CN103332031B - 印刷版的制作方法、散射膜层及其制作方法、显示装置 - Google Patents
印刷版的制作方法、散射膜层及其制作方法、显示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN103332031B CN103332031B CN201310211181.8A CN201310211181A CN103332031B CN 103332031 B CN103332031 B CN 103332031B CN 201310211181 A CN201310211181 A CN 201310211181A CN 103332031 B CN103332031 B CN 103332031B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- rete
- substrate
- galley
- scattering
- preparation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 45
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 103
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 96
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims abstract description 65
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 35
- 238000007711 solidification Methods 0.000 claims abstract description 30
- 230000008023 solidification Effects 0.000 claims abstract description 30
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 claims description 76
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 40
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 claims description 29
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 claims description 29
- 239000003292 glue Substances 0.000 claims description 23
- -1 methylsiloxane Chemical class 0.000 claims description 23
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims description 13
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 10
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 10
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 claims description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 8
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 7
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 claims description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 5
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 claims description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 4
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 claims description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 21
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 15
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 7
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 7
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229960004643 cupric oxide Drugs 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 3
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 2
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000003292 diminished effect Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 239000002070 nanowire Substances 0.000 description 1
- 239000004038 photonic crystal Substances 0.000 description 1
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 1
- 230000036632 reaction speed Effects 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
- G02B5/0205—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties
- G02B5/021—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place at the element's surface, e.g. by means of surface roughening or microprismatic structures
