WO2014190689A1 - 印刷版、散射膜层及其制作方法、显示装置 - Google Patents

印刷版、散射膜层及其制作方法、显示装置 Download PDF

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WO2014190689A1
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film layer
printing plate
substrate
nanoparticles
scattering film
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郭远辉
秦锋
王辉
王春
张一三
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合肥京东方光电科技有限公司
京东方科技集团股份有限公司
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    • H10K50/854—Arrangements for extracting light from the devices comprising scattering means

Definitions

  • Embodiments of the present invention relate to a printing plate, a scattering film layer, a manufacturing method thereof, and a display device. Background technique
  • OLED Organic Light Emitting Diode
  • OLED Organic Light Emitting Diode
  • the OLED display device is provided with a light-emitting unit on a substrate, and the light-emitting unit includes two electrodes, and an organic electroluminescent material layer is disposed between the two electrodes.
  • transparent glass is generally used as the substrate, and the refractive index of the glass is generally 1.4-1.5, and the refractive index of the organic electroluminescent material layer is 1.7-1.8, so that the light emitted by the organic electroluminescent material enters through the glass.
  • the external quantum efficiency of the device can only reach 17%. The light extraction efficiency and the external quantum efficiency are low, resulting in problems such as low light efficiency, high power consumption, heat generation of the chip, and short service life.
  • the scattering layer technology has lower cost, less spectral shift, and better external quantum efficiency enhancement effect, which has received widespread attention.
  • the scattering layer technology is provided with a layer of scattering film on the substrate of the OLED display to enhance the external quantum efficiency.
  • the existing scattering film layer has scattering particles embedded in the film, and is limited to the manufacturing process.
  • the scattering particles on the existing scattering film layer are unevenly distributed in the film, and the scattering particles may be stacked in the film to form Multilayer, the wavelength and intensity of light emitted from the surface of the OLED will change due to the angle of the observer, that is, the color shift phenomenon is serious and the display effect is not good.
  • Embodiments of the present invention provide a printing plate, a scattering film layer, a manufacturing method thereof, and a display device, wherein the printing plate can be used to form the scattering film layer, and a groove structure size row on the scattering film layer The cloth is evenly hooked, which can effectively improve the light extraction efficiency and the external quantum efficiency, and improve the display effect.
  • Embodiments of the present invention provide a printing plate having a plurality of protruding structures formed thereon, and the protruding structures have a maximum width of between 1 nm and 1000 nm.
  • the printing plate is used to make a scattering film layer.
  • the protruding structures are evenly arranged in a matrix on the printing plate.
  • the protruding structure is hemispherical.
  • the hemisphere has a diameter between 1 nm and 1000 nm.
  • the material forming the printing plate has a material that has curable shaping properties.
  • the material forming the printing plate is methyl siloxane.
  • Embodiments of the present invention provide a method for fabricating a printing plate, including:
  • the cured film layer is peeled off, and a convex structure having a maximum width of between 1 nm and 1000 nm is formed on the surface of the film layer of the material having the curable shaping property.
  • the material having curable shaping properties is methyl siloxane.
  • the curing of the film layer of the material having the curable shaping property is specifically a light treatment of the methyl siloxane film layer.
  • the groove structure having a maximum width of between 1 nm and 1000 nm on the first substrate comprises:
  • the nanoparticles having shrinkable deformation characteristics are polystyrene nanoparticles.
  • the forming a monomolecular layer of nanoparticles having shrinkable deformation characteristics on the first substrate specifically includes:
  • the shrinkage treatment of the nanoparticles is specifically performed by plasma treatment of the polystyrene nanoparticles.
  • the removing the nanoparticles embedded in the film specifically includes:
  • ultrasonic waves are used to remove the polystyrene nanoparticles embedded in the film.
  • the polystyrene nanoparticles have a diameter between 1 nm and 1000 nm.
  • the first substrate is a silicon wafer or a metal substrate.
  • the material of the film formed on the surface of the first substrate is the same as the material of the first substrate.
  • An embodiment of the present invention provides a scattering film layer, wherein the scattering film layer is formed with a plurality of groove structures, the groove structure has a maximum width of between 1 nm and 1000 nm, and the groove structure passes the present invention. Any of the illustrated printing plates provided by the examples are produced.
  • the groove structures are evenly arranged in a matrix on the scattering film layer.
  • the groove structure is hemispherical.
  • the hemisphere has a diameter between 1 nm and 1000 nm.
  • the material forming the scattering film layer is a material having curable shaping properties.
  • the material forming the scattering film layer is a cured glue.
  • Embodiments of the present invention provide a method for fabricating a scattering film layer, including:
  • the film layer of the material having the curable shaping property is subjected to a curing treatment.
  • the material having curable shaping properties is a cured adhesive.
  • the curing of the film layer of the material having the curable shaping property is specifically performed by ultraviolet light irradiation curing of the curing adhesive.
  • the thickness of the film layer of the material having curable shaping characteristics is not greater than the radius of the convex structure on the printing plate.
  • the printing plate is printed on the film layer of the material having curable shaping properties by using the above-mentioned printing plate, and the maximum width is formed on the surface of the film layer of the material having the curable shaping property.
  • the groove structure between Inm-lOOOnm specifically includes:
  • the printing plate is peeled off, and a groove structure corresponding to the printing plate projection structure is formed on the surface of the film layer of the material having the curable shaping property.
  • the embodiment of the invention provides a display device, comprising: a substrate and a scattering film layer disposed on the substrate, wherein the scattering film layer is a scattering film layer provided by an embodiment of the invention.
  • the scattering film layer is disposed on the light outgoing outer surface of the substrate.
  • a printing plate, a scattering film layer, a manufacturing method thereof, and a display device are provided in the embodiment of the present invention, wherein a plurality of protruding structures are formed on the printing plate, and a maximum width of the protruding structure is between 1 nm and 1000 nm.
  • the protruding structure on the printing plate has a high degree of fineness, and the scattering film layer is obtained by the printing plate printing, and a groove structure opposite to the protruding structure on the printing plate is formed on the scattering film layer, and
  • the groove structure on the scattering film layer is uniformly arranged in size, and is used on an organic light emitting diode display device, which can effectively improve the light extraction efficiency and the external quantum efficiency, and improve the display effect.
  • FIG. 1 is a schematic top plan view of a printing plate according to an embodiment of the present invention.
  • Figure 2 is a side view showing the structure of the printing plate shown in Figure 1;
  • FIG. 3 is a schematic top plan view of a scattering film layer according to an embodiment of the present invention.
  • Figure 4 is a side view showing the structure of the scattering film layer shown in Figure 3;
  • FIG. 5 is a schematic side view showing a structure in which a nanoparticle monolayer is formed on a first substrate
  • FIG. 6 is a schematic plan view showing a nanoparticle monolayer formed on a first substrate
  • FIG. 8 is a schematic top plan view of the nanoparticle after being processed and shrunk
  • Figure 9 is a side elevational view showing the formation of a film on the surface of the first substrate
  • Figure 10 is a schematic view showing the structure of removing nanoparticles in the film shown in Figure 9;
  • Figure 11 is a schematic view showing the formation of a methyl siloxane film layer on the surface of a first substrate having a grooved structure
  • Figure 12 is a schematic view showing the methyl siloxane film layer shown in Figure 14 after being cured and peeled off;
  • Figure 13 is a schematic view showing the formation of a cured adhesive layer on a display screen
  • Figure 14 is a schematic view of printing on a cured adhesive using a printing plate
  • Figure 15 is a schematic view showing the formation of a cured monthly cross-scattering film layer after peeling off the printing plate
  • FIG. 16 is a schematic diagram of a display device according to an embodiment of the present disclosure.
  • the embodiment of the present invention provides a printing plate 34.
  • the printing plate 34 is formed with a plurality of protruding structures 10, and the maximum width of the protruding structures 10 is between 1 nm and 1000 nm. between.
  • the printing plate corresponds to a mold, and a pattern corresponding to the pattern of the printing plate can be obtained by the printing plate.
  • different patterns may be formed on the printing plate.
  • the protruding structure may be other shapes such as a spherical shape or a cubic lattice.
  • the maximum width of the protruding structure refers to the maximum distance between two points on the plane of the protruding structure.
  • the protruding structure is a spherical shape, and the maximum width of the protruding structure is the diameter of the ball; the protruding structure is a cubic shape, and the maximum width of the protruding structure is a cube.
  • the side length of the protruding structure is an irregular shape, and the maximum width of the protruding structure is the maximum distance of the two points connecting the lines on the irregular shape plane.
  • the printing plate is formed with a convex structure, which is mainly used for fabricating a scattering film layer.
  • a printing plate provided by an embodiment of the present invention has a plurality of protruding structures formed on the printing plate, and the groove structure opposite to the protruding structure can be obtained by the printing plate printing.
  • the protruding structure on the printing plate has a maximum width of between 1 nm and 1000 nm, and has a convex structure and can be used for fabricating a scattering film layer of an organic light emitting display device.
  • the production of the scattering film layer by the printing plate not only ensures the fineness of the pattern of the obtained scattering film layer, but also operates the cartridge, effectively improves the production efficiency, and forms a scattering film layer.
  • the groove structure is uniform, which is beneficial to improve light extraction efficiency and external quantum efficiency, and improve display performance.
  • the projecting structures 10 are evenly arranged in a matrix on the printing plate 34.
  • the protruding structures are uniformly arranged in the form of a matrix on the printing plate, which not only means that the arrangement of the protruding structures is uniform, and the protruding structure is uniform in size.
  • the protruding structure 10 is hemispherical.
  • the printing plate is used to form a corresponding shape after printing.
  • the hemisphere has a diameter between 1 nm and 1000 nm. It should be noted that the diameter of the hemisphere is between lnm and 1000 nm, which means that the size of the protruding structure on the printing plate is the same, and the size is between 1 nm and 1000 nm.
  • the tolerance of each hemispherical convex structure on the printing plate in the embodiment of the present invention is, for example, within 100 nm, including 100 nm, which can ensure the fineness of the printed pattern. degree.
  • the material forming the printing plate is a material having curable shaping properties.
  • the material forming the printing plate is methyl siloxane.
  • the printing plate may also be formed of other materials.
  • it may be a material which can be cured by ultraviolet curing such as a urethane resin. The embodiment of the present invention will be described in detail by taking the material forming the printing plate as a methyl siloxane.
  • Embodiments of the present invention provide a method for fabricating a printing plate, including:
  • Step S101 forming a groove structure having a maximum width between 1 nm and 1000 nm on the first substrate.
  • the foregoing step S101 specifically includes:
  • Step S1011 a monolayer of nanoparticles having shrinkable deformation characteristics is formed on the first substrate.
  • the nanoparticles having shrinkable deformation characteristics are polystyrene nanoparticles.
  • the material having shrinkable deformation may also be other nanoparticle materials, such as copper oxide nanoparticles, which may expand and contract with temperature, and the diameter of the copper oxide nanoparticles is between 1 and 100 nm. between.
  • polystyrene is taken as an example for detailed description. As shown in FIGS. 5 and 6, a monolayer of polystyrene nanoparticles 31 is formed on the first substrate 30. And the diameter of the polystyrene nanoparticles is between 1 nm and 1000 nm.
  • the first substrate may be a glass substrate, a metal substrate, a silicon wafer or a silicon dioxide substrate, or the like.
  • the first substrate may be a silicon wafer or a metal substrate.
  • the forming the monomolecular layer of the nanoparticle having the shrinkable deformation property on the first substrate in the above step S1011 specifically includes:
  • Step S10111 forming a mixture of polystyrene nanoparticles, methanol, and a dispersing agent.
  • methanol is a solvent, has a low melting point and contributes to volatilization, and the dispersant helps to promote the arrangement of polystyrene nanoparticles on the surface of the substrate, prevents the accumulation of molecules, and contributes to the formation of a monomolecular layer.
  • Step S10112 the above mixture is coated on the first substrate by spin coating.
  • Coating the above mixture on the first substrate by spin coating ensures that a film layer of uniform thickness is formed between the mixture and the first substrate to form a monolayer of polystyrene nanoparticles, and for example, polyphenylene
  • the ethylene nanoparticles are uniformly arranged in a matrix on the first substrate.
  • a monomolecular layer of polystyrene nanoparticles 31 is formed on the first substrate 30.
  • Step S1012 After the nanoparticles are hooked on the first substrate, the nanoparticles are subjected to shrinkage treatment.
  • the conditions for molecular shrinkage vary according to different materials.
  • nano-molecules of copper oxide expand and contract under changes in temperature.
  • polystyrene nanoparticles are taken as an example for detailed description.
  • the shrinkage treatment of the nanoparticles is specifically performed by plasma treatment of the polystyrene nanoparticles.
  • the plasma treatment of the polystyrene nanoparticles makes the particle size of the polystyrene nanoparticles smaller, and at the same time, the adhesion of the polystyrene nanoparticles to the surface of the first substrate can be enhanced, as shown in FIG. 7 and FIG.
  • the particle diameter of the polystyrene nanoparticles 31 becomes small, and a certain gap is formed between the nanoparticles which originally contact each other.
  • Step S1013 forming a film on the surface of the first substrate, the film having a thickness not larger than the diameter of the nanoparticles.
  • the nanoparticles are shrink-deformed, a certain gap is formed between the nanoparticles that originally contact each other, and a thin film is formed on the nanoparticles, and the nanoparticles are embedded in the film.
  • FIG. 9 after the plasma treatment of the polystyrene nanoparticles 31, there is a gap between the polystyrene nanoparticles 31, and a thin film 32 is formed on the first substrate 30, and the polystyrene nanoparticles 31 are embedded in the thin film 32.
  • the material of the film formed on the surface of the first substrate is the same as the material of the first substrate.
  • the film material may be silicon oxide, so that the adhesion between the first film and the first substrate is better, so that the film is not easily peeled off from the surface of the first substrate at the time of preparation of the printing plate.
  • the first substrate is a metal substrate, and the material forming the film may be Metal oxides, etc.
  • the thickness of the film is not greater than the diameter of the nanoparticles, which is advantageous for the next step of removing the nanoparticles embedded in the film layer.
  • the first substrate may be placed in a vacuum box, and a film may be formed on the surface of the first substrate by evaporation or deposition.
  • Step S1014 removing the nanoparticles embedded in the film.
  • the polystyrene nanoparticles embedded in the film 32 are removed, as shown in FIG.
  • a groove structure is formed at a position corresponding to the polystyrene nanoparticles on the 32.
  • the removing the nanoparticles embedded in the film layer specifically comprises: removing the polystyrene nanoparticles by ultrasonic waves in the liquid.
  • the effect of ultrasonic wave propagation in a liquid medium is good.
  • the first substrate is immersed in a mixed solution of ethanol and/or isopropanol, and ultrasonic waves are used to remove the polystyrene nanoparticles. Since the nanoparticles are embedded in the film layer and the nanoparticles are removed, a plurality of groove structures are formed on the film.
  • the method for forming the groove structure on the substrate may be formed by other methods.
  • the embodiment of the present invention is described in detail by taking the above method as an example.
  • Step S102 forming a film layer of a material having a curable shaping property on a side of the first substrate on which the groove structure is provided.
  • the material having curable shaping properties is methyl siloxane.
  • a methylsiloxane film layer 33 is formed on the surface of the first substrate on which the groove structure is prepared, at the position of the groove structure in which the methylsiloxane is filled.
  • the material having curable shaping properties may be other materials such as a urethane resin or the like.
  • the methyl siloxane is low in cost, uses a single cartridge, and has good chemical inertness.
  • a methyl siloxane is used as an example for detailed description.
  • a methyl siloxane film layer is formed on the substrate having a groove structure by pouring, so that there is no bubble between the formed methyl siloxane film layer and the first substrate. Due to the bubbles on the printing plate, the printed product may also have bubbles, the uniformity of the formed grooves is affected, and the grooves may not be formed due to the bubbles.
  • Step S103 curing the film layer of the material having curable shaping properties.
  • the curing treatment of the film layer of the material having curable shaping properties is specifically to irradiate the methyl siloxane film layer with light treatment.
  • another curing treatment such as heat curing of the methylsiloxane film layer.
  • the photocuring of the methyl siloxane is exemplified in detail. After the methylsiloxane cross-links and cures, it is not only advantageous for the next peeling, but also the methylsiloxane after cross-linking curing is not easily deformed.
  • Step S104 peeling off the cured film layer, and forming a convex structure having a maximum width between 1 nm and 1000 nm on the surface of the film layer of the material having curable shaping properties.
  • a convex structure 10 having a maximum width of between 1 nm and 1000 nm is formed at a position corresponding to the groove structure on the substrate.
  • the methyl siloxane after the peeling forms a printing plate 34.
  • the embodiment of the present invention provides a scattering film layer 42. As shown in FIG. 3 and FIG. 4, the scattering film layer 42 is formed with a plurality of groove structures 20, and the maximum width of the groove structure 20 is 1 nm- Between 1000 nm, and the groove structure is produced by the printing plate printing provided by the embodiment of the present invention.
  • a scattering film layer is formed on the scattering film layer, and a maximum width of the groove structure is between 1 nm and 1000 nm, and a groove structure fineness on the scattering film layer is provided. high.
  • the scattering film layer can be used for an OLED display screen, and the groove structure not only helps to reduce total reflection, destroys the microcavity effect of the OLED, increases the light extraction efficiency of the OLED, and the groove structure on the scattering film layer
  • the form of the matrix is evenly arranged, so that the wavelength and intensity of the light emitted from the surface of the OLED are not changed by the change of the angle of the observer, the color shift phenomenon is reduced, and the display effect is improved.
  • the scattering film layer is obtained by printing plate printing, and the scattering film layer is formed by a method such as coating, and the manufacturing process is simple, the production efficiency is improved, and the printing plate can be repeatedly used. It saves the cost of production and can also be used to form a larger size scattering film layer.
  • the groove structures 20 are evenly arranged in a matrix on the scattering film layer 42.
  • the groove structure 20 is hemispherical. It should be noted that the groove structure is obtained by printing plate printing, and the shape of the groove structure corresponds to the shape of the protruding structure on the printing plate, and the protruding structure on the printing plate. The groove structure on the scattering film layer formed by the printing plate is also hemispherical in shape.
  • the hemisphere has a diameter between 1 nm and 1000 nm. It should be noted that the diameter of the hemisphere is affected by the diameter of the hemisphere of the convex structure on the printing plate, the thickness of the film layer, and the like.
  • the diameter of the hemisphere of the protruding structure on the printing plate is 300 nm, and if the thickness of the film layer is smaller than the radius of the hemisphere of the protruding structure, the diameter of the groove structure formed is slightly less than 300 nm.
  • the distribution and size of the hemispherical convex structure on the printing plate are uniform, the distribution and size of the hemispherical groove structure formed by the printing plate are also uniform, thereby improving the display effect.
  • the diameter of the groove structure on the scattering film layer is between 1 nm and 1000 nm, and the fineness thereof is high, which is more favorable for improving light extraction efficiency.
  • the material forming the scattering film layer is a material having curable shaping properties.
  • the scattering film layer is made of a material that is transparent and curable, so that the loss of light transmission through the scattering film layer can be reduced.
  • the material forming the scattering film layer may not be transparent.
  • the material having curable shaping properties may be a polymer material having good transparency and curable.
  • the material forming the scattering film layer is a cured glue.
  • the cured adhesive not only has good transparency, but also has good adhesion, and can be prevented from falling off after being formed on the substrate.
  • the embodiment of the present invention is described in detail by taking the material forming the scattering film layer as a curing glue as an example.
  • Embodiments of the present invention provide a method for fabricating a scattering film layer, including:
  • Step S201 making a printing plate.
  • the printing plate is formed with a plurality of protruding structures, and the protruding structure has a maximum width of between 1 nm and 1000 nm. Further, the protruding structure is hemispherical, and the diameter of the hemisphere is between 1 nm and 1000 nm, and the protruding structures are uniformly arranged in a matrix on the printing plate.
  • the protruding structure is hemispherical, and the diameter of the hemisphere is between 1 nm and 1000 nm, and the protruding structures are uniformly arranged in a matrix on the printing plate.
  • Step S202 forming a film layer of a material having curable shaping properties on the second substrate.
  • the second substrate may be a substrate not provided with other thin films, or may be a substrate provided with other film layers on the substrate.
  • a material having curable shaping properties is formed on the second substrate.
  • the film layer that is, a film layer having a material having curable shaping properties formed on the film layer on the substrate.
  • the second substrate may also be another panel having a planar structure, such as a display screen, etc., wherein the film layer having a material having curable shaping properties is formed on the second substrate, that is, the light emitting surface of the display screen A film layer of a material having curable shaping properties is formed thereon.
  • the film layer of the material having the curable shaping property formed on the second substrate is subjected to a subsequent production process, and the film layer forms a scattering film layer.
  • the film layer may be formed on a side of the cathode or anode of the substrate away from the luminescent material, or may be directly formed on the light-emitting outer surface of the OLED display.
  • the material having curable shaping properties is a cured glue. As shown in FIG. 13, a curing adhesive 41 is formed on the light-emitting outer surface of the OLED display panel 40.
  • the thickness of the film layer of the material having curable shaping properties is not greater than the radius of the protruding structure on the printing plate.
  • the thickness of the film layer thus formed is smaller than the radius of the convex structure on the printing plate.
  • the groove structure formed on the film layer is directly in contact with the second substrate, and the display brightness is large.
  • the thickness of the cured adhesive layer may also be larger than that on the printing plate.
  • the radius of the structure is such that the groove structure formed on the scattering film layer may be provided with a curing glue between the second substrate, and the adhesion between the scattering film layer and the second substrate is good and is not easy to fall off.
  • Step S203 printing on the film layer of the material having curable shaping properties by using the printing plate, forming a concave having a maximum width between 1 nm and 1000 nm on the surface of the film having the curable shaping property Slot structure.
  • step S203 includes:
  • Step S2031 A side on which the printing plate is formed with the convex structure is bonded to the film layer of the material having the curable molding property.
  • one side of the printing plate 34 provided with the projecting structure is opposed to the curing adhesive 41, and the printing plate 34 is pressed against the curing adhesive 41.
  • Step S2032 the printing plate is peeled off, and a groove structure corresponding to the printing plate convex structure is formed on the surface of the film layer of the material having the curable shaping property.
  • Step S204 curing a film layer of the material having curable shaping properties.
  • the material forming the film layer is a curing glue
  • the film layer of the material having the curable shaping property is cured, specifically, curing the curing glue by ultraviolet light irradiation.
  • it is also possible to perform other curing treatment such as heat curing of the cured adhesive.
  • the various grooves formed on the surface of the cured adhesive are not easily deformed.
  • the cured cured adhesive is formed as a scattering film layer 42.
  • the embodiment of the present invention provides a display device, including: a substrate and a scattering film layer disposed on the substrate, wherein the scattering film layer is any of the scattering film layers provided by the embodiments of the present invention.
  • the OLED display device is classified into a bottom emission type organic light emitting display device and a top emission type organic light emitting display device according to the direction of light emission.
  • the OLED display device includes a transparent substrate 11 and an anode electrode layer 12, a light-emitting layer 13, and a reflective cathode electrode layer 14 which are sequentially disposed on the transparent substrate 11, and the light is emitted from the transparent substrate 11 side.
  • the bottom emission type conversely, the light is emitted from the reflective cathode side to the top emission type.
  • the display device provided by the embodiment of the present invention may be any display device.
  • the display device is provided with a scattering film layer, which can reduce the total reflection of the OLED light-emitting surface and the air, reduce the micro-cavity effect, and improve the OLED. External quantum efficiency.
  • the display device may be a display device such as an OLED display panel, an OLED display, or any display product or component such as a television, a digital camera, a mobile phone, a tablet computer, or the like including the display device.
  • the display device is a bottom emission type organic light emitting display device.
  • the bottom emission type organic light-emitting display device includes a transparent substrate 11 and an anode electrode layer 12, a light-emitting layer 13, and a reflective cathode electrode layer 14 which are sequentially disposed on the transparent substrate 11.
  • the scattering film layer may be disposed on either side of the transparent substrate 11 of the display device.
  • the scattering film layer may be provided on the side where the transparent substrate is provided with the electrode, or may be the side on which the transparent substrate is not provided with the electrode layer, that is, the side of the light-emitting outer surface of the transparent substrate.
  • the scattering film layer 42 is disposed on the light-emitting outer surface of the transparent substrate 11.
  • a scattering film layer can be further formed on the existing prepared display screen to operate the single sheet.

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Abstract

提供了一种印刷版（34）、散射膜层（42）及其制作方法、以及显示装置（40）。所述印刷版上形成有多个凸出结构（10），所述凸出结构的最大宽度在1nm-1000nm之间。所述散射膜层通过所述印刷版印刷制得，且其上形成有与印刷版上的凸出结构相对应的凹槽结构（20）。所述散射膜层用于有机发光显示装置上，可以有效提高光取出效率及外量子效率，改善显示效果。

Description

印刷版、 散射膜层及其制作方法、 显示装置 技术领域
本发明实施例涉及一种印刷版、 散射膜层及其制作方法、 显示装置。 背景技术
OLED ( Organic Light Emitting Diode, 有机发光二极管）显示屏由于同 时具备自发光， 不需背光源、 对比度高、 厚度薄、 视角广、 反应速度快、 可 用于挠曲性面板、 使用温度范围广、 构造及制程筒单等优异特性， 被认为是 下一代平面显示器的新兴技术。
OLED显示装置是在基板上设置发光单元， 发光单元包括两个电极， 在 两个电极之间设置有机电致发光材料层。 现有技术中， 一般采用透明玻璃作 为基板， 而玻璃的折射率一般为 1.4-1.5 , 有机电致发光材料层的折射率为 1.7-1.8, 因此有机电致发光材料通电发出的光经玻璃进入空气时， 由于全反 射会有大部分的光线局限在有机电致发光材料层中， 只有约 20%的光子能够 射出 OLED 器件， 器件的外量子效率最大只能达到 17%。 光取出效率及外 量子效率低， 导致器件光效低、 功耗大、 芯片发热、 使用寿命短等问题。
现有技术中， 提升 OLED显示屏的光取出率的技术有多种， 包括： 微透 镜技术、 光子晶体技术、 纳米线技术、 散射层技术、 微腔共振技术等。 其中 散射层技术成本较低、 光谱偏移较少， 而且外量子效率增强效果较好， 受到 人们广泛关注。散射层技术是在 OLED显示屏的基板上设置有一层散射膜层， 用以增强外量子效率。 现有的散射膜层是在薄膜内嵌设有散射粒子， 受限于 制作工艺， 现有的散射膜层上散射粒子在薄膜内分布不均勾， 且散射粒子可 能在薄膜内叠置， 形成多层， 从 OLED表面射出的光的波长和强度会因观察 者的角度变化而变化， 即色偏现象严重， 显示效果不佳。 发明内容
本发明的实施例提供一种印刷版、 散射膜层及其制作方法、 显示装置， 所述印刷版可用于形成所述散射膜层， 且所述散射膜层上的凹槽结构大小排 布均勾， 可以有效提高光取出效率及外量子效率， 改善显示效果。
本发明实施例提供了一种印刷版， 所述印刷版上形成有多个凸出结构， 所述凸出结构的最大宽度在 lnm-1000nm之间。
例如， 所述印刷版用于制作散射膜层。
例如， 所述凸出结构在所述印刷版上以矩阵的形式均匀排布。
例如， 所述凸出结构为半球形。
例如， 所述半球的直径在 lnm-1000nm之间。
例如， 形成所述印刷版的材料具有可固化塑形特性的材料。
例如， 形成所述印刷版的材料为甲基硅氧烷。
本发明实施例提供了一种印刷版的制作方法， 包括：
在第一基板上制作最大宽度在 Inm-lOOOnm之间的凹槽结构；
在上述第一基板设置有凹槽结构的一面形成具有可固化塑形特性的材料 的膜层；
对所述具有可固化塑形特性的材料的膜层进行固化处理；
将固化后的膜层剥离， 在所述具有可固化塑形特性的材料的膜层表面形 成最大宽度在 lnm-1000nm之间的凸出结构。
例如， 所述具有可固化塑形特性的材料为甲基硅氧烷。
例如， 所述对所述具有可固化塑形特性的材料的膜层进行固化处理具体 为对甲基硅氧烷膜层进行光照处理。
例如， 所述在第一基板上制作最大宽度在 lnm-1000nm之间凹槽结构具 体包括：
在第一基板上形成具有可收缩变形特性的纳米粒子的单分子层； 待上述纳米粒子在第一基板上均勾铺开之后， 对上述纳米粒子进行收缩 处理；
在第一基板表面形成一层薄膜,所述薄膜的厚度不大于纳米粒子的直径； 去除所述薄膜层内嵌设的纳米粒子。
例如， 所述具有可收缩变形特性的纳米粒子为聚苯乙烯纳米粒子。
例如， 所述在第一基板上形成具有可收缩变形特性的纳米粒子的单分子 层具体包括：
形成聚苯乙烯纳米粒子、 甲醇和分散剂的混合物； 通过旋涂的方式将上述混合物涂覆在第一基板上。
例如， 对纳米粒子进行收缩处理具体为对聚苯乙烯纳米粒子进行等离子 处理。
例如， 所述去除所述薄膜内嵌设的纳米粒子具体包括：
在液体中， 采用超声波去除薄膜内嵌设的聚苯乙烯纳米粒子。
例如， 所述聚苯乙烯纳米粒子的直径在 lnm-1000nm之间。
例如， 所述第一基板为硅片或金属基板。
例如， 在第一基板表面形成的薄膜的材料与所述第一基板的材料相同。 本发明实施例提供了一种散射膜层， 所述散射膜层上形成有多个凹槽结 构， 所述凹槽结构的最大宽度在 lnm-1000nm之间， 且所述凹槽结构通过本 发明实施例提供的任一所述的印刷版印刷制得。
例如， 所述凹槽结构在所述散射膜层上以矩阵的形式均匀排布。
例如， 所述凹槽结构为半球形。
例如， 所述半球的直径在 lnm-1000nm之间。
例如， 形成所述散射膜层的材料为具有可固化塑形特性的材料。
例如， 形成所述散射膜层的材料为固化胶。
本发明实施例提供了一种散射膜层的制作方法， 包括：
制作印刷版；
在第二基板上形成具有可固化塑形特性的材料的膜层；
利用上述印刷版在所述具有可固化塑形特性的材料的膜层上印刷， 在所 述具有可固化塑形特性的材料的膜层表面形成最大宽度在 lnm-1000nm之间 的凹槽结构；
对所述具有可固化塑形特性的材料的膜层进行固化处理。
例如， 所述具有可固化塑形特性的材料为固化胶。
例如， 所述对所述具有可固化塑形特性的材料的膜层进行固化处理具体 为对固化胶进行紫外光照射固化。
例如， 所述具有可固化塑形特性的材料的膜层的厚度不大于印刷版上凸 出结构的半径。
例如， 所述利用上述印刷版在所述具有可固化塑形特性的材料的膜层上 印刷， 在所述具有可固化塑形特性的材料的膜层表面形成最大宽度在 Inm-lOOOnm之间的凹槽结构具体包括：
将印刷版形成有凸出结构的一面与所述具有可固化塑形特性的材料的膜 层对合；
将印刷版剥离， 在所述具有可固化塑形特性的材料的膜层表面形成与印 刷版凸出结构相对应的凹槽结构。
本发明实施例提供了一种显示装置， 包括： 基板以及设置在所述基板上 的散射膜层， 其中， 所述散射膜层为本发明实施例提供的散射膜层。
例如， 所述散射膜层设置在所述基板的出光外表面上。
本发明实施例提供的一种印刷版、 散射膜层及其制作方法、 显示装置， 所述印刷版上形成有多个凸出结构， 且所述凸出结构的最大宽度在 lnm-1000nm之间， 所述印刷版上的凸出结构精细度高， 所述散射膜层通过 所述印刷版印刷制得， 散射膜层上形成有与印刷版上的凸出结构相对的凹槽 结构， 且所述散射膜层上的凹槽结构大小排布均匀， 用于有机发光二极管显 示装置上， 可以有效的提高光取出效率及外量子效率， 改善显示效果。 附图说明
图 1为本发明实施例提供的一种印刷版的俯视结构示意图；
图 2为图 1所示的印刷版的侧视结构示意图；
图 3为本发明实施例提供的一种散射膜层的俯视结构示意图；
图 4为图 3所示的散射膜层的侧视结构示意图；
图 5为在第一基板上形成纳米粒子单分子层的侧视结构示意图； 图 6为在第一基板上形成纳米粒子单分子层的俯视结构示意图； 图 7为对纳米粒子进行处理收缩后的侧视结构示意图；
图 8为对纳米粒子进行处理收缩后的俯视结构示意图；
图 9为在第一基板表面上形成一层薄膜的侧视结构示意图；
图 10为去除图 9所示的薄膜中的纳米粒子的结构示意图；
图 11为在制备有凹槽结构的第一基板表面形成甲基硅氧烷膜层示意图; 图 12为将图 14所示的甲基硅氧烷膜层固化剥离后的示意图；
图 13为在显示屏上形成固化胶层的示意图；
图 14为利用印刷版在固化胶上印刷的示意图； 图 15为将印刷版剥离后形成固化月交散射膜层的示意图；
图 16为本发明实施例提供的一种显示装置示意图；
附图标记：
10-凸出结构； 11-透明基板； 12-阳极电极层； 13-发光层； 14-阴极电极 层； 20-凹槽结构； 30-第一基板； 31-聚苯乙烯纳米粒子； 32-薄膜； 33-甲基 硅氧烷膜层； 34-印刷版； 40-显示屏； 41-固化胶； 42-散射膜层。 具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图， 对本发明实施例中的技术方案进行 清楚、 完整地描述， 显然， 所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例， 而 不是全部的实施例。
本发明实施例提供了一种印刷版 34, 如图 1、 图 2所示， 所述印刷版 34 上形成有多个凸出结构 10, 所述凸出结构 10的最大宽度在 lnm-1000nm之 间。
需要说明的是， 所述印刷版相当于模具， 通过该印刷版可以得到与该印 刷版的图案相对应的图案。 根据形成的印刷版的用途和方法， 在所述印刷版 上可形成不同的图案， 例如， 所述凸出结构可以是圓球形也可以是立方晶格 等其他形状。所述凸出结构的最大宽度是指凸出结构平面上两点的最大距离。 例如， 所述凸出结构为圓球型， 则所述凸出结构的最大宽度即为所述圓球的 直径； 所述凸出结构为立方体形状， 则所述凸出结构的最大宽度为立方体的 边长； 所述凸出结构为不规则形状， 则所述凸出结构的最大宽度为不规则形 状平面上两点连线的最大距离。 本发明实施例中， 所述印刷版上形成有凸出 结构， 主要用于制作散射膜层。
本发明实施例提供的一种印刷版， 所述印刷版上形成有多个凸出结构， 利用所述印刷版印刷可以得到与所述凸出结构相对的凹槽结构。 所述印刷版 上的凸出结构的最大宽度在 lnm-1000nm之间， 其凸出结构精细， 可用于制 作有机发光显示器件的散射膜层。 且相对于传统的膜层的制作方法， 通过印 刷版制作散射膜层不仅可以保证得到的散射膜层的图案的精细度， 且操作筒 单， 有效提高生产效率， 且形成的散射膜层上的凹槽结构均匀， 有利于提高 光取出效率及外量子效率， 改善显示效果。 例如， 如图 1、 图 2所示， 所述凸出结构 10在所述印刷版 34上以矩阵 的形式均匀排布。 需要说明的是， 所述凸出结构在所述印刷版上以矩阵的形 式均匀排布， 不仅是指所述凸出结构的排列均匀， 同时所述凸出结构大小均 匀。
例如， 如图 1、 图 2所示， 所述凸出结构 10为半球形。 当所述凸出结构 所述凸出结构也可以是其他形状， 则所述印刷版用于印刷之后形成相应的形 状。
例如， 所述半球的直径在 lnm-1000nm之间。 需要说明的是， 所述半球 的直径在 lnm-1000nm之间， 是指所述印刷版上的凸出结构的大小相同， 其 大小在 lnm-1000nm之间。但由于制作工艺的限制，在制作时必然存在误差， 因此， 本发明实施例中印刷版上的各半球形凸出结构误差允许范围例如在 lOOnm之内， 包括 lOOnm, 这样可以保证印刷图案的精细度。
例如， 形成所述印刷版的材料为具有可固化塑形特性的材料。 例如， 所 述形成印刷版的材料为甲基硅氧烷。 当然， 所述印刷版还可以是由其他材料 形成的。 例如还可以是聚氨酯类树脂等可紫外线固化塑形的材料。 本发明实 施例以形成所述印刷版的材料为甲基硅氧烷为例进行详细说明。
本发明实施例提供了一种印刷版的制作方法， 包括：
步骤 S101、在第一基板上制作最大宽度在 lnm-1000nm之间的凹槽结构。 例如， 上述步骤 S101具体包括：
步骤 S1011、 在第一基板上形成具有可收缩变形特性的纳米粒子的单分 子层。
具体的， 所述具有可收缩变形特性的纳米粒子为聚苯乙烯纳米粒子。 当 然， 所述具有可收缩变形的物质还可以是其他纳米粒子物质， 例如可以是氧 化铜纳米粒子， 氧化铜可以随着温度的变化膨胀和收缩， 且氧化铜纳米粒子 的直径在 l-100nm之间。 本发明实施例中以聚苯乙烯为例进行详细说明。 如 图 5、 图 6所示， 在第一基板 30上形成聚苯乙烯纳米粒子 31的单分子层。 且所述聚苯乙烯纳米粒子的直径在 lnm-1000nm之间。 所述第一基板可以是 玻璃基板、 金属基板、 硅片或二氧化硅基板等。 例如， 所述第一基板可以为 硅片或金属基板。 上述步骤 S1011所述在第一基板上形成具有可收缩变形特性的纳米粒子 的单分子层具体包括：
步骤 S10111、 形成聚苯乙烯纳米粒子、 甲醇和分散剂的混合物。
其中， 甲醇是溶剂， 熔点低且有助于挥发， 分散剂有助于提升聚苯乙烯 纳米粒子在基板表面的排布， 防止分子的堆积， 有助于形成单分子层。
步骤 S10112、 通过旋涂的方式将上述混合物涂覆在第一基板上。
通过旋涂的方式将上述混合物涂覆在第一基板上可以保证混合物与第一 基板之间形成一层厚度均勾的膜层， 形成聚苯乙烯纳米粒子的单分子层， 且 例如使得聚苯乙烯纳米粒子在第一基板上以矩阵的形式均匀排布。 如图 5、 图 6所示， 在第一基板 30上形成有聚苯乙烯纳米粒子 31的单分子层。
步骤 S1012、 待上述纳米粒子在第一基板上均勾铺开之后， 对上述纳米 粒子进行收缩处理。
需要说明的是， 根据不同的材料， 其分子收缩的条件也不相同。 例如氧 化铜的纳米分子是在温度的变化下膨胀和收缩。 本发明实施例中以聚苯乙烯 纳米粒子为例进行详细说明。 具体的， 对纳米粒子进行收缩处理具体为对聚 苯乙烯纳米粒子进行等离子处理。 对聚苯乙烯纳米粒子进行等离子处理， 使 聚苯乙烯纳米粒子的粒径变小， 同时可以增强聚苯乙烯纳米粒子与第一基板 表面的粘着力， 如图 7、 图 8所示， 经等离子处理之后收缩， 聚苯乙烯纳米 粒子 31的粒径变小， 原来相互接触的纳米粒子之间形成一定的空隙。
步骤 S1013、 在第一基板表面形成一层薄膜， 所述薄膜的厚度不大于纳 米粒子的直径。
需要说明的是， 纳米粒子收缩变形之后， 原来相互接触的纳米粒子之间 均形成一定空隙，在纳米粒子上形成一层薄膜，纳米粒子内嵌在所述薄膜内。 如图 9所示， 聚苯乙烯纳米粒子 31经等离子处理之后， 聚苯乙烯纳米粒子 31之间存在缝隙， 在第一基板 30上形成薄膜 32, 则聚苯乙烯纳米粒子 31 嵌设在薄膜 32内。例如，在第一基板表面形成的薄膜的材料与所述第一基板 的材料相同。 例如第一基板采用硅片， 则薄膜材料可以为氧化硅， 这样第一 薄膜与第一基板的粘着性能较好， 使得后期在制备印刷版的时候该薄膜不容 易从第一基板表面剥离。 当然， 还可以是采用性质相同的其他材料形成所述 基板和薄膜。 例如所述第一基板为金属基板， 则形成所述薄膜的材料可以为 金属氧化物等。 所述薄膜的厚度不大于所述纳米粒子的直径， 这样有利于下 一步去除薄膜层内嵌设的纳米粒子。 具体的， 可以将第一基板放入真空箱， 在第一基板表面通过蒸镀或沉积的方法形成一层薄膜。
