方法
US6444254B1 (en) 2000-03-03 2002-09-03 Duke University Microstamping activated polymer surfaces
US7491286B2 (en) 2000-04-21 2009-02-17 International Business Machines Corporation Patterning solution deposited thin films with self-assembled monolayers
WO2002014078A2 (en) 2000-08-14 2002-02-21 Surface Logix, Inc. Deformable stamp for patterning three-dimensional surfaces
JP2002072497A (ja) 2000-08-29 2002-03-12 Toppan Printing Co Ltd 露光方法
US7420005B2 (en) 2001-06-28 2008-09-02 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Photocurable resin composition, finely embossed pattern-forming sheet, finely embossed transfer sheet, optical article, stamper and method of forming finely embossed pattern
US20030129545A1 (en) 2001-06-29 2003-07-10 Kik Pieter G Method and apparatus for use of plasmon printing in near-field lithography
US6770416B2 (en) 2001-07-26 2004-08-03 Creo Il Ltd. Multi-purpose modular infra-red ablatable graphic arts tool
WO2003012549A2 (de) 2001-07-27 2003-02-13 Tesa Scribos Gmbh Lithograph mit bewegtem zylinderlinsensystem
GB0125133D0 (en) 2001-10-19 2001-12-12 Univ Manchester Methods of patterning a monlayer
US6972155B2 (en) 2002-01-18 2005-12-06 North Carolina State University Gradient fabrication to direct transport on a surface
US6653030B2 (en) * 2002-01-23 2003-11-25 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Optical-mechanical feature fabrication during manufacture of semiconductors and other micro-devices and nano-devices that include micron and sub-micron features
US7144539B2 (en) 2002-04-04 2006-12-05 Obducat Ab Imprint method and device
DE10217151A1 (de) 2002-04-17 2003-10-30 Clariant Gmbh Nanoimprint-Resist
JP2004125913A (ja) * 2002-09-30 2004-04-22 Sinto Brator Co Ltd 円筒状ワークのマスキング方法
RU2323504C2 (ru) 2003-01-17 2008-04-27 Микротек Гезелльшафт Фюр Микротехнологи Мбх Способ изготовления микросистем
US6808646B1 (en) 2003-04-29 2004-10-26 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Method of replicating a high resolution three-dimensional imprint pattern on a compliant media of arbitrary size
US7070406B2 (en) * 2003-04-29 2006-07-04 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Apparatus for embossing a flexible substrate with a pattern carried by an optically transparent compliant media
JP4363114B2 (ja) 2003-07-25 2009-11-11 凸版印刷株式会社 板状基板処理用ラック
JP2005085965A (ja) * 2003-09-08 2005-03-31 Canon Inc 近接場露光用マスク、近接場露光方法、及び近接場露光装置
JP4025714B2 (ja) 2003-11-28 2007-12-26 エルピーダメモリ株式会社 半導体装置の製造方法
US7998538B2 (en) 2003-12-15 2011-08-16 California Institute Of Technology Electromagnetic control of chemical catalysis
CA2558623C (en) 2004-02-06 2013-04-16 Georgia Tech Research Corporation Surface directed cellular attachment
SE527889C2 (sv) 2004-03-17 2006-07-04 Thomas Jeff Adamo Apparat för avbildning av ett objekt
JP4572406B2 (ja) 2004-04-16 2010-11-04 独立行政法人理化学研究所 リソグラフィーマスク
JP4521539B2 (ja) * 2004-05-18 2010-08-11 学校法人東京電機大学 露光方法
CN100492588C (zh) 2004-05-21 2009-05-27 Jsr株式会社 浸液曝光用液体以及浸液曝光方法
JP3969457B2 (ja) 2004-05-21 2007-09-05 Ｊｓｒ株式会社 液浸露光用液体および液浸露光方法
JP2006013216A (ja) 2004-06-28 2006-01-12 Canon Inc 近接場露光によるレジストパターンの形成方法、及び該レジストパターンの形成方法を用いた基板の加工方法、デバイスの作製方法
US7170666B2 (en) 2004-07-27 2007-01-30 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Nanostructure antireflection surfaces
JP2006073784A (ja) 2004-09-02 2006-03-16 Ricoh Co Ltd フォトマスク、露光装置及び露光方法
JP2006178111A (ja) * 2004-12-21 2006-07-06 Asahi Kasei Chemicals Corp 円筒状マスク構成体
US7312939B2 (en) 2005-02-25 2007-12-25 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv System, method, and apparatus for forming a patterned media disk and related disk drive architecture for head positioning
TWI251266B (en) * 2005-03-11 2006-03-11 Ind Tech Res Inst Manufacturing method of the microstructure for roller and the structure thereof
WO2006097945A2 (en) * 2005-03-17 2006-09-21 Zenotech Laboratories Limited A method for achieving high-level expression of recombinant human interleukin-2 upon destabilization of the rna secondary structure