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C33/00—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
- B29C33/42—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor characterised by the shape of the moulding surface, e.g. ribs or grooves
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
- G02B5/0205—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties
- G02B5/021—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place at the element's surface, e.g. by means of surface roughening or microprismatic structures
- G02B5/0215—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place at the element's surface, e.g. by means of surface roughening or microprismatic structures the surface having a regular structure
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
- G02B5/0268—Diffusing elements; Afocal elements characterized by the fabrication or manufacturing method
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
- G02B5/0273—Diffusing elements; Afocal elements characterized by the use
- G02B5/0278—Diffusing elements; Afocal elements characterized by the use used in transmission
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/80—Constructional details
- H10K59/875—Arrangements for extracting light from the devices
- H10K59/877—Arrangements for extracting light from the devices comprising scattering means
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
- B29K2025/00—Use of polymers of vinyl-aromatic compounds or derivatives thereof as moulding material
- B29K2025/04—Polymers of styrene
- B29K2025/06—PS, i.e. polystyrene
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
- B29K2083/00—Use of polymers having silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only, in the main chain, as moulding material
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/85—Arrangements for extracting light from the devices
- H10K50/854—Arrangements for extracting light from the devices comprising scattering means
Abstract
本发明提供了一种印刷版的制作方法、散射膜层及其制作方法、显示装置,涉及显示技术领域,解决了现有的有机发光二极管显示屏的散射膜层中散射粒子不均匀,显示效果不佳的问题。一种印刷版的制作方法,印刷版上形成有多个凸出结构,凸出结构的最大宽度在1nm-1000nm之间,方法包括:在第一基板上制作最大宽度在1nm-1000nm之间的凹槽结构;在上述第一基板设置有凹槽结构的一面形成具有可固化塑形特性的材料的膜层;对具有可固化塑形特性的材料的膜层进行固化处理;将固化后的膜层剥离,在具有可固化塑形特性的材料的膜层表面形成最大宽度在1nm-1000nm之间的凸出结构。本发明适用于显示装置的设计和制造。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种印刷版的制作方法、散射膜层及其制作方法、显示装置。
背景技术
OLED(OrganicLightEmittingDiode,有机发光二极管)显示屏由于同时具备自发光,不需背光源、对比度高、厚度薄、视角广、反应速度快、可用于挠曲性面板、使用温度范围广、构造及制程简单等优异特性,被认为是下一代平面显示器的新兴技术。
OLED显示装置是在基板上设置发光单元,发光单元包括两个电极,在两个电极之间设置有机电致发光材料层。现有技术中,一般采用透明玻璃作为基板,而玻璃的折射率一般为1.4-1.5,有机电致发光材料层的折射率为1.7-1.8,因此有机电致发光材料通电发出的光经玻璃进入空气时,由于全反射会有大部分的光线局限在有机电致发光材料层中,只有约20%的光子能够射出OLED器件,器件的外量子效率最大只能达到17%。光取出效率及外量子效率低,导致器件光效低、功耗大、芯片发热、使用寿命短等问题。
现有技术中,提升OLED显示屏的光取出率的技术有多种,包括:微透镜技术、光子晶体技术、纳米线技术、散射层技术、微腔共振技术等。其中散射层技术成本较低、光谱偏移较少,而且外量子效率增强效果较好,受到人们广泛关注。散射层技术是在OLED显示屏的基板上设置有一层散射膜层,用以增强外量子效率。现有的散射膜层是在薄膜内嵌设有散射粒子,受限于制作工艺,现有的散射膜层上散射粒子在薄膜内分布不均匀,且散射粒子可能在薄膜内叠置,形成多层,从OLED表面射出的光的波长和强度会因观察者的角度变化而变化,即色偏现象严重,显示效果不佳。