步骤 S1014、 去除所述薄膜内嵌设的纳米粒子。
去除薄膜 32内嵌设的聚苯乙烯纳米粒子， 则如图 10所示， 在所述薄膜
32上对应聚苯乙烯纳米粒子的位置处形成 槽结构。 具体的， 所述去除所述 薄膜层内嵌设的纳米粒子具体包括： 在液体中， 采用超声波去除聚苯乙烯纳 米粒子。 超声波在液体媒介中传播的作用效果好， 具体的， 将第一基板浸泡 在乙醇和 /或异丙醇的混合溶液中， 再采用超声波去除聚苯乙烯纳米粒子。 由 于纳米粒子嵌设在薄膜层内， 去除所述纳米粒子， 则在薄膜上形成多个凹槽 结构。
需要说明的是， 在基板上制作凹槽结构还可以是采用其他的方式形成， 本发明实施例以上述方法为例进行详细说明。
步骤 S102、在上述第一基板设置有凹槽结构的一面形成具有可固化塑形 特性的材料的膜层。
具体的， 所述具有可固化塑形特性的材料为甲基硅氧烷。 如图 11所示， 在上述制备有凹槽结构的第一基板表面上形成甲基硅氧烷膜层 33 ,则甲基硅 氧烷填充的凹槽结构的位置处。 当然， 所述具有可固化塑形特性的材料还可 以是其他的物质， 例如可以是聚氨酯类树脂等。 但甲基硅氧烷成本低、 使用 筒单且有良好的化学惰性， 本发明实施例中以采用甲基硅氧烷为例进行详细 说明。 例如， 采用浇筑的方式在有凹槽结构的基板上形成甲基硅氧烷膜层， 这样可以保证形成的甲基硅氧烷膜层与第一基板之间没有气泡。 由于印刷版 上的气泡， 可能使得经印刷版印刷出来的产品也有气泡， 形成的凹槽的均匀 性受到影响， 而且可能由于气泡不能形成凹槽等。
步骤 S103、 对所述具有可固化塑形特性的材料的膜层进行固化处理。 所述对所述具有可固化塑形特性的材料的膜层进行固化处理具体为对甲 基硅氧烷膜层进行光照处理。 当然， 还可以是对甲基硅氧烷膜层进行加热固 化等其他的固化处理。 本发明实施例中以对所述甲基硅氧烷进行光照固化为 例进行详细说明。 甲基硅氧烷交联固化之后， 不仅有利于下一步的剥离， 且 交联固化后的甲基硅氧烷不易变形。 步骤 S104、将固化后的膜层剥离， 在所述具有可固化塑形特性的材料的 膜层表面形成最大宽度在 lnm-1000nm之间的凸出结构。
如图 12所示， 由于甲基硅氧烷是涂覆在凹槽结构的基板上的，则在基板 上的凹槽结构对应的位置处形成最大宽度在 lnm-1000nm之间的凸出结构 10, 剥离之后的甲基硅氧烷即形成印刷版 34。 本发明实施例提供了一种散射 膜层 42, 如图 3、 图 4所示， 所述散射膜层 42上形成有多个凹槽结构 20, 所述凹槽结构 20的最大宽度在 lnm-1000nm之间，且所述凹槽结构通过本发 明实施例提供所述的印刷版印刷制得。
本发明实施例提供的一种散射膜层，所述散射膜层上形成多个凹槽结构， 所述凹槽结构的最大宽度在 lnm-1000nm之间， 散射膜层上的凹槽结构精细 度高。 所述散射膜层可用于 OLED显示屏， 通过所述凹槽结构不仅有助于减 少全反射， 破坏 OLED的微腔效应， 增加 OLED的出光效率， 而且所述散射 膜层上的凹槽结构以矩阵的形式均匀排布，使得从 OLED表面射出的光的波 长和强度不会受观察者角度的改变而发生改变， 减少色偏现象， 提升显示效 果。 所述散射膜层是通过印刷版印刷制得的， 则相对于现有的通过涂覆等方 法形成散射膜层， 其制作工艺筒单， 提高了生产的效率， 且所述印刷版可以 重复使用， 节省了生产的成本， 还可以用于形成更大尺寸散射膜层。
例如， 如图 3所示， 所述凹槽结构 20在所述散射膜层 42上以矩阵的形 式均匀排布。
例如， 如图 3所示， 所述凹槽结构 20为半球形。 需要说明的是， 所述凹 槽结构是通过印刷版印刷制得的， 则所述 槽结构的形状与印刷版上的凸出 结构的形状是对应的， 所述印刷版上的凸出结构的形状为半球形则经所述印 刷版制得的散射膜层上的凹槽结构也为半球形。
例如， 所述半球的直径在 lnm-1000nm之间。 需要说明的是， 所述半球 形的直径受印刷版上凸出结构的半球的直径以及膜层厚度等的影响。 例如所 述印刷版上凸出结构的半球的直径为 300nm, 若所述膜层的厚度小于所述凸 出结构的半球的半径， 则形成的凹槽结构的直径略小于 300nm。 由于印刷版 上的半球形凸出结构分布及大小均匀， 则通过所述印刷版形成的半球形凹槽 结构的分布及大小也均匀， 进而可以提升显示效果。 且所述散射膜层上的凹 槽结构的直径在 lnm-1000nm之间，其精细度高， 更有利于提升光取出效率。 例如， 形成所述散射膜层的材料为具有可固化塑形特性的材料。 例如， 所述散射膜层采用透明可固化塑形特性的材料， 这样可以减少光透过散射膜 层的损失。 当然， 形成所述散射膜层的材料也可以不是透明的。 例如所述具 有可固化塑形特性的材料可以是透明性良好、可固化的高分子材料等。例如， 形成所述散射膜层的材料为固化胶。 固化胶不仅透明性好， 而且粘性好， 可 以保证在基板上形成后不易脱落。 本发明实施例以形成所述散射膜层的材料 为固化胶为例进行详细说明。
本发明实施例提供了一种散射膜层的制作方法， 包括：
步骤 S201、 制作印刷版。
具体的， 所述印刷版上形成有多个凸出结构， 所述凸出结构的最大宽度 在 lnm-1000nm之间。 进一步的， 所述凸出结构为半球形， 且所述半球的直 径在 lnm-1000nm之间， 所述凸出结构在所述印刷版上以矩阵的形式均匀排 布。 制作所述印刷版可以参照上述步骤 S101-步骤 S104。
当然， 制作印刷版还可以是采用其他的方法， 本发明实施例对制作印刷 版的具体方法不作具体限制。
步骤 S202、 在第二基板上形成具有可固化塑形特性的材料的膜层。
需要说明的是， 所述第二基板可以是未设置其他薄膜的基板， 也可以是 在基板上设置有其他膜层的基板， 此时， 在第二基板上形成具有可固化塑形 特性的材料的膜层， 即在基板上的膜层上形成具有可固化塑形特性的材料的 膜层。 所述第二基板还可以是其他具有平面结构的面板， 例如可以是显示屏 等， 则所述在第二基板上形成具有可固化塑形特性的材料的膜层， 即在显示 屏的出光面上形成具有可固化塑形特性的材料的膜层。 且在第二基板上形成 的具有可固化塑形特性的材料的膜层经后续制作工序，该膜层形成散射膜层。 以 OLED显示屏为例， 该膜层可以形成在基板阴极或阳极远离发光材料的一 侧， 还可以直接形成在 OLED显示屏的出光外表面上。 所述具有可固化塑形 特性的材料为固化胶。 如图 13所示， OLED显示屏 40的出光外表面上形成 固化胶 41。所述具有可固化塑形特性的材料的膜层的厚度不大于印刷版上凸 出结构的半径。 这样形成的膜层的厚度小于印刷版上凸出结构的半径， 则经 印刷版印刷之后，如图 15所示，在该膜层上形成的凹槽结构直接与第二基板 接触， 显示亮度大。 当然， 所述固化胶层的厚度也可以是大于印刷版上凸出 结构的半径， 这样， 形成散射膜层上的凹槽结构可能与第二基板之间设置有 固化胶， 散射膜层与第二基板的黏着性好， 不易脱落。
步骤 S203、利用上述印刷版在所述具有可固化塑形特性的材料的膜层上 印刷， 在所述具有可固化塑形特性的材料的膜层表面形成最大宽度在 lnm-1000nm之间的凹槽结构。
具体的， 上述步骤 S203包括：
步骤 S2031、 将印刷版形成有凸出结构的一面与所述具有可固化塑形特 性的材料的膜层对合。
如图 14所示，将印刷版 34设置有凸出结构的一面与固化胶 41相对， 印 刷版 34压合在固化胶 41上面。
步骤 S2032、 将印刷版剥离， 在所述具有可固化塑形特性的材料的膜层 表面形成与印刷版凸出结构相对应的凹槽结构。
如图 15所示， 将印刷版 34剥离之后， 在固化胶表面形成多个凹槽。 步骤 S204、 对所述具有可固化塑形特性的材料的膜层进行固化处理。 具体的， 形成所述膜层的材料为固化胶， 则所述对所述具有可固化塑形 特性的材料的膜层进行固化处理具体为对固化胶进行紫外光照射固化。当然， 还可以是对所述固化胶进行加热固化等其他固化处理。对材料进行固化之后， 在固化胶表面形成的各种凹槽就不易变形，如图 15所示，经固化后的固化胶 即形成的散射膜层 42。
本发明实施例提供了一种显示装置， 包括： 基板以及设置在所述基板上 的散射膜层， 其中， 所述散射膜层为本发明实施例提供的任一所述的散射膜 层。
需要说明的是， OLED显示装置根据出光的方向分为底发射型有机发光 显示装置和顶发射型有机发光显示装置。 具体的， 如图 16所示， OLED显示 装置包括透明基板 11以及依次设置在所述透明基板 11上的阳极电极层 12、 发光层 13、反射阴极电极层 14, 光从透明基板 11一侧出射， 则为底发射型； 反之， 光从反射阴极侧出射为顶发射型。 本发明实施例提供的显示装置可以 是任意一种显示装置。
本发明实施例提供的有机发光显示装置， 所述显示装置上设置有散射膜 层， 可以降低 OLED出光面与空气的全反射， 减少微腔效应， 提高 OLED的 外量子效率。 所述显示装置可以为 OLED显示面板、 OLED显示器等显示器 件以及包括该显示器件的电视、 数码相机、 手机、 平板电脑等任何具有显示 功能的产品或者部件。
例如， 所述显示装置为底发射型有机发光显示装置。 具体的， 如图 16 所示，所述底发射型有机发光显示装置包括透明基板 11以及依次设置在所述 透明基板 11上的阳极电极层 12、 发光层 13、 反射阴极电极层 14。 所述散射 膜层可以设置在显示装置透明基板 11两侧的任一侧。例如散射膜层可以是设 置在透明基板设置有电极的一侧， 也可以是透明基板未设置电极层的一侧， 即透明基板的出光外表面的一侧。 例如， 如图 15所示， 所述散射膜层 42设 置在所述透明基板 11的出光外表面上。当散射膜层设置在透明基板的出光外 表面上， 可以在现有的制作好的显示屏上再做一层散射膜层， 操作筒单。
以上所述， 仅为本发明的具体实施方式， 但本发明的保护范围并不局限 于此， 任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内， 可轻易 想到的变化或替换， 都应涵盖在本发明的保护范围之内。 因此， 本发明的保 护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims

权利要求书
I、一种印刷版， 所述印刷版上形成有多个凸出结构， 所述凸出结构的最 大宽度在 lnm-1000nm之间。
2、根据权利要求 1所述的印刷版，其中，所述印刷版用于制作散射膜层。
3、根据权利要求 1所述的印刷版， 其中， 所述凸出结构在所述印刷版上 以矩阵的形式均匀排布。
4、 根据权利要求 1所述的印刷版， 其中， 所述凸出结构为半球形。
5、根据权利要求 4所述的印刷版，其中，所述半球的直径在 lnm-1000nm 之间。
6、 根据权利要求 1-5任一项所述的印刷版， 其中， 形成所述印刷版的材 料为具有可固化塑形特性的材料。
7、根据权利要求 6所述的印刷版， 其中， 形成所述印刷版的材料为甲基 硅氧烷。
8、 一种如权利要求 1-7任一项所述的印刷版的制作方法， 包括： 在第一基板上制作最大宽度在 Inm-lOOOnm之间的凹槽结构；
在所述第一基板的设置有凹槽结构的一面形成具有可固化塑形特性的材 料的膜层；
对所述具有可固化塑形特性的材料的膜层进行固化处理；
将固化后的膜层剥离， 在所述具有可固化塑形特性的材料的膜层表面形 成最大宽度在 lnm-1000nm之间的凸出结构。
9、根据权利要求 8所述的制作方法， 其中， 所述具有可固化塑形特性的 材料为甲基娃氧坑。
10、 根据权利要求 9所述的制作方法， 其中， 所述对所述具有可固化塑 形特性的材料的膜层进行固化处理包括对甲基硅氧烷膜层进行光照处理。
I I、 根据权利要求 8所述的制作方法， 其中， 所述在第一基板上制作最 大宽度在 lnm-1000nm之间凹槽结构包括：
在第一基板上形成具有可收缩变形特性的纳米粒子的单分子层； 待所述纳米粒子在第一基板上均勾铺开之后， 对所述纳米粒子进行收缩 处理； 在第一基板表面形成一层薄膜 ,所述薄膜的厚度不大于纳米粒子的直径； 去除所述薄膜内嵌设的纳米粒子。
12、根据权利要求 11所述的制作方法， 其中， 所述具有可收缩变形特性 的纳米粒子为聚苯乙烯纳米粒子。
13、根据权利要求 12所述的制作方法， 其中， 所述在第一基板上形成具 有可收缩变形特性的纳米粒子的单分子层包括：
形成聚苯乙烯纳米粒子、 甲醇和分散剂的混合物；
通过旋涂的方式将上述混合物涂覆在第一基板上。
14、根据权利要求 12所述的制作方法， 其中， 对纳米粒子进行收缩处理 包括对聚苯乙烯纳米粒子进行等离子处理。
15、根据权利要求 12所述的制作方法， 其中， 所述去除所述薄膜内嵌设 的纳米粒子包括：
在液体中， 采用超声波去除薄膜内嵌设的聚苯乙烯纳米粒子。
16、根据权利要求 12所述的制作方法， 其中， 所述聚苯乙烯纳米粒子的 直径在 lnm-1000nm之间。
17、根据权利要求 11所述的制作方法， 其中， 所述第一基板为硅片或金 属基板。
18、根据权利要求 11所述的制作方法， 其中， 在第一基板表面形成的薄 膜的材料与所述第一基板的材料相同。
19、 一种散射膜层， 所述散射膜层上形成有多个凹槽结构， 所述凹槽结 构的最大宽度在 lnm-1000nm之间， 且所述凹槽结构通过权利要求 1-7任一 项所述的印刷版印刷制得。
20、根据权利要求 19所述的散射膜层， 其中， 所述凹槽结构在所述散射 膜层上以矩阵的形式均匀排布。
21、 根据权利要求 19所述的散射膜层， 其中， 所述凹槽结构为半球形。
22、 根据权利要求 21 所述的散射膜层， 其中， 所述半球的直径在 lnm-1000nm之间。
23、 根据权利要求 19-22任一项所述的散射膜层， 其中， 形成所述散射 膜层的材料为具有可固化塑形特性的材料。
24、根据权利要求 23所述的散射膜层， 其中， 形成所述散射膜层的材料 为固化胶。
25、 一种如权利要求 19-24任一项所述的散射膜层的制作方法， 包括： 制作如权利要求 1-7任一项所述的印刷版；
在第二基板上形成具有可固化塑形特性的材料的膜层；
利用所述印刷版在所述具有可固化塑形特性的材料的膜层上印刷， 在所 述具有可固化塑形特性的材料的膜层表面形成最大宽度在 lnm-1000nm之间 的凹槽结构；
对所述具有可固化塑形特性的材料的膜层进行固化处理。
26、根据权利要求 25所述的制作方法， 其中， 所述具有可固化塑形特性 的材料为固化胶。
27、根据权利要求 26所述的制作方法， 其中， 所述对所述具有可固化塑 形特性的材料的膜层进行固化处理包括对固化胶进行紫外光照射固化。
28、根据权利要求 25所述的制作方法， 其中， 所述具有可固化塑形特性 的材料的膜层的厚度不大于印刷版上凸出结构的半径。
29、根据权利要求 25所述的制作方法， 其中， 所述利用上述印刷版在所 述具有可固化塑形特性的材料的膜层上印刷， 在所述具有可固化塑形特性的 材料的膜层表面形成最大宽度在 lnm-1000nm之间的凹槽结构包括：
将印刷版形成有凸出结构的一面与所述具有可固化塑形特性的材料的膜 层对合；
将印刷版剥离， 在所述具有可固化塑形特性的材料的膜层表面形成与印 刷版凸出结构相对应的凹槽结构。
30、 一种显示装置， 包括： 基板以及设置在所述基板上的散射膜层， 所 述散射膜层为权利要求 19-24任一项所述的散射膜层。
31、根据权利要求 30所述的显示装置， 其中， 所述散射膜层设置在所述 基板的出光外表面上。
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