JP4674105B2 (ja) 2005-03-25 2011-04-20 独立行政法人科学技術振興機構 回路パターン転写装置及び方法
JP4246174B2 (ja) 2005-04-01 2009-04-02 独立行政法人科学技術振興機構 ナノインプリント方法及び装置
JP2006315033A (ja) 2005-05-12 2006-11-24 Fuji Photo Film Co Ltd 磁気転写用マスター担体のレーザ切断加工システム及び加工方法
WO2007001977A2 (en) * 2005-06-20 2007-01-04 Microcontinuum, Inc. Systems and methods for roll-to-roll patterning
JP4844729B2 (ja) * 2005-08-17 2011-12-28 独立行政法人産業技術総合研究所 ナノインプリント方法及び装置
JP4774889B2 (ja) * 2005-09-28 2011-09-14 凸版印刷株式会社 光学部品用成形型の製造方法
GB2432722A (en) 2005-11-25 2007-05-30 Seiko Epson Corp Electrochemical cell and method of manufacture
US20070138699A1 (en) 2005-12-21 2007-06-21 Asml Netherlands B.V. Imprint lithography
JP2007203576A (ja) * 2006-02-01 2007-08-16 Oji Paper Co Ltd ロール式インプリント装置用の広幅ナノインプリントロールの製造方法
US20070200276A1 (en) 2006-02-24 2007-08-30 Micron Technology, Inc. Method for rapid printing of near-field and imprint lithographic features
FR2899502B1 (fr) 2006-04-06 2009-04-10 Macdermid Printing Solutions E Dispositif de gaufrage, tel qu'un cylindre ou manchon
JP4835277B2 (ja) * 2006-06-15 2011-12-14 大日本印刷株式会社 パターン形成体の製造方法およびインプリント転写装置
JP2008015085A (ja) * 2006-07-04 2008-01-24 Asahi Kasei Chemicals Corp 円筒状マスク構成体
JP4733576B2 (ja) 2006-07-11 2011-07-27 セイコーエプソン株式会社 画像形成装置
JP2008021869A (ja) 2006-07-13 2008-01-31 Ricoh Co Ltd プラズモン共鳴リソグラフィおよびリソグラム
JPWO2008015842A1 (ja) * 2006-08-03 2009-12-17 旭硝子株式会社 モールドの製造方法
KR101422298B1 (ko) 2006-09-08 2014-08-13 가부시키가이샤 니콘 마스크, 노광 장치, 노광 방법 및 그 노광 장치 또는 노광 방법을 이용한 디바이스 제조 방법
JP2008126370A (ja) 2006-11-22 2008-06-05 Nano Craft Technologies Co ３次元マイクロ構造体、その製造方法、及びその製造装置
US20080229950A1 (en) 2007-03-19 2008-09-25 Ping Mei Seamless imprint roller and method of making
US7875313B2 (en) 2007-04-05 2011-01-25 E. I. Du Pont De Nemours And Company Method to form a pattern of functional material on a substrate using a mask material
JP2008290330A (ja) * 2007-05-24 2008-12-04 Oji Paper Co Ltd ナノインプリントシートの製造装置および製造方法
JP4469385B2 (ja) * 2007-05-31 2010-05-26 株式会社日立産機システム 微細モールド及びその製造方法
WO2008153674A1 (en) 2007-06-09 2008-12-18 Boris Kobrin Method and apparatus for anisotropic etching
JP5570688B2 (ja) 2007-06-28 2014-08-13 ピーエスフォー ルクスコ エスエイアールエル 微細レジストパターン形成方法及びナノインプリントモールド構造
JP4406452B2 (ja) 2007-09-27 2010-01-27 株式会社日立製作所 ベルト状金型およびそれを用いたナノインプリント装置
FR2922330A1 (fr) * 2007-10-15 2009-04-17 Commissariat Energie Atomique Procede de fabrication d'un masque pour la lithographie haute resolution
US20120282554A1 (en) 2008-01-22 2012-11-08 Rolith, Inc. Large area nanopatterning method and apparatus
US8182982B2 (en) 2008-04-19 2012-05-22 Rolith Inc Method and device for patterning a disk
CA2709718A1 (en) * 2008-01-22 2009-07-30 Rolith, Inc. Large area nanopatterning method and apparatus
US8518633B2 (en) * 2008-01-22 2013-08-27 Rolith Inc. Large area nanopatterning method and apparatus
KR101049220B1 (ko) * 2008-04-14 2011-07-13 한국기계연구원 임프린트 리소그래피용 스탬프의 제조 방법
US8192920B2 (en) 2008-04-26 2012-06-05 Rolith Inc. Lithography method
JP5288453B2 (ja) * 2008-05-27 2013-09-11 株式会社ホロン ローラーモールド作製方法
US8334217B2 (en) 2008-06-09 2012-12-18 Rolith Inc. Material deposition over template
US8318386B2 (en) * 2008-08-07 2012-11-27 Rolith Inc. Fabrication of nanostructured devices
JP2010080680A (ja) * 2008-09-26 2010-04-08 Bridgestone Corp 凹凸パターンの形成方法及び凹凸パターンの製造装置
JP5116623B2 (ja) * 2008-09-29 2013-01-09 旭化成イーマテリアルズ株式会社 円筒状印刷原版成形装置
CN101477304B (zh) 2008-11-04 2011-08-17 南京大学 在复杂形状表面复制高分辨率纳米结构的压印方法
US20110210480A1 (en) 2008-11-18 2011-09-01 Rolith, Inc Nanostructures with anti-counterefeiting features and methods of fabricating the same
US8178011B2 (en) 2009-07-29 2012-05-15 Empire Technology Development Llc Self-assembled nano-lithographic imprint masks
EP2524266A2 (en) * 2010-01-12 2012-11-21 Boris Kobrin Nanopatterning method and apparatus
US9465296B2 (en) 2010-01-12 2016-10-11 Rolith, Inc. Nanopatterning method and apparatus

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