发明内容
本发明的实施例提供一种印刷版的制作方法、散射膜层及其制作方法、显示装置,通过该印刷版的制作方法形成的印刷版可用于形成所述散射膜层,且所述散射膜层上的凹槽结构大小排布均匀,可以有效提高光取出效率及外量子效率,改善显示效果。
为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:
本发明实施例提供了一种印刷版,所述印刷版上形成有多个凸出结构,所述凸出结构的最大宽度在1nm-1000nm之间。
可选的,所述印刷版用于制作散射膜层。
可选的,所述凸出结构在所述印刷版上以矩阵的形式均匀排布。
可选的,所述凸出结构为半球形。
可选的,所述半球的直径在1nm-1000nm之间。
可选的,形成所述印刷版的材料具有可固化塑形特性的材料。
可选的,形成所述印刷版的材料为甲基硅氧烷。
本发明实施例提供了一种印刷版的制作方法,包括:
在第一基板上制作最大宽度在1nm-1000nm之间的凹槽结构;
在上述第一基板设置有凹槽结构的一面形成具有可固化塑形特性的材料的膜层;
对所述具有可固化塑形特性的材料的膜层进行固化处理;
将固化后的膜层剥离,在所述具有可固化塑形特性的材料的膜层表面形成最大宽度在1nm-1000nm之间的凸出结构。
可选的,所述具有可固化塑形特性的材料为甲基硅氧烷。
可选的,所述对所述具有可固化塑形特性的材料的膜层进行固化处理具体为对甲基硅氧烷膜层进行光照处理。
可选的,所述在第一基板上制作最大宽度在1nm-1000nm之间凹槽结构具体包括:
在第一基板上形成具有可收缩变形特性的纳米粒子的单分子层;
待上述纳米粒子在第一基板上均匀铺开之后,对上述纳米粒子进行收缩处理;
在第一基板表面形成一层薄膜,所述薄膜的厚度不大于纳米粒子的直径;
去除所述薄膜层内嵌设的纳米粒子。
可选的,所述具有可收缩变形特性的纳米粒子为聚苯乙烯纳米粒子。
可选的,所述在第一基板上形成具有可收缩变形特性的纳米粒子的单分子层具体包括:
形成聚苯乙烯纳米粒子、甲醇和分散剂的混合物;
通过旋涂的方式将上述混合物涂覆在第一基板上。
可选的,对纳米粒子进行收缩处理具体为对聚苯乙烯纳米粒子进行等离子处理。
可选的,所述去除所述薄膜内嵌设的纳米粒子具体包括:
在液体中,采用超声波去除薄膜内嵌设的聚苯乙烯纳米粒子。
可选的,所述聚苯乙烯纳米粒子的直径在1nm-1000nm之间。
可选的,所述第一基板为硅片或金属基板。
可选的,在第一基板表面形成的薄膜的材料与所述第一基板的材料相同。
本发明实施例提供了一种散射膜层,所述散射膜层上形成有多个凹槽结构,所述凹槽结构的最大宽度在1nm-1000nm之间,且所述凹槽结构通过本发明实施例提供的任一所述的印刷版印刷制得。
可选的,所述凹槽结构在所述散射膜层上以矩阵的形式均匀排布。
可选的,所述凹槽结构为半球形。
可选的,所述半球的直径在1nm-1000nm之间。
可选的,形成所述散射膜层的材料为具有可固化塑形特性的材料。
可选的,形成所述散射膜层的材料为固化胶。
本发明实施例提供了一种散射膜层的制作方法,包括:
制作印刷版;
在第二基板上形成具有可固化塑形特性的材料的膜层;
利用上述印刷版在所述具有可固化塑形特性的材料的膜层上印刷,在所述具有可固化塑形特性的材料的膜层表面形成最大宽度在1nm-1000nm之间的凹槽结构;
对所述具有可固化塑形特性的材料的膜层进行固化处理。
可选的,所述具有可固化塑形特性的材料为固化胶。
可选的,所述对所述具有可固化塑形特性的材料的膜层进行固化处理具体为对固化胶进行紫外光照射固化。
可选的,所述具有可固化塑形特性的材料的膜层的厚度不大于印刷版上凸出结构的半径。
可选的,所述利用上述印刷版在所述具有可固化塑形特性的材料的膜层上印刷,在所述具有可固化塑形特性的材料的膜层表面形成最大宽度在1nm-1000nm之间的凹槽结构具体包括:
将印刷版形成有凸出结构的一面与所述具有可固化塑形特性的材料的膜层对合;
将印刷版剥离,在所述具有可固化塑形特性的材料的膜层表面形成与印刷版凸出结构相对应的凹槽结构。
本发明实施例提供了一种显示装置,包括:基板以及设置在所述基板上的散射膜层,其中,所述散射膜层为本发明实施例提供的散射膜层。
可选的,所述散射膜层设置在所述基板的出光外表面上。
本发明实施例提供的一种印刷版、散射膜层及其制作方法、显示装置,所述印刷版上形成有多个凸出结构,且所述凸出结构的最大宽度在1nm-1000nm之间,所述印刷版上的凸出结构精细度高,所述散射膜层通过所述印刷版印刷制得,散射膜层上形成有与印刷版上的凸出结构相对的凹槽结构,且所述散射膜层上的凹槽结构大小排布均匀,用于有机发光二极管显示装置上,可以有效的提高光取出效率及外量子效率,改善显示效果。
附图说明
图1为本发明实施例提供的一种印刷版的俯视结构示意图;
图2为图1所示的印刷版的侧视结构示意图;
图3为本发明实施例提供的一种散射膜层的俯视结构示意图;
图4为图3所示的散射膜层的侧视结构示意图;
图5为本发明实施例提供的一种印刷版的制作方法示意图;
图6为本发明实施例提供的一种在第一基板上制作凹槽结构的方法示意图;
图7为本发明实施例提供的一种在第一基板上形成具有可收缩变形特性的纳米粒子的单分子层的方法示意图;
图8为在第一基板上形成纳米粒子单分子层的侧视结构示意图;
图9为在第一基板上形成纳米粒子单分子层的俯视结构示意图;
图10为对纳米粒子进行处理收缩后的侧视结构示意图;
图11为对纳米粒子进行处理收缩后的俯视结构示意图;
图12为在第一基板表面上形成一层薄膜的侧视结构示意图;
图13为去除图12所示的薄膜中的纳米粒子的结构示意图;
图14为在制备有凹槽结构的第一基板表面形成甲基硅氧烷膜层示意图;
图15为将图14所示的甲基硅氧烷膜层固化剥离后的示意图;
图16为本发明实施例提供的一种散射膜层的制作方法示意图;
图17为本发明实施例提供的利用印刷版印刷的方法示意图;
图18为在显示屏上形成固化胶层的示意图;
图19为利用印刷版在固化胶上印刷的示意图;
图20为将印刷版剥离后形成固化胶散射膜层的示意图;
图21为本发明实施例提供的一种显示装置示意图;
附图标记:
10-凸出结构;11-透明基板;12-阳极电极层;13-发光层;14-阴极电极层;20-凹槽结构;30-第一基板;31-聚苯乙烯纳米粒子;32-薄膜;33-甲基硅氧烷膜层;34-印刷版;40-显示屏;41-固化胶;42-散射膜层。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。
本发明实施例提供了一种印刷版34,如图1、图2所示,所述印刷版34上形成有多个凸出结构10,所述凸出结构10的最大宽度在1nm-1000nm之间。
需要说明的是,所述印刷版相当于模具,通过该印刷版可以得到与该印刷版的图案相对应的图案。根据形成的印刷版的用途和方法,在所述印刷版上可形成不同的图案,例如,所述凸出结构可以是圆球形也可以是立方晶格等其他形状。所述凸出结构的最大宽度是指凸出结构平面上两点的最大距离。例如,所述凸出结构为圆球型,则所述凸出结构的最大宽度即为所述圆球的直径;所述凸出结构为立方体形状,则所述凸出结构的最大宽度为立方体的边长;所述凸出结构为不规则形状,则所述凸出结构的最大宽度为不规则形状平面上两点连线的最大距离。本发明实施例中,所述印刷版上形成有凸出结构,主要用于制作散射膜层。
本发明实施例提供的一种印刷版,所述印刷版上形成有多个凸出结构,利用所述印刷版印刷可以得到与所述凸出结构相对的凹槽结构。所述印刷版上的凸出结构的最大宽度在1nm-1000nm之间,其凸出结构精细,可用于制作有机发光显示器件的散射膜层。且相对于传统的膜层的制作方法,通过印刷版制作散射膜层不仅可以保证得到的散射膜层的图案的精细度,且操作简单,有效提高生产效率,且形成的散射膜层上的凹槽结构均匀,有利于提高光取出效率及外量子效率,改善显示效果。
可选的,如图1、图2所示,所述凸出结构10在所述印刷版34上以矩阵的形式均匀排布。需要说明的是,所述凸出结构在所述印刷版上以矩阵的形式均匀排布,不仅是指所述凸出结构的排列均匀,同时所述凸出结构大小均匀。
可选的,如图1、图2所示,所述凸出结构10为半球形。当所述凸出结构为半球形时,所述印刷版印刷之后可形成与所述半球形相对的半球形。当然,所述凸出结构也可以是其他形状,则所述印刷版用于印刷之后形成相应的形状。
可选的,所述半球的直径在1nm-1000nm之间。需要说明的是,所述半球的直径在1nm-1000nm之间,是指所述印刷版上的凸出结构的大小相同,其大小在1nm-1000nm之间。但由于制作工艺的限制,在制作时必然存在误差,因此,本发明实施例中印刷版上的各半球形凸出结构误差允许范围优选在100nm之内,包括100nm,这样可以保证印刷图案的精细度。
可选的,形成所述印刷版的材料为具有可固化塑形特性的材料。优选的,所述形成印刷版的材料为甲基硅氧烷。当然,所述印刷版还可以是由其他材料形成的。例如还可以是聚氨酯类树脂等可紫外线固化塑形的材料。本发明实施例以形成所述印刷版的材料为甲基硅氧烷为例进行详细说明。
本发明实施例提供了一种印刷版的制作方法,如图5所示,包括:
步骤S101、在第一基板上制作最大宽度在1nm-1000nm之间的凹槽结构。
可选的,如图6所示,上述步骤S101具体包括:
步骤S1011、在第一基板上形成具有可收缩变形特性的纳米粒子的单分子层。
具体的,所述具有可收缩变形特性的纳米粒子为聚苯乙烯纳米粒子。当然,所述具有可收缩变形的物质还可以是其他纳米粒子物质,例如可以是氧化铜纳米粒子,氧化铜可以随着温度的变化膨胀和收缩,且氧化铜纳米粒子的直径在1-100nm之间。本发明实施例中以聚苯乙烯为例进行详细说明。如图8、图9所示,在第一基板30上形成聚苯乙烯纳米粒子31的单分子层。且所述聚苯乙烯纳米粒子的直径在1nm-1000nm之间。所述第一基板可以是玻璃基板、金属基板、硅片或二氧化硅基板等,且优选的所述第一基板为硅片或金属基板。
如图7所示,上述步骤S1011、所述在第一基板上形成具有可收缩变形特性的纳米粒子的单分子层具体包括:
步骤S10111、形成聚苯乙烯纳米粒子、甲醇和分散剂的混合物。
其中,甲醇是溶剂,熔点低且有助于挥发,分散剂有助于提升聚苯乙烯纳米粒子在基板表面的排布,防止分子的堆积,有助于形成单分子层。
步骤S10112、通过旋涂的方式将上述混合物涂覆在第一基板上。
通过旋涂的方式将上述混合物涂覆在第一基板上可以保证混合物与第一基板之间形成一层薄厚均匀的膜层,形成聚苯乙烯纳米粒子的单分子层,且优选使得聚苯乙烯纳米粒子在第一基板上以矩阵的形式均匀排布。如图8、图9所示,在第一基板30上形成有聚苯乙烯纳米粒子31的单分子层。
步骤S1012、待上述纳米粒子在第一基板上均匀铺开之后,对上述纳米粒子进行收缩处理。
需要说明的是,根据不同的材料,其分子收缩的条件也不相同。例如氧化铜的纳米分子是在温度的变化下膨胀和收缩。本发明实施例中以聚苯乙烯纳米粒子为例进行详细说明。具体的,对纳米粒子进行收缩处理具体为对聚苯乙烯纳米粒子进行等离子处理。对聚苯乙烯纳米粒子进行等离子处理,使聚苯乙烯纳米粒子的粒径变小,同时可以增强聚苯乙烯纳米粒子与第一基板表面的粘着力,如图10、图11所示,经等离子处理之后收缩,聚苯乙烯纳米粒子31的粒径变小,原来相互接触的纳米粒子之间形成一定的空隙。
步骤S1013、在第一基板表面形成一层薄膜,所述薄膜的厚度不大于纳米粒子的直径。
需要说明的是,纳米粒子收缩变形之后,原来相互接触的纳米粒子之间均形成一定空隙,在纳米粒子上形成一层薄膜,纳米粒子内嵌在所述薄膜内。如图12所示,聚苯乙烯纳米粒子31经等离子处理之后,聚苯乙烯纳米粒子31之间存在缝隙,在第一基板30上形成薄膜32,则聚苯乙烯纳米粒子31嵌设在薄膜32内。可选的,在第一基板表面形成的薄膜的材料与所述第一基板的材料相同。例如第一基板采用硅片,则薄膜材料可以为氧化硅,这样第一薄膜与第一基板的粘着性能较好,使得后期在制备印刷版的时候该薄膜不容易从第一基板表面剥离。当然,还可以是采用性质相同的其他材料形成所述基板和薄膜。例如所述第一基板为金属基板,则形成所述薄膜的材料可以为金属氧化物等。所述薄膜的厚度不大于所述纳米粒子的直径,这样有利于下一步去除薄膜层内嵌设的纳米粒子。具体的,可以将第一基板放入真空箱,在第一基板表面通过蒸镀或沉积的方法形成一层薄膜。
步骤S1014、去除所述薄膜内嵌设的纳米粒子。
去除薄膜32内嵌设的聚苯乙烯纳米粒子,则如图13所示,在所述薄膜32上对应聚苯乙烯纳米粒子的位置处形成凹槽结构。具体的,所述去除所述薄膜层内嵌设的纳米粒子具体包括:在液体中,采用超声波去除聚苯乙烯纳米粒子。超声波在液体媒介中传播的作用效果好,具体的,将第一基板浸泡在乙醇和/或异丙醇的混合溶液中,再采用超声波去除聚苯乙烯纳米粒子。由于纳米粒子嵌设在薄膜层内,去除所述纳米粒子,则在薄膜上形成多个凹槽结构。
需要说明的是,在基板上制作凹槽结构还可以是采用其他的方式形成,本发明实施例以上述方法为例进行详细说明。
步骤S102、在上述第一基板设置有凹槽结构的一面形成具有可固化塑形特性的材料的膜层。
具体的,所述具有可固化塑形特性的材料为甲基硅氧烷。如图14所示,在上述制备有凹槽结构的第一基板表面上形成甲基硅氧烷膜层33,则甲基硅氧烷填充的凹槽结构的位置处。当然,所述具有可固化塑形特性的材料还可以是其他的物质,例如可以是聚氨酯类树脂等。但甲基硅氧烷成本低、使用简单且有良好的化学惰性,本发明实施例中优选以采用甲基硅氧烷为例进行详细说明。优选采用浇筑的方式在有凹槽结构的基板上形成甲基硅氧烷膜层,这样可以保证形成的甲基硅氧烷膜层与第一基板之间没有气泡。由于印刷版上的气泡,可能使得经印刷版印刷出来的产品也有气泡,形成的凹槽的均匀性受到影响,而且可能由于气泡不能形成凹槽等。
步骤S103、对所述具有可固化塑形特性的材料的膜层进行固化处理。
所述对所述具有可固化塑形特性的材料的膜层进行固化处理具体为对甲基硅氧烷膜层进行光照处理。当然,还可以是对甲基硅氧烷膜层进行加热固化等其他的固化处理。本发明实施例中以对所述甲基硅氧烷进行光照固化为例进行详细说明。甲基硅氧烷交联固化之后,不仅有利于下一步的剥离,且交联固化后的甲基硅氧烷不易变形。
步骤S104、将固化后的膜层剥离,在所述具有可固化塑形特性的材料的膜层表面形成最大宽度在1nm-1000nm之间的凸出结构。
如图15所示,由于甲基硅氧烷是涂覆在凹槽结构的基板上的,则在基板上的凹槽结构对应的位置处形成最大宽度在1nm-1000nm之间的凸出结构10,剥离之后的甲基硅氧烷即形成印刷版34。
本发明实施例提供了一种散射膜层42,如图3、图4所示,所述散射膜层42上形成有多个凹槽结构20,所述凹槽结构20的最大宽度在1nm-1000nm之间,且所述凹槽结构通过本发明实施例提供所述的印刷版印刷制得。
本发明实施例提供的一种散射膜层,所述散射膜层上形成多个凹槽结构,所述凹槽结构的最大宽度在1nm-1000nm之间,散射膜层上的凹槽结构精细度高。所述散射膜层可用于OLED显示屏,通过所述凹槽结构不仅有助于减少全反射,破坏OLED的微腔效应,增加OLED的出光效率,而且所述散射膜层上的凹槽结构以矩阵的形式均匀排布,使得从OLED表面射出的光的波长和强度不会受观察者角度的改变而发生改变,减少色偏现象,提升显示效果。所述散射膜层是通过印刷版印刷制得的,则相对于现有的通过涂覆等方法形成散射膜层,其制作工艺简单,提高了生产的效率,且所述印刷版可以重复使用,节省了生产的成本,还可以用于形成更大尺寸散射膜层。
可选的,如图3所示,所述凹槽结构20在所述散射膜层42上以矩阵的形式均匀排布。
可选的,如图3所示,所述凹槽结构20为半球形。需要说明的是,所述凹槽结构是通过印刷版印刷制得的,则所述凹槽结构的形状与印刷版上的凸出结构的形状是对应的,所述印刷版上的凸出结构的形状为半球形则经所述印刷版制得的散射膜层上的凹槽结构也为半球形。
可选的,所述半球的直径在1nm-1000nm之间。需要说明的是,所述半球形的直径受印刷版上凸出结构的半球的直径以及膜层厚度等的影响。例如所述印刷版上凸出结构的半球的直径为300nm,若所述膜层的厚度小于所述凸出结构的半球的半径,则形成的凹槽结构的直径略小于300nm。由于印刷版上的半球形凸出结构分布及大小均匀,则通过所述印刷版形成的半球形凹槽结构的分布及大小也均匀,进而可以提升显示效果。且所述散射膜层上的凹槽结构的直径在1nm-1000nm之间,其精细度高,更有利于提升光取出效率。
可选的,形成所述散射膜层的材料为具有可固化塑形特性的材料。且优选采用透明可固化塑形特性的材料,这样可以减少光透过散射膜层的损失。当然,形成所述散射膜层的材料也可以不是透明的。例如所述具有可固化塑形特性的材料可以是透明性良好、可固化的高分子材料等。优选的,形成所述散射膜层的材料为固化胶。固化胶不仅透明性好,而且粘性好,可以保证在基板上形成后不易脱落。本发明实施例以形成所述散射膜层的材料为固化胶为例进行详细说明。
本发明实施例提供了一种散射膜层的制作方法,如图16所示,包括:
步骤S201、制作印刷版。
具体的,所述印刷版上形成有多个凸出结构,所述凸出结构的最大宽度在1nm-1000nm之间。进一步的,所述凸出结构为半球形,且所述半球的直径在1nm-1000nm之间,所述凸出结构在所述印刷版上以矩阵的形式均匀排布。制作所述印刷版可以参照上述步骤S101-步骤S104。
当然,制作印刷版还可以是采用其他的方法制的,本发明实施例对制作印刷版的具体方法不作具体限制。
步骤S202、在第二基板上形成具有可固化塑形特性的材料的膜层。
需要说明的是,所述第二基板可以是未设置其他薄膜的基板,也可以是在基板上设置有其他膜层的基板,此时,在第二基板上形成具有可固化塑形特性的材料的膜层,即在基板上的膜层上形成具有可固化塑形特性的材料的膜层。所述第二基板还可以是其他具有平面结构的面板,例如可以是显示屏等,则所述在第二基板上形成具有可固化塑形特性的材料的膜层,即在显示屏的出光面上形成具有可固化塑形特性的材料的膜层。且在第二基板上形成的具有可固化塑形特性的材料的膜层经后续制作工序,该膜层形成散射膜层。以OLED显示屏为例,该膜层可以形成在基板阴极或阳极远离发光材料的一侧,还可以直接形成在OLED显示屏的出光外表面上。所述具有可固化塑形特性的材料为固化胶。如图18所示,OLED显示屏40的出光外表面上形成固化胶41。所述具有可固化塑形特性的材料的膜层的厚度不大于印刷版上凸出结构的半径。这样形成的膜层的厚度小于印刷版上凸出结构的半径,则经印刷版印刷之后,如图20所示,在该膜层上形成的凹槽结构直接与第二基板接触,显示亮度大。当然,所述固化胶层的厚度也可以是大于印刷版上凸出结构的半径,这样,形成散射膜层上的凹槽结构可能与第二基板之间设置有固化胶,散射膜层与第二基板的黏着性好,不易脱落。
步骤S203、利用上述印刷版在所述具有可固化塑形特性的材料的膜层上印刷,在所述具有可固化塑形特性的材料的膜层表面形成最大宽度在1nm-1000nm之间的凹槽结构。
具体的,如图17所示,上述步骤S203包括:
步骤S2031、将印刷版形成有凸出结构的一面与所述具有可固化塑形特性的材料的膜层对合。
如图19所示,将印刷版34设置有凸出结构的一面与固化胶41相对,印刷版34压合在固化胶41上面。
步骤S2032、将印刷版剥离,在所述具有可固化塑形特性的材料的膜层表面形成与印刷版凸出结构相对应的凹槽结构。
如图20所示,将印刷版34剥离之后,在固化胶表面形成多个凹槽。
步骤S204、对所述具有可固化塑形特性的材料的膜层进行固化处理。
具体的,形成所述膜层的材料为固化胶,则所述对所述具有可固化塑形特性的材料的膜层进行固化处理具体为对固化胶进行紫外光照射固化。当然,还可以是对所述固化胶进行加热固化等其他固化处理。对材料进行固化之后,在固化胶表面形成的各种凹槽就不易变形,如图20所示,经固化后的固化胶即形成的散射膜层42。
本发明实施例提供了一种显示装置,包括:基板以及设置在所述基板上的散射膜层,其中,所述散射膜层为本发明实施例提供的任一所述的散射膜层。
需要说明的是,OLED显示装置根据出光的方向分为底发射型有机发光显示装置和顶发射型有机发光显示装置。具体的,如图21所示,OLED显示装置包括透明基板11以及依次设置在所述透明基板11上的阳极电极层12、发光层13、反射阴极电极层14,光从透明基板11一侧出射,则为底发射型;反之,光从反射阴极侧出射为顶发射型。本发明实施例提供的显示装置可以是任意一种显示装置。
本发明实施例提供的有机发光显示装置,所述显示装置上设置有散射膜层,可以降低OLED出光面与空气的全反射,减少微腔效应,提高OLED的外量子效率。所述显示装置可以为OLED显示面板、OLED显示器等显示器件以及包括该显示器件的电视、数码相机、手机、平板电脑等任何具有显示功能的产品或者部件。
