JP4835277B2 - パターン形成体の製造方法およびインプリント転写装置 - Google Patents
パターン形成体の製造方法およびインプリント転写装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4835277B2 JP4835277B2 JP2006165963A JP2006165963A JP4835277B2 JP 4835277 B2 JP4835277 B2 JP 4835277B2 JP 2006165963 A JP2006165963 A JP 2006165963A JP 2006165963 A JP2006165963 A JP 2006165963A JP 4835277 B2 JP4835277 B2 JP 4835277B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transferred
- resin layer
- roller
- mold
- transfer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
まず、本発明のパターン形成体の製造方法について説明する。本発明のパターン形成体の製造方法は、基材と上記基材上に形成された被転写樹脂層とを有する被転写体を、円柱型のローラーの表面に沿わせ、上記ローラーを回転させながら、上記被転写樹脂層とナノ凹凸パターンを有する平板型モールドとを密着させる密着工程と、上記被転写樹脂層と上記平板型モールドとが密着している状態で、上記被転写樹脂層を固化する固化工程と、を有することを特徴とするものである。
以下、本発明のパターン形成体の製造方法について、工程ごとに説明する。
まず、本発明における密着工程について説明する。本発明における密着工程は、基材と上記基材上に形成された被転写樹脂層とを有する被転写体を、円柱型のローラーの表面に沿わせ、上記ローラーを回転させながら、上記被転写樹脂層とナノ凹凸パターンを有する平板型モールドとを密着させる工程である。なお、本発明における「密着」とは、平板型モールドのナノ凹凸パターンが、被転写樹脂層に対して充分に食いこんでいる状態をいう。したがって、平板型モールドのナノ凹凸パターンと被転写樹脂層とが表面で単に接触(密接)している状態は、本発明における「密着」には該当しない。
以下、本発明に用いられる被転写体、ローラーおよび平板型モールド等について説明する。
本発明に用いられる被転写体は、基材と、上記基材上に形成された被転写樹脂層とを有するものである。本発明においては、被転写体の被転写樹脂層に、後述する平板型モールドのナノ凹凸パターンを転写することにより、パターン形成体が得られる。
上記基材の材料としては、後述するローラーに沿うように配置できるものであれば特に限定されるものではなく、パターン形成体の用途等に応じて適宜選択することが好ましい。具体的にはシリコン(Si)、ガリウム砒素、(GaAs)、アルミニウムガリウム砒素(AlGaAs)、窒化ガリウム(GaN)等の半導体;ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、塩化ビニル、ペット樹脂等の樹脂;チタン(Ti)、銅(Cu)、鉄(Fe)、ニッケル(Ni)、アルミニウム(Al)、クロム(Cr)等の金属;石英、ソーダライムガラス等のガラス;および上記物質を含有する合金等を挙げることができる。
上記被転写樹脂層に含まれる被転写樹脂としては、一般的なインプリント法に用いられる材料を用いることができ、特に限定されるものではない。中でも、本発明においては、上記被転写樹脂が、光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂または熱可塑性樹脂であることが好ましい。高精細な凹凸パターンを形成することができるからである。
次に、本発明に用いられるローラーについて説明する。本発明に用いられるローラーは、通常、上述した被転写体を表面に保持する被転写体保持手段を有し、かつ、回転可能な円柱形状を有するものである。さらに上記ローラーは、通常、平滑な表面を有する。
次に、本発明に用いられる平板型モールドについて説明する。本発明に用いられる平板型モールドは、平板型であり、さらにその表面にナノ凹凸パターンを有するものである。
次に、本発明における、被転写体の被転写樹脂層と平板型モールドとの密着方法について説明する。本発明においては、ローラー上に配置された被転写体の被転写樹脂層と平板型モールドとが線接触し、その接触部分において被転写樹脂層に対して転写が行われる。
次に、本発明における固化工程について説明する。本発明における固化工程は、上記被転写樹脂層と上記平板型モールドとが密着している状態で、上記被転写樹脂層を固化する工程である。なお、本発明における固化工程は、通常、上述した密着工程の直後に行われる。すなわち、上述した密着工程において、平板型モールドのナノ凹凸パターンと、被転写樹脂層との表面とが接する状態から、上記ナノ凹凸パターンが被転写樹脂層に食い込む状態となり、その状態のまま、即座に被転写樹脂層の固化を行う。
本発明のパターン形成体の製造方法は、上述した密着工程および固化工程を少なくとも有するものである。さらに、本発明においては、通常、固化工程の後に、得られたパターン形成体をローラーから剥離する剥離工程を行う。パターン形成体をローラーから剥離する方法としては、上記「(2)ローラー」で説明した被転写体保持手段により異なるものであるが、例えば、真空吸着によりパターン形成体をローラー上に保持している場合は、真空吸着を止めることにより、ローラーからパターン形成体を剥離することができる。
