JP2003139906A

JP2003139906A - 反射防止フィルム及び反射防止処理された物体

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Publication number: JP2003139906A
Application number: JP2001337284A
Authority: JP
Inventors: Hidetaka Ito; 秀毅伊藤
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 2001-11-02
Filing date: 2001-11-02
Publication date: 2003-05-14
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Abstract

(57)【要約】【課題】均一厚みの反射防止層を転写により板材のよ
うに可撓性に乏しい物体表面に付与でき、可視光領域の
光の反射防止効果に優れる転写用反射防止フィルムを提
供する。【解決手段】支持体１上に、１層又は２層以上からな
る反射防止層２を有し、反射防止層２を構成する層の内
の少なくとも１層２Ａは、シリカを主成分とする無機化
合物微粒子を含む層であり、前記無機化合物微粒子は、
多孔質粒子又は内部に空洞を有する中空粒子であり、支
持体１は反射防止層２から剥離可能である転写用反射防
止フィルム。反射防止層２を支持体１から対象物体上に
転写し、反射防止処理を行う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、転写用反射防止フ
ィルム、転写により反射防止処理された物体及び転写に
より反射防止処理された物体を製造する方法に関する。
また、本発明は、反射防止機能の他に帯電防止機能をも
有する転写用反射防止フィルム、転写により反射防止処
理及び帯電防止処理された物体、及び転写により反射防
止処理及び帯電防止処理された物体を製造する方法にも
関する。

【０００２】本発明において、対象となる物体には、均
一厚みの塗布層を形成しにくい板材のような可撓性に乏
しい物体ないしは支持体、ガラスやセラミックスのよう
な物体等が含まれる。例えば、ＣＲＴ、ＬＣＤ、リアプ
ロジェクター用スクリーン、エレクトロルミネッセンス
ディスプレーに代表される表示素子の表面は、反射防止
処理が求められており、本発明における対象物体の具体
例として挙げられる。

【０００３】

【従来の技術】従来より、ＣＲＴ表面等への反射防止処
理は、スパッタリング、スピンコート等によって行われ
ているが、これらは枚葉式で行われるため生産性に乏し
い。このため、ＣＲＴ表面等へ直接的に反射防止処理す
るのではなく、可撓性フィルムを支持体として用いて、
ロールトゥロールで効率よく反射防止フィルムを連続生
産し、反射防止フィルムを用いてＣＲＴ表面等への反射
防止処理が行われるようになってきている。

【０００４】特開平７−２２５３０２号公報には、反射
防止フィルムを対象物表面にラミネートすることが開示
されている。しかしながら、同号公報によれば、対象物
表面には、反射防止フィルムの支持体フィルムが存在
し、その支持体上に反射防止層が存在する。支持体フィ
ルムの存在によって、表面の硬度低下、ヘイズの上昇、
光線透過率の低下、表面被覆の全膜厚の増加といった弊
害が生じる。これらの弊害は、ＣＲＴに代表される表示
素子の表面においては、重要な問題である。

【０００５】特開２０００−３３８３０６号公報には、
離型性を有するベースフィルム面上に、低屈折率層とし
てのシロキサン系樹脂層と、その上の高屈折率層として
の金属酸化物含有層と、さらにその上の接着層とを有す
る反射防止制電板用転写材が開示されている。しかし反
射防止性能において不十分である。

【０００６】特開２００１−１６７６３７号公報には、
マトリックスと内部に空洞を有する空洞粒子等を含む透
明被膜付基材が開示されているが、高温での焼成を要す
るため樹脂フィルム等への適用は困難である。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】このような背景から、
板材のように可撓性に乏しい物体に均一厚みの反射防止
層を簡便に形成でき、可視光領域の光の反射防止効果に
優れる転写用反射防止フィルムの開発が望まれる。

【０００８】そこで、本発明の目的は、均一厚みの反射
防止層を転写により板材のように可撓性に乏しい物体表
面に付与でき、可視光領域の光の反射防止効果に優れる
転写用反射防止フィルム、前記転写用反射防止フィルム
を用いて反射防止処理された物体、及び前記転写用反射
防止フィルムを用いて反射防止処理された物体を製造す
る方法を提供することにある。

【０００９】特に、本発明の目的は、均一厚みの反射防
止層を転写により表示素子表面に付与でき、可視光領域
の光の反射防止効果に優れ、且つ転写後の高い硬度を有
する転写用反射防止フィルム、前記転写用反射防止フィ
ルムを用いて反射防止処理された表示素子、及び前記転
写用反射防止フィルムを用いて反射防止処理された表示
素子を製造する方法を提供することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明者は内部に細孔や
空洞を有する微粒子は屈折率の低い微粒子であることに
着目し鋭意検討した結果、低屈折率層用の材料として、
内部に細孔や空洞を有する微粒子を用い、これを密に充
填することによって、屈折率のより低い低屈折率層が得
られることを見いだし、本発明に到達した。

【００１１】本発明は、支持体上に、１層又は２層以上
からなる反射防止層を有し、反射防止層を構成する層の
内の少なくとも１層は、シリカを主成分とする無機化合
物微粒子を含む層であり、前記無機化合物微粒子は、多
孔質粒子又は内部に空洞を有する中空粒子であり、前記
支持体は前記反射防止層から剥離可能である転写用反射
防止フィルムてある。多孔質粒子又は内部に空洞を有す
る中空粒子は、内部に屈折率＝１の空気を含むため、こ
の無機化合物微粒子含有層の屈折率は小さくなる。