可选的,所述显示装置为底发射型有机发光显示装置。则具体的,如图21所示,所述底发射型有机发光显示装置包括透明基板11以及依次设置在所述透明基板11上的阳极电极层12、发光层13、反射阴极电极层14。所述散射膜层可以设置在显示装置透明基板11两侧的任一侧。例如散射膜层可以是设置在透明基板设置有电极的一侧,也可以是透明基板未设置电极层的一侧,即透明基板的出光外表面的一侧。优选的,如图20所示,所述散射膜层42设置在所述透明基板11的出光外表面上。当散射膜层设置在透明基板的出光外表面上,可以在现有的制作好的显示屏上再做一层散射膜层,操作简单。
以上所述,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到的变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
Claims (28)
1.一种印刷版的制作方法,其特征在于,包括:
在第一基板上制作最大宽度在1nm-1000nm之间的凹槽结构;
在上述第一基板设置有凹槽结构的一面形成具有可固化塑形特性的材料的膜层;
对所述具有可固化塑形特性的材料的膜层进行固化处理;
将固化后的所述具有可固化塑形特性的材料的膜层剥离,在剥离后的所述具有可固化塑形特性的材料的膜层表面形成最大宽度在1nm-1000nm之间的凸出结构;
剥离后的所述具有可固化塑形特性的材料的膜层即为所述印刷版;
所述印刷版上形成有多个凸出结构,所述凸出结构的最大宽度在1nm-1000nm之间。
2.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述具有可固化塑形特性的材料为甲基硅氧烷。
3.根据权利要求2所述的制作方法,其特征在于,
所述对所述具有可固化塑形特性的材料的膜层进行固化处理具体为对甲基硅氧烷膜层进行光照处理。
4.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述在第一基板上制作最大宽度在1nm-1000nm之间凹槽结构具体包括:
在第一基板上形成具有可收缩变形特性的纳米粒子的单分子层;
待上述纳米粒子在第一基板上均匀铺开之后,对上述纳米粒子进行收缩处理;
在第一基板表面形成一层薄膜,所述薄膜的厚度不大于纳米粒子的直径;
去除所述薄膜内嵌设的纳米粒子。
5.根据权利要求4所述的制作方法,其特征在于,所述具有可收缩变形特性的纳米粒子为聚苯乙烯纳米粒子。
6.根据权利要求5所述的制作方法,其特征在于,所述在第一基板上形成具有可收缩变形特性的纳米粒子的单分子层具体包括:
形成聚苯乙烯纳米粒子、甲醇和分散剂的混合物;
通过旋涂的方式将上述混合物涂覆在第一基板上。
7.根据权利要求5所述的制作方法,其特征在于,对纳米粒子进行收缩处理具体为对聚苯乙烯纳米粒子进行等离子处理。
8.根据权利要求5所述的制作方法,其特征在于,所述去除所述薄膜内嵌设的纳米粒子具体包括:
在液体中,采用超声波去除薄膜内嵌设的聚苯乙烯纳米粒子。
9.根据权利要求5所述的制作方法,其特征在于,所述聚苯乙烯纳米粒子的直径在1nm-1000nm之间。
10.根据权利要求4所述的制作方法,其特征在于,所述第一基板为硅片或金属基板。
11.根据权利要求4所述的制作方法,其特征在于,在第一基板表面形成的薄膜的材料与所述第一基板的材料相同。
12.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述印刷版用于制作散射膜层。
13.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述凸出结构在所述印刷版上以矩阵的形式均匀排布。
14.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述凸出结构为半球形。
15.根据权利要求14所述的制作方法,其特征在于,所述半球的直径在1nm-1000nm之间。
16.一种散射膜层,其特征在于,所述散射膜层上形成有多个凹槽结构,所述凹槽结构的最大宽度在1nm-1000nm之间,且所述凹槽结构通过权利要求1-15任一项所述的印刷版的制作方法制得的印刷版印刷制得。
17.根据权利要求16所述的散射膜层,其特征在于,所述凹槽结构在所述散射膜层上以矩阵的形式均匀排布。
18.根据权利要求16所述的散射膜层,其特征在于,所述凹槽结构为半球形。
19.根据权利要求18所述的散射膜层,其特征在于,所述半球的直径在1nm-1000nm之间。
20.根据权利要求16-19任一项所述的散射膜层,其特征在于,形成所述散射膜层的材料为具有可固化塑形特性的材料。
21.根据权利要求20所述的散射膜层,其特征在于,形成所述散射膜层的材料为固化胶。
22.一种如权利要求16-21任一项所述的散射膜层的制作方法,其特征在于,包括:
通过权利要求1-15任一项所述的印刷版的制作方法制作印刷版;
在第二基板上形成具有可固化塑形特性的材料的膜层;
利用上述印刷版在所述具有可固化塑形特性的材料的膜层上印刷,在所述具有可固化塑形特性的材料的膜层表面形成最大宽度在1nm-1000nm之间的凹槽结构;
对所述第二基板上的所述具有可固化塑形特性的材料的膜层进行固化处理。
23.根据权利要求22所述的制作方法,其特征在于,所述第二基板上的所述具有可固化塑形特性的材料为固化胶。
24.根据权利要求23所述的制作方法,其特征在于,所述对所述第二基板上的所述具有可固化塑形特性的材料的膜层进行固化处理具体为对固化胶进行紫外光照射固化。
25.根据权利要求22所述的制作方法,其特征在于,所述第二基板上的所述具有可固化塑形特性的材料的膜层的厚度不大于印刷版上凸出结构的半径。
26.根据权利要求22所述的制作方法,其特征在于,所述利用上述印刷版在所述具有可固化塑形特性的材料的膜层上印刷,在所述具有可固化塑形特性的材料的膜层表面形成最大宽度在1nm-1000nm之间的凹槽结构具体包括:
将印刷版形成有凸出结构的一面与所述具有可固化塑形特性的材料的膜层对合;
将印刷版剥离,在所述具有可固化塑形特性的材料的膜层表面形成与印刷版凸出结构相对应的凹槽结构。
27.一种显示装置,包括:基板以及设置在所述基板上的散射膜层,其特征在于,所述散射膜层为权利要求16-21任一项所述的散射膜层。
28.根据权利要求27所述的显示装置,其特征在于,所述散射膜层设置在所述基板的出光外表面上。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201310211181.8A CN103332031B (zh) | 2013-05-30 | 2013-05-30 | 印刷版的制作方法、散射膜层及其制作方法、显示装置 |
US14/347,123 US9594193B2 (en) | 2013-05-30 | 2013-11-21 | Printing plate, scattering layer, method for fabricating the same, and display apparatus |
PCT/CN2013/087583 WO2014190689A1 (zh) | 2013-05-30 | 2013-11-21 | 印刷版、散射膜层及其制作方法、显示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201310211181.8A CN103332031B (zh) | 2013-05-30 | 2013-05-30 | 印刷版的制作方法、散射膜层及其制作方法、显示装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN103332031A CN103332031A (zh) | 2013-10-02 |
CN103332031B true CN103332031B (zh) | 2016-02-10 |
Family
ID=49240266
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201310211181.8A Active CN103332031B (zh) | 2013-05-30 | 2013-05-30 | 印刷版的制作方法、散射膜层及其制作方法、显示装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9594193B2 (zh) |
CN (1) | CN103332031B (zh) |
WO (1) | WO2014190689A1 (zh) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103332031B (zh) | 2013-05-30 | 2016-02-10 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 印刷版的制作方法、散射膜层及其制作方法、显示装置 |
DE102014107099B4 (de) | 2014-05-20 | 2019-10-31 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Lichtstreuendes Schichtsystem, Verfahren zu seiner Herstellung und Verwendung des Schichtsystems |
JP6274079B2 (ja) * | 2014-11-04 | 2018-02-07 | 日本軽金属株式会社 | ペリクル用支持枠および製造方法 |
US9761842B2 (en) | 2014-12-19 | 2017-09-12 | The Regents Of The University Of Michigan | Enhancing light extraction of organic light emitting diodes via nanoscale texturing of electrode surfaces |
CN106654064B (zh) * | 2016-12-29 | 2019-02-12 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种顶发射oled器件折射钝化层的制备方法及其应用 |
CN107316949B (zh) | 2017-07-11 | 2020-07-31 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示面板及其制造方法、显示装置 |
CN110429195B (zh) * | 2018-08-27 | 2022-01-11 | 广东聚华印刷显示技术有限公司 | 薄膜封装结构及其制备方法和显示面板 |
CN109585685B (zh) * | 2018-12-07 | 2021-06-01 | 纳晶科技股份有限公司 | 光取出结构、其制作方法及发光器件 |
CN109786552B (zh) * | 2019-01-22 | 2020-10-16 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 有机薄膜及其制作方法、显示装置和光学器件 |
CN114267704A (zh) * | 2021-12-14 | 2022-04-01 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 显示面板以及移动终端 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101196580A (zh) * | 2006-12-08 | 2008-06-11 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 光学板 |
JP2010115804A (ja) * | 2008-11-11 | 2010-05-27 | Toppan Printing Co Ltd | 版の製造方法、レンズアレイ、バックライトユニット及び表示装置 |
CN202093197U (zh) * | 2010-02-01 | 2011-12-28 | 美蓓亚株式会社 | 导光板 |
CN103097953A (zh) * | 2010-08-23 | 2013-05-08 | 罗利诗公司 | 近场平版印刷掩模及其制造 |
CN203282812U (zh) * | 2013-05-30 | 2013-11-13 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 一种印刷版、散射膜层及显示装置 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11119012A (ja) * | 1997-10-17 | 1999-04-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光反射板の製造方法及び液晶表示体 |
JP3808645B2 (ja) * | 1998-11-30 | 2006-08-16 | 株式会社有沢製作所 | 光コントロール部材の製造型及び光コントロール部材の製造方法 |
US7414263B2 (en) * | 2004-03-16 | 2008-08-19 | Lg Chem, Ltd. | Highly efficient organic light-emitting device using substrate or electrode having nanosized half-spherical convex and method for preparing the same |
JP5084281B2 (ja) * | 2007-02-02 | 2012-11-28 | ユニチカスパークライト株式会社 | 防眩性光輝フィルムの製造方法 |
CN101772726B (zh) * | 2007-08-09 | 2012-01-11 | 夏普株式会社 | 液晶显示装置 |
JP2009104052A (ja) * | 2007-10-25 | 2009-05-14 | Entire Technology Co Ltd | 拡散シートの成型型枠、及び該成型型枠の製造方法 |
US8518633B2 (en) * | 2008-01-22 | 2013-08-27 | Rolith Inc. | Large area nanopatterning method and apparatus |
EP2442006A4 (en) * | 2009-06-11 | 2017-11-08 | Zeon Corporation | Surface light source device, lighting equipment, backlight device |
CN103332031B (zh) * | 2013-05-30 | 2016-02-10 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 印刷版的制作方法、散射膜层及其制作方法、显示装置 |
-
2013
- 2013-05-30 CN CN201310211181.8A patent/CN103332031B/zh active Active
- 2013-11-21 US US14/347,123 patent/US9594193B2/en active Active
- 2013-11-21 WO PCT/CN2013/087583 patent/WO2014190689A1/zh active Application Filing
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101196580A (zh) * | 2006-12-08 | 2008-06-11 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 光学板 |
JP2010115804A (ja) * | 2008-11-11 | 2010-05-27 | Toppan Printing Co Ltd | 版の製造方法、レンズアレイ、バックライトユニット及び表示装置 |
CN202093197U (zh) * | 2010-02-01 | 2011-12-28 | 美蓓亚株式会社 | 导光板 |
CN103097953A (zh) * | 2010-08-23 | 2013-05-08 | 罗利诗公司 | 近场平版印刷掩模及其制造 |
CN203282812U (zh) * | 2013-05-30 | 2013-11-13 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 一种印刷版、散射膜层及显示装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9594193B2 (en) | 2017-03-14 |
WO2014190689A1 (zh) | 2014-12-04 |
CN103332031A (zh) | 2013-10-02 |
US20160124128A1 (en) | 2016-05-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN103332031B (zh) | 印刷版的制作方法、散射膜层及其制作方法、显示装置 | |
EP2743753B1 (en) | Method for manufacturing a flexible display device | |
JP5190758B2 (ja) | 透明導電層付フィルムとフレキシブル機能性素子、フレキシブル分散型エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法並びにそれを用いた電子デバイス | |
JP5339089B2 (ja) | フレキシブル透明導電フィルムとフレキシブル機能性素子およびこれ等の製造方法 | |
US20170214000A1 (en) | Organic Light-Emitting Diode (OLED) Device, Manufacturing Method Thereof and Display Device | |
TW201622205A (zh) | 具有凹凸圖案之構件的製造方法 | |
JP2009059666A (ja) | 透明導電層付フィルムとフレキシブル機能性素子、およびそれらの製造方法 | |
US10067386B2 (en) | Devices comprising convex color converting elements | |
JP2009302029A (ja) | フレキシブル透明導電フィルムとフレキシブル機能性素子およびこれ等の製造方法 | |
CN105446555A (zh) | 纳米银线导电层叠结构及触控面板 | |
CN105489784B (zh) | 柔性导电电极的制备方法及该方法制备的电极及其应用 | |
TW201403635A (zh) | 導電積層體、圖案化導電積層體、其製造方法、及使用彼等而成之觸控面板 | |
CN102208547B (zh) | 一种柔性光电子器件用基板及其制备方法 | |
US20120164317A1 (en) | Method for fabricating polarizer | |
WO2017045355A1 (zh) | 不平坦粒子层制备方法、有机电致发光器件和显示装置 | |
CN108766244A (zh) | 一种柔性显示面板及其制备方法、显示装置 | |
JP2004020746A (ja) | 発光装置用基板およびこれを用いた発光装置 | |
CN105204694A (zh) | 纳米银线触控面板 | |
US8004745B2 (en) | Electronic paper display device and manufacturing method of the same | |
CN109585507A (zh) | 显示装置及其制造方法 | |
CN203930764U (zh) | 纳米银线导电层叠结构及触控面板 | |
JP2009135099A (ja) | フレキシブル透明導電フィルムとフレキシブル機能性素子及びその製造方法 | |
CN203282812U (zh) | 一种印刷版、散射膜层及显示装置 | |
CN105742328A (zh) | 一种显示基板、其制作方法及显示面板 | |
US20210305540A1 (en) | Organic light-emitting device and manufacturing method therefor |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant |