JP2001021706A - 光拡散フィルム、面光源装置、及び表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光拡散フィルムの入射面に低屈折率層を形成
して入射光の透過率を高めて光の利用効率の高い光拡散
フィルム及びそれを用いた面光源装置と表示装置を提供
する。 【解決手段】 光透過性フィルム基材５１の一方の面に
光拡散層を設けた光拡散フィルムであって、該光拡散フ
ィルム５１の入射面の最表面に該光透過性フィルム基材
よりも屈折率が低い低屈折率層５３を形成して光拡散フ
ィルム５０とする。該光拡散フィルム５０は、法線方向
から６０°以上の入射角を有する入射光の透過率を高め
ることができ、光の利用効率が高いものとなる。該光拡
散フィルムは面光源装置、及び表示装置に適用できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光拡散フィルム、
及びそれを用いた面光源装置と表示装置に関し、とりわ
け光拡散フィルムの入射面の透過率を高めて光の利用効
率を高めた光拡散フィルムに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】各種ディスプレイあるいは照明器具にお
いて、光源からの光を均一に広げ視認性を高めるために
光拡散フィルムが用いられている。従来の光拡散フィル
ムは、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂等の光透過性樹脂からなる光透過性フィルム基材
の表面に凹凸を形成したり、あるいはポリメチルメタア
クリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂等の光透過性樹
脂からなる光透過性フィルム基材に光拡散剤を分散した
り、さらには光拡散剤を光透過性樹脂中に配合分散させ
た組成物を光透過性フィルム基材上に塗布したりして作
成される。

【０００３】また、面光源装置あるいは表示装置におい
て、光拡散フィルムは、通常、散乱ドットを有する導光
板と液晶パネルとの間に設置され、ケース内に設けられ
た光源からの光を拡散させるために使用されている。こ
のような目的の光拡散フィルムは、従来、数多く提案さ
れている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】光源からの光は、導光
板で均一に導かれて、その背面に形成される散乱ドット
により散乱されて導光板の出射面より出射する。その光
は、法線方向から６０°以上の斜めの光が大部分である
ため、光拡散フィルムの入射面の屈折率が高いと反射光
の割合が大きくなり光の利用効率が悪くなるという問題
がある。

【０００５】本発明は、このような点を考慮してなされ
たものであり、光拡散フィルムの入射面に低屈折率層を
形成して法線方向から６０°以上の入射角を有する入射
光の透過率を高めて光の利用効率の高い光拡散フィルム
及びそれを用いた面光源装置と表示装置を提供する。

【０００６】

【課題を解決するための手段】前記した課題を解決する
ために、本発明の光拡散フィルムは、光透過性フィルム
基材の一方の面に光拡散層を有する光拡散フィルムであ
って、該光拡散フィルムの入射面の最表面に該光透過性
フィルム基材よりも屈折率が低い低屈折率層を形成した
ことを特徴とする。光拡散フィルムの層構成を以上のよ
うにすることにより、法線方向から６０°以上の入射角
を有する入射光の透過率を高めることができ、光の利用
効率が高いものとなる。

【０００７】前記構成の本発明の光拡散フィルムにおい
て、光透過性フィルム基材と低屈折率な層の間に光透過
性フィルム基材よりも屈折率が高い高屈折率層を形成し
た場合には、法線方向から６０°以上の入射角を有する
入射光の透過率をさらに高めることができ、さらに光の
利用効率を高めることができる。

【０００８】前記光拡散フィルムの低屈折率層の表面を
微小な凹凸形状のマット状にした場合には、導光板との
密着を防止し、干渉ムラの発生を防止することができ
る。

【０００９】前記光拡散層の屈折率を光透過性フィルム
基材の屈折率よりも低くしてもよく、光拡散フィルムの
入射側における光の反射を防止し、光の利用効率を高め
ることができる。

【００１０】前記光拡散フィルムの少なくとも一方の面
の表面抵抗値を１０¹¹Ω／□以下とした場合には、光拡
散フィルムに帯電防止性能を与えることができる。

【００１１】側端部より入射した光を入射面と直交する
出射面より出射する導光板の出射面上に、前記した本発
明の光拡散フィルムを配置し、また、該光拡散フィルム
上にさらに１枚以上のプリズムシートを積層することに
より本発明の面光源装置とすることができる。

【００１２】前記面光源装置の出射側に液晶パネルを配
置することにより本発明の表示装置とすることができ
る。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、図１乃至図１６を参照して
本発明の実施の形態について説明する。

【００１４】表示装置 図１〜３は本発明の光拡散フィルムを用いた表示装置
（液晶ディスプレイ）の実施の形態を示す概念図であ
る。図１はプリズムシートを１枚使用した表示装置、図
２はプリズムシートを２枚使用した表示装置、図３はプ
リズムシートを使用しない表示装置である。

【００１５】図１〜３に示すように、表示装置１５は裏
面に光を散乱させるための散乱ドット１２を有する導光
板１１と、この導光板１１の裏面側に設けられた反射ケ
ース１４と、導光板１１に対して光を入射する光源１３
とを備えている。導光板１１の表面側（視認側）には、
更に光を拡散するための本発明の光拡散フィルム１０が
設けられており、図１に示すように光を集光するための
プリズムシート２及び液晶パネル７が順次設けられてい
る。

【００１６】なお、図２に示すようにプリズムシート２
と液晶パネル７との間に追加のプリズムシート２ａを設
け、この追加のプリズムシート２ａによりプリズムシー
ト２からの光を更に集光させてもよい。あるいは図３に
示すように、プリズムシートを全く用いなくてもよい。

【００１７】前記液晶表示装置における液晶パネル７で
使用される液晶モードとしては、ツイストネマティック
タイプ（ＴＮ）、スーパーツイストネマティックタイプ
（ＳＴＮ）、ゲスト−ホストタイプ（ＧＨ）、相転移タ
イプ（ＰＣ）、高分子分散タイプ（ＰＤＬＣ）等の何れ
であってもよい。

【００１８】又、液晶の駆動モードとしては、単純マト
リックスタイプ、アクティブマトリックスタイプのどち
らでもよく、アクティブマトリックスタイプの場合で
は、ＴＦＴ、ＭＩＭ等の駆動方式が取られる。

【００１９】本発明の光拡散フィルムの基本層構成 本発明の光拡散フィルムの基本層構成は、光透過性フィ
ルム基材の一方の面に透過した光を拡散するための光拡
散層を有し、光拡散フィルムの入射面の最表面に光透過
性フィルム基材の屈折率よりも低い低屈折率層を有して
いる。該低屈折率層は入射される光が反射されるのを防
止して、光の利用効率（透過効率）を高めるためのもの
である。光拡散層の種類の違いにより、図４、図５、図
６、図７、図８、図９に示す光拡散フィルムの基本的な
層構成、即ち、タイプＩ（図４）、タイプII（図５）、
タイプIII （図６）、タイプIV（図７）、タイプＶ（図
８）、タイプVI（図９）の光拡散フィルムが挙げられ
る。

【００２０】光透過性フィルム基材 光拡散フィルムを製造するための基材としての光透過性
フィルム基材は、賦形性、透明性、耐光性、コーティン
グ適性、可撓性の優れた材料が使用され、光透過性フィ
ルム基材上に電離放射線硬化型樹脂を適用する場合に
は、上記特性に加えて電離放射線の透過性が優れた材料
が用いられ、厚さは微細エンボス形状の加工のしやす
さ、使用される液晶表示素子の軽量・薄型化等の点か
ら、１２〜２００μｍ位の範囲のものが好ましく用いら
れる。

【００２１】光透過性フィルム基材の材質としては、ポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート
等のポリエステル、ポリメチルメタアクリレート、ポリ
メチルアクリレート、ポリエチルメタアクリレート、ポ
リエチルアクリレート等のメタアクリル酸又はアクリル
酸エステルの重合体（いわゆるアクリル樹脂）、ポリカ
ーボネート、三酢酸セルロース、ポリスチレン、ポリプ
ロピレン等が挙げられる。なお、光透過性フィルム基材
には、必要に応じて表面にコロナ放電処理などの易接着
処理を施すことが好ましい。

【００２２】タイプＩ（図４）の光拡散フィルムの基本
層構成 タイプＩの光拡散フィルム１０は、図４に示すように、
光透過性フィルム基材１表面に、光透過性樹脂３中にビ
ーズ状の光拡散材４を分散させた組成物をコーティング
することにより、光を拡散するための光拡散層を形成
し、光透過性フィルム基材１の裏面、即ち、光の入射面
の最表面に低屈折率層５を設けたものである。

【００２３】タイプＩの光拡散フィルム１０には、表面
形状として好ましくは次の二つの形態が挙げられる。そ
の第１の形態は、ビーズ状の光拡散材４が光透過性樹脂
３から突出して表面凹凸が大きいものである（図４
（ａ））。第２の形態は、該光拡散材４が光透過性樹脂
３中にほとんど埋没して表面凹凸が小さいものである
（図４（ｂ））。

【００２４】（１）光透過性樹脂（タイプＩの光拡散フ
ィルム） タイプＩ（図４）の形態の光拡散フィルム１０の光拡散
層に用いる、光透過性樹脂３としては、例えばポリエス
テル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポ
リエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリウレタ
ン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、
ポリビニルアルコール系樹脂、エポキシ系樹脂、セルロ
ース系樹脂、オルガノシロキサン系樹脂、ポリイミド系
樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリアリレート系樹脂等が
用いられる。この中でも、使用される光透過性フィルム
基材１及び光拡散材４によって異なるが、ポリエステル
系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂がコーティン
グ適性等の問題から特に望ましい。

【００２５】（２）光拡散材（タイプＩの光拡散フィル
ム） タイプＩ（図４）の形態の光拡散フィルム１０の光拡散
層に用いる、光拡散材４に使用されるものとしては、ア
クリル、有機シリコーン、ポリスチレン、ポリエチレ
ン、尿素樹脂、シリカ、炭酸カルシウム、酸化チタンを
主成分とするビーズあるいはフィラー及びそれらの中空
ビーズであることが望ましい。このうちアクリルビーズ
は耐候性等から特に望ましく、使用される光拡散材４の
平均粒子系は、１〜５０μが望ましい。またこれらの光
拡散材４は単独もしくは２種類以上の組み合わせで用い
ても良い。

【００２６】なお、上記光透過性フィルム基材１、光透
過性樹脂３及び光拡散材４中に、求められる性質に応じ
て、光安定剤、熱安定剤、帯電防止剤、その他の添加剤
を適宜添加配合しても良い。

【００２７】（３）光拡散材と光透過性樹脂との配合比
（タイプＩの光拡散フィルム） タイプＩ（図４）の形態の光拡散フィルム１０の光拡散
層に用いる、光拡散材４と光透過性樹脂３の好ましい配
合比は、使用される材料・屈折率・光拡散材の粒径等に
依存するが、光透過性樹脂１００重量部に対し、光拡散
材１０〜１５０重量部程度である。

【００２８】（４）タイプＩの光拡散フィルムの光学特
性 ビーズ状の光拡散材４が光透過性樹脂３から突出した光
拡散フィルム１０（図４（ａ））は、光の入射角が６０
°〜８５°のとき出射角のピークが３０°以上となり、
またそのヘイズ値は８５〜８８％となる。また光拡散材
４が光透過性樹脂３中にほとんど埋没している光拡散フ
ィルム１０（図４（ｂ））は、光入射角のピークが６０
°〜８５°のとき出射角の７０°以下となり、またその
ヘイズ値は８０％以上となる。

【００２９】光拡散フィルム１０の入射角と出射角の関
係について図１６に基づき説明する。一般に光源１３か
ら導光板１１を経た光は、光拡散フィルム１０に対して
６０°〜８５°の入射角で進入する。光拡散フィルム１
０に対して６０°の入射角で光が進入した場合、出射角
のピークは３０°〜７０°の範囲内となる。

【００３０】図１６では入射角６０°、出射角のピーク
３０°の場合を図１の構成にて示している。

【００３１】上記光拡散フィルム１０には、表１に示す
ものを用いることができる。

【００３２】

【表１】

【００３３】タイプII（図５）、タイプIII （図６）、
タイプIV（図７）、タイプＶ（図８）、タイプVI（図
９）の光拡散フィルムの基本層構成 上記タイプＩ（図４）の光拡散フィルムとは別の形態の
光拡散フィルムを図５〜図９に基づき説明する。

【００３４】図５の光拡散フィルムはタイプIIの形態の
光拡散フィルムである。図５（ａ）は平面図であり、図
５（ａ）における、Ｂ−Ｂの断面図を図５（ｂ）に、Ｃ
−Ｃの断面図を図５（ｃ）にそれぞれ示す。タイプIIの
光拡散フィルム５０は、光透過性フィルム基材５１上に
多数の半球形の光学素子５２を多数個形成してなる、光
を拡散するための光拡散層を設け、該光拡散層側とは反
対側の面、即ち、光の入射面の最表面に入射光の反射を
防止するための低屈折率層５３を設けたものである。光
拡散層の凹凸のピッチをｐ、厚みをｔで示す。

【００３５】図６の光拡散フィルムはタイプIII の形態
の光拡散フィルムである。図６（ａ）は平面図であり、
図６（ａ）における、Ｂ−Ｂの断面図を図６（ｂ）に、
Ｃ−Ｃの断面図を図６（ｃ）にそれぞれ示す。タイプII
I の光拡散フィルム６０は、光透過性フィルム基材６１
上に外側に向かって凹んだ側面を持った半球形の光学素
子６２を多数個形成してなる光拡散層を設け、該光拡散
層側とは反対側の面、即ち、光の入射面の最表面に入射
光の反射を防止するための低屈折率層６３を設けたもの
である。光拡散層の凹凸のピッチをｐ、厚みをｔで示
す。

【００３６】図７の光拡散フィルムはタイプIVの形態の
光拡散フィルムである。図７（ａ）は平面図であり、図
７（ａ）における、Ｂ−Ｂの断面図を図７（ｂ）に、Ｃ
−Ｃの断面図を図７（ｃ）にそれぞれ示す。タイプIV
（図７）の光拡散フィルム７０は、光透過性フィルム基
材７１上に円錐形の光学素子７２を多数個形成してなる
光拡散層を設け、該光拡散層側とは反対側の面、即ち、
光の入射面の最表面に入射光の反射を防止するための低
屈折率層７３を設けたものである。光拡散層の凹凸のピ
ッチをｐ、厚みをｔで示す。なお、頂角θ＝９０°、１
１０°、１２０°のいずれでも加工が可能である。

【００３７】図８の光拡散フィルムはタイプＶの形態の
光拡散フィルムである。図８（ａ）は平面図であり、図
（ａ）における、Ｂ−Ｂの断面図を図８（ｂ）に、図８
（ｃ）にその斜視図を示す。タイプＶ（図８）の光拡散
フィルム８０は、光透過性フィルム基材８１上に２等辺
三角形などのプリズム状の光学素子８２を多数個形成し
てなる光拡散層を設け、該拡光散層側とは反対側の面、
即ち、光の入射面の最表面に入射光の反射を防止するた
めの低屈折率層８３を設けたものである。ここで、頂角
θ＝９０°、１１０°、１２０°のいずれでも加工が可
能である。また、ピッチＰｍｉｎ＝７０μｍ程度であ
る。なお、図８（ｄ）に示すように、各光学素子８２の
間に、５〜１０μｍ程度のフラットな部分８４を設けれ
ば、より加工精度が向上する。

【００３８】図９の光拡散フィルムはタイプVIの形態の
光拡散フィルムである。図９（ａ）は平面図であり、図
９（ａ）における、Ｂ−Ｂの断面図を図９（ｂ）に示
す。タイプVI（図９）の光拡散フィルム９０は、光透過
性フィルム基材９１上にフレネルレンズ又はその変形の
形状をした光学素子９２を多数個形成してなる光拡散層
を設け、該光拡散層側とは反対側の面、即ち、光の入射
面の最表面に入射光の反射を防止するための低屈折率層
９３を設けたものである。なお、光学素子９２の凸部形
状が図９のように同心円環群ではなく、同心多角形
（３、４、５、６、７、８角形等）状の凸状群（図示せ
ず）であってもよい。

【００３９】タイプII〜VIの光拡散フィルムの製造方法 タイプII（図５）、タイプIII （図６）、タイプIV（図
７）、タイプＶ（図８）及びタイプVI（図９）の光拡散
フィルムの製造方法は、好ましくは、図１０の本発明の
光拡散フィルムの製造の工程図に従い行うことができ
る。

【００４０】図１０の光拡散フィルムの製造工程は、詳
しくは、次の（ａ）〜（ｅ）工程を含む。即ち、 （ａ）光拡散性をフィルムに付与することができる微細
エンボス形状の型が形成された凹部あるいは凸部を持つ
ロール版を回転させ、そのロール版に電離放射線硬化型
樹脂液を充填する充填工程； （ｂ）前記充填工程で前記ロール版に充填された前記電
離放射線硬化型樹脂液に対して、前記ロール版の回転方
向に同期して走向する光透過性フィルム基材を接触させ
る接触工程； （ｃ）前記接触工程で前記光透過性フィルム基材が前記
ロール版に接触している間に、前記ロール版と前記光透
過性フィルム基材間にある前記電離放射線硬化型樹脂液
に電離放射線を照射して硬化させる硬化工程； （ｄ）前記硬化工程で硬化する前記電離放射線硬化型樹
脂液と前記光透過性フィルム基材とを密着させる密着工
程； （ｅ）前記密着工程で密着した前記電離放射線硬化型樹
脂液の硬化物と前記光透過性フィルム基材を前記ロール
版から剥離する剥離工程；とを含む。

【００４１】図１０の光拡散フィルムの製造工程の特徴 図１０の光拡散フィルムの製造工程は次のような特徴を
持つ。即ち、凹部あるいは凸部をもつロール版によって
樹脂を成形するので、所望の形状の微細エンボス形状を
忠実に再現できる。また、透明樹脂からなる光透過性フ
ィルム基材の表面に光拡散性の微細エンボス形状を形成
しており、タイプＩの光拡散フィルムのように異物粒子
を内部に分散させていない。さらに、帯状ウェッブであ
る光透過性フィルム基材を走向させながら、ロール版を
用いて輪転成形方式で微細エンボスを形成し、かつ、そ
の成形も電離放射線によって即時硬化させることができ
るため、生産性が高い。

【００４２】図１１の光拡散フィルムの製造装置による
光拡散フィルムの製造 図１０の光拡散フィルムの製造工程を、図１１（Ａ）、
（Ｂ）の本発明の光拡散フィルムの製造装置を用いて実
施する場合について、さらに詳しく説明する。図１１
（Ａ）、（Ｂ）は、本発明の光拡散フィルムの製造装置
の実施の態様を示した図であり、（Ａ）は全体図、
（Ｂ）はロール凹版２１における電離放射線硬化型樹脂
液２３の硬化の実施の態様を示す部分図である。

【００４３】図１１に示す態様の光拡散フィルムの製造
装置において、２１は所望の凹凸が形成されたロール凹
版、２２はそのロール凹版２１の凹部、２３は電離放射
線硬化型樹脂液、２４は光透過性フィルム基材、２５は
ロール凹版２１に当接してロール凹版２１を押圧する押
圧ロール、２６は送りロール、２７ａは電離放射線硬化
型樹脂液２３を硬化するための硬化装置、２９は光拡散
フィルム、３０は電離放射線硬化型樹脂液２３をロール
凹版２１に塗工するための塗工装置、３１は溶剤乾燥装
置である。

【００４４】図１１に示す態様の光拡散フィルムの製造
装置による製造工程は、図１０の工程図に示すように、
充填工程１０１、接触工程１０２、硬化工程１０３、密
着工程１０４、剥離工程１０５とから構成される。

【００４５】充填工程１０１は、光拡散性のある微細エ
ンボス形状の型が形成されたロール凹版２１を回転さ
せ、そのロール凹版２１の少なくとも凹部２２に電離放
射線硬化型樹脂液２３を充填する工程である。

【００４６】接触工程１０２は、充填工程１０１でロー
ル凹版２１に充填された電離放射線硬化型樹脂液２３に
対して、ロール凹版２１の回転方向に同期して走向する
光透過性フィルム基材２４を接触させる工程である。

【００４７】硬化工程１０３は、接触工程１０２で光透
過性フィルム基材２４がロール凹版２１に接触している
間に、ロール凹版２１と光透過性フィルム基材２４間に
なる電離放射線硬化型樹脂液２３に、硬化装置２７ａか
らの電離放射線を照射して硬化させる工程である。

【００４８】密着工程１０４は、硬化工程１０３で硬化
する電離放射線硬化型樹脂液２３と光透過性フィルム基
材２４とを密着させる工程である。

【００４９】なお、硬化工程１０３と密着工程１０４
は、通常同時に進行する。剥離工程１０５は、密着工程
１０４で密着した電離放射線硬化型樹脂液２３の硬化物
２３ａと光透過性フィルム基材２４をロール凹版２１か
ら剥離する工程である。

【００５０】次に、主に図１１（Ａ）を参照しながら、
光拡散フィルムの製造装置について詳細に説明する。ロ
ール凹版２１は、円筒状の版材に、後述する所定形状の
凹部２２を設けたものである。このロール凹版２１は、
円筒状の版材に直接盤加工したり、電鋳法で形成したミ
ルによるミル加工等で切削する方法、電鋳法などにより
製造できる。ロール凹版２１の材質としては、銅、クロ
ム、鉄等の金属、ＮＢＲ、エポキシ、エボナイト等の合
成樹脂、ガラス等のセラミックス等を用いることができ
る。また、ロール凹版２１の大きさは、特に限定され
ず、製造しようとする凹凸表面を有するシートの大きさ
に応じて適宜選択することができる。なお、図示しない
が、ロール凹版２１には、駆動装置が設けられ回転駆動
するように形成されている。

【００５１】また、前述したように、電離放射線硬化型
樹脂液２３の粘度を所定の値に調整する方法として、ロ
ール凹版２１内部を中空とし、その中空部に適度の温度
に温度調整した水、油、蒸気等の液体を流入し、流出さ
せ、ロール凹版２１の版表面温度を所定値に制御する方
法が適用できる。一般に、高温になるほど粘度が下がる
が、高温すぎると電離放射線硬化型樹脂液２３の分解蒸
発等が起こるために、ロール凹版２１の版表面温度は樹
脂によっても異なるが約１５℃〜５０℃が好ましい。

【００５２】ここで、前記流体を流入、流出させるに
は、ロール凹版２１の回転軸の一方側から他方側に液体
を流す方式や、ロール凹版２１の内部に、送り管を挿入
し、送り管によってロール凹版２１の奥に送った流体を
ロール版２１の内部に、ロール凹版２１と略相似形の内
管を設け、ロール凹版２１と内管の間に液体を通す方式
や、ロール凹版２１の内部に開孔が多数設けられた送り
管を挿入し、送り管の開孔から噴射した流体をロール凹
版２１の内壁に沿って戻す方式などがあげられる。な
お、ロール凹版２１の表面を均一に温度調整するには、
後者の方式が好ましい。

【００５３】タイプII〜VIの光拡散フィルムに用いる電
離放射線硬化型樹脂液 タイプII〜VIの光拡散フィルムを製造するための電離放
射線硬化型樹脂液２３としては、分子中に重合性不飽和
結合又はエポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマー
及び／又は単量体を適宜混合した組成物を用いることが
できる。前記プレポリマー、オリゴマーとしては、不飽
和ジカルボン酸と多価アルコールの縮合物等の不飽和ポ
リエステル類、エポキシ樹脂、ポリエステルメタクリレ
ート、ポリエーテルメタクリレート、ポリオールメタク
リレート、メラミンメタクリレート等のメタクリレート
類、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレー
ト、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレー
ト、ポリオールアクリレート、メラミンアクリレート等
のアクリレート類等が挙げられる。

【００５４】また、前記単量体としては、スチレン、α
−メチルスチレン等のスチレン系単量体、アクリル酸メ
チル、アクリル酸−２−エチルへキシル、アクリル酸メ
トキシエチル、アクリル酸ブチル等のアクリル酸エステ
ル類、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸メトキシエチル、メタクリル酸エトキシメチル
等のメタクリル酸エステル類、アクリル酸−２−（Ｎ，
Ｎ−ジエチルアミノ）エチル等の不飽和酸の置換アミノ
アルコールエステル類、アクリルアミド、メタクリルア
ミド等の不飽和カルボン酸アミド、ジプロピレングリコ
ールジアクリレート、エチレングリコールアクリレー
ト、プロピレングリコールジメタクリレート、ジエチレ
ングリコールジメタクリレート等の多官能性化合物、ビ
ニルピロリドン、及び／又は分子中に２個以上のチオー
ル基を有するポリチオール化合物、例えば、トリメチロ
ールプロパントリチオグリコレート、トリメチロールプ
ロパントリチオプロピレート、ペンタエリスリトールテ
トラチオグリコール等が挙げられる。

【００５５】特に、硬化を紫外線によって行う場合に
は、前記電離放射線硬化型樹脂液の組成物に光重合開始
剤として、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒ
ラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステ
ル、テトラメチルメウラムモノサルファイド、チオキサ
ントン類、及び／又は光増感剤としてｎ−ブチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等
を混合して用いることもできる。また、前記光拡散フィ
ルムの製造方法のように細かな凹部２２を持ったロール
凹版２１の形状に忠実に沿うためには、粘度は５０００
ｃｐｓ以下、特に、１０００ｃｐｓ以下にすることが好
ましい。

【００５６】光拡散フィルム製造装置の細部 タイプII〜VIの光拡散フィルムを製造するための図１１
の光拡散フィルム製造装置において、押圧ロール２５
は、光透過性フィルム基材２４を押圧できればよいが、
通常直径１４０ｍｍ程度の大きさで、その材質はシリコ
ンゴム、ＮＢＲ、ＥＰＴ等で形成することができる。押
圧ロール２５及び送りロール２６は、光透過性フィルム
基材２４を送るために回転自在となっている。これらは
ロール凹版２１とつれ回る形式でもよいが、駆動装置
（図示していない）により駆動することもできる。ま
た、光透過性フィルム基材２４を送り出すシート供給装
置（図示していない）及び微細エンボスを形成したシー
トを巻き取る巻き取り装置（図示していない）を設ける
こともできる。

【００５７】硬化装置２７ａは、電離放射線を照射し
て、電離放射線硬化型樹脂液２３を硬化させる装置であ
る。なお、硬化装置２７ａによる照射を受け、その後、
凹部２２から脱離した電離放射線硬化型樹脂の硬化物２
３ｂを完全に硬化させるために、さらに硬化装置２７ｂ
を設けても良い。ここで、電離放射線とは、電磁波又は
荷電粒子線のうち、分子を重合、架橋し得るエネルギー
量子を有するものを意味し、通常、紫外線、電子線等が
用いられる。硬化装置２７ａ、２７ｂとして、紫外線の
場合には超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カー
ボンアーク、ブラックライトランプ、メタルハライドラ
ンプ等の光源を用いることができる。

【００５８】また、電子線の場合には、コックロフトワ
ルトン型、バンデグラフ型、共振変圧器型、絶縁コア変
圧器型、あるいは直線型、ダイナミトロン型、高周波型
等の各種電子線加速器等の照射源を備えた装置を用いる
ことができ、１００〜１０００ｋｅＶ、好ましくは１０
０〜３００ｋｅＶのエネルギーを持つ電子線を照射す
る。照射線量としては、通常０．５〜３０Ｍｒａｄ程度
が好ましい。

【００５９】塗工装置３０は、電離放射線硬化型樹脂液
２３をロール凹版２１に塗工するための装置であり、ノ
ズル塗工装置を用いることが望ましい。このノズル塗工
装置は、所定寸法のノズルがＴダイ状の長方形又は線状
の吐出口を有し、その吐出口の長手方向がロール凹版２
１の回転方向と直交する方向（横方向）に設置されてお
り、ロール凹版２１の全幅のうちの所定の幅をカバーす
るように設けられ、電離放射線硬化型樹脂液２３を加圧
してカーテン状にロール凹版２１上へ吐出するための吐
出装置を備えている。また、ノズル塗工装置は、吐出量
のムラ、経時変化を緩和するために、ノズルの途中に空
洞３２を設けると良い。さらに、塗工装置３０として
は、上記以外にも光透過性フィルム基材２４にロールコ
ート法、ナイフコート法等の適当な手段による塗工装置
を採用してもよい。

【００６０】また、図示はしていないが、電離放射線硬
化型樹脂液２３をロール凹版２１上へではなく、光透過
性フィルム基材２４上に塗工した後に、押圧ロール２５
によって、ロール凹版２１に光透過性フィルム基材２４
上の塗膜面を押圧することもできる。なお、気泡の混入
がなく、微小凹凸を忠実に再現するためには、ロール凹
版２１側に電離放射線硬化型樹脂液２３を塗工する方が
好ましい。

【００６１】溶剤乾燥装置３１は、樹脂の溶剤を揮発さ
せるための装置である。溶剤乾燥装置３１としては、温
風や赤外線ヒータ等を用いることができる。この溶剤乾
燥装置３１を設けることにより、溶剤型の樹脂を用いる
ことができるために、使用する樹脂の選択の幅が広がり
塗工性の調和も容易になる。なお、無溶剤型の電離放射
線硬化型樹脂液２３を用いる場合には、溶剤乾燥装置３
１は不要である。

【００６２】図１１の製造装置の動作及び光拡散フィル
ムの製造方法 図１１に示した光拡散フィルムの製造装置の動作ととも
に、タイプII（図５）、タイプIII （図６）、タイプIV
（図７）、タイプＶ（図８）及びタイプVI（図９）の光
拡散フィルムの製造方法を説明する。まず、ロール凹版
２１の凹部２２に、電離放射線硬化型樹脂液２３を塗工
装置３０により充填し（充填工程１０１）、光透過性フ
ィルム基材２４をロール凹版２１に充填させた電離放射
線硬化型樹脂液２３にも接するように接触させる（接触
工程１０２）。ここで、電離放射線硬化型樹脂液２３を
ロール凹版２１の凹部２２に充填する方法としては、図
１１に示すように、ロール凹版２１の表面に、予め電離
放射線硬化型樹脂液２３を所定量塗工しておいて、光透
過性フィルム基材２４をロール凹版２１へ供給したとき
に、押圧ロール２５の基材背面側からの押圧により、光
透過性フィルム基材２４を介して、塗工されている電離
放射線硬化型樹脂液２３を凹部２２内に配分充填させ
る。

【００６３】この場合に、溶剤タイプの硬化性樹脂が使
用でき、光透過性フィルム基材２４に塗工された電離放
射線硬化型樹脂液２３は、流動性をある程度制御するた
めに、その電離放射線硬化型樹脂液２３の溶剤を希釈す
るために使用した溶剤などを乾燥装置３１により乾燥除
去し、さらに、硬化装置２７ａは、図１１（Ａ）に示す
ように１個でも良いが、図１１（Ｂ）に示すように、複
数個（この実施の態様では、５個）の硬化装置２７ａ−
１〜２７ａ−５を設け、ロール凹版２１内の電離放射線
硬化型樹脂液２３を多段階に硬化させるようにしてもよ
い。このようにすれば、光透過性フィルム基材２４の走
向速度を速くしても、十分な照射量が得られ、また、徐
々に硬化させることにより、電離放射線硬化型樹脂液２
３の硬化物２３ｂの歪み、光透過性フィルム基材２４の
カールや歪みを低減するために好ましい。

【００６４】次いで、光透過性フィルム基材２４がロー
ル凹版２１に接している間（具体的には、図１１中の押
圧ロール２５と送りロール２６との間に位置している時
期）に、硬化装置２７ａにより電離放射線硬化型樹脂液
２３を硬化させる（硬化工程１０３）。

【００６５】なお、この実施の態様では、硬化装置２７
ａにより電離放射線を照射する場合には、光透過性フィ
ルム基材２４側から行われるが、ロール凹版２１を石
英、ガラス等の電離放射線の透過性がよい材質により形
成して、ロール凹版２１の内部側より照射することもで
きる（具体的にはロール中空内に設置した照射装置によ
り）。また光透過性フィルム基材２４側とロール凹版２
１内部側との両面から照射してもよい。

【００６６】硬化装置２７ａにより、ロール凹版２１の
凹部２２内にある電離放射線硬化型樹脂液２３ａを硬化
させて光透過性フィルム基材２４と密着させる（密着工
程１０４）。このとき、硬化度合は、少なくとも電離放
射線硬化型樹脂液２３ａの流動性を失わせ、且つ、光透
過性フィルム基材２４との密着性を生じさせる程度であ
ればよい。

【００６７】硬化装置２７ａを通過した後、光透過性フ
ィルム基材２４をロール凹版２１から剥離する（剥離工
程１０５）。これにより、電離放射線硬化型樹脂液の硬
化物２３ｂが光透過性フィルム基材２４と一体になっ
て、凹部２２から脱離され、凹凸表面を有する光拡散フ
ィルム２９が得られる。

【００６８】光拡散フィルムの重要な特徴 図１２及び図１３は、光拡散フィルムの光学特性を説明
するための図である。光拡散フィルムは、光源（線光源
又は点光源）からの光線を拡散透過又は拡散反射させる
ものであるが、重要な光学特性は、以下の〜の通り
である。

【００６９】 光拡散フィルムは、曇り（摺り）硝子
のように、全く等方的に光を拡散すると、実用上不要な
光拡散フィルムの接線方向へも光が分散され、光の利用
効率が低くなる。このために、実用上、観察者が観察す
る角度範囲内のみ光を拡散させるようにする。この角度
範囲として、具体的には、半値角θ_H があげられる。半
値角θ_H は、表示画面の法線方向Ｎの透過率（又は反射
率）が法線方向Ｎからの角度の増加に伴って減衰し、光
強度Ｉの最大値Ｉ₀ （θ＝０）が法線方向Ｎの透過率
（又は反射率）の１／２まで減衰する角度範囲をいう
（図１２参照）。

【００７０】半値角θ_H は、用途にもよるが、一般的に
は、水平方向、垂直方向とも１０°≦θ_H ≦６０°程度
が好ましい。より好ましくは、４０°≦θ_H ≦６０°程
度である。ただし、テレビジョンやワードプロセッサ、
電子計算機等のモニタの用途では主に水平方向の視野が
要求されるために、水平方向半値角θ_HH、垂直方向半値
角θ_HVを各々、４０°≦θ_HH≦６０°、１０°≦θ_HV≦
２０°程度にすると、光エネルギーの利用効率が良好で
かつ画面も見やすい（図１３参照）。

【００７１】次に、光の透過率（又は反射率）及びそ
の角度依存性は、光拡散フィルムの部位によって変動が
なく均一である必要がある。

【００７２】以上のを満たすように形状を設計す
るが、好ましい形状としては図４〜図９に示した各タイ
プの光拡散フィルムがあげられる。そのうち、図４〜図
９の光拡散フィルムは、いわゆる蝿の目レンズ又はその
変形例である。

【００７３】タイプＩ〜VI以外の光拡散層を持つ光拡散
フィルム 本発明の光拡散フィルムは、前記タイプＩ〜VI（図４〜
図９）の形態の光拡散層を持つ光拡散フィルム以外に
も、蝿の目レンズ又はその変形として、例えば、多角
錐、円錐台、又は多角錐台の同一形状かつ同一体種の形
状を光透過性フィルム基材上に等方的に多数配列したも
のを形成したものも使用できる。ここで、角錐又は角錐
台として、正三角錐（又は錐台）、正四角錐（又は錐
台）、正六角錐（又は錐台）を用いると、平面内に隙間
なく配列でき、かつ形状も等方的であり、水平及び垂直
方向とも同等な半値角を持たせることができ、場所によ
る変動もなく好ましい。これらの光拡散フィルムは、前
記した光拡散フィルムと同様な手段、同様な材料で製造
することができる。

【００７４】光拡散層の形成部位 光拡散層は、光透過性フィルム基材の表面、裏面いずれ
に形成してもよく、表裏両面に設けることもできる。両
面に光拡散層を設ける場合には、同一の形態の光拡散層
を設けても、異なる形態の光拡散層を設けてもよい。例
えば、光拡散フィルムにおいて、表面（液晶側）に図６
の円錐形の光学素子６２よりなる光拡散層を設け、裏面
に図９の同心円状の光学素子９２よりなる光拡散層を設
けたものなどがあげられる。

【００７５】ロール版の加工方法 これら光拡散層を形成するためのロール版の凹凸形状の
加工方法としては、例えば、 金属等のロール版上に施盤を用いて加工する方法； 数値制御された切削加工機により、金属等の原型を加
工した後、原型自体を焼入れ加工させたり、又は、原型
から電鋳法により凹凸形状別の金属にさらに型取りした
ものをミルとして用い、公知のミル加工法により金属ロ
ール状の版材に凹凸形状を加工する方法； ロール版の法線方向の断面形状が単純な場合には、公
知の光腐蝕法；を用いることもできる。

【００７６】マット層、低屈折率層 光拡散フィルムと導光板の接する面が両方ともにフラッ
トな場合、密着するために干渉ムラが発生する問題があ
る。これを防止するためには、光拡散フィルムの光の入
射面に微小突起のマット表面を有するマット層を設ける
ことが必要である。

【００７７】一方、通常、光拡散フィルムへの入射光
は、前述したように入射面に対して６０°以上の浅い角
度で入射する場合が多く、光拡散フィルムにおける光透
過性フィルム基材の屈折率が高い場合には全反射して反
射率が高く、光が有効に透過しない問題がある。それを
防止する手段として、入射面の最表面に低屈折率な層を
設けることにより反射率を下げて光を有効に透過させ
る、或いは、さらに光透過性フィルム基材より屈折率の
高い層を低屈折率層と透過性フィルム基材間に設けるこ
とで、よりいっそう反射率を低下させて、光の透過性を
増大させることが有効である。

【００７８】本発明は、このマット表面を有するマット
層を低屈折率層あるいは高屈折率層とすることができ
る。但し、マットを必要以上に設けると透過率が低下す
るため、マット層によるヘイズ値は、３０以下であるこ
とが望ましい。

【００７９】図１４（ａ）〜（ｃ）にマット層を有し、
入射面の最表面に低屈折率層を設けた各種層構成の本発
明の光拡散フィルムの態様を示す。

【００８０】図１４（ａ）は、光透過性フィルム基材１
２１上の出射側に光拡散層１２２を形成し、光透過性フ
ィルム基材１２１上の入射側に、光透過性樹脂１２３と
マット材１２４としての微粒子を混入して表面がマット
状となったマット層１２０を形成し、さらに入射側の最
表面には、光透過性フィルム基材１２１の屈折率よりも
低い低屈折率層１２５を形成して、該低屈折率層１２５
の表面もマット表面としてなる光拡散フィルムである。

【００８１】図１４（ｂ）は、光透過性フィルム基材１
２１上の出射側に光拡散層１２２を形成し、光透過性フ
ィルム基材１２１上の入射側に、マット材を混入してい
ない光透過性樹脂１２３を塗布し、表面をマット状に形
成したマット層１２０を設け、さらに入射側の最表面に
は、光透過性フィルム基材１２１の屈折率よりも低い低
屈折率層１２５を形成して、該低屈折率層１２５の表面
もマット表面としてなる光拡散フィルムである。

【００８２】図１４（ｃ）は、光透過性フィルム基材１
２１上の出射側に光拡散層１２２を形成し、光透過性フ
ィルム基材１２１の入射側の面をマット状に凹凸を付与
してマット面とし、さらに該マット面上に光透過性フィ
ルム基材１２１の屈折率よりも低い低屈折率層１２５を
形成して、該低屈折率層１２５の表面もマット表面とし
てなる光拡散フィルムである。

【００８３】マット層１２０或いはマット面を形成する
方法としては、前述したようなロール版に光透過性樹脂
１２３を充填し光透過性フィルム基材１２１と密着させ
ながら硬化、転写する方法やマット材１２４と光透過性
樹脂１２３からなるコート剤をコーティングする方法も
用いることが可能である。

【００８４】また、光透過性フィルム基材１２１に対し
て、光透過性樹脂１２３を塗布し、この塗布層の上か
ら、表面に表面粗さＲａが１．２μｍ以下の微細な凹凸
が形成された賦型フィルムを、該表面が前記塗布層に接
するようにラミネートし、次に、前記光透過性樹脂１２
３が電子線あるいは紫外線硬化型樹脂の場合は、これら
の樹脂に対して電子線あるいは紫外線を賦型フィルムを
介して照射し、又溶剤乾燥型樹脂の場合は賦型フィルム
を介して加熱して硬化した後、賦型フィルムを硬化した
マット層１２０から剥離することによっても、凹凸を形
成することが可能である。

【００８５】前記低屈折層１２５を形成する光透過性樹
脂１２３としては、主として紫外線・電子線によって硬
化する樹脂、即ち、電離放射線硬化型樹脂、電離放射線
硬化型樹脂に熱可塑性樹脂と溶剤を混合したもの、熱硬
化型樹脂の３種類が使用される。

【００８６】電離放射線硬化型樹脂組成物の被膜形成成
分は、好ましくは、アクリレート系の官能基を有するも
の、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエ
ーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹
脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタ
ジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコー
ル等の多官能化合物の（メタ）アルリレート等のオリゴ
マー又はプレポリマー及び反応性希釈剤としてエチル
（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリ
レート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリ
ドン等の単官能モノマー並びに多官能モノマー、例え
ば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレー
ト、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロ
ピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレン
グリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリト
ールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトー
ルヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオ
ールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール
ジ（メタ）アクリレート等を比較的多量に含有するもの
が使用できる。

【００８７】更に、上記電離放射線硬化型樹脂組成物を
紫外線硬化型樹脂組成物とするには、この中に光重合開
始剤としてアセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒ
ラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステ
ル、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、チオキ
サントン類や、光増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリ
エチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等を混合し
て用いることができる。特に本発明では、オリゴマーと
してウレタンアクリレート、モノマーとしてジペンタエ
リスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等を混合する
のが好ましい。

【００８８】更に、上記マット層１２０を形成するため
の光透過性樹脂１２３として、上記のような電離放射線
硬化型樹脂に対して溶剤乾燥型樹脂を含ませてもよい。
前記溶剤乾燥型樹脂には、主として熱可塑性樹脂が用い
られる。電離放射線硬化型樹脂組成物に溶剤乾燥型樹脂
を含ませることは次のような利点がある。

【００８９】電離放射線硬化型樹脂組成物をメタリング
ロールを有するロールコータで光透過性フィルム基材１
２１に塗布する場合、メタリングロール表面の液状残留
樹脂膜が流動して経時で筋やムラ等になり、これらが塗
布面に再転移して塗布面に筋やムラ等の欠点を生じる
が、上記のように電離放射線硬化型樹脂組成物に溶剤乾
燥型樹脂を含ませると、このような塗布面の塗膜欠陥を
防ぐことができる。

【００９０】上記のような電離放射線硬化型樹脂組成物
の硬化方法としては、通常の硬化方法、即ち電子線又は
紫外線の照射によって硬化することができる。

【００９１】ＫｅＶのエネルギーを有する電子線等が使
用され、紫外線硬化の場合には超高圧水銀灯、高圧水銀
灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メ
タルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用
できる。

【００９２】前記電離放射線硬化型樹脂に混合される熱
可塑性樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジア
リルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、
不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ
樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹
脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が使用され、こ
れらの樹脂に必要に応じて架橋剤、重合開始剤等の硬化
剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤を加えて使用する。

【００９３】前記マット層１２０に含有させる光透過性
のマット材１２４としては、プラスチックビーズが好適
であり、特に透明度が高く、マトリックス樹脂（光透過
性樹脂１２３）との屈折率差が前述のような数値になる
ものが好ましい。

【００９４】プラスチックビーズとしては、スチレンビ
ーズ（屈折率１．５９）、メラミンビーズ（屈折率１．
５７）、アクリルビーズ（屈折率１．４９）、アクリル
−スチレンビーズ（屈折率１．５４）、ポリカーボネー
トビーズ、ポリエチレンビーズ、塩ビビーズ等が用いら
れる。これらのプラスチックビーズの粒径は、前述のよ
うに０．１〜５μｍのものを適宜選択して用いる。上記
プラスチックビーズのうち、スチレンビーズが特に好ま
しく用いられる。

【００９５】有機フィラーとしての光透過性のマット材
１２４を添加した場合には、樹脂組成物（光透過性樹脂
１２３）中で有機フィラーが沈降し易いので、沈降防止
のためにシリカ等の無機フィラーを添加してもよい。な
お、無機フィラーは添加すればする程有機フィラーの沈
降防止に有効であるが、塗膜の透明性に悪影響を与え
る。従って、好ましくは、粒径０．５μｍ以下の無機フ
ィラーを、光透過性樹脂１２３に対して塗膜の透明性を
損なわない程度に、０．１重量％未満程度含ませると沈
降を防止することができる。

【００９６】有機フィラーの沈降防止のための沈降防止
剤である無機フィラーを添加しない場合は、光透過性フ
ィルム基材１２１への塗布時に有機フィラーが底に沈殿
しているので、よく掻き混ぜて均一にして使用すればよ
い。

【００９７】ここで、一般に電離放射線硬化型樹脂の屈
折率は約１．５で、ガラスと同程度であるが、前記光透
過性のマット材１２４の屈折率との比較において、用い
る樹脂の屈折率が低い場合には、該光透過性樹脂１２３
に、屈折率の高い微粒子であるＴｉＯ₂ （屈折率；２．
３〜２．７）、Ｙ₂ Ｏ₃ （屈折率；１．８７）、Ｌａ ₂
Ｏ₃ （屈折率；１．９５）、ＺｒＯ₂ （屈折率；２．０
５）、Ａｌ₂ Ｏ₃ （屈折率；１．６３）等を塗膜の拡散
性を保持できる程度に加えて、屈折率を上げて調整する
ことができる。

【００９８】本発明において用いられる低屈折率層１２
５に使用される樹脂組成物には、例えば、シリコン含有
フッ化ビニリデン共重合体が好ましく用いられ、具体的
には、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフ
ルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組
成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重
量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレ
ン性不飽和基を有する重合性化合物８０〜１５０重量部
とからなる樹脂組成物が好ましく用いられる。この樹脂
組成物を用いて、膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって、
且つ耐擦傷性が付与された屈折率１．６０未満（好まし
くは１．４５以下）の低屈折率層１２５を形成すること
ができる。

【００９９】この低屈折率層１２５に用いられる前記フ
ッ素含有共重合体は、フッ化ビニリデンとヘキサフルオ
ロプロピレンとを含有するモノマー組成物を共重合する
ことによって得られる共重合体であり、当該モノマー組
成物における各成分の割合は、フッ化ビニリデンが３０
〜９０重量％、好ましくは４０〜８０重量％、特に好ま
しく４０〜７０重量％であり、又ヘキサフルオロプロピ
レンが５〜５０重量％、好ましくは１０〜５０重量％、
特に好ましくは１５〜４５重量％である。このモノマー
組成物は、更にテトラフルオロエチレンを０〜４０重量
％、好ましくは０〜３５重量％、特に好ましくは１０〜
３０重量％含有するものであってもよい。

【０１００】又、このフッ素含有共重合体を得るための
モノマー組成物は、本発明の目的及び効果が損なわれな
い範囲において、他の共重合体成分が、例えば、２０重
量％以下、好ましくは１０重量％以下の範囲で含有され
たものであってもよい。ここに、当該他の共重合成分の
具体例として、例えばフルオロエチレン、トリフルオロ
エチレン、クロロトリフルオロエチレン、１，２−ジク
ロロ−１，２−ジフルオロエチレン、２−ブロモ−３，
３，３−トリフルオロエチレン、３−ブロモ−３，３−
ジフルオロプロピレン、３，３，３−トリフルオロプロ
ピレン、１，１，２−トリクロロ−３，３，３−トリフ
ルオロプロピレン、α−トリフルオロメタクリル酸等の
フッ素原子を有する重合性モノマーを挙げることができ
る。

【０１０１】このようなモノマー組成物から得られるフ
ッ素含有共重合体は、そのフッ素含有割合が６０〜７０
重量％、特に好ましくは６４〜６８重量％である。

【０１０２】このフッ素含有共重合体は、特にそのフッ
素含有割合が上述の特定の範囲であることにより、後述
の溶剤に対して良好な溶解性を有する。また、このよう
なフッ素含有共重合体を成分として含有することによ
り、種々の基材に対して優れた密着性を有し、高い透明
性と低い屈折率を有すると共に十分に優れた機械的強度
を有する薄膜を形成するので、基材の表面の耐擦傷性等
の機械的特性を十分に高いものとすることができ、極め
て好適である。

【０１０３】このフッ素含有共重合体は、その分子量が
ポリスチレン換算数平均分子量で５０００〜２００００
０、特に１００００〜１０００００であることが好まし
い。このような大きさの分子量を有するフッ素含有共重
合体を用いることにより、得られるフッ素系樹脂組成物
の粘度が好適な大きさとなり、従って、確実に好適な塗
布性を有するフッ素系樹脂組成物とすることができる。

【０１０４】更に、フッ素含有共重合体は、それ自体の
屈折率が１．４５以下、特に１．４２以下、更に１．４
０以下であるものが好ましい。屈折率が１．４５を超え
るフッ素含有共重合体を用いた場合には、得られるフッ
素系塗料により形成される薄膜が反射防止効果の小さい
ものとなる場合がある。

【０１０５】本発明において用いられる重合性化合物
は、光重合開始剤の存在下又は非存在下で活性エネルギ
ー線が照射されることにより、又は熱重合開始剤の存在
下で加熱されることにより、付加重合を生ずるエチレン
性不飽和基を有する化合物でる。

【０１０６】このような重合性化合物の具体例として
は、例えば、特開平８−９４８０６号に挙げるものを使
用することができる。これらの化合物のうち、ジペンタ
エリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエ
リスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエ
リスリトールペンタ（メタ）アクリレート、及びカプロ
ラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）ア
クリレートが特に好ましい。

【０１０７】用いる重合性化合物が、エチレン性不飽和
基を１分子中に３個以上含有するものである場合には、
得られるフッ素系樹脂組成物は、特に、基材に対する密
着性及び基材の表面の耐擦傷性等の機械的特性が極めて
良好な薄膜を形成するものとなる。

【０１０８】重合性化合物の使用量は、フッ素含有共重
合体１００重量部に対して３０〜１５０重量部、好まし
くは３５〜１００重量部、特に好ましくは４０〜７０重
量部である。

【０１０９】この重合性化合物の使用割合が過小である
と、得られる塗料によって形成される薄膜は、基材に対
する密着性が低いものとなり、一方、使用割合が過大で
あると、形成される薄膜は屈折率の高いものとなって良
好な反射防止効果を得ることが困難となる。

【０１１０】前記フッ素系樹脂組成物においては、フッ
素含有共重合体及び重合性化合物を含む重合体形成成分
の合計量におけるフッ素含有割合が３０〜５５重量％、
特に３５〜５０重量％であることが好ましい。このよう
な条件が満足される場合には、本発明の目的及び効果を
更に十分に達成する薄膜を確実に形成することができ
る。フッ素含有割合が過大であるフッ素系樹脂組成物に
よって形成される薄膜は、基材に対する密着性が低いも
のとなる傾向と共に、基材の表面の耐擦傷性等の機械的
特性が若干低下するものとなり、一方、フッ素含有割合
が過小であるフッ素系樹脂組成物により形成される薄膜
は、屈折率が大きいものとなって反射防止効果が低下す
る傾向が生じる。

【０１１１】前記低屈折のマット層１２０においては、
低屈折率層１２５が、フッ化ビニリデン３０〜９０重量
％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有
するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合
が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重
量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０
〜１５０重量部からなる樹脂組成物を用いて形成されて
いるので、特にそのフッ素含有共重合体中においてヘキ
サフルオロプロピレン５〜５０重量％のモノマー成分を
含んでいるので、この樹脂組成物の塗布により形成され
る低屈折率層１２５において、１．４５以下の低屈折率
を実現することができ、又、特に、そのフッ素含有共重
合体中においてフッ化ビニリデン８０〜９０重量％のモ
ノマー成分を含んでいるため、得られる樹脂組成物の溶
剤溶解性が増し、塗布適性が良好となり、その膜厚を反
射防止に適した２００ｎｍ以下の薄膜とすることができ
る。更に、塗布される樹脂組成物中にエチレン性不飽和
基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部が含まれて
いるため、得られる塗膜は耐擦傷性の機械的強度の優れ
たものとなる。又、 各樹脂成分は透明性が高いため、こ
れらの成分を含有した樹脂組成物を用いて形成された低
屈折率層１２５は、透明性に優れている。

【０１１２】前記低屈折層１２５では、接する空気から
その内部に至るまで、空気層（屈折率１．０）、低屈折
率層１２５（屈折率１．６０未満、好ましくは１．４５
以下）、マット層１２０（屈折率１．５０以上）、光透
過性フィルム基材１２１（マット層１２０より低くある
いはほぼ同様の屈折率）とすることにより、効率のよい
反射防止を行うことができる。望ましくは、マット層１
２０の屈折率が光透過性フィルム基材１２１の屈折率よ
りも高く構成されることであり、このような場合には、
光透過性フィルム基材１２１とマット層１２０との間の
界面における反射を防止する効果が更に付加される。前
記低屈折率層１２５に使用される溶剤は、当該フッ素系
樹脂組成物の塗布性及び形成される薄膜の基材に対する
密着性の点から、７６０ヘクトパスカルの圧力下におけ
る沸点が５０〜２００℃の範囲内のものが好ましい。

【０１１３】このような溶剤の具体例としては、例えば
アセトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、メチル
エチルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、シクロヘキサノン、ギ酸メチル、ギ酸プロピ
ル、ギ酸イソプロピル、ギ酸ブチル、酢酸メチル、酢酸
エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチ
ル、酢酸イソブチル、酢酸第二ブチル、酢酸アミル、酢
酸イソアミル、酢酸第二アミル、プロピオン酸メチル、
プロピオン酸エチル、酪酸メチル、酪酸エチル、乳酸メ
チル等のケトン類又はカルボン酸エステル類よりなる溶
剤を挙げることができる。これらの溶剤は単一でも２成
分以上の混合物でもよく、更に上記に例示したもの以外
の溶剤を、樹脂組成物の性能が損なわない範囲で加える
こともできる。

【０１１４】溶剤の使用量は、フッ素含有共重合体と、
重合性化合物との合計量１００重量部に対して、通常２
００〜１００００重量部、好ましくは１０００〜１００
００重量部、特に好ましくは１２００〜４０００重量部
である。

【０１１５】溶剤の使用量をこの範囲とすることによ
り、フッ素系樹脂組成物の粘度の大きさを、樹脂組成物
として好ましい塗布性が得られる０．５〜５ｃｐｓ（２
５℃）、特に０．７〜３ｃｐｓ（２５℃）の範囲のもの
とすることが容易であり、その結果、当該フッ素系樹脂
組成物により、可視光線の反射防止膜として実用上好適
な均一で塗布ムラのない厚さ１００〜２００ｎｍの薄膜
を容易に形成することができ、しかも基材に対する密着
性が特に優れた薄膜を形成することができる。

【０１１６】本発明の光拡散フィルムの低屈折率層に使
用されるフッ素系樹脂組成物は、含有される重合性化合
物のエチレン性不飽和基が重合反応することによって硬
化するものであり、従って、当該樹脂組成物が塗布され
て形成された塗膜に対し、当該重合性化合物を重合反応
させる硬化処理が施されて固体状の薄膜が形成される。

【０１１７】このような硬化処理の手段として、当該フ
ッ素系樹脂組成物の塗膜に活性エネルギー線を照射する
手段、又は塗膜を加熱する手段が利用され、これによ
り、本発明が目的とする硬化状態の薄膜を確実に且つ容
易に形成することができるので、実際上極めて有利であ
り、薄膜形成操作の点においても便利である。

【０１１８】本発明の光拡散フィルムに使用されるフッ
素系樹脂組成物を活性エネルギー線の照射によって硬化
処理する場合において、活性エネルギー線として電子線
を用いるときは、当該フッ素系樹脂組成物には特に重合
開始剤を添加することなしに、所期の硬化処理を行うこ
とができる。

【０１１９】又、硬化処理のための活性エネルギー線と
して、紫外線あるいは可視光線の如き光線を用いる場合
には、当該活性エネルギー線の照射を受けて分解して、
例えばラジカルを発生し、それによって重合性化合物の
重合反応を開始させる光重合開始剤がフッ素系樹脂組成
物に添加される。

【０１２０】このような光重合開始剤の具体例には、前
述の特開平８−９４８０６号に開示されているものが挙
げられ、１−ヒドロキシルシクロヘキシルフェニルケト
ン、２−メチル−１〔４−（メチルチオ）フェニル〕−
２−モルホリノプロパン−１−オン、２−（ジメチルア
ミノ）−１−〔４−（モルフォリニル）フェニル〕−２
−フェニルロチル）−１−ブタノン等が好ましい。

【０１２１】更に、硬化処理のために加熱手段が利用さ
れる場合には、例えば、ラジカルを発生して重合性化合
物の重合を開始させる熱重合開始剤がフッ素系樹脂組成
物に添加される。

【０１２２】熱重合開始剤の具体例としては、例えばベ
ンゾイルパーオキサイト、ｔｅｒｔ−ブチル−オキシベ
ンゾエート、アゾビスイソブチロニトリル、アセチルパ
ーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブ
チルパーアセテート、クミルパーオキサイド、ｔｅｒｔ
−ブチルパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパ
ーオキサイド、２，２′−アゾビス（２，４−ジメチル
バレロニトリル）、２，２′−アゾビス（４−メトキシ
−２，４−ジメチルバレロニトリル）等を挙げることが
できる。

【０１２３】前記フッ素系樹脂組成物における光重合開
始剤又は熱重合開始剤の添加量は、フッ素含有共重合体
と重合性化合物との合計１００重量部に対し、通常、
０．５〜１０重量部、好ましくは１〜８重量部、特に好
ましくは１〜３重量部である。この添加量が１０重量部
を超えると、樹脂組成物の取り扱い並びに形成される薄
膜の機械的強度等に悪影響を及ぼすことがあり、一方、
添加量が０．５重量部未満では硬化速度が小さいものと
なる。

【０１２４】前記フッ素系樹脂組成物には、必要に応じ
て、本発明の目的及び効果が損なわれない範囲におい
て、各種添加剤、例えば、トリエタノールアミン、メチ
ルジエタノールアミン、トリエチルアミン、ジエチルア
ミン等のアミン系化合物からなる増感剤、もしくは重合
促進剤；エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリアミドイミ
ド、ポリウレタン、ポリブタジエン、ポリクロロプレ
ン、ポリエーテル、ポリエステル、スチレン−ブタジエ
ンスチレンブロック共重合体、石油樹脂、キシレン樹
脂、ケトン樹脂、シリコーン系オリゴマー、ポリスルフ
ィド系オリゴマー等のポリマー、あるいはオリゴマー；
フェノチアジン、２，６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチ
ルフェノール等の重合禁止剤；その他にレベリング剤、
漏れ性改良剤、界面活性剤、可塑剤、紫外線吸収剤、シ
ランカップリング剤、無機充填剤、樹脂粒子、顔料、染
料等を配合することができる。

【０１２５】前記低屈折率層１２５の形成方法は、他の
一般的な薄膜成形手段、例えば真空蒸着法、スパッタリ
ング法、反応性スパッタリング法、イオンプレーティン
グ法、電気めっき法等の適宜な手段であってもよく、例
えば前記以外の反射防止塗料の塗膜、膜厚０．１μｍ程
度のＭｇＦ₂ 等の極薄膜や金属蒸着膜、あるいはＳｉＯ
ｘやＭｇＦ₂ の蒸着膜により形成してもよい。

【０１２６】なお、前述の如く、選択された低屈折率層
１２５の材料の屈折率に対して、屈折率の高い光透過性
樹脂１２３を調整する場合には、この光透過性樹脂１２
３中に、前述のような屈折率の高いＴｉＯ₂ 等の光屈折
率微粒子を加えて、屈折率を上げて調整してもよい。

【０１２７】又、図１５に示される実施の形態の光拡散
フィルムのように、光拡散層１３２を有する光透過性フ
ィルム基材１３１と、マット材１３４を含む光透過性樹
脂１３３からなるマット層１３０との間に、透明導電性
層１３６を設けることにより、帯電防止性能を付与し、
マット層１３０に含有させるマット材１３４として導電
材料である金及び（又は）ニッケルで表面処理をした粒
子を使用することができる。このような表面処理をする
前の粒子は、シリカ、カーボンブラック、金属粒子及び
樹脂粒子からなる群から選ぶことができる。さらにマッ
ト層１３０の表面には低屈折率層１３５を設けることに
より、入射面における光の反射を防止することができ
る。

【０１２８】

【実施例】次に具体的な実施例をあげて、さらに詳しく
説明する。

【０１２９】光拡散層の形成 〔例Ａ〕図４（ａ）に示した光拡散フィルムの光拡散層
の形成例を以下に示す。光透過性フィルム基材として１
００μｍ厚の両面易接着処理がされているポリエチレン
テレフタレートフィルム（東洋紡（株）製、Ａ４３０
０：商品名）を使用した。下記の組成の光拡散インキを
前記ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に乾燥
時の塗工量で９ｇ／ｍ² 塗工した。

【０１３０】 バインダー：東洋紡（株）製バイロン２００ポリエステル樹脂（商品名） ４３重量部 光拡散材 ：積水化成品工業（株）製ＭＢＸ−１０ １００重量部 （平均粒子径１０μｍ、商品名） 希釈溶剤 ：メチルエチルケトン ６０重量部 トルエン ６０重量部 固形分 ：５４％ 〔例Ｂ〕図４（ｂ）に示した光拡散フィルムの光拡散層
の形成例を以下に示す。光透過性フィルム基材として１
００μｍ厚の両面易接着処理がされているポリエチレン
テレフタレートフィルム（東洋紡（株）製、Ａ４３０
０：商品名）を使用した。下記の組成の光拡散インキを
前記ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に乾燥
時の塗工量で１６ｇ／ｍ² 塗工した。

【０１３１】 バインダー：東洋紡（株）製バイロン２００ポリエステル樹脂（商品名） １００重量部 光拡散材 ：積水化成品工業（株）製ＭＢＸ−１０ ４３重量部 （平均粒子径１０μｍ、商品名） 希釈溶剤 ：メチルエチルケトン ６０重量部 トルエン ６０重量部 固形分 ：４２％ 〔例Ｃ〕図６に示した光拡散フィルムの光拡散層の実施
例を以下に示す。基材は１００μｍ厚の両面易接着処理
がされたポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡
（株）製、Ａ４３００、商品名）を使用した。光透過性
樹脂としては、（株）ＪＳＲ製Ｚ９００２Ａ（商品名）
を用い、図１１に示す光拡散フィルムの製造装置によ
り、表面粗さＲｚ＝８μｍのランダムなマット形状のロ
ール凸版を用いて成形した。

【０１３２】低屈折率マット層の形成 〔例イ〕下記の表２に示されるマット層の材料をＰＥＴ
基材上に塗布し、６０℃で１分間乾燥後、ＵＶ光（紫外
線）を９０ｍＪ照射してハーフキュアし、膜厚３〜４μ
ｍ／ｍ² のマット層を作成した。

【０１３３】次に、上記工程で得られたマット層の上に
下記の表２に示される低屈折率層の材料を塗布し、８０
℃で１分間乾燥後、窒素パージ下においてＵＶ光５００
ｍＪ照射して、前記マット層と共に完全にキュアして、
例イの低屈折率マット層を得た。このとき、低屈折率層
の膜厚は０．１μｍ／ｍ² であった。

【０１３４】ここで、上記マット層におけるヘイズ値
は、主として下記の表２におけるＰ／Ｖ比、Ｐ及びＶの
屈折率差、溶剤の種類等により適宜選定することができ
る。

【０１３５】〔例ロ〕低屈折率マット層の形成例ロは、
前記例イと同様のマット層を形成し、低屈折率層とし
て、ＳｉＯ₂ 膜の蒸着により膜厚０．１μｍで形成し
た。。ＳｉＯ₂ の蒸着条件は、真空度４×１０^-5Ｔｏｒ
ｒ、電圧８ＫＶ、電流２０〜４０ｍＡである。

【０１３６】〔例ハ〕例ハは、図１５に示す層構成の透
明導電層を有する光拡散フィルムに用いられる層構成の
一部である、光透過性フィルム基材１３１の光入射側
に、マット材１３４を含む光透過性樹脂１３３からなる
マット層１３０と、該マット層１３０と光透過性フィル
ム基材１３１との間に、透明導電性層１３６を設け、さ
らに表面に低屈折率層１３５を設ける例である。

【０１３７】まず、透明導電性層の材料として、ＤＡ−
１２（商品名、ＡＴＯ含有導電インキ：住友大阪セメン
ト製）をＰＥＴ基材上に膜厚２μｍ／ｍ² となるように
コーティングし、７０℃で１分間乾燥後、窒素パージ下
でＵＶ（紫外線）光５４ｍＪを照射してハーフキュアし
た。次に、このハーフキュアの透明導電性層の上にマッ
ト層の材料を膜厚３〜４μｍ／ｍ² となるようにコーテ
ィングし、６０℃で１分間乾燥後、窒素パージ下でＵＶ
光９０ｍＪを照射してハーフキュアした。なお、マット
層の材料は、前記例イで用いた材料に導電材料ブライト
ＧＮＲ４，６−ＥＨ（金−ニッケルコート樹脂ビーズ：
日本化学工業製）を０．００５ｇ加えたものを用いた。
更に、このハーフキュアされたマット層の上に下記の表
２に示される低屈折率層の材料を塗布し、８０℃で一分
間乾燥後、窒素パージ下でＵＶ光５００ｍＪを照射し
て、前記透明導電性層及びマット層と共に完全にキュア
して、例ハの層構成を得た。

【０１３８】〔例ニ〕例ニの低屈折率マット層の形成に
おいて、例ニにおけるマット層の材料は、前記例イと同
様のＰＥＴＡを１０ｇ、１０％ＣＡＰを５ｇ、溶剤（ト
ルエン、酢酸ブチル、イソブチルアルコール）を２０
ｇ、前記例イと同様の光硬化開始剤を０．３ｇとした。

【０１３９】又、賦型フィルムとしてマットＰＥＴ（商
品名Ｅ１３０；ダイヤホイル製）を用い低屈折率層の材
料は前記例イと同一とした。

【０１４０】低屈折率マット層の形成方法は、まず、マ
ット層の材料をＰＥＴ基材上に、膜厚３〜４μｍ／ｍ²
となるようにコーティングし、前記マットＰＥＴとラミ
ネートした後、ＵＶ光１５０ｍＪでハーフキュアした。

【０１４１】次に、前記マットＰＥＴを剥離し、マット
層に微細な凹凸を形成した上、低屈折率層材料を膜厚
０．１μｍ／ｍ² となるようにコーティングし、８０℃
で一分間乾燥後、窒素パージ下でＵＶ光５００ｍＪを照
射して、前記マット層と共に完全にキュアして、例ニの
層構成を得た。

【０１４２】〔例ホ〕例ホは、光拡散フィルムの光入射
面のマット層に現行一般に使用されているマット層の仕
様であり、比較例のために以下に示す。

【０１４３】光透過性フィルム基材としては１００μｍ
厚の両面易接着処理がされたポリエチレンテレフタレー
トフィルム（東洋紡（株）製、Ａ４３００：商品名）を
使用した。マットインキの組成は以下の通りである。

【０１４４】 バインダー：東洋紡（株）製バイロン２００ポリエステル樹脂 １００重量部 マット剤 ：マイクロシリカ日本エアロジルＯＫ４１２ ３重量部 （平均粒子径４μｍ） 希釈溶剤 ：メチルエチルケトン ５０重量部 トルエン ５０重量部 固形分 ：５０％ 上記のインキを前記ポリエチレンテレフタレートフィル
ムの片面上に乾燥時の塗工量で２ｇ／ｍ² 塗工した。

【０１４５】〔例ヘ〕例ヘは、光透過性フィルムの光入
射側に、マット材を含む光透過性樹脂からなるマット層
と、該マット層と光透過性フィルム基材との間に、透明
導電性層を設けた仕様であり、比較例のために以下に示
す。

【０１４６】まず、透明導電性層の材料として、ＤＡ−
１２（商品名、ＡＴＯ含有導電インキ：住友大阪セメン
ト製）をＰＥＴ基材上に膜厚２μｍ／ｍ² となるように
コーティングし、７０℃で１分間乾燥後、窒素パージ下
でＵＶ（紫外線）光５４ｍＪを照射してハーフキュアし
た。次に、このハーフキュアの透明導電性層の上にマッ
ト層の材料を膜厚３〜４μｍ／ｍ² となるようにコーテ
ィングし、６０℃で１分間乾燥後、窒素パージ下でＵＶ
光５００ｍＪを照射して完全にキュアした。なお、マッ
ト層の材料は、前記例イで用いた材料に導電材料ブライ
トＧＮＲ４，６−ＥＨ（金−ニッケルコート樹脂ビー
ズ：日本化学工業製）を０．００５ｇ加えたものを用い
た。

【０１４７】

【表２】

【０１４８】上記表２におけるＰＥＴＡはペンタエリス
リトールトリアクリレート、ＣＡＰはセルロースアセテ
ートプロピオネート、又表２において１０％ＣＡＰは、
酢酸エチルで希釈した状態でポリマー含有率が１０％と
いうことである。１０％シリコン含有フッ化ビニリデン
及び１０％ＤＰＨＡにおける「１０％」も同様である。

【０１４９】また、ＤＰＨＡはジペンタエリスリトール
ヘキサアクリレートであり、これを希釈するための溶剤
ＭＩＢＫは、メチルイソブチルケトンを示す。

【０１５０】また、Ｐ／Ｖは、フィラー／バインダー示
し、スチレンビーズペースト（商品名：ＳＸ−１３０
Ｈ、総研化学製）は、スチレンビーズとＰＥＴＡが４：
６のペーストを意味し、ビーズ含有量は４０％である。

【０１５１】〔実施例１〕光拡散層の形成に前記例Ａ、
低屈折率マット層の形成に前記例イを実施して本実施例
１の光拡散フィルムを得た。得られた光拡散フィルムの
光学的、電気的性質を表３に示す。

【０１５２】〔実施例２〕光拡散層の形成に前記例Ｂ、
低屈折率マット層の形成に前記例イを実施して本実施例
２の光拡散フィルムを得た。得られた光拡散フィルムの
光学的、電気的性質を表３に示す。

【０１５３】〔実施例３〕光拡散層の形成に前記例Ｃ、
低屈折率マット層の形成に前記例イを実施して本実施例
３の光拡散フィルムを得た。得られた光拡散フィルムの
光学的、電気的性質を表３に示す。

【０１５４】〔実施例４〕光拡散層の形成に前記例Ｃ、
低屈折率マット層の形成に前記例ロを実施して本実施例
４の光拡散フィルムを得た。得られた光拡散フィルムの
光学的、電気的性質を表３に示す。

【０１５５】〔実施例５〕光拡散層の形成に前記例Ｃ、
低屈折率マット層の形成に前記例ハを実施して本実施例
５の光拡散フィルムを得た。得られた光拡散フィルムの
光学的、電気的性質を表３に示す。

【０１５６】〔実施例６〕光拡散層の形成に前記例Ｃ、
低屈折率マット層の形成に前記例ニを実施して本実施例
６の光拡散フィルムを得た。得られた光拡散フィルムの
光学的、電気的性質を表３に示す。

【０１５７】〔比較例１〕光拡散層の形成に前記例Ａ、
マット層の形成に前記例ホを実施して比較例１の光拡散
フィルムを得た。得られた光拡散フィルムの光学的、電
気的性質を表３に示す。

【０１５８】〔比較例２〕光拡散層の形成に前記例Ｂ、
マット層の形成に前記例ホを実施して比較例２の光拡散
フィルムを得た。得られた光拡散フィルムの光学的、電
気的性質を表３に示す。

【０１５９】〔比較例３〕光拡散層の形成に前記例Ｃ、
マット層の形成に前記例ホを実施して比較例３の光拡散
フィルムを得た。得られた光拡散フィルムの光学的、電
気的性質を表３に示す。

【０１６０】〔比較例４〕光拡散層の形成に前記例Ｃを
実施し、マット層の形成に前記例ヘを実施して比較例４
の光拡散フィルムを得た。得られた光拡散フィルムの光
学的、電気的性質を表３に示す。

【０１６１】〔比較例５〕光拡散層の形成に前記例Ｃを
実施し、マット層の形成を行わないで比較例４の光拡散
フィルムを得た。得られた光拡散フィルムの光学的、電
気的性質を表３に示す。

【０１６２】

【表３】

【０１６３】上記表３において、反射率は、島津製作所
製の分光反射率測定機ＭＰＣ−３１００で測定し、波長
３８０〜７８０ｎｍ光での平均反射率をとった。

【０１６４】輝度の評価は、バックライト上に各々の拡
散フィルム１枚とプリズムシート２枚を積層して輝度計
（ＢＭ−７：商品名、トプコン製）にて測定した。

【０１６５】

【発明の効果】本発明の光拡散フィルム、面光源装置、
及び表示装置によれば、光拡散フィルムの入射面の最表
面に光透過性フィルム基材よりも屈折率が低い低屈折率
層を形成しているので、法線方向から６０°以上の入射
角を有する入射光の透過率を高めることができ、光の利
用効率の高い光源装置、或いは表示装置を提供すること
ができる。

【０１６６】本発明の光拡散フィルム、面光源装置、及
び表示装置によれば、前記構成に加えて、前記光透過性
フィルム基材と低屈折率な層の間に光透過性フィルム基
材よりも屈折率が高い高屈折率層を形成した場合には、
法線方向から６０°以上の入射角を有する入射光の透過
率をさらに高めることができ、さらに光の利用効率の高
い光源装置、或いは表示装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光拡散フィルムを用いた表示装置（液
晶ディスプレイ）の実施の形態を示し、プリズムシート
を１枚使用した例の概念図である。

【図２】本発明の光拡散フィルムを用いた表示装置（液
晶ディスプレイ）の実施の形態を示し、プリズムシート
を２枚使用した例の概念図である。

【図３】本発明の光拡散フィルムを用いた表示装置（液
晶ディスプレイ）の実施の形態を示し、プリズムシート
を使用しない例の概念図である。

【図４】タイプＩの光拡散フィルムの基本層構成を示す
図である。

【図５】タイプIIの光拡散フィルムの基本層構成を示す
図である。

【図６】タイプIII の光拡散フィルムの基本層構成を示
す図である。

【図７】タイプIVの光拡散フィルムの基本層構成を示す
図である。

【図８】タイプＶの光拡散フィルムの基本層構成を示す
図である。

【図９】タイプVIの光拡散フィルムの基本層構成を示す
図である。

【図１０】本発明の光拡散フィルムの製造の工程図であ
る。

【図１１】本発明の光拡散フィルムの製造装置の実施の
態様を示す図である。

【図１２】光拡散フィルムの光学特性を説明するための
図である。

【図１３】光拡散フィルムの光学特性を説明するための
図である。

【図１４】マット層を有し、入射面の最表面に低屈折率
層を設けた本発明の光拡散フィルムの各種層構成の態様
を示す図である。

【図１５】透明導電性層を有し帯電防止性能を付与した
本発明の光拡散フィルムの基本層構成を示す図である。

【図１６】本発明の光拡散フィルムを適用した液晶表示
装置において、光拡散フィルム１０の入射角と出射角の
関係を示す図である。

【符号の説明】

１、５１、６１、７１、８１、９１ 光透過性フィル
ム基材 ２、２ａ プリズムシート ３ 光透過性樹脂 ４ 光拡散材 ５ 低屈折率層 ７ 液晶パネル １０、５０、６０、７０、８０、９０ 光拡散フィル
ム １１ 導光板 １２ 散乱ドット １３ 光源 １４ 反射ケース １５ 表示装置 ２１ ロール凹版 ２２ 凹部 ２３ 電離放射線硬化型樹脂液 ２３ｂ 電離放射線硬化型樹脂の硬化物 ２４ 光透過性フィルム基材 ２５ 押圧ロール ２６ 送りロール ２７ａ、２７ａｂ 硬化装置 ２９ 光拡散フィルム ３０ 塗工装置 ３１ 溶剤乾燥装置 ３２ 空洞 ５２、６２、７２、８２、９２ 光学素子 ５３、６３、７３、８３、９３ 低屈折率層 ８３ フラットな部分 １０１ 充填工程 １０２ 接触工程 １０３ 硬化工程 １０４ 密着工程 １０５ 剥離工程 １２０ マット層 １２１ 光透過性フィルム基材 １２２ 光拡散層 １２３ 光透過性樹脂 １２４ マット材 １２５ 低屈折率層 １３０ マット層 １３１ 光透過性フィルム基材 １３２ 光拡散層 １３３ 光透過性樹脂 １３４ マット材 １３５ 低屈折率層 １３６ 透明導電性層

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Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光透過性フィルム基材の一方の面に光拡
   散層を有する光拡散フィルムにおいて、該光拡散フィル
   ムの入射面の最表面に該光透過性フィルム基材よりも屈
   折率が低い低屈折率層を形成したことを特徴とする光拡
   散フィルム。
2. 【請求項２】 請求項１において前記光透過性フィルム
   基材と低屈折率層の間に該光透過性フィルム基材よりも
   屈折率が高い高屈折率層を形成したことを特徴とする光
   拡散フィルム。
3. 【請求項３】 前記低屈折率層の表面が微小な凹凸形状
   であることを特徴とする請求項１又は２記載の光拡散フ
   ィルム。
4. 【請求項４】 前記光拡散層の屈折率が光透過性フィル
   ム基材の屈折率よりも低いことを特徴とする請求項１乃
   至３のいずれか１項記載の光拡散フィルム。
5. 【請求項５】 前記光拡散フィルムの少なくとも一方の
   面の表面抵抗値が１０¹¹Ω／□以下であることを特徴と
   する請求項１乃至４のいずれか１項記載の光拡散フィル
   ム。
6. 【請求項６】 側端部より入射された光を入射面と直交
   する出射面より出射する導光板と、該導光板の少なくと
   も一つの端部に設置された光源とを備え、該導光板の出
   射面上に請求項１乃至５のいずれか１項に記載の光拡散
   フィルムを少なくとも１枚以上積層したことを特徴とす
   る面光源装置。
7. 【請求項７】 前記光拡散フィルムの出射面上にさらに
   １枚以上のプリズムシートを積層したことを特徴とする
   請求項６記載の面光源装置。
8. 【請求項８】 請求項６又は７記載の面光源装置の出射
   側に液晶パネルを配置したことを特徴とする表示装置。