JPH1195011A

JPH1195011A - 反射防止材料及びそれを用いた偏光フィルム

Info

Publication number: JPH1195011A
Application number: JP9269286A
Authority: JP
Inventors: Tsutomu Murata; 力村田; Kazuya Oishi; 和也大石; Yasuhiro Matsunaga; 康弘松永; Kazuhiro Yamazaki; 和弘山崎; Yukinori Sakumoto; 征則作本
Original assignee: Tomoegawa Paper Co Ltd
Current assignee: Tomoegawa Co Ltd
Priority date: 1997-09-16
Filing date: 1997-09-16
Publication date: 1999-04-09
Anticipated expiration: 2017-09-16
Also published as: JP3352921B2

Abstract

(57)【要約】【課題】優れた反射防止性を発揮し、画像コントラス
トを低下させることなく、ギラツキ等のない鮮明な画像
を得ることができるとともに、光学的に安定で優れた耐
磨耗性、耐薬品性を示し、かつ、優れた耐汚染性を示す
反射防止材料と偏光フィルムを提供する。【解決手段】透明基体１１の片面もしくは両面に、直
接或は他の層を介して、粗面化層１２、表面層を順次設
け、表面層の臨界表面張力を２０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下と
した。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は液晶ディスプレイ（ＬＣ
Ｄ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、ＣＲＴ，ＥＬ
等の画像表示体等に好適に用いられ、特に、画像部の防
汚性、反射防止、耐薬品性、耐磨耗性に優れた反射防止
材料及びそれを使用した偏光フィルムに関するものであ
る。

【０００２】

【従来技術】ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、ＥＬに代表され
る画像表示装置（以下、これを「ディスプレイ」とい
う。）は、テレビやコンピューターを始めとして、様々
な分野で繁用されており、目覚ましい発展を遂げてい
る。このディスプレイの開発は、当初においてはカラー
化が開発のキーワードであったが、最近はハイビジョン
がキーワードのひとつになり、画像の高精細化、高画質
化、さらには低消費電力化等へ努力が傾注されている。
マン−マシンインターフェイスの重要な役割を担うこれ
らディスプレイは今後、マルチメディア時代の到来と共
に一層の普及が予想され、特に、携帯電話、ＰＨＳ、そ
の他各種携帯端末用としての普及が著しく拡大するもの
と予測される。

【０００３】携帯端末用ディスプレイとしては、軽量、
コンパクト、汎用性等の特徴を有するＬＣＤが市場を独
占するものと考えられているが、これらの携帯端末には
タッチパネルを搭載し、プラスチックのペンや指で直接
触れて操作するものが主流になってきている。そのた
め、ディスプレイ表面への耐磨耗性、耐薬品性、汚れ防
止に対する要求が高まっている。また、これらの機器を
屋外での使用も含めた比較的明るいところで使用する場
合の太陽光や蛍光等の外部光のディスプレイへの映り込
みを防止すること、すなわち反射防止に対する要求も強
くなっている。これらの要求は、現在、携帯端末機器に
限らず、小型から大型に至る様々なディスプレイに波及
している。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】反射防止に関しては、
従来、磨りガラスのように、光を散乱もしくは拡散させ
て像をボカス手法が一般的に行われている。光を散乱も
しくは拡散させるためには、光の入射面を粗面化するこ
とが基本となっており、この粗面化処理には、サンドブ
ラスト法やエンボス法等により基材表面を直接粗面化す
る方法、基材表面にフィラーを含有させた塗工層を設け
る方法及び基材表面に海島構造による多孔質膜を形成す
る方法等が採用されている。

【０００５】基材表面にフィラーを含有させた塗工層を
設ける方法は、フィラーの粒径により粗面化面の凹凸の
大きさを比較的容易にコントロールでき、かつ製造が容
易である等の利点から現在、好んで用いられている。塗
工剤に使用する樹脂としては、透過性、耐熱性、耐磨耗
性、耐薬品性等に優れたものが望ましいが、基材が耐熱
性に乏しい高透明なプラスチックフィルムである場合が
多いことから、ＵＶ硬化型樹脂が好んで使用されてい
る。その例として、ＵＶ硬化型樹脂とシリカ顔料を構成
要素とする特開平１−１０５７３８や特開平５−１６２
２６１などが報告されている。

【０００６】ところが、上記提案によるシリカ顔料は、
吸油性が高いために、粗面化層とした場合は、指紋等の
油分を吸収し易くなるため、汚れやすいという欠点を有
していた。さらに、この汚れはアルコールなどの溶媒を
染み込ませた布で拭いても取れにくい上に、シリカが粗
面化層表面に鋭利に突き出た構成を呈しているため、突
き出たシリカの先端部に拭き取った布の繊維が付着し、
白くなってディスプレイの画像コントラストが低下する
という問題があった。

【０００７】反射を防止する他の方法としては、屈折率
の高い材料と低い材料を交互に積層し、多層化（マルチ
コート）することで、表面の反射が抑えられ、良好な反
射防止効果を得ることが知られている。通常、ＳｉＯ₂
に代表される低屈折率材料と、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂等の高
屈折率材料を交互に蒸着等により成膜する気相法や、ゾ
ルゲル法等により形成される。これらの層をシリカを含
有する上記粗面化層上に設ける提案もなされているが、
このような技術においても汚れが拭き取りにくいという
上記と同様の問題を抱えていた。その原因は、シリカが
粗面化層の表面から鋭利に突き出ているため、その形状
に倣ってマルチコート層の表面層の凹凸もシャープとな
るために上述したと同じ問題が生じるとともに、シリカ
の粒子の一部が表面層を突き抜けて指紋等の油分を吸収
し易くなるためである。

【０００８】しかも、上述のマルチコートは、蒸着等の
気相法による場合には、大面積の加工に不向きで、加工
装置が高いこと、ゾルゲル法による場合は、塗布、焼成
を繰り返すこと等の理由から製造コストがかかり経済性
に問題がある上、表面が紫や緑系統の色を呈しているた
め、マルチコートがないものより汚れが目立つことが大
きな問題となっていた。一方、このような汚れの発生を
防止するために、上記粗面化層上にフッ素系材料をコー
ティング等により設ける提案もなされているが、粗面化
層の影響が大きく問題を解決するには至っていない。

【０００９】また、ディスプレイの解像度が向上するに
伴い、上記粗面化層の凹凸の高さや間隔にも緻密化が要
求されるようになってきた。画像の高精細化は、主に画
像ドットの高密度化によるが、凹凸の間隔がこの画像ド
ットのピッチより小さい場合は良いが、大きい場合は干
渉によるギラツキが発生する。反射防止性が良好で、ギ
ラツキがない鮮明な画像を得るためには、まず、この凹
凸の高さ及び間隔を、小さくかつバラツキがないようコ
ントロールしなければならない。

【００１０】しかしながら、ＵＶ硬化型樹脂とシリカ顔
料からなる粗面化層の分散性は必ずしも十分とはいえな
い上に、ＵＶ硬化を行うまでの粗面化層は、低粘度の液
状態を呈しているため、塗料を基材に塗布してからＵＶ
を照射するまでの間に、粗面化層中のフィラーどうしが
互いに付着し、凝集（オレンジピール）するという問題
を有していた。特に、粗面化層表面の凹凸を緻密化する
目的でフィラーの含有量を増加させたり、粗面化層の厚
さをコントロールするために粗面化層の塗料を溶剤等で
希釈する場合は特に顕著であった。

【００１１】本発明は、従来技術における上記した実情
に鑑みてなされたもので、ディスプレイへの太陽光及び
蛍光灯等の外部光の映り込みを防止することにより、優
れた反射防止性を発揮し、かつ、画像コントラストを低
下させることなく、ギラツキ等のない鮮明な画像を得る
ことができ、光学的に安定で優れた耐磨耗性、耐薬品性
を示すことは勿論のこと、優れた耐汚染性を示す反射防
止材料を提供することを目的としている。また、本発明
は、上記反射防止材料を使用した偏光フィルムを提供す
ることも目的としており、これにより、特に、フルカラ
ー液晶ディスプレイ等の性能を大幅に向上させることを
目的としている。

【００１２】

【課題を解決するための手段】

（１）反射防止材料の内容本発明者は、ＬＣＤ等の表面の耐汚染性を向上させるた
めに反射防止材料の表面層の特性について検討を重ねた
結果、表面層の臨界表面張力との間に相関関係が存在す
ることを見出した。そして、その相関関係について定量
的に解析した結果、ＬＣＤ等の表面の臨界表面張力が２
０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であると、例えば指先の油分によ
る汚れが付着し難く、しかも、付着しても容易に拭き取
れることが判った。よって、本発明は上記知見に基づい
てなされたもので、透明基体の片面もしくは両面に、直
接或は他の層を介して、粗面化層、表面層を順次設けた
反射防止材料において、表面層の臨界表面張力を２０ｄ
ｙｎｅ／ｃｍ以下にしたことを特徴としている。以下、
本発明のより好適な実施の形態について詳細に説明す
る。

【００１３】

【発明の実施の形態】Ａ．透明基体本発明の反射防止材料に使用する透明基体としては、公
知の透明なフィルム、ガラス等を使用することができ
る。その具体例としては、ポリエチレンテレフタレート
（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリ
アリレート、ポリイミド、ポリエーテル、ポリカーボネ
ート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、セロファ
ン、芳香族ポリアミド、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリビニルアルコール等の各種樹脂フィルム及び石
英ガラス、ソーダガラス等のガラス基材等を好適に使用
することができる。ＰＤＰ、ＬＣＤに用いる場合は、Ｐ
ＥＴ、ＴＡＣが好ましい。

【００１４】これら透明基体の透明性は高いもの程良好
であるが、光線透過率（ＪＩＳＣ−６７１４）として
は８０％以上、より好ましくは９０％以上が良い。ま
た、その透明基体を小型軽量の液晶ディスプレイに用い
る場合には、透明基体はフィルムであることがより好ま
しい。透明基体の厚さは、軽量化の観点から薄いほうが
望ましいが、その生産性を考慮すると、１μ〜５μｍの
範囲のものを使用することが好適である。

【００１５】また、透明基体に、アルカリ処理、コロナ
処理、プラズマ処理、フッ素処理、スパッタ処理等の表
面処理や、界面活性剤、シランカップリング剤等の塗
布、あるいはＳｉ蒸着などの表面改質処理を行うことに
より、粗面化層と透明基体との密着性を向上させること
ができる。また、透明基体の表面には、ディスプレイ表
面に静電的に付着するホコリ等の汚れを防止するために
帯電防止層を設けても良い。帯電防止層は、アルミ、錫
等の金属、ＩＴＯ等の金属酸化膜を蒸着、スパッタ等で
極めて薄く設ける方法、アルミ、錫等の金属微粒子やウ
イスカー、酸化錫等の金属酸化物にアンチモン等をドー
プした微粒子やウィスカー、７，７，８，８−テトラシ
アノキノジメタンと金属イオンや有機カチオンなどの電
子供与体（ドナー）との間でできた電荷移動錯体をフィ
ラー化したもの等をポリエステル樹脂、アクリル樹脂、
エポキシ樹脂等に分散し、ソルベントコーティング等に
より設ける方法、ポリピロール、ポリアニリン等にカン
ファースルホン酸等をドープしたものをソルベントコー
ティング等により設ける方法等により設けることができ
る。帯電防止層の透過率は光学用途の場合、８０％以上
が好ましい。

【００１６】Ｂ．粗面化層次に本発明における粗面化層について説明する。本発明
の粗面化層を構成する樹脂としては、放射線、熱の何れ
かもしくは組み合わせにより硬化する樹脂を用いること
ができる。放射線硬化型樹脂としては、アクリロイル
基、メタアクリロイル基、アクリロロイルオキシ基、メ
タアクリロイルオキシ基等重合性不飽和結合を有するモ
ノマー、オリゴマー、プレポリマーを適宜混合した組成
物が用いられる。モノマーの例としては、スチレン、ア
クリル酸メチル、メチルメタクリレート、メトキシポリ
エチレンメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレー
ト、フェノキシエチルメタクリレート、エチレングリコ
ールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート等を挙げることができる。オリゴマー、プレポリマ
ーとしては、ポリエステルアクリレート、ポリウレタン
アクリレート、エポキシアクリレート、ポリエーテルア
クリレート、アルキットアクリレート、メラミンアクリ
レート、シリコンアクリレート等のアクリレート、不飽
和ポリエステル、エポキシ系化合物等を挙げることがで
きる。これらは単独、もしくは複数混合して使用しても
良い。モノマーは硬化膜の可撓性が要求される場合は少
な目にし、さらに架橋密度を低くするためには、１官
能、２官能のアクリレート系モノマーを使用することが
好ましく、逆に、硬化膜に耐熱性、耐摩耗性、耐溶剤性
等過酷な耐久性を要求される場合は、モノマーの量を増
やし、３官能以上のアクリレート系モノマーを使用する
ことが好ましい。

【００１７】上記のような放射線硬化型樹脂を硬化する
には、例えば紫外線、電子線、Ｘ線などの放射線を照射
すれば良いが、必要に応じて適宜重合開始剤を添加する
ことができる。なお、紫外線により硬化させる場合は、
光重合開始剤を添加する必要がある。光重合開始剤とし
ては、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２
−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ベンジル
ジメチルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシル−フ
ェニルケトン、２−メチル−２−モルホリノ（４−チオ
メチルフェニル）プロパン−１−オン等のアセトフェノ
ン類、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエ
ーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン
イソブチルエーテル等のベンゾインエーテル類、ベンゾ
フェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニ
ルベンゾフェノン、４−ベンゾイル４’−メチル−ジフ
ェニルサルファイド、４−ベンゾイル−Ｎ，Ｎ−ジメチ
ル−Ｎ−［２−（１−オキソ−２−プロペニルオキシ）
エチル］ベンゼンメタナミニウムプロミド、（４−ベン
ゾイルベンジル）トリメチルアンモニウムクロリド等の
ベンゾフェノン類、２，４ジエチルチオキサントン、１
−クロロ−４−ジクロロチオキサントン等のチオキサン
トン類、２，４，６トリメチルベンゾイルジフェニルベ
ンゾイルオキサイド等を挙げることができる。これらは
単独もしくは複数、混合して使用することができる。ま
た、促進剤（増感剤）として、Ｎ，Ｎ−ジメチルパラト
ルイジン、４，４’−ジエチルアミノベンゼンフェノン
等アミン系化合物を混合し、使用することもできる。光
重合開始剤の含有量としては、放射線硬化型樹脂に対
し、０．１〜１０重量％の範囲が良い。この範囲より多
くても少なくても効果が悪くなる。

【００１８】本発明においては、放射線硬化型樹脂とし
て紫外線により硬化するエポキシ系化合物を用い、か
つ、光重合開始剤として、カチオン重合開始剤を少なく
とも含有していることが以下の理由により特に好まし
い。酸素阻害が少ない。硬化収縮が非常に少ない。透明基体への密着性に優れている。特に、透明基体
の中では、偏光フィルムに使用される密着性がほとんど
ないＴＡＣフィルムにも良好な密着性を示し、特に、け
ん化処理を施したＴＡＣとの優れた密着性が達成され、
けん化処理による防眩性の低下もかかる密着性により改
善されるという効果が達成される。

【００１９】前記エポキシ系化合物としては、テトラメ
チレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレング
リコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコー
ルジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジ
ルエーテル等のグリシジルエーテル、２−ヒドロキシ−
３−フェノキシプロピルアクリレート、ビスフェノール
Ａ−ジエポキシ−アクリル酸付加物等のエポキシエステ
ルや、以下の化学式からなる脂環式エポキシ等のモノマ
ー及びオリゴマーをあげることができる。

【００２０】

【化１】

【００２１】光カチオン重合開始剤としては、以下の化
学式からなる化合物をあげることができる。なお、これ
ら化合物は各単体で用いても良く、複数混合で使用して
も良い。

【００２２】

【化２】

【００２３】光カチオン重合開始剤の配合量は、主剤に
対し、０．１〜５．０重量％の範囲が望ましい。この配
合量は０．１より少なくても、５．０より多くても紫外
線硬化は不十分である。

【００２４】本発明においては、上記のように放射線硬
化型樹脂として紫外線で硬化可能なエポキシ系化合物を
用い、重合開始剤として光カチオン重合開始剤を用いる
ことが好ましいが、この場合、粘度、架橋密度、耐熱
性、耐薬品性など塗料及び塗工膜の特性をコントロール
するためには、紫外線で硬化可能なアクリル系化合物を
混合することが好ましい。このようなアクリル系化合物
としては、ラウリルアクリレート、エトキシジエチレン
グリコールアクリレート、メトキシトリエチレングリコ
ールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、テ
トラヒドロフルフリルアクリレート、イソボルニルアク
リレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒ
ドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−
フェノキシアクリレート等の単官能アクリレート、ネオ
ペンチルグリコールジアクリレート、１，６−ヘキサン
ジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリ
アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレー
ト、ペンタエリスリトールアクリレート、ジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレート、トリメチロールプロパ
ンアクリル酸安息香酸エステル、トリメチロールプロパ
ン安息香酸エステル等の多官能アクリレート等のアクリ
ル酸誘導体、２−エチルヘキシルメタクリレート、ｎ−
ステアリルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレ
ート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、２−ヒ
ドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシブチルア
クリレート等の単官能メタクリレート、１，６−ヘキサ
ンジオールジメタクリレート、トリメチロールプロパン
トリメタクリレート、グリセリンジメタクリレート等の
多官能メタクリレート等のメタクリル酸誘導体、グリセ
リンジメタクリレートヘキサメチレンジイソシアネー
ト、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチ
レンジイソシアネート等のウレタンアクリレート等のモ
ノマー及びオリゴマーをあげることができる。

【００２５】前記放射線硬化型樹脂を使用した粗面化層
の硬化に伴う体積収縮率（下記方法より算出）は、２０
％以下が望ましい。体積収縮率が２０％より大きくなる
と、透明基体がフィルムの場合はカールが著しくなり、
また基材がガラス等リジットな材料系の場合は粗面化層
の密着性が低下する。

【００２６】

【数１】体積収縮率：Ｄ＝（Ｓ−Ｓ'）／Ｓ×１００Ｓ：硬化前の比重Ｓ'：硬化後の比重（比重はＪＩＳＫ−７１１２のＢ法ピクノメーター法
により測定）

【００２７】なお、本発明における粗面化層には、放射
線硬化型樹脂に対し、ハイドロキノン、ｐ−ベンゾキノ
ン、ｔ−ブチルハイドロキノン等の安定化剤（熱重合禁
止剤）を添加しても良い。添加量は、放射線硬化型樹脂
に対し、０．１〜５．０重量％の範囲が好ましい。

【００２８】粗面化層に使用することのできる熱硬化型
樹脂としては、フェノール樹脂、フラン樹脂、キシレン
・ホルムアルデヒド樹脂、ケトン・ホルムアルデヒド樹
脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、アニリン樹脂、アルキ
ド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂等を挙
げることができる。これらは単独もしくは複数混合して
使用しても良い。透明基体がプラスチックフィルムであ
る場合は、熱硬化温度を高く設定することができない。
特に、ＰＥＴ、ＴＡＣを使用する場合には、使用する熱
硬化樹脂は、１００℃以下で硬化できることが望まし
い。

【００２９】粗面化層に用いられる硬化型樹脂の透明性
は高いほど良く、光線透過率（ＪＩＳＣ−６７１４）
としては、透明基体同様、８０％以上、好ましくは９０
％以上が好ましい。反射防止材料の透明性は該硬化型樹
脂の屈折率によって影響を受けるが、屈折率は、１．４
５〜１．７０の範囲、特に、１．５〜１．６５の範囲が
好ましく、この範囲を越えると反射防止効果が損なわれ
る。

【００３０】粗面化層にはフィラーを含有させ、粗面化
層表面を粗面化することで、反射防止効果を向上させる
ことができる。フィラーとしてはシリカ、炭酸カルシウ
ム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、クレ
ー、タルク、二酸化チタン等の無機系白色顔料、アクリ
ル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエチレン樹脂、エポキ
シ樹脂、シリコン樹脂、ビーズ等有機系の透明または白
色顔料等をあげることができる。特に、球状で給油性を
示さない有機フィラーが好ましく、球状のフィラーを用
いることによって、粗面化層の表面から突出する部分が
なだらかになり、油分等の汚れが付着し難くなるととも
に付着した汚れを拭い易くなる。

【００３１】このようなフィラーの粒子径Ｄ（ＪＩＳ
Ｂ９９２１）は、０．５μｍ≦Ｄ≦６．０μｍの範囲の
ものが６０重量％以上、６．０μｍ＜Ｄ≦１０．０μｍ
の範囲のものが２０重量％未満、１０μｍ＜Ｄ≦１５．
０μｍの範囲のものが５重量％以下、１５．０μｍより
大きいものが１重量％以下であることが望ましい。さら
に、１５．０μｍより大きい粒子は、できれば含有され
ない（０％）ことが好ましく、特に、０．５μｍ≦Ｄ≦
６．０μｍの範囲のものが８０重量％以上、６．０μｍ
＜Ｄ≦１０．０μｍの範囲のものが１０重量％未満、１
０μｍ＜Ｄ≦１５．０μｍの範囲のものは全く含まない
ことが好ましい。０．５μｍ≦Ｄ≦６．０μｍの範囲に
あるフィラーの重量％と、６．０μｍ＜Ｄ≦１０．０μ
ｍの範囲にあるフィラーの重量％、さらに、１０μｍ＜
Ｄ≦１５．０μｍの範囲にあるフィラーの重量％が、そ
れぞれ６０％未満、２０％未満、５％未満の場合は、デ
ィスプレイの反射防止効果が悪くなり、６．０μｍ＜Ｄ
≦１０．０μｍの範囲にあるフィラーが２０重量％以上
もしくは、１０μｍ＜Ｄ≦１５．０μｍの範囲にあるフ
ィラーが５重量％の場合は、ディスプレイの画像にギラ
ツキが発生する。フィラーの配合量については、粗面化
層の全固形分比で、０．５〜３０％の範囲が良い。特
に、１〜１５％の範囲が好ましい。配合量が０．５％以
下では、反射防止効果が不充分となり、３０％以上で
は、透明性、画像のコントラストが劣るばかりでなく、
耐摩耗性や耐環境性等の耐久性が悪くなる。また、フィ
ラーの屈折率（ＪＩＳＫ−７１４２によるＢ法）は、
硬化型樹脂と同等であることが好ましい。フィラーの屈
折率が硬化型樹脂の屈折率と異なる場合は、フィラーと
樹脂界面で光が拡散し、透明性が損なわれる。硬化型樹
脂と同等の屈折率を有するフィラーの例としては、有機
系のフィラー、特に、架橋アクリルビーズが好適であ
る。

【００３２】架橋アクリルビーズとしては、アクリル酸
及びそのエステル、メタクリル酸及びそのエステル、ア
クリルアミド、アクリルニトリル等のアクリル系モノマ
ーと過硫酸等の重合開始剤、エチレングリコールジメタ
クリレート等の架橋剤を用い、懸濁重合法等により重合
して得られる重合体及び共重合体からなる架橋アクリル
系ビーズが好適に使用できる。特にアクリル系のモノマ
ーとして、メチルメタクリレートを使用した構成が好ま
しい。この様にして得られた架橋アクリルビーズは球状
で吸油性を示さないことから、粗面化層に使用した場
合、優れた耐汚染性を発現できる。また、架橋アクリル
ビーズには、塗料の分散性を向上させるために油脂類、
シランカップリング剤、金属酸化物等の有機・無機材料
による表面改質を行っても良い。

【００３３】本発明において、透明基体の片面または両
面に、直接或は他の層を介して粗面化層を設ける方法と
しては、上記で述べたＵＶ硬化型樹脂中に、必要に応じ
て架橋アクリルビーズ等のフィラーや水或は有機溶剤を
混合し、これをペイントシェーカー、サンドミル、パー
ルミル、ボールミル、アトライター、ロールミル、高速
インペラー分散機、ジェットミル、高速衝撃ミル、超音
波分散機等によって分散して塗料またはインキとし、こ
れをエアドクターコーティング、ブレードコーティン
グ、ナイフコーティング、リバースコーティング、トラ
ンスファロールコーティング、グラビアロールコーティ
ング、キスコーティング、キャストコーティング、スプ
レーコーティング、スロットオリフィスコーティング、
カレンダーコーティング、電着コーティング、ディップ
コーティング、ダイコーティング等のコーティングやフ
レキソ印刷等の凸版印刷、ダイレクトグラビア印刷、オ
フセットグラビア印刷等の凹版印刷、オフセット印刷等
の平版印刷、スクリーン印刷等の孔版印刷等の印刷手法
により透明基体の片面もしくは両面上に単層もしくは多
層に分けて設け、溶媒を含んでいる場合は、熱乾燥工程
を経て、放射線（紫外線の場合、光重合開始剤が必要）
照射等により塗工層もしくは印刷層を硬化させることに
よって得る方法が挙げられる。なお、放射線が電子線に
よる場合は、コックロフトワルトン型、バンデグラフ
型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミ
トロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出され
る５０〜１０００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線等
が使用され、紫外線の場合は、超高圧水銀灯、高圧水銀
灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メ
タルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用
できる。

【００３４】塗料、インクの塗工適性または印刷適性を
向上させるために、必要に応じ、シリコーンオイル等の
レベリング剤、ポリエチレンワックス、カルナバワック
ス、高級アルコール、ビスアマイド、高級脂肪酸等の油
脂、イソシアネート等の硬化剤、炭酸カルシウムやシリ
カゾル、合成雲母等０．１μｍ以下の超微粒子等の添加
剤を適宜使用することができる。また、ディスプレイ表
面に静電的に付着するホコリ等の汚れを防止するために
帯電防止剤を添加しても良い。帯電防止剤は、上述の帯
電防止層で説明した材料がそのまま適用できる。

【００３５】粗面化層の厚さは０．５〜１０μｍの範囲
が、好ましくは１〜５μｍの範囲が良い。粗面化層が
０．５μｍより薄い場合は、粗面化層の耐磨耗性が劣化
したり、紫外線硬化型樹脂を使用した場合など、酸素阻
害により硬化不良を起こす。１０μｍより厚い場合は、
樹脂の硬化収縮によりカールが発生したり、粗面化層に
マイクロクラックが発生したり、さらに、透明基体との
密着性が低下したりする。

【００３６】Ｃ．表面層次に本発明の表面層は、臨界表面張力が２０ｄｙｎｅ／
ｃｍ以下であることを特徴とする。臨界表面張力が２０
ｄｙｎｅ／ｃｍより大きい場合は、表面層に付着した汚
れが取れにくくなる。また、反射防止効果を向上させる
ためには、表面層の屈折率が粗面化層の屈折率より低
く、かつ、１．４５以下であることが好ましい。これら
の特徴を有する材料としては、例えばＬｉＦ（屈折率ｎ
＝１．４）、ＭｇＦ₂（ｎ＝１．４）、３ＮａＦ・Ａｌ
Ｆ₃（ｎ＝１．４）、ＡｌＦ₃（ｎ＝１．４）Ｎａ₃Ａｌ
Ｆ₆（ｎ＝１．３３）等の無機材料を微粒子化し、アク
リル系樹脂やエポキシ系樹脂等に含有させた無機系低反
射材料、フッ素系、シリコーン系の有機化合物、熱可塑
性樹脂、熱硬化型樹脂、放射線硬化型樹脂等の有機低反
射材料を挙げることができる。その中で、特に、含フッ
素系のフッ素材料が汚れ防止の点において好ましい。

【００３７】前記含フッ素材料としては、有機溶剤に溶
解し、その取り扱いが容易であるフッ化ビニリデン系共
重合体や、フルオロオレフィン／炭化水素オレフィン共
重合体、含フッ素エポキシ樹脂、含フッ素エポキシアク
リレート、含フッ素シリコーン、含フッ素アルコキシシ
ラン、さらに、ＴＥＦＲＯＮＡＦ１６００（デュポン
社製、ｎ＝１．３０）、ＣＹＴＯＰ（旭硝子（株）社
製、ｎ＝１．３４）、１７ＦＭ（三菱レーヨン（株）社
製、屈折率ｎ＝１．３５）、オプスターＪＮ−７２１２
（日本合成ゴム（株）社製、ｎ＝１．４０）、ＬＲ２０
１（日産化学工業（株）社製、ｎ＝１．３８）等を挙げ
ることができる。これらは単独でも複数組み合わせて使
用することも可能である。

【００３８】また、２−（パーフルオロデシル）エチル
メタクリレート、２−（パーフロロ−７−メチルオクチ
ル）エチルメタクリレート、３−（パーフロロ−７−メ
チルオクチル）−２−ヒドロキシプロピルメタクリレー
ト、２−（パーフロロ−９−メチルデシル）エチルメタ
クリレート、３−（パーフロロ−８−メチルデシル）２
−ヒドロキシプロピルメタクリレート等の含フッ素メタ
クリレート、３−パフロロオクチル−２−ヒドロキシプ
ロピルアクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチ
ルアクリレート、２−（パーフルオロ−９−メチルデシ
ル）エチルアクリレート等の含フッ素アクリレート、３
−パーフルオロデシル１，２−エポキシプロパン、３−
（パーフロロ−９−メチルデシル）−１，２−エポキシ
プロパン等のエポキサイド、エポキシアクリレート等の
放射線硬化型の含フッ素モノマー、オリゴマー、プレポ
リマー等を挙げることができる。これらは単独もしくは
複数種類混合して使用することも可能である。

【００３９】さらに、５〜３０ｎｍのシリカ超微粒子を
水もしくは有機溶剤に分散したゾルとフッ素系の皮膜形
成剤を混合した低反射材料を使用することもできる。５
〜３０ｎｍのシリカ超微粒子を水もしくは有機溶剤に分
散したゾルは、ケイ酸アルカリ塩中のアルカリ金属イオ
ンをイオン交換等で脱アルカリする方法や、ケイ酸アル
カリ塩を鉱酸で中和する方法等で知られた活性ケイ酸を
縮合して得られる公知のシリカゾル、アルコキシシラン
を有機溶媒中で塩基性触媒の存在下に加水分解と縮合す
ることにより得られる公知のシリカゾル、さらには上記
の水性シリカゾル中の水を蒸留法等により有機溶剤に置
換することにより得られる有機溶剤系のシリカゾル（オ
ルガノシリカゾル）が用いられる。これらのシリカゾル
は水系及び有機溶剤系のどちらでも使用することができ
る。有機溶剤系シリカゾルの製造に際し、完全に水を有
機溶剤に置換する必要はない。前記シリカゾルはＳｉＯ
₂として０．５〜５０重量％濃度の固形分を含有する。
シリカゾル中のシリカ超微粒子の構造は球状、針状、板
状等様々なものが使用可能である。

【００４０】また、被膜形成剤としては、アルコキシシ
ラン、金属アルコキシドや金属塩の加水分解物や、ポリ
シロキサンをフッ素変性したものなどを用いることがで
きる。特に、表面層の臨界表面張力を確実に２０ｄｙｎ
ｅ／ｃｍ以下にするためには、上記のような被膜形成剤
を用いると好適であり、特に、フッ素化合物が好適であ
る。本発明の表面層は、上記で述べた材料を例えば溶剤
で希釈し、スピンコーター、ロールコーター、印刷等の
方法で粗面化層に設けて乾燥後、熱や放射線（紫外線の
場合は上述の光重合開始剤を使用する）等により硬化さ
せることによって得ることができる。放射線硬化型の含
フッ素モノマー、オリゴマー、プレポリマーは耐汚染性
には優れているが、濡れ性が悪いため、組成によっては
粗面化層上で表面層をはじくという問題や、表面層が粗
面化層から剥がれるという問題が生じるおそれがあるた
め、粗面化層に使用する前述の放射線硬化型樹脂として
説明した、アクリロイル系、メタアクリロイル系、アク
リロイルオキシ基、メタアクリロイルオキシ基等重合性
不飽和結合を有するモノマー、オリゴマー、プレポリマ
ーを適宜混合し、使用することが望ましい。なお、透明
基体が熱によるダメージを受けやすいＰＥＴ、ＴＡＣ等
のプラスチックフィルムを使用する場合は、これら表面
層の材料としては、放射線硬化型樹脂を選択することが
好ましい。

【００４１】表面層の塗料、インクの塗工適性または印
刷適性を向上させるために、必要に応じ、粗面化層同
様、シリコーンオイル等のレベリング剤、ポリエチレン
ワックス、カルナバワックス、高級アルコール、ビスア
マイド、高級脂肪酸等の油脂、イソシアネート等の硬化
剤、炭酸カルシウムやシリカゾル、合成雲母等０．０５
μｍ以下の超微粒子等の添加剤を適宜使用することがで
きる。また、ディスプレイ表面に静電的に付着するホコ
リ等の汚れを防止するために帯電防止剤を表面層に添加
したり、もしくは表面層上に静電防止層を設けても良
い。帯電防止剤は、前述の帯電防止層で説明した材料が
そのまま適用できる。

【００４２】表面層の厚さについては、公知の計算式で
算出することができる。公知の文献（サイエンスライブ
ラリ、物理学９「光学」７０〜７２頁）によれば、入射
光が表面層に垂直に入射する場合に、表面層が光を反射
せず、かつ１００％透過するための条件は次の関係式を
満たせば良いとされている。なお、式中Ｎ₀は表面層の
屈折率、Ｎ_sは粗面化層の屈折率、ｈは表面層の厚さ、
λ₀は光の波長を示す。

【００４３】

【数２】Ｎ₀＝Ｎ_s ^1/2 式（１）Ｎ₀ｈ＝λ₀／４式（２）

【００４４】前記（１）式によれば、光の反射を１００
％防止するためには、表面層の屈折率が下層（粗面化
層）の屈折率の平方根になるような材料を選択すればよ
いことが分かる。ただし、実際は、この数式を完全に満
たす材料は見出し難く、限りなく近い材料を選択するこ
とになる。前記（２）式では（１）式で選択した表面層
の屈折率と、光の波長から表面層の反射防止膜としての
最適な厚さが計算される。たとえば、粗面化層、表面層
の屈折率をそれぞれ１．５０、１．３８、光の波長を５
５０ｎｍ（視感度の基準）とし、これらの値を前記
（２）式に代入すると、表面層の厚さは０．１μｍ前後
の光学膜厚、好ましくは０．１±０．０１μｍの範囲が
最適であると計算される。

【００４５】このようにして作製した本発明の反射防止
材料のＪＩＳＫ７１０５によるＨＡＺＥ値は、３〜３
０の範囲、特に好ましくは５〜１５の範囲であることが
好ましい。この場合、この値が３未満では、光拡散の効
果が少なくそれ程大きな反射防止効果を得ることができ
ない。一方、ＨＡＺＥ値が３０を超えると、画像コント
ラストが悪く視認性不良となり、ディスプレイとしての
機能低下を招くことから好ましくない。なお、ＨＡＺＥ
値とは、曇価を意味するものであり、積分球式光線透過
率測定装置を用いて、拡散透過率（Ｈｄ％）と全光線透
過率（Ｈｔ％）を測定し、下記式にて算出する。

【００４６】

【数３】ＨＡＺＥ値＝Ｈｄ／Ｈｔ×１００

【００４７】（２）偏光フィルムの内容Ａ．偏光フィルム−１上記構成の反射防止材料をフィルム状の偏光基体の片面
に設けることにより、偏光フィルムを構成することがで
きる。ここで、偏光基体は、透明フィルムを形成できる
材料で構成され、具体的には、ポリビニルアルコール、
ポリビニレン等が使用できる。そして、このような材料
を延伸させてフィルム化することにより偏光基体を得る
ことができる。例えば、２色性素子として沃素または染
料を吸着させたポリビニルアルコールを一軸延伸して得
られたポリビニルアルコール（ＰＶＡ)フィルムを用い
ることが好ましい。偏光基体は１０〜８０μｍの厚みを
有するものが使用される。

【００４８】Ｂ．偏光フィルム−２本発明の他の偏光フィルムは、上記フィルム状の偏光基
体の片面に、反射防止機能を有する粗面化層、表面層を
順次設けた透明基体からなる第１の保護材（前記（１）
の反射防止材料に相当）を設け、他面に第２の保護材を
設けた積層構成を有する。具体的には、ＰＶＡフィルム
を一軸方向に３〜４倍程度延伸し、高次の沃素イオン中
に延伸したＰＶＡフィルムを含浸させることにより得ら
れた偏光基体の両側にポリエステル系接着剤、ポリアク
リル系接着剤、ポリウレタン系接着剤、ポリ酢酸ビニル
系接着剤等により、第１及び第２の保護材をラミネート
した構造を有するものが好ましい。上記で得られるＰＶ
Ａフィルムは、強度等が不足していることから、裂け易
く、湿度変化に対して収縮率が大きいという欠点を有し
ていることから、偏光基体の両側に保護材がラミネート
される。この第１の保護材に用いられる透明基体及び第
２の保護材としては、透明な高分子化合物のフィルム、
例えば、トリアセチルセルロース等のセルロース系フィ
ルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィル
ム等が使用される。その中でも特にトリアセチルセルロ
ースが好ましい。該フィルムの厚さは１０〜２０００μ
ｍが好ましい。また、これらのフィルムには特にほう酸
等のゲル化剤を使用したり、熱処理やホルマール化を行
うことによって、フィルムの耐水性を向上させることが
好ましい。また、偏光基体との密着性を向上させるため
に、偏光基体との接着面の表面エネルギーが５０ｄｙｎ
ｅ／ｃｍ以上になるように、けん化処理やコロナ処理等
の表面処理を行うことが好ましい。

【００４９】以下図面を用いて、本発明の反射防止材料
と偏光フィルムをさらに詳細に説明する。図１は、本発
明の反射防止材料の構成を示す概略断面図であり、反射
防止材料１０は、透明基体１１の片面上に粗面化層１２
を有する構成である。なお、粗面化層１２の表面には表
面層が形成されているが、表面層は極めて薄いために図
示を省略している（以下においても同じ）。図２は、本
発明の偏光フィルム２０の構成を示す概略断面図であ
り、偏光基体２４の片面に、透明基体２１上に粗面化層
２２を有する第１の保護材２３、すなわち反射防止材料
が、一方、他の面に第２の保護材２５が形成されている
ことを示している。

【００５０】図３は本発明の反射防止材料により防眩性
を改善した液晶表示体３０の構成を示すものである。こ
の液晶表示体３０は、上面の液晶パネル３１と下面の導
光板装置（ＥＬ）やランプ等の背面光源３２とを積層し
て形成されている。液晶パネル３１には、例えば、ツイ
ステッドネマチック（ＴＮ）液晶セルなどが使用可能で
ある。

【００５１】ＴＮ液晶セルは、所望のパターンからなる
透明電極付きの２枚のガラス基盤３３、３４の透明電極
面３３'、及び３４'上に、ポリイミドの溶液を塗布して
配向膜を形成し、これをラビング操作により配向させ、
その後、この基板間にネマチック液晶３５を注入し、ガ
ラス基盤周辺部をエポキシ樹脂等で封着することにより
形成される。このネマチック液晶は、配向膜の作用によ
り９０゜捻れ配向する。このＴＮ液晶セルの２枚のガラ
ス基板の背面光源とは反対側には、表面層（図示略）お
よび粗面化層２２を有する第１の保護材と第２の保護材
（図示略）とで両面を保護された偏光フィルム３６（２
２と３６で前記した偏光フィルム−２に相当）を、ま
た、その背面光源側には、粗面化層のない偏光フィルム
３７を、偏光角度が互いに９０゜捻れるように貼ること
で液晶パネル３１が形成される。

【００５２】上記ＴＮ液晶パネル３１の透明電極に駆動
信号を印加すると信号が印加された電極間には電界が発
生する。その際、液晶分子の持つ電子的異方性により、
液晶分子の長軸が電界方向と平行になるため、液晶分子
による光の旋光性が失われることとなり、その結果、液
晶パネルには光が透過しない状態となる。画像の表示は
この時の光透過の差に基づくコントラストにより視覚情
報として認識される。上記液晶表示体３０においては、
液晶パネル３１に透過させ、液晶パネル３１の光の透過
する部分と透過しない部分にコントラストを持たせるこ
とにより画像表示を可能とするものである。

【００５３】図４は、本発明の反射防止材料１０を使用
した他の液晶表示体の構成を示す断面図である。図４に
おいて、液晶パネル４１は、２枚のガラス基盤４３、４
４及びその間に介在するネマチック液晶４５と、ガラス
基盤の外側に位置する粗面化層を有しない上部の偏光フ
ィルム４６、粗面化層を有しない下部の偏光フィルム４
７及び該上部の偏光フィルムの上に積層された反射防止
材料１０（１０と４６とで前記した偏光フィルム−１に
相当）より構成されている。また、液晶表示体４０は、
液晶パネル４１とその下面に位置する背面光源３２を積
層して形成されている。

【００５４】

【実施例】本発明を実施例によってさらに詳細に説明す
る。なお、以下の説明において「部」は「重量部」を意
味するものとする。＜実施例１＞まず、架橋アクリルビーズとトルエンの混
合物をサンドミルにて３０分間分散することによって得
られた下記分散液と、下記ベース塗料をディスパーにて
１５分間撹拌、混合した塗料を、膜厚８０μｍ、透過率
９２％からなる透明基体であるトリアセチルセルロース
（商品名：富士タックＵＶＤ８０、富士写真フィルム社
製、屈折率１．４９）の片面上に、リバースコーティン
グ方式にて塗布し、１００℃で２分間乾燥後、出力１２
０ｗ／ｃｍの集光型高圧水銀灯１灯を用いて、照射距離
（ランプ中心から塗工面までの距離）１０ｃｍ、処理速
度（塗工基体側の水銀灯に対する速度）５ｍ／分で紫外
線照射を行い、塗工膜を硬化させた。このようにして、
厚さ１．７μｍ、屈折率１．５３の粗面化層を形成し
た。その後、含フッ素シリカゾル（日産化学工業（株）
社製ＬＲ２０１（全固形分濃度；４％、溶媒；エタノー
ル／ブチルセロソルブ＝５０／５０、日産化学工業
（株）社製））を前記粗面化層上にスピンコーティング
により塗布し、１００℃で１分感乾燥後、１２０℃で６
時間熱キュアーし、厚さ０．１μｍ、屈折率１．３８、
臨界表面張力１１ｄｙｎｅ／ｃｍの表面層を形成し、Ｈ
ＡＺＥ値１０．５、反射率１．４％の本発明の反射防止
材料を得た。

【００５５】 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ９部 (商品名：ＭＸ１５０、粒径１．５±０．５μｍ、綜研化学社製) ・トルエン２１０部

【００５６】 [ベース塗料の配合] ・アクリル系化合物ジペンタエリスリトールトリアクリレート４５部・エポキシ系化合物４５部（商品名：セロキサイト２０２１、ダイセル化学工業）・下記化学式の光カチオン重合開始剤２部

【００５７】

【化３】

【００５８】・イソプロピルアルコール５部

【００５９】＜実施例２＞粗面化層の組成を下記に変更
した以外は実施例１と同様にして、本発明の反射防止材
料を得た。粗面化層の厚さ及び屈折率はそれぞれ３．８
μｍ、１．５２、表面層の臨界表面張力は１１．０ｄｙ
ｎｅ／ｃｍ、反射防止材料のＨＡＺＥ値、反射率はそれ
ぞれ２２．０、１．３％であった。

【００６０】 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ４部 (商品名：ＭＸ３００、粒径３．０±０．５μｍ、屈折率１．５０、綜研化学社製) ・架橋アクリルビーズ４部 (商品名：ＭＸ５００、粒径５．０±０．５μｍ、屈折率１．５０、綜研化学社製) ・トルエン２００部

【００６１】 [ベース塗料の配合] ・アクリル系化合物４５部トリペンタエリスリトールポリアクリレート・エポキシ系化合物４５部（商品名：サイラキュアＵＶＲ−６１１０、ユニオンカーバイド（株）社製）・光カチオン重合開始剤２部（商品名：サイラキュアＵＶＩ−６９９０、ユニオンカーバイド（株）社製）・イソプロピルアルコール５部

【００６２】＜実施例３＞粗面化層の分散液とベース塗
料を下記に変更した以外は実施例１と同様にして、本発
明の反射防止材料を得た。粗面化層の厚さ及び屈折率は
それぞれ２．８μｍ、１．５５、表面層の臨界表面張力
は１１．０ｄｙｎｅ／ｃｍ、反射防止材料のＨＡＺＥ
値、反射率はそれぞれ２２．０、１．３％であった。

【００６３】 [分散液の配合] ・球状シリカ (商品名：ハイプレシカＦＱ粒径１．０±０．１μｍ、屈折率１．４５、宇部日東化成（株）社製）３部 (商品名：ハイプレシカＵＦ粒径２．５±０．１μｍ、屈折率１．４３、宇部日東化成（株）社製）４部・架橋アクリルビーズ２部 (商品名：ＭＸ３００、粒径３．０±０．５μｍ、屈折率１．５０、綜研化学社製) ・トルエン２１０部

【００６４】 [ベース塗料の配合] ・アクリル系化合物テトラペンタエリスリトールポリアクリレート１５部ネオペンチルグリコールジアクリレート３０部・エポキシ系化合物４５部（商品名：エピコート８２８油化シェルエポキシ社製）・光カチオン重合開始剤２部（商品名：サイラキュアＵＶＩ−６９９０、ユニオンカーバイド（株）社製）・イソプロピルアルコール５部

【００６５】＜実施例４＞実施例１と同様にして設けた
粗面化層上に、含フッ素熱硬化型樹脂オプスターＪＮ−
７２１２（全固形分濃度５％、溶媒ＭＩＢＫ、日本合成
ゴム（株）社製）をスピンコーティングにより塗布し、
１００℃で１分間乾燥後、１００℃で２時間熱キュアー
し、厚さ０．１μｍ、屈折率１．４０、臨界表面張力１
８ｄｙｎｅ／ｃｍの表面層を形成し、ＨＡＺＥ値１１．
０、反射率１．６％の本発明の反射防止材料を得た。

【００６６】＜実施例５＞分散液、ベース塗料を下記に
変更した以外は実施例１と同様にして粗面化層を形成
し、その上に、含フッ素紫外線硬化型樹脂オプスターＴ
Ｍ００７（全固形分濃度５％、溶媒ＭＩＢＫ、日本合成
ゴム（株）社製）を塗布し、１００℃で１分間乾燥後、
ＵＶランプ出力１２０ｗ／ｃｍの集光型高圧水銀灯１灯
を用いて、照射距離（ランプ中心から塗工面までの距
離）１０ｃｍ、処理速度（塗工基体側のＵＶランプに対
する速度）５ｍ／分で紫外線照射を行い、塗工膜を硬化
させ、厚さ０．１μｍ、屈折率１．４１、臨界表面張力
１５ｄｙｎｅ／ｃｍの表面層を形成し、本発明の反射防
止材料を得た。粗面化層の厚さ及び屈折率はそれぞれ
５．６μｍ、１．５１、反射防止材料のＨＡＺＥ値、反
射率はそれぞれ２８．０、１．０％であった。

【００６７】 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ (商品名：ＭＸ１５０、粒径１．５±０．５μｍ、屈折率１．５０、綜研化学社製) １０部 (商品名：ＭＸ３００、粒径３．０±０．５μｍ、屈折率１．５０、綜研化学社製) ４部 (商品名：ＭＸ５００、粒径５．０±０．５μｍ、屈折率１．５０、綜研化学社製) ２部・球状シリカ (商品名：ハイプレシカＵＦ粒径６．５±０．１μｍ、屈折率１．４３、宇部日東化成（株）社製）１部・トルエン２００部

【００６８】 [ベース塗料の配合] ・アクリル系化合物１，６ヘキサンジオールジメタクリレート４５部ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネート４５部・光重合開始剤５部（商品名：イルガキュア１８４チバガイギー社製）・イソプロピルアルコール１０部

【００６９】＜実施例６＞下記の分散液とベース塗料を
実施例１と同様にして混合した塗料を、膜厚７５μｍ、
透過率８９％からなる透明基体のポリエチレンテレフタ
レートフィルムの片面上に、リバースコーティング方式
にて塗布し、その後は実施例１と同様にして本発明の反
射防止材料を得た。粗面化層の厚さ及び屈折率はそれぞ
れ２．５μｍ、１．５１、表面層の臨界表面張力は１
１．０ｄｙｎｅ／ｃｍ、反射防止材料のＨＡＺＥ値、反
射率はそれぞれ９．０、１．４％であった。

【００７０】 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ３部 (商品名：ＭＸ３００粒径３．０μｍ±０．５、綜研化学社製) ・トルエン２１０部

【００７１】 [ベース塗料の配合] ・アクリル系化合物１,６ヘキサンジオールジメタクリレート２０部ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネート３０部・エポキシ系化合物４５部（商品名：エポライト４０Ｅ共栄化学社製）・光カチオン重合開始剤２部（商品名：ＭＰＩ０３、みどり化学社製）・イソプロピルアルコール５部

【００７２】（比較例１）分散液とベース塗料を下記に
変更した以外は実施例１と同様にし、厚さ３．２μｍ、
屈折率１．５２の粗面化層を形成し、表面層は設けず、
ＨＡＺＥ値１３．２、反射率２．６％である比較用の反
射防止材料を得た。

【００７３】 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ５部 (商品名：ＭＸ３００粒径１．５μｍ±０．５、綜研化学社製) ・トルエン２００部

【００７４】 [ベース塗料の配合] ・アクリル系化合物１,６ヘキサンジオールジメタクリレート 4５部ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネート４５部・光重合開始剤５部（商品名：イルガキュア１８４チバガイギー社製）・イソプロピルアルコール１０部

【００７５】（比較例２）粗面化層の架橋アクリルビー
ズの種類及び配合量を以下にした以外は実施例１と同様
にして、厚さ３．０μ、ＨＡＺＥ値３５．０、反射率
２．０％の比較用の反射防止材料を得た。なお、表面層
の臨界表面張力は２２ｄｙｎｅ／ｃｍであった。・架橋アクリルビーズ２０部 (商品名：ＭＸ３００粒径３．０μｍ±０．５、綜研化学社製)

【００７６】（比較例３）粗面化層のアクリルビーズを
以下の顔料に変更した以外は実施例３と同様にして、厚
さ３．０μ、ＨＡＺＥ値２９．０、反射率１．１％の比
較用の反射防止材料を得た。なお、表面層の臨界表面張
力は２３ｄｙｎｅ／ｃｍであった。・シリカ顔料（商品名サイリシア＃４５６富士シリシア化学社製粒径：０．５〜６．０μｍの範囲のもの５０％粒径：６．０μｍを越えるもの４０％）

【００７７】（比較例４）厚さ８０μｍ、透過率９２％
のトリアセチルセルロースをそのまま比較用の反射防止
材料とした。なお、表面の臨界両面張力は３６ｄｙｎｅ
／ｃｍであった。

【００７８】（比較例５）下記配合の表面層塗料を用い
た以外は、実施例１と同様にして、表面層の臨界表面張
力が４２ｄｙｎｅ／ｃｍである比較用の反射防止材料を
得た。反射防止材料のＨＡＺＥ値は１１．３、反射率は
１．３％であった。［表面層塗料の配合］・シリカゾル（粒子径１５ｎｍでＳｉＯ２として３０重量％のシリカ超微粒子を含有するエタノール分散液）１０部・皮膜形成剤（テトラエトキシシランの加水分解物ＳｉＯ２として計算して固形分濃度６％）１５部・溶剤エタノール５３部

【００７９】（比較例６）分散液とベース塗料を下記に
変更した以外は実施例１と同様にして、表面層の臨界表
面張力が２５ｄｙｎｅ／ｃｍである比較用の反射防止材
料を得た。粗面化層の厚さは３．０μｍ、屈折率は１．
５３であり、反射防止材料のＨＡＺＥ値は２．３、反射
率は１．９％であった。［分散液の配合］・架橋アクリルビーズ２部（商品名：ＭＸ３００粒径３．０μｍ±０．５、綜研化学社製）・トルエン１００部［ベース塗料の配合］・ポリエステル系熱化塑性樹脂４０部（商品名：バイロン２００、東洋紡社製）・トルエン７０部・ＭＥＫ１００部

【００８０】実施例１〜６、比較例１〜６で得られた反
射防止材料１０を用い、防眩性、画像ギラツキ、反射
率、耐磨耗性、耐薬品性、臨界表面張力、耐汚染性を下
記方法により測定、評価した。

【００８１】前記反射防止材料１０を用い、図２に示さ
れる構成の偏光フィルム２０を作製した。次いで、前記
偏光フィルム２０を図３に示されるようにガラス基盤３
３に貼り付け、液晶表示体３０を得た。また、実施例６
で得られた反射防止材料１０に関しても、粗面化処理を
していない偏光フィルムにＰＥＴ面側が貼り合わせ面に
なるように粘着剤を介して貼り合わせた積層体を作製
し、この積層体を図４に示されるように偏光フィルム４
６に貼り付け、液晶表示体４０を得た。なお、これらの
各液晶表示体３０の画像サイズは例えば１０．４インチ
とし、解像度は例えば８００×６００ドットとして、下
記方法によって、画像コントラストの評価を行った。

【００８２】防眩性はスガ試験機社製の写像性測定器Ｉ
ＣＭ−１ＤＰ（ＪＩＳＫ７１０５）を使用、透過モー
ドで、光学くし幅２ｍｍで測定した。測定値が小さいほ
ど防眩性が高い。ここでは、５０％未満を○、５０％以
上、７０％未満を△、７０％以上を×として評価した。
画像ギラツキは防眩性の評価と同じ測定器を使用し、透
過モードで、光学くし幅０．１２５ｍｍで測定した。測
定値が大きいほど画像ギラツキが少ない。ここでは、１
０％以上を○、５％以上、１０％未満を△、５％未満を
×とした。反射率は分光光度計ＵＶ３１００（島津製作
所社製）を使用し、波長領域４００〜７００ｎｍの範囲
の５゜の正反射を測定、ＪＩＳＺ８７０１に従い、視
感度補正したＹ値で表した。なお、測定は非測定面を黒
マジックで完全に黒塗りし、行った。

【００８３】耐摩耗性は日本スチールウール社製のスチ
ールウール＃００００を板紙耐摩耗試験機（熊谷理機工
業社製）に取り付け、反射防止材料の表面層面を荷重２
００ｇにて５０回往復させる。その後、その部分のＨＡ
ＺＥ値の変化δＨ（下記計算に基づく）を東洋精機社製
ＨＡＺＥメーターで測定した。測定値が大きいほど耐摩
耗性が悪い。なお、ＨＡＺＥ値の測定は反射防止材料単
体で行った。ＨＡＺＥ値変化δＨ＝試験後のＨＡＺＥ値−試験前のＨ
ＡＺＥ値

【００８４】耐薬品性は、表面層面をイソプロピルアル
コールを含ませた綿棒（ジョンソン社製）で、５０往復
擦った後に、粗面化層に剥がれ等著しい変化があった場
合を×、変化がない場合を○、その中間を△として評価
した。臨界表面張力はウィル・ヘルミー法により反射防
止材料の表面層の水とヨウ化メチレンに対する接触角を
測定し、コーティングの基礎科学（原崎勇次著槇書
店発行）ｐ１７０〜１７１記載の次式に代入、Ｚｉｓｍ
ａｍプロットから、ＣＯＳθ−１に外挿したγ_LV゜の値
から求めた。ＣＯＳθ＝１＋ｂ（γ_c−γ_LV゜）ただし、γ_LV゜≧γ_c θ：固／液の接触角、γ_LV゜：液体の表面張力、γ_c：臨
界表面張力、ｂ：定数

【００８５】耐汚染性は、表面層面に菜種油をスポイト
で１滴、滴下した後、滴下した菜種油をリグロインを含
ませた旭化成社製のベンコットで２０往復ラビングす
る。さらにその後、拭き取った面のＳＥＭ写真を撮影、
面の傷やベンコットの繊維の付着の有無を確認した。粗
面化層に傷やベンコットの繊維の付着が顕著に認められ
る場合を×、全く変化がない場合を○、その中間を△と
した。画面コントラストはＪＩＳＣ７０７２１９８８
に於ける液晶表示パネルのコントラスト比（ＣＲ）測定
方法に準拠し、評価した。画像コントラストの評価にお
ける光源１０１−液晶パネル−測光器１０４の位置関係
を図４に示す。この場合、光源１０１と液晶パネル２と
の間は例えば１ｃｍ、液晶パネル２と測光器との間は例
えば５０ｃｍ、測光器の開口角は例えば５゜に設定し
た。なお、光源には５ＷのＥＬを使用し、測光器にはミ
ノルタカメラ社製のＬＳ−１００を使用した。ＣＲが４
以上の場合を◎、同、３以上、４未満の場合を○、同、
２以上〜３未満の場合を△、同、２未満を×とした。以
上の評価結果を表１に示す。

【００８６】

【表１】

【００８７】表１の結果から明らかなように、本発明の
反射防止材料はいずれも良好な特性が得られているのに
対し、比較例の反射防止材料はすべて臨界表面張力が２
０ｄｙｎｅ／ｃｍより大きいために、耐汚染性に問題を
有するのである。加えて、比較例２はフィラーの含有量
が多いので、透明性、画像コントラストが劣るものであ
り、比較例３はフィラーの粒径が大きいために画像コン
トラストが劣り、ギラツキの問題を有する。また、比較
例４は粗面化層及び表面層が設けられていないので防眩
性、耐摩耗性の問題を有し、さらに、比較例６は粗面化
層に硬化性樹脂に代えて熱化塑性樹脂が使用されている
ために耐摩耗性、耐薬品性に劣るものである。

【００８８】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、デ
ィスプレイへの太陽光及び蛍光灯等の外部光の映り込み
を防止することにより優れた反射防止性を発揮し、画像
コントラストを低下させることなく、ギラツキ等のない
鮮明な画像を得ることができるとともに、光学的に安定
で優れた耐磨耗性、耐薬品性を示し、かつ、優れた耐汚
染性を示す反射防止材料と偏光フィルムを得ることがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の反射防止材料の構成を示す概略断面
図である。

【図２】本発明の反射防止材料を使用した偏光フィル
ムの構成を示す概略断面図である。

【図３】反射防止材料を使用した偏光フィルムを具備
する液晶表示体の構成を示す概略断面図である。

【図４】反射防止材料を使用した偏光フィルムを具備
する他の液晶表示体の構成を示す概略断面図である。

【図５】画像コントラストの測定装置の配置図を示す
概略図である。

【符号の説明】

１０…反射防止材料、１１…透明基体、１２…粗面化
層、２０…粗面化層付偏光フィルム、２１…透明基体、
２２…粗面化層、２３…第１の保護材、２４…偏光基
体、２５…第２の保護材、３０…液晶表示体、３１…液
晶パネル、３２…背面光源、３３，３４…ガラス基盤、
３３´，３４´…透明電極面、３５…ネマチック液晶、
３６…偏光フィルム、４０…液晶表示体、４１…液晶パ
ネル、４２…背面光源、４３，４４…ガラス基盤、４５
…ネマチック液晶、４６，４７…偏光フィルム、６０…
光源、６１…液晶パネル、６２…測光器。

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成１０年５月６日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】請求項１

【補正方法】変更

【補正内容】

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】請求項５

【補正方法】変更

【補正内容】

【手続補正３】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００１４

【補正方法】変更

【補正内容】

【００１４】これら透明基体の透明性は高いもの程良好
であるが、光線透過率（ＪＩＳＣ−６７１４）として
は８０％以上、より好ましくは９０％以上が良い。ま
た、その透明基体を小型軽量の液晶ディスプレイに用い
る場合には、透明基体はフィルムであることがより好ま
しい。透明基体の厚さは、軽量化の観点から薄いほうが
望ましいが、その生産性を考慮すると、１μｍ〜５μｍ
の範囲のものを使用することが好適である。

【手続補正４】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００２３

【補正方法】変更

【補正内容】

【００２３】光カチオン重合開始剤の配合量は、主剤に
対し、０．１〜５．０重量％の範囲が望ましい。この配
合量は０．１重量％より少なくても、５．０重量％より
多くても紫外線硬化は不十分である。

【手続補正５】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００４０

【補正方法】変更

【補正内容】

【００４０】また、皮膜形成剤としては、アルコキシシ
ラン、金属アルコキシドや金属塩の加水分解物や、ポリ
シロキサンをフッ素変性したものなどを用いることがで
きる。特に、表面層の臨界表面張力を確実に２０ｄｙｎ
ｅ／ｃｍ以下にするためには、上記のような皮膜形成剤
を用いると好適であり、特に、フッ素化合物が好適であ
る。本発明の表面層は、上記で述べた材料を例えば溶剤
で希釈し、スピンコーター、ロールコーター、印刷等の
方法で粗面化層に設けて乾燥後、熱や放射線（紫外線の
場合は上述の光重合開始剤を使用する）等により硬化さ
せることによって得ることができる。放射線硬化型の含
フッ素モノマー、オリゴマー、プレポリマーは耐汚染性
には優れているが、濡れ性が悪いため、組成によっては
粗面化層上で表面層をはじくという問題や、表面層が粗
面化層から剥がれるという問題が生じるおそれがあるた
め、粗面化層に使用する前述の放射線硬化型樹脂として
説明した、アクリロイル系、メタアクリロイル系、アク
リロイルオキシ基、メタアクリロイルオキシ基等重合性
不飽和結合を有するモノマー、オリゴマー、プレポリマ
ーを適宜混合し、使用することが望ましい。なお、透明
基体が熱によるダメージを受けやすいＰＥＴ、ＴＡＣ等
のプラスチックフィルムを使用する場合は、これら表面
層の材料としては、放射線硬化型樹脂を選択することが
好ましい。

【手続補正６】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００５４

【補正方法】変更

【補正内容】

【００５４】

【手続補正７】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００７８

【補正方法】変更

【補正内容】

【００７８】（比較例５）下記配合の表面層塗料を用い
た以外は、実施例１と同様にして、表面層の臨界表面張
力が４２ｄｙｎｅ／ｃｍである比較用の反射防止材料を
得た。反射防止材料のＨＡＺＥ値は１１．３、反射率は
１．３％であった。［表面層塗料の配合］・シリカゾル（粒子径１５ｎｍでＳｉＯ２として３０重量％のシリカ超微粒子を含有するエタノール分散液）１０部・皮膜形成剤（テトラエトキシシランの加水分解物ＳｉＯ _２として計算して固形分濃度６％）１５部・溶剤エタノール５３部

【手続補正８】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００８７

【補正方法】変更

【補正内容】

【００８７】表１の結果から明らかなように、本発明の
反射防止材料はいずれも良好な特性が得られているのに
対し、比較例の反射防止材料はすべて臨界表面張力が２
０ｄｙｎｅ／ｃｍより大きいために、耐汚染性に問題を
有する。加えて、比較例２はフィラーの含有量が多いの
で、透明性、画像コントラストが劣るものであり、比較
例３はフィラーの粒径が大きいために画像コントラスト
が劣り、ギラツキの問題を有する。また、比較例４は粗
面化層及び表面層が設けられていないので防眩性、耐摩
耗性の問題を有し、さらに、比較例６は粗面化層に硬化
性樹脂に代えて熱化塑性樹脂が使用されているために耐
摩耗性、耐薬品性に劣るものである。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号ＦＩＧ０２Ｂ 5/30 Ｇ０２Ｆ 1/1335 Ｇ０２Ｆ 1/1335 Ｇ０９Ｆ 9/00 ３１８ＡＧ０９Ｆ 9/00 ３１８Ｈ０１Ｊ 5/16 Ｈ０１Ｊ 5/16 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ (72)発明者山崎和弘静岡県静岡市用宗巴町３番１号株式会社巴川製紙所情報メディア事業部内 (72)発明者作本征則静岡県静岡市用宗巴町３番１号株式会社巴川製紙所情報メディア事業部内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明基体の片面もしくは両面に、直接或
は他の層を介して、粗面化層、表面層を順次設けた反射
防止材料において、前記表面層の臨界表面聴力が２０ｄ
ｙｎｅ／ｃｍ以下であることを特徴とする反射防止材
料。
【請求項２】前記粗面化層が少なくとも放射線、熱の
何れか、もしくは組み合わせにより硬化する樹脂及び球
状フィラーからなることを特徴とする請求項１記載の反
射防止材料。
【請求項３】前記樹脂が少なくともエポキシ化合物と
光カチオン重合開始剤を含む紫外線硬化型樹脂であるこ
とを特徴とする請求項２記載の反射防止材料。
【請求項４】前記球状フィラーの粒径Ｄは、０．５μ
ｍ≦Ｄ≦６．０μｍの範囲の粒子が６０重量％以上、
６．０μｍ＜Ｄ≦１０．０μｍの範囲の粒子が２０重量
％未満、１０．０μｍ＜Ｄ≦１５．０μｍの範囲の粒子
が５重量％以下、さらに、１５μｍより大きい粒子が
１．０重量％以下である粒度分布を有すことを特徴とす
る請求項２記載の反射防止材料。
【請求項５】透明基体の片面に、直接或は他の層を介
して、粗面化層、表面層を順次設けてなる第１の保護材
の透明基体側の面に、偏光基体を介して第２の保護材を
積層した偏光フィルムにおいて、前記表面層の臨界表面
聴力が２０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であることを特徴とする
偏光フィルム。
【請求項６】前記粗面化層が少なくとも放射線、熱の
何れか、もしくは組み合わせにより硬化する樹脂及び球
状フィラーからなることを特徴とする請求項５記載の偏
光フィルム。
【請求項７】前記樹脂が少なくともエポキシ化合物と
光カチオン重合開始剤を含む紫外線硬化型樹脂であるこ
とを特徴とする請求項６記載の偏光フィルム。
【請求項８】前記球状フィラーの粒径Ｄは、０．５μ
ｍ≦Ｄ≦６．０μｍの範囲の粒子が６０重量％以上、
６．０μｍ＜Ｄ≦１０．０μｍの範囲の粒子が２０重量
％未満、１０．０μｍ＜Ｄ≦１５．０μｍの範囲の粒子
が５重量％以下、さらに、１５μｍより大きい粒子が
１．０重量％以下である粒度分布を有すことを特徴とす
る請求項６記載の偏光フィルム。