TW200817727A - Method for manufacturing optical laminate, manufacturing equipment, optical laminate, polarizing plate, and image display apparatus - Google Patents

Description

200817727 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於光學積層體之製造方法、製造裝置、光 學積層體、偏光板及影像顯示裝置。 【先前技術】 於陰極射線管顯示裝置（CRT)、液晶顯示器（Lcd)、電 漿顯示器（PDP)、電激發光顯示器（ELD)等影像顯示裝置 中，通常於最表面設置有用以防止反射之光學積層體^該 防反射用光學積層體，係藉由光之散射或干涉，來抑制= 像之映射或降低反射率。 、 已知此種抗反射用光學積層體的其中之一，係在透明 性基材表面形成具有凹凸形狀之防眩層的防眩性積層體。 此種防眩性積層體，藉由表面的凹凸形狀使外部光線散 射，以防止目夕卜冑光線之反射或像的映射所i^的可視二 的降低。防眩性積層體，已知可藉由粒子來形成凹凸（專利 文獻υ或藉由施加壓紋處理以形成凹凸形狀（專利文獻2、 3)。 近年來，隨著面板解析度的高精細化，對此種光學積 體層所要求之性能亦逐漸提高。使用於此種經高精細化之 面板的防眩性積層體，必須為微細的凹凸形狀。亦即，藉 由使凹凸微細，來對應於高精鈿 從曰士 曰 7谓、、、田之面板。此種具有微細之 凹凸形狀的防眩性積層體，雖钬 *而可對應於面板解析度之高 精細化要求，但是卻會有影像顯 % .，、、貝不面泛白（白化）、對比降 5 200817727 低等問題。 又’將此種防眩性積層體使用在筆記型電腦等影像顯 不裝置表面時’亦有下述問冑：由於防眩性積層體之凹凸 形狀具有微細透鏡的功能，因此來自顯示器内部之背光源 背面的透射光，在透過形成於面板最表面之防眩性積声體 的凹凸形狀面時，容易產生擾亂所顯示之像素等 狀態。 木」

ί Κ 解決此「閃爍」的方法，已知有為了提高清晰度使表 面凹凸緻密化，或藉由添加形成防眩層之樹脂與具有折射 率差的散射粒+ m眩性積層冑具有内部冑射效果 方法。 、 然而，此等消除「閃燦」之方法，會產生因因表面白 化：因内部散射效果所導致的白濁等。尤其是使表面凹凸 緻密化之方法會使由外光反射而產生之散射增強，導致白 化增加。目此，雖然防眩性良好，但卻成為對比度下降之 主要原因。即，以以往之防眩性積層體難以滿足「防眩性」 與「提昇對比度」肖「抗閃爍」之所有性f。因此，此等 之防眩性積層體，在包含銀幕顯示之亮黑感(如濕潤般發亮 之黑色）的黑色再現性、對比性等方面並不佳。亦即，在亮 至中，黑色的灰階表示，特別是在低灰階方面，難以辨認 二色等級間之差異，感度低。具體而言，辨認黑色與灰色 時，會有顏色模糊及無法辨認是否為同一色調之黑色的問 題。特別是具有良好之防眩性（即外部光線散射性能）之防 眩性積層體，此等之可視性顯著較低。 6 200817727 另方面，藉由光干涉之抗反射方 具有透明且平滑之笋矣；μ 已知係藉由將 設置低折射率薄膜等控制各層折射率及層：：方；”上 降低反射率（例如反射丫值〇」〜〇為良^且可顯著 物體映射於顯示書面表 可防止外部 衣面。然而，此方法，會有 以控制塗膜層厚等在生產 難 ( 品。又，若笋由光千、“ θ問碭，材料亦多為高價 错由W涉使反射率降低，則由於會產牛 色，因此儘管反射率低，亦會有其干 ^ 黑色變色為Μ 4 之白色或 巴飞^色之顏色的問題。又，在反 不太低時，由於表面平滑，^ υ 十β因此亦有難以防止映射的問題。 亚且，亦知悉即使反射率非 · 口為觀看顯示器之環境 的關係，亦無法防止映射。你 ^ 、对例如’在白色牆壁的室内，直 白色牆壁表面只要為平滑’就會出現白色的映射。- υ 專利文獻1 專利文獻2 專利文獻3 因此，要求開發-種可改善此等問題、可得到防眩性 及抗閃爍之效果，且亦可得到亮黑感亦為良好之形成有凹 凸形狀之光學積層體之製造方法及其製造裝置 曰本特開平6一187〇6號公報 曰本特開平平6〜1685 1號公報 曰本特開平2〇〇4 — 341〇7〇號公報 【發明内容】 本發明鑒於上述現狀，目的在於提供―種光學 之衣化方法及其置，該光學積層體可同時獲得防眩 7 200817727 性、抗閃爍、亮黑感等黑色再現性等性質 ’該光學積層體 上之防眩層，其 本舍明為一種光學積層體之製造方法 係具有透光性基材及形成於該透光性基材 特徵在於： 凹凸形狀之上述防眩 由在上述透光性基材上形成具有 層的步驟所構成，

上述凹凸形狀，當將上述光學積層體表面之凹凸之平 均間隔設4 Sm，將凹凸部之平均傾斜角設為“，將凹凸 之平均粗糙度設為之情形時，

Sm為50 μηι以上、未滿1〇〇 μιη， <9a為〇·ι度以上、度以下，

Rz為超過〇 2 μπι、1 · 〇 μπι以下。 形成上述防眩層之步驟可為形成單層之凹凸層的 驟。 形成上述防眩層之步驟，係由形成底層之凹凸層之步 驟、以及於上述底層之凹凸層上形成表面調整層之步驟。 上述凹凸層之形成，亦可由將上述透光性基材及具有 凹凸形狀之防眩性薄膜一體化之步驟所構成（第一製造方 法）。此防眩性薄膜可藉由以下之第二、三、四之製造方 製作。 上述凹凸層之形成，亦可由在上述透光性基材上形成 樹脂層，然後在上述樹脂層之表面形成凹凸形狀之步驟所 構成。形成樹脂層之組成物’可由防眩層用組成物或電離 放射線硬化型樹脂或熱固型樹脂等所構成。（第二製造方法） 8 200817727 上述弟二製造方、、表士 ’較佳由使用具 凹凸形狀之模具 万法中，上述凹凸形狀 有與上述凹凸層所呈古— 曰所具有之凹凸形狀相反之 進行賦形處理之步驟。 上述凹凸層之形土、 s之形成，亦可由在上述透光性基材上塗布 防眩層用組成物之步驟 ^ </驟所構成。（第三製造方法） 於上述第三製造方、土 士 L χ 方去中，上述防眩層用組成物可含右 樹脂及微粒。 於上述第三製造方法中，上述防眩層用組成物可不含 微粒，而含有選自由聚合物及硬化性樹脂前驅物組成之群 之至少兩種成分。 上述凹凸層之形成，亦可由將上述透光性基材導入具 有與凹凸形狀相反之凹凸形狀之模具中的步驟、於上述透 光！·生基材14上述模具所具有之凹凸形狀之間的空隙中導入 防眩層用組成物、於上述透光性基材上形成凹凸形狀的步 驟所構成。（第四製造方法） 於上述第四製造方法中，上述防眩層用組成物，可不 含微粒，而含有電離放射線硬化型樹脂或熱固型樹脂。 於上述第四製造方法中，可於形成上述凹凸層之步驟 之後，具有使上述凹凸層硬化之步驟。 本發明為一種光學積層體之製造裝置，係使用於上述 第一製造方法，其特徵在於，具有： 供給上述透光性基材及具有凹凸形狀之上述防眩性薄 膜之供給部；以及 於上述透光性基材上形成上述防眩層之形成部。（第一 製造裝置） 200817727 〜$發明4_種光學積層體之製造裝i，係使用於上述 第衣&方法，其特徵在於，具有：於上述透光性基材上 a成上述树脂層’對上述樹脂層施加凹凸形狀之形成部。 形成樹脂層之組成物可由防眩層用組成物或電離放射線硬 化型樹脂或熱固型樹脂等所構成。（第二製造裝置） 盘於上述第二製造裝置中，上述形成部較佳為具備具有 與上述凹凸層之凹凸形狀相反之凹凸形狀的模具。 —本發明亦為_種光學積層體之製造裝置，係使用於上 述=三製造方法，其特徵在於具有：供給上述透光性基材 α 。卩於上述透光性基材上賦予防眩層用組成物之賦 予部、將上述防眩層帛组成物硬化形成具有日凸形狀之上 述防眩層之形成部。（第三製造裝置） 於上述第三製造裝置中，上述形成部較佳為具有對上 迷防眩層用組成物照射電離放射線之照射部。 本發明亦為一種光學積層體之製造裝置，係使用於上 :第四製造方法，其特徵在於具有：供給上述透光性基材 之供給部、導人上述透光性基材且具有與上述㈣層之表 面形成之凹凸形狀相反之凹凸形狀之模具、對上述模 =防眩層用組成物之導人部、將上述防眩層用組成物硬化 形成具有凹凸形狀之上述防眩層之形成部。(第四製造 於上述第四製造裝置中，上述形成部較佳為具有對上 述防眩層用組成物照射電離放射線之照射部。 本發明亦為一種光學積層體，其特徵在於··係藉由上 述光學積層體之製造方法而製造。 200817727 本毛月亦為-種光學積層體，其特徵在於 學積層體之製造裝置而製造。 f稭由先 本發明為-種光學積層體，係具有透光性基材 於該透光性基材上之卩六日々麻 最…右二 徵在於：上述防眩層之 "/、 形狀，且係由包含樹脂與微粒而成之防眩 層形成用組成物所形成，上述樹脂與上述微粒之折射率差 η為0_2以下，於將光學積層體表面之凹凸之平均間隔設

為Sm，將凹凸部之平均傾斜角設為^，將凹凸之平均粗 糙度設為Rz時，

Sm為50 μηι以上、未滿1〇〇 _， 6> a為〇·ι度以上、1 〇度以下，

Rz為超過〇·2 μηι、1 〇 μιη以下。 上述微粒較佳為無機微粒或有機微粒。 上述微粒可為凝集型微粒。 上述微粒較佳為平均粒徑R在1 ·0 μηι以上、20 μηι以 下。 上述防眩層’較佳為防眩層之層厚Hpm與上述微粒之 平均粒徑Rum之差「H—r」在〇·6 μηι以上、15 〇 μιη以 下0 上述微粒’較佳為相對於上述微粒之平均粒徑R，上 述微粒之總數之80%處於r土ι·〇μιη之範圍内。 上述防眩層，較佳為將每單位面積之上述微粒之總質 量設為m ’將每單位面積之上述樹脂之總質量設為μ時， 質量比（m/M)在〇·〇ι以上、丨.2以下。 11 200817727 上述樹腊較佳為含有電離放射線硬化型樹脂及/或執 固性樹脂。 … 上述防眩層更佳為含有抗靜電劑。 上述抗靜電劑較佳為導電性微粒及/或導電性聚合 物。 上述防眩層可由凹凸層單層所構成。 上述防眩層亦可由底凹凸層及設置於上述底凹凸層上 之表面調整層所構成。 本舍明之光學積層體，較佳為進一步在上述防眩層上 具有低折射率層。 上述低折射率層較佳為含有中空氧化矽。 上述光學積層體較佳為内部濁度值在60以下。 本發明亦為一種偏光板，係具備偏光元件而成，其特 徵在於：在上述偏光元件之表面，於該光學積層體之防眩 層存在之面相反之面具備有上述之光學積層體。 本發明亦為一種影像顯示裝置，係具備透過性顯示體、 以及自背面照射上述透過性顯示體之光源裝置而成，其特 被在於·於上述透過性顯示體之表面，具備上述之光學積 層體或上述之偏光板。 以下，詳細說明本發明。 本發明係由在透光性基材上形成具有凹凸形狀之防眩 層之步驟所構成之光學積層體之製造方法，所製得之光學 積層體表面之凹凸形狀具有特定之Sm、0a及Rz。又， 本發明係具有透光性基材及形成於該透光性基材上之防眩 12 200817727 層之光學積層體之製造裝置，所製得之光學積層體表面之 凹凸$狀具有特定之Sm、0a及Rz。因此，於使用上述 製造方法、製造裝置之情形時，可控制光學性質，可良好 地製造同時具有防眩性、抗閃爍、亮黑感等黑色再現性等 性質之光學積層體。 於本發明中，上述光學積層體之表面凹凸形狀，當將 凹凸之平均間隔設為Sm,將凹凸部之平均傾斜角設為0 a， 將凹凸之平均粗糙度設為Rz時，

Sm在50 μηχ以上、未滿1〇〇 μηι， 在〇」度以上、1〇度以下，

Rz 超過 〇·2μηι、1〇μηι 以下。 藉由製成滿足此等數值者，可得到特佳的效果。 即’藉由控制上述光學積層體之表面形狀，可控制光 學特性。此處，上述「光學積層體之表面」，無論是在防 眩層為單層之情形，防眩層由底凹凸層與表面調整層所構 成之情形，或者進一步具有上述低折射率層及/或任意層 之情形之任一情形，均指與空氣接觸之最表面，此種最表 面之凹凸形狀的光學特性值，與本發明之光學積層體之表 面凹凸形狀之光學特性值一致。 影像顯示裝置之亮黑感，係在亮室環境下影像顯示裝 置顯不黑色時之黑色再現性，係藉由目視觀察而評價者。 自外部射人至光學積層體之光於反射時光之反射角度範圍 較寬時，光根據光學積層體表面之凹凸角纟，向所有方向 反射（漫反射）而到達觀測者眼睛，因此並不會再呈現原本 13 200817727 之黑色（即，所擴散之光僅有一部份到達觀測者的眼睛）。 於以往之光學積層體中，因形成凹凸形狀而造 降之原因即如上所述。本發 ’义尽愈明人專進灯了著眼於此種作用 之研究’ H由控制成使人射光集中反射於正反射角附近之 形狀，，來自光源之光幾乎不產S漫反射，成為接近正反 射光。藉此，觀測者無法看到正反射光以外者，因此可再 呈現出原本如濕潤般的黑色。此處使人射光集中反射於正

反射角附近之形狀’係指於本發明中藉由特定範圍内之

Sm、Θ a、Rz所規定之緩和之凹凸形狀。此緩和的凹凸形 狀，係指相對於呈不陡峭之峰狀的凸部，凹部呈平緩之谷 狀’更確切言之，若與峰比較，由於為非常平缓之谷，因 此呈大致接近於平坦之形狀。 、，另一方面，表面具有如此之凹凸形狀之影像顯示裝置， 光並非不#反身ί，而{由於會產生可抑制平滑之透明層之 射或映射㈤政射，因此於防眩性方面亦可獲得充分之性 能0 本發明，係發現在此等之顯示器中，可藉由控制抗反 射用光學積層體之表面的凹凸形狀，使反射散射光為在一 定散射角度之範圍内的散射，同時得到防眩性及黑色再現 性而完成者。 為了藉由如上述之作用而同時獲得亮黑感與防眩性， 於將光學積層體表面之凹凸之平均間隔設A Sm，將凹凸 =之平均傾斜角設為，將凹凸之十點平均粗縫度設為 寸係使Sm在50μιη以上、ΙΟΟμιη以下，5> a在01度以 14 200817727 上、1·0度以下，Rz超過0·2μηι、1〇_以下，藉 在此種範圍内者，可得到如上述之小反射角。9 " 滿足上述參數之凹凸形狀，係較以往之光學積 崎狀為更平緩的凹凸形狀，因此可較以往之防眩層： ★反射先擴散性。又，由於具有此種平緩之形狀，因此相 =於無防眩層且平滑之表面，更可抑制光線的漫反射，使 又到抑制之光線的散射在正反射角附近的範圍内。 / 將以彺之防眩層表面之剖面示意圖示於圖h，本 之防眩層表面之剖面示意圖示於圖lb。 ' 如圖la所示，以往之防眩層之表面幾乎不存在平坦 部’凹凸形狀_亙連續。此種形狀，雖然防眩性非常優異， 但表：無平坦部，皆為曲線，故光於所有部分均擴散:、無 &仔充刀之党黑感。此係由於平均傾斜角“較大的緣 故0 另-方面’滿足上述8〇11&、尺2之藉由本發明之 w方法所獲得之光學積層體的防眩層之表面，如圖11?所 二凸部並不密集’存在有平坦部，故可同時得 與焭黑感。 再者’圖2a顯示以往之防眩層之表面之光學顯微鏡照 (反射拍冑200倍），圖2b則顯示本發明之防眩層 面之光學顯微鏡照片。 & 即’藉由滿足上述所有參數’由本發明之製造方法所 又件之光學積層體之表面其表面之凹凸形狀’存在以往之 防眩層不曾有過之平緩之平坦部分，且可使所存在 15 200817727 常地小。 光學積層 底邛(平坦邛)與凸部之峰部之接線所成的角度非 因此可仔到可良好維持亮黑感與防眩性兩者之 構成本發明之光學積層冑之防眩層具有㈤凸 s_m)係指該防眩層之凹凸之平均間隔，(度)係指凹凸 部之千均傾斜角，（Rz)係指1G點平均粗链度，該 據JIS B 0601 - 1994，表面粗縫度測量器：SE—34

阪研九所（月又）製之操作說明書（ΐ995 〇7·2〇修訂）中亦有 示。 局 ^為角度單位’以縱橫比例表示傾斜為時，係以 △ a_tan(9 a=(各凹凸之最小部與最大部之差（相當於各凸 部之南度）之總和/基準長度）。基準長度如測量條件之纪 載所述。 ° 於測量表示本發明之光學積層體之表面粗糙度之參數 (Sm、0 a、RZ)時，例如，可使用表面粗糙度測量器（型號： SE— 3400/小阪研究所（股）製造），藉由下述測量條件進行 測量，此測量於本發明為較佳者。 根據表面粗糙度測量器之測量條件JIS b 〇6〇1 1994。 1) 表面粗糙度檢測部之探針： 型號/ SE2555N(2 μ標準）小阪研究所（股）製造 (兩令而曲率半徑2 μιη/頂角：90度/材質：金剛石） 2) 表面粗糙度測量器之測量條件·· 基準長度（粗糙度曲線之截止值: 1、0.25 或 2、0.8 或 3、1·25 或 4、2·5 mm 16 200817727 評價長度（基準長度（截止值xc)x5): 1、1.25 或 2、4.0 或 3、6.25 或 4、12.5 mm 探針之移動速度：0.1〜〇.5mm/s (基準長度為1、2、3、4時，評價長度係對應之而成 為 1、2、3、4)

Rz、Sm之基準長度及評價長度的選擇，可在每個Rz 及Sm的範圍，以Jis B0601 1994所訂定的方法來決定。 求取Rz時對應於Rz範圍之基準長度及評價長度之標準值 的區分顯示於表1，求取Sm時對應於sm範圍之基準長度 及評價長度之標準值的區分則顯示於表2。（）内為參考值。 [表1]

Rz之範圍(μηι) 基準長度(mm) 超過 以下 評價長度(mm) (0.025) 0.10 0.08 0.4 0.10 0.50 —0.25 1.25 0.50 10.0 0.8 4 10.0 50.0 2.5 12.5 50.0 200.0 8 40 [表2] Sm之範圍(mm) 基準長度(mm) 超過 以下 評價長度(mm) 0.013 0.04 — 04 0.04 0.13 __025 1.25 0.13 0.4 — 4 0.4 1.3 __Z5 12 5 1.3 4.0 L-8_ 40 --——----—j 本發明之光學積層體兼具防眩性特性與優異之霁色再 現性、對比度。具體而言，藉由使考慮為該光學積層體之 形成方法之一的表面調整層，形成於雖具有優異之防眩 17 200817727 性，但卻存在上述問題之以往之抗閃爍學積層體上， 使光學積層體表面之凹凸形狀變得平滑，並且，可藉由使 其具有與AG同等之表面粗糙度參數，製作賦予充分之防 眩性’且亮黑感極高之防眩性積層體。 又，以往之藉由光干涉來防止反射的方法，黑色之再 現性（對比度）雖然良好，但卻難以防止白色之映射，相對

於此具有上述之表面粗縫度之本發明之光學積層體可解 決此問題。 藉由本發明之製造方法而獲得之光學積層體表面之凹 凸形狀，係具有特定之光學物性值（Sm、0 a、RZ)者。因 此，所製得之光學積層體可良好地獲得到上述效果。 方面，於先前技術中，存在使用Ra(算術平均粗 链度）表示光學積層體之表面形狀的方法。 上述Ra(算術平均粗糙度）係基於JIS B 060 1(1994)者。 即’如圖3所示’ Ra係自粗链度曲線於其平均線方向僅截 T基準長度，於該截取部分之平均線方向上取χ軸，於縱 ^率之方向上# γ轴，以y = f⑻表示粗縫度曲線時，加 上基準長度範圍之f(x)，再除以基準長度所得之值。 即，y==f(x)係相當於粗糙度曲線之面積，加上存在於 基準長度範圍中之粗糙度曲線的面積，再除以基 μ 得之值為Ra。 平長度所 因此，該Ra並非表示凹凸形狀之縱方向古 iA ^ 〜w度的平 -值。又，即使實際之凹凸形狀為如圖4所示之不同 亦相同。即使以該Ra與上述Sm值規定凹凸形狀，择 18 200817727 ，亦如圖4所不形狀所有不同，故而無法表示本發明之較 佳之凹凸形狀。因此，本發明中並未選擇Ra作為參數。 上述防眩層可為四凸層單層，亦可由底凹凸層及設置 ^上述底凹凸層上之表面調整層所構成。上述底凹凸層之 $表面具有凹凸形狀，可藉由與凹凸層單層時之防眩層實 貪相同之方法來獲得。以下，首先說明上述防眩層為凹凸 層單層時（以下稱為凹凸層）之本發明之製造方法。 本發明之光學積層體之製造方法，係用以製造具有透 光性基材及設置於該透光性基材上之防眩層的光學積層 體’由在上述透光性基材上形成具有凹凸形狀之上述凹凸 層之步驟所構成。於本發明之製造方法，所製得之光學積 層體表面之凹凸形狀，上$光學積層體表面之凹凸之 平均間隔設為Sm ’將凹凸部之平均傾斜角設為“，將凹 凸之平均粗棱度設為Rz時，^在5〇叩以上、未滿ι〇〇

Km’ θα在(Μ度以上、1〇度以下，則超過〇2_、i 〇 ./ μπι以下。 上述防眩層之層厚，甚去^ 考慮到墨水組成物内或防眩層 内之微粒之分散、生產穩定性，則較佳在5 μ m以上、2 $ ρ以 以下，更佳在6叫以上、2〇μΓη以下。另一方面在生產 時’較高程度的膜厚控制雖為必要，但防眩層較佳亦可在 一以上未滿一’更佳則在以心以上以”以下。 防眩層之層# Η，係指自基材之顯示面側界面至盘空 氣接觸之防眩性凹凸最表面。自基材界面至最表面，有防 眩層為凹凸層單層之情形、包含底凹凸層與表面調整層之 19 200817727 多層之情形、積層有其他任意層而成為多層之情形，此時， 係所有層之總厚度。即係指自基材之顯示面側界面至與空 氣接觸之防眩性凹凸最表面的厚度。 層厚可藉由以下方法測量。藉由共焦點雷射顯微鏡 (Lelca TCS- NT: Leica 公司製造：倍率「3〇〇〜1〇〇〇 倍」， 對光學積層體之剖面進行透射觀察，判斷有無界面，以下 :-平知基準進仃判斷。具體而言，為了得到無暈光之清晰 影像，於共焦點雷射顯微鏡中係、使用濕式物鏡，且將約Μ 斤射率1.518的油放在光學積層體上，來加以觀察判斷。 油之作用為使物鏡與光學積層體之間之空氣層消失。 測量順序 1 ·藉由雷射顯微鏡觀察測量平均層厚。 2 ·測量條件如上所述。 3 ·對於1個畫面，分別測量凹凸之最大凸部、最小凹

部之自基材的層厚各i點共計2點，測量5個晝面，共測 量10點，算出平均值。 、上述雷射顯微鏡，因各層具有折射率差而可不破壞剖 進行觀家因此，若折射率差不明確，或差接近0之情 形時，該防眩層或表面調整層之厚度，可藉由以各層組成 =不同而進行觀察之SEM及TEM剖面照片觀察，同樣觀 祭5個畫面而求出。 於本發明中，上述防眩層可為凹凸層單層亦可為多層。 於上述防眩層為多層之情形時，較佳為包含底凹凸層及設 於上述底凹凸層上之表面調整層。上述底凹凸層係最表 20 200817727 面具有凹凸形狀者，可藉由與凹 層實質相同之方法而獲得。凸層早層之情形時之防眩 以下，就本發明之凹凸層之形成方法加以說明。 :用圖:對本發明之光學積層體之製造方法加以說 =法:二本學 繼而，於該透光性 明中，形成凹凸層之方…：:成凹凸層2。於本發 較佳為以下列舉之方，可使用各種方法， (方法υ使用含有樹脂及微粒之凹凸層用組成物，形成 具有凹凸形狀之凹凸層的方法 凸开及微粒之防眩層用組成物，形成具有凹 狀之防眩層之方法_所使用的微粒，對於所使用之一 種或數種微粒而言，η* > Μ Α 、 無定形等，以正心圭為^^ «ΜΙ々敉佳上述U粒之平均粒徑尺較 押R 了？:：以η _為尤佳。#者，上述微粒之平均粒 :測J猎：！"儀法(c°ulter _nter 電阻旬 里 亦可糟由雷射繞射法或SEM觀察等來測量。 二次為凝集型微粒，為凝集型微粒時，較佳為 分弋型"述耗圍内。再者，平均粒徑R(_，若為單 為：：：子(形狀為單一之粒子)，則表示其平均粒徑，若 ”有見廣之粒度分布之無定形粒子，則藉 里，將最多存在之粒子之粒徑表示為平均粒徑。布而 21 200817727 上述微粒較佳為，微粒整體之80%以上（質量比；較 佳為90%以上）處於平均粒徑R±1〇(較佳為〇 3)μιη之範圍 内。藉此，可使防眩性積層體之凹凸形狀之均勻性良好， 粒0 且可有效地防止刺眼等。而於使用平均粒徑未滿3·5 ^卬之 微粒之情形時，可使用上述粒徑分布範圍外之微粒，例如 具有寬廣粒子分布之平均粒徑2·5 _、15 _之無定形微 又，所使用之微粒，於使用多種微粒之情形時，可混 合使用粒徑或材料不同之兩種或三種粒子。於如此混合^ 用-、二種粒子之情形時’可混合材料相$，僅粒徑及粒 子分布不同之二、三種粒子，亦可混合材料不同之二、三 種粒子進行使用。 — 混合2種以上之微粒使料，微粒其粒子全體的分布， 較佳為具有存在兩個以上之峰之分布形狀。即，除且 有形成凹凸形狀之性質之大粒徑粒子之外，併料粒徑^ 藉此可使大粒徑粒子整體均勻地分散，可獲得目標 即，較佳為使用將平均粒徑為i 〇 _ 下（較佳為下限為3.5μηι，上限 〇叫瓜以 ^ Η所旦,.± 丨民為15.〇_)，微粒整體之80 Λ Λ π ^ _ 上）處於平均粒徑±1.0(較佳 為〇·細之錢㈣粒子料第_微粒， 粒徑較小之第二、第三微粒， 進而_ 再者，於使用第二微粒等，併用複數種：=組成物。 發明之樹脂及微粒之折射率差 "月开/時，本 斤射丰差η’係自微粒中具有最高折 22 200817727 射率者中’減去樹脂之折射率而獲得之值。 μ若將上述第一微粒之粒徑設為R1，將第二微粒之粒徑 設為R2，則粒徑R2較佳為滿足0.25XR1(較佳為 〇.5啦R2g.0xR1(較佳為〇75)⑴。又亦可為進而含 有複數種其他微粒者。該關係亦成立於第三微粒相對於第 二微粒之關係。若將第三微粒之粒徑設為 為 足咖叫較佳為〇辱咖.0XR2(較佳為〇75)(π)為滿 准於第一、第二、第三微粒均由相同成分組成之情 形時，粒徑以-定不同為佳。於混合使用材料相互不同之 兩種以上之微粒之情形時，該兩種以上之微粒較佳為如上 ::平均粒徑不同，但亦可較佳地使用具有相同之平均粒 藉由使R2為0.25XR1以上，R^〇25xR2以上，可 使塗布液之分散變得容易’粒子不會凝集。又，塗布後之 乾無步驟中’漂浮時不受風之影響’可形成均勻之凹凸形 狀。 又，根據本發明之其他態#，樹脂與第 微粒之每單位面積之碑質 /、弟一 . 心貝里比較佳為，於將第一微粒之每 ::::之總質量設為％，將第二微粒之每單位面積之總 ==广將樹脂之每單位面積之總質量設為Μ之情 形蚪，滿足下式（瓜）及（jy): 〇.〇8^(Μ1+Μ2)/Μ^〇.36 (Π) 0^Μ2^4.0Μ! (IV) 〇 上述第二微粒’並無特別限定，可使用與上述第一微 23 200817727 粒相同之無機系、有 於上、f筮 ^ ’、。上述第二微粒之含量，相對 於上广❹之含量，較佳為3 粒可為與第二微粒相同之調配量。 於本發明中，較伟 凹凸形狀。 ’"、吏用兩種微粒，或三種微粒形成 於此情形時’各微粒主 作用，適宜選擇旧… 下之作用’可根據其 料與粒徑。但該作用僅為一例， 弟一礒粒、第二微粒、第二 選擇。 弟一试粒各自之作用，可適當加以 首先’於使用兩種類作為 科之料抑⑽u 作為錄之情料，具有更大粒 位之微粒（即，上述之第一 功能。用於如此目的之微粒主:要具有形成凹凸形狀之 Ίί^η^(Ερ & ^ ’ 要選擇後述之無内部擴散 拉(即，與樹脂黏合劑之折射率差較小之微粒形 ，料’該第-微粒之粒徑有時大於基質樹脂之膜 ^。騎，第一微粒係呈從防眩層之被膜凸出的狀態，而 糟此形成凹凸形狀。 此種第-微粒，尤其是由易於凝集之材料所構成之微 粒％’由於會在防眩層十凝集，故有時無法獲得凹凸形狀。 於此種情形’為使上述第一微粒於防眩層膜内之橫方向上 的分散性良好，較佳為併用具有上述第—微粒之粒徑之乃 %以下之小粒徑的微粒(即，上述第二微粒）。藉此，可声 好地控制凹凸形狀，均特膜整體形成。上述第二微粒^ 為具有内部擴散性之微粒’或無定形之凝集性微粒。 除上述第-微粒、第二微粒外’亦可併用具有更小粒 24 200817727 徑之第三微粒。於此情形時，較 之微粒(即，與樹脂黏合劑之折射皁二 π部擴散性 二微粒。t、ti J之折射率差較大之粒子）作為第 0/’、 i 絲之粒徑較佳為第-微粒之粒徑之75 乂以下之較小者。第三微粒係較第_枵也# 用以使上述第一微粒、自，一加微細者，係 之分散性良好，從而形成較佳凹凸的間隔物。藉 地控制凹凸形狀，被膜整 良子 H ± 反胰正體了均勻地形成凹凸形狀。上述 弟二裰粒之粒徑較佳為第二微粒之85%以下之較小者。 :述微粒之材料’並無特別限定，可使用無機系、有 ” ’較佳為透明性者。由有機系材料形成之微粒之且 射可車列舉塑膠珠粒。塑膠珠粒，可列舉：聚苯乙稀珠 ’ 、“ 1,59〜i·60)、三聚氰胺珠粒（折射率1.57)、丙烯 =珠粒（折射率〜叫、㈣酸系-苯W珠粒 。1,54〜1,58)、苯代三聚氰胺—甲駿珠粒、聚碳酸醋珠 粒、4乙浠珠粒等。上述塑膠珠粒較佳為於其表面具有疏 =性基’例如可列舉苯乙稀珠粒。無機系微粒，可列舉無 疋形氧化矽（amorphous siiica)等。 上述無定形氧化石夕，較佳為使用分散性良好之粒徑為 •〜5 μηι之氧化矽珠粒。上述無定形氧化矽之含量，相 對於黏合劑樹脂，較佳為^30質量份。為防止以下詳述 之防眩層用組成物之黏度上升之產生，使上述無定形氧化 石夕之分散性良好，可改變平均粒徑或添加量，並且改變是 否對粒子表面進行有機物處理而進行使用。於對粒子表面 進行有機物處理之情形時，較佳為疏水化處理。 25 200817727 二有機物處理存在以下方法··使化合物於珠粒表面 子鍵結之方法，或者不使化合物與珠粒表面進行化 予鍵、、。’而是使之滲透人形成珠粒之組成物之孔隙等中的 物理方法，可使用任一猶方 ^ I〆 種方法。一般而言，利用羥基或矽 和基專乳化石夕表面之活性基之化學處理法，於處理效率之 f面而言可較佳地使用。處理中所使用之化合 舆上述活性基之反應性較高之錢系、石夕氧炫系 等。例如可列舉：甲基三氯石夕院等直鍵烧基單Γ代 :矽虱材枓、支鏈烷基單取代聚矽氧材料，或二正丁基二 ^夕炫、乙基二甲基氯石夕炫等多取代直鍵炫基聚石夕氧化合 勿或多取代支鏈炫基聚♦氧化合物。同樣 用直鏈烧基或支鏈烧基之單取： 氮烧材料。 夕取切減材料、石夕 相應必需之功能，於烧基鏈之末端至中間部位，可使 雜原子、不飽和配位基、環狀配位基、芳香族官能 “者。該等化合物所含有之烷基顯示為疏水性，因此可 谷易地將被處理材料表面自親水性改變為疏水性，可獲得 與未處理時缺乏親合性之高分子材料的高親合性。 較佳為本發明之凹凸層不僅形成表面之凹凸而賦予防 ::性，亦賦予由基質與微粒之折射率差而產生之内部散射 生（折射率差越大，内部散射性越大）。 該内部散射性，可 閃燦（表面凹凸發揮透鏡 精細顯示器之情形時， 改良防眩性薄膜所具有之問題，即 之作用，尤其於像素尺寸較小之高 產生亮度之不均，引起可見度下降 26 200817727 之現象）。 賦予該閃櫟改良性之微粒’較佳為使用與上述 之折射率差為0.03〜0.20者。防眩層中所含之 粒之折射率差於。.03以上、請以下時為較佳的原因為 於折射率差未滿0.03之情形時，兩者之折射率差過小，益 法獲得光擴散效果，又，於折射率差大於g.2g之情形時… 光擴散性過高，薄膜整體出現白化。再者，上述微粒^上 述黏合劑之折射率差，較佳在〇 〇4以、 下，更4 在0.09以下。 於上述微粒中，使用兩種以上折射率不同之透光性 粒，混合該等微粒之情形時，透光性微粒之折射率，可看 作為相應各個微粒之折射率與使用比率之平均值，故 由調整微粒之混合比率而設定為精細之折射率，鱼一種: 情形相比更容易控制，可進行各種設計。 、 因此，於本發明中，可使用兩種以上折射率不同之微 ;、立作為上述微粒。於此情开彡本 弟一微粒與第二微粒之折 射^較佳為0.03以上、G.1G以下。上述微粒中，第一微 :與弟一透微粒之折射率差於0 03以上、010以下時為較 1土之原因為：於折射率差未 千左禾滿0.03之情形時，兩者之折射 率差過小，即使混合兩者’折射率之控制之自由度亦較小， ;折射率差大於G.1G之情形時，會由與基質之折射率 差較大之微粒決定光撼埒 元擴放性。再者，上述折射率差較佳在 •以上、0.09以下，更佳在〇 〇5以上、〇 〇8以下。 上述凹凸層中所含有之第一微粒，較佳為透明度尤高， 27 200817727 j“劑之折射率差為如上述之數值。第_微粒中所使用 之有機微粒，具體而言可列舉：丙稀㈣珠粒（折射率149 〜1.533)、㈣酸系—苯乙稀共聚物珠粒（折射率a)、三 聚鼠胺珠粒（折射率丨·57)、聚碳酸醋珠粒（折射率157)等。 無機微粒，可列舉無定形氧化石夕珠粒（折射率“㈠叫。 一第二微粒’較佳為有機微粒，較佳為纽合使用透明度 尤咼，與樹脂之折射率差為如上述之數值者。 f 第二微粒中所使用之有機微粒，具體而言可列舉：苯 乙稀珠:粒(折射率⑶〜叫聚氯乙稀珠粒(折射率 •60)、苯代二聚氰胺•甲搭縮合珠粒（166)等。 主又，於使用兩種具有折射率不同之微粒作為上述微粒 之^形時’如上所述，較佳為第一微粒之粒徑〉第二微粒 ^粒徑’亦可使兩種微粒之粒#—致，從而自由選擇第一 :粒與第二微粒之比率而使用’藉此光擴散性之設計變得 合易為使第-微粒與第m之粒徑—致，易於獲得單 分散粒子之有機微粒，於該方面較佳。粒徑越一致，防眩 =μ㈣㈣變得越一致’防眩層之光學性能設計變 二谷易’故較佳。進一步提高單分散性之方法，可列舉空 m藉由㈣n之濕式過據分級。 上述凹凸層可由含有上述微粒及硬化型樹脂之凹凸層 成物而形成。上述硬化型樹脂，較佳為透明性者，例 如可列舉：藉由紫外線或電子束而硬化之樹脂，即電離放 化3L树％，電離放射線硬化型樹脂與溶劑乾燥型樹 脂（熱塑性樹脂等，僅乾燥塗覆時用以調整固體成分所添加 28 200817727 之溶劑，即可成為被膜的樹脂）的混合物；或熱固型樹脂。 更佳為電離放射線硬化型樹脂。再者，於本說明書中，「樹 脂」亦包含單體、低聚合物等樹脂成分的概念。 上述電離放射線硬化型樹脂，例如可列舉··具有丙烯 酸醋系官能基之化合物等具有丨個或2個以上不飽和鍵的 化合物。具有1個不飽和鍵之化合物，例如可列舉··（甲基） 丙烯酸乙酯、（甲基）丙烯酸乙基己酯、笨乙烯、甲基苯乙 烯、N—乙烯基吡咯烷酮等。具有2個以上不飽和鍵之化 合物，例如可列舉：聚羥甲基丙烷三（甲基）丙烯酸酯、己 二醇（甲基）丙烯酸酯、三丙二醇二（甲基）丙烯酸酯、二乙二 醇二（甲基）丙烯酸酯、季戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、二季戊 四醇六（曱基）丙烯酸酯、1，6 —己二醇二（甲基）丙烯酸酯、 新戊二醇二（甲基）丙烯酸酯等多官能化合物與（甲基）丙烯酸 醋等之反應產物（例如多元醇之聚（甲基）丙烯酸酯）等。再 者’於本說明書中，「（甲基）丙浠酸酯」係指曱基丙烯酸 酉旨及丙烯酸醋。 上述化合物之外，具有不飽和雙鍵之較低分子量之聚 醋樹脂、聚醚樹脂、丙烯酸系樹脂、環氧樹脂、胺甲酸乙 醋樹脂、醇酸樹脂、螺縮醛樹脂（spiroacetal resin)、聚丁 一 _樹脂、聚硫醇多烯（卩〇1乂1：11丨〇10〇1>^1^)樹脂等亦可用 作上述電離放射線硬化型樹脂。 於使用電離放射線硬化型樹脂作為紫外線硬化型樹脂 之情形時，較佳為使用光聚合起始劑。光聚合起始劑之具 體例，可列舉：苯乙酮類、二苯基酮類、米希勒苯醯苯甲 29 200817727 酸酿、α —殿粉月亏酿（amyloxim ester)、°塞4員酮類、苯丙酮 顯、一本基乙一酮類、安息香類、醢基膦氧化物類。又， 較佳為混合使用光敏劑，其具體例，可列舉··正丁胺、三 乙胺、聚正丁基膦等。

光聚合起始劑，於為具有自由基聚合性不飽和基之樹 脂系之情形時，較佳為單獨或混合使用笨乙酮類、二苯基 酮類、噻噸酮類、安息香、安息香甲醚等。又，於為具有 陽離子聚合性官能基之樹脂系之情形時，光聚合起始劑， 較佳為單獨或混合使用芳香族重氮鏽鹽、芳香族鎳鹽、芳 香族錤鏽鹽、二茂金屬化合物、安息香磺酸酯等。光聚合 起始劑之添加量，相對於電離放射線硬化性組成物丨質 量份，較佳為0· 1〜1 〇質量份。 上述電離放射線硬化型樹脂亦可與溶劑乾燥型樹脂併 用。可與上述電離放射線硬化型樹脂併用之 脂並無特別限定，…使用熱塑性樹脂。藉由併= 乾煉型樹脂’可有效防止塗布面之被膜缺陷，藉此可獲得 更優異之亮黑感。上述熱塑性樹脂，並無特別限定，例如 可列舉：苯乙烯系樹脂、（曱基)丙烯酸系樹脂、乙酸乙烯 ::㈣m、乙稀彻脂、含齒樹脂、脂環族稀煙系樹脂、 聚碳酸酯系樹脂、％酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、纖維素衍 生物、聚魏系樹脂及橡膠或彈性體等。上述熱塑性樹脂 較佳為非結晶性’且可溶於有機溶劑（尤其可溶解複數種聚 合物或硬化性化合物之共通溶劑）。{其自成難、透明性 或耐候性之觀點考慮，較佳為苯乙稀系樹脂、（ 30 200817727 樹脂、脂環族烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、纖維素衍生 物（纖維素酯類等）等。 μ 士於上述透光性基材之材料為tac等纖維素系樹脂之情 形時’熱塑性樹脂，較佳為纖維素系樹脂，例如確化纖維 素、乙醯纖維素、乙酸丙酸纖維素、乙基羥乙基纖維素等。 ^ ^述熱固性樹脂，可列舉：酚樹脂、尿素樹脂、苯二 酸二婦丙s旨樹脂（diaIIyi phthalate resin)、三聚氰胺樹脂、 胍月女樹脂(guanamine resin)、不飽和聚酯樹脂、聚胺尹酸 乙酯樹脂、環氧樹脂、胺基醇酸樹脂、三聚氰胺—尿素共 縮^樹月士旨、石夕樹脂、聚石夕氧烧樹脂等。於使用熱固性樹脂 ^ h形a守，亦可視需要而併用交聯劑、聚合起始劑等硬化 劑，聚合促進劑、溶劑、黏度調整劑等。 上述凹凸層可藉由將微粒與樹脂混合於適當之溶劑中 而得之凹凸層用組成物塗布於透光性基材上而形成。適當 之溶劑，可列舉：甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、異丁醇、 甲基乙二醇、甲基乙二醇乙酸酯、甲基溶纖劑、乙基溶纖 副、丁基溶纖劑等醇；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁酮、 環己酮、二丙酮醇等酮類；甲酸曱酯、乙酸甲酯、乙酸乙 酉曰、乳酸乙酯、乙酸丁酯等酯類；硝基甲烷、N —甲基吡 略烧_、N，N—二甲基曱醯胺等含氮化合物；二異丙醚、 四氫吱喃、二噁烷、二氧戊環等醚類；二氣甲烷、氯仿、 二氯乙烷、四氯乙烷等鹵化烴；二曱基亞石風、碳酸丙二酯、 丙二醇單甲醚（pr〇pylene Glyc〇l M〇noinethyl Ether，PGME) 等其他溶劑；或該等之混合物。更佳的溶劑，可列舉：乙 31 200817727 酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸 環己國、甲苯等。❿曱基乙基鋼、曱基異丁购、 根據本發明之較隹能接 … 述凹凸層較佳為具有職予 千门正阿硬度化，抗污染性等之功能去 於此情形時，上述凹凸層 。 凸層用組成物而形成。而要合有其他添加劑之凹 上述凹凸層用組成物可含有抗靜電劑。 上述抗靜電劑，並無特別限定，例如可列舉： 鹽、σ比σ定鑌鹽、一纫 -2 、、及叙 、'〜二、、及胺基等之陽離子性化合 酸鹽基、硫酸酯鹽基、碟 ，頁 化合物；胺基酸系、胺=基、麟酸鹽基等陰離子性 系 胺基硫酉夂醋系等兩性化合物；胺基醇 / 承乙—醇系等非離子性化合物；如錫及欽之 醇鹽之有機金屬化合物；如上 二： ㈣之金屬餐合物等。亦可使用將上、二“物之乙酸丙 ;曰儿 更用將上述列示之化合物高分 子I化之化合物。又，如且 门刀 螯合部且可藉由電㈣心 四級錄基或金屬 ： 聚合之單體或低聚合物或具有 作抗靜電劑。 4化口物專聚合性化合物亦可用 上述抗靜電劑，又可列與道 導電抖取入 牛電性4合物。若使用上述 ¥安f生來合物，則可發揮 學積層體之全透光率：抗靜電性能，並且提高光 雜物(電子二 濁度值…亦可添加作為摻 Μ、电于供給劑）之以祖古措_ 的之有機烊萨 ^電性、提高抗靜電性能為目 有栈％酸或氣化鐵等降離 32 200817727 、炔、多並苯、聚奠、芳香族共輕系聚苯、雜環式共輛系聚 ㈣、聚嗔吩、聚異硫節、含雜原子共耗系聚苯胺、聚售 吩乙烯、混合型共軛系聚（伸苯基乙稀 ,^ ^ 邱）分子中具有複數 個共輛鏈之共扼系的複鏈型共輛系、該等導電性聚合物之 衍生物、及使该荨共|厄高分子鏈與鲍和 一 W分子進行接枝或 甘欠段共聚之尚分子的導電性複合體等。 其中，較佳為聚噻吩、聚苯胺、聚吡哈。 r 進而，就透明性、抗靜電性較高’且上述之摻雜物添 加效果亦優異之方面而言，較佳為聚嘆吩。上述 ， 亦可使用寡聚噻吩。 又，上述衍生物，並無特別限定，例如可列舉：聚苯 乙炔、聚丁二炔之烷基取代體等。 上述抗靜電劑可為導電性金屬氧化物微粒等導電性微 粒。上述導電性金屬氧化物微粒，並無特別限定，例如可 列舉：ΖηΟ(折射率Μ0’以下，括號内之值均表示折射率。）、 SM32U.7D、Sn〇2(1.997)、Ce〇2(195)、氧化姻 ^州^離㈣鳴⑽斗錄摻雜氧化錫⑽ % Am!呂摻雜氧化鋅（簡稱Az〇;2〇)等 微粒係平均粒徑為i微米以下之，所謂之次微米之大小者明 將平均粒徑為0.1 nm〜（M μηι之超微粒分散於黏合， 幾乎無濁度值’可製作可形成全透光率良好之高透明膜之 組成物’因此較佳。上述導電性金屬氧化物微粒之、 從可藉由動態光散射法等而測量。 广 上述抗靜電劑，較佳為相對於上述黏合劑樹脂量（除去 33 200817727 溶劑)，添加5〜250質量％。更佳為上述添加量之上限為 100以下，下限為7以上。藉由將天^ 3 ^ π ^ 猎甶將添加量調整為上述數值 :以可保持光學積層體之透明性，又不會對亮黑感或防 眩性等性質帶來不良影響，可賦予抗靜電性能，因此較佳。 :述凹凸層用組成物可為含有防污劑者。上述防污劑 主要目的在於防止光學積層體之最表汰、 賦予光學積層體以财擦傷性。防污 ，可木進而可 f ,^ Μ 叙有效者為具有撥 物\、^化合物或該等之混合化合物。上述"化人 物，可列舉：2—全氣辛基乙基三胺_ 夕，= 之石夕貌偶合劑等，尤其好的是具㈣基者。 基 上述凹凸層用組成物可為冬 使用上述折射率調敫~ ' 、率調整劑者。藉由 上述折射率光學積層體之光學特性。 高折射率劑等。 …斤射率劑、中折射率劑、 上述低折射率_其折 ;之較佳態樣，較佳為凹凸層之折射二凸”。根據本發 射率劑之折射率未滿u，較佳為145以下.卩上，低折 馬折射率劑、中折射率劑 目的而添加於上述凹凸声 上 乂提两防反射性為 折射率可設定為〗.46〜；〇〇二折射率谢、令折射率劑之 折射率為“6〜】8〇之外乾圍内，中折射率劑係指其 率為1L之範圍^圍内者，高折射率劑係指其折射 該等折射率劑W，其具物括就内表示折射 34 200817727 率），可列舉··氧化鋅（1·9〇)、氧化鈦（2.3〜2·7)、氧化鈽 (1·95)、銻摻雜氧化錫（1·8〇)、錫摻雜氧化銦（1·95)、氧化 錯（2.0)、氧化釔（187)等。 上述凹凸層用組成物較佳為進而添加氟系或聚石夕氧系 等整平劑。添加有整平劑之上述凹凸層用組成物的塗布適 性提高，且可賦予耐擦傷性之效果。整平劑可較佳地用於 要求耐熱性之薄膜狀透光性基材（例如三乙醯纖維素或聚對 , 苯二甲酸乙二酯）中。 \ 將上述凹凸層用組成物塗布於透光性基材上之方法， 可列舉：輥塗法、米爾棒（mayer bar)塗布法、凹板印刷式 塗布法等塗布方法。於上述凹凸層用組成物之塗布後，視 需要進行乾燥與紫外線硬化。紫外線源之具體例，可列舉： 超高壓水銀燈、高壓水銀燈、低壓水銀燈、碳弧燈、黑光 螢光燈、金屬鹵素燈之光源。紫外線之波長，可使用19〇 〜380 nm之波段。電子束源之具體例，可列舉：科克羅夫 . 特沃爾頓（Cockcroft 一 Walton)型、凡得格拉夫（Van der Graft) 型、共振變壓器型、絕緣芯變壓器型，或直線型、地那米 (Dynamitron)型、高頻型等各種電子束加速器。樹脂硬化， 固定樹脂中之微粒，從而於凹凸層之表面形成所期望之凹 凸形狀。 再者，於藉由如此之方法1而形成凹凸之情形時，Sm、 Θ &及Rz，可藉由調整凹凸層之形成中所使用之樹脂種類 或凹凸形成中所使用之粒子之粒徑或調配量，進而表面調 整層之組成或膜厚等，而設為適宜之所期望之範圍内。 35 200817727 芯由如此之方法1之凹凸層之形成，係尤其適合用於 上述第三製造方法中之方法。又，藉由上述方法製造旦有 凹凸形狀之防眩性薄膜，亦可用於上述第一製造方法中。 進而上述凹凸層用組成物亦可用於第二、第四製造方法 中。 (方法2)使用不添加微粒，僅含有樹脂等之凹凸層用組 成物形成具有凹凸形狀之凹凸層的方法 、上述方法2係將組合由聚合物及硬化性樹脂前驅物組 成之’中之至）兩種成分，使用適當之溶劑加以混合而成 的凹凸層用組成物賦予至透光性基材上的形成方法。 方法2之凹凸形狀，例如可使用含有由聚合物及硬化 性樹脂前驅物組成之群中之至少兩種成分的凹凸層用組成 物（以下將其記作「相分離型防眩層用組成物」）而形成。 於如此之方法中，藉由使用混合由聚合物及硬化性樹脂前 驅物組成之群中之至少兩種成分與適當之溶劑而成的相分 L 離型防眩層用組成物，並藉由自液相之旋節分解（spin〇dal decomposition)，可形成具有相分離構造之被膜。 將上述相分離型防眩層用組成物塗布於透光性基材上 後，於藉由乾燥等蒸發或除去溶劑之過程中，由聚合物及 硬化性樹脂前驅物組成之群中之至少兩種成分間產生旋節 分解，藉此產生相分離，可形成相間距離較規則之相分離 構造。 上述旋節分解’隨著伴隨溶劑之除去而發生之相分離 之進行將會形成共連績相構造（co — continuous phase 36 200817727 structure)，若相分離進一步進行，則連續相會因自身之表 面張力而產生非連續化，而成為液滴相構造（圓形、正圓形、 圓盤形或橢圓形等之獨立相之海島構造）。因此，根據相分 離之私度，亦可形成共連續相構造與液滴相構造中間的構 (自上述共連績相轉變為液滴相之過程的相構造）。於上 述方法2中，藉由如此之旋節分解，形成海島構造（液滴相 構造或其中-個相獨立或孤立之相構造）、共連續相構造（或 f 、·罔狀構& )或共連績相構造與液滴相構造混合存在之中間 構造，藉此溶劑乾燥後可於凹凸層之表面形成微細之凹 凸。 此種伴隨溶劑之蒸發的旋節分解，由於相分離構造之 區域間的平均距離具有規則性或週期性，因此最後所形成 之凹凸形狀亦具有規則性或週期性，故為佳。由旋節分解 所形成之相分離構造，可获i Hu α, 傅k J糟由使聚合物中之硬化性官能基 或硬化性樹脂前驅物硬化來進行固定化。硬化性官能基或 硬化性樹脂前驅物之硬化，可視硬化性樹脂前驅物之種 類，藉加熱、光照射等或此等方法之組合來進行。加熱温 /

V 度，只要是可維持以上述旋節分解所形成之相分離構造的 條，則亚無特別限制，例如，較佳為5〇〜15〇它。藉由光 照射之硬化，可以紫外線硬化等上述之方法來進行。9具有 光硬化性之相分離型㈣層隸成物，較佳為含有光聚合 起始劑。具有上述硬化性之成分，可為具有硬化性官能： 之聚合物，或硬化性樹脂前驅物。 上述由聚合物及硬化性樹脂前驅物組成之群中之至少 37 200817727 兩種成分，較佳為選擇藉由液相 T之方疋即分解而相分離之 組合進行使用。相分離之組合， ^ ^ 例如可列舉··（a)複數種聚 合物彼此相互不相溶而相分離 , 子刀離之組合，（b)聚合物與硬化性 :脂前驅物不相溶而相分離之組合，⑷複數種硬化性樹脂 前驅物彼此相互不相溶而相分離之組合等。該等…， 較佳為⑷複數種聚合物彼此之叙合，或（b)聚合物與硬化性 樹脂前驅物之組合，更佳為⑷複數種聚合物彼此之組合。 於相分離構造中，自於凹凸層之表面形成凹凸形狀， 且提高表面硬度之方面而言，有利的是至少具有島狀區域 之液滴相構造。再者’於由聚合物與上述前驅物(或硬化樹 脂）構成之相分離構造為海島構造之情形時，聚合物成分可 形成海相（sea phase)，自表面硬度之觀點而言，較佳為聚 合物成分形成島狀區域。藉由形成島狀區域，可於乾燥後 於凹凸層之表面形成可發揮所欲之光學特性的凹凸形狀。 上述相分離構造之區域間之平均距離，通常實質上具 有規則性或週期性，相當於表面粗糙度之。區域之平 均相間距離例如可為50〜100 μηι。上述相分離構造之區域 間之平均距離，可藉由樹脂之組合之選擇（尤其基於溶解性 參數之樹脂之選擇）等而調整。藉由如此調整區域間之平均 距離’可使最終獲得之薄膜表面之凹凸間之距離成為所期 望之值。 上述聚合物，可列舉：纖維素衍生物（例如纖維素_類、 纖維素胺甲酸乙酯類、纖維素醚類）、苯乙烯系樹脂、（甲 基）丙烯酸系樹脂、有機酸乙烯酯系樹脂、乙烯醚系樹脂、 38 200817727 含鹵樹脂、烯烴系樹脂（包含脂環族烯烴系樹脂）、聚酯系 樹脂、聚醯胺糸樹脂、聚碳酸S旨系樹脂、熱塑性聚胺甲酸 乙醋樹脂、聚礙糸樹脂（例如聚醚石風、聚石風）、聚苯鱗系樹 脂（例如2,6 —二甲苯酚之聚合物）、聚矽氧樹脂（例如聚二 甲基矽氧烷、聚甲基苯基矽氧烷）、橡膠或彈性體（例如聚 丁二烯、聚異戊二烯等二烯系橡膠，苯乙烯一丁二稀共聚 ί '

物、丙烯腈一 丁二烯共聚物、丙烯酸橡膠、胺甲酸乙酯橡 膠、聚矽氧橡膠）等，該等可單獨或組合兩種以上使用。複 數種聚合物中，至少一種聚合物具有與硬化性樹脂前驅： 之硬化反應相關之官能基，例如（甲基）丙烯醯基等聚合性 基。聚合物成分’可為熱固'性，亦可為熱塑性，更佳為熱 上述聚合物較佳為非晶質，且可溶於有機溶劑（尤 溶解複數種聚合物或硬化性化合物之共通溶劑）。較佳^ 形性或成膜性、透明性或耐候性高之樹脂，例如一 ’"、： 系樹脂、(甲基)丙浠樹脂、脂環族烯烴系樹脂本= 系樹脂、纖維素衍生物（纖維素酯類等）等。 A ·曰 上述纖維素衍生物中之纖維素酿類之具體例 族右拖祕丨L n W 例如’ 脂肪族有機酸酯，例如可列舉：二乙酸纖維素、 維素等乙酸纖維素類；㈣纖維素、丁酸纖料4酸纖 酸纖維素、乙酸丁酸纖維素等C 、，、、乙酸丙 纖維素、苯甲酸纖維素等C 车夺 本一甲酸 7 12 香力矢緩酸S旨等：¾:壬 機酸酯；磷酸纖維素、硫酸纖 香族有 p本f無機酸酯· 7 酸纖維素酯等混合酸酯；纖維素苯基胺 ，乙黾•硝 τI乙酯等纖維素 39 200817727 月女甲I乙S旨類；氰乙基纖維素等纖維素醚類；^乙基纖維 Μ :丙基義維素等搜基CH燒基纖維素；甲基纖維素、、、、 乙基纖維素等Ci—6烷基纖維素；羧曱基纖維素或其鹽、苄 基纖維素、乙醯烷基纖維素等。

上述苯乙烯系樹脂，包含笨乙烯系單體之單聚物或妓 聚物(例如，聚苯乙烯、苯乙烯…甲基苯乙浠共聚物:、 苯乙稀-乙烯基甲苯共聚物）、苯乙烯系單體與其他聚合性 单體[例如，（甲基)丙烯酸系單體、順丁烯二酸針、馬來醯 亞胺系單體、二烯類]之共聚物等。苯乙烯系共聚物，例如 可列舉：苯乙烯一丙烯腈共聚物（AS樹脂）、苯乙烯與（甲 基)丙烯酸系單體之共聚物[例如，苯乙烯一甲基丙烯酸甲 酯共聚物、苯乙烯一甲基丙烯酸甲酯一（甲基）丙稀酸酯共 聚物、苯乙烯一甲基丙烯酸甲酯一（甲基）丙烯酸共聚物 等]、苯乙烯一順丁烯二酸酐共聚物等。較佳之苯乙烯系樹 脂，包含聚苯乙烯、苯乙烯與（曱基）丙烯酸系單體之共聚 物[例如，苯乙烯一甲基丙烯酸甲酯共聚物等以苯乙烯與甲 基丙烯酸甲酯為主成分之共聚物]、AS樹脂、苯乙烯— 二烯共聚物等。 上述（甲基）丙烯酸系樹脂，可使用（甲基）丙稀酸系單體 之單聚物或共聚物、（甲基）丙烯酸系單體與共聚性單體之 共聚物等。（甲基）丙烯酸系單體之具體例，可例示：（甲 基）丙烯酸；（甲基）丙浠酸甲酯、（甲基）丙烯酸乙酯、（曱基） 丙烯酸丁酯、（曱基）丙烯酸第三丁酯、（甲基）丙烯酸異丁酯、 (曱基）丙烯酸己酯、（甲基）丙烯酸辛酯、（甲基）丙烯酸2 — 200817727 乙基己酯等（甲基）丙烯酸—10烷基酯；（曱基）丙烯酸苯酉旨 等（甲基）丙烯酸芳基酯；（甲基）丙烯酸羥乙酯、（曱基）丙婦 酸羥丙酯等（甲基）丙烯酸羥烷基酯；（甲基）丙烯酸縮水甘油 酯；（甲基）丙烯酸N，N —二烷基胺基烷基酯；（曱基）丙烯腈； 具有三環癸烷等脂環族烴基之（曱基）丙烯酸酯等。共聚性 單體之具體例，可例示：上述苯乙烯系單體、乙烯酯系單 體、順丁稀二酸酐、順丁稀二酸、反丁浠二酸等，該等單 體可單獨或組合兩種以上使用。 上述（甲基）丙烯酸系樹脂，可列舉：聚曱基丙烯酸曱 酯等聚（甲基）丙烯酸酯、甲基丙稀酸甲酯一（甲基）丙烯酸共 聚物、甲基丙烯酸甲酯一（曱基）丙烯酸酯共聚物、曱基丙 烯酸甲酯一丙烯酸酯一（甲基）丙烯酸共聚物、（曱基）丙烯酸 S曰一本乙稀共聚物（MS樹脂等）等。較佳之（甲基）丙浠酸系 樹脂之具體例，可列舉··聚（曱基）丙烯酸甲酯等聚（曱基）丙 細S欠C!—6烧基酉旨’尤其以甲基丙浠酸甲g旨為主成分（5〇〜 100質量％，較佳為70〜100質量％左右）之甲基丙烯酸甲 酯系樹脂。 上述有機酸乙烯酯系樹脂之具體例，可列舉：乙烯酯 系單體之單聚物或共聚物（聚乙酸乙烯酯、聚丙酸乙烯酯 等）、乙烯酯系單體與共聚性單體之共聚物（乙烯〜乙酸乙 浠S曰共聚物、乙酸乙稀酯一氣乙浠共聚物、乙酸乙烯酯一（甲 基）丙烯酸酯共聚物等）或其等之衍生物。乙烯酯系樹脂之 竹生物之具體例，包含·聚乙稀醇、乙稀一乙婦醇共聚物、 聚乙烯縮醛樹脂等。 41 200817727 上述乙烯醚系樹脂之具體例，可列舉：乙烯基甲醚、 乙烯基乙醚、乙烯基丙醚、乙烯基第三丁醚 1 工 1—10 烷基醚之單聚物或共聚物；乙烯基（^^烷基醚與共聚性 單體之#聚物（乙烯基炫基_ —順丁婦二冑肝共聚物等） 等。 "上述含齒樹脂之具體例，可列舉：聚氯乙稀、聚偏二 氟乙烯、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、氯乙烯—（甲基)丙 婦酸醋共聚物、偏二氯乙埽—（甲基）丙烯酸醋共聚物等。 上述烯烴系樹脂，例如可列舉：聚乙稀、聚丙稀等稀 煙之早㈣’乙烯一乙酸乙烯醋共聚物、乙浠-乙烯醇共 ^勿、乙稀-（甲基）丙烯酸共聚物、乙稀—（甲基）丙浠酸醋 :聚物等共聚物。脂環族烯烴系樹脂之具體例，可例示： 環狀細經（例如降冰片婦 - a ^ 肺一％戊一烯）之單聚物或共聚物 (例如具有立體剛性之三環癸 寺月曰％族烴基之聚合物）、 上述壤狀烯烴與共聚性單體 烯m w 早體之共裝物(例如，乙烯-降冰片 U勿、丙^水片烯 之具體例，則可睹a 号月曰％式烯烴糸樹脂 ⑽順，商品名)等。n( RT〇N，商品名)、解歐乃谷斯 上述聚I系樹脂，可列舉：使用 族二羧酸之芳香族綮^ , 本一甲I寺方香 鉍來i日，例如可列舉： 酿、聚對苯二甲酸丁二醋等聚對苯…本一甲 萃-甲酸c ^ f本一甲酸C2—4烷二酯或聚 不一 T酉夂c2—4烷二酯等同人 單元(對苯二甲酸C Λ曰3有°2-4伸烷基芳酯 . 2—4烷—酯及/或萘二曱酸C 烧-酷 早儿）為主成分（例如，5 甲^- 4说一西曰 、处上）之共聚酯等。共聚酯 42 200817727 之具體例，包含：聚Cl *伸烷基芳酯之構成單元中，c2_4 烧二醇之一部分取代為聚氧c2—4烷二醇、c6—1G烷二醇、 脂環族二醇（環己燒二甲醇、氫化雙紛A等）、具有芳香環 之二醇（具有第酮側鏈之9,9一雙（4 一（2—羥基乙氧基）苯基） 苐、雙酚A、雙酚A—環氧烷加成物等）等的共聚酯；芳香 族一魏酸之一部分取代為鄰苯二曱酸、間苯二甲酸等不對 稱芳香族二羧酸，己二酸等脂肪族c6—i2二羧酸等之共聚

