JP2002333508A

JP2002333508A - 反射防止材の製造方法

Info

Publication number: JP2002333508A
Application number: JP2001139578A
Authority: JP
Inventors: Arimichi Ito; 有道伊東
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2001-05-10
Filing date: 2001-05-10
Publication date: 2002-11-22

Abstract

(57)【要約】【課題】従来の技術において、透明導電性薄膜や低屈
折率層の形成に時間を要し、加工速度が遅かった点、透
明導電性薄膜の耐腐食性が十分でなかった点、および可
視光全域での反射率が一定しない点を解消しようとする
ものである。【解決手段】光の波長以下の微細凹凸形状を表面に持
つ型ローラ１２上に、電離放射線硬化性樹脂組成物１７
を介して透明基材フィルム１を積層した状態で、線源１
８を用いて電離放射線を照射して硬化／接着を行なわ
せ、離型することにより、上記の課題を解決することが
できた。透明基材フィルム１には、積層に先立って、ア
ンカー層を施しておくことが好ましく、また、電離放射
線の照射は、上記の積層した状態で予備的に行ない、離
型後に、完全硬化／完全接着を行なわせることが好まし
い。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、種々の物品の表面
で光が反射して眩しく、そのため、その物品やその物品
が表示している内容の視認性が低下するのを防止するた
めの反射防止材を、電離放射線硬化性樹脂組成物を用い
て精度良く、しかも効率的に複製し得る製造方法に関す
るものである。

【０００２】

【従来の技術】液晶ディスプレイ、ＣＲＴ（陰極線管）
ディスプレイ、もしくはプラズマディスプレイ等のディ
スプレイは、それらディスプレイが表示する画像の視認
性が高いことが要求されるが、ディスプレイ表面での外
光の反射があると、視認性を著しく低下させるものであ
る。また、ディスプレイ以外でも、金属やガラスの光沢
面等を有する建材は、不用意な光の反射が起きると通行
する車両や人の妨げになることがある。

【０００３】このような外光の反射によって生じる、表
示画像の視認性の低下の問題の解消、および、建材等に
おけるいろいろな問題の解消のために、種々の反射防止
材が提案されている。代表的なものとして、特開平９−
８０２０５号公報には、透明な基材、ハードコート層、
および２層の反射防止用光学薄膜を順に形成した反射防
止部材が記載され、１層目の反射防止用光学薄膜として
は、ＳｎＯ₂、ＺｎＯ、Ｉｎ₂Ｏ₃、もしくはＩＴＯ等
が、２層目の反射防止用光学薄膜としては、１層目の反
射防止用光学薄膜よりも屈折率の低いＳｉＯ₂やＭｇＦ₂
等が用いられ、ハードコート層による傷付きやすさの解
消、１層目の反射防止用光学薄膜による帯電防止、およ
び１、２層目の反射防止用光学薄膜による反射防止を図
ることが行なわれるとしている。

【０００４】しかし、上記の構成の反射防止部材におい
ては、１層目および２層目の反射防止用光学薄膜として
は、いずれも、数十ｎｍの厚みが必要であり、スパッタ
法等で薄膜を形成しようとすると、時間がかかるため、
加工速度が遅くなる欠点がある。加えて、ＩＴＯ等の透
明導電性薄膜は、透明性は優れているものの、耐腐食性
が十分でない欠点がある。さらに、上記の構成の反射防
止部材では、人間が眩しいと感じる可視光領域（波長４
５０ｎｍ〜６５０ｎｍ）の赤色光側および青色光側の反
射率が充分均一に低下しない、即ち、入射光の波長や入
射角度によって反射防止性が変化するため、可視光全域
での反射率低下が実現せず、色が変わったり、眩しさが
残る。さらに、取扱い時に生じる傷や汚れに対する備え
が万全ではない。

【０００５】ところで、例えば、透明アクリル樹脂フィ
ルム等の表面に、光の波長以下のピッチの微細な凹凸パ
ターンを形成した微細凹凸フィルムは、凹凸の底部では
アクリル樹脂がほとんどを占めるから、アクリル樹脂の
光の屈折率そのもの（約１．４９）に限りなく近づき、
凹凸の表面側に近づくほど、アクリル樹脂が占める割合
が低下して、代わりに空気の割合が増加するから、屈折
率が低下し、最も外側の表面近傍では空気の屈折率
（１．０）に限りなく近づき、あたかも、光の屈折率が
連続的に変化する層を多数積層したのと同様な効果を持
つ事が知られている。

【０００６】上記の微細凹凸フィルムを反射防止材とし
て使用すると、干渉層を多層に積層した従来型のものに
くらべ、視角による色変化が少なく、構造的にも層が少
なく簡素である等の利点を有している反面、表面がごく
微細な凹凸からなっているために、傷がつきやすい欠点
がある。また、上記の凹凸フィルムを製造するには、可
視光硬化性等の樹脂組成物（フォトレジスト）を用い、
可視光レーザーの干渉を利用して、硬化部と未硬化部を
生じさせ、溶解現像して微細な凹凸を生じさせる方法を
採っているため、露光、現像に時間がかかり、大量複製
には向かなかった。また、原料として、このようなプロ
セスに向くよう、比較的分子量の低い樹脂組成物を用い
ており、硬化部においてもそれほど強固な状態が生じな
いため、表面の硬度も不十分であった。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明におい
ては、上記の従来の技術において、透明導電性薄膜およ
び低屈折率層形成に時間がかかり、加工速度が遅かった
点、透明導電性薄膜の耐腐食性が十分でなかった点、お
よび可視光全域での反射率が一定しない点を解消しよう
とするものである。

【０００８】

【課題を解決する手段】本発明においては、微細な凹凸
形状を表面に有する賦型用型を使用し、この賦型用型の
凹凸型面に、液状の電離放射線硬化性樹脂組成物を密着
させ、透明基材で被覆した後に、電離放射線硬化性樹脂
組成物を硬化させ、硬化後、剥離することにより、従
来、未解決であった上記課題を解消して、表面に所定の
微細な凹凸形状を有する反射防止材を得ることができ
た。

【０００９】第１の発明は、透明基材、および光の波長
以下のピッチの無数の微細凹凸が形成された凹凸型面を
有する賦型用型とを準備し、前記透明基材と前記賦型用
型の前記凹凸型面の側とを、電離放射線硬化性樹脂組成
物を介して積層を行ない、積層を行なった後、前記透明
基材と前記賦型用型との間の前記電離放射線硬化性樹脂
組成物への電離放射線の照射により、前記電離放射線硬
化性樹脂組成物の硬化、および前記透明基材との接着を
行ない、その後、前記硬化物を前記透明基材と共に前記
賦型用型から離型することを行なうことを特徴とする反
射防止材の製造方法に関するものである。第２の発明
は、第１の発明において、前記透明基材の前記電離放射
線硬化性樹脂組成物と積層する側に、前記の積層を行な
うのに先立って、アンカー層の積層を行なうことを特徴
とする反射防止材の製造方法に関するものである。第３
の発明は、第１または第２の発明において、電離放射線
の照射として、前記電離放射線硬化性樹脂組成物を予備
硬化し、かつ前記透明基材と予備接着させるための弱い
照射を行ない、前記離型後、さらに、前記電離放射線硬
化性樹脂組成物を完全硬化し、かつ前記透明基材と完全
接着させるための強い照射を行なうことを特徴とする反
射防止材の製造方法に関するものである。第４の発明
は、第１〜第３いずれかの発明において、前記の凹凸型
面を有する型を準備することを、感光性樹脂にレーザー
光干渉法により型の凹凸を形成して原型を得たのち、め
っき法により金属製スタンパーを得ることにより行なう
ことを特徴とする反射防止材の製造方法に関するもので
ある。

【００１０】

【発明の実施の形態】本発明の反射防止材は、例えば、
図１（ａ）に示すように、フィルム状や板状の透明基材
１上に、光の波長以下のピッチの無数の微細凹凸が形成
された凹凸部２を上面に有する透明層３が積層したもの
である。透明層３は、連続した層であることが普通だ
が、透明基材フィルム１を伴なうときは、互いに離れた
凸部の群で有り得る。

【００１１】あるいは、反射防止材は、図１（ｂ）に示
すように、透明層３の表面の凹凸部２上に別の透明層か
らなる表面層４をさらに積層したものであってもよい。
表面層４の上面は図では平坦なものとして描いたが、凹
凸部２の形状に沿った形状であってもよい。

【００１２】上記の図１（ａ）、および（ｂ）に示すい
ずれの例においても、透明基材フィルム１は省くことが
可能である。また、図１（ａ）、および（ｂ）に示すい
ずれの例においても、凹凸部２は、反射防止材の片面に
のみ形成されたものに限ることなく、反射防止材の両面
に凹凸部２が形成されていてもよい。

【００１３】透明基材１としては、透明性、平滑性を備
え、異物の混入のないものが好ましく、また、加工上お
よび製品の使用上の理由で機械的強度があるものが好ま
しい。さらに、反射防止材にディスプレイの熱が伝わっ
て来るような場合には、耐熱性があるものが好ましい。

【００１４】一般的に透明基材１として好ましいもの
は、セルロースジアセテート、セルローストリアセテー
ト、セルロースアセテートブチレート、ポリエステル、
ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポ
リスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、
ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテル
ケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、
もしくはポリウレタン等の熱可塑性樹脂のフィルムであ
る。

【００１５】写真用乳剤を塗布した写真用フィルムの場
合に、よく用いられるポリエステルは機械強度やコーテ
ィング適性の点で好ましい。透明性が高く、光学的に異
方性がなく、かつ低屈折率である点では、セルロースト
リアセテート等が好ましい。透明性と耐熱性を備えた点
ではポリカーボネートが好ましい。

【００１６】なお、これらの熱可塑性樹脂のフィルムは
フレキシブルで使いやすいが、取り扱い時も含めて曲げ
る必要が全くなく、硬いものが望まれるときは、上記の
樹脂の板やガラス板等の板状のものも使用できる。厚み
としては、８〜１０００μｍ程度が好ましく、２５〜３
００μｍ程度がより好ましい。板状のものの場合には、
この範囲を超えてもよい。

【００１７】上記の透明基材１には、その上面、もしく
は上面および下面に形成する層との接着性の向上のため
に、通常、行なわれ得る各種の処理、即ち、コロナ放電
処理、酸化処理等の物理的な処理のほか、アンカー剤
（プライマー剤とも呼ばれる。）の塗布による化学的処
理を予め行なって、アンカー層１ａを形成しておくこと
が好ましい。アンカー層１ａを構成する樹脂としては、
ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエチレンイ
ミン樹脂、ポリブタジエン系樹脂、アクリル樹脂、ポリ
カーボネート樹脂、もしくは塩化ビニル／酢酸ビニル共
重合体等である。これらの樹脂のうち一種もしくは二種
以上を適宜な溶剤に溶解して塗料もしくはインキとした
ものを塗付もしくは印刷してアンカー層１ａを形成す
る。このほか、アルキルチタネート系のアンカー剤を使
用してアンカー層を形成することもできる。

【００１８】無数の微細凹凸が形成された凹凸部２を有
する透明層３は、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物
からなっている。電離放射線硬化性樹脂組成物として
は、凹凸部２を賦型用型を用いたキャスティング法によ
って形成する際の硬化速度が速く、かつ透明層３の表面
の傷付きが起きないよう、硬化後に高い耐擦傷性を有す
るものが好ましい。電離放射線硬化性樹脂組成物として
は、硬化後の硬度が、ＪＩＳＫ５４００で示す鉛筆硬
度試験で「Ｈ」以上の硬度を示すものがより好ましい。
また、透明層３の光の屈折率は、反射防止性能を発揮す
るためには低い方が好ましいが、反射防止材として長期
間使用するには、表面の耐久性、特に耐擦傷性が必要で
あり、硬度を高くした方が有利になるため、密度を上げ
て硬度を高くする必要がある。従って、透明層３の光の
屈折率としては、１．４〜１．７、より好ましくは、
１．６以下である。

【００１９】電離放射線硬化性樹脂組成物としては、分
子中に重合性不飽和結合または、エポキシ基を有するプ
レポリマー、オリゴマー、及び／又はモノマーを適宜に
混合したものである。電離放射線とは、電磁波又は荷電
粒子線のうち分子を重合又は架橋し得るエネルギー量子
を有するものを指し、通常は、紫外線又は電子線を用い
る。

【００２０】電離放射線硬化性樹脂組成物中のプレポリ
マー、オリゴマーの例としては、不飽和ジカルボン酸と
多価アルコールの縮合物等の不飽和ポリエステル類、ポ
リエステルメタクリレート、ポリエーテルメタクリレー
ト、ポリオールメタクリレート、メラミンメタクリレー
ト等のメタクリレート類、ポリエステルアクリレート、
エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエ
ーテルアクリレート、ポリオールアクリレート、メラミ
ンアクリレート等のアクリレート、カチオン重合型エポ
キシ化合物が挙げられる。

【００２１】電離放射線硬化性樹脂組成物中のモノマー
の例としては、スチレン、α−メチルスチレン等のスチ
レン系モノマー、アクリル酸メチル、アクリル酸−２−
エチルヘキシル、アクリル酸メトキシエチル、アクリル
酸ブトキシエチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸メト
キシブチル、アクリル酸フェニル等のアクリル酸エステ
ル類、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸プロピル、メタクリル酸メトキシエチル、メタ
クリル酸エトキシメチル、メタクリル酸フェニル、メタ
クリル酸ラウリル等のメタクリル酸エステル類、アクリ
ル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）エチル、アクリ
ル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル、アクリ
ル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ）メチル、アク
リル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）プロピル等の
不飽和置換の置換アミノアルコールエステル類、アクリ
ルアミド、メタクリルアミド等の不飽和カルボン酸アミ
ド、エチレングリコールジアクリレート、プロピレング
リコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジア
クリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレー
ト、トリエチレングリコールジアクリレート等の化合
物、ジプロピレングリコールジアクリレート、エチレン
グリコールジアクリレート、プロピレングリコールジメ
タクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート
等の多官能性化合物、及び／又は分子中に２個以上のチ
オール基を有するポリチオール化合物、例えばトリメチ
ローラプロパントリチオグリコレート、トリメチローラ
プロパントリチオプロピレート、ペンタエリスリトール
テトラチオグリコレート等が挙げられる。

【００２２】通常、電離放射線硬化性樹脂組成物中のモ
ノマーとしては、以上の化合物を必要に応じて、１種若
しくは２種以上を混合して用いるが、電離放射線硬化性
組成物に通常の塗布適性を与えるために、前記のプレポ
リマー又はオリゴマーを５重量％以上、前記モノマー及
び／又はポリチオール化合物を９５重量％以下とするの
が好ましい。

【００２３】電離放射線硬化性樹脂組成物を硬化させた
ときのフレキシビリティーが要求されるときは、モノマ
ー量を減らすか、官能基の数が１又は２のアクリレート
モノマーを使用するとよい。電離放射線硬化性樹脂組成
物を硬化させたときの耐摩耗性、耐熱性、耐溶剤性が要
求されるときは、官能基の数が３つ以上のアクリレート
モノマーを使う等、電離放射線硬化性樹脂組成物の設計
が可能である。ここで、官能基が１のものとして、２−
ヒドロキシアクリレート、２−ヘキシルアクリレート、
フェノキシエチルアクリレートが挙げられる。官能基が
２のものとして、エチレングリコールジアクリレート、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレートが挙げられ
る。官能基が３以上のものとして、トリメチローラプロ
パントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアク
リレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサアクレリート等が挙げら
れる。

【００２４】電離放射線硬化性樹脂組成物を硬化させた
ときのフレキシビリティーや表面硬度等の物性を調整す
るため、電離放射線硬化性樹脂組成物に、電離放射線照
射では硬化しない樹脂を添加することもできる。具体的
な樹脂の例としては次のものがある。ポリウレタン樹
脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリ
エステル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポ
リ酢酸ビニル等の熱可塑性樹脂である。中でも、ポリウ
レタン樹脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹
脂等の添加がフレキシビリティーの向上の点で好まし
い。

【００２５】電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化が紫外
線照射により行われるときは、光重合開始剤や光重合促
進剤を添加する。光重合開始剤としては、ラジカル重合
性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン
類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイ
ン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用
いる。また、カチオン重合性官能基を有する樹脂系の場
合は、光重合開始剤として、芳香族ジアゾニウム塩、芳
香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロ
ン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は
混合物として用いる。光重合開始剤の添加量は、電離放
射線硬化性樹脂組成物１００重量部に対し、０．１〜１
０重量部である。

【００２６】電離放射線硬化性樹脂組成物には、次のよ
うな有機反応性ケイ素化合物を併用してもよい。

【００２７】有機ケイ素化合物の１は、一般式Ｒ_mＳｉ
（ＯＲ’）_nで表せるもので、ＲおよびＲ’は炭素数１
〜１０のアルキル基を表し、Ｒの添え字ｍとＲ’の添え
字ｎとは、各々が、ｍ＋ｎ＝４の関係を満たす整数であ
る。

【００２８】具体的には、テトラメトキシシラン、テト
ラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラ
ン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブト
キシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ
−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシ
ラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テト
ラペンタ−ｎ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−
ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラ
ン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチル
トリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メ
チルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、
ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、
ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、
ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メ
チルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等
が挙げられる。

【００２９】電離放射線硬化性樹脂組成物に併用し得る
有機ケイ素化合物の２は、シランカップリング剤であ
る。

【００３０】具体的には、γ−（２−アミノエチル）ア
ミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエ
チル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキ
シシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ
−メタクリロキシプロピルメトキシシラン、Ｎ−β−
（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）−γ−アミノプロ
ピルメトキシシラン・塩酸塩、γ−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン、アミノシラン、メチルメトキシ
シラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプト
プロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリ
メトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリ
ス（β−メトキシエトキシ）シラン、オクタデシルジメ
チル［３−（トリメトキシシリル）プロピル］アンモニ
ウムクロライド、メチルトリクロロシラン、ジメチルジ
クロロシラン等が挙げられる。

【００３１】電離放射線硬化性樹脂組成物に併用し得る
有機ケイ素化合物の３は、電離放射線硬化性ケイ素化合
物である。具体的には、電離放射線の照射によって反応
し架橋する複数の官能基、例えば、重合性二重結合基を
有する分子量５，０００以下の有機ケイ素化合物が挙げ
られ、より具体的には、片末端ビニル官能性ポリシラ
ン、両末端ビニル官能性ポリシラン、片末端ビニル官能
ポリシロキサン、両末端ビニル官能ポリシロキサン、又
はこれらの化合物を反応させたビニル官能性ポリシラ
ン、もしくはビニル官能性ポリシロキサン等が挙げられ
る。

【００３２】より具体的には、次のような化合物であ
る。

【００３３】

【化１】

【００３４】その他、電離放射線硬化性樹脂組成物に併
用し得る有機ケイ素化合物としては、３−（メタ）アク
リロキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）ア
クリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等の（メ
タ）アクリロキシシラン化合物等が挙げられる。

【００３５】透明層３の上面に形成する光の波長以下の
ピッチの微細凹凸２の形状としては、図１および図２
（ａ）に例示するような、断面の上縁の微細凹凸２の形
状が正弦曲線のもの以外にも、図２（ｂ）に示すような
断面の頂部２ａが円弧状で、立ち上がり部分２ｂが直線
状であり、上へ行くほどすぼまった形状のもの、図２
（ｃ）に示すような三角波状のもの、もしくは図２
（ｄ）に示すような矩形波状のものがある。

【００３６】これらのうちでも、場所により深さが変動
する、図２（ａ）、（ｂ）および（ｃ）の断面形状のも
のが好ましく、このような断面形状のものを使用する
と、透明層３の厚み方向の位置により、光の屈折率が変
化する性質が付与される。

【００３７】また、これらのうち、図２（ｄ）に示すも
のは、どの高さの部分でも水平切断面の面積が変わらな
いので、透明層３が占める割合が同じであり、波の上の
方と下の方とで光の屈折率が変わらない。ただ、ピッチ
や波の幅を決めることにより、一定でかつ所定の値の屈
折率を有する層を形成することができる。このほか、上
すぼまりでない図２（ｅ）に示すような形状もあり得る
が、型を利用して製造する際に、離型が難しく、あまり
好ましくない。

【００３８】微細凹凸２の断面形状は以上のようなもの
であるが、これらの断面形状を持つ透明層３を、凹凸部
２のある側から観察するとき、微細凹凸の配列として
は、図３（ａ）に斜視図で示すように、凹部に注目すれ
ば、平行な溝５（凸部に注目すれば平行な仕切り６）を
形成したものや、図３（ｂ）もしくは（ｃ）に上方から
見た図（同心円は等高線を示す。）で示すように、平面
的に並べて配列して形成したものとが有り得る。いずれ
のタイプのものも、反射防止性を有するが、図３（ａ）
に示すような溝状のタイプのものは方向性を有するため
に、入射光の方向によって反射率が変わり得る。これに
対し、図３（ｂ）もしくは（ｃ）に示すような二次元に
配列した形状のものは方向性が事実上無く、好ましい。

【００３９】凹凸部２の形状自体には種々のものがある
にせよ、断面形状に表れる凹凸の波のピッチ（＝周期）
は、光の波長以下の微細なものである。通常の用途で
は、この光とは可視光を指し、従って、「光の波長以下
の微細な」とは、４００ｎｍ以下を指す。下限は特にな
いが、型の精度を考慮すると５０ｎｍ以上であることが
好ましい。

【００４０】凹凸部の断面形状の、波の高低差が大きい
方が、反射率が低くなり、反射防止効果があるため、高
低差は１００ｎｍ以上であることが好ましい。上限は特
に無いが、通常のピッチである５０ｎｍ〜４００ｎｍを
想定すると、ピッチの値の１００％〜２００％程度であ
ることが好ましく、１００ｎｍ〜５００ｎｍ程度であ
る。

【００４１】このような微細凹凸２は、複製用の賦型用
型を準備して複製することが効率的である。まず、適当
な基材を型の基材とし、その上に、感光性樹脂を積層し
たものを準備し、これにレーザー光干渉法により露光を
行なう。基材に感光性樹脂を積層したものとして、レリ
ーフホログラム製造用として市販されている感光材を利
用することができる。

【００４２】露光は、レーザー光を２ないしそれ以上に
分割して干渉させることによって行ない、ピッチが光の
波長以下の硬化部と未硬化部とを得る。露光後、感光性
樹脂の種類に応じた現像法、ネガ型感光性樹脂であれ
ば、特定の溶剤等による未硬化部分の除去により、現像
を行なって、ピッチが光の波長以下の無数の微細凹凸が
形成された凹凸型面を有する賦型用型の原型を得る。

【００４３】得られた原型は、凹凸を形成しやすくする
ために、比較的分子量の小さい高分子からなっているた
め、溶剤に対する耐久性も不十分であり、また、もろい
ため、この原型を何度も使用して複製を行なうことは好
ましくない。

【００４４】そこで、原型にニッケル等の金属でめっき
を行なって剥がし、第１の金属製の型を形成して、この
第１の金属製の型を使用するか、または第１の金属製の
型にめっきを行なって、第２の金属製の型を幾つか形成
し、得られた第２の金属製の型を使用して複製を行なう
事が好ましく、このようにして得られた型を使用する
と、型の損傷や摩耗の問題を回避することができる。な
お、めっきによって得られる、これら金属製の型を金属
製スタンパーと言う。

【００４５】より好ましくは、このようにして得られた
型面の形状をローラ面に形成し、必要に応じて、殖版
（同一版面上に多面付けにすること）した型ローラや型
面の形状をローラの面長方向および円周方向に、連続的
に形成した型ローラを使用すると、連続的な生産に向
く。従って、賦型用の型としては、シート状のもの、板
状のもの、もしくはローラ状のものがあり得る。

【００４６】なお、型面の形状を複製する際に、原型と
第２の金属製の型とは同形状であり、原型と第１の金属
製の型とは互いに逆型形状の関係となる。また反射防止
材の微細凹凸の形状と、それを製造するための型上の型
面の微細凹凸の形状とは逆型形状となる。従って、反射
防止材として欲しい形状が得られるよう、必要なら更
に、めっきによる金属型の形成を加えて、微細凹凸の形
状を逆転させるとよい。ただし、微細凹凸の断面形状が
正弦曲線のような場合には、元の型形状と逆型形状の違
いが実質的には無い例外的な場合もある。以下の説明で
用いる型の型面の微細凹凸形状としては、上記のような
例外を除き、反射防止材に、得たい微細凹凸形状が得ら
れるよう、逆型形状に形成されているものとする。

【００４７】電離放射線硬化性樹脂組成物を用いて、透
明層３の上面に微細凹凸からなる凹凸部を形成するに
は、透明基材１と、上記したような賦型用型とを準備
し、両者を、液状の電離放射線硬化性樹脂組成物を介し
て積層する。積層の際には、電離放射線硬化性樹脂組成
物を透明基材１側に積層してから、賦型用型と積層して
もよいし、逆に、賦型用型に電離放射線硬化性樹脂組成
物を積層してから、透明基材１と積層してもよい。ある
いは、透明基材１と賦型用型との間に電離放射線硬化性
樹脂組成物を供給しつつ、透明基材１と賦型用型とを積
層してもよい。

【００４８】積層後、透明基材１と賦型用型との間の電
離放射線硬化性樹脂組成物に電離放射線を照射する。電
離放射線が紫外線であるとき、その照射は、透明基材１
の側から行なうとよいが、賦型用型が透明であれば、賦
型用型側から行なうこともできる。電離放射線が電子線
であるときは、電子線の物質への透過性が優れているの
で、電子線が透過し得る限り、いずれからの照射でもよ
い。

【００４９】電離放射線の照射により、電離放射線硬化
性樹脂組成物は硬化して硬化物が生成し、かつ、透明基
材に接着するので、電離放射線の照射の後に、電離放射
線硬化性樹脂組成物の硬化物を透明基材ごと、賦型用型
から離型することにより、透明基材上に透明な電離放射
線硬化性樹脂組成物の硬化物からなり、表面に微細凹凸
が形成された透明層を有する反射防止材を得ることがで
きる。

【００５０】上記において、電離放射線の照射は、一回
で済ますのが効率的であるが、賦型用型、電離放射線硬
化性樹脂組成物、および賦型用型の三者を積層したま
ま、長時間、電離放射線の照射を行なうことは、効率的
とは言えない。そこで、上記の三者が積層している時間
を短縮する目的で、電離放射線の比較的弱い照射によ
り、予備硬化および予備接着を行ない、その後、予備硬
化および予備接着した電離放射線硬化性樹脂組成物を、
賦型用型より透明基材１と共に離型して分離し、分離し
た予備硬化および予備接着した電離放射線硬化性樹脂組
成物に対して、電離放射線の比較的強い照射により、電
離放射線硬化性樹脂組成物の完全硬化および透明基材と
の完全接着を行なうようにすると、賦型用型、電離放射
線硬化性樹脂組成物、および賦型用型の三者を積層した
状態を維持する時間が短時間で済む利点が生じ、製造効
率が向上する。その後の、完全硬化および透明基材との
完全接着のための電離放射線の照射は照射対象物を走行
させつつ、照射ゾーンを長くする等により、処理速度を
落とさなくても長時間の照射が行なえるからである。

【００５１】図４は、型ローラを用いて、反射防止材を
連続的に製造するための装置１０を使用して製造する様
子を示すものである。図４において、透明基材フィルム
１は、図中向かって左側上方より巻き出され、ニップロ
ーラ１１ａと型ローラ１２の間に導かれ、型ローラ１２
の上側を半周した後、ニップローラ１１ｂとの間を通過
して、向かって右側方向に排出される。型ローラ１２は
型ローラ１２内に矢印で示す時計回り方向に回転するよ
う駆動されており、ニップローラ１１ａ、および１１ｂ
は、型ローラの回転に合わせて連れまわり（いずれも回
転方向はローラ内に矢印で示す。）するよう構成されて
いる。また、透明基材フィルム１の巻き出し側にはブレ
ーキが設置され、排出側に設置された巻き上げモータと
により、走行時の張力の調整が可能である。また、両ニ
ップローラ１１ａ、および１１ｂの間では、張力が一定
に保たれている。

【００５２】型ローラ１２の真下には、ダイヘッド１３
が設置されており、ダイヘッド１３は内部に液溜め１
４、上方にスリット１５を有し、パイプ１６を経由し
て、外部より電離放射線硬化性樹脂組成物１７が供給さ
れるよう構成されている。スリット１５からは透明基材
フィルム１の走行に合わせて、必要量の電離放射線硬化
性樹脂組成物１７が上方に押出され、型ローラ表面に塗
付され、型ローラ１２の凹部１２ａ内にも電離放射線硬
化性樹脂組成物１７が充填され、ニップローラ１１ａと
型ローラとの間を通るときに、塗付量が規制される。

【００５３】型ローラ１２の上方には、電離放射線照射
装置１８が設置されており、照射装置１８の下を通る際
に電離放射線が照射され、透明基材フィルム１上の電離
放射線硬化性樹脂組成物が架橋硬化し、透明層３と透明
基材フィルム１とが接着する。この後、硬化した透明層
３を透明基材フィルムと共に、離型し、巻き取る。

【００５４】なお、透明基材フィルム１をラミネートす
るときは、型ローラ表面の凹部１２ａが少なくとも埋ま
っており、埋めた電離放射線硬化性樹脂組成物の露出面
に透明基材フィルムが接していれば足りるが、透明基材
フィルムを使用しないときは、電離放射線硬化性樹脂組
成物が型面上で連続した皮膜を生成するよう、十分な量
の電離放射線硬化性樹脂組成物を適用するとよい。な
お、図示の例では型ローラ１２に電離放射線硬化性樹脂
組成物を適用するようにしており、この方が好ましい
が、ラミネート時の気泡の抱き込みを防止できるのな
ら、電離放射線硬化性樹脂組成物を、透明基材フィルム
１側に適用した後、型ローラ１２に接触させてもよい
し、あるいは、型ローラ１２に透明基材フィルム１が接
する位置に電離放射線硬化性樹脂組成物を供給してもよ
い。

【００５５】型ローラ１２の表面に電離放射線硬化性樹
脂組成物を塗布した後に、必要ならドクタリングを施し
て、塗付量を規制してもよい。上記において、電離放射
線としては、通常、紫外線、もしくは電子線を用いる
が、これら以外であってもよい。また、照射する場所は
上方の一個所に限定することはなく、塗付直後から、ニ
ップローラ１１ｂを通過するまでの任意の位置に所望の
個数の電離放射線照射装置を設置して照射を行なってよ
い。また、型ローラ１２の周囲で、充分な場所が確保で
きない場合には、ニップローラ１１ｂを出た後の位置に
更に電離放射線照射装置を設置して照射を行なってもよ
い。

【００５６】電離放射線照射により、電離放射線硬化性
樹脂組成物１７が硬化するとともに、透明基材フィルム
１との間の接着力が生じるので、その後、透明基材フィ
ルム１ごと剥離することにより、透明基材フィルム１上
に硬化した電離放射線硬化性樹脂組成物からなる透明層
３が積層しており、かつ透明層３の表面に、型面の微細
凹凸形状が反映した微細凹凸を有する反射防止材が得ら
れる。

【００５７】なお、透明基材フィルムを伴なわない反射
防止材を得るには、透明基材フィルムのラミネートを省
いて行なう方法もあるが、透明基材フィルム１の電離放
射線硬化性樹脂組成物を適用する側の表面に剥離性を与
えておき、型面から透明層を剥離すると同時に透明基材
フィルム１を分離してしまうか、あるいは先に透明基材
フィルム１のみ剥離した後に透明層３を剥離するか、も
しくは共に剥離後に透明基材フィルム１を剥離すること
によっても、透明基材フィルム１を伴なわない反射防止
材とすることができる。透明基材フィルム１を工程中に
使用した方が、透明層３の厚みの規制がしやすく、空中
の塵埃の影響も回避できるので好ましい。

【００５８】本発明の反射防止材は、微細凹凸２が表面
に露出したままでも、充分効果を発揮するが、不用意な
接触による傷付きや汚染を防止する意味で、透明層３よ
りも光の屈折率が低い樹脂組成物からなる層４を微細凹
凸２上に積層しておくことが好ましい。

【００５９】層４をフッ素系樹脂もしくはシリコーン系
樹脂の素材で形成すると、いずれも光の屈折率が１．３
〜１．４であるため、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬
化物からなる透明層３の一般的な屈折率（アクリレート
系の樹脂組成物の硬化物であり、光の屈折率は１．５以
上である。）よりも低いので好ましく、なお、これら素
材の水との接触角が１００度以上あるため、防汚性も有
していて好ましい。上記のフッ素系樹脂もしくはシリコ
ーン系樹脂等の使用によって、層４に特別の機能を持た
せる必要性が低いときは、下層の透明層３との接着を考
慮して選択したフッ素系樹脂・シリコーン系樹脂以外の
熱可塑性樹脂を用いて層４を構成してもよい。

【００６０】これらの素材は、蒸着等の乾式工程、もし
くは通常のコーティングのような湿式工程のいずれによ
って形成してもよい。あるいは、透明層３に微細凹凸を
与えるための型面に予め塗付しておき、その上から電離
放射線硬化性樹脂組成物を適用することにより、積層す
る方法も採れる。または、上記のフッ素系樹脂もしくは
シリコーン系樹脂を、透明層３を形成するための電離放
射線硬化性樹脂組成物と混合して、透明層を形成する際
に、これらフッ素系樹脂もしくはシリコーン系樹脂をブ
リードアウトさせることによってよい。

【００６１】本発明の反射防止材は、上記の構成に加え
て、使用時の塵埃の付着を防止するための帯電防止処理
や、反射防止材を適用する際の便を考慮して、微細凹凸
２を有するのとは反対側に粘着加工を施す等を行なって
もよい。

【００６２】帯電防止処理は、具体的には帯電防止剤や
導電性微粒子を適用することにより行なえ、透明層３や
表面層４をコーティングにより形成する際には、用いる
塗料組成物中に混合して適用するとよい。あるいは、帯
電防止処理は、帯電防止剤単体を透明層３上に塗付する
ことによって行なってもよい。透明層３の下層に、もし
くは透明基材フィルム１を伴なうときは、基材フィルム
１と透明層３との間に、導電性微粒子を含んだ塗料組成
物を用いて形成した導電性層もしくは金属酸化物薄膜を
形成することにより、帯電防止処理を行なってもよい。

【００６３】粘着加工は、ポリアクリル酸エステルやゴ
ム系の粘着剤を直接塗付してもよいが、通常は、離型紙
に粘着剤を塗付したものをラミネートすることによって
適用し、離型紙は、粘着剤が露出して不用意に接着した
り、塵埃が付着するのを防止する意味で、使用するまで
の間、貼ったままにしておくとよい。粘着剤層の厚みと
しては、２０〜４０μｍ程度が好ましい。

【００６４】本発明の製造方法によって得られる反射防
止材は、図５、および図６に示すように、ディスプレイ
関係の用途が広い。図５は、偏光板に適用した例を示す
断面図で、表面層２２ａ、偏光層２２ｂ、および裏面層
２２ａ’とが順に積層してなる三層構成の偏光板２２の
上面に反射防止材２１が積層されて、反射防止性の偏光
素子２０が得られる。この場合、表面層２２ａを基材と
して、その上に直接に透明層３を積層してもよいが、上
記の三層構成の偏光板２２の上に、先に説明した粘着加
工済の反射防止材を積層するのが実用上、便利である。

【００６５】上記のように偏光板２２の上面に反射防止
材２１を積層した反射防止性偏光板は、液晶ディスプレ
イに適用すると価値が高い。図６は、透明電極を内面に
有する相対する二枚のガラス板間に液晶がはさんである
液晶パネル２３の上面（＝観察側の面）の上に、上記の
反射防止性偏光板２０が反射防止材２１側が外側を向く
ようにして積層されており、液晶パネル２３の下面に
は、通常の偏光板２２が積層してある。このように構成
すると、液晶ディスプレイの表面における外光の反射が
防止されるので、照明や太陽光等の外光が避けられない
環境下でも、外光が反射して、液晶ディスプレイの表示
内容の視認性が低下することがない。

【００６６】本発明の製造方法によって得られる反射防
止材は、このほか、ＣＲＴ（陰極線管）ディスプレイ、
もしくはプラズマディスプレイ等のディスプレイの表面
に積層するか、もしくは観察側に配置しても、ディスプ
レイ表面における外光の反射を抑制し、表示画像の視認
性の低下を防止することができる。また、本発明の反射
防止材は、金属、ガラスもしくはその他の光沢面を有す
る建材の表面に適用して、不用意な光の反射が起きるこ
とを防止することができ、通行する車両や人の妨げにな
ることを解消すると共に、それらが元来有する外観の視
認性が抑制されるのを防止することができる。

【００６７】

【実施例】（実施例１）ガラス基板上に感光性樹脂層を
積層し、レーザー干渉露光装置で、三方向より露光を行
ない、露光後、溶剤現像を行ない、感光性樹脂が硬化し
た樹脂上に、高さが１８０ｎｍ〜３５０ｎｍ、ピッチが
１００ｎｍ〜３５０ｎｍの突起を格子状に無数に配置し
た原型を得た。また、厚みが１００μｍのポリエチレン
テレフタレート樹脂フィルムの表面に、アクリルポリオ
ール樹脂およびイソシアネート系架橋剤を含有するアン
カー層形成用組成物を用いてアンカー層を形成した。

【００６８】先に準備した原型の型面に、アクリレート
系の紫外線硬化性樹脂を塗布し、塗付面上に、上記のポ
リエチレンテレフタレート樹脂フィルムを、アンカー層
を形成した側が接するようにしてラミネートした。続い
て、ポリエチレンテレフタレート樹脂フィルム側より、
弱い紫外線露光を行なって、プレキュアを行ない、露光
後、原型より、プレキュアした紫外線硬化性樹脂をポリ
エチレンテレフタレート樹脂フィルムと共に剥がし、剥
がしたものに、今度は強い紫外線照射を行なって、アフ
ターキュアを行なって、表面に微小な凹凸が形成された
フィルムを得た。

【００６９】得られた凹凸付きのフィルムを分光光度計
を用い、凹凸が形成された面の反射率を測定したとこ
ろ、波長が４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲で、反射率が
０．１％〜１％である、優れた反射防止能を有するもの
であり、液晶ディスプレイ、ＣＲＴモニター、窓ガラ
ス、太陽電池の表面等に適用するのに適するものであっ
た。

【００７０】

【発明の効果】請求項１の発明によれば、賦型用型、電
離放射線硬化性樹脂組成物、および透明基材を積層した
状態で電離放射線を照射し、その後、離型するのみで、
透明基材上に積層した電離放射線硬化性樹脂組成物の硬
化物の表面に、光の波長以下のピッチの無数の微細凹凸
が形成されるので、製造に要する時間が短く、効率的で
あり、しかも得られる製品の反射率が入射光の波長によ
らず一定である、反射防止材の製造方法を提供すること
ができる。請求項２の発明によれば、請求項１の発明の
効果に加え、透明基材の積層側に予めアンカー層の積層
を行なうので、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物の
層と透明基材との接着力が向上した、反射防止材の製造
方法を提供することができる。請求項３の発明によれ
ば、請求項１または請求項２の発明の効果に加え、賦型
用型と積層した状態での電離放射線硬化性樹脂組成物へ
の電離放射線の照射を短縮でき、賦型用型から離型した
後に、硬化および接着のための電離放射線照射を再度行
なうので、性能上の問題のない、反射防止材の製造方法
を提供することができる。請求項４の発明によれば、請
求項１〜請求項３の発明の効果に加え、賦型用型の準備
を、感光性樹脂へのレーザー干渉露光による原型の作製
と、めっきによる原型の複製によって金属性スタンパー
とすることにより行なうので、各工程は、既に確立され
ていて安定に行なえ、複製の際の型の損傷や摩耗の問題
を回避することができる、反射防止材の製造方法を提供
することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】反射防止材の積層構造を示す断面図である。

【図２】反射防止材の表面の微細凹凸の形状例を示す断
面図である。

【図３】凹凸の配置を示す図である。

【図４】製造装置を示す図である。

【図５】偏光板への適用例を示す断面図である。

【図６】液晶パネルへの適用例を示す断面図である。

【符号の説明】

１反射防止材（１ａ；アンカー層）２凹凸部３透明層４表面層１１ニップローラ１２型ローラ１３ダイヘッド１４液溜め１５スリット１６パイプ１７電離放射線硬化性樹脂組成物１８電離放射線照射装置２０反射防止偏光板２１反射防止材２２偏光板２３液晶パネル

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０３Ｆ 7/11 ５０３Ｇ０９Ｆ 9/00 ３１３５Ｇ４３５ 7/16 Ｂ２９Ｋ 105:24 Ｇ０９Ｆ 9/00 ３１３Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｚ // Ｂ２９Ｋ 105:24 ＡＦターム(参考） 2H025 AA06 AA07 AA08 AA17 AB14 AB17 AC01 AD01 DA35 EA08 2H042 BA04 BA11 BA13 BA15 BA20 2K009 AA12 BB24 BB25 BB28 DD05 DD15 EE03 4F202 AA44 AD05 AD08 AD20 AG05 AH33 CA01 CB02 CB29 CD12 CD22 CD30 4F204 AA44 AD05 AD08 AD20 AG05 AH33 EA03 EA04 EB02 EB11 EF01 EF05 EK17 EK18 EK24 EW02 EW34 5G435 AA01 AA17 FF01 HH03 KK07

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明基材、および光の波長以下のピッチ
の無数の微細凹凸が形成された凹凸型面を有する賦型用
型とを準備し、前記透明基材と前記賦型用型の前記凹凸
型面の側とを、電離放射線硬化性樹脂組成物を介して積
層を行ない、積層を行なった後、前記透明基材と前記賦
型用型との間の前記電離放射線硬化性樹脂組成物への電
離放射線の照射により、前記電離放射線硬化性樹脂組成
物の硬化、および前記透明基材との接着を行ない、その
後、前記硬化物を前記透明基材と共に前記賦型用型から
離型することを行なうことを特徴とする反射防止材の製
造方法。
【請求項２】前記透明基材の前記電離放射線硬化性樹
脂組成物と積層する側に、前記の積層を行なうのに先立
って、アンカー層の積層を行なうことを特徴とする請求
項１記載の反射防止材の製造方法。
【請求項３】電離放射線の照射として、前記電離放射
線硬化性樹脂組成物を予備硬化し、かつ前記透明基材と
予備接着させるための弱い照射を行ない、前記離型後、
さらに、前記電離放射線硬化性樹脂組成物を完全硬化
し、かつ前記透明基材と完全接着させるための強い照射
を行なうことを特徴とする請求項１または請求項２記載
の反射防止材の製造方法。
【請求項４】前記の凹凸型面を有する型を準備するこ
とを、感光性樹脂にレーザー光干渉法により型の凹凸を
形成して原型を得たのち、めっき法により金属製スタン
パーを得ることにより行なうことを特徴とする請求項１
〜請求項３いずれか記載の反射防止材の製造方法。