JPH10249274A

JPH10249274A - 光制御フィルム製造用版および光制御フィルムの製造方法

Info

Publication number: JPH10249274A
Application number: JP8238797A
Authority: JP
Inventors: Tadahiro Mazaki; 忠宏真崎
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1997-03-17
Filing date: 1997-03-17
Publication date: 1998-09-22

Abstract

(57)【要約】【課題】基材フィルム１上に凹凸を有する光制御層２
を有し、指向性変更、拡散、集光等の光の進行方向を制
御する光制御フィルムＦを製造する為に、光制御層と逆
凹凸形状の凹部７１を有し回転する光制御フィルム製造
用版Ｐに、電離放射線硬化性樹脂液７２を塗工、充填
し、次に基材フィルムを樹脂液を介し版に接触させて接
触中に樹脂液を硬化させた後、光制御層が積層した光制
御フィルムとして基材フィルムを版から剥がす際に、光
制御層が版側に張り付くのを防ぐ。【解決手段】版表面に離型層を設けた版を用いる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶ディスプレ
イ、広告板、案内板等の表示体の照明手段等に用い、光
の集光、拡散、指向性変更等の光の進行方向制御を行う
光制御フィルムについて、その製造に用いる光制御フィ
ルム製造用版と、該版を用いた光制御フィルムの製造方
法に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶ディスプレイが各種用途で使われ、
透過型ディスプレイでは、光源からの光を有効利用し、
必要充分な方向にのみ均一に光を導く背面光源として、
各種方式のバックライトが使われている。バックライト
には、光源自身が面光源でない光源を面光源に変換する
方式により、エッジライト型と直下型とがある。

【０００３】エッジライト型の面光源とは、例えば、透
明樹脂板からなる導光体の少なくとも一つの側端面に隣
接して、点又は線光源を配置し、導光体の下方の裏面側
には例えば白色インクをドット状に印刷等した光拡散反
射体を配置し、また導光体上方の出光面側には、微小凹
凸の梨地表面を有する透明樹脂板等からなる拡散板を配
置し、更に拡散板の上に、拡散した光を適度に集光する
為に、微小レンズを多数有する透明樹脂板等からなる集
光板を配置した構成とする。この様な構成により、導光
体の側端面から入射した光は、導光体内部で多重反射し
て内部全体に行き渡り、導光体裏面側の光拡散反射体で
拡散反射される光が主として導光体上面の出光面から出
射し、更に拡散板によって拡散光となった後、更に集光
板によって、広がりすぎた拡散光を適度に集光すると共
に、光のピーク方向を所望の方向にすることで所望の指
向性を持った光として、液晶表示素子等を背面から照明
する。また、導光体出射面から斜めに光が出光する場合
は、導光体と拡散板との間に、鋸歯型のプリズムシート
を指向性変更板として配置して、出射面に対して斜め方
向に進む光の指向性を変更して、出射面法線方向にそろ
えたりする。

【０００４】また、直下型の面光源では、例えば、上方
が開口し内面が光反射面のランプハウスに点光源又は線
光源を内蔵させ、上方の開口部に微小凹凸の梨地表面を
有する透明樹脂板等からなる拡散板を配置し、更に拡散
板の上に、光を適度に集光する為に、微小レンズを多数
有する透明樹脂板等からなる集光板を配置した構成とす
る。この様な構成により、ランプハウス上方の開口部か
ら出光する光は、光源からの直接光と、ランプハウス内
面の光反射面で反射した間接光との合成光となり、この
合成光が拡散板によって均一化された拡散光となった
後、更に集光板によって、広がりすぎた拡散光を適度に
集光すると共に、光の指向性を変更して所望の方向に光
のピーク方向を持った光として、液晶表示素子等を背面
から照明する。また、前記拡散板とランプハウスとの間
に、鋸歯型のプリズムシートを指向性変更板として配置
して、出射面に対して斜め方向に進む光の指向性を変更
して、出射面法線方向にそろえたりする。

【０００５】また、光制御フィルムは、反射型の液晶デ
ィスプレイでも使われている。反射型液晶ディスプレイ
では、外部照明光を任意の方向に進路変更する、すなわ
ち指向性の制御に使われる。反射型液晶ディスプレイで
は、表裏に偏光板を有する液晶表示素子の裏面側に、液
晶表示素子を通過してきた外光を反射して液晶表示素子
に戻す反射体が配置される。反射体には、ある程度拡散
光して反射する拡散反射板等が使われる。反射体で反射
し液晶表示素子を通過し外部に出射した光が信号光とな
る。しかし、平面的な反射体を用いると、液晶表示素子
の表側の偏光板表面で反射した反射光と、前記信号光と
は同一方向に進行し、表示が見づらくなってしまう。こ
の為に、液晶表示素子と反射体との間に、鋸歯型の凹凸
面を有する透明樹脂シートをプリズムシートを指向性変
更板として介在させたり、或いは反射体の反射面そのも
のを鋸歯型とした指向性反射板として、反射体から液晶
表示素子に入射する光の方向を、正反射の方向からず
ら、指向性の変更が行われる。

【０００６】この様に、光制御フィルムは、透過型の液
晶ディスプレイにおいては、微細凹凸を有する拡散板
や、微小レンズを有する集光板、プリズムシート（指向
性変更板）等として使われ、また、反射型液晶ディスプ
レイにおいても、拡散反射板、プリズムシート（指向性
変更板）や、指向性反射板等の各種形態で使われる。ま
た、この様な各種形態の光制御フィルムは液晶ディスプ
レイ以外の広告板、案内板等の表示体用途でも使用でき
るものである。

【０００７】これら各種形態の光制御フィルムは、図２
に例示する如く、基材フィルム１の少なくとも片面に、
それら機能の為の凹凸を有する光制御層２が積層された
光制御フィルムＦとして製造すると、大量に、且つ安価
に効率的に製造することができる。（なお、指向性反射
体や拡散反射板の場合は凹凸面に更にアルミニウムの真
空蒸着膜等を光反射層として設ける。）この方法は、例
えば、特開平５−１６９０１５号公報に開示されている
方法である。すなわち、光制御層の凹凸形状と逆凹凸形
状のロール凹版を光制御フィルム製造用版として用い、
これに電離放射線硬化性樹脂液を塗工し充填した後、基
材フィルムを版に供給し、基材フィルムが版に接触して
いる間に電離放射線照射して樹脂液を固め、次いで基材
フィルムを版から剥がして、基材フィルム上に凹凸を有
する光制御層を形成する方法である。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
電離放射線硬化性樹脂液と光制御フィルム製造用版を用
いる、光制御フィルムの製造方法では、基材フィルムを
光制御フィルム製造用版から剥離する時に、電離放射線
硬化性樹脂の硬化物からなる光制御層が基材フィルムに
密着して基材フィルムと共に綺麗に剥離しにくいことが
あった。版側に光制御層が残留すると、版の凹部が埋ま
る版詰まりとなり、版が一回転して次の電離放射線硬化
性樹脂液が充填される時に、正常な形状の光制御層の形
成が困難となる。また、版側に硬化した樹脂が残り易い
と、硬化した樹脂と共に基材フィルムを版から容易に剥
離することが難しくなり、光制御層が破断したり、基材
フィルムが版に張り付き巻き付いたりして、安定的な連
続生産が不可能になる場合があった。特に、硬化により
固化した電離放射線硬化性樹脂が版面から剥離しにく
い、凹凸形状や樹脂材料の時は発生し易かった。

【０００９】

【課題を解決するための手段】そこで上記課題を解決す
る為に本発明では、基材フィルム上に凹凸を有する光制
御層が積層され、該凹凸により指向性変更、拡散、集光
等の光の進行方向を制御する光制御フィルムを製造する
為に、前記光制御層と逆凹凸形状の凹凸を有するロール
凹版からなる光制御フィルム製造用版であり、回転する
該版の少なくとも凹部に、電離放射線硬化性樹脂液を充
填し、次いで樹脂液が充填された版に長尺帯状の基材フ
ィルムを接触させ、基材フィルムが版に接触している間
に電離放射線を照射して、基材フィルムと版との間に介
在する電離放射線硬化性樹脂液を硬化させて固化した樹
脂を基材フィルムに密着させた後、硬化した樹脂と共に
基材フィルムを版から剥離して、基材フィルム上に電離
放射線硬化性樹脂からなる光制御層を有する光制御フィ
ルムを製造する方法で用いる前記光制御フィルム製造用
版において、該版の電離放射線硬化性樹脂液が接する版
表面に離型層を設けた版を用いることとした。その結
果、長尺帯状として得られる光制御フィルムの光制御層
が基材フィルムと共に安定的に版から剥離され、安定的
な連続生産が可能となる。また、得られる光制御フィル
ムの光制御層は、光の指向性の変更、集光、又はこれら
両者を行う層の場合に、例えば三角柱単位プリズム形状
等とその凹凸の幅に対して深さが大きく、光制御フィル
ムを版から剥がしにくかった凹凸形状であり、効果的で
ある。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下、図面に従って、本発明の光
制御フィルム製造用版、及び該版を用いる本発明の光制
御フィルムの製造方法を詳述する。図１は、本発明で用
いる得る装置の一例の概念図（側面図）、図２は本発明
で得られる光制御フィルムの各種形態を示す断面図であ
る。

【００１１】本発明の光制御フィルムの製造方法は、版
表面に離型層が形成されている特定の版を光制御フィル
ム製造用版として用いて光制御フィルムを製造する方法
である。該特定の版を用いる点以外は、従来の特開平５
−１６９０１５号公報に開示されている方法等と同様で
良い。すなわち、光制御層の凹凸形状と逆凹凸形状のロ
ール凹版を光制御フィルム製造用版として用い、これに
電離放射線硬化性樹脂液を版の両側の溝内に納まる様な
塗工幅で塗工し充填した後、基材フィルムを版に供給
し、基材フィルムが版に接触している間に電離放射線照
射して樹脂液を固め、次いで、硬化した樹脂と共に基材
フィルムを版から剥がして、基材フィルム上に凹凸を有
する光制御層を形成する方法である。

【００１２】図１を説明すれば、Ｐは基材フィルム上に
形成する光制御層の凹凸形状と逆凹凸形状の凹凸及び溝
を成す凹部７１が設けられた版面に離型層を有し、軸芯
を中心として矢印方向に回転駆動されるロール凹版であ
る本発明の光制御フィルム製造用版、７２は電離放射線
硬化性樹脂液、１は光制御フィルムの基材となる基材フ
ィルム、７３は光制御フィルム製造用版に当接して基材
フィルム１を光制御フィルム製造用版Ｐに押圧する押圧
ロール、７４は剥離ロール、７５は電離放射線硬化性樹
脂液を硬化するための電離放射線照射装置、７６は電離
放射線硬化性樹脂液を光制御フィルム製造用版Ｐに塗工
する為の塗工装置（塗工ノズル）、７７は塗工装置に該
樹脂液を供給するポンプ、２は電離放射線硬化性樹脂液
の硬化物として基材フィルム１上に形成された所望の凹
凸形状を有する光制御層である。

【００１３】電離放射線照射装置７５は、電離放射線を
照射して、電離放射線硬化性樹脂液の硬化反応を起こさ
せ固化させる装置である。電離放射線とは、電磁波又は
荷電粒子線のうち分子を重合又は架橋し得るエネルギー
量子を有するものを意味し、通常、紫外線（ＵＶ）又は
電子線（ＥＢ）が用いられる。紫外線源としては、超高
圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク
灯、ブラックライト、メタルハライドランプ等の光源が
使用される。紫外線の波長としては通常１９０〜３８０
ｎｍの波長域が主として用いられる。電子線源として
は、コッククロフトワルトン型、バンデグラフト型、共
振変圧器型、絶縁コア変圧器型、或いは、直線型、ダイ
ナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器を用い、
１００〜１０００ｋｅＶ、好ましくは、１００〜３００
ｋｅＶのエネルギーをもつ電子を照射するものを使用さ
れる。

【００１４】塗工装置７６は、電離放射線硬化性樹脂液
７２を光制御フィルム製造用版Ｐに供給、塗工し、版の
凹凸内に電離放射線硬化性樹脂液を充填するための装置
で、具体的には図１に示す様なノズル塗工装置等を用い
る。ノズル塗工装置は、長方形の開口を有する塗出口か
ら樹脂液を塗出する装置であり、その塗出口の長手方向
が光制御フィルム製造用版Ｐの幅方向となる様に設置さ
れ、樹脂液を塗工する。

【００１５】なお、電離放射線硬化性樹脂液は無溶剤で
用いることができるが、ある程度の溶剤を含有させた塗
液として塗工することも可能である。この場合は、塗工
装置７６と押圧ローラ７３間の光制御フィルム製造用版
Ｐ上の電離放射線硬化性樹脂液に対して、溶剤乾燥させ
るべく、塗工装置７６と押圧ローラ７３間に溶剤乾燥装
置を設けると良い。

【００１６】次に、上記製造方法で用いる本発明の光制
御フィルム製造用版について、更に説明する。本発明の
光制御フィルム製造用版Ｐは、従来用いてした版に対し
て版面に離型層を設けた構成の版である。離型層を設け
る前の版としては、通常は中空円筒状のものであり、そ
の版面は、銅、クロム、鉄等の金属、ＮＢＲ、エポキシ
樹脂、エボナイト等の合成樹脂、ガラス等のセラミック
ス等である。また、銅や鉄等の場合には、酸化等に対す
る耐久性や剥離性を向上させる為に、凹凸形成後の表面
にクロムをめっきしたものもある。版に所望の凹凸を形
成するには、円筒状の版材に直接旋盤加工したり、ミル
加工法、電鋳法、あるいは、フォトエッチング法等によ
り行う。

【００１７】これら物質の表面からなる版面に設ける離
型層としては、版面に密着し、用いる電離放射線硬化性
樹脂液で溶解して版面から消失したり、膨潤して離型層
による凹凸面が変形しない材料を用いる。このような性
質の離型層を版面に形成するには、既に凹凸を形成して
おいた版面に対して、離型剤を溶解した溶液、或いは離
型剤を分散した分散液を、ディップコート、スプレーコ
ート、はけ塗等の塗工法により形成することができる。
塗工形成する為の離型剤としては、版面への密着性、電
離放射線硬化性樹脂液に対して膨潤、溶解、剥脱しない
耐性、及び硬化物に対する離型性があればいかなるもの
でも良い。これら物性の点で、得られる光制御層が架橋
硬化物となる離型剤は好ましいものの一つである。例え
ば、硬化型フッ素樹脂系離型剤、シリコーンワニス、硬
化型シリコーンオイル、フルオロアルコキシシラン等の
硬化型フッ素含有シリコーンを用いることができる。な
お、樹脂成形等で一般に使用されている離型剤（滑剤）
である、高級脂肪酸、脂肪酸アミド、ワックスは、前記
物性を満足せず連続使用の耐性が無く好ましくない。ま
た、離型層としては、また凹凸形成後の版面に対して、
ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）等のフッ素系
樹脂微粒子を含むめっき液を用いて金属めっきと共に生
成させる、めっき層中にフッ素系樹脂を均一に含有させ
た層も離型層とすることができる。具体的には、例えば
日本プロトン株式会社の「プロトニクスシステム」（登
録商標）を挙げることができる。

【００１８】また、離型層としては、また凹凸形成前の
版面に、凹凸の深さよりも厚い離型層を形成した後、離
型層に対して切削加工等して、離型層そのものに所望の
凹凸を形成することもできる。この様な離型層として
は、上記のめっき層中にフッ素系樹脂を含有した層や、
或いは、めっきした凹凸表面の凹みのみにＰＴＦＥ（ポ
リテトラフルオロエチレン）等のフッ素系樹脂を離型層
としてコーティングしたものを用いることができる。具
体的には、例えば凹凸形成前の版となっているものとし
て、株式会社野村鍍金製「ジャガーロール」（商品名）
を挙げることができる。なお、これらでは、微視的にみ
た場合、離型性のあるフッ素系樹脂は、版表面の全面を
被覆しているとは限らない。本発明では、このように離
型層は版表面の全面に有せず、微視的に部分的に有する
形態でも良い。また、版表面に離型層としてＰＴＦＥ
（ポリテトラフルオロエチレン）等のフッ素系樹脂を凹
凸深さよりも厚くコーティングしておけば、その後に凹
凸形成しても、微視的に版表面は全面を離型層とするこ
とができる。

【００１９】次に、光制御フィルムＦに用いる材料につ
いて説明する。

【００２０】基材フィルム１には、例えば、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポ
リエステル樹脂、ポリメチルメタクリレート等のアクリ
ル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂等の
フィルムを用いることができる。基材フィルムの厚み
は、用途にもよるが通常２０〜１０００μｍ程度であ
る。レンズフィルム等として光透過性の光制御フィルム
の場合は、透明樹脂フィルムが用いられるが、反射光を
利用する形態の拡散板、反射板となる光制御フィルムで
は、必ずしも透明樹脂フィルムとする必要はない。基材
フィルムを透明フィルムとすると、基材フィルム側から
電離放射線を照射できる点で好ましい。不透明の場合で
も、光制御フィルム製造用版としてガラスやセラミック
ス等の透明体を用いれば、版内面側から電離放射線照射
は可能である。なお、基材フィルムの光制御層を設ける
面には、光制御層と基材フィルムとの密着性向上の為
に、コロナ放電処理や、プライマー層等からなる接着層
を形成する等、従来公知の易接着処理を施しても良い。
例えば、プライマー層は、アクリルポリオールを主剤と
してイソシアネート系の硬化剤を用いる２液硬化型プラ
イマー等を塗工形成する。もちろん、光制御層の基材フ
ィルムへの接着性が充分な場合は、接着層は省略でき
る。

【００２１】光制御層２は、電離放射線硬化性樹脂の硬
化物で形成するが、硬化させる電離放射線硬化性樹脂液
としては、例えば、ポリエステルアクリレート、エポキ
シアクリレート、シリコーンアクリレート、ウレタンア
クリレート等のプレポリマー及び／又はアクリレート系
等のモノマー等からなり、紫外線または電子線等の電離
放射線で硬化する、従来公知の電離放射線硬化性樹脂を
用いることがてきる。また、硬質で傷や外力に対して耐
久性のある硬質の光制御層とするには、多官能モノマー
を主成分とする高架橋型の電離放射線硬化性樹脂が好ま
しい。

【００２２】以上の様な装置及び材料にて、光制御フィ
ルムは次の様にして製造される。

【００２３】先ず、形成する光制御層２の所望の凹凸形
状に対して逆形状の凹部（正確には凹凸形状）を有し版
面に離型層を有する光制御フィルム製造用版Ｐを用意す
る。光制御フィルム製造用版Ｐに、ポンプ７７から供給
される電離放射線硬化性樹脂液を塗工装置７６により塗
工して版の凹部に充填する。次に、電離放射線硬化性樹
脂液７２が充填された光制御フィルム製造用版Ｐに連続
帯状の基材フィルム１を供給して押圧ロール７３により
版面に押圧して接触させる。（なお、押圧力の調整によ
り、基材フィルムと版面凸部との間に電離放射線硬化性
樹脂液を残すことも可能であり、この場合も含めて、基
材フィルムを版面に「接触」させるという。）そして、
基材フィルム１が光制御フィルム製造用版Ｐに接触して
移送される間に、紫外線や電子線の電離放射線を電離放
射線照射装置７５により基材フィルム側から照射して
（光制御フィルム製造用版がガラス等で透明な場合は版
の内側から照射も可能）、電離放射線硬化性樹脂液の硬
化反応を起こさせて固化させ、電離放射線硬化性樹脂液
の硬化物を光制御層２として基材フィルム１に密着させ
る。しかる後、基材フィルム１は、剥離ロール７４に
て、硬化した樹脂と共に光制御フィルム製造用版Ｐから
剥がされて、所望の凹凸形状の光制御層２が基材フィル
ム１の片面に形成された、光制御フィルムＦとなる。

【００２４】なお、ここでは、基材フィルムの片面のみ
に光制御層を形成する方法について説明するが、両面に
光制御層を設けた構成の光制御フィルムも、同一又は異
なる光制御フィルム製造用版で光制御層を表裏に形成す
れば良く、本発明の製造方法で得られることは勿論であ
る。また、電離放射線の照射は、光制御フィルム製造用
版Ｐから光制御フィルムＦを剥離後に更に行っても良
い。これは、光制御フィルム製造用版Ｐから光制御フィ
ルムＦが剥離するときは、剥離できる程度以上の硬化度
合いとして、その後で硬化を完結する方法である。

【００２５】かくして、本発明によって、電離放射線硬
化性樹脂液の版詰まりや、光制御層が版に張り付いた
り、光制御層が破断したりすることが起きずに、光制御
フィルムが安定的に連続生産されることになる。

【００２６】なお、本発明で得られる光制御フィルム
は、集光、拡散、指向性変更等の単独又は組合せによる
各種の光制御に用いられる。例えば、光の集光目的では
集光板（レンズフィルム）、光の拡散目的では拡散板
（拡散フィルム）、光の指向性の変更（即ち拡散光成分
を有する光の場合はその最大輝度の方向の光の進行方向
の変更）目的では指向性変更板（プリズムフィルム）、
該指向性を反射光して得る目的では指向性反射板（反射
型プリズムフィルム）、光の拡散を反射光として得る目
的では拡散反射板（反射型拡散フィルム）等である。

【００２７】図２は光制御フィルムＦに於いて、基材フ
ィルム１上に形成される光制御層２の各種凹凸形状の断
面図である。例えば、光制御フィルムが集光目的のレン
ズフィルムである場合は、三角柱単位プリズム、円柱単
位レンズ、楕円柱単位レンズ等を多数１次元配列した凹
凸形状を有する光制御層とする。三角柱単位プリズムは
断面が三角形を成す単位プリズムである。三角柱単位プ
リズムの断面形状は、例えば、頂角を光制御層の凸部稜
線とする二等辺三角形である（図２（Ａ）参照）。円柱
単位レンズとは、直径の丁度２分の１の半円（図２
（Ｂ）参照）、或いは直径の２分の１以下の部分円を断
面形状とする柱体である。楕円柱単位レンズは、その長
軸又は短軸に平行な平行線で楕円を切断した部分楕円を
断面形状とする柱体である。楕円を切断する平行線の位
置は、楕円を丁度半分にする長軸又は短軸の位置である
とは限らず、半分以下の部分楕円もある。また、蠅の目
等の複眼状の半球状レンズ、三角錐状プリズム、四角錐
状プリズム等を多数２次元配列したレンズ構造を光制御
層とするものもある。また、配列の様式は、三角柱単位
プリズム、円柱単位レンズ、楕円柱単位レンズ等でも、
平面的には円や円弧を描く様に２次元配列したものもあ
る。また、指向性変更目的の光制御層の凹凸は、例え
ば、図２（Ｃ）、図２（Ｄ）の様に、鋸歯型等の不等辺
三角形を断面とする三角柱単位プリズムからなる。この
単位プリズムを例えば１次元配列したレンズ構造のもの
とする。なお、三角柱単位プリズムは、断面が二等辺三
角形のものは集光目的で使用される様に、指向性変更と
集光とを兼ねて用いことがある。また、斜めの三角錐状
プリズム、斜めの四角錐状プリズム等もある。また、散
乱目的の光制御層の凹凸は、例えば、梨地等のランダム
を凹凸とする（図２（Ｅ）参照）。なお、図２（Ａ）〜
図２（Ｅ）は光制御層の形を概念的に示すものであり、
光制御層はその表面形状により機能するので、厚みは任
意であり、図２（Ｆ）に示す如く、隣接する単位レンズ
間の部分でも光制御層に厚みがある形態もある。

【００２８】そして、拡散や指向性変更等で光反射機能
を持たせた光制御フィルムの場合は、電離放射線硬化性
樹脂の硬化物として得られた光制御層の凹凸面に、更に
アルミニウム等の金属薄膜を真空蒸着等により形成す
る。反射面は外側、或いは内側（基材フィルム側）であ
る。一方、光透過体としての光制御フィルムの場合は、
光制御層は基材フィルムの片面のみでなく、両面に設け
る構成もある。

【００２９】

【実施例】次に、実施例及び比較例により本発明を更に
詳述する。

【００３０】（実施例１）図１に示す様な装置で、光制
御フィルムを製造した。製造する光制御フィルムＦは、
透明な基材フィルム１の片面に、紫外線硬化性樹脂によ
る光制御層２として三角柱単位プリズムが多数１次元配
列した凹凸形状を有するレンズフィルムとした。三角柱
単位プリズムの断面形状は、凸部となる頂角角度が５０
°で底辺が５０μｍの二等辺三角形である。光制御層
は、この単位プリズムを頂角がなす稜線を互いに平行に
して繰返しピッチ５０μｍで隣接して基材フィルムの幅
方向に多数１次元配列して、前記稜線が基材フィルム長
手方向に平行なプリズム構造とした。光制御フィルム製
造用版Ｐとしては、銅からなる版面に対して切削用バイ
トにて上記光制御層の凹凸と逆凹凸形状の凹部７１とな
る様に切削後、クロムめっきした版面上に、更に下記の
主剤と触媒とからなる離型剤を塗工して、離型層を形成
した。離型剤の塗工は、下記組成に希釈した塗工液をス
プレー塗工して版表面に均一に塗工した後、風乾した。

【００３１】離型剤主剤：付加重合型シリコーンオイルＸ−６２−１２１２２０重量部（信越化学工業株式会社製）白金系触媒：ＣＡＴ−ＰＬ−５０Ｔ（信越化学工業株式会社製）１重量部希釈溶剤１００００重量部（メチルエチルケトン：トルエン＝重量比１：１）

【００３２】また、基材フィルムとしては、厚み１２５
μｍで片面易接着処理済のポリエチレンテレフタレート
フィルムを用いた。さらに、易接着処理面には、プライ
マー（ザ・インクテック株式会社製、ケミカルマットニ
ス用メジウムとＸＥＬ硬化剤の重量比１０：１の混合
物）をグラビア塗工して接着層を形成しておいた。

【００３３】そして、紫外線硬化性樹脂液７２（日本合
成ゴム工業株式会社製、Ｚ９００７）を、塗出孔を上向
きに開口したＴダイ状の塗工ノズル７６から、回転する
光制御フィルム製造用版Ｐに供給しつつ、前記基材フィ
ルムを樹脂液が塗工された光制御フィルム製造用版に供
給して、押圧ロール７３で樹脂液を介して版面に押圧
し、光制御フィルム製造用版上の基材フィルム側から、
電離放射線照射装置７５から紫外線を照射して紫外線硬
化性樹脂液の硬化反応を起こさせて固化させて、基材フ
ィルムに密着した紫外線硬化性樹脂液の硬化物とした
後、光制御層が積層した基材フィルムを剥離ロール７４
により光制御フィルム製造用版から剥離して、基材フィ
ルム１上に光制御層２が積層された光制御フィルムＦを
製造した。なお、紫外線照射には１６０Ｗ／ｃｍの高圧
水銀灯を２灯用いた。以上の結果、光制御フィルムは、
版に張り付くことなく、剥離ロールによって光制御フィ
ルム製造用版から円滑に剥離し、安定的な連続生産がで
きた。

【００３４】（実施例２）実施例１において、光制御フ
ィルム製造用版の版面に形成した離型層を次のものに変
えた他は、実施例１と同様にして、光制御フィルムを製
造した。離型剤として、フッ素系コーティング剤ＦＣ７
２２（住友スリーエム工業株式会社製）をディップ法に
より版表面に均一に塗工し、塗膜硬化の為に１００℃で
５分間加熱処理して、離型層を形成した。光制御フィル
ムは、版に張り付くことなく、剥離ロールによって光制
御フィルム製造用版から円滑に剥離し、安定的な連続生
産ができた。

【００３５】（実施例３）実施例１において、光制御フ
ィルム製造用版の版面に形成した離型層を次のものに変
えた他は、実施例１と同様にして、光制御フィルムを製
造した。離型剤として、フルオロアルコキシシランＴＳ
Ｌ８２５６（東芝シリコーン株式会社製）の２％メタノ
ール溶液を作製し、この溶液に版を３０分間浸漬した
後、塗膜硬化の為に１２０℃で１時間加熱処理して、離
型層を形成した。光制御フィルムは、版に張り付くこと
なく、剥離ロールによって光制御フィルム製造用版から
円滑に剥離し、安定的な連続生産ができた。

【００３６】（実施例４）実施例１において、光制御フ
ィルム製造用版の版面に形成した離型層を次のものに変
え、紫外線硬化製樹脂液は大日本インキ化学工業株式会
社製のＣ５−９７９に変えた他は、実施例１と同様にし
て、光制御フィルムを製造した。離型剤として、シリコ
ーンワニスＹＳＲ６２０９（東芝シリコーン株式会社
製）の２％トルエンル溶液を作製し、この溶液に版を浸
漬した後、溶剤を乾燥させ、塗膜硬化の為に２００℃で
２時間加熱処理して、３次元架橋物からなる硬化皮膜の
離型層を形成した。光制御フィルムは、版に張り付くこ
となく、剥離ロールによって光制御フィルム製造用版か
ら円滑に剥離し、安定的な連続生産ができた。

【００３７】（実施例５）実施例４において用いた光制
御フィルム製造用版を次のものに変えた他は、実施例４
と同様にして、光制御フィルムを製造した。版面上にク
ロムからなるメッキ層が形成されており、そのめっき表
面にフッ素樹脂としてがコーティングされている、株式
会社野村鍍金製「ジャガーロール」（商品名）の版面に
対して、切削用バイトにて実施例１同様に光制御層の凹
凸と逆凹凸形状に切削したものを版として用いた。光制
御フィルムは、版に張り付くことなく、剥離ロールによ
って光制御フィルム製造用版から円滑に剥離し、安定的
な連続生産ができた。

【００３８】（比較例）実施例１で用いた光制御フィル
ム製造用版の代わりに、離型層を版面に形成しない版を
用いた以外は、実施例１と同様にして光制御フィルムを
製造した。その結果、紫外線硬化性樹脂液の硬化物（光
制御層）が版に張り付く現象が発生し、光制御層が形成
された光制御フィルムを、剥離ロールによって光制御フ
ィルム製造用版から円滑に剥離することが困難で、安定
的な連続生産が出来なかった。

【００３９】

【発明の効果】本発明の光制御フィルム製造用版及び光
制御フィルムの製造方法によれば、電離放射線硬化性樹
脂液の硬化物（光制御層）が版に張り付く現象が発生せ
ず、光制御層が基材フィルム上に形成された光制御フィ
ルムを、光制御フィルム製造用版から円滑に剥離するこ
とができるので、帯状長尺の形態で光制御フィルムを安
定的に連続生産できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光制御フィルムの製造方法の概念的説
明図。

【図２】本発明で得られる光制御フィルムの各種形態を
示す断面図。

【符号の説明】

１基材フィルム２光制御層７１凹部７２電離放射線硬化性樹脂液７３押圧ロール７４剥離ロール７５電離放射線照射装置７６塗工装置（塗工ノズル）７７ポンプＰ光制御フィルム製造用版Ｆ光制御フィルム

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基材フィルム上に凹凸を有する光制御層
が積層され、該凹凸により指向性の変更、拡散、集光等
の光の進行方向を制御する光制御フィルムを製造する為
に用いる、前記光制御層と逆凹凸形状の凹凸を有するロ
ール凹版からなる光制御フィルム製造用版であり、回転
する該版の少なくとも凹部に、電離放射線硬化性樹脂液
を充填し、次いで樹脂液が充填された版に長尺帯状の基
材フィルムを接触させ、基材フィルムが版に接触してい
る間に電離放射線を照射して、基材フィルムと版との間
に介在する電離放射線硬化性樹脂液を硬化させて固化し
た樹脂を基材フィルムに密着させた後、硬化した樹脂と
共に基材フィルムを版から剥離して、基材フィルム上に
電離放射線硬化性樹脂からなる光制御層を有する光制御
フィルムを製造する方法で用いる光制御フィルム製造用
版において、電離放射線硬化性樹脂液が接する版表面に離型層を有す
る、光制御フイルム製造用版。
【請求項２】光制御フィルムの光制御層が、指向性の
変更、集光、又はこれら両者を行う層である、請求項１
記載の光制御フイルム製造用版。
【請求項３】基材フィルム上に凹凸を有する光制御層
が積層され、該凹凸により指向性の変更、拡散、集光等
の光の進行方向を制御する光制御フィルムを製造する方
法であって、前記光制御層と逆凹凸形状の凹凸を有する
ロール凹版からなる光制御フィルム製造用版を用い、回
転する該版の少なくとも凹部に、電離放射線硬化性樹脂
液を充填し、次いで樹脂液が充填された版に長尺帯状の
基材フィルムを接触させ、基材フィルムが版に接触して
いる間に電離放射線を照射して、基材フィルムと版との
間に介在する電離放射線硬化性樹脂液を硬化させて固化
した樹脂を基材フィルムに密着させた後、硬化した樹脂
と共に基材フィルムを版から剥離して、基材フィルム上
に電離放射線硬化性樹脂からなる光制御層を有する光制
御フィルムを製造する方法において、光制御フィルム製造用版として、電離放射線硬化性樹脂
液が接する版表面に離型層を有する版を用いる、光制御
フイルムの製造方法。
【請求項４】光制御フィルムの光制御層が、指向性の
変更、集光、又はこれら両者を行う層である、請求項３
記載の光制御フイルムの製造方法。