酯。聚酯系樹脂之具體例，亦包含：聚芳酯系樹脂、使用 有己二酸等脂肪族二羧酸之脂肪族聚酯、ε_己内酯等内酯 之單聚物或共聚物。較佳之聚酯系樹脂，通常為如非晶質 共聚酯（例如，芳C2〜4烷二酯系共聚酯等）等之非晶質。 上述聚醯胺系樹脂，可列舉：尼龍46、尼龍6、尼龍 66、尼龍㈣、尼龍612、尼龍η、尼龍12等脂肪族聚酿 胺，由二羧酸（例如對苯二甲酸、間苯二甲酸、己二酸等） ^ 一胺（例如己一胺、間二苯胺）獲得之聚醯胺等。聚醯胺 系樹脂之具體例，可為ε_己内酸胺等内酿胺之單聚物或 共聚物，亦可不限於同元聚醯胺而為共聚醯胺。 上述聚碳酸酯系樹脂，包含：以雙紛類（雙* A等）為 基質之芳香族聚碳酸酯、一 ,一 #被 … 文〇曰一乙一醇雙烯丙基碳酸酯等脂肪 族聚碳酸酯等。 上述聚合物，亦可使用具有硬化性官能基之聚合物。 上述硬化性官能基’可存在於聚合物主鏈中，亦可存在於 側鏈中，更佳為存在於側鏈。上述硬化性宫能基，可列舉. 縮合性基歧隸基⑼如，基、料基、《、胺基或 43 200817727 亞胺基、環氧基、縮水甘油基、異氰酸基）、聚合性基（例 如，乙烯基、丙烯基、異丙烯基、丁烯基、烯丙基等C2 ^ 烯基，乙炔基、丙炔基、丁炔基等6炔基，亞乙烯基等 C2_ 6亞炔基，或具有該等聚合性基之基團（例如，（甲基）丙 烯酸基）等。該等官能基中，較佳為聚合性基。 將上述硬化性官能基導入至側鏈之方法，例如可列舉： 使具有反應性基或縮合性基等官能基之熱塑性樹脂，與具 Γ 有與上述官能基之反應性基之聚合性化合物進行反應的方 法等。 “ 上述具有反應性基或縮合性基等官能基之熱塑性樹 脂，可例示：具有羧基或其酸酐基之熱塑性樹脂（例如（甲 基）丙烯酸系樹脂、聚酯系樹脂、聚醯胺系樹脂）、具有羥 基之熱塑性樹脂（例如具有羥基之（甲基）丙烯酸系樹脂、聚 胺甲酸乙酯系樹脂、纖維素衍生物、聚醯胺系樹脂）、具有 胺基之熱塑性樹脂（例如聚醯胺系樹脂）、具有環氧基之熱 塑性樹脂（例如具有環氧基之（曱基）丙烯酸系樹脂或聚s旨系 樹脂）等。又，亦可為於苯乙烯系樹脂或稀烴系樹脂、脂環 族烯烴系樹脂等熱塑性樹脂中，以共聚合或接枝聚合導入 上述官能基的樹脂。 上述聚合性化合物，於與具有羧基或其酸酐基之熱塑 性樹脂反應之情形時，可使用具有環氧基或羥基、胺基、 異氰酸基等之聚合性化合物等。於與具有羥基之熱塑性樹 脂反應之情形時，可列舉具有羧基或其酸酐基或異氰酸基 等之聚合性化合物等。於與具有胺基之熱塑性樹脂反應之 44 200817727 情形時，可列與 ^ 举具有羧基或其酸酐基或環氧基、異氰酸基 等^σ性化合物等。於與具有環氧基之熱塑性樹脂反應 之^开y日^ ’可列舉具有羧基或其酸酐基或胺基等之聚合性 化合物等。 上述♦合性化合物中，具有環氧基之聚合性化合物， 例如可例不·（甲基）丙烯酸環氧環己烯酯等（甲基）丙烯酸環 乳環Ck8稀基s旨、（甲基）丙烯酸縮水甘油酯、烯丙基縮水 f 甘油醚等。具有羥基之化合物，例如可例示：（曱基）丙稀 酉欠羥丙酯等（甲基）丙烯酸羥Ci—4烷基酯、乙二醇單（甲基） 丙烯酸酯等C2—ό烷二醇（甲基）丙烯酸酯等。具有胺基之聚 合性化合物’例如可例示：（甲基）丙烯酸胺基乙酯等（甲基） 丙烯酸胺基C1-4烷基酯，烯丙基胺等C3_6烯基胺，4 —胺 基苯乙烯、二胺基苯乙烯等胺基苯乙烯類等。具有異氰酸 基之聚合性化合物，例如可例示：（聚）胺甲酸乙酯（曱基）丙 稀酸S旨或異氰酸乙烯酯等。具有羧基或其酸酐基之聚合性 ( 化合物’例如可例示：（甲基）丙浠酸或順丁烯二酸酐等不 飽和羧酸或其酸酐等。 代表例可列舉具有羧基或其酸酐基之熱塑性樹脂與含 有環氧基之化合物，特別是（甲基）丙烯酸系樹脂（（甲基）丙 烯酸一（曱基）丙烯酸酯共聚物等）與含有環氧基之（甲基）丙 烤酸醋（（甲基）丙細酸ί衣氣ί哀細基g旨或（甲基）丙稀酸縮水甘 油酯等）之組合。具體可使用於（甲基）丙烯酸系樹脂之羧基 之一部分導入有聚合性不飽和基之聚合物，例如：使（甲基） 丙烯酸一（曱基）丙烯酸酯共聚物之羧基之一部分，與丙婦 45 200817727 酸3,4—環氧環己烯基曱酯之環氧基反應，於側鏈導入光 聚合性不飽和基之（曱基）丙烯酸系聚合物（Cycl〇Mer p、

Diacel Chemical Industries(股）製）。 對熱塑性樹脂之與硬化反應相關之官能基（特別是聚合 性基）之導入量，相對於丨kg之熱塑性樹脂，較佳為〇 〜1〇莫耳，更佳為〇.〇1〜5莫耳，更佳為0·02〜3莫耳左 右。 、工 上述硬化性樹脂前驅物係具有可藉由熱或者活性能量 線（紫外線或電子束等）等而反應之官能基的化合物，係可 藉由熱或者活性能量線等而硬化或交聯形成樹脂（特別是硬 化或交聯樹脂）之化合物。上述樹脂前驅物，例如可例示熱 固性化合物或樹脂[具有環氧基、聚合性基、異氰酸酯基、 烷氧基矽烷基、矽醇基等之低分子量化合物（例如環氧系樹 脂、不飽和聚醋系樹脂、胺甲酸乙醋系樹脂、聚矽氧系樹 脂）]、可藉由活性光線（紫外線等）硬化之光硬化性化合物、(例 如光硬化性單體、低聚合物之紫外線硬化性化合物）等，光 硬化性化合物亦可為ΕΒ(電子束）硬化性化合物等。再者， 有時將亦可為光硬化性單體、低聚合物或低分子量之光硬 化性樹脂等光硬化性化合物簡稱為「光硬化性樹脂」。 上述光硬化性化合物，例如亦可為單體、低聚合物（或 樹脂，特別是低分子量樹脂）’單體，例如可例示：單官能 性單體甲基）丙烯酸醋等（甲基）丙稀酸系單體、乙稀基吼 嘻炫酮等乙婦系單體、（甲基）丙婦酸異冰片酯、（甲基）丙烯 酸金剛燒酯等具有交聯環式煙基之（尹基）丙烯酸酯等]、且 46 200817727 有至少2㉞聚合性不飽和鍵之多官能性單體[乙二醇二（甲 基）丙烯酸酯、丙二醇二（甲基）丙烯酸酯、丁二醇二（甲基〕 丙烯酸酯、新戊二醇二（甲基）丙烯酸酯、己二醇二（甲基 稀酸醋等燒二醇二（甲基）丙烯酸酯；二乙二醇二（甲基）丙婦 酸酯、二丙二醇二（甲基）丙烯酸酯、聚氧丁二醇二（甲基）丙 烯S文S曰等（來）氧烷二醇二（甲基）丙烯酸酯；三環癸烷二甲醇 二（甲基）丙烯酸酯、金剛烷二（甲基）丙烯酸酯等具有交聯環 f 式烴基之二（甲基）丙烯酸酯；三羥甲基丙烷三（甲基）丙烯酸 酯、二經甲基乙烷三（甲基）丙烯酸酯、季戊四醇三（甲基）丙 烯酸酯、季戊四醇四（甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇五（甲基） 丙烯酸酯等具有3〜6個左右之聚合性不飽和鍵的多官能 性單體]。 低聚合物或樹脂，可例示雙酚A _環氧烷加成物之（甲 基）丙烯酸酯、（甲基）丙烯酸環氧酯（（甲基）丙烯酸雙酚A型 環氧酯、（甲基）丙烯酸酚醛清漆型環氧酯等）、聚酯（甲基） 丙烯酸酯（例如脂肪族聚酯型（甲基）丙烯酸酯、芳香族聚酯 型（甲基）丙烯酸酯等）、（聚）胺甲酸乙酯（甲基）丙烯酸酯（例 如來自曰型胺甲酸乙酯（甲基）丙浠酸酯、聚_型胺甲酸乙酯 (曱基）丙烯酸酯）、聚矽氧（甲基）丙烯酸酯等。該等光硬化 性化合物可單獨使用或組合二種以上使用。 上述硬化性樹脂前驅物較佳為可以短時間硬化之光硬 化性化合物，例如：紫外線硬化性化合物（單體、低聚合物 或亦可為低分子量之樹脂等）、EB硬化性化合物。特別是， 有利於實用之樹脂前驅物係紫外線硬化性樹脂。進而，為 47 200817727 提南耐擦傷性等耐受性，較佳為光硬化性樹脂為分子中具 有2個以上（較佳為2〜6個、更佳為2〜4個左右）聚合性 不飽和鍵之化合物。硬化性樹脂前驅物之分子量，考慮與 聚合物之相溶性’為5_以下’較佳為测以下，更佳 為1000以下左右。 上述♦口物及上述硬化性樹脂前驅物之玻璃轉移溫度 較佳為例如-、較佳為—5吖〜23代、更佳 為0〜2〇〇t左右（例如50〜18(rc左右）。再者，自表面硬 度之觀點考慮，玻璃轉移溫度為5〇。。以上(例如7〇〜2〇〇。。 左右）、較佳為loot以上（例如100〜170它左右）較有利。 聚合物之重量平均分子量例如可自丨，刪，刪卩下，較佳 為1，000〜5〇〇,〇〇〇左右之範圍内選擇。 上述硬化性樹脂前驅物可視需要與硬化劑併用而使 用。例如，熱固性樹脂前驅物中，亦可併用胺類、多元羧 酸^㈣化劑。硬化劑之含量，相對於硬化性樹脂前驅物 Ϊ00貝里份為〇_1〜20質量份，較佳為〇·5〜1〇質量份，更 佳為1〜8質量份（特別是i〜5質量份）左右，亦可為3〜8 質置份左右。上述光硬化性樹脂前驅物亦可併用光聚合起 始劑而使用。上述光聚合起始劑，可列舉慣用之成分，例 如·笨乙酮類或苯丙酮類、二苯基乙二酮類、安息香類、 一本基_類、嗟嘲酮類等。 上述硬化性樹脂前驅物亦可與硬化促進劑併用而使 用。例如，光硬化性樹脂亦可含有光硬化促進劑，例如= 一鳴 級胺類（例如二烷基胺基安息香酸酯）、膦系光聚合促進劑 48 200817727 物所構成之J 聚合物及硬化性樹脂前驅 物所構成之群中選擇至少二種成分而使用者 數種聚合物彼此相互不相溶而相#述⑷複 77離之組合之情形時，可

=宜，合上述聚合物而使用。例如，於第—聚合物係苯乙 ί糸苯乙浠、苯乙稀—丙埽腈共聚物等）之情形時， 弟-^物可❹纖維素衍生物（例如乙酸丙酸纖維辛等纖 維素醋類）、（甲基）丙稀酸系樹脂（聚甲基丙稀酸甲醋等广 脂環族烯㈣樹脂（以降冰片稀為單體之聚合物等）、聚碳 =系樹脂、聚㈣樹脂（上述聚U烧基芳酯系共聚 s曰寻)寺。又，例如於第一聚合物為纖維素衍生物(例如乙 酸丙酸纖維素等纖維素8旨類）之情形時，第二聚合物可使用 苯乙稀系樹脂(聚苯乙烯、苯乙稀-丙烯腈共聚物等）、（甲 土）丙烯I系树知1日¥族稀烴系樹脂（以降冰片烯為單體 之承合物等）、聚碳酸酯系樹脂、聚酯系樹脂(上述聚4 伸烧基芳S旨系共聚自旨等）等。於複數種樹脂之組合中，可至 少使用纖維素s旨類（例如二乙酸纖維素、三乙酸纖維素、乙 酸丙酸纖料、乙酸了酸纖維素㈣維素Ch絲緩酸醋 類）。 第一聚合物與第二聚合物之比例（質量比），例如可自 第一聚合物/第二聚合物為1/99〜99/1，較佳為5/95 95/5，更佳為1〇/9〇〜9〇/1〇左右之範圍内選擇，通 常為20/80〜8〇/20左右，特別是30/ 70〜70/30左右。 由方疋節刀解生成之相分離構造，藉由活性光線（紫外 49 200817727 線、電子束等)或熱等最終硬化，形成硬化樹脂。因此，可 賦予凹凸層耐擦傷性，且可提高耐久性。 自硬化後之耐擦傷性之觀點考慮，較佳為複數種聚合 物中’至J/ 一種聚合物，例如互相不相溶之聚合物中的一 種聚合物（組合第-聚合物與第二聚合物之情形時，特別是 兩者聚合物）為於側鏈上具有可與硬化性樹脂前驅物反應之 官能基的聚合物。 〜 用以形成相分離構造之聚合物，除上述不相溶之兩種 聚合物以外，亦可含有上述熱塑性樹脂或者其他聚合物。 上述複數種聚合物彼此之組合中，進而亦可併用上述 硬化性樹脂前驅物（特別是複數種具有硬化性官能基之單體 或低聚合物）而使用。於此情形時，自硬化後之耐擦傷性之

硯點考慮，上述複數種聚合物中之一種聚合物（特別是兩者 來合物）亦可為具有與硬化反應相關之官能基（與上述硬化 性樹脂前驅物之硬化相關之官能基）的熱塑性樹脂。較佳為 熱塑性樹脂與硬化性樹脂前驅物相互不相溶。於此情形 時，至少一種聚合物相對於樹脂前驅物不相溶即可，其他 聚合物可與上述樹脂前驅物相溶。 水5物與硬化性樹脂前驅物之比例（質量比）並無特別 限制’例如聚合物/硬化性樹脂前驅物可自5/ 95〜95/ 5 左右之範圍内選擇，自表面硬度之觀點考慮，較佳為5/95 60/40左右，更佳為1〇/9〇〜5〇/5〇，特佳為1〇/9〇 40/ 60左右。 水合物為以彼此非相溶之複數種聚合物構成而相分離 50 200817727 時，較佳為以如下έΒ人t & ca .工，， 、 下、、且a而使用·硬化性樹脂前驅物與不相 洛之複數種聚合物中之至少一種聚合物於加工溫度附近互 相/令之、且口。即’例如以第-聚合物與第二聚合物構成 :不相/合之複數種聚合物之情形時，硬化性樹脂前驅物 與第一聚合物吱篦—取人u , 飞弟一求合物之至少任意者相溶即可，較佳 :與：種聚合物成分均相溶。於與兩種聚合物成分相溶之 = 相分離為以第-聚合物及硬化性樹脂前驅物為主 成刀之》>匕合物、傲Γ7 ^ a ^ ?、弟一承a物及硬化性樹脂前驅物為主 成分之混合物之至少二相。 於、擇之禝數種聚合物之相溶性較低之情形時，於用 以使溶劑蒸發之乾择讲和+ 之#〇知過程中，聚合物彼此有效地相分離， 凹凸層之功能提高。葙 n雔·^ 旻设數種艰合物相分離性，可使用能 夠/谷解又方成分之溶劑調繫六 製成均勻〉谷液，在慢慢使溶劑蒸 發的過私中，以目視夾被 广w L 耒確s忍殘留固體成分是否白濁，藉此 簡早地進行判斷。 通常相分離之二相夕士八 成刀的折射率互相不同。上述相 分離之一相之成分的折射 吓耵早差，例如較佳為〇 更佳為0.05〜0.15。 於上述相分離型防眩層 用、、且成物中’溶劑可相麻匕被 聚合物及硬化性樹脂前驅物为 μ 種類及/谷解性而選擇使用， 為可至少將固體成分（複數 、伴使用 ,Λ . . ^ 種來合物及硬化性樹脂前驅物、 反應起始刎、其他添加劑）均为於 ’ /奋解之 >谷劑即可，可於篇疰 旋節分解中使用。該溶劑，你丨上 了於濕式 r ^ . s 例如可例示：酮類（丙酮、曱基 乙基酮、甲基異丁酮、環 …專）、醚類（二噁烷、四氫呋 51 200817727 喃專）、月日肪族煙類f p化莖、 員（己烷4 )、月曰環族烴類（環己烷等 香族烴類（甲笨、二甲贫笙、a 万 一甲本寺）、_化烴類（二氣甲烷、二氯 烷等）、酯類（乙酸甲g旨、 ^ 曰乙1乙酯、乙酸丁酯等）、水、醇 類（乙醇、異丙酶、丁辟 ^ ^ ^ -、辰己醇等）、溶纖劑類（甲基溶纖 … m纖^等)、乙酸溶纖劑類、亞礙類(二甲基亞硬 寺）、醯胺類（二甲基甲㈣、二甲基乙醯胺 該等之混合溶劑。 」马

上述相分離型防眩展闲4 、， 々眼層用組成物中之溶質（聚合物及硬化 性树脂别驅物、反應起始、 口 W /、他添加劑）之濃度，可於不 才貝及產生相分離之篇图β、六 耗圍及μ延性或者塗層性等之範圍選 擇，例如為1〜8 0質哥〇/，击工^t从 貝里Z，較佳為5〜60質量％，更佳為 15〜40質量％(特別是2〇〜4〇質量左右。 再者，於精由如此夕古、土。 / 之方法2开〉成凹凸之情形時，、 θα及Rz，可藉由調整凹凸層之形成中所使用之樹脂種類 ,:口、a周配里、調配比率、進而表面調整層之組合或膜 厚等，而設為適宜之所期望之範圍内。 藉由如此之方法2之凹凸層之形成，係尤其適合用於 上述第三製造方法中之方法。又，藉由上述方法製造具有 凹凸形狀之防眩性薄膜，亦可用於上述第一製造方法中。 (方法3)使用賦予凹凸形狀之處理形成凹凸層之方法 方法3係形成包含樹脂之被膜層，對被膜層表面進行 賦予凹凸形狀之賦形處理，而形成具有凹凸形狀之凹凸層 的方法。如此之方法可藉由使用具有與凹凸層所具有之二 凸形狀相反之凹凸形狀之模具的賦形處理而較佳地進行。 52 200817727 ”有相反之凹凸形狀之模具可列舉：壓紋板、壓紋輥等。 於方法3中，可於賦予凹凸層用組成物後以凹凸模具 進行賦开》，/亦可將㈤凸層肖組成物供、給至透光性基材與凹 凸模具之界面，使凹凸層用組成物存在於凹凸模具與透光 性基材之間，同時進行凹凸形狀之形成與凹凸層之形成。 於本發明中，除壓紋輥外，亦可使用平板狀之壓紋板。 於壓紋輥或平板狀之壓紋板等上形成之凹凸模具面， 可藉由噴砂法或喷珠（beads sh〇t)法等眾所周知之各種方法 而形成。使用以喷砂法製成之壓花壓紋板（壓紋輥）所形成 之單層防眩層，自剖面觀察其凹凸形狀之情形時，成為凹 形狀廣泛分布之形狀。使用以喷珠法形成之壓紋板（壓紋輥） 而形成之單層防眩層，自剖面觀察凹凸形狀之情形時，成 為於上側凸形狀廣泛分布之形狀。 於形成於凹凸層之表面之凹凸形狀之平均粗糙度相同 之情形時，具有於上側凸部廣泛分布之形狀之凹凸層，較 j 之具有於上侧凹部廣泛分布之形狀者，室内之照明裝置等 之映射較少。因此，根據本發明之較佳態樣，較佳為利用 藉由噴珠法形成與凹凸層之凹凸形狀相同形狀之凹凸模 具’形成凹凸層之凹凸形狀。 用以形成凹凸模具面之模具材料，可使用塑膠、金屬、 木材等’亦可為該等之複合體。用以形成上述凹凸模具面 之模具材料，自強度、反覆使用之耐磨損性之觀點而言， 較佳為金屬鉻，自經濟性等觀點而言，較佳為於鐵製壓紋 板（壓紋輥）之表面鍍有鉻者。 53 200817727 ;猎噴砂法或噴珠法形成凹凸模 子(珠粒)之具體例，可列I :金、二寺，所喷射之粒 或玻璃等無機粒子。 氣化矽、氧化鋁 9ΛΛ , 子之粒徑（直徑），較科a π 〜200㈣左右。於將該等粒子噴 輳“ 3〇μιη 將該等粒子與高速之氣體一同方：材料時，可列舉 適當之液體，例如水等。又，於本發二：=可併用 之财久性，較佳為對形成有凹凸形狀之凹⑽二使用時

等後^以使用，於硬膜化及防心之方面較佳Υ、鑛鉻 猎由如此之方沐 2 + ππ π兑 上述第H 形成’係尤其適合用於 ^方法中之方法。又’藉由上述方法製造具有 凹凸形狀之防眩性薄膜，亦可用於上述第一製造方法中。 、如上述任意步驟中所述，於本發明之製造方法中，上 ?防眩層係於底凹凸層上形成表面調整層而成者之情形 時’可為於透光性基材之上表面形成底凹凸層後，形成表 面凋王層之方法。於此情形時，表面調整層與底凹凸層成 為一體而發揮防眩性功能。即，藉由使表面調整層形成於 上述基礎凹凸上’可使底凹凸層之凹凸形狀變得平滑，進 而’藉由具有上述範圍之表面粗糙度參數，可製作賦予充 分之防眩性，且亮黑感極高之防眩性積層體。 影像顯示裝置之亮黑感，係於亮室環境下影像顯示裂 置顯示黑色時之黑色再現性，係藉由目視觀察而評價者。 自外部射入至光學積層體之光於反射時之光之反射角度範 圍較寬的情形，光根據光學積層體表面之凹凸角度，向所 有方向反射（漫反射）而到達觀測者的眼睛，因此並不會再 54 200817727 呈現原本之黑色（即，所擴散之光僅有一部份到達觀測者的 眼睛）。另一方面，於入射光於正反射角附近集中而反射之 情形時（具有緩和之凹凸形狀之防眩層之情形），來自光源 之光成乎不產生改反射，而成為正反射光，觀測者無法看 到該正反射光以外者，因此本來之如濕潤般之黑色再現。 於本說明書中，將該原本之黑色稱為亮黑感。

上述底凹凸層係於最表面具有凹凸形狀者。如此之底 凹凸層，可列舉與上述凹凸層相同者。例如，可使用底凹 凸層用組成物，藉由與上述凹凸層之形成方法相同之方法 而形成。上述底凹凸層用組成物，並無特別限制，可列舉 與上述凹凸層用組成物相同者。 於本發明之製造方法包含：形成底凹凸層，於上述底 :凸層之凹凸形狀之表面形成表面調整層之方法的情形 日守’光學積層體表面之凹凸形狀之光學特性值如、θι Rz) ’係含有表面調整層之光學積層 層之表面）的值。 積胃體之取表面（表面調整 上述表面調整層，可於底凹凸層之形成凹凸形狀 面粗輪度上填平以凹凸尺度（凹凸之峰高與峰距）之 =尺度沿凹凸形狀存在之微細心，將其平滑化而形 :之凹凸’或可調整凹凸之峰距或峰高、峰之頻率(個 硬产：調整層亦可以賦予抗靜電、折射率調整、高 又化、抗污染性等為目的而形成。 上述表面調整層係含有樹脂黏合劑者。 劑並無特職制，較佳為透明性者 黏合 f考例如可列舉：藉由紫 55 200817727 夕卜線或電子束而硬化之樹脂之電離放射線硬化型樹脂、電 離放射線硬化型樹脂與溶劑乾燥型樹月旨之混合物、將熱固 型樹脂等硬化而獲得者等。-4^ ^更佳為電離放射線硬化型樹 脂。電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂與溶 劑乾燥型樹脂之混合物、埶固φ , …、U尘树知，並無特別限制，可 使用例示為可用於形成上述凹凸層者的樹脂。 上述表面調整層，亦可含有用以調整流動性之有機微 ( 粒或無機微粒。可使用作為 七 > 乍為上述流動性調整劑之有機微粒 或热機微粒的形狀並益特限制 “ …、将限制’例如可為球狀、片狀、織 維狀、非晶形、中空等任一裉业 ^狀。特佺之流動性調整劑為 私體氧化矽（colloidal Siiica)。 丄 ^ , ^ T y )以彺，若精由形成表面調整 層來填平微細的凹凸，使苴 便，、千滑化時，則會因過分的平滑 化而導致防眩性顯著地下妒 ^ :、、、'而，右以含有上述膠體氧 化矽之組成物來形成被膜， j Μ日守传到防眩性與愛辛 現性。可獲得如此效果之 、…、 雖然不明確，但推測#由 於含有膠體氧切之組成物推編 積田匕制其流動性，使表面 之凹凸形狀易於獲得控制，因 1更衣由 千π化時，可賦予以往 〜衣向δ周整層中完全平整 適當…" 凹凸形狀(位於底凹凸層） 、田的千滑，且又不會完全平整之故。 於本發明中「膜辦翁 粒子分气於^古I 使膠體狀態之氧化矽 述豚^ 獲仵之膠體溶液。較佳為上 攻膠體乳化矽之粒徑（直徑）為i — w 者，本發明之膠體氧化矽 肖微粒。再 粒捏（藉& BET法測量表面^ 由BET法測量之平均 、 積，將粒子作為圓球換算，算 56 200817727 出平均粒徑）。 上述膠體氧化矽係眾所周知者，市售者，例如可列舉 以下市售品：「甲醇矽溶膠」、rMA— ST_M」、「IPA -ST」、「EG-ST」、rEG_ST_ZL」、厂 Npc〜ST 、 「DMAC—ST」、「 r

U 「XBA-ST」、「MIBK-ST(以上，曰產化學工業股份有限公司製品，均為商品名）， 「〇SCALU32」、「OSCAL1232」、「〇SCALl332」、 「OSCAL1432」、「〇SCAL1532」、「〇scali632」、 「OSCAL1132」（以上，觸媒化成工業股份有限公司製品， 均為商品名）。 上述有機微粒或無機微粒，相對於表面調整層之黏合 劑樹脂質量_，以含有微粒f量5〜3⑽為佳（微粒質= /黏合劑樹脂質量= P/V比=5〜300/1〇〇)。若未滿5， 則由於對凹凸形狀的控制不夠充分，目此難以同時達成亮 黑感等黑色再現性與防眩性。若超過扇，則由於會在密: ^生及耐職性等物性面引起不良情形，因此較佳為在此 μ 、内添加里雖然視所添加之微粒而有所變化，但在 膠體氧化矽的場合’添加量較佳為5〜80。若超過8〇時， :由於即使過量添加，防眩性亦無任何變化，因此此添加 動作將變得毫無意義，及若超過8Q _， 下層的密合性不良，故以在此範圍以下為佳。曰I、 又，表面調整層可為不僅具有如上述之調整凹凸層之 形狀之功能，亦具有_抗靜電、折射率調整 抗污染性等之功能者。於此情形時，上述表面調整層較佳

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J 57 200817727 下之表面調整層用組成物而形成，該表面調整層用 二成物視需要包含選自由抗靜電劑、折射率調整劑、防污 劑、撥油劑、指紋附著防止劑、高硬化劑及硬度 调正劑組成之群中之一種或兩種以上之表面調整劑。 上述抗靜電劑、防污劑、折射率調整劑、整平劑，可 列舉與可用於形成上述凹凸層者相同者。 上述表面調整層之形成方法並無特別限定，例如，可 =4由將混合上述勝體氧切、點合劑樹脂（包含單體、低聚 口^樹脂成分）、溶劑及視需要而使用之任意成分而獲得 :表面調整層用組成物’塗布於上述凹凸層上而形成。上 述溶劑，彳列舉：異丙醇、甲醇、乙醇等醇類；甲基乙基 扪、甲基異丁酮、環己酮等酮類；乙酸甲醋、乙酸乙醋、 = 烴；甲苯、二甲苯等芳香族煙；或 μ等之混合物，較佳為_類、酯類。 上述塗布方法及上述表面調整層之形成方法，可使用 與上述凹凸層之形成方法相同之塗布方法及形成方法。 表面調整層之層厚（硬化時）較佳為〇·6μιη以上、15哗 以下（較佳為12 _以下）。下限更佳為i 5叫以上再更 佳為3陶以上。上限更佳為8_以下，再更佳為5㈣ 二下。再者，上述表面調整層之厚度，係以上述方法測量 底凹凸層之厚度八後，測量積層有表面調整層之底凹凸層 :表面調整層之厚度B’自該B減去A而算出之值。(於 &凹凸層與表面調整層之黏合劑樹脂存在折 時，亦可於測量完成之製品之上…，測量A而算出。) 58 200817727 若上述層厚未滿0.6 μιη，則防眩性良 — 改善。於層厚赶迟丨卩 但有柃焭黑感未 有時產生防眩性未改善之問題。 -感非“異，但 於本發明中，上述防眩層如上 多層。於為吝® +法丨馬早層’亦可為 夕曰於為夕層之情形時，較佳為於底 調整層。上述光學積層體之製 可成表面 声戎难敕眩 了為進而於上述凹凸 二等的V二曰上，形成抗靜電層、低折射率層、抗污染 :的方法。低折射率層較佳為折射率低於凹凸層或表面 射率者。抗靜電層、低折射率層、抗污染層可 低折射康:丨形成·製備於表面調整層中說明之抗靜電劑、 污劑等中添加樹脂等而成之組成物，從而 等亦相同。 低折射率劑、防污劑、樹脂 上：述低折射率層可形成於上述凹凸層上或表面調整層 2於凹凸層上具有低折射率層者，可為實質上於上述凹 “Si:予低折射率性之表面調整層者。又，亦可為 了 層之外另設置低折射率層者。上述低折射率層 為3有低折射率劑等作為折射率調整劑者。 本2述t折：率劑係其折射率低於上述凹凸層者。根據 *之較佳悲樣’較佳為上述凹凸層之折射率為U以 上’低折射率劑之折射率未滿15，較佳為下。 ⑼低折射率層係發揮如下作用之層：於來自外部之光（例 赏光义且自然光等）於光學積層體之表面反射時，降低里 反射率。低折射率層，較佳為包纟υ含有氧切或氣化鎮 59 200817727 之樹脂，2)低折射率樹脂之氟系樹脂，3)含有氧化石夕或氣 化鎂之氟系樹脂，4)氧化矽或氟化鎂之薄膜等之任—者 氟樹脂以外之樹脂，可使用與構成凹凸層及表面調㈣^ 樹脂相同之樹脂。 θ 該等低折射率層之折射率較佳為145以下，尤其好的 是1.42以下。又’低折射率層之厚度並無特別限制，通常 可於30 nm〜1 μηι左右之範圍内進行適宜設定。 f 上述氣系樹脂，可使用於分子中至少含有氣原子之聚 合性化合物或其聚合物。聚合性化合物並無特別限定，例 如較佳為具有可以電離放射線硬化之官能基 性基等硬化反應性基團者…亦可為同時兼㈣ 性基之化合物。相對於該聚合性化合物，所謂聚合物，係 並不具有如上述之反應性基等者。 具有電離放射線硬化性基之聚合性化合物，可廣泛使 用具有乙稀性不飽和鍵之含氟單體。更具體而言，可例干 氟浠烴類(例如氟乙烯、偏二氟乙稀、四氟乙烯、六氟丙烯、 „ 稀& 11 2’2—一甲基—I3—間二氧雜環戊烯 :)。具有（甲基）丙稀醯氧基者’亦有如（甲基）丙烯酸2,2 2 :二既乙醋、（甲基）丙_2,2,3,3,3—五氣丙醋、（甲基）丙 =酸全I 丁基）乙醋、（甲基）丙稀酸2 一（全說己基）乙 知、（甲基）丙烯酸2-(全氟辛基）乙酿、（甲基）丙烯酸2—(全 = =、α—三氣甲基丙稀酸甲^旨、卜三氣甲基丙稀 ^乙自日之分子中具有氣原子之（甲基）丙稀酸醋化合物；於 刀子中具有含有至少3個氟原子之碳數為卜“之氣燒 200817727 基、氟環烷基或氟伸烷基與至少2個（甲基）丙烯醯氧基之 含氟多官能（甲基）丙烯酸酯化合物等。 熱固性極性基，較佳為例如經基、竣基、胺基、環氧 基等氫鍵形成基。該等不僅與塗膜之密合性優異，與氧化 矽等無機超微粒之親合性亦優異。具有熱固性極性基之聚 合性化合物，例如可列舉4 一氟乙烯一全氟烷基乙烯醚共 聚物；氟乙烯一烴系乙烯醚共聚物；環氧樹脂、聚胺曱酸 乙酯、纖維素、苯酚樹脂、聚醯亞胺等各樹脂之氟改質物 等。 兼具電離放射線硬化性基與熱固性極性基之聚合性化 合物，可例示丙烯酸或曱基丙烯酸之部分及完全氟化烷基 酯、烯基酯、芳基酯類，完全或部分氟化乙烯醚類，完全 或郤分氟化乙烯酯樹脂類，完全或部分氟化乙烯基酮類 等。 、 又’ IL系樹脂，例如可列舉如下述者。 亦可使用具有上述電離放射線硬化性基之聚合性化合 物的S有至少種含甲基）丙烯酸醋化合物之單體或單 體混合物的聚合物；上述含氟（甲基）丙烯酸酯化合物之至 少一種與如（甲基）丙烯酸甲酯、（甲基）丙烯酸乙酯、（甲基） 丙烯酸丙酯、（甲基）丙烯酸丁酯、（曱基）丙烯酸2 —乙基己 酯之分子中不含氟原子之（甲基）丙烯酸酯化合物的共聚 物；如氟乙烯、偏二氟乙烯、三氟乙烯、三氟氣乙烯、；:3:3 -三氟丙烯、U’2-三氣—3,3,3—三氟丙烯、六氟丙稀之 含氟單體單聚物或共聚物等。亦可使用該等共聚物中含有 200817727 來矽氧成分之含有聚矽氧之偏二氟乙烯共聚物。此情形時 之聚矽氧成分，可例示··（聚）雙曱基矽氧烷、（聚）二乙基矽 氧烷、（聚）二笨基矽氧烷、（聚）甲基苯基矽氧烷、烷基改質 (♦)雙曱基矽氧烷、含有偶氮基之（聚）雙曱基矽氧烷、聚二 甲矽氧、苯基甲基聚矽氧、烷基·芳烷基改質聚矽氧、氟 水夕氧艰_改备水石夕氣、脂肪酸酯改質聚石夕氧、曱基氫 聚石夕氧、含有石夕醇基之聚石夕氧、含有烧氧基之聚石夕氧、含 厂 有苯酚基之聚矽氧、曱基丙烯酸改質聚矽氧、丙烯酸改質 聚矽氧、胺基改質聚矽氧、羧酸改質聚矽氧、甲醇改質聚 矽虱、環氧改質聚矽氧、巯基改質聚矽氧、氟改質聚矽氧、 聚醚改質聚矽氧等。其中較佳為具有雙曱基矽氧烷構造 者。 進而，包含以下化合物之非聚合物或聚合物亦可用作 氟系樹脂。即，使分子中具有至少一個異氛酸基之含氣化 ，物，與分子中具有至少一個如胺基、經基、敌基之與異 (氰酸基反應之官能基之化合物反應而獲得之化合物；使如 含氟之聚醚多元醇、含氟之烷基多元醇、含氟之聚酯多元 醇:含氟之ε—己内醋改質多元醇之含敦多元醇’與具有 異氰酸基之化合物反應而獲得之化合物等。 又，亦可將上述具有氟原子之聚合性化合物或聚合物， 與凹凸層中記載之各樹脂成分混合使用。進而可適宜使 用·用以硬化反應性基等之硬化劑，用以提高塗布性 予防污性之各種添加劑，溶劑。 於上述低折射率層中，低折射率劑，較佳為使用「具 62 200817727 有空隙之微粒」。「具有空隙之微粒」可保持低折射率層 之層強度，並降低其折射率。於本發明中，「具有空隙之 微粒」係指，形成於微粒之内部填充有氣體之構造及/或 含有氣體之多孔構造體，較之微粒本來之折射率，其折射 率與微粒中之氣體之佔有率成反比例降低的微粒。I，於 本發明t，根據微粒之形態、構造、凝集狀態、被膜内部 之微粒之分散狀態，亦存在於内部及/或表面之至少一部 f . \

分可形成奈米多孔構造的微粒。使用有該微粒之低折射率 層’可將折射率調節為 具有空隙之無機系微粒，可列舉··使用日本專利特開 讀-23361 1號公報中揭示之技術製備之氧切微粒: 又，亦可為藉由日本專利特開平7— 1331()5、日本專利特 開2002- 79616號公報、日本專利㈣鳩—贿η號 公報等中揭示之製法而獲得之氧切微粒。具有空隙之^ 化石夕微粒之製造簡肖，且其自身之硬度較高，因此於與: 合劑混合形成表面調整層時，其層強度有所提高，且 折：率調節為12(^.45左右之範圍内。具有空隙之有機 糸U粒之具體例’尤其可較佳地列舉使用日本專利特門 :〇。2—8。503號公報中揭示之技術製備之中空聚合物： :塗臈之内部及/或表面之至少一部分可形成奈米多 構化的微粒’除上述氧切微粒之外，可列舉：以 比表面積為目的而製造之， 曰 具死用e柱及表面之多孔部吸 附各種化學物質之緩釋材； 及 干刊，用以固疋觸媒之多孔微粒；或 63 200817727 用以合併至隔熱材料或低介電材料 丨电材枓為目的之中空微粒之分 散體或凝集體。其具體例，市售品 J目曰本SiliCa工業（股） 製之商品名Nipsil或Nipgel中利用炙了丨所产

Pg甲引用多孔質氧化矽微粒之集 合體，自日產化學工業（股）絮之且古 1又之具有虱化矽微粒連接為鏈 狀之構造的Colloidal Silica UP车歹u龠口々、士 糸歹J (商口口名）中利用本發明 之較佳粒徑範圍内者。 、「具有空隙之微粒」之平均粒徑為5 nm以上300 nm 以下，較佳為下限為8 nm以上、上限為1〇〇 nm以下更 佳為下限為1〇 nm以上、上限為8〇 nm以下。藉由使微粒 之平均粒徑於該範圍内，可賦予低折射率層優異之透明 性。再者，上述平均粒徑係藉由動態光散射法等而測量之 值。「具有空隙之微粒」’於上述低折射率層中相對於基 質樹脂⑽質量份，通常為G」〜5⑻f量份左^，較佳為 10〜200質量份左右。 於低折射率層之形成中，較佳為將上述低折射率層用 組成物之黏度設定為可獲得較佳之塗布性之〜$ cps(25C)、較佳為0.7〜3 cpS(25°C)之範圍。可實現可見光 線之優異之抗反射膜，且可形成均勻且無塗布不均之薄 膜，且可形成對基材之密合性特別優異之低折射率層。 樹脂之硬化方法，與凹凸層項中說明者相同。於為進 行硬化處理而利用加熱方法之情形時，較佳為將可由於加 熱而產生例如自由基，從而使聚合性化合物之聚合開始 的熱聚合起始劑，添加至氟系樹脂組成物中。 低折射率層之層厚（nm)dA，較佳為滿足下述式 64 200817727 dA= m\/ (4nA)( V) (上述式中， nA表示低折射率層之折射率， m表示正奇數，較佳為表示i， 為波長較佳為480〜580 nm之範圍之値）。 又’於本發明中，低折射率層滿足下述數式（VI): 120< nAdA< 145(VI) 於低反射率化之方面較佳。 透光丨生基材較佳為具備平滑性、财熱性，且機械強度 優異者。形成透光性基材之材料之具體例，可列舉聚酯（聚 對苯一曱酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯）、三乙酸纖維素、 二乙酸纖維素、乙酸丁酸纖維素、聚酯、聚醯胺、聚醯亞 胺、聚醚砜、聚砜、聚丙烯、聚甲基戊浠、聚氯乙烯、聚 乙烯醇縮醛、聚醚酮、聚曱基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、或 聚胺曱酸乙酯等熱塑性樹脂，較佳為聚酯（聚對苯二曱酸乙 二醋、聚萘二甲酸乙二酯）、三乙酸纖維素。 上述透光性基材，另外亦可使用具有脂環構造之非晶 您稀 fe 聚合物（Cycl〇 - Olefin - p〇lymer : c〇P)薄膜。其係 使用降冰片烯系聚合物、單環之環狀烯烴系聚合物、環狀 共輛二烯系聚合物、乙烯脂環族烴系聚合物樹脂等之基 材’例如曰本ΖΕΟΝ(股）製之ZEONEX或ZEONOR(降冰片 烯系樹脂）、SUMITOMO BAKELITE Co_，Ltd·製造之 Sumilite FS- 17〇0、JSR(股）製之Art〇n(改質降冰片烯系樹 脂）、三井化學（股）製之APEL(環狀烯烴共聚物）、Ticona 65 200817727 a司裏之Topas(%狀烯烴共聚物）、曰立化成（股）製之 OPTOREZ 0Z— 1000系列(脂環族丙婦酸系樹脂)等又， 三乙酸纖維素之代替其铋 & ^ 基材，旭化成化學（股）製之FV系列（低 雙折射率、低光彈性模數薄膜）亦較佳。 上述透光性基材，較佳為可將上述熱塑性樹脂使用為 富有柔軟性之薄膜狀體，相應要求硬化性之使用態樣，亦 可使用3等熱塑性樹脂板，或者亦可使用玻璃板之板狀體 者。 透光性基材之厚度，較佳為2〇_以上3〇”m以下， 更佳為上限為200陶，下限為3〇 _。於透光性基材為板 狀體之情形時，亦可為超過該等厚度之厚度（300 μηι以上10 賴左右）。基材於其上形成凹凸I、抗靜電層等時，為提 回接著|± ’除電暈放電處理、氧化處理等物理性處理之外， 亦可預先塗布被稱為固著劑或者底漆之塗料。 藉由本务明之光學積層體之製造方法而獲得之光學積 層體亦為本發明之一。Jfn μμ猶ρ > ϊ的 ^ 之。如此獲侍之光學積層體之表面之凹 /狀為於將凹凸之平均間隔設為Sm，將凹凸部之平 均傾斜角設為Θ a，將凹凸之平均粗糙度設為Rz之情形時，

Sm為50 μηι以上、未滿1〇〇 μηι， 為〇·ι度以上、i q度以下，

Rz為超過〇·2 、1 〇 μιη以下。 糟由製成滿足如此之數值者，可獲得較佳之效果。 即，藉由控制本發明之光學積層體之表面之形狀，而 控制光學特性。此處，±述「光學積層體之表面」，於防 66 200817727 眩層為單層之情形’防眩層為包含底凹凸層與表面調整層 之h i it而具有上述低折射率層及，或任意層之情形中 之任-情形時，均指與空氣接觸之最表面，如此之最表面 之凹凸形狀之光學特性值與本發明之光學積層體之表面凹 凸形狀之光學特性值一致。 [製造裝置] 本發明之製造裝置係於上述光學積層體之製造方法中 使用者。以下，使用圖對本發明之製造1置加以說明1 本發明之製造裝置並不限定於圖所示者。 第一製造裝置

本發明之第-製造裝置係於上述第一製造方法中使用 者，其係-種光學積層體之製造裝置，其特徵在於具有： 供給上述透光性基材及具有凹凸形狀之上述㈣性薄膜之 供給部；以及於上述透綠基材上形成上述防眩層之形成 部。裝置之概略並未具體圖示，可為表示本發明之第二製 造裝置之概要之圖9中，不具備具有與賦予凹凸層之凹凸 形狀相反之凹凸形狀之敎輥27與輥〜者。若將圖9相 作第-製造方法，貝"3為透光性基材，21為具有凹凸开: 狀之防眩性薄膜，於其間可設置接著層等。 第二製造裝置. 本發明之第二製造裝置係於上述第二製造方法中使用 者，其係一種光學積層體之製造裝置，其特徵在於具有： 於上述透光性基材上形成上述樹脂層’且對上述防眩層施 加凹凸形狀之形成部。 67 200817727 使用圖9說明第二製造裝置之概略。圖9係表示本發 明之第二製造裝置之概略圖。透光性基材21係經由作為 供給部之輥25a而供給，防眩層（無凹凸形狀）23係經由作 為供給部之輥25b而供給。供給之透光性基材21與防眩 層^藉由輥25a與輥25b而形成為一體。根據本發明之較 佳態樣，可列舉：設置供給接著劑（層）之供給部，使自該 供給部供給之接著劑（層）存在於透光性基材21與防眩層幻 之間，而使透光性基材21與防眩層23形成為一體。^成 為一體之透光性基材21與防眩層23，被導入具有與賦予 凹凸層之凹凸形狀相反之凹凸形狀22之壓紋輥π。形成 為一體之透光性基材21與防眩層23夾持於壓紋輥 輥25c中’於防眩層23上形成所期望之凹凸形狀，從而开; 成為光學積層體29。形成之光學積層體29經由概…二

為製品。 A 根據本發明之較佳態樣’上述形成部係具備具有盘上 迹凹凸層所具有之凹凸形狀相反之凹凸形狀之模具者，匕 壓紋輥27以外，亦可使用平㈣紋板。關㈣紋處理法: ㈣紋、平板壓紋板等，可與後述本發明之第四製 中說明者相同。 第三製造裝置 者，第三製造裝置係於上述第三製造方法中使用 者^、係先學積層體之製造裝置，其特徵在於具有：供终 =透純基材之供給部；於上料純基材 層用組成物(凹凸層用組成物)之戰予部；將上述防眩層用 68 200817727 組成物硬化，形成具有凹凸形狀之上述防眩層之形成部。 使用上述第三製造裝置而獲得之光學積層體表面之凹 凸，亦與使用上述第-製造裝置而獲得之凹凸形狀相同。 使用圖10說明第三製造裝置之概略。目10係表干本 發明之第三製造裝置之概略圖。透光性基材31係被作為 供給部之輥35a#35b夾持而供給。於作為供給部之觀35a = 35b之後方設置有塗布頭&藉由導管^自儲液部供 給防眩層用組成物34。供給之防眩層用組成物Μ朝向淹 :頭33之下部供給至開口之狹縫39。於供給之透光性： 用二自狹縫39賦予防眩層用組成^ 34，形成防眩層 用組成物34之層後，藉由設置於塗布頭33之後方之硬化 裝置38而進行硬化處理。藉此，防眩層用組成物34硬化， =層37上形成所期望之凹凸形狀，其後，於透光性 ^才上具備經硬化之防眩層37的光學積層體㈣，經 由輥35c而製造光學積層體。 第四製造裝置 之第四製造裝置係於上述第四製造方法中使用 具有：供給上述透光性基材之供給部；導入上述透 =基材且具有與形成於上述防眩層之表面之凹凸形狀相 =凸：狀之模具；對上述模具導入防眩層用組成物(凹 成物）之導人部；將上述防眩層㈣成物硬化，形 成具有凹凸形狀之上述防眩層之 造裝置而獲得之光學積層體表面#用上述第四製 一製造裝置而獲得之凹凸形狀相同凹凸’亦與使用上述第 69 200817727 使用圖11對第四製造裝置之一態樣之概略加以說明。 圖11係表示本發明之第四製造裝置（壓紋裝置4〇)之概略 圖。 透光性基材41係經由作為供給部之失輥45a而供給至 壓紋輥47。於該壓紋輥47之表面形成有與所期望之防眩 層之凹凸形狀相反形狀之凹凸形狀42。於壓紋輥叼之下 部設置有塗布頭4 3，葬ώ墓；^ /1 ώ 、士 a 精由¥官46自儲液部（未圖示）供給 防眩層用組絲44。供給之防眩層用組成物44朝向塗布 頭43之上部自開口之狹縫49供給。對壓紋輥叨之具有 凹凸形狀42之模具面職予防眩層用組成物44後，壓紋輕 47旋轉(圖之箭頭方向），於壓紋輥47之凹凸形狀42盥作 為供給部之夾輥45a之間，透光性基材41與防眩層用组成 物44密合。根據本發明之較佳態樣，可不於將防眩層用 組成物44賦予凹凸形狀42後，形成透光性基材41，而是 ==材41捲入壓紋輥47，並將防眩層用組成物“ ==之間，使透光性基…防眩層用組成物44 使透光性基材41與_層隸成物4 者移動至壓紋輕47之上部，藉由設置_ 之硬化裝置48而進行硬仆卢柿 —， ^ y a 错此’防眩層用組成物44 之層硬化，於透光性基材41 基材41 h且供， 上办成為—體。使透光性 才上八備經硬化之防眩層用組成物44 :體，伴隨I紋輥47之旋轉而移動，藉由剥離;、心 塗紋輥47剝離，製造附帶具有凹凸形狀之防眩層的光學 70 200817727 積層體。 根據本發明之笛m & 製造裝置，具有如下優點· τ 配微粒，即可獲得形 良2 .不必調 具有所期望之凹凸带处 的光學積層體。於本發 y 形狀之防眩層 、十、制、土士 久 ’凹凸形狀之形成可葬由访 之防眩層之形成方法中所述之方法U 法進行。 < 万去3相同之方 於本發明之製造裝置中，形成之 Γ 凸層，亦可焱山泛 日』兩早獨之凹 方了為由底凹凸層及設置於上述 調整層所構成吝 θ上之表面 :構成之夕層。於上述防眩層為單層之 猎由上述製造梦署你4、 寻了 # 4置形成凹凸層。於上述防眩層為多層之产 形％ ’上述製造裝置較佳 月 以万於μ — 仫為具有.形成底凹凸層之形成部； 以及於上述底凹凸層之/ 形狀之表面形成表面調整層之 二…述底凹凸層可藉由與上述凹凸層相同之方法而 二成’形成上述底凹凸層之形成部與形成上述防眩層之形 成部相同。 本發明係具有透光性基材及設置於該透光性基材上之 防眩層的光學積層冑，其特徵在於··上述防眩層係最表面 、有凹凸幵ν狀者’且係由含有樹脂與微粒而成之防眩層用 、、且成物而形成，上述樹脂與上述微粒之折射率差η為〇·2 以下’於將光學積層體表面之凹凸之平均間隔設為Sm， 將凹凸。卩之平均傾斜角設為0 a，將凹凸之平均粗糙度設為 Rz之情形時，

Sm為50 μιη以上、未滿1〇〇陣， 0a為ο·〗度以上、1〇度以下， 71 200817727 RZ 為超過 〇·2 μπι、1·〇 μπι 以下。 同之層之形成可藉由與上述防眩層之形成方法相 成物，可歹。含有上述樹脂與微粒而成之防眩層用組 成物了料與上述形成凹 用組成物相同者。 巾使用之凹凸層 獲得^述^Rz值可藉由與上述方法相同之方法而 於本黍明中，樹脂與微粒之折射率差η為 Ϊ 差：較佳為相應態樣調整為所期望之範圍内： =而二於第一態樣中，較佳為上述折_ 上，上限較二。·^^ 第一能樣中一 為〇.1 〇以下。於如此之 内，ΐ對光^由使樹脂與微粒之折射率差η為上述範圍

等之影像不均，以及= = 可有效地防止LCD L· 積層體時“ 來自月先源專背面之透射光通過光學 ==之閃爍(看上去耀眼而閃爍)。光學積層體， 射率差Π之特性之情料’較料將樹脂與微粒之折 耵半差11设為上述範圍内。 率差t為方〇面’於第二態樣中，較佳為樹脂與微粒之折射 佳為。地以上，上=下限較佳為〇.〇… 下。，由傕 、車“土為0·03以下’更佳為是0.01以 現高==與微粒之折射率“為上述範圍内，可實 性之情心丫蜀度值。光學積層體，於欲實現如此之特 月形時’較佳為將樹脂與微粒之折射率差U為上述 72 200817727 範圍内。上述第 CRT、ELD 等中。 於本發明中，樹脂與微粒之折 舎匕样 *広门丄 1町手差η存在上述兩種 :樣。其原因在於··其係用以發揮各種光學積層體分別需 求之光學特性，尤其發揮對於使 使用有本發明之光學積層體 之液曰日、、、PDP、CRT等之各面板之模式最適合之光學特性。 述光予積層體，較佳為自防眩層之層厚h师減去 上述微粒之平均粒徑R㈣而得之值「h_r」為〜以 上、以下。下限更佳為〇.8μιη以上，再更佳為1〇_ 以上上限更佳為18 μη1以下再更佳為W㈣以下。於 制兩種以上微粒之情形時，將最大之粒徑作為R而求取。、 猎由使「H-R」為上述範圍内，可使由微粒形成之凹凸形 狀成為可維持防眩性之水準。於超過上限值之情形時 滑性過高，導致無法維持防眩性。

U 上述光學積層體，較佳為才艮據本發明之較佳態樣，於 =述微粒之每單位面積之總質量設》mi上述樹脂之 ^單，面積之總質量設為M之情形時，上述微粒與上述樹 之每單位面積之總質量比〇 〇1以上、丨.2以下， πϋ Α 〇·〇12以上’更佳為0 015以上，上限較佳為工〇 以下，更佳為〇·3以下。 · Χ下说明本發明中必需之各種參數之定義及測量方 法。 折射率之測量 表面調整層等硬化後之塗膜之折射率係藉由阿貝折射 73 200817727 計，依據JIS K7142而測量。 折射率•層厚之測量 折射率及層厚，除上述記載之方法以外，亦可以如 方式求得。對於積層有欲測量之膜的薄膜之分光反射率下 藉由島津製作所製造之MPC3 100分光光度計，對5。單j 反射率光譜於380〜780 nm之波長範圍内進行測量，向 者’於測量5°單向反射率之情料，為防止作為光里學積 te之薄膜之背面反射，與測量膜面之相反側，貼上黑膠帶、( ，製造）而測量）自該光譜之χ/4值算出光學層厚，基l此 异出折射率。又，自反射光譜之結果算出層厚。此處，採 用5 50 nm之折射率作為代表值。 木 濁度值 濁度值可基於JIS K 一 7136而測量。測量中所使用之 設備，可列舉反射·透射率計HR—150(村上色彩技術研究 所）°濁度值係使塗布面朝向光源而測量。 表面濁度值係以如下方式而求得。於光學積層體最表 凹凸上，以線棒塗布以甲苯等稀釋季戊四醇三丙烯酸 酯等樹脂（包含單體或低聚合物等樹脂成分）而形成之固體 成刀為60/^者，以使乾燥層厚成為8 。藉此，破壞防 眩層之表面凹成為平坦之層。其中於因於形成光學積 層體之組成物中添加整平劑等而使再塗布劑易於被排斥而 難以潤濕之情形時，可藉由預先對防眩薄膜進行皂化處理（2 細1/1之NaOH(或K0H)溶液55度3分鐘浸潰後，進 盯水洗，以拭鏡紙（kimwipe)完全除去水滴後於5〇度之 74 200817727 烘箱中乾燥1公#、 ^ ^ ^ 刀％ )’而貫靶親水處理。該表面平坦之薄膜 A A表面凹凸產生之濁度值，而成為僅具有内部濁度 :直之：悲、。可求出該濁度值作為内部濁度值。繼而，自本 來之薄膜之/蜀度值（整體濁度值）減去内部濁度值而求得之 值，係僅由表面凹凸產生之濁度值（表面濁度值）。上述内 部濁度值較佳為60以下。 本發明亦為一種偏光板，其係具備偏光元件而成之偏 ， 光板，其特徵在於：進行於上述偏光元件之表面貼合透光 性基材之操作等，而具備本發明之光學積層體。 上述偏光元件，並無特別限定，例如，可使用以碘等 染色，經延伸之聚乙烯醇薄膜、聚乙烯甲醛薄膜、聚乙烯 縮醛薄膜、乙烯一乙酸乙烯酯共聚物系皂化薄膜等。於上 述偏光元件與本發明之光學積層體之層壓處理中，較佳為 對透光性基材（較佳為，三乙醯纖維素薄膜）進行皂化處理。 藉由皂化處理，接著性變得良好，亦可獲得抗靜電效果。 本發明亦為一種影像顯示裝置，其係具備透過性顯示 體、以及自背面照射上述透過性顯示體之光源裝置而成 者，其特徵在於：於上述透過性顯示體之表面具備本發明 之光學積層體或本發明之偏光板。 本發明之影像顯示裝置基本由光源裝置與顯示元件與 本發明之光學積層體而構成。影像顯示裝置用於透射型顯 示裝置，尤其用於電視、電腦、文字處理器等之顯示器顯 示中。尤其用於CRT、PDP、液晶面板等高精細影像用顯 不為之表面。 75 200817727 一 t本發明之影像顯示裝置為液晶顯示裝置之情形時， 光源衣置之光源自本發明之光學積層體之下側照射。再 'N型液晶顯示裝置中，於液晶顯示元件與偏光板 之間插入相位差板。可視需要於該液晶顯示裝置之各層間 設置接著劑層。 藉由本發明之光學積層體之製造方法，可製造同時具 有防眩性、抗閃爍性、亮黑感等黑色再現性等性質的光學 積層體。 【實施方式】 以下’基於實施例更詳細地說明本發明。藉由下述實 施態樣對本發明之内容加以說明，但本發明之内容並非限 定於該4實施態樣而解釋者。無特別說明之情況下，「份」 及「％」係質量基準。 單層防眩層用組成物1 (紫外線硬化型樹脂） 季戊四醇三丙烯酸酯（PETA)(曰本化藥製造，折射率 1.51) : 65質量份 異三聚氰酸改質二丙烯酸酯M215(東亞合成（股）製）·· 35質量份 聚曱基丙烯酸甲酯（分子量75,000) : 10質量份 (光硬化起始劑） 依魯加居亞 184(Ciba Specialty Chemicals(股）製）：6 質量份 76 200817727 依 _ 加居亞 907(Ciba Specialty Chemicals(股）製）：i 質量份 (透光性第一微粒） 單刀政丙烯酸糸珠粒（粒徑3 · 〇 ，折射率1535): 5 質量份 (透光性第二微粒） 苯乙稀珠粒（綜研化學（股）製，粒徑3·5 μιη，折 1·60) : 7質量份 (整平劑） ♦石夕氧系整平劑大曰精化（股）製：〇·〇45質量份 (溶劑） 甲苯：64質量份 環已酮：16質量份 充分混合上述材料，製備為組成物。以孔徑為30 之來丙烯製過濾器過濾該組成物，製備固體成分為60質 夏％之單層防眩層用組成物1。 單層防眩層用組成物2 (备'外線硬化型樹脂） 季戊四醇三丙烯酸酯（ΡΕΤΑ)(折射率1.51) : 20質量份 乙酸丙酸纖維素（分子量50,000) : 〇_4質量份 (光硬化起始劑） 依自、加居亞 1 84(Ciba Specialty Chemicals(股）製）：1.2 質量份 依 _、加居亞 907(Ciba Specialty Chemicals(股）製）：〇·2 77 200817727 質量份 (微粒） 進行有藉由矽烧偶合 無定形氧化矽（平均粒徑15 劑之表面疏水處理）·· 〇·88質量份 (整平劑） t秒氧糸整平劑 大B # ηπ»、4,1 X曰積化（月又）製：0.012質量份 (溶劑） ' 甲苯：35質量份 甲基異丁酮：6.7質量份 充刀此5上述材料，製備為組成物。以孔徑為3 0 μιη 之來丙烯製過濾器過濾該組成物，製備固體成分為35質 量％之單層防眩層用組成物2。 單層防眩層用组成物3 (紫外線硬化型樹脂）

季戊四醇三丙烯酸酯（ΡΕΤΑ)(折射率1.51) : 20質量份 聚曱基丙烯酸甲酯（分子量75,000) : 1質量份 (光硬化起始劑） 依魯加居亞 184(Ciba Specialty Chemicals(股）製）：L2 質量份 依魯加居亞 907(Ciba Specialty Chemicals(股）製）·· 〇·2 質量份 (微粒） 單分散苯乙烯珠粒（粒徑3_5 μπι，折射率1.60) : 1·2質 量份 78 200817727 (整平劑） 聚矽氧系整平劑 大日精化（股）製：0.012質量fv (溶劑） 甲苯：37.2質量份 曱基異丁酮：6.6質量份 30 μπι 35質

充分混合上述材料’製備為纟且成物。以孔徑為 之聚丙烯製過濾器過濾該組成物，製備固體成分為 量％之單層防眩層用組成物3。 單層防眩層用組成物4 (紫外線硬化型樹脂） 季戊四醇三丙烯酸酯（ΡΕΤΑ)(折射率1.51): 12 〇所旦 • 貝量 異三聚氰酸改質二丙烯酸酯Μ215(東亞合成（股）擎）· 8·〇質量份 聚曱基丙稀酸甲酯（分子量75，000): 2質量份 (光硬化起始劑） 依魯加居亞 1 84(Ciba Specialty Chemicals(股）製）：1 32 質量份 依魯加居亞 907(Ciba Specialty Chemicals(股）製）：〇 22 質量份 (透光性第一微粒） 早分散苯乙稀一丙稀酸共聚合珠粒（粒徑3.5 μπι，折射 率1.555) : 4.84質量份 (透光性第二微粒） 79 200817727 單分散苯乙烯珠粒（粒徑3·5 μηι，折射率1·60) : 〇·55 質量份 (整平劑） 聚矽氧系整平劑大曰精化（股）製·· 0.0077質量份 添加上述材料與甲苯：環己酮為6 : 4之溶劑，充分混 合，製備為總固體成分為38質量％之組成物。以孔徑為3〇 μηι之聚丙烯製過濾器過濾該組成物，製備單層防眩層用 組成物4。 單層防眩層用組成物5 (樹脂） 乙酸丙酸纖維素酯（伊士曼化學有限公司製造，CAP482 一 20) · 0.95質量份 反應性低聚合物[於（甲基）丙烯酸一（甲基）丙烯酸酯共 聚物之羧基之一部分上，加成丙烯酸3，4一環氧環己烯基 甲酯而成的化合物；DAICEL UCB(股）製，CYCLOMER-Ρ] : 16.25質量份 二季戊四醇六丙烯酸酯（DPHA) : 15.8質量份 (光聚合起始劑） 依魯加居亞 184(Ciba Specialty Chemicals 製）：25 質 量份 (溶劑） 甲基乙基酮·· 51質量份 丁醇：17質量份 適宜添加上述材料並充分混合。以孔徑為3 0 μηι之聚 200817727 丙烯製過濾器過濾該組成物，製備固體成分為33 ·5質量％ 之單層防眩層用組成物5。 單層防眩層用組成物6 (紫外線硬化型樹脂） 季戊四醇三丙烯酸酯（ΡΕΤΑ)(折射率1.51) : 50質量份 (光硬化起始劑） 依魯加居亞 184(Ciba Specialty Chemicals(股）製）：1.50 質量份 依魯加居亞 907(Ciba Specialty Chemicals(股）製）：1.50 質量份 將PETA於40°C烘箱中保暖1小時後，一邊緩慢添加 兩種光硬化起始劑一邊加以攪拌，於40°C烘箱中進而保暖 1小時’其後，再次攪拌使光硬化起始劑完全溶解，製備 固體成分為100質量％之單層防眩層用組成物6。 單層防眩層用組成物7 (紫外線硬化型樹脂） 多官能胺甲酸乙酯丙烯酸酯UV1700B(日本合成化學 工業（股）製 折射率1.51): 16質量份 異三聚氰酸改質二丙烯酸酯M215(東亞合成（股）製）： 2質量份 聚曱基丙烯酸曱酯（分子量75,〇〇〇) : 2質量份 (光硬化起始劑） 依4、加居亞184((1；化3 806(^11;/〇161111。&18(股）製）.1.2 質量份 81 200817727 依魯加居亞 907(Ciba Specialty Chemicals(股）製）：〇·2 質量份 (微粒） 單分散苯乙烯珠粒（粒徑3.5 μιη，折射率ι·6〇): 〇·6質 量份 (整平劑） 聚石夕氧系整平劑 大曰精化（股）製：0.0132質量份 添加上述材料與甲苯：環己酮為6 : 4之溶劑，充分混 合’製備為總固體成分為40質量％之組成物。以孔徑為3〇 μιη之來丙_製過渡器過渡該組成物，製備單層防眩層用 組成物7。 單層防眩層用組成物8 (紫外線硬化型樹脂） 季戊四醇三丙烯酸酯（ΡΕΤΑ)(折射率1·51): 12.0質量 份 異三聚氰酸改質二丙烯酸酯M215(東亞合成（股）製）： 8.0質量份 聚曱基丙烯酸甲酯（分子量75,000) : 2質量份 (光硬化起始劑） 依魯加居亞 1 84(Ciba Specialty Chemicals(股）製）：1.32 質量份 依魯加居亞 907(Ciba Specialty Chemicals(股）製）：0.22 質量份 (透光性第一微粒） 82 200817727 單分散丙烯酸系珠粒（粒徑2·〇 μιη，折射率153) : 4 質量份 (透光性第二微粒） 單刀放本乙坤珠粒（粒徑1.3 ，折射率1.60):6質 量份 (整平劑） 聚矽氧系整平劑大曰精化（股）製·· 〇·0077質量份 / 添加上述材料與曱苯··環己酮為6 ·· 4之溶劑，充分混 合’製備為總固體成分為38質量％之組成物。以孔徑為3〇 μιη之聚丙烯製過濾器過濾該組成物，製備單層防眩層用 組成物8。 底凹凸層用組成物 底凹凸層用組成物i (紫外線硬化型樹脂） 季戊四醇三丙烯酸酯（PETA)(折射率1.51):2.18質量 份 二季戊四醇六丙烯酸酯（DPHA)(折射率1.51) : 0.98質 量份 聚曱基丙烯酸曱酯（分子量75,000) : 0.3 1質量份 (光硬化起始劑） 依魯加居亞 184(Ciba Specialty Chemicals(股）製）：0.20 質量份 依魯加居亞 907(Ciba Specialty Chemicals(股）製）：0·03 質量份 83 200817727 (透光性第一微粒） 早^刀散丙烯酸系珠粒（粒# 9·5 _，折射率ΐ 5 :〇·74 質量份 (透光性第二微粒） "、、疋Α氧化石夕墨水（平均粒# 15陣，固體成分6〇%， 氧化石夕成分為總固體成分之15%):】46質量份 (整平劑） ♦石夕氧系整平劑大日精化（股）製：〇 〇2質量份 (溶劑） 曱苯：5.53質量份 環己酮：1_55質量份 充分混合上述材料，製備為固體成分為4〇·5質量％之 組成物。以孔徑為30 μηι之聚丙烯製過濾器過濾該組成物， 製備底凹凸層用組成物1。 底凹凸層用組成物2 (紫外線硬化型樹脂） 季戊四醇三丙烯酸酯（ΡΕΤΑ)(折射率1·51):2·20質量 份 異三聚氰酸改質二丙烯酸酯M2 15(日本化藥（股）製， 折射率1·51) : 1.21質量份 聚甲基丙烯酸曱酯（分子量75,000) : 0.34質量份 (光硬化起始劑） 依魯加居亞184((1；化&8口6(^&117(1；1^11^。&15(股）製）：〇22 質量份 84 200817727 依魯加居亞 907(Ciba Specialty Chemicals(股）製）：〇_〇4 質量份 (透光性第一微粒） 單分散丙浠酸系珠粒（粒徑9.5 μπι，折射率1.5 3 5): 0· 82 質量份 (透光性第二微粒） 無定形氧化矽墨水（平均粒徑1·5 μη，固體成分6〇%， 氧化矽成分為總固體成分之15% ) : 1.73質量份 (整平劑） 聚矽氧系整平劑 大日精化（股）製：0.02質量份 (溶劑） 甲苯：5.88質量份 環己酮·· 1 · 5 5質量份 充分混合上述材料，製備為固體成分為4〇·5質量％之 組成物。以孔徑為30 μηι之聚丙烯製過濾器過濾該組成物， 製備底凹凸層用組成物2。 底凹凸層用組成物3 (透光性第一微粒） 單分散丙烯酸系珠粒（粒徑7.0 μηι，折射率153 5) : 2〇 質量份 (透光性第二微粒） 早刀月欠本乙細珠粒（粒控3·5 μπι，折射率160): 165 質量份 (透光性弟三微粒） 85 200817727 無定形氧化矽：平均粒徑2.5 μηι : 2質量份 (紫外線硬化型樹脂） 季戊四醇三丙烯酸酯（ΡΕΤΑ)(折射率1.51): 1〇〇質量 份 (光硬化起始劑） 依魯加居亞 184(Ciba Specialty Chemicals(股）製）· 6 質量份 依魯加居亞 907(Ciba Specialty Chemicals(股）製）：1 質量份 (聚合物） 聚甲基丙烯酸甲酯（分子量75000) : 1〇質量份 (整平劑） 聚石夕氧系整平劑 大曰精化（股）製：0.045質量份 (溶劑） 甲苯：174·4質量份 環己酮：43·6質量份 適宜添加上述材料並充分混合。以孔徑為3〇 μηι之聚 丙稀製過濾器過濾該組成物，製備固體成分為40.5質量％ 之底凹凸層用組成物3。 底凹凸層用組成物4 (透光性第一微粒） 單为政丙細酸系珠粒（粒控7 · 0 μηι，折射率ι·535): 20 質量份 (透光性第二微粒） 86 200817727 單分散笨乙稀珠粒（粒徑3·5 μιη，折射率ι·6〇) : 2 5所 量份 $ (透光性第三微粒） 播定形氧化石夕：平均粒徑2 ·5 μηι : 2質量份 (紫外線硬化型樹脂） 季戊四醇三丙烯酸酯（ΡΕΤΑ)(曰本化藥（股）製，折射率 1·51) : 1〇〇質量份 (光硬化起始劑） 依魯加居亞 184(Ciba Specialty Chemicals(股）製）：6 質量份 依魯加居亞 907(Ciba Specialty Chemicals(股）製）：1 質量份 (聚合物） 聚甲基丙烯酸曱酯（分子量75000) : 10質量份 (整平劑） 聚矽氧系整平劑 大曰精化（股）製：0.045質量份 (溶劑） 曱苯：158質量份 環己酮：39·5質量份 適宜添加上述材料並充分混合。以孔徑為3 0 μιη之聚 丙烯製過濾器過濾該組成物，製備固體成分為40.5質量％ 之底凹凸層用組成物4。 底凹凸層用組成物5 (紫外線硬化型樹脂） 87 200817727 多官能胺甲酸乙酯丙烯酸酯UV1700B(日本合成化學 工業（股）製 折射率1.51) : 16質量份 異三聚氰酸改質二丙烯酸酯M2 1 5(東亞合成（股）製）： 4質量份 聚甲基丙烯酸甲酯（分子量75,000) : 2質量份 (光硬化起始劑） 依魯加居亞 1 84(Ciba Specialty Chemicals(股）製）：1 ·2 質量份 依魯加居亞 907(Ciba Specialty Chemicals(股）製）：0.2 質量份 (微粒） 單分散苯乙細珠粒（粒控3 · 5 μηι，折射率ι_6〇): 1·78 質量份 (整平劑） χκ石夕氧系整平劑大日精化（股）製：〇·〇 132質量份 添加上述材料與甲苯：環己酮為6 : 4之溶劑，充分混 °製備為總固體成分為20質量％之組成物。以孔徑為30 μη之聚丙烯製過濾器過濾該組成物，製備底凹凸層用組 成物6。 底凹凸層用組成物6 (透光性第一微粒） 早分散丙烯酸系珠粒（粒徑7〇 μιη，折射率1535) : 質量份 (透光性第二微粒） 88 200817727 單分散苯乙烯珠粒（粒徑3.5 μπ1，折射率l.6〇) : 33質 量份 (透光性第三微粒） 無定形氧化矽：平均粒徑2.5 μιη : 1質量份 •(备、外線硬化型樹脂） 季戊四醇三丙烯酸酯（ΡΕΤΑ)(折射率1.51): 100質量 份 (光硬化起始劑） 依魯加居亞 184(Ciba Specialty Chemicals(股）製）：6 質量份 依魯加居亞 907(Ciba Specialty Chemicals(股）製）：1 質量份 (聚合物） 聚甲基丙烯酸甲酯（分子量75000) : 10質量份 (整平劑） 聚矽氧系整平劑 大日精化（股）製：0.045質量份 (溶劑） 曱苯：205,3質量份 環己酮：51.3質量份 適宜添加上述材料並充分混合。以孔徑為3 0 μηι之聚 丙烯製過濾器過濾該組成物，製備固體成分為40質量％ 之底凹凸層用組成物7。 表面調整層用組成物1 (紫外線硬化型樹脂） 89 200817727 UVl 700B(曰本合成化學工業股份有限公司 折射率 1_51) : 31.1 質量份 亞隆尼克斯Μ315(商品名，東亞合成（股）製 異三聚 氰酸之環氧乙烷3莫耳加成物之三丙烯酸酯）：1 〇·4質量份 (光硬化起始劑） 依魯加居亞 184(Ciba Specialty Chemicals(股）製）：1 49 質量份 依魯加居亞 907(Ciba Specialty Chemicals(股）製）：〇·4ΐ 質量份 (防污劑） UT — 3971(曰本合成化學工業（股）製）：2.07質量份 (溶劑） 甲苯：48.76質量份 環己酮：5.59質量份 充分混合上述成分而製備為組成物。 以孔徑為1 0 μιη之聚丙烯製過濾器過濾該組成物，製 備固體成分為45質量％之表面調整層用組成物1。 表面調整層用組成物2 (紫外線硬化型樹脂） UV1700B(曰本合成化學工業（股）製折射率ΐ·51): 3 1.1質量份 亞隆尼克斯Μ315(商品名，東亞合成（股）製異三聚 氰酸之環氧乙烧3莫耳加成物之三丙烯酸酯）：1 〇4質量份 (光硬化起始劑） 200817727 依魯加居亞 184(Ciba Specialty Chemicals(股）製）：1 49 質量份 依魯加居亞 907(Ciba Specialty Chemicals(股）製）：〇 41 質量份 (防污劑） UT — 3971(曰本合成化學工業（股）製）：2.07質量份 (溶劑） 曱苯：525.18質量份 環己酮·· 60.28質量份 充分混合上述成分而製備為組成物。 以孔徑為1 0 μιη之聚丙稀製過濾器過渡該組成物，製 備固體成分為40.5質量％之表面調整層用組成物2。 表面調整用組成物3(P/V= 30/ 100) 矽膠研漿（MIBK分散）；固體成分40%，平均粒徑20 nm : 2.91質量份 (紫外線硬化型樹脂） UV— 1700B(紫外線硬化型樹脂；日本合成化學工業製 造固體成分為60%之MIBK) : 6.10質量份 亞隆尼克斯M215(紫外線硬化型樹脂；東亞合成製造 異三聚氰酸之環氧乙烷2莫耳加成物之二丙烯酸酯 固體 成分為60%之MIBK) : 1.52質量份 (光硬化起始劑） 依魯加居亞 184(光硬化起始劑；Ciba Specialty Chemicals 製）：0.018 質量份 91 200817727 依魯加居亞907(光硬化起始劑；ciba Specialty Chemicals 製）：〇·〇〇3 質量份 (整平劑） 聚矽氧系整平劑 大日精化（股）製：0.0085質量份 (溶劑） ΜΙΒΚ :甲基異丁酮：2.06質量份 環己酮：〇·41質量份 充分混合上述成分而製備為組成物。以孔徑為3 〇 之聚丙烯製過濾器過濾該組成物，製備固體成分約為45 質量％之表面調整層用組成物3。 實施例1 底凹凸層之形成 使用厚80 μηι之三乙酸纖維素薄膜（TD8〇u富士軟片 (股）製）作為透明基材，使用塗布用卷線棒（梅耶棒）# 14將 底凹凸層用組成物1塗布於薄膜上，於7(rc之烘箱中加熱 乾燥1分鐘，使溶劑成分蒸發後，照射紫外線以使照射線 量成為30 mj，使塗膜硬化，從而形成底凹凸層。 表面調整層之形成 進而使用塗布用卷線棒（梅耶棒丨2，將表面調整層 用組成物1塗布於底凹凸層上，於7(rc之烘箱中加熱乾燥 1分鐘，使溶劑成分蒸發後，於氮氣沖洗下（氧濃度為200 ppm以下），照射紫外線以使照射線量成為1⑽以了，使塗 膜硬化，從而積層表面調整層，獲得防眩性光學積層體。 (基材上之防眩層之總厚度：約16·5 μιη) 92 200817727 實施例2 底凹凸層之形成 使用厚80 μΐη之三乙酸纖維素薄膜（τ〇8〇υ富士軟片 (股）製）作為透明基材，使用冷右 W便用土布用卷線棒（梅耶棒）# 14將 底凹凸層用組成物4塗布於薄膜上，⑨抓之㈣中加敎 ^ 1分鐘，使㈣成分蒸發後，照射紫外線以使照射線

直成為3〇 mJ，使塗膜硬化，從而形成底凹凸mu 凸層中’使用與黏合劑樹腊之折射率差最大為請之微 粒，藉此獲得内部擴散效果，可更有效地防止閃燦。 表面調整層之形成 進而使用塗布用卷線棒（梅耶棒）#10，將表面調整層 用組成物3塗布於底凹凸層上，於抓之供箱中加熱乾燥 1分鐘，使溶劑成分蒸發後，於氮氣沖洗下（氧濃度為2〇〇 PPm以下）’照射紫外線以使照射線量成為100 mJ，使塗 膜硬化，積層表面調整層，獲得防眩性光學積層體。 (基材上之防眩層之總厚度：約12.5 μιη) 實施例3 底凹凸層之形成 使用厚80 μηι之三乙酸纖維素薄膜（TD8〇u富士軟片 (股）製）作為透明基材，使用塗布用卷線棒（梅耶棒）# 14將 底凹凸層用組成物3塗布於薄膜上，於7(rc之烘箱中加熱 乾燥1分鐘’使溶劑成分蒸發後，照射紫外線以使照射線 ϊ成為30 mJ，使塗膜硬化，從而形成底凹凸層。於底凹 凸層中’使用與黏合劑樹脂之折射率差最大為〇.〇9之微 93 200817727 粒’藉此獲得内部擴散效果，可更有效地防止閃燦。 表面調整層之形成 進而使用塗布用卷線棒（梅耶棒）# 8，將表面調整層用 組成物3塗布於底凹凸層上，於赃之烘箱中加熱乾^ 分鐘’使溶劑成分蒸發後’於氮氣沖洗下(氧濃度為200 ppm 以下）’照射紫外線以使照射線量成& 1〇〇⑽，使塗膜硬 化，積層表面調整層，獲得防眩性光學積層體。 (基材上之防眩層之總厚度；約1〇 5卩叫 實施例4 底凹凸層之形成 使用厚100 μιη之雙軸延伸聚對苯二甲酸乙二酿薄膜 (東洋m司製造，商品名「Α4則」）作為透明基材，使 用=用卷線棒（梅耶棒）#14將底凹凸層用組成物2塗布 於溥肤上，於7〇t之烘箱中加熱乾燥1分鐘，使溶劑成分 蒸發後，照射紫外線以使照射線量成& 3G‘使塗膜硬 化’從而形成底凹凸層。 、 表面調整層之形成 進而使用塗布用卷線棒（梅耶棒）# 1〇，將表面調整層 1用^成物2塗布於底凹凸層上，於7〇。〇之洪箱中加熱乾燥 刀鐘，使溶劑成分蒸發後，於氮氣、冲洗下（氧濃度為2〇〇 以下），照射紫外線以使照射線量成為1〇〇 mJ，使塗 胰硬化，積層表面調整層，獲得防眩性光學積層體。 (基材上之防眩層之總厚度··約15.0 μιη) 實施例5 94 200817727 防眩層之形成 使用厚80 μηι之三乙醯纖維素薄膜（TD80U，富士軟片 (股）製）作為透明基材，使用塗布用卷線棒（梅耶棒）# 6將 單層防眩層用組成物8塗布於薄膜上，於70°C之烘箱中加 熱乾燦1分鐘，使溶劑成分蒸發後，於氮氣沖洗下（氧濃度 為200 ppm以下），照射紫外線以使照射線量成為i〇〇 mj， 使塗膜硬化，從而形成防眩性光學積層體。於基礎防眩層 中’使用與黏合劑樹脂之折射率差最大為0.09之微粒，藉 此獲得内部擴散效果，可更有效地防止閃燦。 (基材上之防眩層之總厚度：2.6 μηι) 實施例6 防眩層之形成 使用厚80 μηι之三乙醯纖維素薄膜（τ〇8〇υ，富士軟片 (月又）製）作為透明基材，使用塗布用卷線棒（梅耶棒）# 6將 單層防眩層用組成物i塗布於薄膜上，於7〇它之烘箱中加 熱乾蚝1分鐘，使溶劑成分蒸發後，於氮氣沖洗下（氧濃度 為200 Ppm以下），照射紫外線以使照射線量成為i〇〇mj， 使塗膜硬化，從而形成防眩性光學積層體。於基礎防眩層 中，使用與黏合劑樹脂之折射率差最大為〇〇9之微粒，藉 此獲得内部擴散效果，可更有效地防止閃爍。（基材上之防 眩層之總厚度：約5 μηι) 實施例7 壓紋輥之製備 準備鐵製之輥，於輥之表面，使用1〇〇網目（粒徑分布： 95 200817727 106 μηι〜150μιη)之玻璃珠粒，進行珠擊，藉此形成凹凸， 於所製得之凹凸面鍍鉻以使厚度成為5 μηι，製成壓紋觀。 藉由調整珠擊時之喷射壓力、噴射喷嘴與輥之間隔等，製 成適合本發明之光學積層體所具有之防眩層之凹凸形狀之 光學特性的壓紋親。 底塗層之形成 將聚胺甲酸乙醋樹脂系之底漆（The Inctec Inc·(股）製， 化學疫光清漆（chemical matte varnish)用介質主劑，硬化劑 (XEL硬化劑（D))，以主劑/硬化劑/溶劑之質量比為i 〇 / 1 / 3.3之比例混合而形成組成物，使用該組成物，對厚 100 μηι之聚對苯二曱酸乙二酯樹脂薄膜（東洋紡（股）製，商 品編號：Α4300)進行凹板印刷式塗布，加以乾燥，形成厚 3 μπι之底塗層。溶劑，可使用甲苯/曱基乙基酮=1 / 1。 防眩層之形成 於圖10所示之本發明之第四製造裝置（壓紋裝置47) 上，安奴製備之壓紋輥，又，將製備之單層防眩層用組成 物6供給至塗布頭之儲液部。儲液部一直保持為4〇它之溫 度。繼而，將形成有上述底塗層之聚對苯二曱酸乙二酯樹 脂薄膜供給至壓紋輥。將單層防眩層用組成物6塗布於壓 紋輮上，將聚對苯二曱酸乙二酯樹脂薄膜疊合於該組成物 上，以橡膠輥進行層壓，繼而自薄膜側，使用紫外線光源 妝射200 mj之紫外線而使之硬化，自壓紋輥剝離，形成防 眩層（基材上之防眩層之總厚度：約Ι5μπι) 實施例8 96 200817727 防眩層之形成 使用厚80 μιη之三乙酸纖維素薄膜（TD8〇u富士軟片 (月又）衣）作為透明基材，使用塗布用卷線棒（梅耶棒）# 24將 單層防眩層用組成物5塗布於薄膜上，於80°C之供箱中加 熱乾燥2分鐘，使溶劑成分蒸發，並藉由自液相之旋節分 解而形成相分離型凹凸層，其後，照射紫外線以使照射線 量成為100 mj，使塗膜硬化而形成防眩層。（基材上之防 眩層之總厚度：約8·0 μιη) 貫施例9 底凹凸層之形成 使用厚80 μηι之三乙醯纖維素薄膜（TD8〇u，富士軟片 (月又）製）作為透明基材，使用塗布用卷線棒（梅耶棒）#丨4將 底凹凸層用組成物6塗布於薄膜上，於7(rc之烘箱中加熱 乾燥1分鐘，使溶劑成分蒸發後，照射紫外線以使照射線 量成為30 mj，使塗膜硬化而形成底凹凸層。於底凹凸層 中，使用與黏合劑樹脂之折射率差最大為0·09之微粒，藉 此獲得内部擴散效果，可更有效地防止閃爍。 表面調整層之形成 進而使用塗布用卷線棒（梅耶棒）# 16，將表面調整層 用組成物3塗布於底凹凸層上，於7〇t之烘箱中加熱乾燥 1分鐘，使溶劑成分蒸發後，於氮氣沖洗下（氧濃度為2〇〇 ppm以下），照射紫外線以使照射線量成為1〇〇 mj，使塗 膜硬化，積層表面調整層，獲得防眩性光學積層體。 (基材上之防眩層之總厚度：16 μιη) 97 200817727 比較例1 防眩層之形成 使用厚80 μΐη之三乙醯纖維素薄膜（TD8〇u，富士軟片 t )衣）作為透明基材，使用塗布用卷線棒（梅耶棒）# 6將 :層防眩層用組成物2塗布於薄膜上，於7GX：之烘箱中加 熱乾燥1分鐘，使溶劑成分蒸發後，於氮氣沖洗下（氧濃度 為2〇〇PPm以下），照射紫外線以使照射線量成為i〇〇mj = 吏义膜更化，從而开）成防眩性光學積層體。該防眩層中， 於黏合劑内部氧化矽凝集，其凝集塊或分散狀態之氧化矽 形成凹凸形狀。（基材上之防眩層之總厚度··約3 μηι) 比較例2 防眩層之形成 使用厚80 μιη之三乙醯纖維素薄膜（TD8〇u，富士軟片 (股）製）作為透明基材，使用塗布用卷線棒（梅耶棒）#8將 單層防眩層用組成物3塗布於薄膜上，於7(rc之烘箱中加 熱乾燥1分鐘，使溶劑成分蒸發後，於氮氣沖洗下（氧濃度 為200 ppm以下），照射紫外線以使照射線量成為1〇〇 mJ， 使塗膜硬化，從而形成防眩性光學積層體。（基材上之防眩 層之總厚度·約3 · 8 μπι) 比較例3 防眩層之形成 使用厚80 μηι之三乙醯纖維素薄膜（TD80U，富士軟片 (月又）製）作為透明基材，使用底凹凸層用組成物3作為防眩 層用組成物，使用塗布用卷線棒（梅耶棒）# 12塗布於薄膜 98 200817727 上於70 C之烘相中加熱乾燥i分鐘，使溶劑成分蒸發後， :鼠風=洗下（氧濃度丨2〇〇 ppm以下），照射紫外線以使 照射線量成為1〇〇 mJ ’使塗膜硬化，從而形成防眩性光學 積層體。於防眩層中，使用與黏合劑樹脂之折射率差最大 為0.09之U粒，藉此獲得内部擴散效果，彳防止閃爍。該 防眩層具有微粒自黏合劑冒出之外觀。（基材上之防眩層之 總厚度·約4 · 5 μ m) 比較例4 防眩層之形成 使用厚80 μιη之三乙醯纖維素薄膜（TD8〇u，富士軟片 (股）製）作為透明基材，使用塗布用卷線棒（梅耶棒）#8將 單層防眩層用組成物4塗布於薄膜上，於7〇它之烘箱中加 熱乾燥1分鐘，使溶劑成分蒸發後，於氮氣沖洗下（氧濃度 為200 Ppm以下），照射紫外線以使照射線量成為1〇〇^了， i 使塗膜硬化，從而形成防眩性光學積層體。（基材上之防眩 層之總厚度：約4 μηι) 比較例5 防眩層之形成 使用厚80 μηι之三乙醯纖維素薄膜（TD8〇u，富士軟片 (股）製）作為透明基材，使用塗布用卷線棒（梅耶棒）# 34將 單層防眩層用組成物7塗布於薄膜上，於7〇。〇之烘箱中加 熱乾燥1分鐘，使溶劑成分蒸發後，於氮氣沖洗下（氧濃度 為200 ppm以下），照射紫外線以使照射線量成為i〇〇mj， 使塗膜硬化，從而形成防眩性光學積層體。（基材上之防眩 99 200817727 層之總厚度：約23 μιη) 比較例6 底凹凸層之形成 使用厚80 μιη之三乙酿纖維素薄膜（TD80U，富士軟片 (股）製）作為透明基材，使用塗布用卷線棒（梅耶棒）# 8將 底凹凸層用組成物5塗布於薄膜上，於70°C之烘箱中加熱 乾燥1分鐘，使溶劑成分蒸發後，照射紫外線以使照射線 3:成為3 0 mJ，使塗膜硬化而形成底凹凸層。該底凹凸層 具有微粒自黏合劑冒出之外觀。 表面調整層之形成 進而使用塗布用卷線棒（梅耶棒）# 24將表面調整層用 組成物1塗布於底凹凸層上，於70°C之烘箱中加熱乾燥！ 分鐘，使溶劑成分蒸發後，於氮氣沖洗下（氧濃度為2〇〇 ppm 以下），照射紫外線以使照射線量成為70 mJ，使塗膜硬化， 積層表面調整層，獲得防眩性光學積層體。（基材上之防眩 層之總厚度：約21.5 μηι) 基於以下之評價方法，對所得實施例及比較例之光學 積層體加以評價。 表面粗糙度 根據本說明書之定義測量表面粗糙度（Sm、0 a、Rz)， 將其結果示於表3。 濁度值 對實施例與比較例之光學積層體，依據下述方法，測 量濁度值（％)，將其結果示於表3。 100

200817727 濁度值可藉由JIS κ~ 7136而測量。測量中所使用之 設備，可列舉反射•透射率計HR_15〇(村上色彩技術研究 所）。濁度值係使塗布面朝向光源而測量。 表面濁度值以如下方式求得。於光學積層體最表面之 凹凸上，以線棒塗布以甲苯等稀釋季戊四醇三丙烯酸酯等 樹脂（包含單體或低聚合物等樹脂成分）而形成之固體成分 為60%者，以使乾燥層厚成為8 μιη。藉此，破壞防眩層 之表面凹成為平坦之層。其中於因於形成光學積層體 之組成物中添加整平劑等而使再塗布劑易於被排斥而難以 潤濕之情形時，可藉由預先對防眩薄膜進行4化處理心〇ι Α之NaOH(或Κ0Η)溶液55度3分鐘浸潰後，進行水 洗’以拭鏡紙（kimwipe)完全降本汆、、在你 ^ 于、云水滴後，於50度之烘箱 中乾燥1分鐘），而實施親水處理。該表面平坦之薄膜不具

有由表面凹凸產生之濁度值’而成為僅具有内部濁度值Z 狀態。可求出該濁度值作為内部濁度值。繼而，自本來之 薄膜之濁度值（整體濁度值）減去内部濁度值而求得之值， 係僅由表面凹凸產生之濁度值（表面濁度值）。

Η層厚一R 對實施例與比較例之光 義’測量Η層厚一ΙΙ(μηι)， 種微粒（Rl、R2、R3)之情形 粒子者。 學積層體’依據本說明書之定 將其結果示於表3。於使用多 日夺’ R係表示具有最大粒徑之 亮黑感試驗 於實施例與比較例之光學積層體之薄膜面之相反側 101 200817727 貼合於正交偏光之偏光板後，於3〇 w之三波長螢光下⑽ 樣品面以45度之角度照射）進行官能評價（於樣品之上方50 cm左右處，自45度左右之方向目視觀察），依據以下基準 詳細地評價亮黑感。 評價基準 評仏〇:可再現具有光彩之黑色。 評價X :無法再現具有光彩之黑色。

防眩性之官能試驗方法 將對、、工表面處理之薄膜之背面進行黏著處理，貼合於 黑色丙稀酸板而成者作為評價用樣品。準備寬20 mm之黑 白文板’於上述樣品（向上傾斜3q度之狀態）以自樣品面 之法線20度之角庚恤# 又、射该备、紋，進行觀察。此時樣 之照度為250 lx，條紋之 面 儿度（白)為65 cd/m2。又，條紋 板與樣品之距籬為^ _ ”、、 ·5 m ’樣品與觀察者之距離為1 m。根 據觀察者所見之條钕#自，^ ^ 12^ 〇 …、4，將其以如下方式定義（參照圖 〇 :無法識別條紋 x :可識別條紋 評價··閃爍試驗 於HAKUBA製袢夕Λ,· … 上 k 之 Viewer(Light Viewer 7000 PRO) 將形成於厚〇 7 ^ n · · mm之玻璃上之黑色矩陣圖案板（105

PP1、140 ppi)，以 R 从圖案面向下之方式放置，於其上以凹凸 面朝向空氣側之士《 4 式放置所製得之光學積層體薄膜，以手 才曰輕壓薄膜之彳軎#、 、 、、以防止薄膜浮起，並於暗室中目視觀察 102 200817727 閃爍，進行評價。 評價基準 評價◎ : 140 ppi下，無閃爍Λ 評價〇 ·· 105 ppi下，無閃爍而 評價X : 105 ppi下，看到閃爍 良好 良好 ，不良

103 200817727 rv 【e <】 評價 4 黎 ◎ ◎ ◎ 〇 ◎ ◎ 〇 〇 ◎ X 〇 〇 〇 ◎ ◎ 評價 3 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 X X 評價 2 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 X X X X 〇 〇 R μπι cK ο ι> ^Τ) α； ο (Ν’ ^Τ) 未使用粒子 未使用粒子 ο ι> 平均1.5 ro 卜 in rn m CO in rn H-R (μηι) ο ι> ο ιη rn ^Τ) ν〇 Ο 未使用粒子 未使用粒子 On 0·1 〜0·3 m d ο O in as 00 r-H 評價1 表面粗链度 0.3721 0.322 0.412 0.312 νο ιη Ο 0.832 〇 0.552 rn 0.987 4.317 1.512 1.131 m o 〇3 Φ 0.429 α\ ^Τί ο 00 ο 0.414 Ον Ο 0.998 0.493 0.445 00 d 4.471 1.464 9.097 (N t-H 1.037 0.381 B 00 ο Os 00 r-H ^Τ) ο cK Ον Ό m od C\ 卜 00 〇\ m (Ν v〇 r-H ο 〇 332.7 316.2 1—Η 寸 Ό cn τ—Η Η o 寸· Ο) Os 〇 v〇 寸· CN 〇 σ； ro ▼H m (N r^H CN S _妥 €： ο ▼—Η ο (Ν Ο 卜 in Ό (N 〇 〇 cn in 〇 On vd (N CN 寸 r-H oo ro r-H 整體濁度 值 (%) ο r-H ο (Ν r-H r—Η 〇 〇 m Ο) ON Ο as cK (N Ό od 00 Pi 〇 od (N 寸 r-H rn 寸· 實施例1 實施例2 實施例3 實施例4 實施例5 實施例6 實施例7 實施例8 實施例9 比較例1 比較例2 比較例3 比較例4 比較例5 比較例6 200817727 藉由本發明而獲得之光學積層體，表現為同時具有優 異之防眩性與亮黑感者。 [產業上之可利用性] 本發明之光學積層體之製造方法及製造裝置，可用作 製造陰極射線管顯示裝置（CRT)、液晶顯示器（LCD)、電漿 顯不器（PDP)、電激發光顯示器（ELD)等之防反射用薄膜之 方法及該等之製造裝置。 【圖式簡單說明】 圖1 a係以往之防眩層表面之剖面之示意圖。 圖lb係本發明之防眩層表面之剖面之示意圖。 圖2a係以往之防眩層表面之光學顯微鏡照片。 圖2b係本發明之防眩層表面之光學顯微鏡照片。 圖3係用以表示以之計算方法之示意圖。 圖4係防眩層表面之凹凸形狀之示意圖。 圖5係本發明之光學積層體之概略剖面圖。 圖6係本發明之光學積層體之概略剖面圖。 圖7係本發明之光學積層體之概略剖面圖。 圖8係本發明之光學積層體之概略剖面圖。 圖9係本發明之光學積層體之製造裝置之一例。 圖1 0係本發明之光學積層體之製造裝置之一例。 圖11係本發明之光學積層體之製造裝置之一例。 圖12係表示防眩性測量方法之示意圖。 105

200817727 【主要元件符號說明】 1 、 21 、 31 、 41 2 3 4 > 23 5 6 7 22、42 25a、25b、25c、25d、 27、47 29 33、 43 34、 44 36、46 37 38、 48 39、 49 40 45a 45b 透光性基材 凹凸層 接著層 樹脂層 底凹凸層 表面調整層 低折射率層 凹凸形狀 35a、35b、35c 幸昆 壓紋輥 光學積層體 塗布頭 防眩層用組成物 導管 防眩層 硬化裝置 狹縫 壓紋裝置 夾輥 剝離輥 106

Claims (1)

1. 200817727 十、申謗專利範面： 1 · 一種光學積層體之製造方法， 性基材及形成於該透光性基材 ❻^造具有透光 其特徵在於： 層之光學積層體， 由該透光性基材上形成具有 驟所構成， 凹凸形狀之該 防眩層的步 凹凸之平均間 ’將凹凸之平

   1 ·〇 μηι 以下。 “凹凸形狀，當將該光學積層體表心 隔設為Sm，將凹凸部之平均傾斜角設為θ 均粗糙度設為RZ時， Sm在50 μηι以上、未滿1〇〇 _ Θ a在0.1度以上、1〇度以下， Rz 超過 0.2 pm、 2. 如申請專利_ 1項之光學積層體之製造方法， 其中，形成該防眩層之步驟係形成單層之凹凸層之步驟。 3. 如申請專利範圍帛i項之光學積層體之製造方法， 其中，形成該防眩層之步驟，係由形成底層之凹凸層之步 驟、以及於該底層之凹凸層上形成表面調整層的步驟所構 成0 4 ·如申請專利範圍第1、2或3項中任一項之光學積層 體之製造方法，其中，該凹凸層之形成係由將該透光性基 材及具有凹凸形狀之防眩性薄膜一體化之步驟所構成。 5·如申請專利範圍第1、2或3項中任一項之光學積層 體之製造方法，其中，該凹凸層之形成，係由在該透光性 基材上形成樹脂層，然後在該樹脂層之表面形成凹凸形狀 107 200817727 之步驟所構成。， 6·如申請專利範圍第1、2、3、4或5項中任一項之光 子積層體之製造方法，其中，該凹凸形狀之形成，係由使 用具有與該凹凸層所具有之凹凸形狀相反之凹凸形狀之模 具進行賦形處理之步驟所構成。 7·如申請專利範圍第1、2或3項中任一項之光學積層 脰之製造方法，其中，該凹凸層之形成，係由在該透光性 基材上塗布防眩層用組成物之步驟所構成。 \ 8·如申請專利範圍第7項之光學積層體之製造方法， 其中’該防眩層用組成物含有樹脂與微粒。 9.如申請專利範圍第7項之光學積層體之製造方法， 其中，該防眩層用組成物不含微粒，而含有選自由聚合物 及硬化性樹脂前驅物組成之群之至少兩種成分。 10·如申睛專利範圍第1、2或3項之光學積層體之製 造方法，其中，該凹凸層之形成，係由將該透光性基材導 I 入至具有與凹凸形狀相反之凹凸形狀之模具中的步驟，以 及在該透光性基材與該模具所具有之凹凸形狀之間的空隙 中^Γ入防眩層用組成物，於該透光性基材上形成凹凸形狀 的步驟所構成。 如申晴專利範圍第10項之光學積層體之製造方 八中5亥防眩層用組成物不含微粒，而含有電離放射 線硬化型樹脂或熱固型樹脂。 12·如申睛專利範圍第1〇或Η項之光學積層體之製造 八中，於形成δ亥凹凸層之步驛之後，具有使該凹凸 108 200817727 層硬化之步驟。 13.本發明係一種光學積層體之製造裝置，係使用於申 請專利範圍第4項之光學積層體之製造方法，其特徵在於， 具有： 供給該透光性基材及具有四凸形狀之該防眩性薄膜之 供給部；以及 於該透光性基材上形成該防眩層之形成部。 14·一種光學積層體之製造裝置，係使用於申請專利範 圍第5項之光學積層體之製造方法，其特徵在於，具有·· 於該透光性基材上形成該樹脂層，然後對該樹脂層施 加凹凸形狀之形成部。 15·如申請專利範圍第14項之光學積層體之製造裝 置’其中’該形成部具備具有與該凹凸層之凹凸形狀相反 之凹凸形狀之模具。 16.種光學積層體之製造裝置，係使用於申請專利範 圍罘7、8或9項中任一項之光學積層體之製造方法，其 特徵在於，具有： 供給該透光性基材之供給部； 於4透光性基材上賦予防眩層用組成物之賦予部； 將口亥防眩層用組成物硬化，形成具有凹凸形狀之該防 眩層之形成部。 置，’申請專利範圍第16項之光學積層體之製造裝 ^ 忒形成部具有對該防眩層用組成物照射電離放 109 200817727 18·—種光學積層體之製造裝置，係使用於申請專利範 圍第10、11或12項中任一項之光學積層體之製造方法中 所使用之光學積層體之製造裝置，其特徵在於具有： 供給該透光性基材之供給部； 導入該透光性基材且具有與該防眩層之表面形成之凹 凸形狀相反之凹凸形狀之模具； 對該模具導入防眩層用組成物之導入部；

   將該防眩層用組成物硬化，形成具有凹凸形狀之該防 眩層之形成部。 19·如申請專利範圍第is項之光學積層體之製造裝 置，其中，該形成部具有對該防眩層用組成物照射電離放 射線之照射部。 20·—種光學積層體，其特徵在於： 係藉由申請專利範圍第1、2、3、4、5、6、7、8、$ 1〇、11或12項中任一項之光學積層體之製造方法製造。 2 1 · —種光學積層體，其特徵在於： 係藉由申請專利範圍第13、14、15、16、17、18或19 員中任項之光學積層體之製造裝置製造。 ,22.一種光學積層體’具有透光性基材及設置於該透光 性基材上之防眩層，其特徵在於： 教而：方眩層之最表面具有凹凸形狀，且由包含樹脂與微 車成：防眩層用組成物所形成，該樹脂與該微粒之折射 率差η在〇·2以下， 於將光學積層體表面之凹 凸之平均間隔設為 Sm，凹 110 200817727 凸部之平均傾斜角設為0 a，凹凸之平均粗糙度設為Rz時， Sm在50 μηι以上、未滿ι〇〇 μιη， 0 a在0.1度以上、丨〇度以下， Rz 超過 〇·2 μηι、1 ·〇 μηι 以下。 23·如申請專利範圍第22項之光學積層體，其中，該 微粒為無機微粒或有機微粒。 24.如申请專利範圍第22或23項之光學積層體，其中， 該微粒為凝集型微粒。 25·如申請專利範圍第22、23或24項中任一項之光學 矛貝層體，其中，該微粒之平均粒徑R在1 ·0 μηι以上、20 μηι 以下。 與26·如申請專利範圍第22、23、24或25項任一項之光 孥積層體，其中，該防眩層，防眩層之層厚H 與該微 叔之平均粒徑Κμϊη之差ΓΗ一 R」在〇6μιη以上、Η 〇 以下。

   “2/·如申请專利範圍第22、23、24、25或26項任一項 R光予積層體，其中，該微粒，相對於該微粒之平均粒徑 ，該微粒之總數之80%處於R±1〇 μιη之範圍内。 壬28·如申請專利範圍第22、23、24、25、26或27項中 t項之光學積層體，*中，將該防眩層之每單位面積之 :锨粒之總質量設& m，每單位面積之該樹脂之總質量設 Μ時，質量比（m/M)在〇 〇1以上、1 2以下。 工29·如申請專利範圍第22、23、24、25、26、27或28 ^ 項之光學積層體，其中，該樹脂含有電離放射線 111 200817727 硬化型樹脂及/或熱固性樹脂。 3 0.如申請專利範圍第22、23、24、25、26、27、28 或29項中任一項之光學積層體，其中，該防眩層進一步 含有抗靜電劑。 3 1·如申請專利範圍第3〇項之光學積層體，其中，該 抗靜電劑為導電性微粒及/或導電性聚合物。 32.如申請專利範圍第22、23、24、25、26、27、28、 r， 29、％或31項中任一項之光學積層體，其中，該防眩層 由凹凸層單層所構成。 3 3·如申請專利範圍第22、23、24、25、26、27、28、 29、30、31或32項中任一項之光學積層體，其中，違防 眩層由底凹凸層及設置於該底凹凸層上之表面調整層所構 成。 34.如申請專利範圍第22、23、24、25、26、27、28、 29、3〇、31、32或33項任一項之光學積層體，其中，於 该防眩層上進一步具有低折射率層。 35·如申請專利範圍第34項之光學積層體，其中，該 低折射率層含有中空氧化矽。 36·如申請專利範圍第22、23、24、25、26、27、28、 29 30' 31、32、33、34或35項中任一項之光學積層體， 其内部濁度值在60以下。 37·—種偏光板，係具備偏光元件而成，其特徵在於·· 於该偏光το件之表面，在該光學積層體之防眩層存在 面之相反面具備中請專利範圍第22、23、24、25、％、27、 112 200817727 28、29、J、32、33 學積層體° 34、35 或36項中任一項之光 38/癯影像顯示裝置 背面照射言哀透過性顯示體: 乂 ’係具備透過性顯示體、以及自 不體之光源裝置而成’其特徵在於： 於該透過性顯示體之表面，具備申請專利範圍第22、 23 、 24 、 25 、 26 、 27 、 28 、 29 、 30 、 31 、 32 、 33 、 34 、 35 或36項中任一項之光學積層體或如申請專利範圍第37項 ( ' 之偏光板。 十一、圖式： 如次頁 113