JP2001281416A

JP2001281416A - 反射防止フィルム

Info

Publication number: JP2001281416A
Application number: JP2000101512A
Authority: JP
Inventors: Kiyotaka Takematsu; 清隆竹松; Fumihiro Arakawa; 文裕荒川; Hiroko Suzuki; 裕子鈴木
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2000-04-03
Filing date: 2000-04-03
Publication date: 2001-10-10

Abstract

(57)【要約】【課題】従来技術において、透明導電性薄膜および低
屈折率層形成に時間がかかり、加工速度が遅かった点、
および透明導電性薄膜の耐腐食性が十分でなかった点を
解消しようとするものである。【解決手段】透明基材フィルム１上に、ハードコート
層３、低屈折率層４ａ、高屈折率層５および低屈折率層
４ｂを順次積層した構造とし、かつ、高屈折率層を、合
金からなる導電性光吸収膜で形成することにより、上記
の課題を解決することができた。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶ディスプレ
イ、ＣＲＴ（陰極線管）ディスプレイ、もしくはプラズ
マディスプレイパネル等のディスプレイの前面に貼る等
して使用する反射防止フィルムと、その製造方法に関す
るものである。

【０００２】

【従来の技術】一般に表示を目的とするディスプレイを
外光の当たる場所で見ようとすると、ディスプレイパネ
ルの前面で外光が反射するため、見づらいものである。
また、ディスプレイパネルにはごみが付着しやすく、Ｃ
ＲＴのように、電子ビームが前面に当たっているもので
は帯電が起きやすく、接触した人との間で放電し、不快
な感じを与える。またディスプレイの前面は手で触った
り、付着したごみを拭う際に傷が付く可能性が大きい。

【０００３】そこで、ディスプレイの前面に、透明フィ
ルムにハードコート層と透明導電性層とを設けた反射防
止フィルムを配置して、傷付き防止、帯電防止、および
反射防止を図ることが行なわれている。代表的な構成
は、透明基材フィルム上に、傷付き防止のためポリメチ
ルメタクリレート樹脂等のハードコート層を積層し、そ
の上に帯電防止のために酸化インジウム錫（錫をドープ
したＩｎ₂０₃で、ＩＴＯと呼ばれる）等の透明導電性薄
膜を積層し、さらにその上に反射防止のために透明導電
性薄膜よりも屈折率の低い、低屈折率薄膜、例えばＳｉ
Ｏ₂の薄膜を形成したものである。

【０００４】しかし、上記の構成の反射防止フィルムに
おいては、透明導電性薄膜としては４０ｎｍ〜１００ｎ
ｍ程度の厚みが必要であり、ＳｉＯ₂の薄膜としても５
０ｎｍ〜１１０ｎｍ程度の厚みが必要であるため、スパ
ッタ法等で薄膜を形成しようとすると、時間がかかるた
め、加工速度が遅くなる欠点がある。またＩＴＯ等の透
明導電性薄膜は、透明性は優れているものの、金属導電
とは異なり、半導体的導電性であるために、酸化度によ
って導電性が変化し、不安定であるという欠点がある。
さらに、上記の構成の反射防止フィルムでは、人間が眩
しいと感じる可視光領域（波長４５０ｎｍ〜６５０ｎ
ｍ）の赤色光側および青色光側の反射率が充分に低下せ
ず、前記波長領域での反射率低下が実現しないので、眩
しさが残る。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明におい
ては、上記の従来の技術において、透明導電性薄膜およ
び低屈折率層形成に時間がかかり、加工速度が遅かった
点、透明導電性薄膜の耐腐食性が十分でなかった点、お
よび人間が眩しいと感じる可視光領域（波長４５０ｎｍ
〜６５０ｎｍ）での反射率が一定しない点を解消しよう
とするものである。

【０００６】

【課題を解決する手段】本発明においては、ハードコー
ト層上の高屈折率層および低屈折率層の構成に代えて、
中屈折率層、高屈折率層および低屈折率層の３種の層を
用い、特に、高屈折率層を耐腐食性の程度の異なる２種
類の金属の合金の層を形成することにより、上記の課題
を解決することができた。

【０００７】第１の発明は、透明基材フィルム、ハード
コート層、中屈折率層、高屈折率層、および低屈折率層
とが順に積層されており、前記中屈折率層は屈折率が
１．５以上の超微粒子がバインダー樹脂中に分散した層
からなり、前記高屈折率層は互いに異なる金属からなる
合金の薄膜からなることを特徴とする反射防止フィルム
に関するものである。第２の発明は、第１の発明におい
て、中屈折率層が、ＺｎＯ、ＴｉＯ₂、ＣｅＯ₂、Ｓｂ₂
Ｏ₅、ＳｎＯ₂、酸化インジウム錫、アンチモンドープの
酸化インジウム錫、Ｉｎ₂Ｏ₃、Ｙ₂Ｏ₃、Ｌａ₂Ｏ₃、Ａｌ
₂Ｏ₃、ＨｆＯ₂、およびＺｒＯ₂からなる群より選ばれた
１種類もしくは２種類以上からなる超微粒子を含むこと
を特徴とする反射防止フィルムに関するものである。第
３の発明は、第１または第２の発明において、高屈折率
層を構成する金属が、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｈｆ、
Ｚｎ、Ｚｒ、Ｍｏ、およびＴａからなる群より選ばれた
ものであることを特徴とする反射防止フィルムに関する
ものである。第４の発明は、第１〜第３いずれか記載の
発明において前記低屈折率層がＳｉＯ₂からなることを
特徴とする反射防止フィルムに関するものである。第５
の発明は、第１〜第４いずれか記載の発明において、前
記低屈折率層がプラズマＣＶＤ法、蒸着法、スパッタリ
ング法、もしくはゾル−ゲル法、またはそれらの併用に
より形成されたものであることを特徴とする請求項１〜
４いずれか記載の反射防止フィルムに関するものであ
る。第６の発明は、第１の発明において、前記ハードコ
ート層は、硬化性樹脂組成物が架橋硬化した膜からなる
ことを特徴とする反射防止フィルムに関するものであ
る。第７の発明は、第１または６の発明において、前記
ハードコート層は、プライマー層を介して透明基材フィ
ルム上に積層されていることを特徴とする反射防止フィ
ルムに関するものである。第８の発明は、第１、第６、
または第７いずれかの発明において、前記ハードコート
層の上面が微細な凹凸を有していることを特徴とする請
求項１、６、または７記載の反射防止フィルムに関する
ものである。第９の発明は、第１〜第８いずれかの発明
において、最上層に防汚層が積層されていることを特徴
とする反射防止フィルムに関するものである。

【０００８】

【発明の実施の形態】本発明の反射防止フィルムは図１
に示すように、透明基材フィルム１上に、プライマー層
２、ハードコート層３、中屈折率層４、高屈折率層５、
低屈折率層６、および防汚層６が順次積層されている構
造を有するものである。

【０００９】図１においては、反射防止層を構成する各
層を表面が平坦な層として描いてあるが、例えば、ハー
ドコート層３は図２に示すように、上面が凹凸８を有し
ていてもよく、このハードコート層３の上面の凹凸に沿
って、その上の各層、即ち、中屈折率層４、高屈折率層
５、低屈折率層６、および防汚層６が形成されていても
よい。各層を構成する素材、各層の形成方法について、
次に述べる。

【００１０】透明基材フィルム１としては、透明性、平
滑性を備え、異物の混入のないものが好ましく、また、
加工上および使用上の理由で機械的強度があるものが好
ましい。さらに、反射防止フィルムにディスプレイの熱
が伝わって来るような場合には、耐熱性があるものが好
ましい。

【００１１】一般的に透明基材フィルム１として好まし
いものは、セルロースジアセテート、セルローストリア
セテート、セルロースアセテートブチレート、ポリエス
テル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォ
ン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペン
テン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエ
ーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネ
ート、もしくはポリウレタン等の熱可塑性樹脂のフィル
ムである。

【００１２】写真用乳剤を塗布した写真用フィルムの場
合に、よく用いられるポリエステルや、透明性が高く光
学的に異方性がないので、やはり写真用フィルムによく
用いられるセルローストリアセテート等が通常、好まし
い。なお、これらの熱可塑性樹脂のフィルムはフレキシ
ブルで使いやすいが、取り扱い時も含めて曲げる必要が
全くなく、硬いものが望まれるときは、上記の樹脂の板
やガラス板等の板状のものも使用できる。厚みとして
は、８〜１０００μｍ程度が好ましいが、板状のものの
場合には、この範囲を超えてもよい。

【００１３】上記の透明基材フィルム１には、その上に
形成する層との接着性の向上のために、通常、行なわれ
得る各種の処理、即ち、コロナ放電処理、酸化処理等の
物理的な処理のほか、アンカー剤もしくはプライマーと
呼ばれる塗料の塗布を予め行なってプライマー層２を形
成しておいてもよい。

【００１４】ハードコート層３は、本発明の反射防止フ
ィルムの表面の傷付きが起きないよう、耐擦傷性を向上
させるためのものである。傷が付くのは、傷の原因とな
る物質との硬度の差によるためであり、場合によっては
熱可塑性の樹脂を樹脂成分とする組成物で構成してもよ
いが、一般的には熱硬化性樹脂を樹脂成分とする組成物
を硬化させたもので構成することが好ましく、フレキシ
ブルさを備えている点でポリウレタン樹脂等を樹脂成分
とする組成物等を用いて構成することが好ましい。

【００１５】さらに一層の効果を望む場合には、電離放
射線硬化性樹脂、もしくは電離放射線硬化性化合物を含
む電離放射線硬化性組成物を電離放射線の照射によって
架橋硬化させたもので構成することである。ハードコー
ト層２のハードさとしては、ＪＩＳＫ５４００で示す
鉛筆硬度試験で「Ｈ」以上の硬度を示すことが好まし
い。

【００１６】電離放射線硬化性組成物としては、分子中
に重合性不飽和結合または、エポキシ基を有するプレポ
リマー、オリゴマー、及び／又はモノマーを適宜に混合
したものである。電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子
線のうち分子を重合又は架橋し得るエネルギー量子を有
するものを指し、通常は、紫外線又は電子線を用いる。

【００１７】電離放射線硬化性組成物中のプレポリマ
ー、オリゴマーの例としては、不飽和ジカルボン酸と多
価アルコールの縮合物等の不飽和ポリエステル類、ポリ
エステルメタクリレート、ポリエーテルメタクリレー
ト、ポリオールメタクリレート、メラミンメタクリレー
ト等のメタクリレート類、ポリエステルアクリレート、
エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエ
ーテルアクリレート、ポリオールアクリレート、メラミ
ンアクリレート等のアクリレート、カチオン重合型エポ
キシ化合物が挙げられる。

【００１８】電離放射線硬化性組成物中のモノマーの例
としては、スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン
系モノマー、アクリル酸メチル、アクリル酸−２−エチ
ルヘキシル、アクリル酸メトキシエチル、アクリル酸ブ
トキシエチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸メトキシ
ブチル、アクリル酸フェニル等のアクリル酸エステル
類、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタク
リル酸プロピル、メタクリル酸メトキシエチル、メタク
リル酸エトキシメチル、メタクリル酸フェニル、メタク
リル酸ラウリル等のメタクリル酸エステル類、アクリル
酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）エチル、アクリル
酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル、アクリル
酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ）メチル、アクリ
ル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）プロピル等の不
飽和置換の置換アミノアルコールエステル類、アクリル
アミド、メタクリルアミド等の不飽和カルボン酸アミ
ド、エチレングリコールジアクリレート、プロピレング
リコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジア
クリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレー
ト、トリエチレングリコールジアクリレート等の化合
物、ジプロピレングリコールジアクリレート、エチレン
グリコールジアクリレート、プロピレングリコールジメ
タクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート
等の多官能性化合物、及び／又は分子中に２個以上のチ
オール基を有するポリチオール化合物、例えばトリメチ
ロールプロパントリチオグリコレート、トリメチロール
プロパントリチオプロピレート、ペンタエリスリトール
テトラチオグリコレート等が挙げられる。

【００１９】通常、電離放射線硬化性組成物中のモノマ
ーとしては、以上の化合物を必要に応じて、１種若しく
は２種以上を混合して用いるが、電離放射線硬化性組成
物に通常の塗布適性を与えるために、前記のプレポリマ
ー又はオリゴマーを５重量％以上、前記モノマー及び／
又はポリチオール化合物を９５重量％以下とするのが好
ましい。

【００２０】電離放射線硬化性組成物を塗布し、硬化さ
せたときのフレキシビリティーが要求されるときは、モ
ノマー量を減らすか、官能基の数が１又は２のアクリレ
ートモノマーを使用するとよい。電離放射線硬化性組成
物を塗布し、硬化させたときの耐摩耗性、耐熱性、耐溶
剤性が要求されるときは、官能基の数が３つ以上のアク
リレートモノマーを使う等、電離放射線硬化性組成物の
設計が可能である。ここで、官能基が１のものとして、
２−ヒドロキシアクリレート、２−ヘキシルアクリレー
ト、フェノキシエチルアクリレートが挙げられる。官能
基が２のものとして、エチレングリコールジアクリレー
ト、１，６−ヘキサンジオールジアクリレートが挙げら
れる。官能基が３以上のものとして、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリア
クリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサアクレリート等が挙
げられる。

【００２１】電離放射線硬化性組成物を塗布し、硬化さ
せたときのフレキシビリティーや表面硬度等の物性を調
整するため、電離放射線硬化性組成物に、電離放射線照
射では硬化しない樹脂を添加することもできる。具体的
な樹脂の例としては次のものがある。ポリウレタン樹
脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリ
エステル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポ
リ酢酸ビニル等の熱可塑性樹脂である。中でも、ポリウ
レタン樹脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹
脂等の添加がフレキシビリティーの向上の点で好まし
い。

【００２２】電離放射線硬化性組成物の塗布後の硬化が
紫外線照射により行われるときは、光重合開始剤や光重
合促進剤を添加する。光重合開始剤としては、ラジカル
重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノ
ン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイ
ン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用
いる。また、カチオン重合性官能基を有する樹脂系の場
合は、光重合開始剤として、芳香族ジアゾニウム塩、芳
香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロ
ン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は
混合物として用いる。光重合開始剤の添加量は、電離放
射線硬化性組成物１００重量部に対し、０．１〜１０重
量部である。

【００２３】電離放射線硬化性組成物には、次のような
有機反応性ケイ素化合物を併用してもよい。

【００２４】有機ケイ素化合物の１は、一般式Ｒ_mＳｉ
（ＯＲ’）_nで表せるもので、ＲおよびＲ’は炭素数１
〜１０のアルキル基を表し、Ｒの添え字ｍとＲ’の添え
字ｎとは、各々が、ｍ＋ｎ＝４の関係を満たす整数であ
る。

【００２５】具体的には、テトラメトキシシラン、テト
ラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラ
ン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブト
キシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ
−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシ
ラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テト
ラペンタ−ｎ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−
ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラ
ン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチル
トリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メ
チルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、
ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、
ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、
ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メ
チルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等
が挙げられる。

【００２６】電離放射線硬化性組成物に併用し得る有機
ケイ素化合物の２は、シランカップリング剤である。

【００２７】具体的には、γ−（２−アミノエチル）ア
ミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエ
チル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキ
シシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ
−メタクリロキシプロピルメトキシシラン、Ｎ−β−
（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）−γ−アミノプロ
ピルメトキシシラン・塩酸塩、γ−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン、アミノシラン、メチルメトキシ
シラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプト
プロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリ
メトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリ
ス（β−メトキシエトキシ）シラン、オクタデシルジメ
チル［３−（トリメトキシシリル）プロピル］アンモニ
ウムクロライド、メチルトリクロロシラン、ジメチルジ
クロロシラン等が挙げられる。

【００２８】電離放射線硬化性組成物に併用し得る有機
ケイ素化合物の３は、電離放射線硬化性ケイ素化合物で
ある。具体的には、電離放射線の照射によって反応し架
橋する複数の官能基、例えば、重合性二重結合基を有す
る分子量５，０００以下の有機ケイ素化合物が挙げら
れ、より具体的には、片末端ビニル官能性ポリシラン、
両末端ビニル官能性ポリシラン、片末端ビニル官能ポリ
シロキサン、両末端ビニル官能ポリシロキサン、又はこ
れらの化合物を反応させたビニル官能性ポリシラン、も
しくはビニル官能性ポリシロキサン等が挙げられる。

【００２９】より具体的には、次のような化合物であ
る。

【００３０】

【化１】

【００３１】その他、電離放射線硬化性組成物に併用し
得る有機ケイ素化合物としては、３−（メタ）アクリロ
キシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリ
ロキシプロピルメチルジメトキシシラン等の（メタ）ア
クリロキシシラン化合物等が挙げられる。

【００３２】ハードコート層３は、以上のような組成物
を用いて、公知のコーティング法により、透明基材フィ
ルム上に塗布し、塗布に用いた組成物に応じた手段によ
り塗膜を硬化させる。組成物として電離放射線硬化性組
成物を用いた場合には、その組成により、紫外線もしく
は電子線を選択して照射し、塗膜を架橋硬化させる。ハ
ードコート層３の厚みは、好ましくは０．５〜３０μ
ｍ、より好ましくは３〜１５μｍである。ハードコート
層２の厚みは薄すぎると、その上に形成する各層の硬度
を維持できなくなり、また厚すぎると、反射防止フィル
ム全体のフレキシブルさを低下させ、また、硬化に時間
がかかる等、生産効率の低下をまねく。

【００３３】ハードコート層３の上面は、図２に示すよ
うに凹凸７を形成することにより、透明基材フィルム側
からのディスプレイの入射光を散乱させ、反射防止フィ
ルムの特定の部分の輝度が高くなって不自然な「ぎらつ
き」を起こすのを緩和させることができる。凹凸７の形
成は、ハードコート層３を透明基材フィルム２上に塗布
形成する際に、凹凸を有する型付け用フィルムで塗膜を
被覆したまま固化させるか、形成された塗膜に型付け用
ロール等の型付け手段を、必要に応じて加熱しつつ押し
付けて行なうか、あるいは、剥離面に凹凸を有する剥離
性基材上にハードコート層３を塗布形成して転写シート
を作成し、その転写シートを用いて転写する等によれば
よい。凹凸７の程度は、凹凸の高低差が０．２〜１０μ
ｍ、ピッチが２０〜２００μｍ程度がよい。

【００３４】中屈折率層４は、ハードコート層３上に単
に高屈折率層５および低屈折率層６を順に接着しても、
可視光全域での一定な低反射率が得られない点を解消す
るものであり、具体的には、中屈折率層３は、屈折率が
１．５以上の超微粒子がバインダー樹脂中に分散した層
からなるものである。

【００３５】屈折率が１．５以上の超微粒子とは、素材
的としては、例えばＺｎＯ（屈折率１．９０、以下カッ
コ内の数値は屈折率を表す。）、ＴｉＯ₂（２．３〜
２．７）、ＣｅＯ₂（１．９５）、Ｓｂ₂Ｏ₅（１．７
１）、ＳｎＯ₂（１．９９７）、ＩＴＯと略して呼ばれ
ることの多い酸化インジウム錫（１．９５）、Ｉｎ₂Ｏ₃
（２．００）、Ｙ₂Ｏ₃（１．８７）、Ｌａ₂Ｏ₃（１．９
５）、Ａｌ₂Ｏ₃（１．６３）、ＨｆＯ₂（２．００）、
もしくはＺｒＯ₂（２．０５）等の酸化物である。これ
らの超微粒子の屈折率は、中屈折率層４を構成するバイ
ンダー樹脂の屈折率よりも高いことが好ましい。列挙し
た超微粒子のうち、ＴｉＯ₂を用いると、屈折率の制御
のために必要な超微粒子の添加量が少なくて済むと共
に、バインダー樹脂分を相対的に増やせるので、中屈折
率層の形成上、および得られる中屈折率層の硬度の点で
も有利である。また、ＺｒＯ₂を用いると、ＺｒＯ₂は光
学不活性であるため、中屈折率層４の耐光性および耐湿
熱性が非常に良好となり、特に好ましい。

【００３６】上記の屈折率が１．５以上の酸化物の超微
粒子は、その平均粒径が２〜１００ｎｍのものが好まし
く、より好ましくは５〜３０ｎｍである。

【００３７】中屈折率層４は、前述したように、上記の
超微粒子を、バインダー樹脂中に分散した層からなるも
のであり、具体的には、超微粒子をバインダー樹脂と共
に塗料化してハードコート層３上に塗布するか、もしく
は別体の転写シート上に転写層として構成しておき、ハ
ードコート層３上に転写することにより積層する。

【００３８】バインダー樹脂としては、ハードコート層
３を形成するための組成物中の樹脂成分を構成する樹脂
として、先に挙げたものと同様、熱可塑性樹脂、熱硬化
性樹脂、もしくは電離放射線硬化性樹脂もしくは電離放
射線硬化性化合物（有機反応性ケイ素化合物を含む）を
使用すればよい。バインダー樹脂としては、熱可塑性の
樹脂も使用可能であるが、熱硬化性樹脂を使用すること
がより好ましく、もっと好ましいのが、電離放射線硬化
性樹脂、もしくは電離放射線硬化性化合物を含む電離放
射線硬化性組成物を使用して塗料を構成する場合であ
る。

【００３９】超微粒子、およびバインダー樹脂は、この
他の添加剤と共に、必要に応じて、溶剤、希釈剤と共に
混練して、塗料組成物を調製し、得られた塗料組成物を
用いて、任意の塗布方法によりハードコート層３上、も
しくは転写シート上に塗膜を形成し、組成物に応じた硬
化の手段により硬化させる。なお、塗料組成物の調製の
際に、超微粒子の分散性向上の目的で、界面活性剤や分
散性モノマー、ポリマー等を添加してもよい。

【００４０】中屈折率層４の好ましい厚みは、中屈折率
層４中の超微粒子の種類、および後記する高屈折率層５
を構成する金属の種類によって多少変動するが、全体と
しては１００〜１８０ｎｍ程度が適当である。中屈折率
層４の厚みが過大であっても、あるいは過小であって
も、可視光領域における波長（横軸）と反射率（縦軸）
の関係が一定にならず、波長の変化により赤色光領域お
よび青色光領域の反射率が上がる（Ｖ字型）、もしくは
平坦にならない（Ｗ字型等）等により好ましくない。よ
り好ましい具体的な例として、中屈折率層４中の超微粒
子がＺｒＯ₂で、高屈折率層５を構成する金属がＣｒ、
およびＮｉである場合には、中屈折率層４の厚みは１４
０ｎｍ〜１６０ｎｍ程度とすることがより好ましい。

【００４１】中屈折率層４中における超微粒子／バイン
ダー樹脂比（質量比）は、層４の屈折率として予め予定
された値を実現するよう決定する。前段落で挙げたより
好ましい具体例においては、ＺｒＯ₂の屈折率が２．０
５であり、バインダー樹脂として屈折率が１．５２のも
のを使用したとき、超微粒子／バインダー樹脂比は、１
／１．２とすればよい。この所定の比よりも超微粒子の
割合が過小であると、得たい屈折率を実現できなくな
り、反射防止性能を発揮することができないし、多すぎ
ると、中屈折率層の塗膜の硬度が不足する。特に多すぎ
る場合の支障が大きいので、もし、得たい屈折率の値が
大きいときは、超微粒子の割合を増やすよりも、より屈
折率の高い超微粒子を選択して使用する方がよい。

【００４２】中屈折率層４の上には、合金の薄膜からな
る高屈折率層５が積層されている。合金を構成する金属
としては、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｚｎ、Ｚ
ｒ、Ｍｏ、もしくはＴａがあり、これら金属を２種類以
上用いる。

【００４３】この高屈折率層５は、合金を素材とするた
め、導電性を有しており、反射防止フィルムに帯電防止
性を与える。また、これら合金の薄膜は可視光を吸収
し、過度に厚いと光の透過度を低下させるので、厚みと
しては二層の合計の厚みで、１ｎｍ〜１０ｎｍが好まし
い。

【００４４】高屈折率層５は、蒸着法、スパッタリング
法、もしくはプラズマＣＶＤ法等により形成することが
できる。

【００４５】低屈折率層６は、ＳｉＯ₂からなる薄膜で
あり、蒸着法、スパッタリング法、もしくはプラズマＣ
ＶＤ法等により、またはＳｉＯ₂ゾルを含むゾル液から
ＳｉＯ₂ゲル膜を形成する方法により上記の高屈折率層
５上に形成されたものであって、これらの形成方法を併
用して形成してもよい。なお、低屈折率層６は、ＳｉＯ
₂以外にも、ＭｇＦ₂の薄膜や、その他の素材でも構成し
得るが、下層に対する密着性が高い点で、ＳｉＯ₂薄膜
を使用することが好ましい。上記の手法のうち、プラズ
マＣＶＤ法によるときは、有機シロキサンを原料ガスと
し、他の無機質の蒸着源が存在しない条件で行なうこと
が好ましく、また、被蒸着体である、高屈折率層５まで
を積層したフィルムをできるだけ低温度に維持すること
が好ましい。

【００４６】低屈折率層６の厚みは、５０〜１１０ｎｍ
程度が好ましく、より好ましくは、８０〜１１０ｎｍで
あり、この範囲より薄すぎても厚すぎても、反射防止機
能が十分でないので、効果的な反射防止機能を得るた
め、この範囲であることが望ましい。

【００４７】ＳｉＯ₂からなる低屈折率層６には、未分
解の有機シロキサンを含み、ケイ素に対して炭素が０．
１〜０．２残存するようにすることにより、反射防止フ
ィルムの取り扱い上、好ましいフレキシビリティを有
し、また下層との接着性の優れたものとすることができ
る。このようにして形成された低屈折率層６は、水に対
する表面の接触角が４０〜１８０度のＳｉＯ₂からな
り、粉塵の付着を防止する防汚効果の点でも好ましいも
のである。

【００４８】本発明の反射防止フィルムには、最上層に
防汚層７を有していてもよい。防汚層７は、ディスプレ
イパネルの前面に配置した反射防止フィルムにごみや汚
れが付着するのを防止し、あるいは付着しても除去しや
すくするために形成される。具体的には、反射防止機能
を低下させない範囲でフッ素系界面活性剤等の界面活性
剤、フッ素系樹脂を含む塗料、シリコーンオイル等の剥
離剤、もしくはワックス等をごく薄く塗布し、余剰分を
拭い除去しておく。防汚層６は、恒久的な層として形成
してもよいが、必要の都度、塗布して形成してもよい。
防汚層の厚みとしては、１〜２０ｎｍ程度が好ましい。

【００４９】本発明の反射防止フィルムは、透明基材フ
ィルムを基材として、順次各層を積層することにより形
成できるが、各層のうちの一部を転写で形成することも
できる。

【００５０】

【実施例】（実施例１）厚み１８８μｍのポリエテレン
テレフタレート樹脂フィルムに、アクリル系の紫外線硬
化型塗料を用いて、グラビアコーティングによる塗布
と、塗布後の紫外線照射により、厚み４μｍのハードコ
ート層を形成し、その上に粒径８ｎｍのＺｒＯ₂とバイ
ンダー樹脂とを屈折率が１．７６になるよう、質量比を
１／１．２で混合した塗料組成物を用い、グラビアコー
ティング法によりコーティングして、厚み１５３ｎｍの
中屈折率層を形成した。

【００５１】続いて、中屈折率層上に、いずれも厚み２
ｎｍのＮｉ−Ｃｒ合金薄膜をスパッタリングにより形成
して、高屈折率層とした。続いて、高屈折率層上に、Ｓ
ｉＯ₂のゾル溶液を塗布し、乾燥させて、厚み９０ｎｍ
の低屈折率層を形成した。最後にフッ素系界面活性剤を
厚みが２ｎｍになるようコーティングして、防汚層を形
成し、反射防止フィルムとした。

【００５２】（実施例２）厚み１８８μｍのポリエテレ
ンテレフタレート樹脂（＝ＰＥＴ）フィルムに、アクリ
ル系の紫外線硬化型塗料を用いて、グラビアコーティン
グによる塗布と、塗布後の紫外線照射により、厚み８μ
ｍのハードコート層を形成した。これとは別に、厚み５
０μｍのフィルム（ＰＥＴフィルム）上に、平均粒径１
０ｎｍのＣｅＯ₂とバインダー樹脂とを屈折率が１．７
６になるよう、質量比を１／１．７で混合した塗料組成
物を用い、グラビアコーティング法によりコーティング
して、厚み１５３ｎｍの中屈折率層を転写層として形成
した中屈折率層転写シートを得た。

【００５３】先に形成したハードコート層上に、上記の
中屈折率層転写シートの転写層側が接するようにして重
ねて圧着し、転写シートのフィルム側から紫外線を照射
して硬化させ、その後、転写シートのフィルムを剥がし
て、ＰＥＴフィルム／ハードコート層／中屈折率層の構
成の中間体を得た。得られた中間体の中屈折率層上に、
スパッタリング法により、Ｎｉ−Ｃｒ薄膜を厚みが２ｎ
ｍになるよう形成して高屈折率層とし、さらにその上
に、ＳｉＯ₂ゾル溶液を９０ｎｍ塗布し、１００℃の温
度で加熱して塗膜を硬化させ、低屈折率とした。最後に
フッ素系界面活性剤を厚みが２ｎｍになるようコーティ
ングして、防汚層を形成し、反射防止フィルムとした。

【００５４】（実施例３）厚み２ｎｍのＮｉ−Ｃｒ合金
薄膜を形成する代わりに、同厚みのＡｇ−Ｃｒ合金をや
はりスパッタリング法により形成して高屈折率層とした
以外は、実施例２と同様に行なって反射防止フィルムと
した。

【００５５】（実施例４）Ｎｉ−Ｃｒ合金薄膜を形成す
る代わりに、厚み３ｎｍのＴｉ−Ｃｒ合金の薄膜を高屈
折率層として形成した以外は、実施例２と同様に行なっ
て反射防止フィルムとした。

【００５６】（実施例５）Ｎｉ−Ｃｒ合金薄膜を形成す
る代わりに、厚み２ｎｍのＨｆ−Ｚｒ合金の薄膜を高屈
折率層として形成した以外は、実施例２と同様に行なっ
て反射防止フィルムとした。

【００５７】（比較例１）ハードコート層と中屈折率層
の形成までは実施例２と同様に行なった後、厚み８０ｎ
ｍのＩＴＯ薄膜をスパッタリング法により形成して高屈
折率層とし、その後、厚み９０ｎｍのＳｉＯ₂薄膜を
も、スパッタリング法により形成して低屈折率層とし、
反射防止フィルムとした。

【００５８】（比較例２）高屈折率層として、厚み２ｎ
ｍのＮｉ−Ｔｉ合金薄膜をスパッタリング法により形成
した以外は、実施例２と同様にして行ない、反射防止フ
ィルムとした。

【００５９】（比較例３）高屈折率層として、厚み２ｎ
ｍのＮｉ薄膜をスパッタリング法により形成した以外
は、実施例２と同様にして行ない、反射防止フィルムと
した。

【００６０】各実施例および比較例で得られた反射防止
フィルムについて、高屈折率層の材料、膜厚、および加
工速度、低屈折率層の材料、膜厚、および加工速度、透
過率の変化で見た耐腐食性、波長４５０ｎｍ〜６５０ｎ
ｍにおける平均反射率のデータを「表１」に示す。

【００６１】なお、「表１」中、〜は次の項目を示
す。；「高屈折率層の素材、および厚み」を示す。；「高屈折率層形成の際の加工速度」、単位はｍ／ｍ
ｉｎ．である。；「低屈折率層の形成方法」、なお、いずれの低屈折
率層もＳｉＯ₂であり、「ＳＧ」はゾルゲル法による形
成、「Ｓｐ」はスパッタリングによる形成である。；「低屈折率層の形成の際の加工速度」、単位はｍ／
ｍｉｎ．である。また下段は、高屈折率層の厚み（単
位；ｎｍ）を示す。；「耐腐食性」、温度５０℃、相対湿度９５％の環境
下で１０００時間放置する湿熱試験の前後の光の透過率
の変化で評価したもので、「５６％→６３％」とあるの
は、湿熱試験前の光の透過率が５６％、湿熱試験後の光
の透過率が６３％であることを示す。また、湿熱試験前
後の光の透過率の変化が無く、かつ色の変化のないもの
を「○」、そうでないものを「×」とする。；「平均反射率」、４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの波長範
囲の光の入射に対する平均反射率である。

【００６２】

【表１】

【００６３】

【発明の効果】請求項１の発明によれば、高屈折率層を
合金の薄膜で構成したので、厚みを薄くすることがで
き、製造する際の加工速度が速い反射防止フィルムを提
供できる。また、高屈折率層を合金で構成したので、合
金を構成する金属として、光学特性が良好だが耐腐食性
に乏しい金属と耐腐食性が優れた金属とを併用できるの
で、耐腐食性の向上した反射防止フィルムを提供でき
る。さらに中屈折率層を介在させたので、可視光全域に
わたって一定な低反射率を有する反射防止フィルムを提
供できる。請求項２の発明によれば、請求項１の発明の
効果に加え、中屈折率層が具体的な金属酸化物の超微粒
子を含んで構成されたものであるため、樹脂バインダー
中に分散し塗料化して適用出来るので、中屈折率層の形
成が容易で高速で行なえる利点のある反射防止フィルム
を提供できる。請求項３の発明によれば、請求項１の発
明の効果に加え、高屈折率層が列挙した金属から構成さ
れたものであるため、ごく薄くて済み、高屈折率層の形
成が高速で行なえる利点のある反射防止フィルムを提供
できる。請求項４の発明によれば、請求項１〜３いずれ
かの発明の効果に加え、低屈折率層として耐腐食性の高
いものを使用するので、下層の高屈折率層の腐食を防止
することができる。請求５の発明によれば、請求項１〜
４いずれかの発明の効果に加え、低屈折率層の形成方法
を特定したので、反射防止フィルムを効率よく安定に提
供できる。請求項６の発明によれば、請求項１の発明の
効果に加え、ハードコート層が硬化性樹脂組成物が架橋
硬化した膜から構成されたものであるので、表面の硬度
が高く、傷付きにくい利点のある反射防止フィルムを提
供できる。請求項７の発明によれば、請求項１または６
の発明の効果に加え、ハードコート層がプライマー層を
介して積層されたものであるので、ハードコート層の密
着性が優れた反射防止フィルムを提供できる。請求項８
の発明によれば、請求項１、６、または７の発明の効果
に加え、ハードコート層の上面が微細な凹凸を有してい
るので、使用時に特定の部分の輝度が高くてまぶしいた
めに視認性が低下する恐れの少ない反射防止フィルムを
提供できる。請求項９の発明によれば、請求項１〜８い
ずれかの発明の効果に加え、最上層に防汚層が積層され
ているため、汚れにくく、万一汚れても、汚れの除去の
容易な反射防止フィルムを提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】反射防止フィルムの構造を示す断面図である。

【図２】反射防止フィルムのハードコート層３の上面の
形状例を示す断面図である。

【符号の説明】

１透明基材フィルム２プライマー層３ハードコート層４中屈折率層５高屈折率層６低屈折率層７防汚層８凹凸

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者鈴木裕子東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号大日本印刷株式会社内Ｆターム(参考） 2H091 FA31X FA37X FB13 FC02 FC22 FC23 GA16 KA01 LA02 LA07 LA18 2K009 AA06 AA15 BB24 CC03 CC09 CC14 CC24 CC47 DD02 DD04 EE03 EE05 5C058 AA01 AA06 AA11 AB05 BA08 BA35 5G307 FA02 FB01 FB02 FC08 5G435 AA01 BB02 BB06 BB12 DD11 FF01 HH01 KK05 KK07

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明基材フィルム、ハードコート層、中
屈折率層、高屈折率層、および低屈折率層とが順に積層
されており、前記中屈折率層は屈折率が１．５以上の超
微粒子がバインダー樹脂中に分散した層からなり、前記
高屈折率層は互いに異なる金属からなる合金の薄膜から
なることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項２】前記中屈折率層が、ＺｎＯ、ＴｉＯ₂、
ＣｅＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₅、ＳｎＯ₂、酸化インジウム錫、アン
チモンドープの酸化インジウム錫、Ｉｎ₂Ｏ₃、Ｙ₂Ｏ₃、
Ｌａ₂Ｏ₃、Ａｌ₂Ｏ₃、ＨｆＯ₂、およびＺｒＯ₂からなる
群より選ばれた１種類もしくは２種類以上からなる超微
粒子を含むことを特徴とする請求項１記載の反射防止フ
ィルム。
【請求項３】前記高屈折率層を構成する金属が、Ｆ
ｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｍｏ、およ
びＴａからなる群より選ばれたものであることを特徴と
する請求項１または２記載の反射防止フィルム。
【請求項４】前記低屈折率層がＳｉＯ₂からなること
を特徴とする請求項１〜３いずれか記載の反射防止フィ
ルム。
【請求項５】前記低屈折率層がプラズマＣＶＤ法、蒸
着法、スパッタリング法、もしくはゾル−ゲル法、また
はそれらの併用により形成されたものであることを特徴
とする請求項１〜４いずれか記載の反射防止フィルム。
【請求項６】前記ハードコート層は、硬化性樹脂組成
物が架橋硬化した膜からなることを特徴とする請求項１
記載の反射防止フィルム。
【請求項７】前記ハードコート層は、プライマー層を
介して透明基材フィルム上に積層されていることを特徴
とする請求項１または６記載の反射防止フィルム。
【請求項８】前記ハードコート層の上面が微細な凹凸
を有していることを特徴とする請求項１、６、または７
記載の反射防止フィルム。
【請求項９】最上層に防汚層が積層されていることを
特徴とする請求項１〜８いずれかの反射防止フィルム。