次に、本発明により得られるパターン形成体の用途について説明する。本発明により得られるパターン形成体は、基材と、上記基材上に形成され、上記平板型モールドのナノ凹凸パターンに対応するパターンを有する被転写樹脂層(以下、「パターン形成層」と称する場合がある。)と、を有する。本発明において、上記パターン形成層は、基材を加工するためのレジストとして使用しても良く、パターン形成層自身を機能層として使用しても良い。
次に、本発明のインプリント転写装置について説明する。本発明のインプリント転写装置は、基材と上記基材上に形成された被転写樹脂層とを有する被転写体を表面に保持する被転写体保持手段を有し、かつ、回転可能な円柱型のローラーと、平板型モールドを保持することができ、かつ、上記平板型モールドが上記被転写樹脂層に対して密着可能な位置に配置された平板型モールド保持手段と、上記被転写樹脂層と上記平板型モールドとが密着した際に、上記被転写樹脂層を固化する固化手段と、を有することを特徴とするものである。
以下、本発明のインプリント転写装置について、インプリント転写装置を構成する部材と、インプリント転写装置の構造と、に分けて説明する。
まず、本発明のインプリント転写装置を構成する部材について説明する。本発明のインプリント転写装置は、ローラーと、平板型モールド保持手段と、固化手段と、を少なくとも有するものである。ローラーおよび固化手段については、上記「A.パターン形成体の製造方法」に記載した内容と同様であるので、ここでの説明は省略する。
次に、本発明のインプリント転写装置の構造について説明する。本発明において、平板型モールド保持手段が配置される位置としては、ローラー上に被転写体が配置された際に、平板型モールドが被転写樹脂層に対して、密着可能な位置であれば特に限定されるものではない。
[実施例1]
平板型モールドとして、石英製モールドを用意した。この石英製モールドは、図8に示すように、152mm×152mmの正方形の表面に、10mm×10mmのナノ凹凸パターン形成領域Aを9個有するものであり、各ナノ凹凸パターン形成領域AがそれぞれXY方向に30mmの間隔を有して配置されているものである。さらに、各ナノ凹凸パターン形成領域Aには、幅200nm、ピッチ800nm、長さ1.0mmのラインアンドスペース(L&S)が形成されている。なお、石英製モールドの厚みは6.35mmであった。
ナノ凹凸パターン形成領域に形成されるパターンを、幅400nm、ピッチ1200nm、長さ10mmのラインアンドスペース(L&S)に変更したこと以外は、実施例1と同様にして、パターン形成体を得た。
2 … 被転写樹脂層
3 … 被転写体
4 … ローラー
5 … 平板型モールド
6 … ナノ凹凸パターン
7 … 光源
8 … 光
9 … 塗布装置
10 … 平板型モールド保持手段
11 … 軸芯
A … ナノ凹凸パターン形成領域
Claims (5)
- 基材と前記基材上に形成された被転写樹脂層とを有する被転写体を、円柱型のローラーの表面に、前記基材の全面が前記ローラーの表面に密着するように沿わせ、前記ローラーを回転させながら、前記被転写樹脂層とナノ凹凸パターンを有する平板型モールドとを、前記被転写樹脂層と前記ナノ凹凸パターンとが接するように密着させる密着工程と、
前記被転写樹脂層と前記平板型モールドとが密着している状態で、前記被転写樹脂層を固化する固化工程と、
を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法。 - 前記被転写樹脂層に含まれる被転写樹脂が、光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂または熱可塑性樹脂であることを特徴とする請求項1に記載のパターン形成体の製造方法。
- 前記平板型モールドの材料が、シリコンないし石英であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のパターン形成体の製造方法。
- 基材と前記基材上に形成された被転写樹脂層とを有する被転写体を表面に保持する被転写体保持手段を有し、かつ、回転可能な円柱型のローラーと、
平板型モールドを保持することができ、かつ、前記平板型モールドが前記被転写樹脂層に対して密着可能な位置に配置された平板型モールド保持手段と、
前記被転写樹脂層と前記平板型モールドとが密着した際に、前記被転写樹脂層を固化する固化手段と、
を有し、
前記被転写体保持手段が、前記基材の全面が前記ローラーの表面に密着するように保持する手段であることを特徴とするインプリント転写装置。 - 前記平板型モールドと前記被転写樹脂層とが密着する位置が、前記ローラーの軸芯よりも高い位置となるように、前記平板型モールド保持手段が配置されていることを特徴とする請求項4に記載のインプリント転写装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006165963A JP4835277B2 (ja) | 2006-06-15 | 2006-06-15 | パターン形成体の製造方法およびインプリント転写装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006165963A JP4835277B2 (ja) | 2006-06-15 | 2006-06-15 | パターン形成体の製造方法およびインプリント転写装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007335647A JP2007335647A (ja) | 2007-12-27 |