【００１２】本発明は、前記無機化合物微粒子は、表面
被覆層を有する多孔質粒子又は表面被覆層を有する中空
粒子である、前記の転写用反射防止フィルムである。多
孔質粒子又は中空粒子が表面被覆層を有すると、前記多
孔質粒子の細孔部分又は前記中空粒子の内部空洞には、
粒子の外部から新たな気体又は液体の進入がほとんど起
こらず、多孔質又は中空の環境が保持される。そのた
め、無機化合物微粒子含有層の屈折率は小さい。前記無
機化合物微粒子は球状であることが好ましい。

【００１３】本発明は、前記無機化合物微粒子の屈折率
が１．４０以下である、前記の転写用反射防止フィルム
である。

【００１４】本発明は、前記無機化合物微粒子は、架橋
可能な官能基を有する化合物で表面処理されている、前
記の転写用反射防止フィルムである。

【００１５】本発明は、前記無機化合物微粒子におい
て、前記架橋可能な官能基を有する化合物の架橋可能な
官能基は、不飽和二重結合、エポキシ基又は水酸基であ
る、前記の転写用反射防止フィルムである。

【００１６】本発明は、前記反射防止層は、低屈折率層
としての前記無機化合物微粒子を含む層と、この層より
も高い屈折率を有する高屈折率層とを少なくとも含み、
前記低屈折率層と前記高屈折率層とは、支持体上にこの
順で塗布によって形成されたものである、前記の転写用
反射防止フィルムである。

【００１７】本発明は、前記反射防止層上に、紫外線硬
化性モノマー成分を含む紫外線硬化性接着剤層及び／又
は熱硬化性接着剤層を有し、前記接着剤が前記無機化合
物微粒子を含む層中に含浸され、接着剤中の紫外線硬化
性モノマー成分及び／又は熱硬化性成分は、紫外線照射
及び／又は加熱によって前記無機化合物微粒子表面の前
記架橋可能な官能基と架橋反応するものである、前記の
転写用反射防止フィルムである。

【００１８】本発明は、前記高屈折率層は、架橋可能な
官能基を有する化合物で表面処理された金属酸化物微粒
子を含有する、前記の転写用反射防止フィルムである。
前記金属酸化物微粒子において、前記架橋可能な官能基
を有する化合物の架橋可能な官能基は、例えば、不飽和
二重結合、エポキシ基又は水酸基である。

【００１９】本発明は、前記高屈折率層は、導電性微粒
子を含む、前記の転写用反射防止フィルムである。

【００２０】本発明は、前記反射防止層は、塗布された
後、圧縮されて形成されたものである、前記の転写用反
射防止フィルムである。

【００２１】また、本発明は、前記の転写用反射防止フ
ィルムの反射防止層が、接着剤層を介して転写により表
面に設けられている、反射防止処理された物体である。
本発明は、前記の転写用反射防止フィルムの反射防止層
が、接着剤層を介して転写により表面に設けられてい
る、反射防止処理された表示素子である。

【００２２】さらに、本発明は、前記の転写用反射防止
フィルムの反射防止層を支持体から、前記反射防止フィ
ルムに設けられた紫外線硬化性接着剤層及び／又は対象
物体上に予め設けられた紫外線硬化性接着剤層を介し
て、反射防止処理すべき前記対象物体上に転写し、その
後、紫外線照射によって前記接着剤層を硬化させ、対象
物体上に反射防止層を形成することを特徴とする、反射
防止処理された物体を製造する方法である。

【００２３】さらに、本発明は、前記の転写用反射防止
フィルムの反射防止層を支持体から、前記反射防止フィ
ルムに設けられた熱硬化性接着剤層及び／又は対象物体
上に予め設けられた熱硬化性接着剤層を介して、反射防
止処理すべき前記対象物体上に転写し、その後、加熱に
よって前記接着剤層を硬化させ、対象物体上に反射防止
層を形成することを特徴とする、反射防止処理された物
体を製造する方法である。

【００２４】

【発明の実施の形態】図面を参照して、本発明を説明す
る。図１は、本発明の転写用反射防止フィルムの層構成
例を示す断面図である。図２は、本発明の転写用反射防
止フィルムの他の層構成例を示す断面図である。図３
は、本発明の転写用反射防止フィルムの反射防止層が転
写により表面に設けられた反射防止処理された物体の層
構成例を示す断面図である。図４は、本発明の転写用反
射防止フィルムの反射防止層が転写により表面に設けら
れた反射防止処理された物体の他の層構成例を示す断面
図である。なお、上記の転写とは、支持体上の反射防止
層を接着剤層を介して他の物体へ貼り付けることを意味
する。

【００２５】図１の本発明の転写用反射防止フィルムに
おいて、支持体(1) 上に反射防止層(2) が設けられ、反
射防止層(2) 上に紫外線硬化性接着剤層(3) 又は熱硬化
性接着剤層(3) が設けられている。反射防止層(2) は、
シリカを主成分とする無機化合物微粒子を含む層(2A)の
みから構成され、前記無機化合物微粒子は、表面被覆層
を有する多孔質粒子又は中空粒子である。支持体(1) か
ら対象物体表面へ反射防止層(2) を転写する際、支持体
(1) は反射防止層(2) から剥離可能である。

【００２６】支持体(1) から対象物体表面へ反射防止層
(2) が転写された場合、支持体(1)が剥離され、屈折率
の低い層(2A)が対象物体表面の最も外側に位置し、反射
防止効果が得られる。

【００２７】図２の本発明の転写用反射防止フィルムに
おいて、支持体(1) 上に反射防止層(2) が設けられ、反
射防止層(2) 上に紫外線硬化性接着剤層(3) 又は熱硬化
性接着剤層(3) が設けられている。反射防止層(2) は、
低屈折率層としてのシリカを主成分とする無機化合物微
粒子を含む層(2A)と、この低屈折率層(2A)の屈折率より
も高く且つ接着剤層(3) の屈折率よりも高い屈折率を有
する高屈折率層(2B)とから構成され、前記無機化合物微
粒子は、表面被覆層を有する多孔質粒子又は中空粒子で
ある。支持体(1) から対象物体表面へ反射防止層(2) を
転写する際、支持体(1) は反射防止層(2) から剥離可能
である。

【００２８】屈折率が高いか低いかは、高屈折率層と低
屈折率層の屈折率を比べた場合の相対的なものである。
このような反射防止層(2) の層構成とすることによっ
て、支持体(1) から対象物体表面へ反射防止層(2) が転
写された場合、支持体(1) が剥離され、低屈折率層(2A)
が対象物体表面の最も外側に位置し、図１の場合に比べ
てさらに反射防止効果が向上する。

【００２９】図２においては、反射防止層(2) が低屈折
率層(2A)と高屈折率層(2B)の２層から構成されている例
を示した。本発明には、反射防止層(2) が低屈折率層(2
A)と高屈折率層(2B)との間に、低屈折率層(2A)の屈折率
よりは高く、且つ高屈折率層(2B)の屈折率よりは低い屈
折率を有する中屈折率層を有する場合も含まれる。ま
た、本発明には、反射防止層(2) が、図２に示された低
屈折率層(2A)上の高屈折率層(2B)の上にさらに、この高
屈折率層(2B)の屈折率よりは低い屈折率を有する中屈折
率層ないしは低屈折率層を有する場合も含まれる。

【００３０】支持体(1) として、特に限定されることな
く、可撓性樹脂フィルムが好適である。樹脂フィルムは
軽量であり、取扱いも容易である。樹脂フィルムとして
は、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等
のポリエステルフィルム、ポリエチレンやポリプロピレ
ン等のポリオレフィンフィルム、ポリカーボネートフィ
ルム、アクリルフィルム、ノルボルネンフィルム（ＪＳ
Ｒ（株）製、アートンなど）等が挙げられる。樹脂フィ
ルムの他に、支持体として、布、紙等を用いることもで
きる。

【００３１】層(2A)は、シリカを主成分とする無機化合
物微粒子を含む。この無機化合物微粒子は、多孔質粒子
又は内部に空洞を有する中空粒子であり、表面被覆層を
有する多孔質粒子又は表面被覆層を有する中空粒子であ
ることが好ましい。多孔質粒子に表面被覆層が形成され
ていると、その細孔部分には、粒子の外部から気体又は
液体の進入が起こらない。また、中空粒子に表面被覆層
が形成されていると、その空洞部分には、粒子の外部か
ら気体又は液体の進入が起こらない。従って、粒子の細
孔部分又は空洞部分が空気（屈折率＝１）で満たされた
ままであるので、より低い屈折率が得られる。又、粒子
の形状はほぼ球状であることが好ましい。粒子が球状で
あり且つ表面被膜層が形成されていると、層(2A)に外部
から力が加わった場合でも力が分散して集中しないた
め、結果として傷などに強い層となる。

【００３２】前記無機化合物微粒子がシリカを主成分と
するので、層(2A)は硬い膜となり、支持体(1) から対象
物体表面へ反射防止層(2) が転写された場合、層(2A)が
対象物体表面の最も外側に位置し、反射防止効果と共
に、耐スクラッチ性、耐摩耗性効果が得られる。また、
前記無機化合物微粒子がシリカを主成分とするので、層
(2A)はＰＥＴのような樹脂フィルムとは密着性が低く、
対象物体表面への転写において、支持体(1) と層(2A)と
を容易に剥離することができる。

【００３３】前記無機化合物微粒子におけるシリカ以外
の成分としては、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｂ₂Ｏ₃、ＴｉＯ₂、Ｚ
ｒＯ₂、ＳｎＯ₂、ＣｅＯ₂、Ｐ₂Ｏ₃、Ｓｂ₂Ｏ₃、
ＭｏＯ₃、ＺｎＯ₃、ＷＯ₃等が挙げられる。このよう
な無機化合物微粒子については、特開２００１−１６７
６３７号公報に開示がある。

【００３４】前記無機化合物微粒子の屈折率は１．４０
以下であることが好ましく、１．３５以下であることが
より好ましい。また、層(2A)中の前記無機化合物微粒子
の充填度は５０体積％以上であることが好ましい。ここ
で充填度とは、後述のように接着剤が含浸された後の層
(2A)中に含まれる前記無機化合物微粒子が占有する体積
率である。このように無機化合物微粒子を用いることに
より、層(2A)すなわち低屈折率層の屈折率が、例えば、
１．２５以上１．５０未満にできる。前記無機化合物微
粒子の平均粒径は１００ｎｍ以下であり、１０〜３０ｎ
ｍであることが好ましい。

【００３５】また、層(2A)の物理的な膜厚は、好ましく
は０．０５μｍ以上０．５μｍ未満、更に好ましくは
０．０７μｍ以上０．２μｍ以下である。

【００３６】前記無機化合物微粒子は、架橋可能な官能
基を有する化合物で表面処理されていることが好まし
い。前記架橋可能な官能基を有する化合物の架橋可能な
官能基は、特に限定されることなく、ビニル基、アクリ
ル基、メタクリル基などの不飽和二重結合、エポキシ基
又は水酸基である。これらを複数有していても良い。

【００３７】ビニル基、（メタ）アクリル基などの不飽
和二重結合を有する化合物としては、例えば、このよう
な不飽和二重結合を有するシランカップリング剤が挙げ
られる。より具体的には、例えば、ジビニルジメトキシ
シラン、ジビニルジ−β−メトキシエトキシシラン、ビ
ニルトリエトキシシラン、ビニルトリス−β−メトキシ
エトキシシラン、γ−（メタ）アクリロキシプロピルト
リメトキシシラン、γ−（メタ）アクリロキシプロピル
トリエトキシシラン、γ−（メタ）アクリロキシプロピ
ルメチルジエトキシシラン等が挙げられる。

【００３８】このようなシランカップリング剤による前
記無機化合物微粒子の表面処理は、例えば、メタノール
等のアルコール中、室温で両者を攪拌して行うことがで
きる。シランカップリング剤のアルコキシ基が加水分解
し、前記無機化合物微粒子表面の水酸残基とＳｉとの結
合が形成されると考えられる。

【００３９】また、（メタ）アクリル基などの不飽和二
重結合を有する化合物としては、例えば、（メタ）アク
リル酸やそのエステル化合物が挙げられる。より具体的
には、例えば、（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）ア
クリレート、エチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシ
エチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メ
タ）アクリレート等が挙げられる。

【００４０】このような（メタ）アクリル酸や（メタ）
アクリレートによる前記無機化合物微粒子の表面処理
は、例えば、メタノール等のアルコール中、室温で両者
を攪拌して行うことができる。前記無機化合物微粒子表
面の水酸残基に（メタ）アクリロイル基が導入されると
考えられる。また、前記無機化合物微粒子に（メタ）ア
クリル酸クロライドなどの酸ハロゲン化物を作用させて
も、前記無機化合物微粒子表面に（メタ）アクリロイル
基が導入されると考えられる。

【００４１】前記無機化合物微粒子が表面処理され、微
粒子表面に架橋可能な官能基が存在すると、微粒子の表
面同士が架橋すれば、層(2A)中にバインダーが含まれな
くても膜を形成することが可能となる。層(2A)中にバイ
ンダーが含まれていると、微粒子の表面とこのバインダ
ーとの架橋が起こり、より高い硬度の膜が形成される。

【００４２】また、前記無機化合物微粒子が表面処理さ
れ、微粒子表面に架橋可能な官能基が存在すると、接着
剤層(3) に紫外線硬化性接着剤を用いた場合には、（図
２のフィルムの場合には高屈折率層(2B)を通して、）層
(2A)中に含浸してくる紫外線硬化性接着剤に含まれる主
として紫外線硬化性モノマー成分が、紫外線照射によっ
て前記架橋可能な官能基と架橋反応を起こす。また、接
着剤層(3) に熱硬化性接着剤を用いた場合には、（図２
のフィルムの場合には高屈折率層(2B)を通して、）層(2
A)中に含浸してくる熱硬化性接着剤成分が、加熱によっ
て前記架橋可能な官能基と架橋反応を起こす。従って、
接着剤層(3) ／高屈折率層(2B)／層(2A)の各層間の密着
性が向上し、膜の硬度も高くなる。

【００４３】架橋可能な官能基が、ビニル基、アクリル
基、メタクリル基などの不飽和二重結合であれば、紫外
線硬化性アクリル系接着剤に含まれるアクリル系モノマ
ー成分が前記不飽和二重結合とラジカル反応により架橋
する。

【００４４】架橋可能な官能基がエポキシ基であれば、
紫外線硬化性エポキシ系接着剤成分とカチオン重合によ
り結合する。架橋可能な官能基が水酸基であれば、イソ
シアネート系接着剤のイソシアネート成分と熱硬化反応
によるウレタン結合により架橋する。また、シリコーン
系接着剤のシラノール基と熱硬化反応によるシロキサン
結合により架橋する。

【００４５】層(2A)は、前記シリカを主成分とする無機
化合物微粒子（以下、シリカ微粒子とも記す）を有機溶
剤などの溶剤に分散した液を、支持体(1) 上に塗布し、
乾燥することにより設ける。この際、少量のバインダー
樹脂を用いても、用いなくても良いが、用いる場合は少
量であることが好ましい。バインダー樹脂が多いと層(2
A)中におけるシリカ微粒子の充填度が低くなるため好ま
しくない。

【００４６】層(2A)用の分散液の塗布は、グラビア、リ
バースロール等のロールコーター、メイヤーバー、スリ
ットダイコーター等公知の方法で行うとよい。

【００４７】また、塗布、乾燥後、層(2A)を圧縮するこ
とも好ましい。一般的にシリカ微粒子は凝集力が強く、
層(2A)用の分散液がバインダー樹脂を含まない場合に
は、上記のように充填度が高くなる一方、塗布後の乾燥
において溶剤が蒸発した直後に、膜全面にわたる微細な
クラックの発生がよく起こる。シリカ微粒子を表面処理
することにより凝集力が弱まり、クラックの発生は起こ
りにくくなるが、凝集力が弱いため微粒子が密に詰まり
にくくなる。そこで圧縮を行うことによって、クラック
の発生もなく且つ微粒子が密に詰まった膜が得られる。
表面処理によってシリカ微粒子の凝集力を調整すること
も好ましい。圧縮は層(2A)上に、高屈折率層(2B)を塗
布、乾燥した後に行ってもよい。圧縮は、ロールプレス
機を用いて行うことができる。

【００４８】高屈折率層(2b)の屈折率は、例えば、１．
６以上２．５以下である。高屈折率層(2b)の物理的な膜
厚は、２μｍ以下であり、好ましくは０．０５μｍ以上
０．５μｍ未満、更に好ましくは０．０６μｍ以上０．
２μｍ以下である。

【００４９】高屈折率層(2b)は、金属酸化物の微粒子を
含有する。金属酸化物微粒子としては、例えば、酸化
錫、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化ジルコニウム等の高屈
折率を有する微粒子や、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴ
Ｏ）、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）等の高屈折率
を有する導電性微粒子が挙げられる。高屈折率とは、例
えば、１．６０以上の屈折率である。これら微粒子の平
均粒径は１０〜３０ｎｍであることが好ましい。又、こ
れらの材料を複数用いて屈折率を調整しても良い。

【００５０】前記金属酸化物の微粒子は、架橋可能な官
能基を有する化合物で表面処理されていることが好まし
い。前記架橋可能な官能基を有する化合物の架橋可能な
官能基は、特に限定されることなく、ビニル基、アクリ
ル基、メタクリル基などの不飽和二重結合、エポキシ基
又は水酸基である。

【００５１】前記金属酸化物微粒子の表面処理は、シリ
カを主成分とする無機化合物微粒子の表面処理の場合と
同様に行うことができる。

【００５２】金属酸化物微粒子が表面処理され、微粒子
表面に架橋可能な官能基が存在すると、シリカを主成分
とする無機化合物微粒子においても説明したのと同様
に、接着剤層(3) に紫外線硬化性接着剤を用いた場合に
は、高屈折率層(2B)中に含浸してくる紫外線硬化性接着
剤に含まれる主として紫外線硬化性モノマー成分が、紫
外線照射によって前記架橋可能な官能基と架橋反応を起
こす。また、接着剤層(3) に熱硬化性接着剤を用いた場
合には、高屈折率層(2B)中に含浸してくる熱硬化性接着
剤成分が、加熱によって前記架橋可能な官能基と架橋反
応を起こす。従って、接着剤層(3) ／高屈折率層(2B)／
低屈折率層(2A)の各層間の密着性が向上し、膜の硬度も
高くなる。

【００５３】高屈折率層(2B)は、前記金属酸化物微粒子
を有機溶剤などの溶剤に分散した液を、低屈折率層(2A)
上に塗布し、乾燥することにより設ける。この際、バイ
ンダー樹脂を用いても良いが、用いない方が好ましい。
バインダー樹脂を用いる場合には、バインダー樹脂の量
は少量であることが好ましい。表面処理された金属酸化
物微粒子の表面がバインダー樹脂により覆われてしまう
程に大量にバインダー樹脂を用いると、高屈折率層(2B)
中に含浸してくる接着剤成分と前記微粒子表面の架橋可
能な官能基との架橋反応が起こりにくくなるため好まし
くない。さらに、高屈折率層(2B)中に含まれるモノマー
が含浸時に低屈折率層(2A)まで達しない場合もあり、層
間密着力が低下することもあるため好ましくない。

【００５４】また、塗布、乾燥後、高屈折率層(2B)を圧
縮することも好ましい。例えば、金属酸化物微粒子とし
てＡＴＯ等の導電性微粒子を用いた場合に、圧縮するこ
とにより、高屈折率層(2B)の導電性が向上される。

【００５５】本発明の転写用反射防止フィルムにおい
て、図１及び図２に示すように、反射防止層(2) 上に紫
外線硬化性接着剤層(3) 又は熱硬化性接着剤層(3) が塗
布形成されていることが好ましい。また、剥離フィルム
上に紫外線硬化性接着剤層(3)又は熱硬化性接着剤層(3)
を塗布形成し、これを接着剤層(3) が反射防止層(2)に
接するようにラミネートしてもよい。接着剤層を形成し
ておくことによって、この接着剤層を介して、対象物体
上に反射防止層(2) を転写することが容易になる。本発
明において、反射防止フィルムに紫外線硬化性接着剤層
又は熱硬化性接着剤層が形成されていない場合には、転
写対象物体上に予め紫外線硬化性接着剤層又は熱硬化性
接着剤層を設けておけばよい。もちろん、反射防止フィ
ルムに接着剤層(3) を形成しておき、さらに転写対象物
体上にも接着剤層を設けておくことも好ましい。

【００５６】本発明において、反射防止フィルムの接着
剤層(3) や転写対象物体上に予め設けておく接着剤層に
は、紫外線硬化性モノマー成分を含む紫外線硬化性接着
剤及び／又は熱硬化性接着剤層を用いる。反射防止フィ
ルムの反射防止層(2) と転写対象物体の表面の双方に対
して親和性があり、両者を強力に接着できる接着剤であ
れば、特に限定されることなく、公知の種々の接着剤を
用いることができる。例えば、アクリル系接着剤、エポ
キシ系接着剤、イソシアネート系接着剤、シリコーン系
接着剤等が挙げられる。これらのうち、紫外線硬化性接
着剤は硬化反応性、硬度、コストの面で好ましい。接着
剤層(3) の厚みは１〜１００μｍ、好ましくは５〜２０
μｍである。

【００５７】反射防止フィルムの接着剤層(3) に用いる
接着剤としては、接着剤溶液を塗布し乾燥しただけでタ
ック感があり、しかも流動性のない接着剤層が得られ、
転写対象物体上に貼り付けた後に接着剤層を紫外線硬化
することによって非常に硬い硬化層が得られるような接
着剤が好ましい。転写対象物体上に貼り付けた後の接着
剤層の軟化や劣化は好ましくない。タック感があること
で転写対象物体への貼り付けが容易となる。又、流動性
がないことで、接着剤層を設けた後貼り付けまでの間、
接着剤層を保護するためのフィルムを付与することが可
能となる。

【００５８】そこで、このような性質を満たす接着剤に
ついても本発明者は検討し、本発明の反射防止フィルム
の接着剤層に用いる接着剤として、次の紫外線硬化性ア
クリル系接着剤組成物が好適であることを見出した。１．ガラス転移温度Ｔｇが３０℃以上のアクリル系樹脂
成分（Ｐ）と、硬化性アクリル系モノマー成分（Ｍ）と
を、重量比率Ｐ／Ｍ＝８／２〜２／８で含む接着剤組成
物。２．前記アクリル系樹脂成分（Ｐ）が常温で固体であ
り、硬化性アクリル系モノマー成分（Ｍ）が常温で液体
である、前記１の接着剤組成物。３．さらに、光重合開始剤を含む、前記１又は２の接着
剤組成物。

【００５９】アクリル系成分としては、例えばアクリル
樹脂１０３Ｂや１ＢＲ−３０５（大成化工（株）製）が
挙げられる。硬化性アクリル系モノマー成分としては、
例えば、KAYARAD GPO-303 、KAYARAD TMPTA 、KAYARAD
THE-330 （いずれも日本化薬（株）製）等の３官能以上
のアクリル系モノマーが挙げられる。光重合開始剤とし
ては、種々のものを用いることができ、例えば、 KAYAC
URE DETX-S（日本化薬（株）製）が挙げられる。また、
硬化性アクリル系モノマー成分と光重合開始剤成分を含
むものとして、ＳＤ−３１８（大日本インキ化学工業
製）が挙げられる。

【００６０】転写硬化後の接着剤層(3) の屈折率は、反
射防止層(2) に高屈折率層(2B)が存在しない場合は特
に、転写対象物体の屈折率に近いことが好ましい。転写
対象物体と接着剤層(3) の屈折率の差が大きいと、両者
間の界面で新たに反射光が生じることがある。

【００６１】さらに接着剤層には、顔料、色素等を分散
あるいは溶解して添加してもよい。顔料としてはシリカ
等の公知の耐すり傷性の材料や彩色のための無機材料か
ら選択すればよい。

【００６２】反射防止フィルムの接着剤層(3) を設けた
場合には、接着剤層上に剥離フィルムを付与し、使用時
まで接着剤層面を保護してもよい。

【００６３】本発明は、上述の転写用反射防止フィルム
の反射防止層(2) が、接着剤層を介して転写により表面
に設けられている反射防止処理された物体にも関する。
本発明の反射防止処理された物体の層構成例を図３及び
図４に示す。

【００６４】図３は、図１の転写用反射防止フィルムを
用いた例であり、対象物体(4) 表面に接着剤層(3C)を介
して反射防止層(2) が付与された層構成例を示す断面図
である。図４は、図２の転写用反射防止フィルムを用い
た例であり、対象物体(4) 表面に接着剤層(3C)を介して
反射防止層(2) が付与された層構成例を示す断面図であ
る。これら接着剤層(3C)は、硬化されたものであり、転
写用反射防止フィルムの紫外線硬化性接着剤層(3) 及び
／又は対象物体(4) 上に予め形成された紫外線硬化性接
着剤層に由来する。

【００６５】対象となる物体(4) には、特に限定される
ことなく、種々のものが含まれる。例えば、均一厚みの
塗布層を形成しにくい板材のような可撓性に乏しい物体
ないしは支持体、ガラスやセラミックスのような物体等
が含まれる。例えば、ＣＲＴ表面は、反射防止、ハード
コート等の処理が求められており、ＣＲＴは本発明にお
ける対象物体の具体例として挙げられる。

【００６６】本発明の反射防止処理された物体を得るに
は、上述の転写用反射防止フィルムの反射防止層(2) を
支持体(1) から対象物体(4) 上に転写する。すなわち、
紫外線硬化性接着剤を用いた場合を例にすると、反射防
止フィルムを対象物体面に、支持体(1) が外側となるよ
うに反射防止フィルムの紫外線硬化性接着剤層(3) （設
けられている場合）及び／又は対象物体上の紫外線硬化
性接着剤層を介して、貼り付ける。その後、紫外線を照
射して接着剤層を硬化させる。次に反射防止フィルムの
支持体(1) を剥離する。露光光線としては、紫外線が有
効である。露光時間は、用いた紫外線硬化性接着剤組成
物の感光特性や、光線の種類により、適宜選択される。

【００６７】

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的
に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるもの
ではない。

【００６８】［実施例１］図１に示すように、支持体
(1) 上に低屈折率層(2A)及び紫外線硬化性接着剤層(3)
をこの順で有する転写用反射防止フィルムを作製した。

【００６９】（低屈折率層の形成）内部に微細な空孔を
有する中空シリカのエタノール分散液（触媒化成工業
（株）製、固形分濃度１５．６重量％）８０重量部に
エタノール４２０重量部を加え、低屈折率層塗布液とし
た。この塗布液を７５μｍ厚のＰＥＴフィルム(1) 上に
塗布、乾燥し、１００℃、１時間で熱処理し、０．０９
μｍ厚の低屈折率層(2A)を形成した。

【００７０】（接着剤層の形成）アクリル樹脂ＵＶＨＣ
−１１０１（ＧＥ東芝シリコーン（株）製）１００重量
部に、アクリル樹脂１ＢＲ−３０５（大成化工（株）
製、固形分濃度３９．５重量％）７１重量部と、メチル
エチルケトン（ＭＥＫ）２４５重量部とを加えて、接着
剤層塗布液とした。この塗布液を前記低屈折率層(2A)上
に塗布、乾燥して、１０μｍ厚の接着剤層(3) を形成し
た。接着剤層を指で触ったところ、タック感があった。
以上のようにして転写用反射防止フィルムを得た。

【００７１】（ポリカーボネート板への反射防止層の付
与）転写対象物体として、ポリカーボネート板を用い
た。得られた反射防止フィルムを接着剤層(3) が表面処
理されたポリカーボネート板(4) の一方の面に接するよ
うにラミネーターにて貼り付けた。紫外線を照射して接
着剤層(3) を硬化させた(3C)。支持体ＰＥＴフィルム
(1) を剥がした。接着剤層(3C)は非常に強固であった。
このようにして、図３に示すように、ポリカーボネート
板(4) 上に接着剤層(3) を介して、反射防止層(2A)が付
与された。

【００７２】［比較例１］（低屈折率層の形成）シリコーン系ハードコート液ＫＰ
−８５４（信越化学工業（株）製）１００重量部にエタ
ノール４００重量部を加え、低屈折率層塗布液とした。
この塗布液を７５μｍ厚のＰＥＴフィルム上に塗布、乾
燥し、１００℃、１時間で硬化させ、０．０９μｍ厚の
低屈折率層を形成した。

【００７３】低屈折率層上に、実施例１と同様にして接
着剤層を形成し、転写用反射防止フィルムを得た。この
反射防止フィルムを用いて、実施例１と同様にして、ポ
リカーボネート板上に接着剤層を介して、反射防止層を
付与した。

【００７４】［実施例２］図２に示すように、支持体
(1) 上に低屈折率層(2A)、高屈折率層(2B)及び紫外線硬
化性接着剤層(3) をこの順で有する転写用反射防止フィ
ルムを作製した。

【００７５】（低屈折率層の形成）実施例１と同様にし
てＰＥＴフィルム(1) 上に低屈折率層(2A)を形成した。

【００７６】（高屈折率層の形成）ビニル基を含むシラ
ンカップリング剤で表面処理した平均一次粒径約１０ｎ
ｍのアンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）超微粒子のエタ
ノール分散液（触媒化成工業（株）製、固形分濃度２０
重量％）１００重量部に、エタノール３００重量部を加
え、高屈折率層塗布液とした。得られた塗布液を前記低
屈折率層(2A)上に塗布、乾燥し、０．０９μｍ厚の高屈
折率層(2B)を形成した。この支持体(1) 上に低屈折率層
(2A)及び高屈折率層(2B)が積層されたフィルムを、ダイ
ヤモンドライクカーボンで表面被覆された一対の金属ロ
ール間に挟み、線圧１６６６Ｎ／ｃｍの圧力、５ｍ／分
の送り速度で圧縮した。

【００７７】（接着剤層の形成）高屈折率層(2B)上に、
実施例１と同様にして接着剤層(3) を形成し、転写用反
射防止フィルムを得た。

【００７８】（ポリカーボネート板への反射防止層の付
与）得られた反射防止フィルムを用いて、実施例１と同
様にして、ポリカーボネート板(4) 上に接着剤層(3) を
介して、反射防止層(2:2A,2B) を付与した（図４）。

【００７９】［比較例２］比較例１と同様にしてＰＥＴ
フィルム上に低屈折率層を形成した。低屈折率層上に、
実施例２と同様にして高屈折率層を形成した。高屈折率
層上に、実施例１と同様にして接着剤層を形成し、転写
用反射防止フィルムを得た。この反射防止フィルムを用
いて、実施例１と同様にして、ポリカーボネート板上に
接着剤層を介して、反射防止層を付与した。

【００８０】実施例及び比較例で得られた各サンプルに
ついて、反射防止効果の評価を行った。（反射防止効果の評価）分光光度計Ｖ−５７０（日本分
光製）に積分球（日本分光製）を組み合わせて、反射率
を測定し、反射率が最低になる値を記録した。

【００８１】測定結果を表１に示す。表１より、低屈折
率層材料として中空シリカを用いた実施例１及び２で
は、中空シリカを用いなかった比較例１及び２それぞれ
に比較して、ポリカーボネート板表面の反射率が非常に
低減された。

【００８２】

【表１】

【００８３】（表面電気抵抗値の測定）実施例２及び比
較例２で得られた各サンプルについて、超高電気抵抗測
定器(ULTRA HIGH RESISTANCE METER) Ｒ８３４０（アド
バンテスト製）に、自作の端子を取付け、１／２インチ
四方の抵抗値を測定した。両サンプル共に、帯電防止機
能を満足する表面電気抵抗値（１０⁸Ω／□）が得られ
た。

【００８４】

【発明の効果】本発明によれば、均一厚みの反射防止層
を転写により板材のように可撓性に乏しい物体表面に付
与でき、可視光領域の光の反射防止効果に優れる転写用
反射防止フィルム、前記転写用反射防止フィルムを用い
て反射防止処理された物体、及び前記転写用反射防止フ
ィルムを用いて反射防止処理された物体を製造する方法
が提供される。

【００８５】特に、本発明によれば、均一厚みの反射防
止層を転写により表示素子表面に付与でき、可視光領域
の光の反射防止効果に優れる転写用反射防止フィルム、
前記転写用反射防止フィルムを用いて反射防止処理され
た表示素子、及び前記転写用反射防止フィルムを用いて
反射防止処理された表示素子を製造する方法が提供され
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の転写用反射防止フィルムの層構成例
を示す断面図である。

【図２】本発明の転写用反射防止フィルムの他の層構
成例を示す断面図である。

【図３】本発明の転写用反射防止フィルムの反射防止
層が転写により表面に設けられた反射防止処理された物
体の層構成例を示す断面図である。

【図４】本発明の転写用反射防止フィルムの反射防止
層が転写により表面に設けられた反射防止処理された物
体の他の層構成例を示す断面図である。

【符号の説明】

(1) ：支持体 (2) ：反射防止層 (2A)：低屈折率層 (2B)：高屈折率層 (3) ：接着剤層 (3C)：硬化した接着剤層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｃ０８Ｌ 101/00 Ｇ０２Ｂ 1/10 ＡＦターム(参考） 2K009 AA04 AA05 BB01 BB02 BB11 BB24 CC01 CC03 CC09 CC21 CC42 DD01 DD02 DD05 DD06 EE03 4F100 AA20B AA20C AA20D AA20E AB01B AB01C AB01D AB01E AK25 AK25H AK42 AK45 AT00A BA02 BA03 BA04 BA05 BA07 BA10A BA10C BA10D BA10E DE01B DE01C DE01D DE01E DE04B DE04C DE04D DE04E EC04 EC042 EH46 EH462 EJ17 EJ172 GB41 JG01B JG01C JG01D JG01E JN06 JN06B JN06C JN06D JN06E 4J002 AA001 BG021 DJ016 FA096 FA106 FB086 FB096 FB266 GP00

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】支持体上に、１層又は２層以上からなる
反射防止層を有し、反射防止層を構成する層の内の少な
くとも１層は、シリカを主成分とする無機化合物微粒子
を含む層であり、前記無機化合物微粒子は、多孔質粒子
又は内部に空洞を有する中空粒子であり、前記支持体は前記反射防止層から剥離可能である転写用
反射防止フィルム。
【請求項２】前記無機化合物微粒子は、表面被覆層を
有する多孔質粒子又は表面被覆層を有する中空粒子であ
る、請求項１に記載の転写用反射防止フィルム。
【請求項３】前記無機化合物微粒子の屈折率が１．４
０以下である、請求項１又は２に記載の転写用反射防止
フィルム。
【請求項４】前記無機化合物微粒子は、架橋可能な官
能基を有する化合物で表面処理されている、請求項１〜
３のうちのいずれか１項に記載の転写用反射防止フィル
ム。
【請求項５】前記架橋可能な官能基を有する化合物の
架橋可能な官能基は、不飽和二重結合、エポキシ基又は
水酸基である、請求項４に記載の転写用反射防止フィル
ム。
【請求項６】前記反射防止層は、低屈折率層としての
前記無機化合物微粒子を含む層と、この層よりも高い屈
折率を有する高屈折率層とを少なくとも含み、前記低屈折率層と前記高屈折率層とは、支持体上にこの
順で塗布によって形成されたものである、請求項１〜５
のうちのいずれか１項に記載の転写用反射防止フィル
ム。
【請求項７】前記反射防止層上に、紫外線硬化性モノ
マー成分を含む紫外線硬化性接着剤層及び／又は熱硬化
性接着剤層を有し、前記接着剤が前記無機化合物微粒子
を含む層中に含浸され、接着剤中の紫外線硬化性モノマ
ー成分及び／又は熱硬化性成分は、紫外線照射及び／又
は加熱によって前記無機化合物微粒子表面の前記架橋可
能な官能基と架橋反応するものである、請求項１〜６の
うちのいずれか１項に記載の転写用反射防止フィルム。
【請求項８】前記高屈折率層は、架橋可能な官能基を
有する化合物で表面処理された金属酸化物微粒子を含有
する、請求項６又は７に記載の転写用反射防止フィル
ム。
【請求項９】前記高屈折率層は、導電性微粒子を含
む、請求項６又は７に記載の転写用反射防止フィルム。
【請求項１０】前記反射防止層は、塗布された後、圧
縮されて形成されたものである、請求項１〜９のうちの
いずれか１項に記載の転写用反射防止フィルム。
【請求項１１】請求項１〜１０のうちのいずれか１項
に記載の転写用反射防止フィルムの反射防止層が、接着
剤層を介して転写により表面に設けられている、反射防
止処理された物体。
【請求項１２】物体が表示素子である、請求項１１に
記載の反射防止処理された物体。
【請求項１３】請求項１〜１０のうちのいずれか１項
に記載の転写用反射防止フィルムの反射防止層を支持体
から、前記反射防止フィルムに設けられた紫外線硬化性
接着剤層及び／又は対象物体上に予め設けられた紫外線
硬化性接着剤層を介して、反射防止処理すべき前記対象
物体上に転写し、その後、紫外線照射によって前記接着
剤層を硬化させ、対象物体上に反射防止層を形成するこ
とを特徴とする、反射防止処理された物体を製造する方
法。
【請求項１４】請求項１〜１０のうちのいずれか１項
に記載の転写用反射防止フィルムの反射防止層を支持体
から、前記反射防止フィルムに設けられた熱硬化性接着
剤層及び／又は対象物体上に予め設けられた熱硬化性接
着剤層を介して、反射防止処理すべき前記対象物体上に
転写し、その後、加熱によって前記接着剤層を硬化さ
せ、対象物体上に反射防止層を形成することを特徴とす
る、反射防止処理された物体を製造する方法。