KR20090047528A - 광학 적층체의 제조 방법, 제조 장치, 광학 적층체, 편광판및 화상 표시 장치 - Google Patents

Abstract

방현성, 번쩍거림의 방지, 염흑감 등의 흑색 재현성 등의 성질을 동시에 얻을 수 있는 광학 적층체의 제조 방법 및 그의 제조 장치를 제공한다.

광 투과성 기재 및 상기 광 투과성 기재 상에 형성된 방현층을 갖는 광학 적층체의 제조 방법이며, 상기 광 투과성 기재 상에 요철 형상을 갖는 상기 방현층을 형성하는 공정으로 이루어지며, 상기 요철 형상은, 상기 광학 적층체 표면의 요철의 평균 간격을 Sm이라 하고, 요철부의 평균 경사각을 θa라고 하고, 요철의 평균 거칠기를 Rz라고 한 경우에,　Sm이 50 ㎛ 이상 100 ㎛ 미만이고, θa가 0.1도 이상 1.0도 이하이며,　Rz가 0.2 ㎛ 초과 1.0 ㎛ 이하인 광학 적층체의 제조 방법.

광학 적층체, 방현층, 요철 형상, 편광판, 염흑감

Description

광학 적층체의 제조 방법, 제조 장치, 광학 적층체, 편광판 및 화상 표시 장치 {METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL LAMINATE, MANUFACTURING EQUIPMENT, OPTICAL LAMINATE, POLARIZING PLATE, AND IMAGE DISPLAY APPARATUS}

본 발명은, 광학 적층체의 제조 방법, 제조 장치, 광학 적층체, 편광판 및 화상 표시 장치에 관한 것이다.

음극선관 표시 장치(CRT), 액정 디스플레이(LCD), 플라즈마 디스플레이(PDP), 일렉트로 루미네센스 디스플레이(ELD) 등의 화상 표시 장치에 있어서는, 일반적으로 최표면에는 반사 방지를 위한 광학 적층체가 설치되어 있다. 이러한 반사 방지용 광학 적층체는, 빛의 산란이나 간섭에 의해, 상의 찍힘을 억제하거나 반사율을 저감하거나 하는 것이다.

이러한 반사 방지용 광학 적층체의 하나로서, 투명성 기재의 표면에 요철 형상을 갖는 방현층을 형성한 방현성 적층체가 알려져 있다. 이러한 방현성 적층체는, 표면의 요철 형상에 의해 외광을 산란시켜서 외광의 반사나 상의 찍힘에 의한 시인성의 저하를 방지할 수 있다. 방현성 적층체로서는, 입자에 의해 요철을 형성한 것이나(특허 문헌 1), 엠보스 부형(賦型) 처리를 행함으로써 요철 형상으로 한 것이 알려져 있다(특허 문헌 2, 3).

최근, 패널 해상도의 고정세화에 따라서, 이러한 광학 적층체에 요구되는 성능도 높아져 왔다. 이러한 고정세화한 패널에 사용하는 방현성 적층체는, 미세한 요철 형상이 필요하다고 여겨지고 있다. 즉, 요철을 미세한 것으로 함으로써, 고정세인 패널에 대응하려고 하는 것이다. 이러한 미세한 요철 형상을 갖는 방현성 적층체는, 패널 해상도의 고정세화의 요구에 대응할 수 있지만, 화상 표시면이 희게 보이거나(백화), 콘트라스트가 저하되거나 하는 등의 문제점이 지적되고 있었다.

또한, 이와 같은 방현성 적층체를 노트북 등의 화상 표시 장치 표면에 사용한 경우, 방현성 적층체의 요철 형상이 미세한 렌즈의 역할을 담당하므로, 디스플레이 내부에 있어서의 백라이트 배면으로부터의 투과광이, 패널 최표면에 형성된 방현성 적층체의 요철 형상면을 투과할 때, 표시되는 화소 등을 흐트러 버리는 상태「번쩍거림」이 발생하기 쉽다고 하는 문제도 있다.

이「번쩍거림」을 해소하는 방법으로서는, 선명도를 높일 목적으로 표면 요철을 치밀하게 하거나, 또는 방현층을 형성하는 수지와 굴절률차가 있는 산란 입자를 첨가함으로써 방현성 적층체에 내부 산란 효과를 부여하는 등의 수법이 알려져 있다.

그러나, 이와 같은「번쩍거림」해소의 방법은, 표면의 백화 또는 내부 산란 효과에 의한 백탁 등을 발생시키는 방법이다. 특히, 표면 요철을 치밀하게 하는 방법에서는, 외광 반사에 의한 산란이 강해져, 백화가 증가된다. 이로 인해, 방현성은 양호하지만, 콘트라스트를 저하시키는 요인이 되어 버린다. 즉, 종래의 방현 성 적층체에서는,「방현성」과「콘트라스트 향상」과「번쩍거림 방지」의 모든 성질을 만족시키는 것은 곤란했다. 이로 인해, 이것들의 방현성 적층체는, 화면 표시에 있어서의 염흑감(젖은 것처럼 윤기가 있는 흑색)을 포함하는 흑색 재현성, 콘트라스트 등에 있어서 떨어지는 경우가 있었다. 즉, 명실(明室)에 있어서의 흑색의 계조 표현, 특히 저계조에 있어서, 흑색의 그라이데이션의 차를 인식하기 어려워, 감도가 낮은 경우가 있었다. 구체적으로는, 흑색과 회색의 색 인식에 있어서, 색 흐림 및 동일한 색조의 흑색으로 밖에 인식할 수 없는 경우가 있었다. 특히, 양호한 방현성 = 외광의 산란의 성능을 갖는 방현성 적층체일수록, 이들의 시인성은 현저하게 저하되었다.

한편, 광 간섭에 의한 반사 방지 방법에 있어서는, 뚜렷하고 평활한 최표면을 갖는 하드 코트층을 고굴절률화하고, 그 위에 저굴절률 박막을 설치하는 등, 각층의 굴절률이나 층 두께를 제어함으로써 기능이 부여되는 수법이 알려져 있다. 이 방법이면, 상기한 콘트라스트는 양호하며, 반사율을 한없이 낮게(예를 들어 반사 Y값 0.1 내지 0.8 ％ 등) 함으로써, 표시 화면 표면에의 외부 물체의 비침은 방지할 수 있다. 그러나, 이 방법은 도막의 층 두께 제어가 어려운 등 생산면에서의 과제가 많으며, 재료도 고가인 경우가 많다. 또한, 광 간섭으로 반사율을 낮게 하면, 간섭색을 발생하기 때문에, 반사율이 낮음에도 불구하고, 그 간섭색이 화면의 희거나 검은 빛을, 붉은 빛이나 푸른 빛이 더 나는 색으로 변색시켜 버리는 문제가 있었다. 또한, 반사율이 그다지 낮지 않은 경우에는, 표면이 평활하기 때문에, 비침을 방지하는 것이 어려운 경우도 있었다. 또한, 가령 반사율이 매우 낮은 것이 라도, 디스플레이를 보는 환경에 따라, 비침은 방지할 수 없는 것도 알 수 있었다. 예를 들어, 흰 벽의 실내인 경우에는, 그 흰 벽은 표면이 평활한 한, 희게 비친다.

이들의 문제를 개선하여, 방현성 및 번쩍거림의 방지라고 하는 효과를 얻으면서, 염흑감도 양호한 성질을 얻을 수 있는 양호한 요철 형상이 형성된 광학 적층체의 제조 방법 및 그 제조 장치의 개발이 요구되고 있다.

[특허 문헌 1] 일본 특허 공개 평6-18706호 공보

[특허 문헌 2] 일본 특허 공개 평6-16851호 공보

[특허 문헌 3] 일본 특허 출원 공개 제2004-341070호 공보

본 발명은, 상기 현재의 상태를 감안하여, 방현성, 번쩍거림의 방지, 염흑감 등의 흑색 재현성 등의 성질을 동시에 얻을 수 있는 광학 적층체의 제조 방법 및 그 제조 장치를 제공하는 것을 목적으로 하는 것이다.

본 발명은, 광 투과성 기재 및 상기 광 투과성 기재 상에 형성된 방현층을 갖는 광학 적층체의 제조 방법이며,

상기 광 투과성 기재 상에 요철 형상을 갖는 상기 방현층을 형성하는 공정으로 이루어지고,

상기 요철 형상은, 상기 광학 적층체 표면의 요철의 평균 간격을 Sm으로 하고, 요철부의 평균 경사각을 θa라고 하고, 요철의 평균 거칠기를 Rz라고 한 경우에,　

Sm이 50 ㎛ 이상 100 ㎛ 미만이고,

θa가 0.1도 이상 1.0도 이하이며,　

Rz가 0.2 ㎛ 초과 1.0 ㎛ 이하인 것을 특징으로 하는, 광학 적층체의 제조 방법이다.

상기 방현층을 형성하는 공정은, 단일층인 요철층을 형성하는 공정이라도 좋다.

상기 방현층을 형성하는 공정은, 하지층인 요철층을 형성하는 공정 및 상기 하지층인 요철층 상에 표면 조정층을 형성하는 공정으로 이루어지는 것이라도 좋다.

상기 요철층의 형성은, 상기 광 투과성 기재 및 요철 형상을 갖는 방현성 필름을 일체화하는 공정으로 이루어지는 것이라도 좋다. (제1 제조 방법) 이 방현성 필름은, 이하의 제2, 3, 4의 제조 방법으로 제작할 수 있다.

상기 요철층의 형성은, 상기 광 투과성 기재 상에 수지층을 형성하고, 상기 수지층의 표면에 요철 형상을 형성하는 공정으로 이루어지는 것이라도 좋다. 수지층을 형성하는 조성물은, 방현층용 조성물 또는 전리 방사선 경화형 수지 또는 열경화형 수지 등으로 이루어져도 좋다. (제2 제조 방법)

상기 제2 제조 방법에 있어서, 상기 요철 형상의 형성은, 상기 요철층이 갖는 요철 형상과 반대인 요철 형상을 갖는 형태를 이용해서 부형(賦型) 처리하는 공정으로 이루어지는 것이 바람직하다.

상기 요철층의 형성은, 상기 광 투과성 기재 상에 방현층용 조성물을 도포하는 공정으로 이루어지는 것이라도 좋다. (제3 제조 방법)

상기 제3 제조 방법에 있어서, 상기 방현층용 조성물은, 수지 및 미립자를 포함하는 것이라도 좋다.

상기 제3 제조 방법에 있어서, 상기 방현층용 조성물은, 미립자를 포함하지 않고, 폴리머 및 경화성 수지 전구체로 이루어지는 군으로부터 적어도 2종류의 성분을 포함하는 것이라도 좋다.

상기 요철층의 형성은, 상기 광 투과성 기재를 요철 형상의 반대인 요철 형상을 갖는 형태에 도입하는 공정, 상기 광 투과성 기재와 상기 형태가 갖는 요철 형상과의 사이의 공극에 방현층용 조성물을 도입하고, 상기 광 투과성 기재 상에 요철 형상을 형성하는 공정으로 이루어지는 것이라도 좋다. (제4 제조 방법)

상기 제4 제조 방법에 있어서, 상기 방현층용 조성물은, 미립자를 포함하지 않고, 전리 방사선 경화형 수지 또는 열경화형 수지를 포함하는 것이라도 좋다.

상기 제4 제조 방법에 있어서, 상기 요철층을 형성하는 공정에 이어서, 상기 요철층을 경화시키는 공정을 갖는 것이라도 좋다.

본 발명은, 상기 제1 제조 방법에 사용하는 광학 적층체의 제조 장치이며,

상기 광 투과성 기재 및 요철 형상을 갖는 상기 방현성 필름을 공급하는 공급부와,

상기 광 투과성 기재 상에 상기 방현층을 형성하는 형성부를 갖는 것을 특징으로 하는, 광학 적층체의 제조 장치이다. (제1 제조 장치)

본 발명은, 상기 제2 제조 방법에 사용하는 광학 적층체의 제조 장치이며, 상기 광 투과성 기재 상에 상기 수지층을 형성하고, 상기 수지층에 요철 형상을 실시하는 형성부를 갖는 것을 특징으로 하는, 광학 적층체의 제조 장치이다. 수지층을 형성하는 조성물은, 방현층용 조성물 또는 전리 방사선 경화형 수지 또는 열경화형 수지 등으로 이루어져도 좋다. (제2 제조 장치)

상기 제2 제조 장치에 있어서, 상기 형성부는, 상기 요철층의 요철 형상과 반대인 요철 형상을 갖는 형태를 구비하는 것이 바람직하다.

본 발명은, 상기 제3 제조 방법에 사용하는 광학 적층체의 제조 장치이며, 상기 광 투과성 기재를 공급하는 공급부와, 상기 광 투과성 기재 상에 방현층용 조성물을 부여하는 부여부와, 상기 방현층용 조성물을 경화하여, 요철 형상을 갖는 상기 방현층을 형성하는 형성부를 갖는 것을 특징으로 하는, 광학 적층체의 제조 장치이기도 하다. (제3 제조 장치)

상기 제3 제조 장치에 있어서, 상기 형성부는, 상기 방현층용 조성물에 전리 방사선을 조사하는 조사부를 갖는 것이 바람직하다.

본 발명은, 상기 제4 제조 방법에 사용하는 광학 적층체의 제조 장치이며, 상기 광 투과성 기재를 공급하는 공급부와, 상기 광 투과성 기재를 도입하는 상기 방현층의 표면에 형성되는 요철 형상과 반대인 요철 형상을 갖는 형태와, 상기 형태에 방현층용 조성물을 도입하는 도입부와, 상기 방현층용 조성물을 경화하여, 요철 형상을 갖는 상기 방현층을 형성하는 형성부를 갖는 것을 특징으로 하는, 광학 적층체의 제조 장치이기도 하다. (제4 제조 장치)

상기 제4 제조 장치에 있어서, 상기 형성부는 상기 방현층용 조성물에 전리 방사선을 조사하는 조사부를 갖는 것이 바람직하다.

본 발명은, 상술한 광학 적층체의 제조 방법에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는, 광학 적층체이기도 하다.

본 발명은 광학 적층체의 제조 장치에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는, 광학 적층체이기도 하다.

본 발명은, 광 투과성 기재 및 상기 광 투과성 기재 상에 설치된 방현층을 갖는 광학 적층체이며, 상기 방현층은 최표면이 요철 형상을 갖는 것이고, 또한 수지와 미립자를 포함해서 이루어지는 방현층 형성용 조성물에 의해 형성된 것이며, 상기 수지와 상기 미립자와의 굴절률의 차 n이 0.2 이하이며, 광학 적층체 표면의 요철의 평균 간격을 Sm이라고 하고, 요철부의 평균 경사각을 θa라고 하고, 요철의 평균 거칠기를 Rz라고 한 경우에,　

Sm이 50 ㎛ 이상 100 ㎛ 미만이고,

θa가 0.1도 이상 1.0도 이하이며,　

Rz가 0.2 ㎛ 초과 1.0 ㎛ 이하인 것을 특징으로 하는, 광학 적층체이다.

상기 미립자는, 무기 미립자 또는 유기 미립자인 것이 바람직하다.

상기 미립자는, 응집형 미립자라도 좋다.

상기 미립자는, 평균 입자 직경 R이 1.0 ㎛ 이상 20 ㎛ 이하인 것이 바람직하다.

상기 방현층은, 방현층의 층 두께 H ㎛와 상기 미립자의 평균 입자 직경 R ㎛와의 차「H-R」이, 0.6 ㎛ 이상 15.0 ㎛ 이하인 것이 바람직하다.

상기 미립자는, 상기 미립자의 평균 입자 직경 R에 대하여 상기 미립자의 총수의 80 ％가 R±1.0 ㎛의 범위 내에 있는 것이 바람직하다.

상기 방현층은, 단위 면적당의 상기 미립자의 총 질량을 m, 단위 면적당의 상기 수지의 총 질량을 M이라고 한 경우에, 질량비(m/M)가 0.01 이상 1.2 이하인 것이 바람직하다.

상기 수지는, 전리 방사선 경화형 수지 및/또는 열경화성 수지를 함유하는 것이 바람직하다.

상기 방현층은, 또한 대전 방지제를 함유하는 것이 바람직하다.

상기 대전 방지제는, 도전성 미립자 및/또는 도전성 폴리머인 것이 바람직하다.

상기 방현층은, 요철층 단일층으로 이루어지는 것이라도 좋다.

상기 방현층은, 하지 요철층 및 상기 하지 요철층 상에 설치된 표면 조정층으로 이루어지는 것이라도 좋다.

본 발명의 광학 적층체는, 상기 방현층 위에, 다시 저굴절률층을 갖는 것이 바람직하다.

상기 저굴절률층은, 중공 실리카를 포함하는 것이 바람직하다.

상기 광학 적층체는, 내부 헤이즈 값이 60 이하인 것이 바람직하다.

본 발명은, 편광 소자를 구비하여 이루어지는 편광판이며, 상기 편광 소자의 표면에, 상술한 광학 적층체를 상기 광학 적층체에 있어서의 방현층이 존재하는 면과 반대인 면에 구비하는 것을 특징으로 하는, 편광판이기도 하다.

본 발명은, 투과성 표시체와, 상기 투과성 표시체를 배면으로부터 조사하는 광원 장치를 구비하여 이루어지는 화상 표시 장치이며, 상기 투과성 표시체의 표면에, 상술한 광학 적층체 또는 상술한 편광판을 구비하는 것을 특징으로 하는, 화상 표시 장치이기도 하다.

이하, 본 발명을 상세하게 설명한다.

본 발명은, 광 투과성 기재 상에, 요철 형상을 갖는 방현층을 형성하는 공정으로 이루어지는 광학 적층체의 제조 방법이며, 이렇게 얻게 된 광학 적층체 표면의 요철 형상이 특정의 Sm, θa 및 Rz를 갖고 있다. 또한, 본 발명은 광 투과성 기재 및 상기 광 투과성 기재 상에 형성된 방현층을 갖는 광학 적층체의 제조 장치이며, 이렇게 얻게 된 광학 적층체 표면의 요철 형상이 특정의 Sm, θa 및 Rz를 갖고 있다. 따라서, 상기 제조 방법, 제조 장치를 사용한 경우, 광학적 성질을 컨트롤할 수 있어, 방현성, 번쩍거림의 방지, 염흑감 등의 흑색 재현성 등의 성질을 동시에 갖는 광학 적층체를 양호하게 제조할 수 있다.

본 발명에 있어서, 상기 광학 적층체 표면의 요철 형상은, 요철의 평균 간격을 Sm이라고 하고, 요철부의 평균 경사각을 θa라고 하고, 요철의 평균 거칠기를 Rz라고 한 경우에,　

Sm이 50 ㎛ 이상 100 ㎛ 미만이고,

θa가 0.1도 이상 1.0도 이하이며,　

Rz가 0.2 ㎛ 초과 1.0 ㎛ 이하인 것이다. 이러한 수치를 만족시키는 것으로 함으로써, 특히 적절하게 효과를 얻을 수 있다.

즉, 상기 광학 적층체 표면의 형상을 컨트롤함으로써, 광학 특성을 컨트롤하는 것이다. 여기서, 상기「광학 적층체의 표면」은, 방현층이 단층일 경우, 방현층이 하지 요철층과 표면 조정층으로 이루어지는 경우, 또한 상기 저굴절률층 및/또는 임의의 층을 갖을 경우 중 어떠한 경우에 있어서도, 공기와 접하는 최표면을 의미하는 것이며, 이러한 최표면의 요철 형상의 광학 특성값이, 본 발명에 있어서의 광학 적층체의 표면 요철 형상의 광학 특성값과 일치하는 것이다.

화상 표시 장치의 염흑감은, 명실 환경하에서 화상 표시 장치를 흑색 표시했을 때의 흑색의 재현성이며, 육안 관측에 의해 평가되는 것이다. 외부로부터 광학 적층체에 입사한 빛이 반사할 때의 빛의 반사 각도가 광범위하게 미치는 경우, 빛이 광학 적층체 표면의 요철 각도에 따라서, 모든 방향으로 반사하여(확산 반사하여) 관측자의 눈에 미치므로, 본래의 흑색이 재현되지 않는다(즉, 확산된 빛의 일부밖에 관측자의 눈에 미치지 않음). 종래의 광학 적층체에 있어서, 요철 형상을 형성함으로써 염흑감이 저하되는 것은 이러한 원인에 의한 것이었다. 본 발명자들은, 이러한 작용에 착안한 검토를 행하고, 입사한 빛이 정반사각 근방에 집중해서 반사되는 것 같은 형상으로 컨트롤함으로써, 광원으로부터의 광은, 대부분 확산 반사되지 않고, 정반사광에 가까워지는 것으로 했다. 이에 의해, 정반사광 이외는 관측자의 눈에 미치지 않으므로, 본래의 젖은 것 같은 흑색이 재현된다. 여기서 입사한 빛이 정반사각 근방에 집중해서 반사되는 것 같은 형상은, 본원 발명에 있어서 특정한 범위 내의 Sm, θa, Rz에 의해 규정된 완만한 요철 형상이다. 이 완만한 요철 형상이라 함은, 볼록부가 완만한 산 형상인 것에 반해, 오목부는 완만한 골 형상이라고 하는 것 보다는 산과 비교하면, 매우 완만한 골이기 때문에 거의 평탄에 가까운 형상을 말한다.

한편, 표면이 이러한 요철 형상을 갖는 화상 표시 장치는, 빛이 반사되지 않는 것은 아니며, 평활한 클리어층과 같은 반사나 비침을 억제할 수 있는 산란은 생기는 것이므로, 방현성에 있어서도 충분한 성능을 얻을 수 있다.

본 발명은, 이들의 디스플레이에 있어서, 반사 방지용 광학 적층체 표면의 요철 형상을 컨트롤하고, 반사 산란광이 일정한 산란각의 범위 내에서의 산란에 머무르도록 제어함으로써, 방현성과 흑색 재현성과의 양쪽을 얻을 수 있는 것을 발견함으로써 완성된 것이다.

상술한 바와 같은 작용에 의해 염흑감과 방현성을 양립하기 위해서는, 광학 적층체 표면의 요철의 평균 간격을 Sm이라고 하고, 요철부의 평균 경사각을 θa라고 하고, 요철의 10점 평균 거칠기를 Rz라고 한 경우에, Sm이 50 ㎛ 이상 100 ㎛ 이하, θa가 0.1도 이상 1.0도 이하, Rz가 0.2 ㎛ 초과 1.0 ㎛ 이하로 한 것이며, 이러한 범위 내의 것으로 함으로써, 상술한 바와 같은 작은 반사각을 얻을 수 있다.

상기 파라미터를 만족시키는 요철 형상은 종래의 광학 적층체에 있어서의 요철 형상보다도 완만한 요철 형상이며, 이로 인해, 종래의 방현층보다도, 반사광 확산성을 좁힐 수 있다. 또한, 이와 같은 완만한 형상을 갖기 때문에, 방현층이 없는 평활한 표면보다도, 빛의 확산 반사가 억제되고, 제어된 빛의 산란이 정반사각 근방의 범위 내에 있어서 생기는 것이라 추측된다.

종래의 방현층 표면의 단면의 모식도를 도1a에, 본 발명에 있어서의 방현층 표면의 단면의 모식도를 도1b에 도시한다.

도1a에 도시된 바와 같이 종래의 방현층의 표면은, 평탄부가 대부분 존재하지 않고, 요철 형상이 원활하게 연속되고 있다. 이러한 형상에서는, 방현성은 매우 우수하지만, 표면에 평탄부가 없고, 전부 커브를 그리고 있기 때문에, 모든 부분에서 빛이 확산되어 충분한 염흑감을 얻을 수 없다. 그것은, 평균 경사각 θa가 크기 때문이다.

한편, 상기 Sm, θa, Rz를 만족시키는 본 발명의 제조 방법에 의해 얻을 수 있는 광학 적층체에 있어서의 방현층의 표면은, 도1b와 같이 볼록부가 밀하지 않고, 평탄부가 존재하므로, 방현성과 함께, 염흑감도 얻을 수 있는 것이다.

또한, 도2a에 종래의 방현층의 표면의 광학 현미경 사진(반사 촬영 200배)을 도시하고, 도2b에 본 발명에 있어서의 방현층의 표면의 광학 현미경 사진을 도시한다.

즉, 상기한 모든 파라미터를 만족시킴으로써, 본 발명의 제조 방법에 의해 얻을 수 있는 광학 적층체의 표면은, 표면의 요철 형상으로서, 종래의 방현층에는 없는 완만한 평탄 부분이 있으며, 또한 존재하는 오목부의 저부(평탄부)와 볼록부의 산의 접선이 이루는 각도가 매우 작은 것이 되는 것이다. 이로 인해 염흑감과 방현성의 양쪽을 적절하게 유지하는 광학 적층체를 얻을 수 있는 것이다.

본 발명에 의한 광학 적층체를 구성하는 방현층은 요철 형상을 갖는다. Sm(㎛)이라 함은, 이 방현층의 요철의 평균 간격을 나타내고, θa(도)는 요철부의 평균 경사각을 나타내는 것이며, (Rz)는 10점 평균 거칠기를 나타내는 것이며, 그 정의는 JIS B 0601-1994를 따라, 표면 거칠기 측정기 : SE-3400/가부시끼가이샤 고사까겐뀨쇼 제품 취급 설명서(1995. 07. 20 개정)에도 기재되어 있다.

θa는 각도 단위이며, 경사를 종횡 비율로 나타낸 것이 Δa일 경우,

Δa = tanθa = [각 요철의 극소부와 극대부의 차(각 볼록부의 높이에 상당)의 총 합계/기준 길이]에서 구할 수 있다. 기준 길이는, 측정 조건에 기재된 바와 같다.

본 발명에 의한 광학 적층체의 표면 거칠기를 나타내는 파라미터(Sm, θa, Rz)를 측정할 경우, 예를 들어 표면 거칠기 측정기(형식 번호 : SE-3400/가부시끼가이샤 고사까겐뀨쇼 제품)를 사용하여, 하기의 측정 조건에 의해 측정을 행할 수 있고, 이 측정은 본 발명에 있어서는 바람직한 것이다.

표면 거칠기 측정기의 측정 조건 JIS B0601 1994에 준거한다.

1) 표면 거칠기 검출부의 촉침 :

형식 번호/SE2555N(2μ 표준) 가부시끼가이샤 고사까겐뀨쇼 제품

(선단부 곡률 반경 2 ㎛/꼭지각 : 90도/재질 : 다이아몬드)

2) 표면 거칠기 측정기의 측정 조건 :

기준 길이(거칠기 곡선의 컷오프 값 λc) :

1, 0.25 또는 2, 0.8 또는 3, 1.25 또는 4, 2.5 ㎜　

평가 길이[기준 길이(컷오프 값 λc) × 5] :

1, 1.25 또는 2, 4.0 또는 3, 6.25 또는 4, 12.5 ㎜　

촉침의 이송 속도 : 0.1 내지 0.5 ㎜/s　

(기준 길이 1, 2, 3, 4일 때, 평가 길이는 대응해서 1, 2, 3, 4가 됨)

Rz, Sm의 기준 길이나 평가 길이의 선택에 대해서는, Rz 및 Sm의 범위마다, JIS B0601 1994에 의해 정해진 방법으로 결정했다. Rz를 구할 경우의, Rz 범위에 대응하는 기준 길이 및 평가 길이의 표준값의 구분을 표 1에, Sm을 구할 경우의, Sm 범위에 대응하는 기준 길이 및 평가 길이의 표준값의 구분을 표 2에 나타냈다. ( )안은 참고 가격이다.

본 발명에 의한 광학 적층체는, 방현성 특성과 우수한 흑색 재현성, 콘트라스트를 겸비한 것이다. 구체적으로는, 이 광학 적층체의 형성 방법 중 하나로서 생각되는 표면 조정층을, 우수한 방현성은 갖지만, 전술한 과제가 있었던 종래의 안티글레어 광학 적층체(AG) 위에 형성시킴으로써, 광학 적층체 표면의 요철 형상은 매끈매끈해지고, 또한 AG와 동등한 표면 거칠기 파라미터를 갖게 함으로써, 충분한 방현성을 부여하면서, 매우 염흑감이 높은 방현성 적층체를 제작하는 것이 가능해진다.

또한, 종래의 광 간섭에 의한 반사 방지 방법에서는, 흑색의 재현성(콘트라스트)은 양호하지만, 흰 것의 비침의 방지성 등이 곤란했던 것에 반해, 전술한 바와 같은 표면 거칠기를 갖는 본 발명의 광학 적층체에서는 해결할 수 있게 되어 있다.

본 발명의 제조 방법에 의해 얻을 수 있는 광학 적층체 표면의 요철 형상은, 특정한 광학 물성치(Sm, θa, Rz)를 갖는 것이다. 따라서, 이렇게 얻게 된 광학 적층체에 있어서 상술한 효과를 양호하게 얻을 수 있다.

한편, 종래 기술에 있어서, Ra(산술 평균 거칠기)를 사용해서 광학 적층체의 표면 형상을 나타내는 방법이 있다.

상기 Ra(산술 평균 거칠기)는, JIS B0601(1994)에 준거한 것이다. 즉, 도3에 도시한 바와 같이, Ra라 함은 거칠기 곡선으로부터 그 평균선의 방향으로 기준 길이만큼을 빼고, 이 뺀 부분의 평균선의 방향으로 X축을, 세로 배율의 방향으로 Y축을 취하고, 거칠기 곡선을 y = f(x)로 나타냈을 때에, 기준 길이 범위의 f(x)를 더하고, 기준 길이로 나눈 값이다.

즉, y = f(x)라 함은, 거칠기 곡선의 면적에 상당하고, 기준 길이 범위에 존재하는 거칠기 곡선의 면적을 더하고, 기준 길이로 나눈 값이 Ra가 된다.

따라서, 이 Ra라 함은, 요철 형상의 세로 방향의 높이를 평균한 값을 나타내는 것은 아니다. 또한, 실제의 요철 형상이 도4에 도시한 바와 같이 다른 것이라도, Ra는 동일해진다. 이 Ra에, 상술한 Sm값과 함께 요철 형상을 규정해도, 결국은 도4에 도시한 바와 같이 형상의 차이가 있어, 본 발명에 있어서 바람직한 요철 형상을 나타낼 수 없다. 이로 인해, 본 발명에서는 Ra를 파라미터로서 선택하고 있지 않은 것이다.

상기 방현층은, 요철층 단층이라도 좋지만, 하지 요철층 및 상기 하지 요철층 상에 설치된 표면 조정층으로 이루어지는 것이라도 좋다. 상기 하지 요철층은 최표면이 요철 형상을 갖는 것이며, 요철층 단층일 경우의 방현층과 실질적으로 동일한 방법에 의해 얻을 수 있다. 이하에 있어서, 우선 상기 방현층이 요철층 단층인 경우(이하 요철층이라고 함)의 본 발명의 제조 방법에 대해서 설명한다.

본 발명의 광학 적층체의 제조 방법은, 광 투과성 기재 및 상기 광 투과성 기재 상에 형성된 방현층을 갖는 광학 적층체의 제조 방법이며, 상기 광 투과성 기재 상에 요철 형상을 갖는 상기 요철층을 형성하는 공정으로 이루어지는 방법이다. 본 발명의 제조 방법에 있어서, 얻을 수 있는 광학 적층체 표면의 요철 형상은, 상기 광학 적층체 표면의 요철의 평균 간격을 Sm, 요철부의 평균 경사각을 θa, 요철의 평균 거칠기를 Rz라고 한 경우에, Sm이 50 ㎛ 이상 100 ㎛ 미만, θa가 0.1도 이상 1.0도 이하, Rz가 0.2 ㎛ 초과 1.0 ㎛ 이하이다.

상기 방현층의 층 두께는, 잉크 조성물 안이나 방현층 안에서의 미립자의 분산, 생산 안정성을 고려하면, 5 ㎛ 이상 25 ㎛ 이하인 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 6 ㎛ 이상 20 ㎛ 이하이다. 한편, 생산 시에, 비교적 높은 레벨의 막 두께 컨트롤이 필요해지지만, 방현층으로서는 1 ㎛ 이상 5 ㎛ 미만인 것도 바람직하며, 더욱 바람직하게는 1.5 ㎛ 이상 3.5 ㎛ 이하이다.

방현층의 층 두께 H는, 기재의 표시면측 계면으로부터 공기와 접하는 방현성 요철 최표면까지를 말한다. 기재 계면으로부터 최표면까지에는, 방현층이 요철층 단층일 경우와, 하지 요철층과 표면 조정층으로 이루어지는 복층일 경우, 그 밖의 임의의 층이 적층되어, 다층으로 되어 있는 경우가 있지만, 이 경우에는, 모든 층의 합계 두께이다. 즉, 기재의 표시면측 계면으로부터 공기와 접하는 방현성 요철 최표면까지의 두께를 의미한다.

층 두께는 이하의 방법에 의해 측정할 수 있다. 공초점 레이저 현미경(LeicaTCS-NT : 라이카샤 제품 : 배율「300 내지 1000배」)으로, 광학 적층체의 단면을 투과 관찰하고, 계면의 유무를 판단하여 하기의 평가 기준으로 판단했다. 구체적으로는, 할레이션이 없는 선명한 화상을 얻기 위해서, 공초점 레이저 현미경에, 습식의 대물 렌즈를 사용하고, 또한 광학 적층체 위에 굴절률 1.518의 오일을 약 2 ㎖ 얹어 관찰하여 판단했다. 오일의 사용은, 대물 렌즈와 광학 적층체 사이의 공기층을 소실시키기 위해서 사용했다.

측정 순서

1 : 레이저 현미경 관찰에 의해 평균층 두께를 측정했다.

2 : 측정 조건은 상기와 같았다.

3 : 1 화면에 대해, 요철의 최대 볼록부, 최소 오목부의 기재로부터의 층 두께를 1점씩 합계 2점 측정하고, 그것을 5 화면분, 합계 10점 측정하고, 평균값을 산출했다.

상기 레이저 현미경은, 각 층에 굴절률차가 있는 것에 의해 비파괴 단면 관찰할 수 있다. 따라서, 만약 굴절률차가 불명료하거나, 차가 0에 가까울 경우에는, 이 방현층이나 표면 조정층의 두께는, 각 층의 조성의 차이로 관찰할 수 있는 SEM 및 TEM 단면 사진 관찰에 의해서도, 마찬가지로 5 화면을 관찰하여, 구할 수 있다.

본 발명에 있어서, 상기 방현층은 요철층 단층이라도 좋지만 복층이라도 좋다. 상기 방현층이 복층일 경우, 하지 요철층 및 상기 하지 요철층 상에 설치된 표면 조정층으로 이루어지는 것이 바람직하다. 상기 하지 요철층은 최표면이 요철 형상을 갖는 것이며, 요철층 단층일 경우의 방현층과 실질적으로 같은 방법에 의해 얻을 수 있다.

이하에, 본 발명에 있어서의 요철층의 형성 방법에 대해서 설명한다.

본 발명에 의한 광학 적층체의 제조 방법에 대해서 도5를 이용해서 설명한다. 도5는 본 발명에 의한 광학 적층체의 단면도를 도시한다. 본 발명의 제조 방법은, 우선, 광 투과성 기재(1)를 준비하고, 다음에 이 광 투과성 기재(1)의 상면에 요철층(2)을 형성함으로써 달성되는 것이다. 본 발명에 있어서는, 요철층을 형성하는 방법은 특별히 한정되지 않으며, 다양한 방법을 이용할 수 있지만, 바람직하게는 이하의 방법 1 내지 3을 들 수 있다.

(방법 1) 수지 및 미립자를 함유하는 요철층용 조성물을 사용해서 요철 형상을 가진 요철층을 형성하는 방법

수지 및 미립자를 함유하는 방현층용 조성물을 사용해서 요철 형상을 가진 방현층을 형성하는 방법에 있어서 사용되는 미립자는, 사용되는 1종류 또는 몇 종류의 미립자에 대해서 각각, 구 형상, 예를 들어 진구 형상, 타원 형상, 부정형 등의 것라도 좋고, 진구 형상인 것이 보다 바람직하다. 상기 미립자의 평균 입자 직경 R은, 1.0 ㎛ 이상 20 ㎛ 이하인 것이 바람직하며, 상한은 15.0 ㎛인 것이 보다 바람직하며, 하한은 1.3 ㎛인 것이 보다 바람직하며, 3.5 ㎛인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 상기 미립자의 평균 입자 직경 R은, 콜타카운터법(전기 저항법)으로 계측할 수 있다. 또한, 레이저 회절법이나 SEM 관찰 등에 의해서도 측정할 수 있다. 또한, 상기 미립자는 응집형 미립자라도 좋고, 응집형 미립자인 경우에는, 2차 입자 직경이 상기 범위 내인 것이 바람직하다. 또한, 평균 입자 직경 R(㎛)은, 단분산형의 입자(형상이 단일한 입자)이면, 그 평균 입자 직경을 나타내고, 브로드한 입도 분포를 갖는 부정형형의 입자이면, 입도 분포 측정에 의해, 가장 많이 존재하는 입자의 입경을 평균 입자 직경으로서 나타내고 있다.

상기 미립자는, 미립자 전체의 80 ％ 이상(질량비 ; 바람직하게는 90 ％ 이상)이, 평균 입자 직경 R±1.0(바람직하게는 0.3) ㎛의 범위 내에 있는 것이 바람직하다. 이에 의해, 방현성 적층체의 요철 형상의 균일성을 양호한 것으로 하고, 또한 번쩍임 등을 유효하게 방지할 수 있다. 단, 평균 입자 직경이 3.5 ㎛ 미만인 미립자를 사용할 경우에는, 상기한 입경 분포 범위 밖이 되는 미립자, 예를 들어 브로드한 입자 분포를 갖는 평균 입경 2.5 ㎛, 1.5 ㎛의 부정형 미립자를 사용해도 좋다.

또한, 사용하는 미립자로서, 많은 종류의 것을 사용할 경우, 입자 직경이나 소재가 다른 2종류 또는, 3 종류의 입자를 혼합해서 사용하는 것이라도 좋다. 이와 같이 2, 3 종류의 입자를 혼합해서 사용하는 경우에는, 같은 종류의 소재로 이루어지며, 입자 직경 및 입자 분포만이 다른 2, 3 종류의 입자를 혼합하는 것이라도 좋고, 다른 소재로 이루어지는 2, 3 종류의 입자를 혼합해서 사용하는 것이라도 좋다.

2종류 이상의 미립자를 혼합해서 사용할 경우, 미립자는 입자 전체적으로서의 분포에 있어서, 2개 이상의 피크를 갖는 분포 형상을 갖는 것이 바람직하다. 즉, 주로 요철 형상을 형성하는 성질을 갖는 큰 입자 직경을 갖는 입자에다가, 작은 입자 직경을 갖는 입자를 병용함으로써, 큰 입자 직경을 갖는 입자를 전체적으로 균일하게 분산시킬 수 있어, 목적으로 하는 형상을 얻을 수 있다.

즉, 평균 입자 직경이 1.0 ㎛ 이상 20 ㎛ 이하(바람직하게는 하한 3.5 ㎛, 상한 15.0 ㎛)이며, 미립자 전체의 80 ％ 이상(질량비 ; 바람직하게는 90 ％ 이상)이, 평균 입자 직경 ±1.0(바람직하게는 0.3) ㎛의 범위 내에 있는 입자를 제1 미립자로 하고, 이것에 추가로 입자 직경이 작은 제2, 제3 미립자를 배합하여, 이것들을 혼합한 미립자 조성물을 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 제2 미립자 등을 사용하여, 복수의 미립자를 병용한 경우, 본 발명에 있어서의 수지 및 미립자의 굴절률의 차 n은, 미립자 중에서 가장 높은 굴절률을 갖는 것으로부터, 수지의 굴절률을 뺀 값이다.

상기 제1 미립자의 입자 직경을 R1, 제2 미립자의 입자 직경을 R2라 하면, 입자 직경 R2는

0.25 × R1(바람직하게는 0.50) ≤ R2 ≤ 1.0 × R1(바람직하게는 0.75)(I)

을 만족시키는 것인 것이 바람직하다. 또한, 그 밖의 미립자를 복수 포함하는 것이라도 좋다. 이 관계는, 제2 미립자에 대한 제3 미립자에도 성립된다. 제3 미립자의 입자 직경을 R3이라고 하면,

0.25 × R2(바람직하게는 0.50) ≤ R3 ≤ 1.0 × R2(바람직하게는 0.75)(Ⅱ)를 만족시키는 것이 바람직하다.

단, 제1, 제2, 제3 미립자도, 동일한 성분으로 이루어지는 경우에는, 입자 직경은 반드시 다른 것이 바람직하다. 서로 다른 소재로 이루어지는 2종류 이상의 미립자를 혼합해서 사용할 경우에는, 당해 2종류 이상의 미립자는, 상기와 같이 평균 입자 직경이 다른 것도 바람직하지만, 같은 평균 입자 직경인 것도 바람직하게 사용된다.

R2가 0.25 × R1 이상, R3이 0.25 × R2 이상인 것에 의해, 도포액의 분산이 용이해져, 입자가 응집하는 일이 없다. 또한, 도포 후의 건조 공정에 있어서 플로이팅 시의 바람의 영향을 받는 일이 없어, 균일한 요철 형상을 형성할 수 있다.

또한, 본 발명의 다른 형태에 따르면, 수지와, 제1 미립자와, 제2 미립자와의 단위 면적당의 총 질량비가, 제1 미립자의 단위 면적당의 총 질량을 M₁, 제2 미립자의 단위 면적당의 총 질량을 M₂, 수지의 단위 면적당의 총 질량을 M이라 한 경우에, 하기의 식(Ⅲ) 및 (Ⅳ) :

0.08 ≤ （M₁ ＋ M₂)/M ≤ 0.36 (Ⅲ)

0 ≤ M₂ ≤ 4.0M₁ (Ⅳ)

를 만족시키는 것이 바람직하다.

상기 제2 미립자로서는, 특별히 한정되지 않으며, 상기 제1 미립자와 같은 무기계, 유기계의 것을 사용할 수 있다. 상기 제2 미립자의 함유량은, 상기 제1 미립자의 함유량에 대하여, 3 내지 100 질량％인 것이 바람직하다. 제3 미립자는, 제2 미립자와 같은 배합량이라도 좋다.

본 발명에 있어서는, 2종류의 미립자 혹은, 3 종류의 미립자를 사용해서 요철 형상을 형성하는 것이 바람직하다.

이 경우에는, 각 미립자에는 주로 이하와 같은 역할이 있으며, 그 역할에 의해, 미립자의 소재와 입경을 적절하게 선택할 수 있다. 단, 이 역할은 일례이며, 제1 미립자, 제2 미립자, 제3 미립자 각각의 역할은, 적절하게 선택할 수 있다.

우선, 미립자로서 2종류를 사용하는 경우, 보다 큰 입자 직경을 갖는 미립자(즉, 상술한 제1 미립자)가 주로 요철 형상을 구성하는 기능을 갖는다. 이러한 목적으로 사용하는 미립자로서는, 후술하는 내부 확산성이 없는 미립자(즉, 수지 바인더와의 굴절률차가 작은 미립자)를 주로 선택한다. 요철층을 형성할 때, 이 제1 미립자의 입자 직경은, 매트릭스 수지의 막 두께보다 큰 경우도 있다. 이 경우, 제1 미립자는, 요철층의 피막으로부터 헤드가 드러나고 있는 상태이며, 이에 의해 요철 형상이 형성되어 있다.

이러한 제1 미립자는, 특히 응집하기 쉬운 소재로 이루어지는 미립자일 경우에, 방현층 안에서 응집해 버림으로써, 바람직한 요철 형상을 얻을 수 없게 되는 경우가 있다. 이러한 경우에는, 상기 제1 미립자의 방현층막 안에서의 횡 방향에서의 분산성을 양호하게 하기 위해서, 상기 제1 미립자의 입자 직경의 75 ％ 이하라고 하는 작은 입자 직경을 갖는 미립자(즉, 상술한 제2 미립자)를 병용하는 것이 바람직하다. 이에 의해, 요철 형상이 양호하게 컨트롤되어, 피막 전체적으로 균일하게 형성할 수 있다. 상기 제2 미립자는, 내부 확산성을 갖는 미립자라도 좋고, 또는 부정형의 응집성의 미립자라도 좋다.

상기 제1 미립자, 제2 미립자에다가, 추가로 작은 입자 직경을 갖는 제3 미립자를 병용할 수도 있다. 이 경우, 제2 미립자로서는 내부 확산성을 발생하는 미립자(즉, 수지 바인더와의 굴절률차가 큰 입자)를 선택하는 것이 바람직하다. 상기 제2 미립자의 입경은, 제1 미립자의 입자 직경의 75 ％ 이하인 것과 같은 작은 것이 바람직하다. 제3 미립자는, 제2 미립자보다도 더욱 미세한 것이며, 상기 제1 미립자, 제2 미립자의 방현층막 안에서의 횡 방향의 분산성을 양호하게 하고, 바람직한 요철을 형성하기 위한 스페이서가 된다. 이에 의해 요철 형상이 양호하게 컨트롤되어, 피막 전체적으로 균일하게 요철 형상을 형성할 수 있다. 상기 제3 미립자의 입경은, 제2 미립자의 85 ％ 이하의 작은 것이 바람직하다.

상기 미립자의 소재로서는, 특별히 한정되지 않으며, 무기계, 유기계의 것을 사용할 수 있고, 바람직하게는 투명성의 것이 좋다. 유기계 재료에 의해 형성되어 이루어지는 미립자의 구체예로서는, 플라스틱 비즈를 들 수 있다. 플라스틱 비즈로서는, 폴리스티렌 비즈(굴절률 1.59 내지 1.60), 멜라민 비즈(굴절률 1.57), 아크릴 비즈(굴절률 1.49 내지 1.53), 아크릴-스티렌 비즈(굴절률 1.54 내지 1.58), 벤조구아나민-포름알데히드 비즈, 폴리카보네이트 비즈, 폴리에틸렌 비즈, 등을 들 수 있다. 상기 플라스틱 비즈는, 그 표면에 소수성기를 갖는 것이 바람직하며, 예를 들어 스티렌 비즈를 들 수 있다. 무기계 미립자로서는, 부정형 실리카 등을 들 수 있다.

상기 부정형 실리카는, 분산성이 양호한 입경 0.5 내지 5 ㎛의 실리카 비즈를 사용하는 것이 바람직하다. 상기 부정형 실리카의 함유량은, 바인더 수지에 대하여 1 내지 30 질량부인 것이 바람직하다. 이하에서 상세하게 서술하는 방현층용 조성물의 점도 상승을 발생하는 일 없이 상기 부정형 실리카의 분산성을 양호한 것으로 하기 위해, 평균 입경이나, 첨가량을 변경시키는 동시에, 입자 표면에의 유기물 처리의 유무도 변경해서 사용할 수 있다. 입자 표면에 유기물 처리를 실시할 경우에는, 소수화 처리가 바람직하다.

상기 유기물 처리에는, 비즈 표면에 화합물을 화학적으로 결합시키는 방법이나, 비즈 표면과는 화학적인 결합 없이, 비즈를 형성하는 조성물에 있는 보이드 등에 침투시키는 물리적인 방법이 있으며, 어느 쪽을 사용해도 좋다. 일반적으로는, 수산기 또는 실라놀기 등의 실리카 표면의 활성기를 이용하는 화학적 처리법이, 처리 효율의 관점에서 바람직하게 사용된다. 처리에 사용하는 화합물로서는, 상술한 활성기와 반응성이 높은 실란계, 실록산계, 실라잔계 재료 등이 사용된다. 예를 들어, 메틸트리클로로실란 등의, 직쇄 알킬 단(單)치환 실리콘 재료, 분지 알킬 단치환 실리콘 재료, 혹은 디-n-부틸 디클로로실란, 에틸디메틸클로로실란 등의 다치환 직쇄 알킬 실리콘 화합물이나, 다(多)치환 분지쇄 알킬 실리콘 화합물을 들 수 있다. 마찬가지로, 직쇄 알킬기 혹은 분지 알킬기의 단치환, 다치환 실록산 재료, 실라잔 재료도 유효하게 사용할 수 있다.

필요 기능에 따라서, 알킬쇄의 말단부로부터 중간 부위에, 헤테로 원자, 불포화 결합기, 환상 결합기, 방향족 관능기 등을 갖는 것을 사용해도 상관 없다. 이들의 화합물은, 포함되는 알킬기가 소수성을 나타내므로, 피처리 재료 표면을, 친수성으로부터 소수성으로 쉽게 변환하는 것이 가능해져, 미처리에서는 친화성이 결여된 고분자 재료도, 높은 친화성을 얻을 수 있다.

본 발명에 있어서의 요철층은, 표면의 요철을 형성해 방현성을 부여할 뿐만 아니라, 매트릭스와 미립자와의 굴절률의 차이에 의해 발생하는 내부 산란성(굴절률차가 클수록, 내부 산란성은 커짐)을 부여하는 것이 바람직하다.

이 내부 산란성은, 방현성 필름에서 문제가 되는 번쩍거림(표면 요철이 렌즈의 기능을 하고, 특히 화소 사이즈가 작은 고정세 디스플레이인 경우에, 휘도의 편차를 발생시켜, 시인성의 저하를 일으키는 현상) 개량성을 갖게 할 수 있다.

이러한 번쩍거림 개량성을 부여하는 미립자로서는, 상기 바인더의 굴절률의 차가 0.03 내지 0.20인 것을 사용하는 것이 바람직하다. 방현층에 포함되는 바인더와 미립자와의 굴절률의 차를 0.03 이상, 0.20 이하가 바람직하다고 한 것은, 굴절률차가 0.03 미만인 경우에는, 양자의 굴절률의 차가 지나치게 작아 광 확산 효과를 얻을 수 없고, 또한 굴절률차가 0.20보다도 큰 경우에는, 광 확산성이 지나치게 높아 필름 전체가 백화되어 버리기 때문이다. 또한, 상기 미립자와 상기 바인더와의 굴절률차는, 0.04 이상, 0.16 이하, 또한 0.09 이하가 특히 바람직하다.

상기 미립자에 있어서, 2종류 이상의 다른 굴절률을 갖는 투광성 미립자를 사용하여, 그들 미립자의 혼합을 행할 경우에는, 투광성 미립자의 굴절률은, 각각의 미립자의 굴절률과 사용 비율에 따른 평균값으로서 간주할 수 있고, 미립자의 혼합 비율 조정에 의해 세밀한 굴절률 설정이 가능해져, 1종류의 경우보다도 제어가 용이해져, 다양한 설계가 가능해진다.

따라서, 본 발명에 있어서는, 상기 미립자로서 2종류 이상의 다른 굴절률을 갖는 미립자를 사용해도 된다. 이 경우에는, 제1 미립자와 제2 미립자와의 굴절률의 차를 0.03 이상, 0.10 이하로 하는 것이 바람직하다. 상기 미립자 중, 제1 미립자와 제2 미립자와의 굴절률의 차를 0.03 이상, 0.10 이하가 바람직하다고 한 것은, 굴절률차가 0.03 미만인 경우에는, 양자의 굴절률의 차가 지나치게 작아서, 양자를 혼합해도 굴절률 제어의 자유도가 작고, 또한 굴절률차가 0.10보다도 큰 경우에는, 매트릭스와의 굴절률차가 큰 미립자에 의해 광 확산성이 결정되어 버리기 때문이다. 또한, 상기 굴절률차는 0.04 이상, 0.09 이하가 보다 바람직하며, 0.05 이상, 0.08 이하가 특히 바람직하다.

상기 요철층에 함유시키는 제1 미립자로서는, 특히 투명도가 높고, 바인더와의 굴절률차가 전술한 바와 같은 수치가 되는 것이 바람직하다. 제1 미립자에 사용되는 유기 미립자로서는, 구체적으로는 아크릴 비즈(굴절률 1.49 내지 1.533), 아크릴-스틸렌 공중합체 비즈(굴절률 1.55), 멜라민 비즈(굴절률 1.57), 폴리카보네이트 비즈(굴절률 1.57) 등을 들 수 있다. 무기 미립자로서는, 부정형 실리카 비즈(굴절률 1.45 내지 1.50)를 들 수 있다.

제2 미립자로서는, 유기 미립자가 적합하고, 특히 투명도가 높고, 수지와의 굴절률차가 전술한 바와 같은 수치가 되는 것을 조합하여 사용하는 것이 바람직하다.

제2 미립자에 사용되는 유기 미립자로서는, 구체적으로는 스티렌 비즈(굴절률 1.59 내지 1.60), 폴리염화비닐 비즈(굴절률 1.60), 벤조구아나민ㆍ포름알데히드 축합 비즈(1.66) 등을 들 수 있다.

또한, 상기 미립자로서 2종류의 다른 굴절률을 갖는 미립자를 사용할 경우에는, 전술한 바와 같이, 제1 미립자의 입경 > 제2 미립자의 입경으로 하는 것도 바람직하지만, 억지로 2종류의 미립자의 입경을 일치시킴으로써, 제1 미립자와 제2 미립자의 비율을 자유롭게 선택해 사용할 수도 있고, 이렇게 함으로써, 광 확산성의 설계가 용이해진다. 제1 미립자와 제2 미립자와의 입경을 일치시키기 위해서는, 단분산 입자를 얻기 쉬운 유기 미립자가, 이 점에서 바람직하다. 입경에 편차가 없을수록, 방현성이나 내부 산란 특성에 편차가 적어져, 방현층의 광학 성능 설계가 용이해지므로 바람직하다. 단분산성을 더욱 높이는 수단으로서, 풍력 분급, 여과 필터에 의한 습식 여과 분급을 들 수 있다.

상기 요철층은, 상기 미립자 및 경화형 수지를 함유하는 요철층용 조성물에 의해 형성할 수 있다. 상기 경화형 수지로서는, 투명성인 것이 바람직하며, 예를 들어 자외선 또는 전자선에 의해 경화하는 수지인 전리 방사선 경화형 수지, 전리 방사선 경화형 수지와 용제 건조형 수지(열가소성 수지 등, 도공 시에 고형분을 조정하기 위해서 첨가한 용제를 건조시키는 것만으로, 피막이 되는 수지)와의 혼합물 또는 열경화형 수지를 들 수 있다. 더욱 바람직하게는 전리 방사선 경화형 수지이다. 또한, 본 명세서에 있어서,「수지」는 모노머, 올리고머 등의 수지 성분도 포함하는 개념이다.

상기 전리 방사선 경화형 수지로서는, 예를 들어 아크릴레이트계의 관능기를 갖는 화합물 등의 1 또는 2 이상의 불포화 결합을 갖는 화합물을 들 수 있다. 1의 불포화 결합을 갖는 화합물로서는, 예를 들어 에틸(메타)아크릴레이트, 에틸헥실 (메타)아크릴레이트, 스티렌, 메틸스티렌, N-비닐피롤리돈 등을 들 수 있다. 2 이상의 불포화 결합을 갖는 화합물로서는, 예를 들어 폴리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 헥산디올(메타)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트 등의 다관능 화합물과 (메타)알릴레이트 등의 반응 생성물(예를 들어, 다가 알코올의 폴리(메타)아크릴레이트에스테르), 등을 들 수 있다. 또한, 본 명세서에 있어서「(메타)아크릴레이트」는, 메타크릴레이트 및 아크릴레이트를 가리키는 것이다.

상기 화합물 외에, 불포화 이중 결합을 갖는 비교적 저분자량의 폴리에스테르 수지, 폴리에테르 수지, 아크릴 수지, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 알키드 수지, 스피로 아세탈 수지, 폴리부타디엔 수지, 폴리티올폴리엔 수지 등도 상기 전리 방사선 경화형 수지로서 사용할 수 있다.

전리 방사선 경화형 수지를 자외선 경화형 수지로서 사용할 경우에는, 광중합 개시제를 사용하는 것이 바람직하다. 광중합 개시제의 구체예로서는, 아세토페논류, 벤조페논류, 미히라벤조일벤조에이트, α-아밀옥심에스테르, 티옥산톤류, 프로피오페논류, 벤질류, 벤조인류, 아실포스핀옥시드류를 들 수 있다. 또한, 광증감제를 혼합해서 사용하는 것이 바람직하며, 그 구체예로서는 n-부틸아민, 트리에틸아민, 폴리-n-부틸포스핀 등을 들 수 있다.

광중합 개시제로서는, 래디컬 중합성 불포화기를 갖는 수지계의 경우에는, 아세토페논류, 벤조페논류, 티옥산톤류, 벤조인, 벤조인메틸에테르 등을 단독 또는 혼합해서 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 양이온 중합성 관능기를 갖는 수지계의 경우에는, 광중합 개시제로서, 방향족 디아조늄염, 방향족 술포늄염, 방향족 요도늄염, 메탈로센 화합물, 벤조인 술폰산 에스테르 등을 단독 또는 혼합물로서 사용하는 것이 바람직하다. 광중합 개시제의 첨가량은, 전리 방사선 경화성 조성물 100 질량부에 대하여, 0.1 내지 10 질량부인 것이 바람직하다.

상기 전리 방사선 경화형 수지는, 용제 건조형 수지와 병용해서 사용할 수도 있다. 상기 전리 방사선 경화형 수지와 병용해서 사용할 수 있는 용제 건조형 수지로서는 특별히 한정되지 않으며, 일반적으로 열가소성 수지를 사용할 수 있다. 용제 건조형 수지를 병용함으로써, 도포면의 피막 결함을 유효하게 방지할 수 있고, 이에 의해 훨씬 우수한 염흑감을 얻을 수 있다. 상기 열가소성 수지로서는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들어 스티렌계 수지, (메타)아크릴계 수지, 아세트산 비닐계 수지, 비닐 에테르계 수지, 할로겐 함유 수지, 지환식 올레핀계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리아미드계 수지, 셀룰로오스 유도체, 실리콘계 수지 및 고무 또는 엘라스토머 등을 들 수 있다. 상기 열가소성 수지는, 비결정성이고, 또한 유기 용매(특히 복수의 폴리머나 경화성 화합물을 용해 가능한 공통 용매)에 용해 가능한 것이 바람직하다. 특히, 제막성, 투명성이나 내후성이라고 하는 관점에서, 스티렌계 수지, (메타)아크릴계 수지, 지환식 올레핀계 수지, 폴리에스테르계 수지, 셀룰로오스 유도체(셀룰로오스 에스테르류 등) 등이 바람직하다.

상기 광 투과성 기재의 재료가 TAC 등의 셀룰로오스계 수지인 경우, 열가소성 수지로서는, 셀룰로오스계 수지, 예를 들어 니트로셀룰로오스, 아세틸 셀룰로오스, 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트, 에틸히드록시에틸셀룰로오스 등이 바람직하다.

상기 열경화성 수지로서는, 페놀 수지, 요소 수지, 디아릴프탈레이트 수지, 멜라닌 수지, 구아나민 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 폴리우레탄 수지, 에폭시 수지, 아미노 알키드 수지, 멜라민-요소 공축합 수지, 규소 수지, 폴리실록산 수지 등을 들 수 있다. 열경화성 수지를 사용할 경우, 필요에 따라서, 가교제, 중합 개시제 등의 경화제, 중합 촉진제, 용제, 점도 조정제 등을 병용해서 사용할 수도 있다.

상기 요철층은, 미립자와 수지를 적절한 용제에 혼합해서 얻은 요철층용 조성물을 광 투과성 기재에 도포함으로써 형성할 수 있다. 적절한 용제로서는, 메탄올, 에탄올, 이소프로필 알코올, 부탄올, 이소부틸 알코올, 메틸글리콜, 메틸글리콜 아세테이트, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브 등의 알코올류 ; 아세톤, 메틸에틸 케톤, 메틸이소부틸 케톤, 시클로헥사논, 디아세톤 알코올 등의 케톤류 ; 포름산 메틸, 아세트산 메틸, 아세트산 에틸, 락트산 에틸, 아세트산 부틸 등의 에스테르류 ; 니트로메탄, N-메틸피롤리돈, N,N-디메틸포름아미드 등의 질소 함유 화합물 ; 디이소프로필에테르, 테트라히드로푸란, 디옥산, 디옥소란 등의 에테르류 ; 염화메틸렌, 클로로포름, 트리클로로에탄, 테트라크롤에탄 등의 할로겐화 탄화수소 ; 디메틸술폭시드, 탄산프로필렌, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르(PGME) 등의 그 밖의 것 ; 또는 이것들의 혼합물을 들 수 있다. 보다 바람직한 용제로서는, 아세트산 메틸, 아세트산 에틸, 아세트산 부틸, 메틸에틸 케톤, 메틸이소부틸 케톤, 시클로헥사논, 톨루엔 등을 들 수 있다.

본 발명의 바람직한 형태에 따르면, 상기 요철층은 대전 방지, 굴절률 조정, 고경도화, 오염 방지성 등을 부여하는 기능을 갖는 것이라도 좋다. 이 경우, 상기 요철층은, 필요에 따라서 그 밖의 첨가제를 함유하는 요철층용 조성물에 의해 형성할 수 있다.

상기 요철층용 조성물은, 대전 방지제를 포함하는 것이라도 좋다.

상기 대전 방지제로서는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들어 제4급 암모늄염, 피리디늄염, 제1 내지 제3 아미노기 등의 양이온성 화합물 ; 술폰산염기, 황산 에스테르염기, 인산 에스테르염기, 포스폰산염기 등의 음이온성 화합물 ; 아미노산계, 아미노 황산 에스테르계 등의 양성 화합물 ; 아미노 알콜계, 글리세린계, 폴리에틸렌 글리콜계 등의 비이온성 화합물 ; 주석 및 티탄의 알콕시드와 같은 유기 금속 화합물 ; 상기 유기 금속 화합물의 아세틸아세토네이토염과 같은 금속 킬레이트 화합물 등을 들 수 있다. 상기에 열기한 화합물을 고분자량화한 화합물도 사용할 수 있다. 또한, 제3급 아미노기, 제4급 암모늄기 또는 금속 킬레이트부를 갖고, 또한 전리 방사선에 의해 중합 가능한 모노머 또는 올리고머 또는 관능기를 갖는 커플링제와 같은 유기 금속 화합물 등의 중합성 화합물도 또한 대전 방지제로서 사용할 수 있다.

상기 대전 방지제로서는 또한, 도전성 폴리머를 들 수 있다. 상기 도전성 폴리머를 사용하면, 우수한 대전 방지 성능을 발휘하는 동시에, 광학 적층체의 전광선 투과율을 높이고, 헤이즈 값을 내리는 것도 가능해진다. 또한, 도전성 향상이나, 대전 방지 성능 향상을 목적으로 한 유기 술폰산이나 염화철 등의 음이온을, 도판트(전자 공여제)로서 첨가할 수도 있다.

상기 도전성 폴리머로서는, 예를 들어 지방족 공역계의 폴리아세틸렌, 폴리아센, 폴리아즈렌, 방향족 공역계의 폴리페닐렌, 복소환식 공역계의 폴리피롤, 폴리티오펜, 폴리이소티아나프텐, 헤테로 원자 함유 공역계의 폴리아닐린, 폴리티에닐렌비닐렌, 혼합형 공역계의 폴리(페닐렌 비닐렌), 분자 중에 복수의 공역 쇄를 갖는 공역계인 복쇄형 공역계, 이들의 도전성 폴리머의 유도체 및, 이들의 공역 고분자 쇄를 포화 고분자에 그래프트 또는 블록 공중합한 고분자인 도전성 복합체 등을 들 수 있다.

그 중에서도, 폴리티오펜, 폴리아닐린, 폴리피롤을 사용하는 것이 바람직하다.

또한, 투명성, 대전 방지성이 높고, 상술한 도판트 첨가 효과에도 우수한 점에서, 폴리티오펜이 특히 바람직하다. 상기 폴리티오펜으로서, 올리고 티오펜도 적절하게 사용할 수 있다.

또한, 상기 유도체로서는, 특별히 한정되지 않으며, 예를 들어 폴리페닐아세틸렌, 폴리디아세틸렌의 알킬기 치환체 등을 들 수 있다.

상기 대전 방지제는, 도전성 금속 산화물 미립자 등의 도전성 미립자라도 좋다.

상기 도전성 금속 산화물 미립자로서는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들어 ZnO(굴절률 1.90, 이하, 괄호 안의 값은 모두 굴절률을 나타내는 것임), Sb₂O₂(1.71), SnO₂(1.997), CeO₂(1.95), 산화 인듐 주석(약칭 ITO ; 1.95), In₂O₃(2.00), Al₂O₃(1.63), 안티몬 도프 산화주석(약칭　ATO ; 2.0), 알루미늄 도프 산화 아연(약칭　AZO ; 2.0) 등을 들 수 있다. 미립자라 함은, 평균 입자 직경이 1 미크론 이하의, 소위 서브 미크론 크기의 것을 말하고, 평균 입자 직경이 0.1 ㎚ 내지 0.1 ㎛인 것이 초미립자를 바인더에 분산하였을 때, 헤이즈가 거의 없고, 전광선 투과율이 양호한 고투명한 막을 형성할 수 있는 조성물을 제작할 수 있다고 하는 관점에서 보아 바람직하다. 상기 도전성 금속 산화물 미립자의 평균 입자 직경은, 동적 광산란법 등에 의해 측정할 수 있다.

상기 대전 방지제는, 상기 바인더 수지량(용제를 제외함)에 대한 첨가가 5 내지 250 질량％인 것이 바람직하다. 더욱 바람직하게는, 상기 첨가량의 상한이 100 이하이며, 하한이 7 이상이다. 첨가량을 상기 수치 범위로 조정함으로써, 광학 적층체로서의 투명성을 유지하고, 또한 염흑감이나 방현성 등의 성질에 악영향을 부여하는 일 없이, 대전 방지 성능을 부여할 수 있는 점에서 바람직하다.

상기 요철층용 조성물은, 오염 방지성을 포함하는 것이라도 좋다. 상기 오염 방지제는, 광학 적층체의 최표면의 오염 방지를 주 목적으로 하고, 또한 광학 적층체의 내마손성을 부여하는 것이 가능해진다. 오염 방지제로서는, 발수성, 발유성, 지문 닦임성을 발현하는 첨가제가 유효하며, 예를 들어 불소계 화합물, 규소계 화합물 또는 이들의 혼합 화합물을 들 수 있다. 상기 규소계 화합물로서는, 2-퍼플루오로옥틸에틸트리아미노실란 등의 플루오로 알킬기를 갖는 실란 커플링제 등을 들 수 있고, 특히 아미노기를 갖는 것이 바람직하다.

상기 요철층용 조성물은, 굴절률 조정제를 포함하는 것이라도 좋다. 상기 굴절률 조정제를 사용함으로써, 광학 적층체의 광학 특성을 조정하는 것이 가능해진다. 상기 굴절률 조정제로서는, 저굴절률제, 중굴절률제, 고굴절률제 등을 들 수 있다. 상기 저굴절률제는, 그 굴절률이 요철층보다 낮은 것이다. 본 발명의 바람직한 형태에 따르면, 요철층의 굴절률이 1.5 이상이며, 저굴절률제의 굴절률이 1.5 미만이며, 바람직하게는 1.45 이하로 구성되어 이루어지는 것이 바람직하다.

고굴절률제, 중굴절률제는, 반사 방지성을 더욱 향상시키기 위해서, 상기 요철층에 첨가되어도 좋다. 고굴절률제, 중굴절률제의 굴절률은 1.46 내지 2.00의 범위 내에서 설정되어도 좋고, 중굴절률제는 그 굴절률이 1.46 내지 1.80의 범위 내인 것을 의미하고, 고굴절률제는, 그 굴절률이 1.65 내지 2.00의 범위 내인 것을 의미한다.

이들 굴절률제로는, 미립자를 들 수 있고, 그 구체예(괄호 안은 굴절률을 나타냄)로서는, 산화 아연(1.90), 티타니아(2.3 내지 2.7), 산화세륨(1.95), 안티몬 도프 산화 주석(1.80), 주석 도프 산화 인듐(1.95), 지르코니아(2.0), 이트리아(1.87) 등을 들 수 있다.

상기 요철층용 조성물은, 또한 불소계 또는 실리콘계 등의 레벨링제를 첨가하는 것이 바람직하다. 레벨링제를 첨가한 상기 요철층용 조성물은, 도포 적성이 향상되고, 또한 내마손성이라고 하는 효과를 부여할 수 있다. 레벨링제는, 내열성이 요구되는 필름 형상 광 투과성 기재(예를 들어 트리아세틸 셀룰로오스나 폴리에틸렌테레프탈레이트)에 바람직하게는 이용된다.

상기 요철층용 조성물을 광 투과성 기재에 도포하는 방법으로서는, 롤 코트법, 미야바 코트법, 그라비아 코트법 등의 도포 방법을 들 수 있다. 상기 요철층용 조성물의 도포 후에, 필요에 따라서 건조와 자외선 경화를 행한다. 자외선원의 구체예로서는, 초고압 수은등, 고압 수은등, 저압 수은등, 카본 아크등, 블랙 라이트 형광등, 메탈 할라이드 램프 등의 광원을 들 수 있다. 자외선의 파장으로서는, 190 내지 380 ㎚의 파장 영역을 사용할 수 있다. 전자선원의 구체예로서는, 콕크로프트 월트형, 반데그래프트형, 공진 변압기형, 절연 코어 변압기형, 또는 직선형, 다이나미트론형, 고주파형 등의 각종 전자선 가속기를 들 수 있다. 수지가 경화하여, 수지 중의 미립자가 고정되어, 요철층의 표면에 원하는 요철 형상이 형성된다.

또한, 이러한 방법 1에 의해 요철을 형성하는 경우, Sm, θa 및 Rz는, 요철층의 형성에 사용하는 수지 종류나 요철 형성에 사용되는 입자의 입자 직경이나 배합량, 또한 표면 조정층의 조성이나 막 두께 등을 조정함으로써, 적절하게 원하는 범위의 것으로 할 수 있다.

이러한 방법 1에 의한 요철층의 형성은, 상술한 제3 제조 방법에 있어서 특히 적절하게 적용할 수 있는 방법이다. 또한, 상기 방법에 의해 요철 형상을 갖는 방현성 필름을 제조하고, 상술한 제1 제조 방법에 있어서 적용할 수도 있다. 또한, 상술한 요철층용 조성물은, 제2, 제4 제조 방법에 있어서도 적용할 수 있다.

(방법 2) 미립자를 첨가하지 않고, 수지 등 만을 포함한 요철층용 조성물을 사용해서 요철 형상을 가진 요철층을 형성하는 방법

상기 방법 2는, 폴리머 및 경화성 수지 전구체로 이루어지는 군으로부터 적어도 2종류의 성분을 조합하여, 적절한 용매를 사용해서 혼합한 요철층용 조성물을 광 투과성 기재 상에 부여해서 형성하는 방법이다.

방법 2에 의한 요철 형상은, 예를 들어 폴리머 및 경화성 수지 전구체로 이루어지는 군으로부터 적어도 2종류의 성분을 포함하는 요철층용 조성물(이하, 이것을「상 분리형 방현층용 조성물」이라고 기록함)을 사용해서 형성할 수 있다. 이러한 방법에 있어서는, 폴리머 및 경화성 수지 전구체로 이루어지는 군으로부터 적어도 2종류의 성분을, 적절한 용매와 함께 혼합한 상 분리형 방현층용 조성물을 사용함으로써, 액상으로부터의 스피노달 분해에 의해, 상 분리 구조를 갖는 피막을 형성할 수 있다.

상기 상 분리형 방현층용 조성물은, 광 투과성 기재 상에 도포한 후, 용매를 건조 등에 의해 증발 또는 제거하는 과정에서, 폴리머 및 경화성 수지 전구체로 이루어지는 군으로부터 적어도 2종류의 성분 사이에서 스피노달 분해에 의한 상 분리가 발생하고, 상간 거리가 비교적 규칙적인 상 분리 구조를 형성시킬 수 있다.

상기 스피노달 분해는, 용매의 제거에 따라서 발생하는 상 분리의 진행에 수반하여 공연속 상 구조를 형성하고, 또한 상 분리가 진행되면, 연속 상이 자기의 표면 장력에 의해 비 연속화하고, 액적 상 구조(구 형상, 진구 형상, 원반 형상이나 타원체 형상 등의 독립 상의 해도 구조)가 된다. 따라서, 상 분리의 정도에 의해, 공연속 상 구조와 액적 상 구조와의 중간적 구조(상기 공연속 상으로부터 액적 상으로 이행하는 과정의 상 구조)도 형성할 수 있다. 상기 방법 2에 있어서는, 이러한 스피노달 분해에 의한, 해도 구조(액적 상 구조 또는 한쪽의 상이 독립 또는 고립된 상 구조), 공연속 상 구조(또는 그물 구조), 또는 공연속 상 구조와 액적 상 구조가 혼재된 중간적 구조에 의해, 용매 건조 후에는 요철층의 표면에 미세한 요철이 형성되는 것이다.

이러한 용매의 증발을 수반하는 스피노달 분해는, 상 분리 구조의 도메인 간의 평균 거리가 규칙성 또는 주기성을 갖는 것이 되므로, 최종적으로 형성되는 요철 형상도 규칙성 또는 주기성을 갖는 것으로 할 수 있는 점에서 바람직한 것이다. 스피노달 분해에 의해 형성된 상 분리 구조는, 폴리머 중의 경화성 관능기 또는 경화성 수지 전구체를 경화시킴으로써 고정화할 수 있다. 경화성 관능기 또는 경화성 수지 전구체의 경화는, 경화성 수지 전구체의 종류에 따라서, 가열, 광 조사 등, 혹은 이들 방법의 조합에 의해 행할 수 있다. 가열 온도는, 상기 스피노달 분해에 의해 형성된 상 분리 구조를 유지할 수 있는 조건인 한, 특별히 한정되지 않으며, 예를 들어 50 내지 150 ℃인 것이 바람직하다. 광 조사에 의한 경화는, 자외선 경화 등의 상술한 방법으로 행할 수 있다. 광 경화성을 갖는 상 분리형 방현층용 조성물에 있어서는, 광중합 개시제를 함유하는 것이 바람직하다. 상기 경화성을 갖는 성분은, 경화성 관능기를 갖는 폴리머라도, 경화성 수지 전구체라도 좋다.

상기 폴리머 및 경화성 수지 전구체로 이루어지는 군으로부터 적어도 2종류의 성분은, 액상에서의 스피노달 분해에 의해 상 분리하는 조합을 선택해서 사용하는 것이 바람직하다. 상 분리하는 조합으로서는, 예를 들어 (a) 복수의 폴리머끼리가 서로 비상용으로 상 분리하는 조합, (b) 폴리머와 경화성 수지 전구체가 비상용으로 상 분리하는 조합, (c) 복수의 경화성 수지 전구체끼리가 서로 비상용으로 상 분리하는 조합 등을 들 수 있다. 이것들의 조합 중, (a) 복수의 폴리머끼리의 조합이나, (b) 폴리머와 경화성 수지 전구체와의 조합이 바람직하며, 특히 (a) 복수의 폴리머끼리의 조합이 바람직하다.

상 분리 구조에 있어서, 요철층의 표면에 요철 형상이 형성되고, 또한 표면 경도를 높이는 점으로부터는, 적어도 섬 형상 도메인을 갖는 액적 상 구조인 것이 유리하다. 또한, 폴리머와 상기 전구체(또는 경화 수지)로 구성된 상 분리 구조가 해도 구조인 경우, 폴리머 성분이 해상(海相)을 형성해도 좋지만, 표면 경도의 관점에서, 폴리머 성분이 섬 형상 도메인을 형성하는 것이 바람직하다. 섬 형상 도메인의 형성에 의해, 건조 후에는 요철층의 표면에 원하는 광학 특성을 발휘하는 요철 형상이 형성된다.

상기 상 분리 구조의 도메인 간의 평균 거리는, 통상 실질적으로 규칙성 또는 주기성을 갖고 있으며, 표면 거칠기의 Sm에 상당한다. 도메인의 평균 상 간 거리는, 예를 들어 50 내지 100 ㎛라도 좋다. 상기 상 분리 구조의 도메인 간의 평균 거리는, 수지 조합의 선택(특히 용해성 파라미터를 기초로 하는 수지의 선택) 등에 의해 조정할 수 있다. 이렇게 도메인 간의 평균 거리를 조정함으로써, 최종적으로 얻을 수 있는 필름 표면의 요철 간의 거리를 원하는 값으로 할 수 있다.

상기 폴리머로서는, 셀룰로오스 유도체(예를 들어, 셀룰로오스에스테르류, 셀룰로오스카바메이트류, 셀룰로오스에테르류), 스티렌계 수지, (메타)아크릴계 수지, 유기산 비닐 에스테르계 수지, 비닐 에테르계 수지, 할로겐 함유 수지, 올레핀계 수지(지환식 올레핀계 수지를 포함함), 폴리에스테르계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 열가소성 폴리우레탄 수지, 폴리술폰계 수지(예를 들어, 폴리에테르술폰, 폴리술폰), 폴리페닐렌에테르계 수지(예를 들어, 2,6-크실레놀의 중합체), 실리콘 수지(예를 들어, 폴리디메틸실록산, 폴리메틸페닐실록산), 고무 또는 엘라스토머(예를 들어, 폴리부타디엔, 폴리이소프렌 등의 디엔계 고무, 스티렌-부타디엔 공중합체, 아크릴로니트릴-부타디엔 공중합체, 아크릴 고무, 우레탄 고무, 실리콘 고무) 등을 들 수 있고, 이것들의 단독 또는 2종류 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 복수의 폴리머 중, 적어도 1개의 폴리머가, 경화성 수지 전구체의 경화 반응에 관여하는 관능기, 예를 들어 (메타)아크릴로일기 등의 중합성기를 갖고 있어도 된다. 폴리머 성분으로서는, 열경화성이라도 열가소성이라도 좋지만, 열가소성 수지인 것이 보다 바람직하다.

상기 폴리머는, 비 결정성으로 유기 용매(특히 복수의 폴리머나 경화성 화합물을 용해 가능한 공통 용매)에 용해 가능한 것이 바람직하다. 특히, 성형성 또는 제막성, 투명성이나 내후성이 높은 수지, 예를 들어 스티렌계 수지, (메타)아크릴계 수지, 지환식 올레핀계 수지, 폴리에스테르계 수지, 셀룰로오스 유도체(셀룰로오스에스테르류 등) 등이 바람직하다.

상기 셀룰로오스 유도체 중 셀룰로오스 에스테르류의 구체예로서는, 예를 들어 지방족 유기산 에스테르, 예를 들어 셀룰로오스 디아세테이트, 셀룰로오스 트리아세테이트 등의 셀룰로오스 아세테이트류 ; 셀룰로오스 프로피오네이트, 셀룰로오스 부틸레이트, 셀룰로오스 아세테이트프로피오네이트, 셀룰로오스 아세테이트 부틸레이트 등의 C_1-6 유기산 에스테르 ; 셀룰로오스 프탈레이트, 셀룰로오스 벤조에이트 등의 C_7-12 방향족 카르복실산 에스테르 등의 방향족 유기산 에스테르 ; 인산 셀룰로오스, 황산 셀룰로오스 등의 무기산 에스테르 ; 아세트산ㆍ질산 셀룰로오스 에스테르 등의 혼합산 에스테르 ; 셀룰로오스 페닐카바메이트 등의 셀룰로오스 카바메이트류 ; 시아노에틸 셀룰로오스 등의 셀룰로오스 에테르류 ; 히드록시에틸 셀룰로오스, 히드록시프로필 셀룰로오스 등의 히드록시 C_2-4 알킬 셀룰로오스 ; 메틸셀룰로오스, 에틸셀룰로오스 등의 C_1-6 알킬 셀룰로오스 ; 카르복시메틸 셀룰로오스 또는 그의 염, 벤질셀룰로오스, 아세틸알킬 셀룰로오스 등을 들 수 있다.

상기 스티렌계 수지로서는, 스티렌계 단량체의 단독 또는 공중합체(예를 들어, 폴리스티렌, 스티렌-α-메틸스티렌 공중합체, 스티렌-비닐 톨루엔 공중합체), 스티렌계 단량체와 다른 중합성 단량체[예를 들어, (메타)아크릴계 단량체, 무수 말레인산, 말레이미드계 단량체, 디엔류]와의 공중합체 등이 포함된다. 스티렌계 공중합체로서는, 예를 들어 스티렌-아크릴로니트릴 공중합체(AS 수지), 스티렌과(메타)아크릴계 단량체와의 공중합체[예를 들어, 스티렌-메타크릴산 메틸 공중합체, 스티렌-메타크릴산메틸-(메타)아크릴산 에스테르 공중합체, 스티렌-메타크릴산메틸-(메타)아크릴산 공중합체 등], 스티렌-무수 말레인산 공중합체 등을 들 수 있다. 바람직한 스티렌계 수지로서는, 폴리스티렌, 스티렌과 (메타)아크릴계 단량체와의 공중합체[예를 들어, 스티렌-메타크릴산 메틸 공중합체 등의 스티렌과 메타크릴산메틸을 주성분으로 하는 공중합체], AS 수지, 스티렌-부타디엔 공중합체 등이 포함된다.

상기 (메타)아크릴계 수지로서는, (메타)아크릴계 단량체의 단독 또는 공중합체, (메타)아크릴계 단량체와 공중합성 단량체와의 공중합체 등을 사용할 수 있다. (메타)아크릴계 단량체의 구체예로서는, (메타)아크릴산 ; (메타)아크릴산메틸, (메타)아크릴산에틸, (메타)아크릴산부틸, (메타)아크릴산t-부틸, (메타)아크릴산이소부틸, (메타)아크릴산헥실, (메타)아크릴산옥틸, (메타)아크릴산2-에틸헥실 등의 (메타)아크릴산C_1-10 알킬 ; (메타)아크릴산페닐 등의 (메타)아크릴산아릴 ; 히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 히드록시프로필(메타)아크릴레이트 등의 히드록시알킬(메타)아크릴레이트 ; 글리시딜(메타)아크릴레이트 ; N,N-디알킬아미노알킬(메타)아크릴레이트 ; (메타)아크릴로니트릴 ; 트리시클로데칸 등의 지환식 탄화수소기를 갖는 (메타)아크릴레이트 등을 예시할 수 있다. 공중합성 단량체의 구체예로서는, 상기 스티렌계 단량체, 비닐 에스테르계 단량체, 무수 말레인산, 말레인산, 푸마르산 등을 예시할 수 있고, 이것들의 단량체는, 단독 또는 2종류 이상을 조합하여 사용할 수 있다.

상기 (메타)아크릴계 수지로서는, 폴리메타크릴산메틸 등의 폴리(메타)아크릴산 에스테르, 메타크릴산 메틸-(메타)아크릴산 공중합체, 메타크릴산메틸-(메타)아크릴산 에스테르 공중합체, 메타크릴산메틸-아크릴산 에스테르-(메타)아크릴산 공중합체, (메타)아크릴산에스테르-스티렌 공중합체(MS 수지 등) 등을 들 수 있다. 바람직한 (메타)아크릴계 수지의 구체예로서는, 폴리(메타)아크릴산 메틸 등의 폴리(메타)아크릴산C_1-6 알킬, 특히 메타크릴산 메틸을 주성분(50 내지 100 질량％, 바람직하게는 70 내지 100 질량％ 정도)으로 하는 메타크릴산 메틸계 수지를 들 수 있다.

상기 유기산 비닐 에스테르계 수지의 구체예로서는, 비닐 에스테르계 단량체의 단독 또는 공중합체(폴리아세트산비닐, 폴리프로피온산비닐 등), 비닐 에스테르계 단량체와 공중합성 단량체와의 공중합체(에틸렌-아세트산비닐 공중합체, 아세트산비닐-염화비닐 공중합체, 아세트산비닐-(메타)아크릴산 에스테르 공중합체 등) 또는 그들의 유도체를 들 수 있다. 비닐 에스테르계 수지의 유도체의 구체예로서는, 폴리비닐 알코올, 에틸렌-비닐 알코올 공중합체, 폴리비닐 아세탈 수지 등이 포함된다.

상기 비닐 에테르계 수지의 구체예로서는, 비닐 메틸에테르, 비닐 에틸에테르, 비닐 프로필에테르, 비닐t-부틸에테르 등의 비닐C_1-10 알킬에테르의 단독 또는 공중합체 ; 비닐C_1-10 알킬에테르와 공중합성 단량체와의 공중합체(비닐알킬에테르-무수 말레인산 공중합체 등) 등을 들 수 있다.

상기 할로겐 함유 수지의 구체예로서는, 폴리염화비닐, 폴리불화 비닐리덴, 염화비닐-아세트산비닐 공중합체, 염화비닐-(메타)아크릴산 에스테르 공중합체, 염화비닐리덴-(메타)아크릴산 에스테르 공중합체 등을 들 수 있다.

상기 올레핀계 수지로서는, 예를 들어 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등의 올레핀의 단독 중합체, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체, 에틸렌-비닐알코올 공중합체, 에틸렌-(메타)아크릴산 공중합체, 에틸렌-(메타)아크릴산 에스테르 공중합체 등의 공중합체를 들 수 있다. 지환식 올레핀계 수지의 구체예로서는, 환상 올레핀(예를 들어, 노르보르넨, 디시클로펜타디엔)의 단독 또는 공중합체(예를 들어, 입체적으로 강직한 트리시클로데칸 등의 지환식 탄화수소기를 갖는 중합체), 상기 환상 올레핀과 공중합성 단량체와의 공중합체(예를 들어, 에틸렌-노르보르넨 공중합체, 프로필렌-노르보르넨 공중합체) 등을 예시할 수 있다. 지환식 올레핀계 수지의 구체예로서는, 상품명「아톤(ARTON)」, 상품명「제오넥스(ZEONEX)」등을 들 수 있다.

상기 폴리에스테르계 수지로서는, 테레프탈산 등의 방향족 디카르복실산을 사용한 방향족 폴리에스테르, 예를 들어 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 등의 폴리 C_2-4 알킬렌테레프탈레이트나 폴리 C_2-4 알킬렌나프탈레이트 등의 호모폴리에스테르, C_2-4 알킬렌아릴레이트 단위(C_2-4 알킬렌테레프탈레이트 및/또는 C_2-4 알킬렌나프탈레이트 단위)를 주성분(예를 들어, 50 질량％ 이상)으로서 포함하는 코폴리에스테르 등을 들 수 있다. 코폴리에스테르의 구체예로서는, 폴리 C_2-4 알킬렌아릴레이트의 구성 단위 중, C_2-4 알킬렌글리콜의 일부를, 폴리옥시 C_2-4 알킬렌글리콜, C_6-10 알킬렌글리콜, 지환식 디올(시클로헥산디메탄올, 수소 첨가 비스페놀 A 등), 방향환을 갖는 디올(플루오레논 측쇄를 갖는 9,9-비스(4-(2-히드록시에톡시)페닐)플루오렌, 비스페놀 A, 비스페놀 A-알킬렌 옥사이드 부가체 등) 등으로 치환한 코폴리에스테르, 방향족 디카르복실산의 일부를, 프탈산, 이소프탈산 등의 비대칭 방향족 디카르복실산, 아디핀산 등의 지방족 C_6-12 디카르복실산 등으로 치환한 코폴리에스테르가 포함된다. 폴리에스테르계 수지의 구체예로서는, 폴리아릴레이트계 수지, 아디핀산 등의 지방족 디카르복실산을 사용한 지방족 폴리에스테르, ε-카프로락톤 등의 락톤의 단독 또는 공중합체도 포함된다. 바람직한 폴리에스테르계 수지는, 통상 비결정성 코폴리에스테르(예를 들어, C_2-4 알킬렌아릴레이트계 코폴리에스테르 등) 등과 같이 비 결정성이다.

상기 폴리아미드계 수지로서는, 나일론 46, 나일론 6, 나일론 66, 나일론 610, 나일론 612, 나일론 11, 나일론 12 등의 지방족 폴리아미드, 디카르복실산(예를 들어, 테레프탈산, 이소프탈산, 아디핀산 등)과 디아민(예를 들어, 헥사메틸렌디아민, 메타크실렌디아민)으로부터 얻을 수 있는 폴리아미드 등을 들 수 있다. 폴리아미드계 수지의 구체예로서는, ε-카프로락탐 등의 락탐의 단독 또는 공중합체라도 좋고, 호모 폴리아미드에 한정되지 않고 코폴리아미드라도 좋다.

상기 폴리카보네이트계 수지로서는, 비스페놀류(비스페놀 A 등)를 베이스로 하는 방향족 폴리카보네이트, 디에틸렌글리콜 비스알릴카보네이트 등의 지방족 폴리카보네이트 등이 포함된다.

상기 폴리머로서는, 경화성 관능기를 갖는 폴리머를 사용할 수도 있다. 상기 경화성 관능기는, 폴리머 주쇄 중에 존재하는 것이라도, 측쇄에 존재하는 것이라도 좋지만, 측쇄에 존재하는 것이 보다 바람직하다. 상기 경화성 관능기로서는, 축합성기나 반응성기(예를 들어, 히드록실기, 산무수물기, 카르복실기, 아미노기 또는 이미노기, 에폭시기, 글리시딜기, 이소시아네이트기), 중합성기(예를 들어, 비닐, 프로페닐, 이소프로페닐기, 부테닐, 알릴 등의 C_2-6 알케닐기, 에티닐, 프로피닐, 부티닐 등의 C_2-6 알키닐기, 비닐리덴 등의 C_2-6 알케닐리덴기, 또는 이들의 중합성기를 갖는 기(예를 들어, (메타)아크릴로일기) 등을 들 수 있다. 이들의 관능기 중, 중합성기가 바람직하다.

상기 경화성 관능기를 측쇄에 도입하는 방법으로서는, 예를 들어 반응성기나 축합성기 등의 관능기를 갖는 열가소성 수지와, 상기 관능기와의 반응성기를 갖는 중합성 화합물을 반응시키는 방법 등을 들 수 있다.

상기 반응성기나 축합성기 등의 관능기를 갖는 열가소성 수지로서는, 카르복실기 또는 그의 산무수물기를 갖는 열가소성 수지(예를 들어, (메타)아크릴계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리아미드계 수지), 히드록실기를 갖는 열가소성 수지(예를 들어, 히드록실기를 갖는 (메타)아크릴계 수지, 폴리우레탄계 수지, 셀룰로오스 유도체, 폴리아미드계 수지), 아미노기를 갖는 열가소성 수지(예를 들어, 폴리아미드계 수지), 에폭시기를 갖는 열가소성 수지(예를 들어, 에폭시기를 갖는 (메타)아크릴계 수지나 폴리에스테르계 수지) 등을 예시할 수 있다. 또한, 스티렌계 수지나 올레핀계 수지, 지환식 올레핀계 수지 등의 열가소성 수지에, 상기 관능기를 공중합이나 그래프트 중합으로 도입한 수지라도 좋다.

상기 중합성 화합물은, 카르복실기 또는 그의 산무수물기를 갖는 열가소성 수지와 반응시키는 경우에는, 에폭시기나 히드록실기, 아미노기, 이소시아네이트기 등을 갖는 중합성 화합물 등을 사용할 수 있다. 히드록실기를 갖는 열가소성 수지와 반응시키는 경우에는, 카르복실기 또는 그의 산무수물기나 이소시아네이트기 등을 갖는 중합성 화합물 등을 들 수 있다. 아미노기를 갖는 열가소성 수지와 반응시키는 경우에는, 카르복실 또는 그의 산무수물기나 에폭시기, 이소시아네이트기 등을 갖는 중합성 화합물 등을 들 수 있다. 에폭시기를 갖는 열가소성 수지와 반응시키는 경우에는, 카르복실기 또는 그의 산무수물기나 아미노기 등을 갖는 중합성 화합물 등을 들 수 있다.

상기 중합성 화합물 중, 에폭시기를 갖는 중합성 화합물로서는, 예를 들어 에폭시시클로헥세닐(메타)아크릴레이트 등의 에폭시시클로 C_5-8 알케닐 (메타)아크릴레이트, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 알릴글리시딜에테르 등을 예시할 수 있다. 히드록실기를 갖는 화합물로서는, 예를 들어 히드록시프로필(메타)아크릴레이트 등의 히드록시 C_1-4 알킬(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜모노(메타)아크릴레이트 등의 C_2-6 알킬렌글리콜(메타)아크릴레이트 등을 예시할 수 있다. 아미노기를 갖는 중합성 화합물로서는, 예를 들어 아미노에틸(메타)아크릴레이트 등의 아미노 C_1-4 알킬(메타)아크릴레이트, 알릴아민 등의 C_3-6 알케닐아민, 4-아미노스티렌, 디아미노스티렌 등의 아미노스티렌류 등을 예시할 수 있다. 이소시아네이트기를 갖는 중합성 화합물로서는, 예를 들어 (폴리)우레탄(메타)아크릴레이트나 비닐 이소시아네이트 등을 예시할 수 있다. 카르복실기 또는 그의 산무수물기를 갖는 중합성 화합물로서는, 예를 들어 (메타)아크릴산이나 무수 말레인산 등의 불포화 카르복실산 또는 그의 무수물 등을 예시할 수 있다.

대표적인 예로서는, 카르복실기 또는 그의 산무수물기를 갖는 열가소성 수지와에폭시기 함유 화합물, 특히 (메타)아크릴계 수지((메타)아크릴산-(메타)아크릴산 에스테르 공중합체 등)와 에폭시기 함유 (메타)아크릴레이트(에폭시시클로알케닐 (메타)아크릴레이트나 글리시딜(메타)아크릴레이트 등)의 조합을 들 수 있다. 구체적으로는, (메타)아크릴계 수지의 카르복실기의 일부에 중합성 불포화기를 도입한 폴리머, 예를 들어 (메타)아크릴산-(메타)아크릴산 에스테르 공중합체의 카르복실기의 일부에, 3,4-에폭시시클로헥세닐메틸아크릴레이트의 에폭시기를 반응시켜서, 측쇄에 광중합성 불포화기를 도입한 (메타)아크릴계 폴리머(사이크로마 P, 다이셀가가꾸고교 가부시끼가이샤 제품) 등을 사용할 수 있다.

열가소성 수지에 대한 경화 반응에 관여하는 관능기(특히 중합성기)의 도입량은, 열가소성 수지 1 ㎏에 대하여, 0.001 내지 10몰인 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 0.01 내지 5몰, 더욱 바람직하게는 0.02 내지 3몰 정도이다.

상기 경화성 수지 전구체는, 열이나 활성 에너지선(자외선이나 전자선 등) 등에 의해 반응하는 관능기를 갖는 화합물이며, 열이나 활성 에너지선 등에 의해 경화 또는 가교하여 수지(특히 경화 또는 가교 수지)를 형성 가능한 화합물이다. 상기 수지 전구체로서는, 예를 들어 열경화성 화합물 또는 수지[에폭시기, 중합성기, 이소시아네이트기, 알콕시실릴기, 실라놀기 등을 갖는 저분자량 화합물(예를 들어, 에폭시계 수지, 불포화 폴리에스테르계 수지, 우레탄계 수지, 실리콘계 수지)], 활성광선(자외선 등)에 의해 경화 가능한 광 경화성 화합물(예를 들어, 광 경화성 모노머, 올리고머의 자외선 경화성 화합물) 등을 예시할 수 있고, 광 경화성 화합물은, EB(전자선) 경화성 화합물 등이라도 좋다. 또한, 광 경화성 모노머, 올리고머나 저분자량이라도 좋은 광 경화성 수지 등의 광 경화성 화합물을, 단순히「광 경화성 수지」라고 하는 경우가 있다.

상기 광 경화성 화합물은, 예를 들어 단량체, 올리고머(또는 수지, 특히 저분자량 수지)라도 좋으며, 단량체로서는, 예를 들어 단관능성 단량체[(메타)아크릴산 에스테르 등의 (메타)아크릴계 단량체, 비닐피롤리돈 등의 비닐계 단량체, 이소보르닐(메타)아크릴레이트, 아다만틸(메타)아크릴레이트 등의 가교환식 탄화수소기를 갖는 (메타)아크릴레이트 등], 적어도 2개의 중합성 불포화 결합을 갖는 다관능성 단량체[에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 부탄디올디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 헥산디올디(메타)아크릴레이트 등의 알킬렌글리콜디(메타)아크릴레이트 ; 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리옥시테트라메틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트 등의 (폴리)옥시알킬렌글리콜디(메타)아크릴레이트 ; 트리시클로데칸디메탄올디(메타)아크릴레이트, 아다만탄디(메타)아크릴레이트 등의 가교환식 탄화수소기를 갖는 디(메타)아크릴레이트 ; 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올에탄트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트 등의 3 내지 6 정도의 중합성 불포화 결합을 갖는 다관능성 단량체]를 예시할 수 있다.

올리고머 또는 수지로서는, 비스페놀 A-알킬렌 옥사이드 부가체의 (메타)아크릴레이트, 에폭시(메타)아크릴레이트(비스페놀 A형 에폭시(메타)아크릴레이트, 노볼락형 에폭시(메타)아크릴레이트 등), 폴리에스테르 (메타)아크릴레이트(예를 들어, 지방족 폴리에스테르형 (메타)아크릴레이트, 방향족 폴리에스테르형 (메타)아크릴레이트 등), (폴리)우레탄 (메타)아크릴레이트(예를 들어, 폴리에스테르형 우레탄(메타)아크릴레이트, 폴리에테르형 우레탄(메타)아크릴레이트), 실리콘 (메타)아크릴레이트 등을 예시할 수 있다. 이들의 광 경화성 화합물은 단독으로 또는 2종류 이상 조합하여 사용할 수 있다.

상기 경화성 수지 전구체는, 단시간에 경화할 수 있는 광 경화성 화합물이 바람직하며, 예를 들어 자외선 경화성 화합물(모노머, 올리고머나 저분자량이라도 좋은 수지 등), EB 경화성 화합물이다. 특히, 실용적으로 유리한 수지 전구체는, 자외선 경화성 수지이다. 또한, 내마손성 등의 내성을 향상시키기 위해서, 광 경화성 수지는 분자 중에 2 이상(바람직하게는 2 내지 6, 더욱 바람직하게는 2 내지 4 정도)의 중합성 불포화 결합을 갖는 화합물인 것이 바람직하다. 경화성 수지 전구체의 분자량으로서는, 폴리머와의 상용성을 고려해서 5000 이하, 바람직하게는 2000 이하, 더욱 바람직하게는 1000 이하 정도이다.

상기 폴리머 및 상기 경화성 수지 전구체는, 유리 전이 온도가, 예를 들어 -100 ℃ 내지 250 ℃, 바람직하게는 -50 ℃ 내지 230 ℃, 더욱 바람직하게는 0 내지 200 ℃ 정도(예를 들어, 50 내지 180 ℃ 정도)인 것이 바람직하다. 또한, 표면 경도의 관점에서, 유리 전이 온도는, 50 ℃ 이상(예를 들어, 70 내지 200 ℃ 정도), 바람직하게는 100 ℃ 이상(예를 들어, 100 내지 170 ℃ 정도)인 것이 유리하다. 폴리머의 중량 평균 분자량은, 예를 들어 1,000,000 이하, 바람직하게는 1,000 내지 500,000 정도의 범위에서 선택할 수 있다.

상기 경화성 수지 전구체는, 필요에 따라서, 경화제와 병용해서 사용해도 좋다. 예를 들어, 열경화성 수지 전구체에서는, 아민류, 다가 카르복실산류 등의 경화제를 병용해도 좋다. 경화제의 함유량은, 경화성 수지 전구체 100 질량부에 대하여 0.1 내지 20 질량부, 바람직하게는 0.5 내지 10 질량부, 더욱 바람직하게는 1 내지 8 질량부(특히 1 내지 5 질량부) 정도이며, 3 내지 8 질량부 정도라도 좋다. 상기 광 경화성 수지 전구체는, 광중합 개시제를 병용해서 사용해도 좋다. 상기 광중합 개시제로서는, 관용의 성분, 예를 들어 아세토페논류 또는 프로피오페논류, 벤질류, 벤조인류, 벤조페논류, 티옥산톤류 등을 들 수 있다.

상기 경화성 수지 전구체는, 경화 촉진제와 병용해서 사용해도 좋다. 예를 들어, 광 경화성 수지는 광경화 촉진제, 예를 들어 제3급 아민류(예를 들어, 디알킬아미노벤조산 에스테르), 포스핀계 광중합 촉진제 등을 함유하고 있어도 된다.

상기 방법 2에 있어서는, 상술한 바와 같은 폴리머 및 경화성 수지 전구체로 이루어지는 군으로부터 적어도 2종류의 성분을 선택해서 사용하는 것이다. 상기 (a) 복수의 폴리머끼리가 서로 비상용으로 상 분리하는 조합의 경우, 상술한 폴리머를 적절하게 조합하여 사용할 수 있다. 예를 들어, 제1 폴리머가 스티렌계 수지(폴리스티렌, 스티렌-아크릴로니트릴 공중합체 등)일 경우, 제2 폴리머는 셀룰로오스 유도체(예를 들어, 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트 등의 셀룰로오스 에스테르류), (메타)아크릴계 수지(폴리메타크릴산메틸 등), 지환식 올레핀계 수지(노르보르넨을 단량체로 하는 중합체 등), 폴리카보네이트계 수지, 폴리에스테르계 수지(상기 폴리 C_2-4 알킬렌아릴레이트계 코폴리에스테르 등) 등을 사용할 수 있다. 또한, 예를 들어 제1 폴리머가 셀룰로오스 유도체(예를 들어, 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트 등의 셀룰로오스 에스테르류)일 경우, 제2 폴리머는 스티렌계 수지(폴리스티렌, 스티렌-아크릴로니트릴 공중합체 등), (메타)아크릴계 수지, 지환식 올레핀계 수지(노르보르넨을 단량체로 하는 중합체 등), 폴리카보네이트계 수지, 폴리에스테르계 수지(상기 폴리 C_2-4 알킬렌아릴레이트계 코폴리에스테르 등) 등을 사용할 수 있다. 복수의 수지 조합에 있어서, 적어도 셀룰로오스 에스테르류(예를 들어, 셀룰로오스 디아세테이트, 셀룰로오스 트리아세테이트, 셀룰로오스 아세테이트프로피오네이트, 셀룰로오스 아세테이트 부틸레이트 등의 셀룰로오스 C_2-4 알킬 카르복실산 에스테르류)를 사용해도 된다.

제1 폴리머와 제2 폴리머와의 비율(질량비)은, 예를 들어 제1 폴리머/제2 폴리머가, 1/99 내지 99/1, 바람직하게는 5/95 내지 95/5, 더욱 바람직하게는 10/90 내지 90/10의 범위로부터 선택할 수 있고, 통상 20/80 내지 80/20, 특히 30/70 내지 70/30이다.

스피노달 분해에 의해 생성된 상 분리 구조는, 활성광선(자외선, 전자선 등)이나 열 등에 의해 최종적으로 경화하고, 경화 수지를 형성한다. 그로 인해, 요철층에 내마손성을 부여할 수 있어, 내구성을 향상시킬 수 있다.

경화 후의 내마손성의 관점에서, 복수의 폴리머 중, 적어도 하나의 폴리머, 예를 들어 서로 비상용인 폴리머 중 한쪽의 폴리머(제1 폴리머와 제2 폴리머를 조합할 경우, 특히 양쪽의 폴리머)가 경화성 수지 전구체와 반응 가능한 관능기를 측쇄에 갖는 폴리머인 것이 바람직하다.

상 분리 구조를 형성하기 위한 폴리머로서는, 상기 비상용인 2개의 폴리머 이외에도, 상기 열가소성 수지나 다른 폴리머가 함유되어 있어도 된다.

상기 복수의 폴리머끼리의 조합에, 다시 상기 경화성 수지 전구체(특히 복수의 경화성 관능기를 갖는 모노머 또는 올리고머)를 병용해서 사용할 수도 있다. 이 경우, 경화 후의 내마손성의 관점에서, 상기 복수의 폴리머 중 한쪽의 폴리머(특히 양쪽의 폴리머)가 경화 반응에 관여하는 관능기(상기 경화성 수지 전구체의 경화에 관여하는 관능기)를 갖는 열가소성 수지라도 좋다. 열가소성 수지와 경화성 수지 전구체는, 서로 비상용인 것이 바람직하다. 이 경우, 적어도 1개의 폴리머가 수지 전구체에 대하여 비상용이면 좋으며, 다른 폴리머는 상기 수지 전구체와 상용해도 좋다.

폴리머와 경화성 수지 전구체와의 비율(질량비)은, 특별히 제한되지 않으며, 예를 들어 폴리머/경화성 수지 전구체가, 5/95 내지 95/5 정도의 범위로부터 선택할 수 있고, 표면 경도의 관점에서, 바람직하게는 5/95 내지 60/40 정도이며, 더욱 바람직하게는 10/90 내지 50/50, 특히 10/90 내지 40/60 정도이다.

폴리머를 서로 비상용인 복수의 폴리머로 구성해서 상 분리할 경우, 경화성 수지 전구체는, 비상용인 복수의 폴리머 중, 적어도 1개의 폴리머와 가공 온도 부근에서 서로 상용하는 조합으로 사용하는 것이 바람직하다. 즉, 서로 비상용인 복수의 폴리머를, 예를 들어 제1 폴리머와 제2 폴리머로 구성할 경우, 경화성 수지 전구체는 적어도 제1 폴리머 또는 제2 폴리머 중 어느 하나와 상용하면 되고, 바람직하게는 양쪽의 폴리머 성분과 상용해도 좋다. 양쪽의 폴리머 성분에 상용할 경우, 제1 폴리머 및 경화성 수지 전구체를 주성분으로 한 혼합물과, 제2 폴리머 및 경화성 수지 전구체를 주성분으로 한 혼합물과의 적어도 2상으로 상 분리한다.

선택한 복수의 폴리머의 상용성이 낮은 경우, 용매를 증발시키기 위한 건조 과정에서 폴리머끼리가 유효하게 상 분리하고, 요철층으로서의 기능이 향상된다. 복수의 폴리머 상 분리성은, 양쪽의 성분에 대한 양(良)용매를 사용해서 균일 용액을 조제하고, 용매를 서서히 증발시키는 과정에서, 잔존 고형분이 백탁하는지 여부를 육안으로 확인함으로써 간편하게 판정할 수 있다.

통상, 상 분리한 2상의 성분은 서로 굴절률이 다르다. 상기 층 분리한 2상의 성분의 굴절률의 차는, 예를 들어 0.001 내지 0.2인 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 0.05 내지 0.15이다.

상기 상 분리형 방현층용 조성물에 있어서, 용매는 상기 폴리머 및 경화성 수지 전구체의 종류 및 용해성에 따라서 선택하여 사용할 수 있고, 적어도 고형분(복수의 폴리머 및 경화성 수지 전구체, 반응 개시제, 기타 첨가제)을 균일하게 용해할 수 있는 용매이면 좋으며, 습식 스피노달 분해에 있어서 사용할 수 있다. 그러한 용매로서는, 예를 들어 케톤류(아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등), 에테르류(디옥산, 테트라히드로푸란 등), 지방족 탄화수소류(헥산 등), 지환식 탄화수소류(시클로헥산 등), 방향족 탄화수소류(톨루엔, 크실렌 등), 할로겐화 탄소류(디클로로메탄, 디클로로에탄 등), 에스테르류(아세트산 메틸, 아세트산 에틸, 아세트산 부틸 등), 물, 알코올류(에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 시클로헥산올 등), 셀로솔브류(메틸 셀로솔브, 에틸셀로솔브 등), 셀로솔브아세테이트류, 술폭시드류(디메틸술폭시드 등), 아미드류(디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드 등) 등을 예시할 수 있고, 이들의 혼합 용매라도 좋다.

상기 상 분리형 방현층용 조성물 중의 용질(폴리머 및 경화성 수지 전구체, 반응 개시제, 기타 첨가제)의 농도는, 상 분리가 발생하는 범위 및 유연성이나 코팅성 등을 손상하지 않는 범위에서 선택할 수 있고, 예를 들어 1 내지 80 질량％, 바람직하게는 5 내지 60 질량％, 더욱 바람직하게는 15 내지 40 질량％(특히 20 내지 40 질량％) 정도이다.

또한, 이러한 방법 2에 의해 요철을 형성하는 경우, Sm, θa 및 Rz는, 요철층의 형성에 사용하는 수지 종류나 조합, 배합량, 배합 비율, 또한 표면 조정층의 조성이나 막 두께 등을 조정함으로써, 적절하게 원하는 범위의 것으로 할 수 있다.

이러한 방법 2에 의한 요철층의 형성은, 상술한 제3 제조 방법에 있어서 특히 적절하게 적용할 수 있는 방법이다. 또한, 상기 방법에 의해 요철 형상을 갖는 방현성 필름을 제조하고, 상술한 제1 제조 방법에 있어서 적용할 수도 있다.

(방법 3) 요철 형상을 부여하는 처리를 이용해서 요철층을 형성하는 방법

방법 3은, 수지로 이루어지는 피막층을 형성하고, 피막층 표면에 대하여, 요철 형상을 부여하는 부형 처리를 가서 요철 형상을 갖는 요철층을 형성하는 방법이다. 이러한 방법은, 요철층이 갖는 요철 형상과 반대의 요철 형상을 갖는 형을 이용한 부형 처리에 의해 적절하게 행할 수 있다. 반대의 요철 형상을 갖는 형은 엠보스 판, 엠보스 롤 등을 들 수 있다.

방법 3에 있어서는, 요철층용 조성물을 부여한 후 요철형으로 부형해도 좋고, 요철층용 조성물을 광 투과성 기재와 요철형의 계면에 공급하고, 요철층용 조성물을 요철형과 광 투과성 기재 사이에 개재시켜서, 요철 형상의 형성과 요철층의 형성을 동시에 행해도 된다. 본 발명에 있어서는, 엠보스 롤러 대신에, 평판 형상의 엠보스 판을 사용할 수도 있다.

엠보스 롤러 또는 평판 형상의 엠보스 판 등에 형성되어 있는 요철형면은, 샌드블라스트법 또는 비즈 숏법 등의 공지의 다양한 방법에 의해, 형성할 수 있다. 샌드블라스트법에 의한 엠보스 판(엠보스 롤러)을 사용해서 형성된 단층 방현층은, 그 요철 형상을 단면에서 본 경우, 오목 형상이 다수 분포한 형상이 된다. 비즈 숏법에 의한 엠보스 판(엠보스 롤러)을 사용해서 형성된 단층 방현층은, 요철 형상을 단면에서 본 경우, 상측에 볼록 형상이 다수 분포한 형상이 된다.

요철층의 표면에 형성된 요철 형상의 평균 거칠기가 동일한 경우에, 상측에 볼록부가 다수 분포한 형상을 갖고 있는 요철층은, 상측에 오목부가 다수 분포한 형상을 갖고 있는 것과 비교하여, 실내의 조명 장치 등의 찍힘이 적다고 되어 있다. 이것으로부터, 본 발명의 바람직한 형태에 따르면, 비즈 숏법에 의해 요철층의 요철 형상과 동일 형상으로 형성된 요철형을 이용해서 요철층의 요철 형상을 형성하는 것이 바람직하다.

요철형면을 형성하기 위한 형재로서는, 플라스틱, 금속, 나무 등을 사용할 수 있고, 이것들의 복합체라도 좋다. 상기 요철형면을 형성하기 위한 형재로서는, 강도, 반복 사용에 의한 내마모성의 관점에서, 금속 크롬이 바람직하며, 경제성 등의 관점에서, 철로 된 엠보스 판(엠보스 롤러)의 표면에 크롬을 도금한 것이 바람직하다.

샌드블라스트법 또는 비즈 숏법에 의해 요철형을 형성할 때에, 불어내는 입자(비즈)의 구체예로서는, 금속 입자, 실리카, 알루미나, 또는 유리 등의 무기질 입자를 들 수 있다. 이들 입자의 입자 직경(직경)으로서는, 30 ㎛ 내지 200 ㎛ 정도인 것이 바람직하다. 이들의 입자를 형재에 불어낼 때에는, 이들 입자를 고속의 기체와 함께 불어내는 방법을 들 수 있다. 이때, 적절한 액체, 예를 들어 물 등을 병용해도 좋다. 또한, 본 발명에 있어서는, 요철 형상을 형성한 요철형에는, 사용 시의 내구성을 향상시킬 목적으로, 크롬 도금 등을 실시한 후 사용하는 것이 바람직하며, 경막화 및 부식 방지의 면에서 바람직하다.

이러한 방법 3에 의한 요철층의 형성은, 상술한 제2 제조 방법에 있어서 특히 적절하게 적용할 수 있는 방법이다. 또한, 상기 방법에 의해 요철 형상을 갖는 방현성 필름을 제조하고, 상술한 제1 제조 방법에 있어서 적용할 수도 있다.

상기 임의의 공정에서 서술한 바와 같이, 본 발명의 제조 방법에 있어서 상기 방현층이 하지 요철층 상에 표면 조정층을 형성하여 이루어지는 것인 경우, 광 투과성 기재의 상면에 하지 요철층을 형성한 후, 표면 조정층을 형성하는 방법이라도 좋다. 이 경우, 표면 조정층은, 하지 요철층과 일체가 되어 방현성 기능을 발휘한다. 즉, 표면 조정층을 상기 하지 요철 위에 형성시킴으로써, 하지 요철층의 요철 형상은 매끄러워지며, 또한 상기 범위의 표면 거칠기 파라미터를 갖게 함으로써, 충분한 방현성을 부여하면서, 매우 염흑감이 높은 방현성 적층체를 제작할 수 있다.

화상 표시 장치의 염흑감은, 명실 환경하에서 화상 표시 장치를 흑색 표시했을 때의 흑색의 재현성이며, 육안 관측에 의해 평가할 수 있다. 외부로부터 광학 적층체에 입사한 빛이 반사할 때의 빛의 반사 각도가 광범위하게 퍼질 경우, 빛이 광학 적층체 표면의 요철 각도에 따라서, 모든 방향으로 반사해(확산 반사해) 관측자의 눈에 미치므로, 본래의 흑색이 재현되지 않는다(즉, 확산된 빛의 일부밖에 관측자의 눈에 미치지 않음). 한편, 입사한 빛이 정반사각 근방에 집중해서 반사될 경우(완만한 요철 형상을 갖는 방현층의 경우)는, 광원으로부터의 광은, 대부분 확산 반사되지 않고, 정반사광이 되고, 이 정반사광 이외는 관측자의 눈에 미치지 않으므로, 본래 젖은 것처럼 흑색이 재현된다. 본 명세서에 있어서는, 이 본래의 흑색을, 염흑감으로 표기하고 있다.

상기 하지 요철층은, 최표면이 요철 형상을 갖는 것이다. 이러한 하지 요철층으로서는, 상기 요철층과 동일한 것을 들 수 있다. 예를 들어, 하지 요철층용 조성물을 사용하여, 상술한 요철층의 형성 방법과 같은 방법에 의해 형성할 수 있다. 상기 하지 요철층용 조성물로서는 특별히 한정되지 않지만, 상기 요철층용 조성물과 동일한 것을 들 수 있다.

본 발명의 제조 방법이 하지 요철층을 형성하고, 상기 하지 요철층의 요철 형상의 표면에 표면 조정층을 형성하는 방법으로 이루어지는 경우, 광학 적층체 표면의 요철 형상의 광학 특성값(Sm, θa, Rz)은, 표면 조정층을 포함하는 광학 적층체의 최표면(표면 조정층의 표면)의 값이다.

상기 표면 조정층은, 하지 요철층의 요철 형상을 형성하고 있는 표면 거칠기에 있어서 요철 스케일(요철의 산 높이와 산 간격)의 1/10 이하의 스케일로 요철 형상을 따라 존재하고 있는 미세한 요철을 메워, 스무징을 가하여 매끈매끈한 요철을 형성시키는 것, 또는 요철의 산 간격이나 산 높이, 산의 빈도(개수)의 조정을 하는 것이 가능해진다. 또한, 표면 조정층은 대전 방지, 굴절률 조정, 고경도화, 오염 방지성 등을 부여하는 것을 목적으로 해서 형성되어도 좋다.

상기 표면 조정층은, 수지 바인더를 함유하는 것이다. 상기 수지 바인더로서는 특별히 한정되지 않지만, 투명성인 것이 바람직하며, 예를 들어 자외선 또는 전자선에 의해 경화하는 수지인 전리 방사선 경화형 수지, 전리 방사선 경화형 수지와 용제 건조형 수지와의 혼합물, 열경화형 수지 등을 경화해서 얻을 수 있는 것 등을 들 수 있다. 더욱 바람직하게는 전리 방사선 경화형 수지다. 전리 방사선 경화형 수지, 전리 방사선 경화형 수지와 용제 건조형 수지와의 혼합물, 열경화형 수지로서는 특별히 한정되지 않으며, 상기 요철층의 형성에 사용할 수 있는 것으로서 예시한 수지를 사용할 수 있다.

상기 표면 조정층은, 유동성을 조정하는 유기 미립자나 무기 미립자를 함유하는 것이라도 좋다. 상기 유동성 조정제로서 사용할 수 있는 유기 미립자 또는 무기 미립자의 형상은 특별히 제한되는 것은 아니며, 예를 들어 구 형상, 판 형상, 섬유 형상, 부정형, 중공 등의 어느 쪽의 것이라도 좋다. 특히, 바람직한 유동성 조정제는, 콜로이드 실리카이다. 종래, 표면 조정층의 형성에 의해 미세한 요철을 메워, 스무징을 가하면, 과잉된 스무징이 가해져 버림으로써, 방현성이 현저하게 저하되어 버렸다. 그러나, 상기 콜로이드 실리카를 함유하는 조성물에 의해 피막의 형성을 행하면, 방현성과 흑색 재현성의 양립을 도모할 수 있다. 이러한 효과를 얻을 수 있는 작용은, 명확하지는 않지만, 콜로이드 실리카를 함유하는 조성물은, 그 유동성이 제어됨으로써 표면의 요철 형상에의 추종성이 양호하므로, 스무징에 있어서, 종래의 표면 조정층에서는 완전히 찌부러져 버리는 하지 요철층에 있는 미세한 요철 형상에, 적당한 매끈매끈함을 부여시키면서 완전히 찌부러 뜨리지 않고 남길 수 있는 것이라 추측된다.

본 발명에 있어서「콜로이드 실리카」란, 콜로이드 상태의 실리카 입자를 물 또는 유기 용매에 분산시킨 콜로이드 용액을 의미한다. 상기 콜로이드 실리카의 입자 직경(직경)은, 1 내지 50 ㎚ 정도의 초미립자인 것이 바람직하다. 또한, 본 발명에 있어서의 콜로이드 실리카의 입자 직경은, BET법에 의한 평균 입자 직경(BET법에 의해 표면적을 측정하고, 입자가 진구인 것으로 환산해서 평균 입자 직경을 산출함)이다.

상기 콜로이드 실리카는, 공지의 것이고, 시판된 것으로서는, 예를 들어「메탄올실리카졸」,「MA-ST-M」,「IPA-ST」,「EG-ST」,「EG-ST-ZL」,「NPC-ST」,「DMAC-ST」,「MEK」,「XBA-ST」,「MIBK-ST」(이상, 닛산가가꾸고교 가부시끼가이샤 제품, 모두 상품명),「OSCAL1132」,「OSCAL1232」,「OSCAL1332」,「OSCAL1432」,「OSCAL1532」,「OSCAL1632」,「OSCAL1132」, (이상, 쇼꾸바이가세이고교 가부시끼가이샤 제품, 모두 상품명)으로 시판되고 있는 것을 들 수 있다.

상기 유기 미립자 또는 무기 미립자는, 표면 조정층의 바인더 수지 질량 100에 대하여, 미립자 질량이 5 내지 300으로 포함되어 있는 것이 바람직하다(미립자 질량/바인더 수지 질량 = P/V비 = 5 내지 300/100). 5 미만이면, 요철 형상에의 추종성이 불충분해지므로, 염흑감 등의 흑색 재현성과 방현성을 양립하는 것이 곤란해지는 경우가 있다. 300을 초과하면, 밀착성이나 내마손성 등 물성면에서 불량이 일어나므로, 이 범위 이내가 좋다. 첨가량은, 첨가하는 미립자에 따라 변화되지만, 콜로이드 실리카의 경우에는, 첨가량은 5 내지 80이 바람직하다. 80을 초과하면, 그 이상 첨가해도 방현성이 변화되지 않는 영역이 되므로, 첨가하는 의미가 없어지는 것과, 이것을 초과하면 하층과의 밀착성 불량이 일어나므로, 이 범위 이하로 하는 것이 좋다.

또한, 표면 조정층은, 상술한 바와 같은 요철층 형상의 조정 외에, 대전 방지, 굴절률 조정, 고경도화, 오염 방지성 등을 부여하는 기능을 갖는 것이라도 좋다. 이 경우, 상기 표면 조정층은, 필요에 따라서 대전 방지제, 굴절률 조정제, 오염 방지제, 발수제, 발유제, 지문 부착 방지제, 고경화제 및 경도 조정제로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종류 또는 2종류 이상의 표면 조정제를 포함하는 표면 조정층용 조성물에 의해 형성되는 것이 바람직하다.

상기 대전 방지제, 오염 방지제, 굴절률 조정제, 레벨링제로서는, 상기 요철층의 형성에서 사용할 수 있는 것과 같은 것을 들 수 있다.

상기 표면 조정층의 형성 방법은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 상기한 콜로이드 실리카, 바인더 수지(모노머, 올리고머 등의 수지 성분을 포함함), 용제 및 필요에 따라서 사용하는 임의 성분을 혼합해서 얻은 표면 조정층용 조성물을 상기 요철층 상에 도포함으로써 형성할 수 있다. 상기 용제로서는, 이소프로필알코올, 메탄올, 에탄올 등의 알코올류 ; 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류 ; 아세트산 메틸, 아세트산 에틸, 아세트산 부틸 등의 에스테르류 ; 할로겐화 탄화수소 ; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소 ; 또는 이들의 혼합물을 들 수 있고, 바람직하게는 케톤류, 에스테르류를 들 수 있다.

상기 도포 방법 및 상기 표면 조정층의 형성 방법은, 상기 요철층의 형성 방법과 같은 도포 방법 및 형성 방법을 사용할 수 있다.

표면 조정층의 층 두께(경화 시)는 0.6 ㎛ 이상 15 ㎛ 이하(12 ㎛ 이하가 바람직함)인 것이 바람직하다. 하한은 1.5 ㎛ 이상인 것이 보다 바람직하며, 3 ㎛ 이상인 것이 더욱 바람직하다. 상한은 8 ㎛ 이하인 것이 보다 바람직하며, 5 ㎛ 이하인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 상기 표면 조정층의 두께는, 상술한 방법에서 하지 요철층의 두께 A를 측정한 뒤, 표면 조정층을 적층한 하지 요철층 ＋ 표면 조정층의 두께 B를 측정하고, 이 B로부터 A의 값을 빼어 산출한 값이다(하지 요철층과, 표면 조정층의 바인더 수지에 굴절률차가 있는 경우에는, 완성된 제품의, 상기 B를 측정한 후에, A를 측정해서 산출도 가능함). 상기 층 두께가 0.6 ㎛ 미만이면, 방현성은 양호하지만, 염흑감이 개선되지 않는 경우가 있다. 층 두께가 15 ㎛를 초과한 경우에는, 염흑감은 매우 우수하지만, 방현성이 개선되지 않는다고 하는 문제를 발생하는 경우가 있다.

본 발명에 있어서, 상기 방현층은 상술한 바와 같이 단층이라도 좋지만, 복층이라도 좋다. 복층인 경우, 하지 요철층 상에 표면 조정층을 형성하여 이루어지는 것이 바람직하다. 상기 광학 적층체의 제조 방법은, 다시 상기 요철층 또는 표면 조정층 위에, 대전 방지층, 저굴절률층, 오염 방지층 등을 형성하는 방법이라도 좋다. 저굴절률층은, 요철층 또는 표면 조정층의 굴절률보다도 낮은 굴절률을 갖는 것이 바람직하다. 대전 방지층, 저굴절률층, 오염 방지층은 표면 조정층에 있어서 설명한 대전 방지제, 저굴절률제, 오염 방지제 등에, 수지 등을 첨가한 조성물을 조정하고, 각각의 층을 형성해도 좋다. 따라서, 대전 방지제, 저굴절률제, 오염 방지제, 수지 등도 마찬가지라도 좋다.

상기 저굴절률층은, 상기 요철층 위 또는 표면 조정층 위에 형성할 수 있다. 요철층 상에 저굴절률층을 갖는 것은, 실질적으로는 상기 요철층 상에, 저굴절률성을 부여한 표면 조정층을 형성한 것이라도 좋다. 또한, 표면 조정층과는 별개로 저굴절률층을 설치하는 것이라도 좋다. 상기 저굴절률층은, 굴절률 조정제로서 저굴절률제 등을 함유하는 것이다.

상기 저굴절률제는, 그 굴절률이 상기 요철층보다 낮은 것이다. 본 발명의 바람직한 형태에 따르면, 상기 요철층의 굴절률이 1.5 이상이며, 저굴절률제의 굴절률이 1.5 미만이며, 바람직하게는 1.45 이하로 구성되어 이루어지는 것이 바람직하다.

저굴절률층은, 외부에서의 빛(예를 들어 형광등, 자연광 등)이 광학 적층체의 표면에서 반사할 때, 그 반사율을 낮게 한다고 하는 역할을 담당하는 층이다. 저굴절률층으로서는, 바람직하게는 1) 실리카 또는 불화마그네슘을 함유하는 수지, 2) 저굴절률 수지인 불소계 수지, 3) 실리카 또는 불화마그네슘을 함유하는 불소계 수지, 4) 실리카 또는 불화 마그네슘의 박막 등 중 어느 하나로 구성된다. 불소 수지 이외의 수지에 대해서는, 요철층 및 표면 조정층을 구성하는 수지와 같은 수지를 사용할 수 있다.

이들의 저굴절률층은, 그 굴절률이 1.45 이하, 특히 1.42 이하인 것이 바람직하다.

또한, 저굴절률층의 두께는 한정되지 않지만, 통상은 30 ㎚ 내지 1 ㎛ 정도의 범위 내로부터 적절하게 설정하면 좋다.

상기 불소계 수지로서는, 적어도 분자 중에 불소 원자를 포함하는 중합성 화합물 또는 그의 중합체를 사용할 수 있다. 중합성 화합물은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 전리 방사선으로 경화하는 관능기, 열경화하는 극성기 등의 경화 반응성의 기를 갖는 것이 바람직하다. 또한, 이들의 반응성의 기를 동시에 둘다 갖춘 화합물이라도 좋다. 이 중합성 화합물에 대하여, 중합체란, 상기와 같은 반응성기 등을 일절 갖지 못하는 것이다.

전리 방사선 경화성기를 갖는 중합성 화합물로서는, 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 불소 함유 모노머를 널리 사용할 수 있다. 더욱 구체적으로는, 플루오로 올레핀류(예를 들어, 플루오로에틸렌, 비닐리덴 플루오라이드, 데트라플루오로 에틸렌, 헥사플루오로 프로필렌, 퍼플루오로 부타디엔, 퍼플루오로-2,2-디메틸-1,3-디옥솔 등)를 예시할 수 있다. (메타)아크릴로일옥시기를 갖는 것으로서, 2,2,2-트리플루오로에틸(메타)아크릴레이트, 2,2,3,3,3-펜타플루오로프로필(메타)아크릴레이트, 2-(퍼플루오로부틸)에틸(메타)아크릴레이트, 2-(퍼플루오로헥실)에틸(메타)아크릴레이트, 2-(퍼플루오로옥틸)에틸(메타)아크릴레이트, 2-(퍼플루오로데실)에틸(메타)아크릴레이트, α-트리플루오로메타크릴산메틸, α-트리플루오로메타크릴산에틸과 같은, 분자 중에 불소 원자를 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물 ; 분자 중에, 불소 원자를 적어도 3개 갖는 탄소수 1 내지 14의 플루오로 알킬기, 플루오로 시클로알킬기 또는 플루오로알킬렌기와, 적어도 2개의 (메타)아크릴로일옥시기를 갖는 불소 함유 다관능 (메타)아크릴산 에스테르 화합물 등도 있다.

열경화성 극성기로서 바람직한 것은, 예를 들어 수산기, 카르복실기, 아미노기, 에폭시기 등의 수소 결합 형성기이다. 이들은, 도막과의 밀착성뿐만 아니라, 실리카 등의 무기 초미립자와의 친화성에도 우수하다. 열경화성 극성기를 갖는 중합성 화합물로서는, 예를 들어 4-플루오로에틸렌-퍼플루오로 알킬비닐 에테르 공중합체 ; 플루오로에틸렌-탄화수소계 비닐에테르 공중합체 ; 에폭시, 폴리우레탄, 셀룰로오스, 페놀, 폴리이미드 등의 각 수지의 불소 변성품 등을 들 수 있다.

전리 방사선 경화성기와 열경화성 극성기를 둘다 갖춘 중합성 화합물로서는, 아크릴 또는 메타크릴산의 부분 및 완전 불소화 알킬, 알케닐, 아릴에스테르류, 완전 또는 부분 불소화 비닐 에테르류, 완전 또는 부분 불소화 비닐 에스테르류, 완전 또는 부분 불소화 비닐 케톤류 등을 예시할 수 있다.

또한, 불소계 수지로서는, 예를 들어 다음과 같은 것을 들 수 있다.

상기 전리 방사선 경화성기를 갖는 중합성 화합물의 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물을 적어도 1종류 포함하는 모노머 또는 모노머 혼합물의 중합체 ; 상기 불소 함유 (메타)아크릴레이트 화합물의 적어도 1종류와, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 프로필(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트와 같이 분자 중에 불소 원자를 포함하지 않는 (메타)아크릴레이트 화합물과의 공중합체 ; 플루오로에틸렌, 불화비닐리덴, 트리플루오로에틸렌, 클로로트리플루오로에틸렌, 3,3,3-트리플루오로프로필렌, 1,1,2-트리클로로-3,3,3-트리플루오로프로필렌, 헥사플루오로 프로필렌과 같은 불소 함유 모노머의 단독 중합체 또는 공중합체 등, 이들의 공중합체에 실리콘 성분을 함유시킨 실리콘 함유 불화 비닐리덴 공중합체도 사용할 수 있다. 이 경우의 실리콘 성분으로서는, (폴리)디메틸실록산, (폴리)디에틸실록산, (폴리)디페닐실록산, (폴리)메틸페닐실록산, 알킬 변성 (폴리)디메틸실록산, 아조기 함유 (폴리)디메틸 실록산, 디메틸 실리콘, 페닐메틸 실리콘, 알킬ㆍ아랄킬 변성 실리콘, 플루오로 실리콘, 폴리에테르 변성 실리콘, 지방산 에스테르 변성 실리콘, 메틸 수소 실리콘, 실라놀기 함유 실리콘, 알콕시기 함유 실리콘, 페놀기 함유 실리콘, 메타크릴 변성 실리콘, 아크릴 변성 실리콘, 아미노 변성 실리콘, 카르복실산 변성 실리콘, 카르비놀 변성 실리콘, 에폭시 변성 실리콘, 메르캅트 변성 실리콘, 불소 변성 실리콘, 폴리에테르 변성 실리콘 등이 예시된다. 그 중에서도 디메틸 실록산 구조를 갖는 것이 바람직하다.

또한, 이하와 같은 화합물로 이루어지는 비중합체 또는 중합체도, 불소계 수지로서 사용할 수 있다. 즉, 분자 중에 적어도 1개의 이소시아네이토기를 갖는 불소 함유 화합물과, 아미노기, 히드록실기, 카르복실기와 같은 이소시아네이토기와 반응하는 관능기를 분자 중에 적어도 1개 갖는 화합물을 반응시켜서 얻을 수 있는 화합물 ; 불소 함유 폴리에테르 폴리올, 불소 함유 알킬 폴리올, 불소 함유 폴리에스테르 폴리올, 불소 함유ε-카프로락톤 변성 폴리올과 같은 불소 함유 폴리올과, 이소시아네이토기를 갖는 화합물을 반응시켜서 얻을 수 있는 화합물 등을 사용할 수 있다.

또한, 상기한 불소 원자를 갖는 중합성 화합물이나 중합체와 함께, 요철층에 기재한 것 같은 각 수지 성분을 혼합해서 사용할 수도 있다. 또한, 반응성기 등을 경화시키기 위한 경화제, 도공성을 향상시키거나, 오염 방지성을 부여시키거나 하기 위해, 각종 첨가제, 용제를 적절하게 사용할 수 있다.

상기 저굴절률층에 있어서는, 저굴절률제로서,「공극을 갖는 미립자」를 이용하는 것이 바람직하다. 「공극을 갖는 미립자」는 저굴절률층의 층 강도를 유지하면서, 그 굴절률을 내릴 수 있다. 본 발명에 있어서,「공극을 갖는 미립자」란, 미립자의 내부에 기체가 충전된 구조 및/또는 기체를 포함하는 다공질 구조체를 형성하고, 미립자 본래의 굴절률에 비해 미립자 중의 기체의 점유율에 반비례해서 굴절률이 저하되는 미립자를 의미한다. 또한, 본 발명에 있어서는, 미립자의 형태, 구조, 응집 상태, 피막 내부에서의 미립자의 분산 상태에 의해, 내부 및/또는 표면의 적어도 일부에 나노포러스 구조의 형성이 가능한 미립자도 포함된다. 이 미립자를 사용한 저굴절률층은, 굴절률을 1.30 내지 1.45로 조절하는 것이 가능하다.

공극을 갖는 무기계의 미립자로서는, 일본 특허 출원 공개 제2001-233611호 공보에서 개시되어 있는 기술을 사용해서 조제한 실리카 미립자를 들 수 있다. 또한, 일본 특허 공개 평7-133105, 일본 특허 출원 공개 제2002-79616호 공보, 일본 특허 출원 공개 제2006-106714호 공보 등에 기재된 제법에 의해 얻을 수 있는 실리카 미립자라도 좋다. 공극을 갖는 실리카 미립자는 제조가 용이하고 그 자체의 경도가 높으므로, 바인더와 혼합해서 표면 조정층을 형성했을 때, 그 층 강도가 향상되고, 또한 굴절률을 1.20 내지 1.45 정도의 범위 내로 조제하는 것을 가능하게 한다. 특히, 공극을 갖는 유기계의 미립자의 구체예로서는, 일본 특허 출원 공개 제2002-80503호 공보에 개시되어 있는 기술을 이용해서 조제한 중공 폴리머 미립자를 바람직하게 들 수 있다.

도막의 내부 및/또는 표면의 적어도 일부에 나노포러스 구조의 형성이 가능한 미립자로서는 앞의 실리카 미립자에다가, 비표면적을 크게 하는 것을 목적으로 해서 제조되는, 충전용의 칼럼 및 표면의 다공질부에 각종 화학 물질을 흡착시키는 제방재, 촉매 고정용으로 사용되는 다공질 미립자, 또는 단열재나 저유전재에 편입하는 것을 목적으로 하는 중공 미립자의 분산체나 응집체를 들 수 있다. 그러한 구체적인 예로서는, 시판되고 있는 제품으로서 니혼 실리카 고교 가부시끼가이샤 제품의 상품명 Nipsil이나 Nipgel 중에서 다공질 실리카 미립자의 집합체, 닛산가가꾸고교 가부시끼가이샤 제품의 실리카 미립자가 쇄 형상으로 연결된 구조를 갖는 콜로이드 실리카 UP 시리즈(상품명)로부터, 본 발명의 바람직한 입자 직경의 범위 내의 것을 이용하는 것이 가능하다.

「공극을 갖는 미립자」의 평균 입자 직경은, 5 ㎚ 이상 300 ㎚ 이하이며, 바람직하게는 하한이 8 ㎚ 이상이며 상한이 100 ㎚ 이하이며, 더욱 바람직하게는 하한이 10 ㎚ 이상이며 상한이 80 ㎚ 이하이다. 미립자의 평균 입자 직경이 이 범위 내에 있는 것에 의해, 저굴절률층에 우수한 투명성을 부여하는 것이 가능해진다. 또한, 상기 평균 입자 직경은, 동적 광산란법 등에 의해 측정한 값이다. 「공극을 갖는 미립자」는, 상기 저굴절률층 중에 매트릭스 수지 100 질량부에 대하여, 보통 0.1 내지 500 질량부 정도, 바람직하게는 10 내지 200 질량부 정도로 하는 것이 바람직하다.

상기 저굴절률층의 형성에 있어서는, 상기 저굴절률층 형성용 조성물의 점도를 바람직한 도포성을 얻을 수 있는 0.5 내지 5 cps(25 ℃), 바람직하게는 0.7 내지 3 cps(25 ℃)의 범위의 것으로 하는 것이 바람직하다. 가시광선의 우수한 반사방지막을 실현할 수 있고, 또한 균일해서 도포 불균일이 없는 박막을 형성할 수 있고, 또한 기재에 대한 밀착성이 특히 우수한 저굴절률층을 형성할 수 있다.

수지의 경화 수단은, 요철층의 항에서 설명한 것과 같아도 된다. 경화 처리를 위해 가열 수단이 이용될 경우에는, 가열에 의해, 예를 들어 래디컬을 발생해서 중합성 화합물의 중합을 개시시키는 열중합 개시제가 불소계 수지 조성물에 첨가되는 것이 바람직하다.

저굴절률층의 층 두께(㎚) d_A는, 하기식(V) :

d_A = mλ/(4n_A) (V)

(상기 식 중, 　

n_A는 저굴절률층의 굴절률을 나타내고,　

m은 양의 홀수를 나타내고, 바람직하게는 1을 나타내고,

λ는 파장이며, 바람직하게는 480 내지 580 ㎚의 범위의 값임)를 만족시키는 것이 바람직하다.

또한, 본 발명에 있어서는, 저굴절률층은 하기 수식(Ⅵ) :

120 < n_Ad_A < 145 (Ⅵ)

를 만족시키는 것이 저 반사율화의 관점에서 바람직하다.

광 투과성 기재는, 평활성, 내열성을 구비하고, 기계적 강도가 우수한 것이 바람직하다. 광 투과성 기재를 형성하는 재료의 구체예로서는, 폴리에스테르(폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트), 셀룰로오스 트리아세테이트, 셀룰로오스 디아세테이트, 셀룰로오스 아세테이트 부틸레이트, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리이미드, 폴리에테르술폰, 폴리술폰, 폴리프로필렌, 폴리메틸펜텐, 폴리염화비닐, 폴리비닐아세탈, 폴리에테르케톤, 폴리메타크릴산메틸, 폴리카보네이트, 또는 폴리우레탄 등의 열가소성 수지를 들 수 있고, 바람직하게는 폴리에스테르(폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트), 셀룰로오스 트리아세테이트를 들 수 있다.

상기 광 투과성 기재로서는, 또한 지환 구조를 가진 비정질 올레핀 폴리머(Cyclo-Olefin-Polymer : COP) 필름도 사용할 수 있다. 이것은, 노르보르넨계 중합체, 단환의 환상 올레핀계 중합체, 환식 공역 디엔계 중합체, 비닐 지환식 탄화수소계 중합체 수지 등이 사용되고 있는 기재이며, 예를 들어 니혼제온 가부시끼가이샤 제품의 제오넥스나 제오노아(노르보르넨계 수지), 쓰미또모 베이크라이트 가부시끼가이샤 제품 스미라이트 FS-1700, JSR 가부시끼가이샤 제품 아톤(변성 노르보르넨계 수지), 미쯔이가가꾸 가부시끼가이샤 제품 아펠(환상 올레핀 공중합체), Ticona사 제품의 Topas(환식 올레핀 공중합체), 히다찌가세이 가부시끼가이샤 제품 옵트렛츠 OZ-1000 시리즈(지환식 아크릴 수지) 등을 들 수 있다. 또한, 트리아세틸 셀룰로오스의 대체 기재로서 아사히카세이 케미컬 가부시끼가이샤 제품의 FV 시리즈(저복굴절률, 저광탄성률 필름)도 바람직하다.

상기 광 투과성 기재는, 상기 열가소성 수지 유연성이 풍부한 필름 형상체로서 사용하는 것이 바람직하지만, 경화성이 요구되는 사용 형태에 따라서, 이들 열가소성 수지의 판을 사용하는 것도 가능하며, 또는 유리판의 판 형상체의 것을 사용해도 좋다.

광 투과성 기재의 두께는, 20 ㎛ 이상 300 ㎛ 이하인 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 상한이 200 ㎛ 이며, 하한이 30 ㎛이다. 광 투과성 기재가 판 형상체인 경우에는 이것들의 두께를 초과하는 두께(300 ㎛ 이상 10 ㎜ 정도)라도 좋다. 기재는, 그 위에 요철층, 대전 방지층 등을 형성할 때에, 접착성 향상을 위해, 코로나 방전 처리, 산화 처리 등의 물리적인 처리 외에, 앵커제 혹은 프라이머라고 불리는 도료의 도포를 미리 행해도 된다.

본 발명의 광학 적층체의 제조 방법에 의해 얻을 수 있는 광학 적층체도 본 발명 중 하나이다. 이와 같이 하여 얻게 된 광학 적층체 표면의 요철 형상은, 요철의 평균 간격을 Sm이라고 하고, 요철부의 평균 경사각을 θa라고 하고, 요철의 평균 거칠기를 Rz라고 한 경우에,　

Sm이 50 ㎛ 이상 100 ㎛ 미만이고,

θa가 0.1도 이상 1.0도 이하이며,　

Rz가 0.2 ㎛ 초과 1.0 ㎛ 이하인 것이다.

이러한 수치를 만족시키는 것으로 함으로써, 특히 적절하게 효과를 얻을 수 있다.

즉, 본 발명의 광학 적층체 표면의 형상을 컨트롤함으로써, 광학 특성을 컨트롤하는 것이다. 여기서, 상기「광학 적층체의 표면」은, 방현층이 단층일 경우, 방현층이 하지 요철층과 표면 조정층으로 이루어지는 경우, 또한 상기 저굴절률층 및/또는 임의의 층을 갖는 경우 중 어떠한 경우에 있어서도, 공기와 접하는 최표면을 의미하는 것이며, 이러한 최표면의 요철 형상의 광학 특성값이, 본 발명에 있어서의 광학 적층체의 표면 요철 형상의 광학 특성값과 일치하는 것이다.

[제조 장치]

본 발명의 제조 장치는, 상술한 바와 같은 광학 적층체의 제조 방법에 사용하는 것이다. 이하, 본 발명의 제조 장치에 대해서 도면을 이용해서 설명하지만, 본 발명의 제조 장치는, 도면에서 나타내는 것에 한정되지 않는다.

제1 제조 장치

본 발명의 제1 제조 장치는, 상술한 제1 제조 방법에 사용하는 것이며, 상기 광 투과성 기재 및 요철 형상을 갖는 상기 방현성 필름을 공급하는 공급부와, 상기 광 투과성 기재 상에 상기 방현층을 형성하는 형성부를 갖는 것을 특징으로 하는, 광학 적층체의 제조 장치이다. 장치의 개략은 구체적으로는 도시하지 않지만, 본 발명의 제2 제조 장치의 개요를 도시하는 도9에 있어서, 요철층에 부여되는 요철 형상과 반대인 요철 형상을 갖는 엠보스 롤러(27)와 롤러(25c)를 갖지 않는 것이라도 좋다. 제1 제조 방법으로서 도9를 생각하면, 부호 23이 광 투과성 기재, 21이 요철 형상을 갖는 방현성 필름이며, 이 사이에 접착층 등을 설치해도 좋다.

제2 제조 장치

본 발명의 제2 제조 장치는, 상술한 제2 제조 방법에 사용하는 것이며, 상기 광 투과성 기재 상에 상기 수지층을 형성하고, 또한 상기 방현층에 요철 형상을 실시하는 형성부를 갖는 것을 특징으로 하는, 광학 적층체의 제조 장치이다.

제2 제조 장치의 개략을 도9를 이용해서 설명한다. 도9는, 본 발명의 제2 제조 장치의 개략도를 도시한다. 광 투과성 기재(21)가 공급부인 롤러(25a)를 통해서 공급되고, 방현층(요철 형상을 갖지 않음)(23)이 공급부인 롤러(25b)를 통해서 공급된다. 공급된 광 투과성 기재(21)와 방현층(23)은, 롤러(25a)와 롤러(25b)에 의해 일체 형성된다. 본 발명의 바람직한 형태에 따르면, 접착제(층)를 공급하는 공급부가 설치되어도 좋고, 이 공급부로부터 공급되는 접착제(층)를 개재시켜서, 광 투과성 기재(21)와 방현층(23)을 일체 형성시키는 것을 들 수 있다. 일체 형성된 광 투과성 기재(21)와 방현층(23)은, 요철층에 부여되는 요철 형상과 반대인 요철 형상(22)을 갖는 롤러 엠보스(27)에 도입된다. 일체 형성된 광 투과성 기재(21)와 방현층(23)은 롤러 엠보스(27)와 롤러(25c)에 협지되고, 방현층(23)에 원하는 요철 형상이 형성되어, 광학 적층체(29)로서 형성된다. 형성된 광학 적층체(29)는 롤러(25d)를 경유해서 제품이 된다.

본 발명의 바람직한 형태에 따르면, 상기 형성부는, 상기 요철층이 갖는 요철 형상과 반대인 요철 형상을 갖는 형태를 구비하는 것이며, 롤러 엠보스(27) 외에, 평판 엠보스 판이 사용된다. 엠보스 처리법, 롤러 엠보스, 평판 엠보스 판 등에 대해서는, 후술하는 본 발명의 제4 제조 장치에서 설명하는 것과 같아도 좋다.

제3 제조 장치

본 발명의 제3 제조 장치는, 상술한 제3 제조 방법에 사용하는 것이며, 상기 광 투과성 기재를 공급하는 공급부와, 상기 광 투과성 기재 상에 방현층용 조성물(요철층용 조성물)을 부여하는 부여부와, 상기 방현층용 조성물을 경화하여, 요철 형상을 갖는 상기 방현층을 형성하는 형성부를 갖는 것을 특징으로 하는, 광학 적층체의 제조 장치이다.

상기 제3 제조 장치를 이용해서 얻을 수 있는 광학 적층체 표면의 요철도, 상기 제1 제조 장치를 이용해서 얻을 수 있는 요철 형상과 같다.

제3 제조 장치의 개략을 도10을 이용해서 설명한다. 도10은, 본 발명의 제3 제조 장치의 개략도를 도시한다. 광 투과성 기재(31)가 공급부인 롤러(35a)(35b)에 협지되어 공급된다. 공급부인 롤러(35a, 35b)의 후방에는, 코팅 헤드(33)가 설치되고, 파이프(36)에 의해, 액체 저장소로부터 방현층용 조성물(34)이 공급된다. 공급된 방현층용 조성물(34)이, 코팅 헤드(33)의 하부를 향해서 개방한 슬릿(39)에 공급된다. 공급된 광 투과성 기재(31) 위에, 슬릿(39)으로부터 방현층용 조성물(34)이 부여되고, 방현층용 조성물(34)의 층이 형성된 후, 코팅 헤드(33)의 후방에 설치된 경화 장치(38)에 의해 경화 처리가 행해진다. 이에 의해, 방현층용 조성물(34)이 경화되어, 방현층(37)에 원하는 요철 형상이 형성되고, 그 후, 광 투과성 기재(41) 위에 경화된 방현층(37)을 구비한 광학 적층체가 이동하여, 롤러(35c)를 경유해서 광학 적층체가 제조된다.

제4 제조 장치

본 발명의 제4 제조 장치는, 상술한 제4 제조 방법에 사용하는 것이며, 상기 광 투과성 기재를 공급하는 공급부와, 상기 광 투과성 기재에, 상기 방현층의 표면에 형성되는 요철 형상과 반대인 요철 형상을 갖는 형태와, 상기 형태에 방현층용 조성물(요철층용 조성물)을 도입하는 도입부와, 상기 방현층용 조성물을 경화하여, 요철 형상을 갖는 상기 방현층을 형성하는 형성부를 갖는 것이다. 상기 제4 제조 장치를 이용해서 얻을 수 있는 광학 적층체 표면의 요철도, 상기 제1 제조 장치를 이용해서 얻을 수 있는 요철 형상과 같다.

제4 제조 장치의 일 형태의 개략을 도11을 이용해서 설명한다. 도11은, 본 발명의 제4 제조 장치[엠보스 장치(40)]의 개략도를 도시한다.

광 투과성 기재(41)가, 공급부인 닙 롤러(45a)를 통해 엠보스 롤러(47)에 공급된다. 이 엠보스 롤러(47)의 표면에는, 원하는 방현층의 요철 형상과 반대 형상의 요철 형상(42)이 형성되어 있다. 엠보스 롤러(47)의 하부에는, 코팅 헤드(43)가 설치되고, 파이프(46)에 의해, 액체 저장소(도시하지 않음)로부터 방현층용 조성물(44)이 공급된다. 공급된 방현층용 조성물(44)이, 코팅 헤드(43)의 상부를 향해서 개방한 슬릿(49)으로부터 공급된다. 엠보스 롤러(47)의 요철 형상(42)을 갖는 형면에 방현층용 조성물(44)이 부여된 후, 엠보스 롤러(47)가 회전(도면의 화살표 방향)하고, 엠보스 롤러(47)의 요철 형상(42)과 공급부인 닙 롤러(45a)와의 사이에 있어서, 광 투과성 기재(41)와 방현층용 조성물(44)이 밀착된다. 본 발명의 바람직한 형태에 따르면, 방현층용 조성물(44)을 요철 형상(42)에 부여시킨 후에, 광 투과성 기재(41)를 형성시키는 것 대신에, 광 투과성 기재(41)를 엠보스 롤러(47)에 권취하면서, 방현층용 조성물(44)을 그들 사이에 공급하고, 광 투과성 기재(41)와 방현층용 조성물(44)의 층을 밀착시켜도 좋다.

광 투과성 기재(41)와 방현층용 조성물(44)의 층이 밀착된 것을, 엠보스 롤러(47)의 상부로 이동시켜, 엠보스 롤러(47)의 상방에 설치된 경화 장치(48)에 의해 경화 처리를 행한다. 이에 의해, 방현층용 조성물(44)의 층이 경화되어, 광 투과성 기재(41) 위에 일체 형성된다. 광 투과성 기재(41) 위에 경화되어 방현층용 조성물(44)의 층의 광학 적층체를, 엠보스 롤러(47)의 회전에 수반하여 이동시켜, 박리 롤러(45b)에 의해, 엠보스 롤러(47)로부터 박리하고, 요철 형상을 갖는 방현층을 수반한 광학 적층체가 제조된다.

본 발명의 제4 제조 장치에 따르면, 미립자를 배합하지 않고, 원하는 요철 형상을 갖는 방현층을 형성한 광학 적층체를 얻을 수 있다라고 하는 이점을 갖는다. 본 발명에 있어서는, 요철 형상의 형성은, 상술한 제조 방법의 방현층의 형성 방법에서 서술한 방법 3과 같은 방법으로 행할 수 있다.

본 발명의 제조 장치에 있어서, 형성되는 방현층은, 요철층 단독이라도, 하지 요철층 및 상기 하지 요철층 상에 설치된 표면 조정층으로 이루어지는 복층이라도 좋다. 상기 방현층이 단층인 경우에는, 상술한 제조 장치에 의해 요철층을 형성할 수 있다. 상기 방현층이 복층일 경우, 상기 제조 장치는, 하지 요철층을 형성하는 형성부와, 상기 하지 요철층의 요철 형상의 표면에 표면 조정층을 형성하는 형성부를 갖는 것이 바람직하다. 상기 하지 요철층은, 상술한 요철층과 마찬가지로 하여 형성할 수 있는 것이며, 상기 하지 요철층을 형성하는 형성부는, 상기 방현층을 형성하는 형성부와 동일하다.

본 발명은, 광 투과성 기재 및 상기 광 투과성 기재 상에 설치된 방현층을 갖는 광학 적층체이며, 상기 방현층은 최표면이 요철 형상을 갖는 것으로, 또한, 수지와 미립자를 포함해서 이루어지는 방현층용 조성물에 의해 형성된 것이며, 상기 수지와 상기 미립자와의 굴절률의 차 n이 0.2 이하이며, 광학 적층체 표면의 요철의 평균 간격을 Sm이라 하고, 요철부의 평균 경사각을 θa라 하고, 요철의 평균 거칠기를 Rz라고 한 경우에,　

Sm이 50 ㎛ 이상 100 ㎛ 미만이고,

θa가 0.1도 이상 1.0도 이하이며,　

Rz가 0.2 ㎛ 초과 1.0 ㎛ 이하인 것을 특징으로 하는, 것이다.

상기 방현층의 형성은, 상술한 방현층의 형성 방법과 같은 방법에 의해 행할 수 있다. 상기 수지와 미립자를 포함해서 이루어지는 방현층용 조성물로서는, 상술한 요철층을 형성하는 방법 1에서 사용하는 요철층용 조성물과 같은 것을 들 수 있다.

상기 Sm, θa, Rz값은, 상술한 방법과 같은 방법에 의해 얻을 수 있다.

본 발명에 있어서는, 수지와 미립자와의 굴절률의 차 n은 0.20 이하이다. 상기 굴절률의 차 n은, 형태에 따라서 원하는 범위로 조정하는 것이 바람직하다. 더욱 구체적으로는, 제1 형태에 있어서는 상기 굴절률의 차 n은, 0.03 이상 0.20 이하이며, 바람직하게는 하한이 0.04 이상이며, 더욱 바람직하게는 0.05 이상이며, 바람직하게는 상한이 0.12 이하이며, 더욱 바람직하게는 0.10 이하인 것이 바람직하다. 이러한 제1 형태에 있어서는, 수지와 미립자와의 굴절률의 차 n이 상기 범위 내에 있는 것에 의해, 광학 적층체의 내부 헤이즈를 부여할 수 있고, LCD 등의 화상 불균일 및 백라이트 등 배면으로부터의 투과광이 광학 적층체를 통과할 때에 발생하는 번쩍임(눈에는, 반짝반짝하는 반짝임으로 보임)을 유효하게 방지할 수 있다. 광학 적층체로서, 이러한 특성을 실현하는 것을 목적으로 하는 경우, 수지와 미립자와의 굴절률의 차 n을 상기 범위 내로 하는 것이 바람직하다.

한편, 제2 형태에 있어서는, 수지와 미립자와의 굴절률의 차 n이 0 이상 0.05 이하이며, 바람직하게는 하한이 0.001 이상이며, 더욱 바람직하게는 0.005 이상이며, 바람직하게는 상한이 0.03 이하이며, 더욱 바람직하게는 0.01 이하인 것이 바람직하다. 수지와 미립자와의 굴절률의 차 n이 상기 범위 내에 있는 것에 의해, 높은 콘트라스트와 낮은 헤이즈 값을 실현할 수 있다. 광학 적층체로서, 이러한 특성을 실현하는 것을 목적으로 하는 경우, 수지와 미립자와의 굴절률의 차 n을 상기 범위 내로 하는 것이 바람직하다. 상기 제2 형태의 광학 적층체는, PDP, CRT, ELD 등에 있어서 특히 적절하게 사용할 수 있다.

본 발명에 있어서, 수지와 미립자와의 굴절률의 차 n은, 상술한 바와 같은 2가지 형태가 존재한다. 광학 적층체로서 각각 원하는 광학 특성, 특히, 본 발명의 광학 적층체가 사용되는 액정, PDP, CRT 등의 각 패널의 모드에 가장 적절한 광학 특성을 발휘하기 위해서 필요해지기 때문이다.

상기 광학 적층체는, 방현층의 층 두께 H ㎛로부터 상기 미립자의 평균 입자 직경 R ㎛를 뺀 값「H-R」은, 0.6 ㎛ 이상 15 ㎛ 이하인 것이 바람직하다. 더욱 바람직하게는 하한이 0.8 ㎛ 이상이며, 더욱 바람직하게는 1.0 ㎛ 이상이다. 더욱 바람직하게는 상한이 18 ㎛ 이하이며, 더욱 바람직하게는 10 ㎛ 이하이다. 미립자를 2종류 이상 사용한 경우에는, 가장 큰 입자 직경을 R로 하여 구한다. 「H-R」을 상술한 범위 내의 것으로 함으로써, 미립자에 의해 형성되는 요철 형상을, 방현성을 유지할 수 있는 레벨로 할 수 있다. 상한값을 초과한 경우, 평활성이 지나치게 높아, 방현성을 유지할 수 없게 되어 버린다.

상기 광학 적층체는, 본 발명의 바람직한 형태에 따르면, 상기 미립자의 단위 면적당의 총 질량 m, 상기 수지의 단위 면적당의 총 질량 M으로 한 경우에, 상기 미립자와 상기 수지와의 단위 면적당의 총 질량비 (m/M)이, 0.01 이상 1.2 이하이며, 바람직하게는 하한이 0.012 이상이며, 더욱 바람직하게는 0.015 이상이며, 바람직하게는 상한이 1.0 이하이며, 더욱 바람직하게는 0.3 이하인 것이 바람직하다.

본 발명에 있어서 필요해지는 각종 파라미터의 정의 및 측정 방법을 이하에 설명한다.

굴절률의 측정

표면 조정층 등, 경화 후의 도막의 굴절률은, 아베식 굴절계에 의해, JIS K7142를 따라서 측정했다.

굴절률ㆍ층 두께의 측정

굴절률 및 층 두께는 상기 기재 방법 이외에도, 이하와 같이 구할 수 있다. 측정하고자 하는 막을 적층한 필름의 분광 반사율을 시마쯔세이사꾸쇼 제품 MPC3100 분광 광도계로, 5°정반사율 스펙트럼을 380 내지 780 ㎚까지의 파장 범위에서 측정하고, [또한, 5°정반사율을 측정할 경우에는, 광학 적층체인 필름의 이면 반사를 방지하기 위해, 측정막면과는 반대측에, 흑 테이프(데라오까 제품)을 붙여서 측정] 상기 스펙트럼의 λ/4값에서 광학층 두께를 산출하고, 그것을 기초로 굴절률을 산출했다. 또한, 반사 스펙트럼의 결과로부터 층 두께를 산출했다. 여기에서는 550 ㎚의 굴절률을 대표값으로서 채용했다.

헤이즈 값

헤이즈 값은, JIS　K-7136을 따라서 측정할 수 있다. 측정에 사용하는 기기로서는, 반사ㆍ투과율계 HR-150(무라까미시끼사이 기쥬쯔 겐뀨쇼)을 들 수 있다. 헤이즈는, 도공면을 광원을 향해서 측정한다.

표면 헤이즈는, 이하와 같이 구할 수 있다. 광학 적층체 최표면의 요철 위에 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트 등의 수지(모노머 또는 올리고머 등의 수지 성분을 포함함)를 톨루엔 등으로 희석하고, 고형분 60 ％로 한 것을 와이어 바로 건조층 두께가 8 ㎛가 되도록 도포한다. 이에 의해, 방현층의 표면 요철이 찌부러져, 평탄한 층이 된다. 단, 광학 적층체를 형성하는 조성물 중에 레벨링제 등이 들어 있는 것으로, 리코트제가 튀기 쉽고 젖기 어려운 것 같은 경우에는, 미리 방현 필름을 비누화 처리[2 mol/l의 NaOH(또는 KOH) 용액을 55도로 3분 침지한 뒤, 물로 세척하고, 김와이프로 물방울을 완전히 제거한 후, 50도의 오븐에서 1분 건조]에 의해, 친수 처리를 실시하면 좋다. 이 표면을 평탄하게 한 필름은, 표면 요철에 의한 헤이즈를 가지지 않는, 내부 헤이즈만을 갖는 상태로 되어 있다. 이 헤이즈를, 내부 헤이즈로서 구할 수 있다. 또한, 내부 헤이즈를, 원래의 필름의 헤이즈(전체 헤이즈)로부터 뺀 값이, 표면 요철에만 기인하는 헤이즈(표면 헤이즈)로서 구할 수 있다. 상기 내부 헤이즈 값은, 60 이하인 것이 바람직하다.

편광 소자를 구비하여 이루어지는 편광판이며, 상기 편광 소자의 표면에, 광 투과성 기재를 접착하는 등 하여 본 발명의 광학 적층체를 구비하는 것을 특징으로 하는, 편광판도 본 발명 중 하나이다.

상기 편광 소자로서는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들어 요오드 등에 의해 염색하고, 연신한 폴리비닐알코올 필름, 폴리비닐포르말 필름, 폴리비닐아세탈 필름, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체계 비누화 필름 등을 사용할 수 있다. 상기 편광 소자와 본 발명의 광학 적층체와의 라미네이트 처리에 있어서는, 광 투과성 기재(바람직하게는, 트리아세틸셀룰로오스 필름)에 비누화 처리를 행하는 것이 바람직하다. 비누화 처리에 의해, 접착성이 양호해져 대전 방지 효과도 얻을 수 있다.

투과성 표시체와, 상기 투과성 표시체를 배면으로부터 조사하는 광원 장치를 구비하여 이루어지는 화상 표시 장치이며, 상기 투과성 표시체의 표면에, 본 발명의 광학 적층체 또는 본 발명의 편광판을 구비하는 것을 특징으로 하는, 화상 표시 장치도 본 발명 중 하나이다.

본 발명에 의한 화상 표시 장치는, 기본적으로는 광원 장치와 표시 소자와 본 발명에 의한 광학 적층체로 구성되어도 좋다. 화상 표시 장치는, 투과형 표시 장치에 이용되고, 특히 텔레비전, 컴퓨터, 워드프로세서 등의 디스플레이 표시에 사용된다. 특히, CRT, PDP, 액정 패널 등의 고선명 화상용 디스플레이의 표면에 사용된다.

본 발명에 의한 화상 표시 장치가 액정 표시 장치인 경우, 광원 장치의 광원은 본 발명에 의한 광학 적층체의 하측으로부터 조사된다. 또한, STN형의 액정 표시 장치에는, 액정 표시 소자와 편광판과의 사이에, 위상차판이 삽입되어도 좋다. 이 액정 표시 장치의 각층 사이에는 필요에 따라서 접착제층이 설치되어도 좋다.

본 발명의 광학 적층체의 제조 방법에 의해, 방현성, 번쩍거림의 방지, 염흑감 등의 흑색 재현성 등의 성질을 동시에 갖는 광학 적층체를 제조할 수 있다.

도1a는 종래의 방현층 표면의 단면의 모식도이다.

도1b는 본 발명의 방현층 표면의 단면의 모식도이다.

도2a는 종래의 방현층 표면의 광학 현미경 사진이다.

도2b는 본 발명의 방현층 표면의 광학 현미경 사진이다.

도3은 Ra의 산정 방법을 나타내기 위한 모식도이다.

도4는 방현층 표면의 요철 형상의 모식도이다.

도5는 본 발명에 의한 광학 적층체의 개략적인 단면도이다.

도6은 본 발명에 의한 광학 적층체의 개략적인 단면도이다.

도7은 본 발명에 의한 광학 적층체의 개략적인 단면도이다.

도8은 본 발명에 의한 광학 적층체의 개략적인 단면도이다.

도9는 본 발명의 광학 적층체의 제조 장치의 일례이다.

도10은 본 발명의 광학 적층체의 제조 장치의 일례이다.

도11은 본 발명의 광학 적층체의 제조 장치의 일례이다.

도12는 방현성 측정 방법을 도시하는 모식도이다.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>

1 : 광 투과성 기재

2 : 요철층

3 : 접착층

4 : 수지층

5 : 하지 요철층

6 : 표면 조정층

7 : 저굴절률층

21 : 광 투과성 기재

22 : 요철 형상

23 : 수지층

25a : 롤러

25b : 롤러

25c : 롤러

25d : 롤러

27 : 롤러 엠보스

29 : 광학 적층체

31 : 광 투과성 기재

33 : 코팅 헤드

34 : 방현층용 조성물

35a : 롤러

35b : 롤러

35c : 롤러

36 : 파이프

37 : 방현층

38 : 경화 장치

39 : 슬릿

40 : 엠보스 장치

41 : 광 투과성 기재

42 : 요철 형상

43 : 코팅 헤드

44 : 방현층용 조성물

45a : 닙 롤러

45b : 박리 롤러

46 : 파이프

47 : 엠보스 롤러

48 : 경화 장치

49 : 슬릿

이하, 본 발명을 실시예를 기초로 하여 더욱 상세하게 설명한다. 본 발명의 내용을 하기의 실시 형태에 의해 설명하지만, 본 발명의 내용은 이들의 실시 형태에 한정해서 해석되는 것이 아니다. 특별히 예고가 없는 한,「부」 및「％」는 질량 기준이다.

단층 방현층용 조성물 1

(자외선 경화형 수지)

펜타에리스리톨 트리아크릴레이트(PETA)(니혼가야꾸제, 굴절률 1.51)

65 질량부

이소시아눌산 변성 디아크릴레이트 M215(도아고세이 가부시끼가이샤 제품) 35 질량부

폴리메틸메타크릴레이트(분자량 75,000) 10 질량부

(광 경화 개시제)

이르가큐어 184(치바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬 가부시끼가이샤 제품) 6 질량부

이르가큐어 907(치바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬 가부시끼가이샤 제품) 1 질량부

(투광성 제1 미립자)

단분산 아크릴 비즈(입경 3.0 ㎛, 굴절률 1.535) 5 질량부

(투광성 제2 미립자)

스티렌 비즈(소켄가가꾸 가부시끼가이샤 제품, 입경 3.5 ㎛, 굴절률 1.60) 7 질량부

(레벨링제)

실리콘계 레벨링제 다이니찌세이까 가부시끼가이샤 제품 0.045 질량부

(용제)

톨루엔 64 질량부

시클로헥사논 16 질량부

상기 재료를 충분히 혼합하여, 조성물로서 조정했다. 이 조성물을 구멍 직경 30 ㎛의 폴리프로필렌제 필터로 여과해서 고형분 60 질량％의 단층 방현층용 조성물 1을 조제했다.

단층 방현층용 조성물 2

(자외선 경화형 수지)

펜타에리스리톨 트리아크릴레이트(PETA)(굴절률 1.51) 20 질량부

셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트(분자량 50,000) 0.4 질량부

(광 경화 개시제)

이르가큐어 184(치바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬 가부시끼가이샤 제품) 1.2 질량부

이르가큐어 907(치바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬 가부시끼가이샤 제품) 0.2 질량부

(미립자)

부정형 실리카(평균 입경 1.5 ㎛, 실란 커플링제에 의한 표면 소수 처리 있음) 0.88 질량부

(레벨링제)

실리콘계 레벨링제 다이니찌세이까 가부시끼가이샤 제품 0.012 질량부

(용제)

톨루엔 35 질량부

메틸이소부틸케톤 6.7 질량부

상기 재료를 충분히 혼합하여, 조성물로서 조정했다. 이 조성물을 구멍 직경 30 ㎛의 폴리프로필렌제 필터로 여과해서 고형분 35 질량％의 단층 방현층용 조성물 2를 조제했다.

단층 방현층용 조성물 3

(자외선 경화형 수지)

펜타에리스리톨 트리아크릴레이트(PETA)(굴절률 1.51) 20 질량부

폴리메틸메타크릴레이트(분자량 75,000) 1 질량부

(광 경화 개시제)

이르가큐어 184(치바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬 가부시끼가이샤 제품) 1.2 질량부

이르가큐어 907(치바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬 가부시끼가이샤 제품) 0.2 질량부

(미립자)

단분산 스티렌 비즈(입경 3.5 ㎛, 굴절률 1.60) 1.2 질량부

(레벨링제)

실리콘계 레벨링제 다이니찌세이까 가부시끼가이샤 제품 0.012 질량부

(용제)

톨루엔 37.2 질량부

메틸이소부틸케톤 6.6 질량부

상기 재료를 충분히 혼합하여, 조성물로서 조정했다. 이 조성물을 구멍 직경 30 ㎛의 폴리프로필렌제 필터로 여과해서 고형분 35 질량％의 단층 방현층용 조성물 3을 조제했다.

단층 방현층용 조성물 4

(자외선 경화형 수지)

펜타에리스리톨 트리아크릴레이트(PETA)(굴절률 1.51) 12.0 질량부

이소시아눌산 변성 디아크릴레이트 M215(도아고세이 가부시끼가이샤 제품) 8.0 질량부

폴리메틸메타크릴레이트(분자량 75,000) 2 질량부

(광 경화 개시제)

이르가큐어 184(치바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬 가부시끼가이샤 제품) 1.32 질량부

이르가큐어 907(치바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬 가부시끼가이샤 제품) 0.22 질량부

(투광성 제1 미립자)

단분산 스티렌-아크릴 공중합 비즈(입경 3.5 ㎛, 굴절률 1.555) 4.84 질량부

(투광성 제2 미립자)

단분산 스티렌 비즈(입경 3.5 ㎛, 굴절률 1.60) 0.55 질량부

(레벨링제)

실리콘계 레벨링제 다이니찌세이까 가부시끼가이샤 제품 0.0077 질량부

상기 재료와, 톨루엔 : 시클로헥사논이 6 : 4인 용제를, 전 고형분이 38 질량％가 되도록 첨가해서 충분히 혼합하여, 조성물로서 조정했다. 이 조성물을 구멍 직경 30 ㎛의 폴리프로필렌제 필터로 여과해서 단층 방현층용 조성물 4를 조제했다.

단층 방현층용 조성물 5

(수지)

아세트산 프로피온산 셀룰로오스 에스테르(이스트만 케미컬사 제품, CAP482-20) 0.95 질량부

반응성 올리고머[(메타)아크릴산-(메타)아크릴산 에스테르 공중합체의 카르복실기의 일부에, 3,4-에폭시시클로헥세닐메틸아크릴레이트를 부가시킨 화합물 ; 다이셀ㆍ유시비(UCB) 가부시끼가이샤 제품, 사이크로마 P] 16.25 질량부

디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트(DPHA) 15.8 질량부

(광중합 개시제)

이르가큐어 184(치바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬사 제품) 25 질량부

(용제)

메틸에틸케톤 51 질량부

부탄올 17 질량부

상기 재료를 적절하게 첨가해서 충분히 혼합했다. 이 조성물을 구멍 직경 30 ㎛의 폴리프로필렌제 필터로 여과해서 고형분 33.5 질량％의 단층 방현층용 조성물 5로 했다.

단층 방현층용 조성물 6

(자외선 경화형 수지)

펜타에리스리톨 트리아크릴레이트(PETA)(굴절률 1.51) 50 질량부

(광 경화 개시제)

이르가큐어 184(치바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬 가부시끼가이샤 제품) 1.50 질량부

이르가큐어 907(치바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬 가부시끼가이샤 제품) 1.50 질량부

PETA를 40도의 오븐 안에서 1 시간 따뜻하게 한 후, 2종류의 광 경화 개시제를 천천히 첨가하면서 교반하고, 40도의 오븐에서 다시 1시간 따뜻하게 하고, 그 후, 다시 교반하여 광 경화 개시제를 완전히 용해시켜, 고형분 100 질량％의 단층 방현층용 조성물 6으로서 조정했다.

단층 방현층용 조성물 7

(자외선 경화형 수지)

다관능 우레탄 아크릴레이트 UV1700B(니혼고세이가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제품 굴절률 1.51) 16 질량부

이소시아눌산 변성 디아크릴레이트 M215(도아고세이 가부시끼가이샤 제품) 2 질량부

폴리메틸메타크릴레이트(분자량 75,000) 2 질량부

(광 경화 개시제)

이르가큐어 184(치바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬 가부시끼가이샤 제품) 1.2 질량부

이르가큐어 907(치바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬 가부시끼가이샤 제품) 0.2 질량부

(미립자)

단분산 스티렌 비즈(입경 3.5 ㎛, 굴절률 1.60) 0.6 질량부

(레벨링제)

실리콘계 레벨링제 다이니찌세이까 가부시끼가이샤 제품 0.0132 질량부

상기 재료와, 톨루엔 : 시클로헥사논이 6 : 4인 용제를, 전 고형분이 40 질량％가 되도록 첨가해서 충분히 혼합하여, 조성물로서 조정했다. 이 조성물을 구멍 직경 30 ㎛의 폴리프로필렌제 필터로 여과해서 단층 방현층용 조성물 7을 조제했다.

단층 방현층용 조성물 8

(자외선 경화형 수지)

펜타에리스리톨 트리아크릴레이트(PETA)(굴절률 1.51) 12.0 질량부

이소시아눌산 변성 디아크릴레이트 M215(도아고세이 가부시끼가이샤 제품) 8.0 질량부

폴리메틸메타크릴레이트(분자량 75,000) 2 질량부

(광 경화 개시제)

이르가큐어 184(치바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬 가부시끼가이샤 제품) 1.32 질량부

이르가큐어 907(치바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬 가부시끼가이샤 제품) 0.22 질량부

(투광성 제1 미립자)

단분산 아크릴 비즈(입경 2.0 ㎛, 굴절률 1.53) 4 질량부

(투광성 제2 미립자)

단분산 스티렌 비즈(입경 1.3 ㎛, 굴절률 1.60) 6 질량부

(레벨링제)

실리콘계 레벨링제 다이니찌세이까 가부시끼가이샤 제품 0.0077 질량부

상기 재료와, 톨루엔 : 시클로헥사논이 6 : 4인 용제를, 전 고형분이 38 질량％가 되도록 첨가해서 충분히 혼합하여, 조성물로서 조정했다. 이 조성물을 구멍 직경 30 ㎛의 폴리프로필렌제 필터로 여과해서 단층 방현층용 조성물 8을 조제했다.

하지 요철층용 조성물

하지 요철층용 조성물 1

(자외선 경화형 수지)

펜타에리스리톨 트리아크릴레이트(PETA)(굴절률 1.51) 2.18 질량부

디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트(DPHA)(굴절률 1.51) 0.98 질량부

폴리메틸메타크릴레이트(분자량 75,000) 0.31 질량부

(광 경화 개시제)

이르가큐어 184(치바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬 가부시끼가이샤 제품) 0.20 질량 부

이르가큐어 907(치바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬 가부시끼가이샤 제품) 0.03 질량부

(투광성 제1 미립자)

단분산 아크릴 비즈(입자 직경 9.5 ㎛, 굴절률 1.535) 0.74 질량부

(투광성 제2 미립자)

부정형 실리카 잉크(평균 입자 직경 1.5 ㎛, 고형분 60 ％, 실리카 성분은 전 고형분의 15 ％) 1.46 질량부

(레벨링제)

실리콘계 레벨링제 다이니찌세이까 가부시끼가이샤 제품 0.02 질량부

(용제)

톨루엔 5.53 질량부

아논 1.55 질량부

상기 재료를 충분히 혼합하여, 고형분 40.5 질량％의 조성물로서 조제했다. 이 조성물을 구멍 직경 30 ㎛의 폴리프로필렌제 필터로 여과해서 하지 요철층용 조성물 1을 조제했다.

하지 요철층용 조성물 2

(자외선 경화형 수지)

펜타에리스리톨 트리아크릴레이트(PETA)(굴절률 1.51) 2.20 질량부

이소시아눌산 변성 디아크릴레이트　M215(니혼가야꾸 가부시끼가이샤 제품, 굴절률 1.51) 1.21 질량부

폴리메틸메타크릴레이트(분자량 75,000) 0.34 질량부

(광 경화 개시제)

이르가큐어 184(치바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬 가부시끼가이샤 제품) 0.22 질량부

이르가큐어 907(치바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬 가부시끼가이샤 제품) 0.04 질량부

(투광성 제1 미립자)

단분산 아크릴 비즈(입자 직경 9.5 ㎛, 굴절률 1.535) 0.82 질량부

(투광성 제2 미립자)

부정형 실리카 잉크(평균 입자 직경 1.5 ㎛, 고형분 60 ％, 실리카 성분은 전고형분의 15 ％) 1.73 질량부

(레벨링제)

실리콘계 레벨링제 다이니찌세이까 가부시끼가이샤 제품 0.02 질량부

(용제)

톨루엔 5.88 질량부

아논 1.55 질량부

상기 재료를 충분히 혼합하여, 고형분 40.5 질량％의 조성물로서 조제했다. 이 조성물을 구멍 직경 30 ㎛의 폴리프로필렌제 필터로 여과해서 하지 요철층용 조성물 2를 조제했다.

하지 요철층용 조성물 3

(투광성 제1 미립자)

단분산 아크릴 비즈(입경 7.0 ㎛, 굴절률 1.535) 20 질량부

(투광성 제2 미립자)

단분산 스티렌 비즈(입경 3.5 ㎛, 굴절률 1.60) 16.5 질량부

(투광성 제3 미립자)

부정형 실리카 : 평균 입자 직경 2.5 ㎛ 2 질량부

(자외선 경화형 수지)

펜타에리스리톨 트리아크릴레이트(PETA)(굴절률 1.51) 100 질량부

(광 경화 개시제)

이르가큐어 184(치바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬 가부시끼가이샤 제품) 6 질량부

이르가큐어 907(치바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬 가부시끼가이샤 제품) 1 질량부

(폴리머)

폴리메틸메타크릴레이트(분자량 75000) 10 질량부

(레벨링제)

실리콘계 레벨링제 다이니찌세이까 가부시끼가이샤 제품 0.045 질량부

(용제)

톨루엔 174.4 질량부

시클로헥사논 43.6 질량부

상기 재료를 적절하게 첨가해서 충분히 혼합했다. 이 조성물을 구멍 직경 30 ㎛의 폴리프로필렌제 필터로 여과해서 고형분 40.5 질량％의 하지 요철층용 조 성물 3으로 했다.

하지 요철층용 조성물 4

(투광성 제1 미립자)

단분산 아크릴 비즈(입경 7.0 ㎛, 굴절률 1.535) 20 질량부

(투광성 제2 미립자)

단분산 스티렌 비즈(입경 3.5 ㎛, 굴절률 1.60) 2.5 질량부

(투광성 제3 미립자)

부정형 실리카 : 평균 입자 직경 2.5 ㎛ 2 질량부

(자외선 경화형 수지)

펜타에리스리톨 트리아크릴레이트(PETA)(니혼가야꾸 가부시끼가이샤 제품, 굴절률 1.51) 100 질량부

(광 경화 개시제)

이르가큐어 184(치바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬 가부시끼가이샤 제품) 6 질량부

이르가큐어 907(치바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬 가부시끼가이샤 제품) 1 질량부

(폴리머)

폴리메틸메타크릴레이트(분자량 75000) 10 질량부

(레벨링제)

실리콘계 레벨링제 다이니찌세이까 가부시끼가이샤 제품 0.045 질량부

(용제)

톨루엔 158 질량부

시클로헥사논 39.5 질량부

상기 재료를 적절하게 첨가해서 충분히 혼합했다. 이 조성물을 구멍 직경 30 ㎛의 폴리프로필렌제 필터로 여과해서 고형분 40.5 질량％의 하지 요철층용 조성물 4로 했다.

하지 요철층용 조성물 5

(자외선 경화형 수지)

다관능 우레탄 아크릴레이트 UV1700B(니혼고세이가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제품 굴절률 1.51) 16 질량부

이소시아눌산 변성 디아크릴레이트 M215(도아고세이 가부시끼가이샤 제품) 4 질량부

폴리메틸메타크릴레이트(분자량 75,000) 2 질량부

(광 경화 개시제)

이르가큐어 184(치바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬 가부시끼가이샤 제품) 1.2 질량부

이르가큐어 907(치바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬 가부시끼가이샤 제품) 0.2 질량부

(미립자)

단분산 스티렌 비즈(입경 3.5 ㎛, 굴절률 1.60) 1.78 질량부

(레벨링제)

실리콘계 레벨링제 다이니찌세이까 가부시끼가이샤 제품 0.0132 질량부

상기 재료와, 톨루엔 : 시클로헥사논이 6 : 4인 용제를, 전 고형분이 20 질 량％가 되도록 첨가해서 충분히 혼합하여, 조성물로서 조정했다. 이 조성물을 구멍 직경 30 ㎛의 폴리프로필렌제 필터로 여과해서 하지 요철층용 조성물 6을 조제했다.

하지 요철층용 조성물 6

(투광성 제1 미립자)

단분산 아크릴 비즈(입경 7.0 ㎛, 굴절률 1.535) 20 질량부

(투광성 제2 미립자)

단분산 스티렌 비즈(입경 3.5 ㎛, 굴절률 1.60) 33 질량부

(투광성 제3 미립자)

부정형 실리카 : 평균 입자 직경 2.5 ㎛　 1 질량부

(자외선 경화형 수지)

펜타에리스리톨 트리아크릴레이트(PETA)(굴절률 1.51) 100 질량부

(광 경화 개시제)

이르가큐어 184(치바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬 가부시끼가이샤 제품) 6 질량부

이르가큐어 907(치바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬 가부시끼가이샤 제품) 1 질량부

(폴리머)

폴리메틸메타크릴레이트(분자량 75000) 10 질량부

(레벨링제)

실리콘계 레벨링제 다이니찌세이까 가부시끼가이샤 제품 0.045 질량부

(용제)

톨루엔 205.3 질량부

시클로헥사논 51.3 질량부

상기 재료를 적절하게 첨가해서 충분히 혼합했다. 이 조성물을 구멍 직경 30 ㎛의 폴리프로필렌제 필터로 여과해서 고형분 40 질량％의 하지 요철층용 조성물 7로 했다.

표면 조정층용 조성물 1

(자외선 경화형 수지)

UV1700B(니혼고세이가가꾸 고교 가부시끼가이샤 굴절률 1.51) 31.1 질량부

아로닉스 M315(상품명, 도아고세이 가부시끼가이샤 제품 이소시아눌산의 에틸렌옥사이드 3몰 부가물의 트리아크릴레이트) 10.4 질량부

(광 경화 개시제)

이르가큐어 184(치바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬 가부시끼가이샤 제품) 1.49 질량부

이르가큐어 907(치바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬 가부시끼가이샤 제품) 0.41 질량부

(방오제)　

UT-3971(니혼고세이가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제품) 2.07 질량부

(용제)

톨루엔 48.76 질량부

시클로헥사논 5.59 질량부

상기 성분을 충분히 혼합해서 조성물로서 조정했다.

이 조성물을 구멍 직경 10 ㎛의 폴리프로필렌제 필터로 여과해서 고형분 45 질량％의 표면 조정층용 조성물 1을 조제했다.

표면 조정층용 조성물 2

(자외선 경화형 수지)

UV1700B(니혼고세이가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제품 굴절률 1.51)

31.1 질량부

아로닉스 M315(상품명, 도아고세이 가부시끼가이샤 제품 이소시아눌산의 에틸렌옥사이드 3몰 부가물의 트리아크릴레이트) 10.4 질량부

(광 경화 개시제)

이르가큐어 184(치바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬 가부시끼가이샤 제품) 1.49 질량부

이르가큐어 907(치바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬 가부시끼가이샤 제품) 0.41 질량부

(오염 방지제)　

UT-3971(니혼고세이가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제품) 2.07 질량부

(용제)

톨루엔 525.18 질량부

시클로헥사논 60.28 질량부

상기 성분을 충분히 혼합해서 조성물로서 조정했다.

이 조성물을 구멍 직경 10 ㎛의 폴리프로필렌제 필터로 여과해서 고형분 40.5 질량％의 표면 조정층용 조성물 2를 조제했다.

표면 조정층용 조성물 3(P/V = 30/100)

콜로이드 실리카 슬러리(MIBK 분산) ; 고형분 40 ％, 평균 입경 20 ㎚　

2.91 질량부

(자외선 경화형 수지)

UV-1700B(자외선 경화형 수지 ; 니혼고세이가가꾸 고교제 고형분 60 ％ MIBK) 6.10 질량부

아로닉스 M215(자외선 경화형 수지 ; 도아고세이 가부시끼가이샤 제품 이소시아눌산의 에틸렌옥사이드 2몰 부가물의 디아크릴레이트 고형분 60 ％ MIBK)

1.52 질량부

(광 경화 개시제)

이르가큐어 184(광 경화 개시제 ; 치바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬사 제품)

0.018 질량부

이르가큐어 907(광 경화 개시제 ; 치바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬사 제품)

0.003 질량부

(레벨링제)

실리콘계 레벨링제 다이니찌세이까 가부시끼가이샤 제품 0.0085 질량부

(용제)

MIBK : 메틸이소부틸케톤 2.06 질량부

시클로헥사논 0.41 질량부

상기 성분을 충분히 혼합해서 조성물로서 조정했다. 이 조성물을 구멍 직경 30 ㎛의 폴리프로필렌제 필터로 여과하여, 고형분 약 45 질량％의 표면 조정층용 조성물 3을 조제했다.

제1 실시예

하지 요철층의 형성

두께 80 ㎛의 트리아세테이트 셀룰로오스 필름(TD80U　후지사진 필름 가부시끼가이샤 제품)을 투명 기재로서 사용하고, 하지 요철층용 조성물 1을, 필름 위에 코팅용 권선 로드(메이야즈바) #14를 사용해서 도포하고, 70 ℃의 오븐 안에서 1분간 가열 건조하여, 용제분을 증발시킨 후, 자외선을 조사선량이 30 mJ가 되도록 조사해서 도막을 경화시켜 하지 요철층을 형성했다.

표면 조정층의 형성

또한 하지 요철층 상에, 표면 조정층용 조성물 1을, 코팅용 권선 로드(메이야즈바) #12를 사용해서 도포하고, 70 ℃의 오븐 안에서 1분간 가열 건조하여, 용제분을 증발시킨 후, 질소 퍼지하(산소 농도 200 ppm 이하)에서, 자외선을 조사선량이 100 mJ가 되도록 조사해서 도막을 경화시켜, 표면 조정층을 적층하고, 방현성 광학 적층체를 얻었다. (기재 상의 방현층의 총 두께 : 약 16.5 ㎛)

제2 실시예

하지 요철층의 형성

두께 80 ㎛의 트리아세테이트 셀룰로오스 필름(TD80U　후지사진 필름 가부시끼가이샤 제품)을 투명 기재로서 사용하고, 하지 요철층용 조성물 4를, 필름 위에 코팅용 권선 로드(메이야즈바) #14를 사용해서 도포하고, 70 ℃의 오븐 안에서 1분간 가열 건조하여, 용제분을 증발시킨 후, 자외선을 조사선량이 30 mJ가 되도록 조사해서 도막을 경화시켜 하지 요철층을 형성했다. 하지 요철층에서, 바인더 수지 와의 굴절률차가 최대 0.09인 미립자를 사용함으로써, 내부 확산 효과를 내어, 번쩍거림을 더욱 효과적으로 방지할 수 있게 했다.

표면 조정층의 형성

또한 하지 요철층 상에, 표면 조정층용 조성물 3을, 코팅용 권선 로드(메이야즈바) #10을 사용해서 도포하고, 70 ℃의 오븐 안에서 1분간 가열 건조하여, 용제분을 증발시킨 후, 질소 퍼지하(산소 농도 200 ppm 이하)에서, 자외선을 조사선량이 100 mJ가 되도록 조사해서 도막을 경화시켜, 표면 조정층을 적층하고, 방현성 광학 적층체를 얻었다. (기재 위의 방현층의 총 두께 : 약 12.5 ㎛)

제3 실시예

하지 요철층의 형성

두께 80 ㎛의 트리아세테이트 셀룰로오스 필름(TD80U　후지사진 필름 가부시끼가이샤 제품)을 투명 기재로서 사용하고, 하지 요철층용 조성물 3을, 필름 위에 코팅용 권선 로드(메이야즈바) #14를 사용해서 도포하고, 70 ℃의 오븐 안에서 1분간 가열 건조하여, 용제분을 증발시킨 후, 자외선을 조사선량이 30 mJ가 되도록 조사해서 도막을 경화시켜 하지 요철층을 형성했다. 하지 요철층에서, 바인더 수지와의 굴절률차가 최대 0.09인 미립자를 사용함으로써, 내부 확산 효과를 내어, 번쩍거림을 더욱 효과적으로 방지할 수 있게 했다.

표면 조정층의 형성

또한 하지 요철층 상에, 표면 조정층용 조성물 3을, 코팅용 권선 로드(메이야즈바) #8을 사용해서 도포하고, 70 ℃의 오븐 안에서 1분간 가열 건조하여, 용제 분을 증발시킨 후, 질소 퍼지하(산소 농도 200 ppm 이하)에서, 자외선을 조사선량이 100 mJ가 되도록 조사해서 도막을 경화시켜, 표면 조정층을 적층하고, 방현성 광학 적층체를 얻었다. (기재 상의 방현층의 총 두께 : 약 10.5 ㎛)

제4 실시예

하지 요철층의 형성

두께 100 ㎛의 2축 연신 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름(도요보세끼샤 제품, 상품명「A4300」)을 투명 기재로서 사용하고, 하지 요철층용 조성물 2를, 필름 위에 코팅용 권선 로드(메이야즈바) #14를 사용해서 도포하고, 70 ℃의 오븐 안에서 1분간 가열 건조하여, 용제분을 증발시킨 후, 자외선을 조사선량이 30 mJ가 되도록 조사해서 도막을 경화시켜 하지 요철층을 형성했다.

표면 조정층의 형성

또한 하지 요철층 상에, 표면 조정층용 조성물 2를, 코팅용 권선 로드(메이야즈바) #10을 사용해서 도포하고, 70 ℃의 오븐 안에서 1분간 가열 건조하여, 용제분을 증발시킨 후, 질소 퍼지하(산소 농도 200 ppm 이하)에서, 자외선을 조사선량이 100 mJ가 되도록 조사해서 도막을 경화시켜, 표면 조정층을 적층하고, 방현성 광학 적층체를 얻었다. (기재 상의 방현층의 총 두께 : 약 15.0 ㎛)

제5 실시예

방현층의 형성

80 ㎛의 두께의 트리아세틸 셀룰로오스 필름(TD80U, 후지사진 필름 가부시끼가이샤 제품)을 투명 기재로서 사용하고, 단층 방현층용 조성물 8을, 필름 위에 코 팅용 권선 로드(메이야즈바) #6을 사용해서 도포하고, 70 ℃의 오븐 안에서 1분간 가열 건조하여, 용제분을 증발시킨 후, 질소 퍼지하(산소 농도 200 ppm 이하)에서, 자외선을 조사선량이 100 mJ가 되도록 조사해서 도막을 경화시켜 방현성 광학 적층체를 형성했다. 기초 방현층에서, 바인더 수지와의 굴절률차가 최대 0.09인 미립자를 사용함으로써, 내부 확산 효과를 내어, 번쩍임을 더욱 효과적으로 방지할 수 있게 했다.

(기재 상의 방현층의 총 두께 : 2.6 ㎛)

제6 실시예

방현층의 형성

80 ㎛ 두께의 트리아세틸 셀룰로오스 필름(TD80U, 후지사진 필름 가부시끼가이샤 제품)을 투명 기재로서 사용하고, 단층 방현층용 조성물 1을, 필름 위에 코팅용 권선 로드(메이야즈바) #6을 사용해서 도포하고, 70 ℃의 오븐 안에서 1분간 가열 건조하여, 용제분을 증발시킨 후, 질소 퍼지하(산소 농도 200 ppm 이하)에서, 자외선을 조사선량이 100 mJ가 되도록 조사해서 도막을 경화시켜 방현성 광학 적층체를 형성했다. 기초 방현층에서, 바인더 수지와의 굴절률차가 최대 0.09인 미립자를 사용함으로써, 내부 확산 효과를 내어, 번쩍임을 더욱 효과적으로 방지할 수 있게 했다. (기재 상의 방현층의 총 두께 : 약 5 ㎛)

제7 실시예

엠보스 롤러의 조제

철로 만든 롤러를 준비하고, 롤러의 표면에, 100 메쉬(입경 분포 ; 106 ㎛ 내지 150 ㎛)의 유리 비즈를 사용하여, 비즈 숏을 행함으로써, 요철을 형성하고, 이렇게 하여 얻게 된 요철면에 크롬을 두께가 5 ㎛가 되도록 도금하여, 엠보스 롤러로 했다. 비즈 숏 시의 내뿜기 압력, 내뿜기 노즐과 롤러와의 간격 등을 조정함으로써, 본 발명의 광학 적층체가 갖는 방현층의 요철 형상의 광학 특성에 합치한 엠보스 롤러를 작성했다.

프라이머층의 형성

폴리우레탄 수지계의 프라이머 도료[더ㆍ잉크테크 가부시끼가이샤 제품, 케미컬매트니스용 메듐 주성분제, 경화제(XEL 경화제(D))를, 주성분제/경화제/용제의 질량비를, 10/1/3.3의 비율로 혼합한 조성물을 사용해서 두께 100 ㎛의 폴리에틸렌 테레프탈레이트 수지 필름(도요보세끼 가부시끼가이샤 제품, 품번 ; A4300)에 그라비아 코팅을 행하고, 건조하여, 두께 3 ㎛의 프라이머층을 형성했다. 용제로서는, 톨루엔/메틸에틸케톤 = 1/1의 것을 사용했다.

방현층의 형성

도10에서 나타낸 본 발명의 제4 제조 장치(엠보스 장치(47))에, 조제한 엠보스 롤러를 장착하고, 또한 조제한 단층 방현층용 조성물 6을 코팅 헤드의 액체 저장소에 공급했다. 액체 저장소는 40 ℃로 항상 보온했다. 다음에, 상기 프라이머층을 형성한 폴리에틸렌 테레프탈레이트 수지 필름을 엠보스 롤러에 공급했다. 단층 방현층용 조성물 6을 엠보스 롤러에 도포하고, 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지 필름을 그 조성물 위에 중첩하여, 고무 롤러로 라미네이트하고, 계속해서, 필름측에서, 자외선 광원을 사용해서 자외선을 200 mj 조사하여 경화시키고, 엠보스 롤러 로부터 박리하여, 방현층을 형성했다. (기재 상의 방현층의 총 두께 : 약 15 ㎛)

제8 실시예

방현층의 형성

두께 80 ㎛의 트리아세테이트 셀룰로오스 필름(TD80U　후지사진 필름 가부시끼가이샤 제품)을 투명 기재로서 사용하고, 단층 방현층용 조성물 5를, 필름 위에 코팅용 권선 로드(메이야즈바) #24를 사용해서 도포하고, 80 ℃의 오븐 안에서 2분간 가열 건조하여, 용제분을 증발시키는 동시에, 액상으로부터의 스피노달 분해에 의해 상 분리형 요철층을 형성하고, 그 후, 자외선을 조사선량이 100 mJ가 되도록 조사해서 도막을 경화시켜 방현층을 형성했다. (기재 상의 방현층의 총 두께 : 약 8.0 ㎛)

제9 실시예

하지 요철층의 형성

80 ㎛ 두께의 트리아세틸셀룰로오스 필름(TD80U, 후지사진 필름 가부시끼가이샤 제품)을 투명 기재로서 사용하고, 하지 요철층용 조성물(6)을, 필름 위에 코팅용 권선 로드(메이야즈바) #14를 사용해서 도포하고, 70 ℃의 오븐 안에서 1분간 가열 건조하여, 용제분을 증발시킨 후, 자외선을 조사선량이 30 mJ가 되도록 조사해서 도막을 경화시켜 하지 요철층을 형성했다. 하지 요철층에서, 바인더 수지와의 굴절률차가 최대 0.09인 미립자를 사용함으로써, 내부 확산 효과를 내어, 번쩍임을 더욱 효과적으로 방지할 수 있게 했다.

표면 조정층의 형성

또한 하지 요철층 상에, 표면 조정층용 조성물 3을, 코팅용 권선 로드(메이야즈바) #16을 사용해서 도포하고, 70 ℃의 오븐 안에서 1분간 가열 건조하여, 용제분을 증발시킨 후, 질소 퍼지하(산소 농도 200 ppm 이하)에서, 자외선을 조사선량이 100 mJ가 되도록 조사해서 도막을 경화시켜, 표면 조정층을 적층하고, 방현성 광학 적층체를 얻었다. (기재 상의 방현층의 총 두께 : 16 ㎛)

제1 비교예

방현층의 형성

80 ㎛ 두께의 트리아세틸셀룰로오스 필름(TD80U, 후지사진 필름 가부시끼가이샤 제품)을 투명 기재로서 사용하고, 단층 방현층용 조성물 2를, 필름 위에 코팅용 권선 로드(메이야즈바) #6을 사용해서 도포하고, 70 ℃의 오븐 안에서 1분간 가열 건조하여, 용제분을 증발시킨 후, 질소 퍼지하(산소 농도 200 ppm 이하)에서, 자외선을 조사선량이 100 mJ가 되도록 조사해서 도막을 경화시켜 방현성 광학 적층체를 형성했다. 이 방현층은, 바인더 내부에서 실리카가 응집하여, 그 응집 덩어리나 분산된 상태의 실리카로 요철 형상을 형성하고 있다. (기재 상의 방현층의 총 두께 : 약 3 ㎛)

제2 비교예

방현층의 형성

80 ㎛의 두께의 트리아세틸 셀룰로오스 필름(TD80U, 후지사진 필름 가부시끼가이샤 제품)을 투명 기재로서 사용하고, 단층 방현층용 조성물 3을, 필름 위에 코팅용 권선 로드(메이야즈바) #8을 사용해서 도포하고, 70 ℃의 오븐 안에서 1분간 가열 건조하여, 용제분을 증발시킨 후, 질소 퍼지하(산소 농도 200 ppm 이하)에서, 자외선을 조사선량이 100 mJ가 되도록 조사해서 도막을 경화시켜 방현성 광학 적층체를 형성했다. (기재 상의 방현층의 총 두께 : 약 3.8 ㎛)

제3 비교예

방현층의 형성

80 ㎛ 두께의 트리아세틸셀룰로오스 필름(TD80U, 후지사진 필름 가부시끼가이샤 제품)을 투명 기재로서 사용하고, 하지 요철층용 조성물 3을 방현층용 조성물로서 사용하고, 필름 위에 코팅용 권선 로드(메이야즈바) #12를 사용해서 도포하고, 70 ℃의 오븐 안에서 1분간 가열 건조하여, 용제분을 증발시킨 후, 질소 퍼지하(산소 농도 200 ppm 이하)에서, 자외선을 조사선량이 100 mJ가 되도록 조사해서 도막을 경화시켜 방현성 광학 적층체를 형성했다. 방현층에서, 바인더 수지와의 굴절률차가 최대 0.09인 미립자를 사용함으로써, 내부 확산 효과를 내어, 번쩍임을 방지할 수 있게 했다. 이 방현층은, 바인더로부터 미립자가 헤드를 드러내는 외관을 가진다. (기재 상의 방현층의 총 두께 : 약 4.5 ㎛)

제4 비교예

방현층의 형성

80 ㎛ 두께의 트리아세틸셀룰로오스 필름(TD80U, 후지사진 필름 가부시끼가이샤 제품)을 투명 기재로서 사용하고, 단층 방현층용 조성물 4를, 필름 위에 코팅용 권선 로드(메이야즈바) #8을 사용해서 도포하고, 70 ℃의 오븐 안에서 1분간 가열 건조하여, 용제분을 증발시킨 후, 질소 퍼지하(산소 농도 200 ppm 이하)에서, 자외선을 조사선량이 100 mJ가 되도록 조사를 해서 도막을 경화시켜, 방현성 광학 적층체를 형성했다. (기재 상의 방현층의 총 두께 : 약 4 ㎛)

제5 비교예

방현층의 형성

80 ㎛ 두께의 트리아세틸셀룰로오스 필름(TD80U, 후지사진 필름 가부시끼가이샤 제품)을 투명 기재로서 사용하고, 단층 방현층용 조성물 7을, 필름 위에 코팅용 권선 로드(메이야즈바) #34를 사용해서 도포하고, 70 ℃의 오븐 안에서 1분간 가열 건조하여, 용제분을 증발시킨 후, 질소 퍼지하(산소 농도 200 ppm 이하)에서, 자외선을 조사선량이 100 mJ가 되도록 조사를 해서 도막을 경화시켜, 방현성 광학 적층체를 형성했다. (기재 상의 방현층의 총 두께 : 약 23 ㎛)

제6 비교예

하지 요철층의 형성

80 ㎛ 두께의 트리아세틸셀룰로오스 필름(TD80U, 후지사진 필름 가부시끼가이샤 제품)을 투명 기재로서 사용하고, 하지 요철층용 조성물 5를, 필름 위에 코팅용 권선 로드(메이야즈바) #8을 사용해서 도포하고, 70 ℃의 오븐 안에서 1분간 가열 건조하여, 용제분을 증발시킨 후, 자외선을 조사선량이 30 mJ가 되도록 조사해서 도막을 경화시켜 하지 요철층을 형성했다. 이 하지 요철층은, 바인더로부터 미립자가 헤드를 드러내는 외관을 가진다.

표면 조정층의 형성

또한 하지 요철층 상에, 표면 조정층용 조성물 1을, 코팅용 권선 로드(메이 야즈바) #24를 사용해서 도포하고, 70 ℃의 오븐 안에서 1분간 가열 건조하여, 용제분을 증발시킨 후, 질소 퍼지하(산소 농도 200 ppm 이하)에서, 자외선을 조사선량이 70 mJ가 되도록 조사해서 도막을 경화시켜, 표면 조정층을 적층하고, 방현성 광학 적층체를 얻었다. (기재 상의 방현층의 총 두께 : 약 21.5 ㎛)

이렇게 얻게 된 실시예 및 비교예의 광학 적층체를 이하의 평가 방법을 기초로 하여 평가를 행하였다.

표면 거칠기

표면 거칠기(Sm, θa, Rz)를 본 명세서의 정의에 따라서 측정하고, 그 결과를 표 3에 기재했다.

헤이즈

실시예와 비교예의 광학 적층체에 대해서, 하기의 방법을 따라서, 헤이즈 값（％)을 측정하고, 그 결과를 표 3에 기재했다.

헤이즈 값은, JIS　K-7136에 따라서 측정할 수 있다. 측정에 사용하는 기기로서는, 반사ㆍ투과율계 HR-150(무라까미시끼사이 기쥬쯔 겐뀨쇼)을 들 수 있다. 헤이즈는, 도공면을 광원에 향해서 측정한다.

표면 헤이즈는, 이하와 같이 구할 수 있다. 광학 적층체 최표면의 요철 위에 펜타에리스리톨트리아크릴레이트 등의 수지(모노머 또는 올리고머 등의 수지 성분을 포함함)를 톨루엔 등으로 희석하고, 고형분 60 ％로 한 것을 와이어 바로 건조층 두께가 8 ㎛가 되도록 도포한다. 이에 의해, 방현층의 표면 요철이 찌부러져, 평탄한 층이 된다. 단, 광학 적층체를 형성하는 조성물 안에 레벨링제 등이 들어 있는 것으로, 리코트제가 튀기 쉽고 젖기 어려운 경우에는, 미리 방현 필름을 비누화 처리[2 mol/l의 NaOH(또는 KOH) 용액 55도로 3분 침지한 뒤, 물로 세척하고, 김와이프로 물방울을 완전히 제거한 후, 50도의 오븐에서 1분 건조)에 의해, 친수 처리를 실시하면 좋다. 이 표면을 평탄하게 한 필름은, 표면 요철에 의한 헤이즈를 가지지 않는, 내부 헤이즈만을 갖는 상태로 되어 있다. 이 헤이즈를, 내부 헤이즈로서 구할 수 있다. 또한, 내부 헤이즈를, 원래 필름의 헤이즈(전체 헤이즈)로부터 뺀 값이, 표면 요철에만 기인하는 헤이즈(표면 헤이즈)로서 구할 수 있다.

H층 두께-R

실시예와 비교예의 광학 적층체에 대해서, 본 명세서의 정의를 따라, H층 두께-R(㎛)을 측정하고, 그 결과를 표 3에 기재했다. 많은 종류의 미립자(R1, R2, R3)를 사용하고 있는 경우에는, R은 최대의 입경을 갖는 입자인 것을 나타내고 있다.

염흑감 시험

실시예와 비교예의 광학 적층체의 필름면과 반대측에 크로스니콜의 편광판에 대립하게 한 후, 30W의 삼파장 형광하(샘플면에, 45도의 각도로 조사)에서 관능 평가(샘플로부터 50 ㎝ 정도 상부, 45도 정도의 방향에서 육안 관찰)를 행하여, 염흑감을 하기 기준에 의해 상세하게 평가했다.

평가 기준

평가 ○ : 윤기가 있는 흑색을 재현할 수 있었다.

평가 × : 윤기가 있는 흑색을 재현할 수 없었다.

방현성의 관능 시험 방법

표면 처리한 필름의 이면을 점착 처리하고, 흑색 아크릴판에 부착한 것을 평가용 샘플로 한다. 폭 20 ㎜의 흑백 스트라이프판을 준비하고, 상기 샘플(30도 위로 기울어진 상태)에 이 스트라이프를 샘플면의 법선으로부터 20도의 각도로 찍히게 해, 관찰한다. 이때 샘플면의 조도는 250 lx이고, 스트라이프의 휘도(백색)는 65 cd/㎡로 했다. 또한, 스트라이프판과 샘플의 거리는 1.5 m이고, 샘플과 관찰자의 거리는 1 m로 했다. 이것을 관찰자가 보았을 때의 스트라이프가 보이는 쪽에 의해 다음과 같이 정의한다(도12 참조).

○ : 스트라이프를 인식할 수 없음

× : 스트라이프를 인식할 수 있음

평가 : 번쩍거림 시험

HAKUBA제 뷰어(라이트 뷰어 7000PRO) 위에, 0.7 ㎜ 두께의 글래스에 형성된 블랙 매트릭스 패턴판(105 ppi, 140 ppi)을, 패턴면을 아래로 해서 두고, 그 위에서 얻게 된 광학 적층체 필름을 요철면을 공기측으로 해서 얹고, 필름이 뜨지 않도록 필름의 모서리를 손가락으로 가볍게 누르면서, 암실에서 번쩍거림을 육안으로 관찰하고, 평가했다.

평가 기준

평가 ◎ : 140 ppi에서 번쩍거림이 없어 양호

평가 ○ : 105 ppi에서 번쩍거림이 없어 양호

평가 × : 105 ppi에서 번쩍거림이 보여 불량

본 발명에 의해 얻게 된 광학 적층체는, 우수한 방현성과 염흑감을 동시에 갖는 것을 나타내었다.

본 발명의 광학 적층체의 제조 방법 및 제조 장치는, 음극선관 표시 장치(CRT), 액정 디스플레이(LCD), 플라즈마 디스플레이(PDP), 일렉트로 루미네센스 디스플레이(ELD) 등의 반사 방지용 필름을 제조하는 방법 및 이들의 제조 장치로서 사용할 수 있다.

Claims (38)

1. 광 투과성 기재 및 상기 광 투과성 기재 상에 형성된 방현층을 갖는 광학 적층체의 제조 방법이며,

   상기 광 투과성 기재 상에 요철 형상을 갖는 상기 방현층을 형성하는 공정으로 이루어지고,

   상기 요철 형상은, 상기 광학 적층체 표면의 요철의 평균 간격을 Sm이라고 하고, 요철부의 평균 경사각을 θa라고 하고, 요철의 평균 거칠기를 Rz라고 한 경우에,　

   Sm이 50 ㎛ 이상 100 ㎛ 미만이고,

   θa가 0.1도 이상 1.0도 이하이며,　

   Rz가 0.2 ㎛ 초과 1.0 ㎛ 이하인 것을 특징으로 하는, 광학 적층체의 제조 방법.
2. 제1항에 있어서, 상기 방현층을 형성하는 공정은, 단일층인 요철층을 형성하는 공정인, 광학 적층체의 제조 방법.
3. 제1항에 있어서, 상기 방현층을 형성하는 공정은, 하지층인 요철층을 형성하는 공정 및 상기 하지층인 요철층 상에 표면 조정층을 형성하는 공정으로 이루어지는, 광학 적층체의 제조 방법.
4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 요철층의 형성은, 상기 광 투과성 기재 및 요철 형상을 갖는 방현성 필름을 일체화하는 공정으로 이루어지는, 광학 적층체의 제조 방법.
5. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 요철층의 형성은, 상기 광 투과성 기재 상에 수지층을 형성하고, 상기 수지층의 표면에 요철 형상을 형성하는 공정으로 이루어지는, 광학 적층체의 제조 방법.
6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 요철 형상의 형성은, 상기 요철층이 갖는 요철 형상과 반대인 요철 형상을 갖는 형을 이용해서 부형 처리하는 공정으로 이루어지는, 광학 적층체의 제조 방법.
7. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 요철층의 형성은, 상기 광 투과성 기재 상에 방현층용 조성물을 도포하는 공정으로 이루어지는, 광학 적층체의 제조 방법.
8. 제7항에 있어서, 상기 방현층용 조성물은, 수지와 미립자를 포함하는 것인, 광학 적층체의 제조 방법.
9. 제7항에 있어서, 상기 방현층용 조성물은 미립자를 포함하지 않으며, 폴리머 및 경화성 수지 전구체로 이루어지는 군으로부터 적어도 2종류의 성분을 포함하는, 광학 적층체의 제조 방법.
10. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 요철층의 형성은, 상기 광 투과성 기재를 요철 형상의 반대인 요철 형상을 갖는 형에 도입하는 공정과,

    상기 광 투과성 기재와 상기 형이 갖는 요철 형상 사이의 공극에 방현층용 조성물을 도입하고, 상기 광 투과성 기재 상에 요철 형상을 형성하는 공정으로 이루어지는, 광학 적층체의 제조 방법.
11. 제10항에 있어서, 상기 방현층용 조성물은, 미립자를 포함하지 않으며, 전리 방사선 경화형 수지 또는 열경화형 수지를 포함하는 것인, 광학 적층체의 제조 방법.
12. 제10항 또는 제11항에 있어서, 상기 요철층을 형성하는 공정 이후에, 상기 요철층을 경화시키는 공정을 갖는, 광학 적층체의 제조 방법.
13. 제4항에 기재된 광학 적층체의 제조 방법에 사용하는 광학 적층체의 제조 장치이며,

    상기 광 투과성 기재 및 요철 형상을 갖는 상기 방현성 필름을 공급하는 공 급부와,

    상기 광 투과성 기재 상에 상기 방현층을 형성하는 형성부를 갖는 것을 특징으로 하는, 광학 적층체의 제조 장치.
14. 제5항에 기재된 광학 적층체의 제조 방법에 사용하는 광학 적층체의 제조 장치이며,

    상기 광 투과성 기재 상에 상기 수지층을 형성하고, 상기 수지층에 요철 형상을 실시하는 형성부를 갖는 것을 특징으로 하는, 광학 적층체의 제조 장치.
15. 제14항에 있어서, 상기 형성부는, 상기 요철층의 요철 형상과 반대인 요철 형상을 갖는 형을 구비하는 것인, 광학 적층체의 제조 장치.
16. 제7항 내지 제9항 중 어느 한 항에 기재된 광학 적층체의 제조 방법에 사용하는 광학 적층체의 제조 장치이며,

    상기 광 투과성 기재를 공급하는 공급부와,

    상기 광 투과성 기재 상에 방현층용 조성물을 부여하는 부여부와,

    상기 방현층용 조성물을 경화하여, 요철 형상을 갖는 상기 방현층을 형성하는 형성부를 갖는 것을 특징으로 하는, 광학 적층체의 제조 장치.
17. 제16항에 있어서, 상기 형성부는, 상기 방현층용 조성물에 전리 방사선을 조 사하는 조사부를 갖는 것인, 광학 적층체의 제조 장치.
18. 제10항 내지 제12항 중 어느 한 항에 기재된 광학 적층체의 제조 방법에 사용하는 광학 적층체의 제조 장치이며,

    상기 광 투과성 기재를 공급하는 공급부와,

    상기 광 투과성 기재를 도입하는 상기 방현층의 표면에 형성되는 요철 형상과 반대인 요철 형상을 갖는 형과,

    상기 형에 방현층용 조성물을 도입하는 도입부와,

    상기 방현층용 조성물을 경화하여, 요철 형상을 갖는 상기 방현층을 형성하는 형성부를 갖는 것을 특징으로 하는, 광학 적층체의 제조 장치.
19. 제18항에 있어서, 상기 형성부는, 상기 방현층용 조성물에 전리 방사선을 조사하는 조사부를 갖는 것인, 광학 적층체의 제조 장치.
20. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 기재된 광학 적층체의 제조 방법에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는, 광학 적층체.
21. 제13항 내지 제19항 중 어느 한 항에 기재된 광학 적층체의 제조 장치에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는, 광학 적층체.
22. 광 투과성 기재 및 상기 광 투과성 기재 상에 설치된 방현층을 갖는 광학 적층체이며,

    상기 방현층은, 최표면이 요철 형상을 갖는 것이고, 수지와 미립자를 포함해서 이루어지는 방현층용 조성물에 의해 형성된 것이며, 상기 수지와 상기 미립자와의 굴절률의 차 n이 0.2 이하이고,

    광학 적층체 표면의 요철의 평균 간격을 Sm이라 하고, 요철부의 평균 경사각을 θa라 하고, 요철의 평균 거칠기를 Rz라 한 경우에,　

    Sm이 50 ㎛ 이상 100 ㎛ 미만이고,

    θa가 0.1도 이상 1.0도 이하이며,　

    Rz가 0.2 ㎛ 초과 1.0 ㎛ 이하인 것을 특징으로 하는, 광학 적층체.
23. 제22항에 있어서, 상기 미립자는 무기 미립자 또는 유기 미립자인, 광학 적층체.
24. 제22항 또는 제23항에 있어서, 상기 미립자는 응집형 미립자인, 광학 적층체.
25. 제22항 내지 제24항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 미립자는 평균 입자 직경 R이 1.0 ㎛ 이상 20 ㎛ 이하인, 광학 적층체.
26. 제22항 내지 제25항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 방현층은, 방현층의 층 두께 H ㎛와 상기 미립자의 평균 입자 직경 R ㎛와의 차「H-R」가, 0.6 ㎛ 이상 15.0 ㎛ 이하인, 광학 적층체.
27. 제22항 내지 제26항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 미립자는, 상기 미립자의 평균 입자 직경 R에 대하여 상기 미립자의 총수의 80 ％가 R±1.0 ㎛의 범위 내에 있는 입자 분포를 갖는, 광학 적층체.
28. 제22항 내지 제27항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 방현층은, 단위 면적당의 상기 미립자의 총 질량을 m, 단위 면적당의 상기 수지의 총 질량을 M이라 한 경우에, 질량비 (m/M)가 0.01 이상 1.2 이하인, 광학 적층체.
29. 제22항 내지 제28항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 수지는, 전리 방사선 경화형 수지 및/또는 열경화성 수지를 함유하는, 광학 적층체.
30. 제22항 내지 제29항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 방현층은, 대전 방지제를 더 함유하는, 광학 적층체.
31. 제30항에 있어서, 상기 대전 방지제는, 도전성 미립자 및/또는 도전성 폴리머인, 광학 적층체.
32. 제22항 내지 제31항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 방현층은, 요철층 단일층으로 이루어지는, 광학 적층체.
33. 제22항 내지 제32항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 방현층은, 하지 요철층 및 상기 하지 요철층 상에 설치된 표면 조정층으로 이루어지는, 광학 적층체.
34. 제22항 내지 제33항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 방현층 상에 저굴절률층을 더 갖는, 광학 적층체.
35. 제34항에 있어서, 상기 저굴절률층은, 중공 실리카를 포함하는, 광학 적층체.
36. 제22항 내지 제35항 중 어느 한 항에 있어서, 내부 헤이즈 값이 60 이하인, 광학 적층체.
37. 편광 소자를 구비하여 이루어지는 편광판이며,

    상기 편광 소자의 표면에, 제22항 내지 제36항 중 어느 한 항에 기재된 광학 적층체를 상기 광학 적층체에 있어서의 방현층이 존재하는 면과 반대인 면에 구비하는 것을 특징으로 하는, 편광판.
38. 투과성 표시체와, 상기 투과성 표시체를 배면으로부터 조사하는 광원 장치를 구비하여 이루어지는 화상 표시 장치이며,

    상기 투과성 표시체의 표면에, 제22항 내지 제36항 중 어느 한 항에 기재된 광학 적층체 또는 제37항에 기재된 편광판을 구비하는 것을 특징으로 하는, 화상 표시 장치.

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