JP4835277B2 true JP4835277B2 (ja) | 2011-12-14 |
Family
ID=38934821
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006165963A Expired - Fee Related JP4835277B2 (ja) | 2006-06-15 | 2006-06-15 | パターン形成体の製造方法およびインプリント転写装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4835277B2 (ja) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100987160B1 (ko) | 2008-05-21 | 2010-10-11 | 한국기계연구원 | 인쇄전자소자 인쇄방법 |
JP2009291949A (ja) * | 2008-06-02 | 2009-12-17 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 熱可塑性樹脂の成形方法および成形装置 |
KR101248862B1 (ko) * | 2009-03-27 | 2013-03-29 | 한양대학교 산학협력단 | 액체 유동층을 매개로 하는 나노 전사 롤 투 롤 인쇄법을 이용한 미세 패턴 형성 방법 |
JP2011018011A (ja) * | 2009-06-10 | 2011-01-27 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 鋳型用フィルム及び防眩性樹脂板の製造方法 |
JP2011137865A (ja) * | 2009-12-25 | 2011-07-14 | Fujikura Ltd | 光拡散フィルムの製造方法 |
KR101706230B1 (ko) * | 2010-02-23 | 2017-02-13 | 엘지디스플레이 주식회사 | 롤 몰드 및 그 제조 방법과 그를 이용한 박막 패턴의 제조 방법 |
JP5586995B2 (ja) * | 2010-03-11 | 2014-09-10 | 東芝機械株式会社 | 転写装置及び転写方法 |
KR101726625B1 (ko) * | 2010-08-13 | 2017-04-14 | 엘지디스플레이 주식회사 | 롤 몰드, 그 제조 방법 및 장치와 그를 이용한 박막 패턴의 제조 방법 |
CA2807639A1 (en) | 2010-08-23 | 2012-03-01 | Rolith, Inc. | Mask for near-field lithography and fabrication the same |
KR101037903B1 (ko) | 2010-12-09 | 2011-05-30 | 한국기계연구원 | 롤프린팅/롤임프린팅용 롤 제조방법 |
KR101244856B1 (ko) * | 2011-03-18 | 2013-03-18 | (주)뉴옵틱스 | 원통형 패턴 마스크를 이용한 원통형 스탬프 제작 장치 및 제작 방법 |
KR101437855B1 (ko) | 2012-09-11 | 2014-09-04 | 한국기계연구원 | 롤스탬프 제조방법 |
JP6007074B2 (ja) * | 2012-11-14 | 2016-10-12 | 東芝機械株式会社 | モールド剥離装置およびモールド剥離方法 |
JP7245973B2 (ja) * | 2019-02-04 | 2023-03-27 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | パターンの形成方法および装置 |
FI20216158A1 (en) * | 2021-11-11 | 2023-05-12 | Dispelix Oy | WAVEGUIDE, DISPLAY DEVICE, METHOD AND APPARATUS |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0395738A (ja) * | 1989-09-07 | 1991-04-22 | Canon Inc | 光学情報記録媒体用基板の製造方法 |
JPH11126377A (ja) * | 1997-08-20 | 1999-05-11 | Sony Corp | 光ディスクの製造方法 |
JP4440370B2 (ja) * | 1999-05-21 | 2010-03-24 | 大日本印刷株式会社 | 可撓性シート基材へのパターン複製装置 |
US20030071016A1 (en) * | 2001-10-11 | 2003-04-17 | Wu-Sheng Shih | Patterned structure reproduction using nonsticking mold |
EP1538482B1 (en) * | 2003-12-05 | 2016-02-17 | Obducat AB | Device and method for large area lithography |
JP4844729B2 (ja) * | 2005-08-17 | 2011-12-28 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | ナノインプリント方法及び装置 |
JP4792323B2 (ja) * | 2006-04-04 | 2011-10-12 | 明昌機工株式会社 | ナノインプリント装置およびナノインプリント方法 |
-
2006
- 2006-06-15 JP JP2006165963A patent/JP4835277B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007335647A (ja) | 2007-12-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4835277B2 (ja) | パターン形成体の製造方法およびインプリント転写装置 | |
JP4940884B2 (ja) | パターン形成体の製造方法 | |
JP5102809B2 (ja) | マイクロ構造及びナノ構造の複製及び転写 | |
US7442316B2 (en) | Microcontact printing method using imprinted nanostructure and nanostructure thereof | |
WO2007099907A1 (ja) | インプリント用モールド及びインプリント方法 | |
JP5935385B2 (ja) | ナノインプリント用レプリカテンプレートの製造方法及びレプリカテンプレート | |
JP4246174B2 (ja) | ナノインプリント方法及び装置 | |
JP2008068611A (ja) | インプリントリソグラフィ | |
CN103543602A (zh) | 压印光刻 | |
JP2008006820A (ja) | ソフトモールド及びその製造方法 | |
JP2006272947A (ja) | ナノシートの製造方法 | |
JP2008126450A (ja) | モールド、その製造方法および磁気記録媒体 | |
JP2011206981A (ja) | ナノインプリントモールドの製造方法、パターン形成体の製造方法、およびナノインプリントモールド | |
JP2010080865A (ja) | マイクロコンタクトプリンティング(μCP)用スタンプの製造方法 | |
JP5018283B2 (ja) | パターン形成体の製造方法 | |
US20110076351A1 (en) | Imprint lithography | |
JP2000039702A (ja) | 微細パタ―ンの転写加工方法 | |
JP4569185B2 (ja) | フィルム構造体の形成方法及びフィルム構造体 | |
WO2020180718A1 (en) | Method and apparatus for stamp generation and curing | |
JP2010231127A (ja) | マイクロコンタクトプリンティング用スタンプ作製用マスター版の製造方法、マイクロコンタクトプリンティング用スタンプ作製用マスター版、およびマイクロコンタクトプリンティング用スタンプの製造方法 | |
KR100533903B1 (ko) | 디웨팅을 이용한 미세 패턴 형성 방법 | |
JP4858030B2 (ja) | インプリント用モールド、インプリント用モールド製造方法およびパターン形成方法 | |
JP6036865B2 (ja) | インプリント用モールド | |
JP4471040B2 (ja) | 基板の製造方法、その製造方法により製造された基板、及びその基板を用いた磁気記録媒体 | |
JP5790798B2 (ja) | インプリント用モールドおよび該モールドを用いたパターン形成方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090522 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110527 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110607 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110729 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110830 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110912 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141007 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4835277 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |