JP2000210618A - 光拡散シートの製造方法 - Google Patents

光拡散シートの製造方法

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JP2000210618A
JP2000210618A JP2000045755A JP2000045755A JP2000210618A JP 2000210618 A JP2000210618 A JP 2000210618A JP 2000045755 A JP2000045755 A JP 2000045755A JP 2000045755 A JP2000045755 A JP 2000045755A JP 2000210618 A JP2000210618 A JP 2000210618A
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Japan
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ionizing radiation
roll intaglio
roll
sheet
resin liquid
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JP2000045755A
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Toshikazu Nishio
俊和 西尾
Masashi Toyoizumi
正史 豊泉
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 製造が簡単で光学特性の制御が容易な製造を
可能とする。 【解決手段】 透明樹脂シート基材へ塗工装置で所定量
の電離放射線硬化性樹脂を塗工する塗工工程と,光拡散
性のある微細エンボス形状の型が形成されたロール凹版
を回転させ、そのロール凹版の回転方向に同期して走向
する透明樹脂シート基材を接触させ、同時に押圧ロール
により透明樹脂シート基材をロール凹版へ押圧すること
により、ロール凹版の少なくとも凹部に電離放射線硬化
性樹脂液を充填する充填・接触工程101,102と、
シート基材がロール凹版に接触している間に、ロール凹
版とシート基材間にある電離放射線硬化性樹脂液に電離
放射線を照射して硬化させる硬化工程103と、電離放
射線硬化性樹脂液とシート基材とを密着させる密着工程
104と、電離放射線硬化性樹脂液の硬化物とシート基
材をロール凹版から剥離する剥離工程105とを備え
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置の背
面光源等に用いる光拡散シートの製造方法に関するもの
である。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の光拡散シートは、ポリ
エチレンテレフタレート(PET)シート等の透明シー
トに炭酸カルシウム、二酸化硅素等の微粒子を分散させ
た艶消透明塗料を塗工して製造したり、曇り硝子板を
用いることが知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前記の方法
では、塗膜中にバインダと微粒子のように、屈折率の異
なる物質を分散させるためおよび微粒子自体の光吸収も
あるために、光透過率が低く、液晶表示面の明るさが十
分に得られない。このため、光源の光度を上げることも
考えられるが、消費電力や発熱量が増加するので、好ま
しくない。また、塗料の分散不良、塗工・乾燥時の塗料
の対流等による艶ムラが発生しやすい。さらに、塗工条
件の変動によって艶の変動も発生しやすい。
【0004】前記のような曇り硝子板の場合には、硝
子板が重く、割れやすいうえ、切断等加工がし難い。ま
た、艶消加工も砂吹付け等によるために、手間がかか
る。
【0005】前記,のいずれであっても、得られる
微細エンボス形状は、加工法により決定される単調な形
状のみであり、光の透過率、透過光の拡散角等の光学特
性を所望の値に制御することはできない。
【0006】本発明の目的は、前述の課題を解決し、製
造が簡単で光学特性の制御が容易な光拡散シートの製造
方法を提供することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明によく光拡散シートの製造方法は、透明樹脂
シート基材へ塗工装置で所定量の電離放射線硬化性樹脂
液を塗工する塗工工程と;光拡散性のある微細エンボス
形状の型が形成されたロール凹版を回転させ、そのロー
ル凹版の回転方向に同期して走向する前記透明樹脂シー
ト基材を接触させ、同時に押圧ロールにより前記透明樹
脂シート基材を前記ロール凹版へ押圧することにより、
前記ロール凹版の少なくとも凹部に電離放射線硬化性樹
脂液を充填する充填・接触工程と;前記充填・接触工程
で前記シート基材が前記ロール凹版に接触している間
に、前記ロール凹版と前記シート基材間にある電離放射
線硬化性樹脂液に電離放射線を照射して硬化させる硬化
工程と;前記硬化工程で硬化する前記電離放射線硬化性
樹脂液と前記シート基材とを密着させる密着工程と;前
記密着工程で密着した前記電離放射線硬化性樹脂液の硬
化物と前記シート基材を前記ロール凹版から剥離する剥
離工程と;を含む構成としてある。この場合に、前記電
離放射線硬化性樹脂液の粘度を5000cps以下とし
たことを特徴とすることができる。また、前記ロール凹
版の表面温度を約15℃〜50℃とすることを特徴とす
ることができる。
【0008】本発明によれば、シート基材上に樹脂液を
塗工して、凹部をもつロール凹版によって樹脂を成形す
るので、所望の形状の微細エンボス形状を忠実に再現で
きる。また、透明樹脂の表面に光拡散性の微細エンボス
形状を形成し、異物粒子を内部に分散させていない。さ
らに、帯状ウエッブのシート基材を走向させながら、ロ
ール凹版を用いて輪転成形方式で微細エンボスを形成
し、かつ、その成形も電離放射線によって即時硬化させ
ることができる。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、図面等を参照して、実施形
態について、さらに詳しく説明する。図1は、本発明に
よる光拡散シートの製造方法の実施形態を示した工程
図、図2は、本発明による光拡散シートの製造装置の実
施形態を示した図である。ここでは、まず、本実施形態
による光拡散シートの製造方法および製造装置について
簡単に説明する。図2(A)において、1は所望の凹凸
が形成されたロール凹版、2はそのロール凹版1の凹
部、3は電離放射線硬化性樹脂液、4はシート基材、5
はロール凹版に当接してロール凹版1を押圧する押圧ロ
ール、6は送りロール、7は電離放射線硬化性樹脂液3
を硬化するための硬化装置、10は電離放射線硬化性樹
脂液3をロール凹版1に塗工するための塗工装置であ
る。
【0010】この実施形態の光拡散シートの製造方法
は、図1に示すように、充填工程101、接触工程10
2、硬化工程103、密着工程104、剥離工程105
とから構成されている。充填工程101は、光拡散性の
ある微細エンボス形状の型が形成されたロール凹版1を
回転させ、そのロール凹版1の少なくとも凹部2に電離
放射線硬化性樹脂液3を充填する工程である。接触工程
102は、充填工程101でロール凹版1に充填された
電離放射線硬化性樹脂液3に対して、ロール凹版1の回
転方向に同期して走向する透明樹脂シート基材4を接触
させる工程である。硬化工程103は、接触工程102
でシート基材4がロール凹版1に接触している間に、ロ
ール凹版1とシート基材4間にある電離放射線硬化性樹
脂液3に、硬化装置11からの電離放射線を照射して硬
化させる工程である。密着工程104は、硬化工程10
3で硬化する電離放射線硬化性樹脂液3とシート基材4
とを密着させる工程である。なお、硬化工程103と密
着工程104は、通常同時に進行する。剥離工程105
は、密着工程104で密着した電離放射線硬化性樹脂液
3の硬化物3aとシート基材4をロール凹版1から剥離
する工程である。
【0011】次に、主に図2(A)を参照しながら、こ
の実施形態による光拡散シートの製造装置に詳細に説明
する。ロール凹版1は、円筒状の版材に、後述する所定
形状の凹部2を設けたものである。このロール凹版1
は、円筒状の版材に直接施盤加工したり、電鋳法で形成
したミルによるミル加工等で切削する方法、電鋳法など
により製造できる。ロール凹版1の材質としては、銅、
クロム、鉄等の金属、NBR、エポキシ、エボナイト等
の合成樹脂、ガラス等のセラミックス等を用いることが
できる。また、ロール凹版1の大きさは、特に限定され
ず、製造しようとする凹凸表面を有するシートの大きさ
に応じて適宜選択することができる。なお、図示しない
が、ロール凹版1は、駆動装置が設けられ回転駆動する
ように形成されている。
【0012】また、前述したように、樹脂液3の粘度を
所定の値に調整する方法として、図12に示したロール
凹版1A〜1Dのように、内部を中空とし、その中空部
に、適度の温度に温度調整した水、油、蒸気等の流体を
流入、流出させ、ロール凹版1A〜1Dの版表面温度を
所定値に制御する方法が適用できる。一般に、高温にな
るほど粘度が下がるのが、高温すぎると樹脂液3の分解
蒸発等が起こるために、樹脂によっても異なるが約15
℃〜50℃が好ましい。
【0013】ここで、前記流体を流入、流出させるに
は、図12(A)のように、ロール凹版1Aの回転軸1
aの一方側から他方側に流体を流す方式や、図12
(B)のように、ロール凹版1Bの内部に、送り管1b
を挿入し、送り管1bによってロール凹版1Bの奥に送
った流体をロール凹版1Bの内壁に沿って戻す方式や、
図12(C)のように、ロール凹版1Cの内部に、ロー
ル凹版1Cと略相似形の内管1cを設け、ロール凹版1
Cと内管1cの間に流体を通す方式や、図12(D)の
ように、ロール凹版1Dの内部に、開孔1e〔図12
(E)参照〕が多数設けられた送り管1dを挿入し、送
り管1dの開孔1eから噴射した流体をロール凹版1D
の内壁に沿って戻す方式などがあげられる。この場合
に、版表面を均一に温度調整するには、ロール凹版1D
の形態が好ましい。
【0014】電離放射線硬化性樹脂液3としては、分子
中に重合性不飽和結合またはエポキシ基を有するプレポ
リマー、オリゴマーおよび/または単量体を適宜混合し
た組成物を用いることができる。前記プレポリマー、オ
リゴマーとしては、不飽和ジカルボン酸と多値アルコー
ルの縮合物等の不飽和ポリエステル類、エポキシ樹脂、
ポリエステルメタクリレート、ポリエーテルメタクリレ
ート、ポリオールメタクリレート、メラミンメタクリレ
ート等のメタクリレート類、ポリエステルアクリレー
ト、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポ
リエーテルアクリレート、ポリオールアクリレート、メ
ラミンアクリレート等のアクリレート類等があげられ
る。
【0015】また、前記単量体としては、スチレン、α
−メチルスチレン等のスチレン系単量体、アクリル酸メ
チル、アクリル酸−2−エチルヘキシル、アクリル酸メ
トキシエチル、アクリル酸ブチル、等のアクリル酸エス
テル類、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メ
タクリル酸メトキシエチル、メタクリル酸エトキシメチ
ル等のメタクリル酸エステル類、アクリル酸−2−
(N、N−ジエチルアミノ)エチル等の不飽和酸の置換
アミノアルコールエステル類、アクリルアミド、メタク
リルアミド等の不飽和カルボン酸アミド、ジプロピレン
グリコールジアクリレート、エチレングリコールアクリ
レート、プロピレングリコールジメタクリレート、ジエ
チレングリコールジメタクリレート等の多官能性化合
物、ビニルピロリドン、および/または分子中に2個以
上のチオール基を有するポリチオール化合物、例えば、
トリメチロールプロパントリチオグリコレート、トリメ
チロールプロパントリチオプロピレート、ペンタエリス
リトールテトラチオグリコール等があげられる。
【0016】特に、紫外線によって硬化させる場合に
は、前記電離放射線硬化性樹脂の組成物に光重合開始剤
として、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラ
ーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステ
ル、テトラメチルメウラムモノサルファイド、チオキサ
ントン類、及び/又は光増感剤としてn−ブチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン等
を混合して用いることもできる。また、この実施形態の
ように細かな凹部2を持ったロール凹版1の形状に忠実
に沿うためには、粘度は5000cps 以下、特に、10
00cps 以下にすることが好ましい。
【0017】シート基材4は、電離放射線の透過性と可
撓性のある樹脂シートが用いられ、厚さは微細エンボス
形状の加工のしやすさ、使用される液晶表示素子の軽量
・薄型化等の点から、200〜12μm位の範囲のもの
が好ましく用いられる。シート基材4の材質としては、
ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー
ト等のポリエステル、ポリメチルメタアクリレート、ポ
リメチルアクリレート、ポリエチルメタアクリレート、
ポリエチルアクリレート等のメタアクリル酸またはアク
リル酸エステルの重合体(いわゆるアクリル樹脂)、ポ
リカーボネート、三酢酸セルロース、ポリスチレン、ポ
リプロピレン等があげられる。なお、シート基材4に
は、必要に応じて、表面にコロナ放電処理などの易接着
処理を施すことが好ましい。
【0018】押圧ロール5は、シート基材4を押圧でき
ればよいが、通常直径140mm程度の大きさで、その
材質はシリコンゴム、NBR、EPT等で形成すること
ができる。押圧ロール5および送りロール6は、シート
基材4を送るために回転自在となっている。これらは、
ロール凹版1とつれ回る形式でもよいが、駆動装置によ
り駆動することもできる。また、シート基材4を送り出
すシート供給装置および微細エンボスを形成したシート
を巻き取る巻き取り装置を設けることもできる。
【0019】硬化装置7aは、電離放射線を照射して、
電離放射線硬化性樹脂液3を硬化させる装置である。な
お、脱離した電離放射線硬化性樹脂液3aを完全に硬化
させるために、硬化装置7bを設けてもよい。ここで、
電離放射線とは、電磁波または荷電粒子線のうち、分子
を重合、架橋し得るエネルギー量子を有するものを意味
し、通常、紫外線、電子線等が用いられる。硬化装置7
として、紫外線の場合には、超高圧水銀灯、高圧水銀
灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、ブラックライトラン
プ、メタルハライドランプ等の光源を用いることができ
る。
【0020】また、電子線の場合には、コックロフトワ
ルトン型、バンデグラフ型、共振変圧器型、絶縁コア変
圧器型、あるいは直線型、ダイナミトロン型、高周波型
等の各種電子線加速器等の照射源を備えた装置を用いる
ことができ、100〜1000keV、好ましくは100
〜300keVのエネルギーを持つ電子を照射する。照射
線量としては、通常0.5〜30Mrad 程度が好まし
い。
【0021】塗工装置10は、電離放射線硬化性樹脂液
3をロール凹版1に塗工するための装置であり、ノズル
塗工装置(図2に示す方法)を用いることが望ましい。
このノズル塗工装置は、所定寸法のノズルがTダイ状の
長方形または線状の吐出口を有し、その吐出口の長手方
向がロール凹版回転方向と直交する方向(幅方向)に設
置されており、ロール凹版1の全幅のうちの所定の幅を
カバーするように設けられ、電離放射線硬化性樹脂液3
を加圧してカーテン状にロール凹版1上へ吐出するため
の吐出装置を備えている。また、ノズル塗工装置は、吐
出量のムラ、経時変化を緩和するために、ノズルの途中
に空洞12を設けるとよい。さらに、塗工装置10とし
ては、上記以外にもシート基材4にロールコート法、ナ
イフコート法等の適当な手段による塗工装置を採用して
もよい。
【0022】また、図示はしていないが、電離放射線硬
化性樹脂液3をロール凹版1上へではなく、シート基材
4上に塗工した後に、押圧ロール5によって、ロール凹
版1にシート基材4上の塗膜面を押圧することもでき
る。なお、気泡の混入がなく、微小凹凸を忠実に再現す
るためには、ロール凹版1側に樹脂液3を塗工する方が
好ましい。
【0023】溶剤乾燥装置11は、樹脂の溶剤を揮発さ
せるための装置である。溶剤乾燥装置11としては、温
風や赤外線ヒータ等を用いることができる。この溶剤乾
燥装置11を設けることにより、溶剤型の樹脂を用いる
ことができるために、使用する樹脂の選択の幅が広がり
塗工性の調和も容易になる。なお、無溶剤型の電離放射
線硬化性樹脂液3を用いる場合には、乾燥装置11は不
要である。
【0024】次に、図2に示した製造装置の動作ととも
に、この実施形態の光拡散シートの製造方法を説明す
る。まず、ロール凹版1の凹部2に、電離放射線硬化性
樹脂液3を塗工装置10により充填し(充填工程10
1)、シート基材4をロール凹版1に充填させた樹脂3
にも接するように接触させる(接触工程102)。
【0025】ここで、電離放射線硬化性樹脂液3をロー
ル凹版1の凹部2に充填する方法としては、図2に示し
たように、ロール凹版1の表面に、予め電離放射線硬化
性樹脂液3を所定量塗工しておいて、基材シート4をロ
ール凹版1へ供給したときに、押圧ロール5の基材背面
側からの押圧により、基材シート4を介して、塗工され
ている電離放射線硬化性樹脂液3を凹部2内に配分充填
させる。この場合に、溶剤タイプの硬化性樹脂が使用で
き、シート基材4に塗工された電離放射線硬化性樹脂液
3は、流動性をある程度制御するために、その樹脂液3
の溶剤を希釈するために使用した溶剤などを乾燥装置1
1により乾燥除去し、さらに、硬化装置7aにより、溶
剤を乾燥した樹脂液3を半硬化させる。硬化装置7a
は、図2(A)に示したように1個でもよいが、図2
(B)に示すように、複数個(この実施形態では、5
個)の硬化装置7a−1〜7a−5を設け、ロール凹版
1内の樹脂液3を多段階に硬化させるようにしてもよ
い。このようにすれば、シート基材4の走向速度を速く
しても、十分な照射量が得られ、また、徐々に硬化させ
ることにより、樹脂液3の硬化物の歪み、シート基材4
のカールや歪みを低減するために好ましい。
【0026】次いで、シート基材4がロール凹版1に接
している間(具体的には、図中の押圧ロール5と送りロ
ール6との間に位置している時期)に、硬化装置7aに
より電離放射線硬化性樹脂液3を硬化させる(硬化工程
103)。
【0027】なお、この実施形態では、硬化装置7aに
より電離放射線を照射する場合には、シート基材4側か
ら行われるが、ロール凹版1を石英、ガラス等の電離放
射線の透過性がよい材質により形成して、ロール凹版1
の内部側より照射することもできる(具体的にはロール
中空内に設置した照射装置により)。またシート基材側
と凹版内部側と両面から照射してもよい。
【0028】硬化装置7により、ロール凹版1の凹部2
内にある電離放射線硬化性樹脂液3aをシート基材4に
密着させる(密着工程104)。このとき、硬化度合
は、少なくとも樹脂3の流動性を失わせ、かつ、シート
基材4との密着性を生じさせる程度であればよい。
【0029】硬化装置7を通過した後、シート基材4を
ロール凹版1から剥離する(剥離工程105)。これに
より、硬化した電離放射線硬化性樹脂液3aがシート基
材4と一体になって、凹部2から脱離され、凹凸表面を
有する光拡散シート9が得られる。
【0030】次に、この実施形態による方法で製造され
る光拡散シートと、それを用いる液晶表示装置について
説明する。液晶表示装置は、公知の各種方式のものが対
象なり、白黒でもカラー(天然色を含む)でもよい。ま
た、時計、電子卓上計算機、各種計器、ワードプロセッ
サ等の表示部に用いる数字、文字を表示するものでもよ
いし、テレビジョン用、電子計算機の出力モニタ用等の
一般の画像を表示するものでもよい。
【0031】図3は、透過型の光拡散シートを用いた液
晶表示装置の実施形態を示した図である。液晶表示ディ
スプレイ31は、それ自体は発光しないので、暗所にお
ける表示の可視性を向上させるために、裏面に光源32
を置いて照明する。光源32としては、蛍光灯、白熱電
球等を用いることができるが、通常、白色度、低発熱
量、寿命等の点から、白色の蛍光灯が好ましく用いられ
る。光源32は、光反射枠33内に収容されており、裏
面側の反射板34で反射され、光カーテン35を通し
て、液晶表示ディスプレイ31を照明する。このとき、
光源32の形が目立たず、画面が均一な明るさとなるよ
うに、光源32からの透過光を拡散させる光拡散シート
36が必要となる。光拡散シート36は、透過光を拡散
させるシートであって、図3(B)に示すように、シー
ト基材36aに電離放射線硬化性樹脂の硬化物よりなる
微細エンボス層36bが形成されたものである。
【0032】図4は、反射型の光拡散シートを用いた液
晶表示装置の実施形態を示した図である。液晶表示ディ
スプレイ41の裏面には、透明なアクリル製の導光板4
2が配置されており、この導光板42の側面に、ランプ
ホルダ43内に収容された冷陰極FLランプ44が設け
られている。導光板42の裏面には、光拡散シート45
が配置されている。この光拡散シート45は、反射光を
拡散させるシートであって、図4(B)に示すように、
シート基材45aの裏面に、アルミニウム、クロム、銀
等の金属膜による光反射層45bを形成し、表面に電離
放射線硬化性樹脂の硬化物よりなる微細エンボス層45
cが形成されたものである。なお、必要に応じ基板45
dを積層してもよい。これは、透過型の場合も同様であ
る。
【0033】図5〜図9は、実施形態に係る製造方法に
より製造される光拡散シートのいくかの例を模式的に示
した図、図10および図11は、光拡散シートの光学特
性を説明するための図である。光拡散シートは、光源
(線光源または点光源)からの光線を拡散透過または拡
散反射させるものであるが、重要な点は、以下の通りで
ある。
【0034】 まず、光拡散シートは、曇り(摺り)
硝子のように、全く等方的に光を拡散すると、実用上不
要な光拡散シートの接線方法へも光が分散され、光の利
用効率が低くなる。このために、実用上、観察者が観察
する角度範囲内のみ光を拡散させるようにする。この角
度範囲として、具体的には、半値角θH があげられる。
半値角θH は、表示画面の法線方向Nの透過率(または
反射率)が、法線Nからの角度の増加に伴って減衰し、
光強度Iが法線方向Nの透過率(または反射率)の1/
2まで減衰する角度範囲をいう(図10)。
【0035】半値角θH は、用途にもよるが、一般的に
は、水平方向、垂直方向とも10°≦θH ≦60°程度
が好ましい。より好ましくは、40°≦θH ≦60°程
度である。ただし、テレビジョンやワードプロセッサ、
電子計算機等のモニタの用途では主に水平方向の視野が
要求されるために、水平方向半値角θHH、垂直方向半値
角θHVを各々、40°≦θHH≦60°,10°≦θHV≦
20°程度にすると、光エネルギーの利用効率が良好で
かつ画面も見やすい(図11)。
【0036】 次に、光の透過率(または反射率)お
よびその角度依存性は、光拡散シートの場所によって変
動がなく均一である必要がある。
【0037】 以上の,を満たすように形状を設
計するが、好ましい形状としては図5〜図9に示した例
があげられる。そのうち、図5〜図8は、いわゆる蠅の
目レンズ又はその変形例である。図5に示した光拡散シ
ート50は、半球形の光学素子51を多数配置したもの
である。図6に示した光拡散シート60は、外側に向か
って凹んだ側面を持った円錐形の光学素子61を多数配
置したものである。ピッチPmin =100μm程度であ
る。図7に示した光拡散シート70は、円錐形の光学素
子71を多数配置したものである。なお、頂角θ=90
°、110°、120°のいずれでも加工が可能であ
る。
【0038】図8に示した光拡散シート80は、2等辺
三角形などのプリズム状の光学素子81を多数配置した
ものである。ここで、頂角θ=90°、110°、12
0°のいずれでも加工が可能である。また、ピッチPmi
n =70μm程度である。なお、図8(B)に示すよう
に、各光学素子81の間に、5〜10μm程度のフラッ
トな部分82を設ければ、より加工精度が向上する。
【0039】また、図9に示した光拡散シート90は、
フレネルレンズまたはその変形の形状をした光学素子9
1を多数配置したものである。なお、光学素子91の凸
部形状が図のように同心円環群ではなく、同心多角形
(3、4、5、6、7、8角形等)状の凸状群(図示せ
ず)であってもよい。
【0040】この他にも、蠅の目レンズ又はその変形と
しては、例えば、多角錐、円錐台、または多角錐台の同
一形状かつ同一体種の形状を平面上に等方的に多数配列
したものを形成することができる。ここで、角錐または
角錐台として、正三角錐(または錐台)、正四角錐(ま
たは錐台)、正六角錐(または錐台)を用いると、平面
内に隙間なく配列でき、かつ形状も等方的であり、水平
および垂直方向とも同等な半値角を持たせることがで
き、場所による変動もなく好ましい。
【0041】また、微細エンボス層は、シート基材4の
表面、裏面いずれに形成してもよく、表裏両面に設ける
こともできる。両面に光拡散層を設ける例として、例え
ば、表面(液晶側)に図6のように、正六角角錐状の微
細レンズ素子61よりなる光拡散層を設け、裏面に図9
のように、同心円状の光拡散層を設けたものなどがあげ
られる。
【0042】これら形状の加工方法としては、例えば、
金属等のロール上に旋盤を用いて加工したり、数値
制御された切削加工機により、金属等の原型を加工した
後、原型自体を焼入れ加工させたり、または、原型から
電鋳法により凹凸形状を別の金属にさらに型取りしたも
のをミルとして用い、公知のミル加工法により金属ロー
ル状の版材に凹凸形状を加工する方法、版の法線方向
の断面形状が単純な場合には、公知の光腐蝕法を用いる
こともできる。
【0043】
【発明の効果】以上詳しく説明したように、本発明によ
れば、シート基材上に樹脂液を塗工して、予め設計され
たロール凹版の形状に樹脂を成形するので、所望の形状
の微細エンボス形状を忠実に再現できる。よって、所望
の拡散特性を持つものが高精度で製造できるうえ、画面
内の場所によるバラツキも生じ難い。
【0044】また、透明樹脂の表面に光拡散性の微細エ
ンボス形状を形成し、異物粒子を内部に分散させていな
いので、光の損失の少ない光拡散シートが得られる。
【0045】さらに、帯状ウエッブのシート基材を走向
させながら、ロール凹版を用いて輪転成形方式で微細エ
ンボスを形成し、かつ、その成形も電離放射線によって
即時硬化させるので、量産が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による光拡散シートの製造方法の実施形
態を示した工程図である。
【図2】本発明による光拡散シートの製造装置の実施形
態を示した図である。
【図3】透過型の光拡散シートを用いた液晶表示装置の
実施形態を示した図である。
【図4】反射型の光拡散シートを用いた液晶表示装置の
実施形態を示した図である。
【図5】実施形態に係る製造方法により製造される光拡
散シートの例を模式的に示した図である。
【図6】実施形態に係る製造方法により製造される光拡
散シートの例を模式的に示した図である。
【図7】実施形態に係る製造方法により製造される光拡
散シートの例を模式的に示した図である。
【図8】実施形態に係る製造方法により製造される光拡
散シートの例を模式的に示した図である。
【図9】実施形態に係る製造方法により製造される光拡
散シートの例を模式的に示した図である。
【図10】光拡散シートの光学特性を説明するための図
である。
【図11】光拡散シートの光学特性を説明するための図
である。
【図12】実施形態に係る光拡散シートの製造装置に用
いるロール凹版の他の例を示した図である。
【符号の説明】
1 ロール凹版 3 電離放射線硬化性樹脂液 4 シート基材 5 押圧ロール 6 送りロール 7 硬化装置 10 塗工装置 50〜90 光拡散シート 101 充填工程 102 接触工程 103 硬化工程 104 密着工程 105 剥離工程

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 透明樹脂シート基材へ塗工装置で所定量
    の電離放射線硬化性樹脂液を塗工する塗工工程と;光拡
    散性のある微細エンボス形状の型が形成されたロール凹
    版を回転させ、そのロール凹版の回転方向に同期して走
    向する前記透明樹脂シート基材を接触させ、同時に押圧
    ロールにより前記透明樹脂シート基材を前記ロール凹版
    へ押圧することにより、前記ロール凹版の少なくとも凹
    部に電離放射線硬化性樹脂液を充填する充填・接触工程
    と;前記充填・接触工程で前記シート基材が前記ロール
    凹版に接触している間に、前記ロール凹版と前記シート
    基材間にある電離放射線硬化性樹脂液に電離放射線を照
    射して硬化させる硬化工程と;前記硬化工程で硬化する
    前記電離放射線硬化性樹脂液と前記シート基材とを密着
    させる密着工程と;前記密着工程で密着した前記電離放
    射線硬化性樹脂液の硬化物と前記シート基材を前記ロー
    ル凹版から剥離する剥離工程と;を含む光拡散シートの
    製造方法。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の光拡散シートの製造方
    法において、 前記電離放射線硬化性樹脂液の粘度を5000cps以
    下としたことを特徴とする光拡散シートの製造方法。
  3. 【請求項3】 請求項2に記載の光拡散シートの製造方
    法において、 前記ロール凹版の表面温度を約15℃〜50℃とするこ
    とを特徴とする光拡散シートの製造方法。
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