NO142915B - Fotopolymeriserbar blanding som omfatter minst en polymeriserbar, etylenisk umettet forbindelse og en fotosensitiv katalysator - Google Patents
Fotopolymeriserbar blanding som omfatter minst en polymeriserbar, etylenisk umettet forbindelse og en fotosensitiv katalysator Download PDFInfo
- Publication number
- NO142915B NO142915B NO3665/72A NO366572A NO142915B NO 142915 B NO142915 B NO 142915B NO 3665/72 A NO3665/72 A NO 3665/72A NO 366572 A NO366572 A NO 366572A NO 142915 B NO142915 B NO 142915B
- Authority
- NO
- Norway
- Prior art keywords
- groups
- photosensitizer
- mixture
- photopolymerizable mixture
- reducing agent
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 92
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 title claims description 11
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims description 6
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 title description 3
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 claims description 65
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims description 58
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 38
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 32
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims description 27
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 20
- JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C(C)=C JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 15
- -1 α-naphthyl Chemical group 0.000 claims description 15
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 8
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 6
- YYVYAPXYZVYDHN-UHFFFAOYSA-N 9,10-phenanthroquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YYVYAPXYZVYDHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N dibutylamine Chemical compound CCCCNCCCC JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N fluoren-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 claims description 3
- MIJRFWVFNKQQDK-UHFFFAOYSA-N furoin Chemical compound C=1C=COC=1C(O)C(=O)C1=CC=CO1 MIJRFWVFNKQQDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- DYFFAVRFJWYYQO-UHFFFAOYSA-N n-methyl-n-phenylaniline Chemical compound C=1C=CC=CC=1N(C)C1=CC=CC=C1 DYFFAVRFJWYYQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000006503 p-nitrobenzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1[N+]([O-])=O)C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- 125000001037 p-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- VNQXSTWCDUXYEZ-UHFFFAOYSA-N 1,7,7-trimethylbicyclo[2.2.1]heptane-2,3-dione Chemical compound C1CC2(C)C(=O)C(=O)C1C2(C)C VNQXSTWCDUXYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 2
- QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N Diacetyl Chemical group CC(=O)C(C)=O QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 claims description 2
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 claims description 2
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 claims description 2
- AFPRJLBZLPBTPZ-UHFFFAOYSA-N acenaphthoquinone Chemical compound C1=CC(C(C2=O)=O)=C3C2=CC=CC3=C1 AFPRJLBZLPBTPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 claims description 2
- 229930006711 bornane-2,3-dione Natural products 0.000 claims description 2
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 claims description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 2
- LRRQSCPPOIUNGX-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1,2-bis(4-methoxyphenyl)ethanone Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C(O)C(=O)C1=CC=C(OC)C=C1 LRRQSCPPOIUNGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 229940124024 weight reducing agent Drugs 0.000 description 55
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 37
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 29
- 238000000034 method Methods 0.000 description 28
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 23
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 21
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 16
- 239000010408 film Substances 0.000 description 16
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 12
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 9
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 9
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 8
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 8
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 6
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 6
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 6
- IICCLYANAQEHCI-UHFFFAOYSA-N 4,5,6,7-tetrachloro-3',6'-dihydroxy-2',4',5',7'-tetraiodospiro[2-benzofuran-3,9'-xanthene]-1-one Chemical compound O1C(=O)C(C(=C(Cl)C(Cl)=C2Cl)Cl)=C2C21C1=CC(I)=C(O)C(I)=C1OC1=C(I)C(O)=C(I)C=C21 IICCLYANAQEHCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 5
- 229930187593 rose bengal Natural products 0.000 description 5
- 229940081623 rose bengal Drugs 0.000 description 5
- STRXNPAVPKGJQR-UHFFFAOYSA-N rose bengal A Natural products O1C(=O)C(C(=CC=C2Cl)Cl)=C2C21C1=CC(I)=C(O)C(I)=C1OC1=C(I)C(O)=C(I)C=C21 STRXNPAVPKGJQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 5
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 3
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 244000181025 Rosa gallica Species 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HTKFORQRBXIQHD-UHFFFAOYSA-N allylthiourea Chemical compound NC(=S)NCC=C HTKFORQRBXIQHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960001748 allylthiourea Drugs 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- VHRGRCVQAFMJIZ-UHFFFAOYSA-N cadaverine Chemical compound NCCCCCN VHRGRCVQAFMJIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 239000011243 crosslinked material Substances 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 2
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ACLZYRNSDLQOIA-UHFFFAOYSA-N o-tolylthiourea Chemical compound CC1=CC=CC=C1NC(N)=S ACLZYRNSDLQOIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DPBLXKKOBLCELK-UHFFFAOYSA-N pentan-1-amine Chemical compound CCCCCN DPBLXKKOBLCELK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical compound CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N putrescine Chemical compound NCCCCN KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 2
- LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M sodium nitrite Chemical compound [Na+].[O-]N=O LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- ZKDDJTYSFCWVGS-UHFFFAOYSA-M sodium;diethoxy-sulfanylidene-sulfido-$l^{5}-phosphane Chemical compound [Na+].CCOP([S-])(=S)OCC ZKDDJTYSFCWVGS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N trimethylenediamine Chemical compound NCCCN XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CWXZAJNUTOBAOI-UHFFFAOYSA-N 1-(2,3-dimethoxyphenyl)-2-hydroxy-2-phenylethanone Chemical compound COC1=CC=CC(C(=O)C(O)C=2C=CC=CC=2)=C1OC CWXZAJNUTOBAOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 1-hexanamine Chemical compound CCCCCCN BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYVYEJXMYBUCMN-UHFFFAOYSA-N 1-methoxy-2-methylpropane Chemical compound COCC(C)C ZYVYEJXMYBUCMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C(C)=C RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCO GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCOC(=O)C=C QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LHYQAEFVHIZFLR-UHFFFAOYSA-L 4-(4-diazonio-3-methoxyphenyl)-2-methoxybenzenediazonium;dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].C1=C([N+]#N)C(OC)=CC(C=2C=C(OC)C([N+]#N)=CC=2)=C1 LHYQAEFVHIZFLR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSNMPAVSZJSIMT-UHFFFAOYSA-N COc1c(C)c2COC(=O)c2c(O)c1CC(O)C1(C)CCC(=O)O1 Chemical compound COc1c(C)c2COC(=O)c2c(O)c1CC(O)C1(C)CCC(=O)O1 WSNMPAVSZJSIMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen disulfide Chemical compound SS BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUYHYHLFUHHVJQ-UHFFFAOYSA-N Menazon Chemical compound COP(=S)(OC)SCC1=NC(N)=NC(N)=N1 SUYHYHLFUHHVJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012963 UV stabilizer Substances 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- RBFQJDQYXXHULB-UHFFFAOYSA-N arsane Chemical class [AsH3] RBFQJDQYXXHULB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N benzil Chemical group C=1C=CC=CC=1C(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001055 blue pigment Substances 0.000 description 1
- 229940072282 cardura Drugs 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N dipropylamine Chemical compound CCCNCCC WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VJECBOKJABCYMF-UHFFFAOYSA-N doxazosin mesylate Chemical compound [H+].CS([O-])(=O)=O.C1OC2=CC=CC=C2OC1C(=O)N(CC1)CCN1C1=NC(N)=C(C=C(C(OC)=C2)OC)C2=N1 VJECBOKJABCYMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002573 ethenylidene group Chemical group [*]=C=C([H])[H] 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005281 excited state Effects 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- GUAWMXYQZKVRCW-UHFFFAOYSA-N n,2-dimethylaniline Chemical compound CNC1=CC=CC=C1C GUAWMXYQZKVRCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OOHAUGDGCWURIT-UHFFFAOYSA-N n,n-dipentylpentan-1-amine Chemical compound CCCCCN(CCCCC)CCCCC OOHAUGDGCWURIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- JACMPVXHEARCBO-UHFFFAOYSA-N n-pentylpentan-1-amine Chemical compound CCCCCNCCCCC JACMPVXHEARCBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002898 organic sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229940100684 pentylamine Drugs 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003053 piperidines Chemical class 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)OC(=O)C(C)=C BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYBIZMNPXTXVMV-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl prop-2-enoate Chemical class CC(C)OC(=O)C=C LYBIZMNPXTXVMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000010288 sodium nitrite Nutrition 0.000 description 1
- SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)(C)C SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl prop-2-enoate Chemical class CC(C)(C)OC(=O)C=C ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- VPYJNCGUESNPMV-UHFFFAOYSA-N triallylamine Chemical compound C=CCN(CC=C)CC=C VPYJNCGUESNPMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical compound CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 1
- SXPUVBFQXJHYNS-UHFFFAOYSA-N α-furil Chemical compound C=1C=COC=1C(=O)C(=O)C1=CC=CO1 SXPUVBFQXJHYNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F283/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G
- C08F283/01—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G on to unsaturated polyesters
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/124—Carbonyl compound containing
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S522/00—Synthetic resins or natural rubbers -- part of the class 520 series
- Y10S522/908—Dental utility
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S525/00—Synthetic resins or natural rubbers -- part of the class 520 series
- Y10S525/92—Polyurethane having terminal ethylenic unsaturation
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S525/00—Synthetic resins or natural rubbers -- part of the class 520 series
- Y10S525/921—Polyester having terminal ethylenic unsaturation other than polyesterurethanes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Description
Oppfinnelsen vedrører en fotopolymeriserbar blanding
som omfatter minst én polymeriserbar, etylenisk umettet forbindelse og en fotosensitiv katalysator.
Det er kjent å polymerisere et etylenisk umettet, polymeriserbart materiale ved bestråling av materialet med synlig eller ultrafiolett stråling i nærvær av en fotosensibilisator som har evne til å absorbere strålingen.
BRD-off.skrift nr. 2 010 867 beskriver en fremgangsmå-
te for polymerisering, hvorved en gassformig monomer bringes i kontakt med et tokomponent-katalysatorsystem i nærvær av lys. Blandingen i henhold til foreliggende oppfinnelse er imidlertid flytende eller fast og stabil under lagring, og den polymeriserer ikke før den eksponeres for lys. Den inneholder videre tre kom-ponenter, nemlig en etylenisk umettet forbindelse og en kombina-
sjon av en fotosensibilisator og et nitrogenholdig reduksjonsmid-
del. Denne kombinasjon av fotosensibilisator og reduksjonsmiddel har vist seg å være stabil under lagring og allikevel særdeles aktiv når den eksponeres for lys.
Kanadisk patent nr. 828 150 åpenbarer et tokomponent-katalysatorsystem, men er begrenset til fosfiner, arsiner og organiske svovelforbindelser og nevner ikke nitrogenholdige forbindelser. Likeledes beskriver BRD-off.skrift nr. 1 813 011 et inn-
hold av disulfid som én komponent i et fotopolymeriserbart system,
men ingen nitrogenholdig forbindelse, mens britisk patent nr.
1 216 112 riktignok åpenbarer én type av nitrogenholdig forbin-
delse, nemlig en diazoniumforbindelse, men er begrenset til denne type komponent i kombinasjon med en antrakinonforbindelse. Selv om de tre sistnevnte publikasjoner beskriver fotopolymeriserbare blandinger, så åpenbarer således ingen av dem blandinger med sli-
ke spesielt fordelaktige fotosensitive katalysatorer som her beskrives.
Det er også foreslått å polymerisere et etylenisk umet-
tet, polymeriserbart materiale ved bestråling av materialet i nærvær av et fotosensitivt farvestoff,f.eks. rose bengal, og et reduksjonsmiddel som har evne til å redusere det fotosensitive
farvestoff når dette er-i stimulert tilstand. De fotosensitive farvestoffer har vanligvis sterk farve, og fotopolymeriserbare blandinger som inneholder slike farvestoffer, er generelt, meget sensitive overfor nærvær av oksygen, dvs. at i nærvær av oksygen reduseres polymerisasjonshastigheten av blandingen når denne bestråles med stråling av en bølgelengde som absorberes av farve-stoffet generelt betydelig i sammenligning med polymerisasjonshastigheten for blandingen i fravær av oksygen.
Søkeren har funnet nye kombinasjoner av visse fotosensibilisatorer og reduksjonsmidler som med polymeriserbart, etylenisk umettet materiale danner de fotopolymeriserbare blandinger i henhold til oppfinnelsen. Fotosensibilisatorene er farveløse,
eller høyst bare svakt farvet og er således ikke farvestoffer. Blandingene som inneholder de nye kombinasjoner av fotosensibilisator og reduksjonsmiddel, er vanligvis polymeriserbare i større hastighet, og ofte i betydelig større hastighet, enn blandinger som inneholder fotosensibilisator, men som ikke inneholder et reduksjonsmiddel. Videre er de fotosensitive katalysatorer i blandingene i henhold
til oppfinnelsen vanligvis mindre utsatt for nærvær av oksygen enn mange av de fotosensitive farvestoffer og reduksjonsmidler som hittil har vært foreslått. Eksempelvis, hvis det polymeriserbare etylenisk umettede materiale i blandingen er en blanding av en etylenisk umettet polyester og en etylenisk umettet monomer, og den fotosensitive katalysator er en blanding av et farvestoff, f.eks. rose bengal, og et reduksjonsmiddel, så vil polymerisasjonshastigheten som kan oppnås ved bestråling med egnet stråling, bli sterkt redusert i nærvær av oksygen. På den annen side, hvis den fotosensitive katalysator er en av de nye kombinasjoner av fotosensibilisatorer og reduksjonsmidler som her er beskrevet, så vil polymerisasjonshastigheten som observeres, vanligvis være høyst bare svakt redusert i nærvær av oksygen.
Blandingene i henhold til oppfinnelsen er stabile i
mørke slik at lite, hvis noe, polymerisasjon finner sted etter at blandingen har stått i uker eller til og med måneder i mørke." Polymerisasjon av det etylenisk umettede materiale initieres bare under innflytelse av stråling av en passende bølgelengde.
Følgelig tilveiebringer oppfinnelsen en fotopolymeriserbar blanding som omfatter minst ett polymeriserbart etylenisk umettet materiale og en fotosensitiv katalysator som omfatter
(a) minst én fotosensibilisator med strukturen
hvor X er >C=0, >CR1R2 eller >CR3<DR4, hvor til R4-
som kan være like eller forskjellige, er hydrogen eller hydro-■ karbonrester, n er 0 eller 1, og gruppene A, som kan være like eller forskjellige, er hydrokarbonrester eller substituerte hydrokarbonrester, idet gruppene A er aromatiske eller substituerte aromatiske, når n er 1 og X er >CR^R2 og når n er 0, og (b) minst ett reduksjonsmiddel som har evne til å redusere fotosensibilisatoren når fotosensibilisatoren er i stimulert tilstand.
Av den fotopolymeriserbare blanding i henhold til oppfinnelsen kan det lett fremstilles et polymert materiale ved bestråling med stråler som har en bølgelengde som kan absorberes av fotosensibilisatoren slik at denne omvandles til stimulert tilstand.
Strålingen kan være synlig lys eller ultrafiolett stråling eller stråling som innbefattes innen dette spektrum, stråling av både synlige og ultrafiolette bølgelengder. Strålingen kan gjerne ha en bølgelengde i området 230 my- 600 my. Sollys kan anvendes som strålingskilde, selv om bølgelengden til strålingen som skal brukes, vil være bestemt av den spesielle fotosensibilisator i blandingen. En egnet bølgelengde kan velges ved hjelp av enkle forsøk, f.eks. ved måling av elektron-absorpsjonsspektret for fotosensibilisatoren.
Generelt vil gruppene A i fotosensibilisatoren være alifatiske eller aromatiske, og det skal forstås at gruppene A kan være like eller forskjellige, dvs. at f.eks. i fotosensibilisatoren med struktur I kan begge gruppene A være aromatiske, eller begge kan være alifatiske, eller én gruppe A kan være aromatisk og den annen alifatisk, forutsatt at når n er 1 og X er
<>>CR1R2, og når n er 0, er begge gruppene A aromatiske. Imidlertid, for bekvemmelighets skyld ved fremstilling av fotosensibilisatoren, er gruppene A fortrinnsvis de samme.
Innen rammen av betegnelsen alifatiske grupper
inkluderes cykloalifatiske grupper og alifatiske grupper som bærer aromatiske substituenter, dvs. alkarylgrupper. Likeledes innen rammen av betegnelsen aromatisk gruppe inkluderes grupper som bærer alkylsubstituenter, dvs. aralkylgrupper.
Den aromatiske gruppe kan være en benzenoid-aromatisk gruppe, f.eks. fenylgruppen, eller den kan være en ikke-benzenoid-. cyklisk gruppe som er anerkjent på området som en som er i besittelse av karakteristikaene til en benzenoid-aromatisk gruppe.
Gruppene A, spesielt når de er aromatiske, kan bære
andre substituentgrupper enn hydrokarbonrester, f.eks. halogen eller alkoksy, forutsatt at fotosensibilisatoren som inneholder substituentgruppene, ikke er tilstede i den fotopolymeriserbare blanding i en slik konsentrasjon at det resulterer i vesentlig inhibering av polymerisasjonen av det etylenisk umettete materiale i blandingen.
I fotosensibilisatoren som har strukturen I, har gruppen X fortrinnsvis strukturen >C=0 eller >CR3OR^, hvor R^ og R^
som tidligere beskrevet.
Gruppene R-^, R2, R3 og R^ kan være hydrogen eller hydrokarbonrester, f.eks. alkyl. Fortrinnsvis er gruppene R^ til R4 hydrogen.
I fotosensibilisatoren med strukturen I kan gruppene A videre bære bundet sammen med en direkte binding, eller ved en to-verdig gruppe, f.eks. en to-verdig hydrokarbonrest, dvs. at i tillegg til bindingen via gruppen - c - (X) - kan gruppene A
0
være ytterligere forbundet slik at de danner et cyklisk ringsystem. Eksempelvis, hvis gruppene A er aromatiske, kan fotosensibilisatoren ha strukturen
hvor X og n er som tidligere beskrevet, Y er >CH2, eller et hydrokarbonderivat derav, og m er 0, 1 eller 2, Fortrinnsvis er gruppen Y forbundet med de aromatiske grupper i orto-stUlinger til gruppen
Gruppene A kan sammen danne et sammensmeltet aromatisk ringsystem.
Spesielt foretrukkede fotosensibilisatorer, på bakgrunn av de store hastigheter som det etylenisk umettede materiale kan polymeriseres i, er a-diketoner med strukturen I, hvor X er >C=0, og n er 1. Generelt er a-diketonerie i stand til å bli stimulert ved stråling i det synlige området av spekteret, dvs. av lys med bølgelengde større enn 400 mu, f.eks. i bølgelengdeområdet 400 my
- 500 mu, selvom ultrafiolett stråling, eller en blanding av ultrafiolett stråling og synlig lys, kan brukes. Egnede a-diketon-fotosensibilisatorer omfatter biacetyl hvor begge gruppene A er metyl, benzil hvor begge gruppene A er fenyl, a-diketoner, hvor begge gruppene hvor A er smeltet aromatisk, f.eks. a-naftil og B-naftil, og a-diketoner, hvor gruppene A er aralkylgrupper,
f.eks. p-tolil. Som et eksempel på en egnet a-diketon-fotosensibilisator hvor gruppene A er ikke-benzenoid-aromatiske, kan
nevnes furil hvor gruppene A har strukturen
f.eks.
2:2'-furil. I a-diketon-fotosensibilisatoren kan gruppene A bære ikke-hydrokarbonrester, f.eks. kan fotosensibilisatoren være p,p'-dialkoksybenzil, f.eks. p,p'-dimetoksybenzil, eller p,p'-dihalobenzil, f.eks. p,p'-diklorbenzil eller p-nitrobenzil.
I fotosensibilisatoren med strukturen I, kan n være 0, og i dette tilfelle er gruppene A aromatiske eller substituert aromatiske. Et eksempel på en slik fotosensibilisator er benzofenon hvor begge gruppene A er fenyl.
Ytterligere egnede fotosensibilisatorer omfatter slike som har strukturen I, hvor n er 1, og X er >CR3OR4. Eksempelvis kan fotosensibilisatoren være benzoin, hvor R^ og R^ er H, og begge gruppene A er fenyl, et alkylbenzoin hvor R^ er hydrogen og R^ er alkyl, f.eks. metyl, a-naftoin og 8-naftoin, hvor begge gruppene A er smeltet aromatiske, p,p'-dialkoksybenzoin, f.eks. p,p<1->dimetoksybenzoin, og p,p'-dihalogenbenzoin, f.eks. p,p'-diklorbenzoin, hvor gruppene A bærer ikke-hydrokarbonrester,
og furoin hvor gruppene A er ikke-benzenoid-aromatiske og har
strukturen
f.eks. 2,2'-furoin.
I fotosensibilisatoren kan gruppene A være bundet sammen via en direkte binding eller ved hjelp av en to-verdig hydrokarbonrest og danne et cyklisk ringsystem. Eksempelvis, hvis gruppene A er alifatiske, kan fotosensibilisatoren være kamferkinon.
Hvis fotosensibilisatoren har strukturen II, omfatter
egnede fotosensibilisatorer fluorenon hvor n og m begge er 0 og de aromatiske grupper A er forbundet ved en direkte binding som
står i orto-stilling til gruppen
og fenantrakinon hvor X er >C=0, n er 1, og m er 0, idet de aromatiske grupper A er forbundet ved en direkte binding som er orto til gruppen
Fotosensibilisatoren kan være acenaftenkinon hvor
gruppene A i strukturen I sammen danner et smeltet aromatisk ringsystem.
Fotosensibilisatoren kan f.eks. være tilstede i den fotopolymeriserbare blanding i en konsentrasjon i området 0,001
- 10 vekt-% av det etylenisk umettede materiale i blandingen,
selvom konsentrasjoner utenfor dette området kan brukes om så ønskes. Fotosensibilisatoren er gjerne tilstede i en konsentrasjon av
0,1 - 1%, og mer fortrinnsvis fra 0,5 - 5%, i vekt av det etylenisk umettede materiale i blandingen.
Reduksjonsmidlet som er tilstede i den fotopolymeriserbare blanding, bør ha et reduksjonspotential som er slik at det er i stand til å redusere fotosensibilisatoren når denne er i stimulert tilstand, men allikevel er ute av stand til å redusere fotosensibilisatoren når sistnevnte ikke er stimulert av stråling. Videre antas det at reduksjonsmidlet, når det er oksydert av den stimulerte fotosensibilisator, bør være i stand til å initiere polymerisasjon av det etylenisk umettede materiale. Reduksjonsmidlet bør, i den konsentrasjon som det er tilstede i i den fotopolymeriserbare blanding, ha liten eller ingen inhiberende effekt på polymerisasjonen. Hva enten et reduksjonsmiddel har eller ikke har en inhiberende effekt, kan måles ved hjelp av enkle forsøk, f.eks. ved å utføre polymerisasjon av det etylenisk umettede materiale ved hjelp av en varmeinitiator i nærvær eller fravær av et reduksjonsmiddel i den ønskede konsentrasjon og ved sammenligning av polymerisasjonshastighetene i nærvær og fravær av reduksjonsmidlet.
Reduks3onsmidlene omfatter forbindelser med strukturen
hvor R, som kan vær^e like eller forskjellige, er hydrogenatomer, hydrokarbonrester, substituerte hydrokarbonrester eller grupper hvor to enheter R sammen med N danner et cyklisk ringsystem, idet ingen flere enn to av enhetene R er hydrogenatomer eller substituerte hydrokarbonrester, og hvis N er knvttet direkte til en aromatisk aruoioe R. har minst én av de andre enheter R en
knyttet til N.
Fortrinnsvis er reduksjonsmidlet fritt for aromatiske grupper knyttet direkte til N.
Reduksjonsmidlet kan være et primært, sekundært eller
tertiært amin, dvs. at i strukturen
kan to, én eller
ingen av enhetene R være hydrogenatomer.
En eller flere av enhetene R kan være en hydrokarbonrest. Hydrokarbonresten kan f.eks. være alkyl, cykloalkyl eller alkaryl. Gruppen R kan gjerne være en alkylgruppe med 1-10 kar-bona tomer .
Eksempler på egnede reduksjonsmidler hvor en eller flere av enhetene R er hydrokarbonrest, omfatter propylamin, n-butylamin, pentylamin, heksylamin, dimetylamin, dietylamin, dipropyl-amin, di-n-butylamin, dipentylamin, trimetylamin, trietylamin, tripropylamin, tri-n-butylamin, tripentylamin, dimetylaminoetylmetakrylat, og langkjedede fettaminer, f.eks. C^gH-^NlV^. Eksempler på reduksjonsmidler som inneholder aromatiske grupper, omfatter N,N'-dimetylanilin og N-metyldifenylamin.
En eller flere av enhetene R kan være en substituert hydrokarbongruppe, og spesielt kan hydrokarbongruppen bære en
substituent med strukturen
hvor M er et element fra gruppe Vb i Det periodiske system, og enheten R^ er f.eks. en alkylenkjede, og enhetene Rg, som kan være like eller forskjellige, er f.eks. hydrogenatomer eller hydrokarbongrupper. [Det periodiske system som det her refereres til, er det som er publisert i "Advanced Inorganic Chemistry", annen utgave, av P.A. Cotton og G. Wilkinson (Interscience 1966)]. Eksempler på reduksjonsmidler hvor minst én av enhetene R er en substituert hydrokarbonrest, inkluderer diaminer av strukturen hvor n er et helt tall på minst 2, og gruppene Rg, som kan være like eller forskjellige, er hydrogenatomer eller hydrokarbonrester, spesielt alkylgrupper. Eksempelvis kan reduksjonsmidlet være etylendiamin, trimetylendiamin, tetrametylendiamin, pentametylendiamin eller heksametylendiamin, eller N-hydrokarbyl-, spesielt N-alkyl-derivater derav. Andre egnede reduksjonsmidler omfatter derivater med strukturen hvor ett eller flere av hydrogenatomene i -C^-enheten bærer en
spesielt en -NH^-gruppe.
Eksempler på reduksjonsmidler hvor elementet M utgjør en del av et cyklisk ringsystem, omfatter piperidin og N-hydrokarbyl-, spesielt N-alkyl-, derivater av piperidin.
Andre reduks jonsmidler omfatter triallylamin, (allyl),,-
allyltiourea, o-tolyltiourea, løselige
salter av aromatiske sulfinsyrer, f.eks. S-benzyl-iso-tiouronium-p~toluensulfinat, og natriumdietylditiofosfat.
Konsentrasjonen av reduksjonsmidlet kan gjerne ligge i de foran beskrevne områder med hensyn til fotosensibilisatoren, selv om konsentrasjoner utenfor disse områder kan brukes om så ønskes. Reduksjonsmidlet er fortrinnsvis til stede i en konsentrasjon av 1-5 vekt% av det etylenisk umettede materiale i den fotopolymeriserbare blanding.
Hvis én eller flere av gruppene R i reduksjonsmidlet
er aromatisk, så foretrekkes det å ha en konsentrasjon
av reduksjonsmiddel i den fotopolymeriserbare "blanding--i området;-;. 0,01 - 0,5i.vekt^% av det etylenisk umettede--måteriale-.ivblandingen:-når man tar i beregning de .hurtigere polymerisas jonshastighete-r - : h som kan oppnås når reduks jonsmidlet er : tilstede-i "'dette konsentrå- • sjonsområdet - ...-•"
Fotosensibilisatoren og :reduksjonsmidlet bør-være løselige
i det etylenisk ;.umettedé. materiale-1 det-^minste i tilstrekkelig ;;-grad til-å.gi den-.ønskede konsentrasjon, i; dette. ' ■Selv-om^v;'-,2.c.iM;vJ polymerisas j.onen .vri 'skride .frem hvis- fOtosensibilisatoren'og- - -"• reduks jonsmidlet ikke er fullstendig løselige, er :'det^ svært;; å- - :-foretrekke sat fotosensibilisatoren 'og -reduksjonsmidlét^sammen er fullstendig .løselige å det etylenisk umettede -materiale-1 i "'ønsket:s. -Blandémetoden 'for. fotosensibilisatoren og -reduks jons- I ? midlet med-det etylenisk umettede i materiale' kåh ha noe; å si -for suksessen -eller.'-på .annen måte • fér^oppnåelse av-de -ønskede •' - - v. konsentrasjoner-av fotosensibilisator og reduksjonsmiddel i materialet -''Således',- hvis fotosensibilisatoren eller "reduks jons. i-. ' midlet ikke-Aer' tilstrekkelig : løsélig- i det etylenisk uméttedé-V! t; - ; . materiale, eller hvis den ene eller-dén 'annen-kan oppløses::bare^ ■'-med vanskelighet, - så:har" søkeren funnet at oppløsning "av ;fotosensibilisatoren og/ellerVreduksjonsmidlet k^hras^isteres^av-^^- — tilsetning til dét -etylénisk "uméttéde'-materia le' åv.,én -liten''- ^ mengde av' et 'fortynningsmiddel som ■ f otosénsibirxsatoréh1 eller ■- "-■ ': "-reduks jonsmidlet ér ' .løséli"g : i", -og som ér blandbart "méd"det <;>éty'leni<;>sk; umettede materiale. Fotosensibilisatoren eller reduks jonsmidlet ■■ kan-gjerne innføres i;det etylenisk umettede materiale'>i' form : ~ - :'.. av en løsning i et slikt fOrtynningsmiddel. -. >-•
Fotosensibilisatoren-og<T>reduksjonsmidlet kan oppløses
i samme batch av et egnet fortynningsmiddel og deretter tilsettes til det etylenisk umettede materiale. Alternativt kan fotosensibilisatoren og reduksjonsmidlet oppløses i forskjellige-batchér-
av det samme eller forskjellige fortyriningsmidler og.tilsettes til det etylenisk umettede materiale. Tilsetningsmetoden,-;, i .. : fortynningsmidlet eller -midlene, samt mengdene'av disse^som skal brukes, kan lett bestemmes av en fagmann. • •:-.' • ■.
Generelt skrider polymerisasjonen av det etyleniski-i; i umettede materiale lett frem ved-omgivelsestemperatur når—- -":■■■>
blandingen bestråles med stråling som har en bølgelengde som omvandler fotosensibilisatoren til stimulert tilstand. Imidlertid kan polymerisasjonshastigheten generelt øke ved at polymerisasjonen utføres ved en temperatur over omgivelsestemperatur.
Det polymeriserbare etylenisk umettede materiale, som
bør være fri-radikalt polymeriserbart, er gjerne minst én monomer som inneholder etylenisk umettethet i en endestående gruppe. Eksempelvis kan det etylenisk umettede materiale være én eller flere monomerer, valgt blant vinylmonomerer, allylmonomerer og vinylidenmonomerer.
Egnede vinylmonomerer som kan polymeriseres omfatter f.eks. vinylestere, aromatiske vinylforbindelser og vinylnitriler.
Vinylestere som er egnet for bruk ved metoden i henhold til oppfinnelsen, omfatter f.eks. vinylacetat og estere av akryl-syre med strukturen CH2 = CH - COOR7, hvor R7 er en alkyl-,
aryl-, alkaryl-, aralkyl- eller cykloalkylgruppe. Eksempelvis kan R^ være en alkylgruppe med fra 1 til 20, og fortrinnsvis 1 til 10, karbonatomer. Spesielle vinylestere som kan omtales, omfatter f.eks. metylakrylat, etylakrylat, n- og isopropylakrylater, og n-, iso- og tert.-butylakrylater.
Andre egnede vinylestere omfatter f.eks. estere av formelen CH2 = C(Rg)C00R7, hvor RQ er metyl. I esteren av formel CH2 = C(Rg)C00R7, kan R? og Rg være like eller forskjellige. Spesielle vinylestere som kan nevnes, omfatter f.eks. metyl-metakrylat, etyImetakrylat, n- og isopropylmetakrylat, og n-,
iso- og tert.-butylmetakrylat. Egnede aromatiske vinylforbindelser omfatter f.eks. styren og derivater derav, f.eks. a-alkylderivater av styren, f.eks. a-metylstyren og vinyltoluen.
Egnede vinylnitriler omfatter f.eks. akrylnitril og derivater derav, f.eks. metakrylnitril.
Andre egnede vinylmonomerer omfatter vinylpyrrolidon,
og hydroksyalkylakrylater og metakrylater, f.eks. hydroksyetyl-akrylat, hydroksypropylakrylat, hydroksyetylmetakrylat og hydroksypropylmetakrylat.
Det etylenisk umettede materiale kan omfatte minst én etylenisk umettet polymer, gjerne i kombinasjon med minst én etylenisk umettet monomer. Eksempelvis kan den etylenisk umettede polymer være en etylenisk polyester som er dannet ved kondensasjon av minst én etylenisk"Umettet polykarboksylsyre eller et tilsvarende anhydrid, eventuelt i kombinasjon med minst én mettet polykarboksylsyre eller det tilsvarende anhydrid, med minst én polyol.
Hvis den fotopolymeriserbare blanding innbefatter en blanding av en etylenisk umettet polyester og en etylenisk umettet monomer, kan polyesteren og monomeren passende være tilstede i blandingen i en andel, i vekt, av polyester : monomer på 99:1 - 1:99, fortrinnsvis 90:10 - 10:90.
Søkeren har funnet at når det etylenisk umettede materiale i den fotopolymeriserbare blanding omfatter en blanding av en etylenisk umettet polyester og en etylenisk umettet monomer,
så er akselerasjonen i polymerisasjonshastigheten av det etylenisk umettede materiale, spesielt hvis reduksjonsmidlet er et amin,
som oppnås ved inkludering av en gitt konsentrasjon av reduksjonsmiddel i blandingen, større jo lavere syretallet til den etylenisk umettede polyester i blandingen er.
Den etylenisk umettede monomer kan være, eller kan innbefatte, en flerverdig monomer hvis polymerisasjon vil føre til produksjon av kryssbundne materialer. Egnede flerverdige etylenisk umettede monomerer omfatter f.eks.divihylbenzen, glykoldimetakrylat og et reaksjons produkt av et hydroksyalkylakrylat eller -meta-krylat med et isocyanat-endestående addukt av en diol og et diisocyanat, f.eks. et reaksjonsprodukt av hydroksyetylmetakrylat og et isocyanat-endestående addukt av 4:4'-difenylmetan-diisocyanat og oksypropylert bisfenol-A.
Hvis det etylenisk umettede materiale er et fast stoff, så kan det være bekvemt, i den hensikt å frembringe en flytende blanding, og innbefatte i blandingen tilstrekkelig mengde av et egnet fortynningsmiddel. Fortynningsmidlet bør naturligvis ha liten eller ingen inhiberende effekt på polymerisasjonen av det etylenisk umettede materiale i blandingen.
Produktene i henhold til oppfinnelsen er egnet for fremstilling av formede gjenstander av polymere materialer,
f.eks. ark, og er spesielt egnet for bruk ved fremstilling av polymere materialer i form av filmer og spesielt malingfilmer. Således, da produktene i henhold til oppfinnelsen er vesentlig stabile, slik at liten eller ingen polymerisasjon av det etylenisk umettede materiale finner sted i fravær av stråling, utgjør de beholder-stabile blandinger som kan danne film, f.eks. en malingfilm, og deretter bringes til eller tillate å polymerisere
ved eksponering for lys, f.eks. ved eksponering av filmen for naturlig lys, f.eks. sollys. Når de formes til en film og eksponeres for lys, polymeriserer blandingene hurtig.
De fotopolymeriserbare blandinger i henhold
til oppfinnelsen, spesielt blandinger som skal brukes ved fremstilling av tverrbundne materialer, spesielt malingfilmer, kan inneholde pigmenter, som kan være organiske eller uorganiske.
Hvis blandingen inneholder et pigment, bør en fotosensibilisator velges som stimuleres ved stråling som har en bølgelengde som ikke absorberes i noen særlig grad av pigmentet som er tilstede i blandingen. Fortrinnsvis bør pigmentet være transparent for stråling ved den bølgelengde som stimulerer fotosensibilisatoren. Hvis pigmentet absorberer ultrafiolett stråling, men absorberer lite eller ingen stråling i det synlige området av spektret, er slike fotosensibilisatorer i blandingene i henhold til oppfinnelsen som stimuleres av synlig lys, f.eks. a-diketonene, spesielt nyttige.
Andre additiver kan være tilstede i de fotopolymeriserbare blandinger, f.eks. antioksydasjonsmidler og u.v.-stabilisatorer.
Oppfinnelsen skal i det følgende illustreres ved hjelp
av eksempler, i hvilke alle deler uttrykker vektdeler.
EKSEMPEL 1
2 deler benzil ble oppløst i 263 deler av en blanding
av 38 vekt-% styren og 62 vekt-% av en umettet polyester, idet polyesteren hadde et syretall på 41 mg KOH g 1 og var fremstilt ved kondensering av propylenglykol, fumarsyre og isoftalsyre (fumarsyre: isoftalsyre-forhold = 3:1). Den resulterende blanding ble satset i en flaske av pyrex-glass som så ble tilstoppet og bestrålt av en blanding av ultrafiolett og synlig stråling fra åtte 20 watt blå fluorescerende lysstoffrør (Atlas). Den maksimale emisjon var ved 425 mu. Rørene var sirkulært anbragt og flasken var plassert ca. 7,6 cm fra hvert rør.
Etter bestråling i 20 minutter hadde innholdet gelert
i en slik utstrekning at det ikke .lenger kunne helles. Dette skal det henvises til i det følgende som gel-punktet.
I andre eksperimenter ble flasker av pyrex-glass
satset med benzil, og blandingen av styren og umettet polyester,
idet man fulgte ovenstående fremgangsmåte, og ved tilsetning av
4 vektdeler reduksjonsmiddel. Geltidene som ble oppnådd i nærvær av et antall forskjellige reduksjonsmidler, er oppført i tabell I.
EKSEMPEL 2
Fremgangsmåten fra eksempel 1 ble gjentatt med unntagelse av at i et første forsøk som ble utført i fravær av reduksjonsmiddel, ble 4 deler fluorenon brukt i stedenfor benzil, og i et annet forsøk, som ble utført i nærvær av reduksjonsmiddel, ble 4 deler dimetylaminoetylmetakrylat bruk som reduksjonsmiddel.
De iakttatte geltider var henholdsvis tilnærmet 2 timer og 6 minutter.
EKSEMPEL 3
Fremgangsmåten fra eksempel 1 ble gjentatt, med unntagelse av at i et første forsøk, utført i fravær av reduksjonsmiddel, ble 0,1 del fenantrakinon brukt i stedenfor benzil, og i et annet forsøk, utført i nærvær av reduksjonsmiddel, ble 4 deler dimetylaminoetylmetakrylat brukt som reduksjonsmiddel. De iakttatte geltider var henholdsvis tilnærmet 30 minutter og 3 minutter.
EKSEMPEL 4
Fremgangsmåten fra eksempel 3 ble gjentatt, med unntagelse av at 2 deler benzofenon ble brukt i stedenfor fenantrakinon, og den anvendte lyskilde var en 250 watt kvikksølvlampe med middels trykk (Hanovia), idet pyrex-flasken var plassert 10 cm fra lampen.
De iakttatte geltider var henholdsvis tilnærmet 2
timer og 33 minutter.
EKSEMPEL 5
Fremgangsmåten fra eksempel 1 ble gjentatt, med unntagelse av at pyrex-flasken ble satset med 100 deler av en forbindelse av strukturen XHNCONHX, hvor X har strukturen
-eH2-0-CH2CH2-OCOC(CH3)=CH2, og 2 deler benzil. Den iakttatte geltid ved bestråling av innholdet av flasken var 25 minutter. 1 to ytterligere forsøk ble ovenstående fremgangsmåte gjentatt med unntagelse av at flaskene også ble sataset med henholdsvis 4 deler dimetylaminoetylmetakrylat og 4 deler allyltiourinstoff. De respektive geltider som var iakttatt,
var 2 minutter og 45 sekunder og 1 minutt og 25 sekunder.
EKSEMPEL 6
Til en løsning av 2 deler benzil og 4 deler dimetylaminoetylmetakrylat i 263 deler av en blanding av styren og umettet polyester som anvendt i eksempel 1, ble tilsatt 3 deler av en 10 vekt-% løsning av parafinvoks i toluen. Blandingen ble støpt på en metallplate og eksponert for lys fra to 2 kw høy-trykks -kvikksølvlampe r. Platen ble anbragt.i en avstand av 10 cm fra lampene. Etter eksponering for lys i 15 sekunder ble det produsert en hård, tverrbundet film.
Et lignende resultat ble oppnådd da blandingen inneholdt 30 deler dispergert rutil-titandioksyd.
EKSEMPEL 7
2 deler a-naftil og 4 deler dimetylaminoetylmetakrylat ble oppløst i 260 deler av en blanding av 38 vekt-% styren og 62 vekt-% av en umettet polyester som anvendt i eksempel 1. Den resulterende blanding ble satset i en pyrex-flaske som så ble tilstoppet og bestrålt av lys fra åtte 20 watt blå fluorescerende rør (Atlas). Rørene var anbragt i ring, og flasken var plassert ca. 7,6 cm fra hvert rør.
Etter bestråling i 2,5 minutter hadde innholdet i røret gelert så meget at det ikke lenger kunne helles.
For sammenligningens skyld ble ovenstående fremgangsmåte gjentatt, med unntagelse av at dimetylaminoetylmetakrylat ble utelatt. I dette tilfelle hadde innholdet i flasken ikke gelert selv etter bestråling i 30 minutter.
EKSEMPEL 8
Fremgangsmåten fra eksempel 7 ble gjentatt, med
unntagelse av at a-naftil ble erstattet av S-naftil.
I nærvær av dimetylaminoetylmetakrylat gelerte innholdet av flasken etter bestråling i 2 minutter, mens - for sammenlignings skyld - i fravær av dimetylaminoetylmetakrylat innholdet i flasken gelerte etter bestråling i 6 minutter.
EKSEMPEL 9
Fremgangsmåten fra eksempel 7 ble gjentatt, med
unntagelse av at a-naftil ble erstattet av p-tolil.
I nærvær av dimetylaminoetylmetakrylat gelerte innholdet av flasken etter bestråling i 15 sekunder, mens - for sammenlignings skyld - i fravær av dimetylaminoetylmetakrylat innholdet i flasken gelerte etter bestråling i 30 minutter.
EKSEMPEL 10
I flere forsøk ble 100 vektdeler av en blanding av
38 vekt-% styren cg 62 vekt-% av en umettet polyester, som anvendt i eksempel 1, polymerisert idet man fulgte fremgangsmåten fra eksempel 1 i en rekke forskjellige fotosensibilisatorer og, for sammenlignings skyld, ble fotosensiblisatorene brukt alene og i nærvær av et reduksjonsmiddel. Resultatene er angitt i tabell 2.
EKSEMPEL 11
Fremgangsmåten fra eksempel 1 ble fulgt ved det at man
i stedenfor blandingen av styren og umettet polyester, som anvendt i eksempel 1, anvendte monomerene og blandinger av monomerer i de mengder som er angitt i tabell 3, og i stedenfor benzil og reduksjonsmidler i de mengder som er anvendt i eksempel 1, de fotosensibilisatorer og reduksjonsmidler i de mengder som er angitt i tabell 3.
Bestrålingsprosessen og geltidsmålingsprosessen som ble brukt, var som beskrevet i eksempel 1.
EKSEMPEL 12
I den hensikt å vise stabiliteten av de fotopolymeriserbare blandinger i fravær av stråling, ble det laget to løsninger som hver inneholdt 100 vektdeler av en blanding av styren og umettet polyester, som anvendt i eksempel 1, 4 vektdeler dimetylaminoetylmetakrylat og henholdsvis 2 vektdeler benzil og 2 vektdeler fluorenon.
Løsningene ble lagret separat i tilstoppede flasker som ble lagret i mørke.
Etter lagring i 15 måneder ble flaskene åpnet. Blandingene av styren og umettet polyester viste liten, hvis noen, forandring i viskositeten, hvilket indikerte at liten, eller ingen, polymerisasjon hadde funnet sted under lagring.
EKSEMPEL 13
FORSØK A
Idet man fulgte fremgangsmåten fra eksempel 1, ble 4 pyrex-glass-flasker separat satset med en løsning av 100 vektdeler av en blanding av styren og umettet polyester som anvendt i eksempel 1, 4 vektdeler dimetylaminoetylmetakrylat og henholdsvis 2, 0,5, 0,1 og 0,05 deler benzil.
Flaskene ble bestrålt med blanding av synlig og ultrafiolett stråling (maksimal emisjon 425 mu) fra åtte 20 watt blå fluoriserende rør (Atlas) idet man fulgte den fremgangsmåte som er beskrevet i eksempel 1.
Geltidene for blandingene i flaskene var henholdsvis 20 sek., 25 sek., 60 sek. og 95 sek..
FORSØK B
Ovennevnte fremgangsmåte ble gjentatt, med unntagelse av at de blå fluoriserende rør ble erstattet av åtte 20 watt blå blacklight-rør (Atlas). Disse rør emitterer ultrafiolett stråling med en maksimal emisjon ved 350 rau.
Geltidene til blandingene i flaskene var henholdsvis
10 minutter, 60 sek., 70 sek. og 90 sek...
FORSØK C
Fremgangsmåten fra forsøk A ovenfor ble gjentatt, med unntagelse av at strålingen som var innfallende på pyrex-flaskene, først ble filtrert gjennom en 1 cm veilengde av en 8% vandig løsning av natriumnitritt i den hensikt å filtrere ut den ultrafiolette stråling fra strålingen som ble emittert av de blå fluoriserende rør.
Geltidene var uforandret.
EKSEMPEL 14
I to separate forsøk ble fremgangsmåten fra eksempel 1 fulgt ved bruk av 100 deler av en blanding av styren og en umettet polyester, 2 deler benzil og som reduksjonsmiddel, 1 del o-tolyl-tiourinstoff og 2 deler natriumdietylditiofosfat.
Geltidene var henholdsvis 2 minutter og 5 minutter.
EKSEMPEL 15
Fremgangsmåte fra eksempel 1 ble fulgt ved bruk av 100 deler av en blanding med syretall 25 mg KOH g<->"<*>" og som omfattet 30 deler styren og 70 deler av en umettet polyester fremstilt ved kondensering av propylenglykol, maleinsyreanhydrid og isoftalsyre (maleinsyreanhydrid:isoftalsyre-molforhold = 2:1). Etter bestråling i 18 minutter hadde innholdet i flasken nådd gelpunktet.
I et ytterligere forsøk ble fremgangsmåten som er beskrevet ovenfor gjentatt, med unntagelse av at blandingen av umettet polyester og styren hadde et syretall på 0,8 mg KOH g-±. Den umettede polyester ble fremstilt på den måte som er beskrevet ovenfor, med unntagelse av kondensasjonsreaksjonen ble utført til den umettede polyester hadde et syretall på 10 mg KOH g \ og polyesteren ble deretter omsatt med en glycidylester ("Cardura E" fra Shell Chemical Company) inntil det ble produsert en polyester med det ønskede syretall.
Gelpunktet ble nådd etter bestråling i 15 sek..
EKSEMPEL 16
Det ble laget en malingblanding ved å blande sammen
25 deler titandioksyd, 63 deler av en blanding av styren og en umettet polyester som beskrevet i eksempel 15, idet blandingen hadde et syretall på 0,8 mg KOH g 1, 3 deler siliciumdioksyd, 0,3 del parafinvoks, 0,35 del benzil og 0,35 del dimetylaminoetylmetakrylat.
En 0,076 mm våt film ble bredd ut på en plate og plassert 20 cm fra to 2 kw høytrykks-kvikksølvlamper. Filmen
herdet i løpet av 2 min. til en hård, ikke-klebrig film.
En lignende film ble herdet ved eksponering for dagslys.
I et ytterligere forsøk ble ovennevnte fremgangsmåte
fulgt, med unntagelse av at i tillegg ble 2,5 deler av et blått pigment (Monolite Fast Blue 3RS fra Imperial Chemical Industries Limited) blandet med malingblandingen.
Malingfilmen krevet 2 1/2 min. bestråling av de to 2kW høytrykks-kvikksølvlamper for å herde til en hård, ikke-klebrig film.
EKSEMPEL 17
Fremgangsmåten fra eksempel 1 ble fulgt i to separate
forsøk ved bruk av 100 deler av en blanding av styren og umettet polyester, 4 deler dimetylaminoetylmetakrylat som reduksjonsmiddel,
og henholdsvis 0,2 og 0,02 del av p-nitrobenzil.
Geltidene var henholdsvis 5 min. og 2 1/2 min..
EKSEMPEL 18
Fremgangsmåten fra eksempel 1 ble fulgt i to separate forsøk ved bruk av 100 deler av en blanding av styren og umettet polyester, 2 deler benzil og 0,1 del av henholdsvis N,N-dimetyl-anilin og N-metyldifenylamin.
Geltidene var henholdsvis 80 sek. og 90 sek..
I fravær av reduksjonsmidlet var geltiden 20 min..
EKSEMPEL 19
Til en løsning av 2 deler benzil og 4 deler dimetylaminoetylmetakrylat i 100 deler av en blanding av styren og en umettet polyester, som anvendt i eksempel 1, ble det tilsatt 3 deler av en 10 vekt-% løsning av parafinvoks i toluen.
En tynn film av løsningen ble bredt ut på en plate og eksponert i luft for dagslys. Filmen herdet til en hård film i løpet av 2 til 30 minutter, avhengig av dagslysets intensitet.
For sammenlignings skyld og i den hensikt å illustrere sensitiviteten overfor luft av fotosensitive farvestoffer som hittil har vært foreslått, ble ovenstående fremgangsmåte gjentatt,
med unntagelse av at benzil ble erstattet av 0,1 del rose bengal. Filmen hadde ikke herdet etter eksponering i luft for dagslys i
2 dager. Imidlertid, da løsningen som inneholdt rose bengal, ble satset i bulk til en pyrex-flaske, tilstoppet og deretter eksponert for dagslys, så gelerte løsningen etter 30 minutter, hvilket indikerer at i bulk var rose bengal i stand til å polymerisere blandingen av styren og umettet polyester.
Claims (10)
1. Fotopolymeriserbar blanding som omfatter minst én polymeriserbar, etylenisk umettet forbindelse og en fotosensitiv katalysator, karakterisert ved at den fotosensitive katalysator består av en kombinasjon av: (a) minst én fotosensibilisator med strukturen
hvor X er >C=0, >CR,R„ eller >CRo0R.; R, -R., som kan være like 1 2 3 4 1 4
eller forskjellige, er hydrogen eller hydrokarbonrester; n er 0 eller 1; og gruppene A, som kan være like eller forskjellige, er hydrokarbonrester eller substituerte hydrokarbonrester, idet gruppene A kan være ytterligere bundet sammen ved en direkte binding eller ved en toverdig hydrokarbongruppe, eller gruppene A kan sammen danne et sammensmeltet aromatisk ringsystem, idet gruppene A er aromatiske eller substituert-aromatiske når n er 1 og X er >CR^R2 0<? n^ r n er 0, og (b) minst ett reduksjonsmiddel som er i stand til å redusere fotosensibilisatoren når fotosensibilisatoren er i stimulert tilstand, og som har strukturen
hvor enhetene R, som kan være like eller forskjellige, er hydrogenatomer, hydrokarbongrupper, substituerte hydrokarbongrupper eller grupper i hvilke to enheter R sammen med N danner et cyklisk ringsystem, idet ikke mer enn to av enhetene R er hydrogenatomer eller substituerte hydrokarbongrupper og, hvis N er knyttet direkte til en aromatisk gruppe R, har minst én av de
andre enheter R en gruppe
knyttet til N.
2. Fotopolymeriserbar blanding som angitt i krav 1, karakterisert ved at fotosensibilisatoren er minst én av benzil, biacetyl, a-naftil, 3-naftil, furil,
p,p'-dimetoksybenzil, p,p'-diklorbenzil, p-tolil og p-nitrobenzil.
3. Fotopolymeriserbar blanding som angitt i krav 1, karakterisert ved at fotosensibilisatoren med strukturen I er benzofenon eller et alkylbenzoin hvor i strukturen I R-. er hydrogen og R^ er alkyl.. •
4. Fotopolymeriserbar blanding som angitt i krav 1, karakterisert ved at fotosensibilisatoren er minst én av benzoin, a-naftoin, &-naftoin, p,p'-dimetoksybenzoin, p,p<1->diklorbenzoin og furoin.
5. Fotopolymeriserbar blanding som angitt i krav 1, karakterisert ved at fotosensibilisatoren har strukturen
hvor X og n er som beskrevet i krav 1, og hvor Y er , eller et hydrokarbonderivat derav, og m er 0, 1 eller 2.
6. Fotopolymeriserbar blanding som angitt i krav 5, karakterisert ved at fotosensibilisatoren er minst én av fenantrakinon, fluorenon, acenaftenkinon og kamferkinon.
7. Fotopolymeriserbar blanding som angitt i krav 1, karakterisert ved at i reduksjonsmidlet med strukturen R-N-R er gruppene R fri for aromatiske grupper som er knyttet direkte til elementet N.
8. Fotopolymeriserbar blanding som angitt i krav 1, karakterisert ved at reduksjonsmidlet er minst ett av dimetylaminoetylmetakrylat, n-butylamin, di-n-butylamin, trietylamin, N,N-dimetylanilin og N-metyl-difenylamin.
9. Fotopolymeriserbar blanding som angitt i hvilket som helst av de foregående krav, karakterisert ved
at reduksjonsmidlet er til stede i en konsentrasjon i området 1-5 vekt% av det etylenisk umettede materiale i blandingen.
10. Fotopolymeriserbar blanding som angitt i hvilket som helst av de foregående krav, karakterisert ved at det etylenisk umettede materiale omfatter minst én monomer som inneholder etylenisk umettethet i en endestående gruppe.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB4836571 | 1971-10-18 | ||
GB980772*[A GB1408265A (en) | 1971-10-18 | 1972-03-02 | Photopolymerisable composition |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NO142915B true NO142915B (no) | 1980-08-04 |
NO142915C NO142915C (no) | 1980-11-12 |
Family
ID=26243188
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NO3665/72A NO142915C (no) | 1971-10-18 | 1972-10-12 | Fotopolymeriserbar blanding som omfatter minst en polymeriserbar, etylenisk umettet forbindelse og en fotosensitiv katalysator |
Country Status (16)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4071424B1 (no) |
JP (1) | JPS5410986B2 (no) |
AT (1) | AT331507B (no) |
BE (1) | BE789950A (no) |
CA (1) | CA984210A (no) |
CH (1) | CH593305A5 (no) |
DE (2) | DE2251048C2 (no) |
DK (1) | DK147708C (no) |
ES (1) | ES407740A1 (no) |
FR (1) | FR2156760B1 (no) |
GB (1) | GB1408265A (no) |
HK (1) | HK57478A (no) |
IT (1) | IT969627B (no) |
NL (1) | NL165570C (no) |
NO (1) | NO142915C (no) |
SE (1) | SE412396C (no) |
Families Citing this family (198)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1412754A (en) * | 1971-12-29 | 1975-11-05 | Ici Ltd | Photopolymerisable composition |
US4089763A (en) | 1973-04-24 | 1978-05-16 | Imperial Chemical Industries Limited | Method of repairing teeth using a composition which is curable by irradiation with visible light |
US4110184A (en) | 1973-04-24 | 1978-08-29 | Imperial Chemical Industries Limited | Photocurable dental filling compositions |
GB1469643A (en) * | 1973-11-19 | 1977-04-06 | Ici Ltd | Photopolymerisable composition |
GB1485776A (en) * | 1974-01-10 | 1977-09-14 | Ici Ltd | Method of making a foamed article |
US4069054A (en) * | 1975-09-02 | 1978-01-17 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photopolymerizable composition containing a sensitized aromatic sulfonium compound and a cationacally polymerizable monomer |
GB1553580A (en) * | 1975-11-21 | 1979-09-26 | Espe Pharm Praep | Photopolymerisable acrylic or methacrylic acid ester-containing compositions |
DE2625538C2 (de) * | 1976-06-05 | 1984-03-22 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Photopolymerisierbare Überzugsmassen |
DE2730462A1 (de) * | 1976-07-15 | 1978-01-19 | Ciba Geigy Ag | Photoinitiatoren fuer uv-haertbare massen |
CA1117685A (en) * | 1976-11-15 | 1982-02-02 | Narayanan Madhavan | One paste polymeric dental restorative composition |
JPS6026122B2 (ja) * | 1977-01-20 | 1985-06-21 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
DE2722264C2 (de) * | 1977-05-17 | 1984-06-28 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Verwendung von substituierten Oxyalkylphenonen als Photosensibilisatoren |
EP0003002B1 (de) * | 1977-12-22 | 1984-06-13 | Ciba-Geigy Ag | Verwendung von aromatisch-aliphatischen Ketonen als Photoinitiatoren, photopolymerisierbare Systeme enthaltend solche Ketone und neue aromatisch-aliphatische Ketone |
JPS54130633A (en) * | 1978-04-01 | 1979-10-11 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | Ultraviolet-curing coating composition |
US4222835A (en) * | 1978-05-25 | 1980-09-16 | Westinghouse Electric Corp. | In depth curing of resins induced by UV radiation |
US4234399A (en) * | 1978-10-13 | 1980-11-18 | Lord Corporation | Radiation curable compositions containing acyloin urethane compounds |
JPS5565264A (en) * | 1978-11-08 | 1980-05-16 | Sumitomo Chem Co Ltd | Photo-setting composition and its photo-setting method |
DE2964564D1 (en) * | 1978-12-18 | 1983-02-24 | Ici Plc | Dental compositions comprising a selected vinyl urethane prepolymer and processes for their manufacture |
NO150963C (no) | 1979-01-11 | 1985-01-16 | Scott Bader Co | Polyesterharpiksmateriale som er herdbart ved hjelp av synlig lys, og fremgangsmaate til herding av dette |
NO801021L (no) * | 1979-04-10 | 1980-10-13 | Akzo Nv | Ultrafiolett herdbart belegg. |
EP0022188B1 (en) * | 1979-06-18 | 1984-10-03 | EASTMAN KODAK COMPANY (a New Jersey corporation) | Co-initiator compositions for photopolymerization containing 3-acyl-substituted coumarins, photopolymerizable composition and photographic element |
DE3001616A1 (de) * | 1980-01-17 | 1981-07-23 | ESPE Fabrik pharmazeutischer Präparate GmbH, 8031 Seefeld | Verfahren zur herstellung von zahnersatzteilen durch photopolymerisieren einer verformbaren masse |
DE3029276A1 (de) * | 1980-08-01 | 1982-02-18 | Etablissement Dentaire Ivoclar, Schaan | Photopolymerisierbare masse, insbesondere fuer dentalzwecke |
US4553940A (en) * | 1980-08-29 | 1985-11-19 | Dentsply Research & Development Corp. | Visible light curable dental compositions |
US4491453A (en) * | 1980-08-29 | 1985-01-01 | Dentsply Research & Development Corp. | Process for restoring teeth with visible light curable compositions |
US4411625A (en) * | 1980-08-29 | 1983-10-25 | Dentsply Research & Development Corp. | Broad spectrum light curable dental compositions |
DE3167493D1 (en) * | 1980-11-05 | 1985-01-10 | Akzo Nv | Photopolymerizable composition, photoinitiator mixture and curing process |
EP0053442B2 (en) | 1980-12-03 | 1993-05-19 | Imperial Chemical Industries Plc | Dental compositions |
IL65159A0 (en) * | 1981-03-04 | 1982-05-31 | Ici Plc | Polymerisable dental compositions |
US4801528A (en) * | 1981-05-04 | 1989-01-31 | Dentsply Research & Development Corporation | Dental adhesive system |
USRE35264E (en) * | 1981-05-04 | 1996-06-04 | Dentsply Research & Development Corp. | Dental adhesive system |
DE3136484A1 (de) * | 1981-09-15 | 1983-03-31 | Kulzer & Co Gmbh, 6380 Bad Homburg | "verfahren zur photopolymerisation von vinylverbindu ngen und photopolymerisierbares material" |
DE3203096A1 (de) * | 1982-01-30 | 1983-08-04 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Verwendung von hydroxyalkylphenonen als initiatoren fuer die strahlungshaertung waessriger prepolymerdispersionen |
IE54502B1 (en) * | 1982-03-04 | 1989-10-25 | Ici Plc | Photopolymerisable compositions |
DE3212379A1 (de) * | 1982-04-02 | 1983-10-20 | ESPE Fabrik pharmazeutischer Präparate GmbH, 8031 Seefeld | Geraet zum behandeln von dentalen werkstoffen |
US4500657A (en) * | 1982-08-02 | 1985-02-19 | Johnson & Johnson Dental Products Company | Dental restorative compositions having improved mechanical properties and hydrolytic stability |
DE3332179A1 (de) * | 1982-12-07 | 1984-06-07 | Kulzer & Co GmbH, 6393 Wehrheim | Grundiermasse |
DE3301010A1 (de) * | 1983-01-14 | 1984-07-19 | Kulzer & Co GmbH, 6393 Wehrheim | Verfahren zur photopolymerisation von vinylverbindungen und photopolymerisierbares material |
DE3301012A1 (de) * | 1983-01-14 | 1984-07-19 | Kulzer & Co GmbH, 6393 Wehrheim | Verfahren zur photopolymerisation von vinylverbindungen und photopolymerisierbares material |
DE3301011A1 (de) * | 1983-01-14 | 1984-07-19 | Kulzer & Co GmbH, 6393 Wehrheim | Verfahren zur photopolymerisation von vinylverbindungen und photopolymerisierbares material (ii) |
US4512340A (en) * | 1983-02-22 | 1985-04-23 | Johnson & Johnson Products, Inc. | Visible light cured orthopedic polymer casts |
US4615665A (en) * | 1983-05-06 | 1986-10-07 | Dentsply International Inc. | Method for making dental prosthetic device with oxygen barrier layer and visible light irradiation to cure polymer |
US4563438A (en) * | 1983-05-06 | 1986-01-07 | Ciba Geigy Corporation | Liquid mixture of photoinitiators |
US4544467A (en) * | 1983-06-28 | 1985-10-01 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Light-curable dentin and enamel adhesive |
US4525256A (en) * | 1983-07-01 | 1985-06-25 | Johnson & Johnson Dental Products Company | Photopolymerizable composition including catalyst comprising diketone plus 4-(N,N-dimethylamino)benzoic acid or ester thereof |
DE3331157A1 (de) * | 1983-08-30 | 1985-03-14 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Photopolymerisierbare mischungen, enthaltend tertiaere amine als photoaktivatoren |
US4551486A (en) * | 1983-11-16 | 1985-11-05 | Dentsply Research & Development Corp. | Interpenetrating polymer network compositions |
US5210109A (en) * | 1983-11-16 | 1993-05-11 | Dentsply Research & Development Corp. | Interpenetrating polymer network compositions employing rubber-modified polymers |
US4863977A (en) * | 1983-11-16 | 1989-09-05 | Dentsply Research & Development Corp. | Process for preparing interpenetrating polymer network objects employing rubber-modified polymers |
US4711913A (en) * | 1983-11-16 | 1987-12-08 | Dentsply International Inc. | Interpenetrating polymer network compositions employing rubber-modified polymers |
US4604295A (en) * | 1983-12-22 | 1986-08-05 | Loctite Corporation | Visible light absorbing peroxy-esters |
JPS60149603A (ja) * | 1984-01-17 | 1985-08-07 | Kuraray Co Ltd | 光重合性の組成物 |
DE3414163A1 (de) * | 1984-04-14 | 1985-10-17 | Kulzer & Co GmbH, 6393 Wehrheim | Photopolymerisierbarer phosphathaltiger dentaler haftvermittler-lack |
DE3414164A1 (de) * | 1984-04-14 | 1985-10-17 | Kulzer & Co GmbH, 6393 Wehrheim | Photopolymerisierbarer dentaler haftvermittler-lack |
DE3414165A1 (de) * | 1984-04-14 | 1985-10-17 | Kulzer & Co GmbH, 6393 Wehrheim | Photopolymerisierbares dentales haftmittel |
NO164303C (no) * | 1984-05-14 | 1990-09-19 | Ici Plc | Oligomer, fremgangsmaate for fremstilling av en slik samt anvendelse av den. |
US4657941A (en) * | 1984-11-29 | 1987-04-14 | Dentsply Research & Development Corp. | Biologically compatible adhesive containing a phosphorus adhesion promoter and a sulfinic accelerator |
NL8403706A (nl) * | 1984-12-06 | 1986-07-01 | Dsm Resins Bv | Fotopolymeriseerbare samenstelling en een fotoinitiatorsysteem. |
JPH0662688B2 (ja) * | 1985-06-25 | 1994-08-17 | 三井石油化学工業株式会社 | 光硬化性組成物 |
US4940645A (en) * | 1985-07-16 | 1990-07-10 | The Mead Corporation | Imaging material employing photosensitive microcapsules containing tertiary amines as coinitiators |
IT1187703B (it) * | 1985-07-23 | 1987-12-23 | Lamberti Fratelli Spa | Benzofenoni sostituiti e loro miscele liquide,atti all'impiego come iniziatori di fotopolimerizzazione |
JPH0662689B2 (ja) * | 1985-07-30 | 1994-08-17 | 三井石油化学工業株式会社 | 光硬化性組成物 |
US5415816A (en) | 1986-01-28 | 1995-05-16 | Q2100, Inc. | Method for the production of plastic lenses |
US5364256A (en) * | 1986-01-28 | 1994-11-15 | Ophthalmic Research Group International, Inc. | Apparatus for the production of plastic lenses |
US6730244B1 (en) | 1986-01-28 | 2004-05-04 | Q2100, Inc. | Plastic lens and method for the production thereof |
US6201037B1 (en) | 1986-01-28 | 2001-03-13 | Ophthalmic Research Group International, Inc. | Plastic lens composition and method for the production thereof |
US5529728A (en) * | 1986-01-28 | 1996-06-25 | Q2100, Inc. | Process for lens curing and coating |
DE3708618A1 (de) * | 1987-03-17 | 1988-09-29 | Kulzer & Co Gmbh | Kunststoff-zahnersatzteil |
DE3710281A1 (de) * | 1987-03-28 | 1988-10-06 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
DE3710282A1 (de) * | 1987-03-28 | 1988-10-13 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
CA1323949C (en) * | 1987-04-02 | 1993-11-02 | Michael C. Palazzotto | Ternary photoinitiator system for addition polymerization |
US4828583A (en) * | 1987-04-02 | 1989-05-09 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Coated abrasive binder containing ternary photoinitiator system |
JPH0669928B2 (ja) * | 1987-10-06 | 1994-09-07 | 宇部興産株式会社 | 光重合性歯科材料 |
DE3738864A1 (de) * | 1987-11-16 | 1989-05-24 | Hoechst Ag | Polymerisierbare verbindungen und diese enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch |
DE3743454A1 (de) * | 1987-12-22 | 1989-07-06 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
DE3743455A1 (de) * | 1987-12-22 | 1989-07-06 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
DE3743457A1 (de) * | 1987-12-22 | 1989-07-06 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
US4892478A (en) * | 1988-03-21 | 1990-01-09 | Dentsply Research & Development Corp. | Method of preparing dental appliances |
DE3824903A1 (de) * | 1988-07-22 | 1990-02-01 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
DE3832032A1 (de) * | 1988-09-21 | 1990-03-22 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
US5254602A (en) * | 1988-10-01 | 1993-10-19 | Nippon Oil & Fats Co., Ltd. | Curability-imparting composition, method for curing with said composition, and method for production of glass fiber-reinforced plastic |
WO1990004211A1 (en) * | 1988-10-11 | 1990-04-19 | Desoto, Inc. | Synergistic initiator compositions for the visible light fabrication and postcure of stereolithographic objects |
US6490730B1 (en) | 1989-09-20 | 2002-12-10 | Robert M. Lyden | Shin-guard, helmet, and articles of protective equipment including light cure material |
GB2237023B (en) * | 1989-10-06 | 1993-09-29 | Toa Gosei Chem Ind | A catalytic composition for photopolymerization and a photopolymerizable composition containing the same |
ATE88337T1 (de) * | 1989-10-19 | 1993-05-15 | Heraeus Kulzer Gmbh | Dentales haftmittel. |
US5709548A (en) * | 1990-02-23 | 1998-01-20 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Dental crown liner composition and methods of preparing provisional applications |
EP0443269B1 (en) * | 1990-02-23 | 1993-10-27 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Semi-thermoplastic molding composition having heat-stable custom shape memory |
US5066231A (en) * | 1990-02-23 | 1991-11-19 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Dental impression process using polycaprolactone molding composition |
DE4007428A1 (de) * | 1990-03-09 | 1991-09-12 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
US5514521A (en) * | 1990-08-22 | 1996-05-07 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Photocurable composition |
DK0486775T3 (da) * | 1990-11-17 | 1995-03-13 | Heraeus Kulzer Gmbh | Polymeriserbart dentalmateriale |
US5362769A (en) * | 1992-05-07 | 1994-11-08 | Ormco Corporation | Orthodontic adhesives |
US5865471A (en) | 1993-08-05 | 1999-02-02 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photo-erasable data processing forms |
US6211383B1 (en) | 1993-08-05 | 2001-04-03 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Nohr-McDonald elimination reaction |
US5721287A (en) | 1993-08-05 | 1998-02-24 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Method of mutating a colorant by irradiation |
US5773182A (en) | 1993-08-05 | 1998-06-30 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Method of light stabilizing a colorant |
US5733693A (en) | 1993-08-05 | 1998-03-31 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Method for improving the readability of data processing forms |
US5681380A (en) | 1995-06-05 | 1997-10-28 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Ink for ink jet printers |
US6017471A (en) | 1993-08-05 | 2000-01-25 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorants and colorant modifiers |
US6017661A (en) | 1994-11-09 | 2000-01-25 | Kimberly-Clark Corporation | Temporary marking using photoerasable colorants |
US5645964A (en) | 1993-08-05 | 1997-07-08 | Kimberly-Clark Corporation | Digital information recording media and method of using same |
US6033465A (en) | 1995-06-28 | 2000-03-07 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorants and colorant modifiers |
US5514214A (en) * | 1993-09-20 | 1996-05-07 | Q2100, Inc. | Eyeglass lens and mold spin coater |
TW414713B (en) * | 1994-05-12 | 2000-12-11 | Dentsply Gmbh | Fluoride releasing liquid dental primer product and method |
US6071979A (en) | 1994-06-30 | 2000-06-06 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photoreactor composition method of generating a reactive species and applications therefor |
US6242057B1 (en) | 1994-06-30 | 2001-06-05 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photoreactor composition and applications therefor |
US5685754A (en) | 1994-06-30 | 1997-11-11 | Kimberly-Clark Corporation | Method of generating a reactive species and polymer coating applications therefor |
US6008268A (en) | 1994-10-21 | 1999-12-28 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photoreactor composition, method of generating a reactive species, and applications therefor |
DE4446033C2 (de) * | 1994-12-23 | 1996-11-07 | Heraeus Kulzer Gmbh | Polymerisierbares Dentalmaterial |
US5786132A (en) | 1995-06-05 | 1998-07-28 | Kimberly-Clark Corporation | Pre-dyes, mutable dye compositions, and methods of developing a color |
ATE195815T1 (de) | 1995-06-05 | 2000-09-15 | Kimberly Clark Co | Farbstoffvorläufer und diese enthaltende zusammensetzungen |
US6099628A (en) | 1996-03-29 | 2000-08-08 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorant stabilizers |
JPH10513502A (ja) | 1995-11-28 | 1998-12-22 | キンバリー クラーク ワールドワイド インコーポレイテッド | 改良された着色剤安定剤 |
US5782963A (en) | 1996-03-29 | 1998-07-21 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorant stabilizers |
US5855655A (en) | 1996-03-29 | 1999-01-05 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorant stabilizers |
US5891229A (en) | 1996-03-29 | 1999-04-06 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorant stabilizers |
US6022498A (en) * | 1996-04-19 | 2000-02-08 | Q2100, Inc. | Methods for eyeglass lens curing using ultraviolet light |
DE19615763C2 (de) * | 1996-04-20 | 1999-10-28 | Heraeus Kulzer Gmbh & Co Kg | Füllstoff auf Siliciumdioxid-Basis, Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung |
US6280171B1 (en) | 1996-06-14 | 2001-08-28 | Q2100, Inc. | El apparatus for eyeglass lens curing using ultraviolet light |
JP3843154B2 (ja) * | 1996-09-25 | 2006-11-08 | 関西ペイント株式会社 | 光重合性組成物 |
US5891931A (en) * | 1997-08-07 | 1999-04-06 | Alcon Laboratories, Inc. | Method of preparing foldable high refractive index acrylic ophthalmic device materials |
US6524379B2 (en) | 1997-08-15 | 2003-02-25 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorants, colorant stabilizers, ink compositions, and improved methods of making the same |
DE19736471A1 (de) * | 1997-08-21 | 1999-02-25 | Espe Dental Ag | Lichtinduziert kationisch härtende Zusammensetzungen und deren Verwendung |
CA2298468A1 (en) | 1998-06-03 | 1999-12-09 | John Gavin Macdonald | Novel photoinitiators and applications therefor |
CA2298615C (en) | 1998-06-03 | 2009-03-31 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Neonanoplasts produced by microemulsion technology and inks for ink jet printing |
US6187836B1 (en) * | 1998-06-05 | 2001-02-13 | 3M Innovative Properties Company | Compositions featuring cationically active and free radically active functional groups, and methods for polymerizing such compositions |
WO2000004104A1 (en) | 1998-07-20 | 2000-01-27 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Improved ink jet ink compositions |
JP2003533548A (ja) | 1998-09-28 | 2003-11-11 | キンバリー クラーク ワールドワイド インコーポレイテッド | 光重合開始剤であるキノイド基を含むキレート |
ES2195869T3 (es) | 1999-01-19 | 2003-12-16 | Kimberly Clark Co | Nuevos colorantes, estabilizantes de colorantes, compuestos de tinta y metodos mejorados para su fabricacion. |
US6331056B1 (en) | 1999-02-25 | 2001-12-18 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Printing apparatus and applications therefor |
US6294698B1 (en) | 1999-04-16 | 2001-09-25 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photoinitiators and applications therefor |
US6368395B1 (en) | 1999-05-24 | 2002-04-09 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Subphthalocyanine colorants, ink compositions, and method of making the same |
US6376590B2 (en) | 1999-10-28 | 2002-04-23 | 3M Innovative Properties Company | Zirconia sol, process of making and composite material |
US6572693B1 (en) | 1999-10-28 | 2003-06-03 | 3M Innovative Properties Company | Aesthetic dental materials |
US6730156B1 (en) | 1999-10-28 | 2004-05-04 | 3M Innovative Properties Company | Clustered particle dental fillers |
US6387981B1 (en) | 1999-10-28 | 2002-05-14 | 3M Innovative Properties Company | Radiopaque dental materials with nano-sized particles |
EP1586294B2 (en) * | 1999-10-28 | 2016-02-17 | 3M Innovative Properties Company | Nano-sized silica particles in a dry powder form |
US6444725B1 (en) | 2000-01-21 | 2002-09-03 | 3M Innovative Properties Company | Color-changing dental compositions |
US6681403B2 (en) | 2000-03-13 | 2004-01-27 | Robert M. Lyden | Shin-guard, helmet, and articles of protective equipment including light cure material |
DE60029015T2 (de) * | 2000-04-03 | 2007-06-28 | 3M Innovative Properties Co., Saint Paul | Dentalmaterialien mit verlängerter verarbeitungszeit, kits und verfahren |
KR100772772B1 (ko) | 2000-06-19 | 2007-11-01 | 킴벌리-클라크 월드와이드, 인크. | 신규한 광개시제 및 그의 용도 |
US6528555B1 (en) | 2000-10-12 | 2003-03-04 | 3M Innovative Properties Company | Adhesive for use in the oral environment having color-changing capabilities |
US6613812B2 (en) | 2001-01-03 | 2003-09-02 | 3M Innovative Properties Company | Dental material including fatty acid, dimer thereof, or trimer thereof |
CN100415198C (zh) * | 2001-08-15 | 2008-09-03 | 3M创新有限公司 | 可硬化的自支撑结构和方法 |
JP4748938B2 (ja) * | 2002-01-31 | 2011-08-17 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 歯科ペースト、歯科物品、および方法 |
US20080103222A1 (en) * | 2002-04-26 | 2008-05-01 | Albemarle Corporation | New Class of Amine Coinitiators in Photoinitiated Polymerizations |
CN1305911C (zh) * | 2002-04-26 | 2007-03-21 | 雅宝公司 | 一种光引发聚合中的新型胺共引发剂 |
US7091259B2 (en) * | 2002-07-03 | 2006-08-15 | 3M Innovative Properties Company | Dental fillers, pastes, and compositions prepared therefrom |
US7025791B2 (en) * | 2002-12-02 | 2006-04-11 | Gi Dynamics, Inc. | Bariatric sleeve |
US20040185013A1 (en) * | 2003-01-30 | 2004-09-23 | Burgio Paul A. | Dental whitening compositions and methods |
US20040151691A1 (en) * | 2003-01-30 | 2004-08-05 | Oxman Joel D. | Hardenable thermally responsive compositions |
US7223826B2 (en) * | 2003-01-30 | 2007-05-29 | 3M Innovative Properties Company | Amide-functional polymers, compositions, and methods |
US6984261B2 (en) | 2003-02-05 | 2006-01-10 | 3M Innovative Properties Company | Use of ceramics in dental and orthodontic applications |
US20060293404A1 (en) * | 2003-04-24 | 2006-12-28 | Santobianco John G | New class of amine coinitiators in photoinitiated polymerizations |
KR100756325B1 (ko) | 2003-05-23 | 2007-09-06 | 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤 | (메트)아크릴산에스테르 화합물 및 그 용도 |
US20050042576A1 (en) * | 2003-08-19 | 2005-02-24 | Oxman Joel D. | Dental article forms and methods |
US20050040551A1 (en) * | 2003-08-19 | 2005-02-24 | Biegler Robert M. | Hardenable dental article and method of manufacturing the same |
US20050042577A1 (en) * | 2003-08-19 | 2005-02-24 | Kvitrud James R. | Dental crown forms and methods |
US7553670B2 (en) * | 2004-04-28 | 2009-06-30 | 3M Innovative Properties Company | Method for monitoring a polymerization in a three-dimensional sample |
DE602005015333D1 (de) | 2004-07-14 | 2009-08-20 | 3M Innovative Properties Co | Dentalzusammensetzungen mit carbosilanpolymere |
AU2005275246B2 (en) * | 2004-07-14 | 2011-10-06 | 3M Deutschland Gmbh | Dental compositions containing carbosilane monomers |
EP1749513B1 (de) | 2005-08-01 | 2009-03-04 | Ivoclar Vivadent AG | Photopolymerisierbare Dentalmaterialien mit Bisacylphosphinoxiden als Initiator |
JP2009522003A (ja) * | 2005-12-29 | 2009-06-11 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 発泡性歯科用組成物及び方法 |
US7803850B2 (en) | 2006-03-13 | 2010-09-28 | Kabushiki Kaisha Shofu | Camphorquinone derivative having acylphosphine oxide group, photopolymerization initiator and photo/chemical polymerization initiator containing the same and hardenable composition containing the same |
EP1905415B1 (de) | 2006-09-27 | 2009-07-01 | Ivoclar Vivadent AG | Polymerisierbare Zusammensetzungen mit Acylgermanium-Verbindungen als Initiatoren |
DE102006050153A1 (de) | 2006-10-25 | 2008-05-08 | Ivoclar Vivadent Ag | Mikroverkapselte Photoinitiatoren und deren Verwendung für Dentalmaterialien |
CN101610749B (zh) * | 2006-12-28 | 2013-01-02 | 3M创新有限公司 | 牙科填料及方法 |
AU2008206045A1 (en) * | 2007-01-19 | 2008-07-24 | Ardea Biosciences, Inc. | Inhibitors of MEK |
EP2008636A1 (en) * | 2007-06-29 | 2008-12-31 | 3M Innovative Properties Company | Dental composition containing a polyfunctional (meth)acrylate comprising urethane, urea or amide groups, method of production and use thereof |
EP2042486A1 (en) * | 2007-09-26 | 2009-04-01 | 3M Innovative Properties Company | Methacrylate Based Monomers containing a Urethane Linkage, Process for Production and Use thereof |
JP5461415B2 (ja) * | 2007-11-01 | 2014-04-02 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 歯科用組成物及び色安定アミン電子供与体を有する開始剤系 |
JP5702044B2 (ja) | 2008-03-04 | 2015-04-15 | 株式会社松風 | モノマーによって色調変化を抑えた光硬化性歯科用組成物 |
JP5203749B2 (ja) | 2008-03-04 | 2013-06-05 | 株式会社松風 | 硬化前後における色調変化の少ない光重合性歯科用組成物 |
EP2103297B1 (de) | 2008-03-20 | 2012-05-16 | Ivoclar Vivadent AG | Polymerisierbare Zusammensetzung mit mehrere Germanium-Atome enthaltenden Initiatoren |
KR101441998B1 (ko) * | 2008-04-25 | 2014-09-18 | 후지필름 가부시키가이샤 | 중합성 조성물, 차광성 컬러필터, 흑색 경화성 조성물, 고체촬상소자용 차광성 컬러필터와 그 제조 방법, 및 고체촬상소자 |
DE102008047006A1 (de) | 2008-09-12 | 2010-03-25 | Heinrich-Heine-Universität Düsseldorf | Lichthärtende Zusammensetzungen |
WO2010067790A1 (ja) * | 2008-12-11 | 2010-06-17 | 株式会社トクヤマデンタル | デュアルキュア型硬化材料キット |
EP2401998A1 (en) | 2010-07-02 | 2012-01-04 | 3M Innovative Properties Company | Dental composition, kit of parts and use thereof |
EP2481390A1 (en) | 2011-01-31 | 2012-08-01 | 3M Innovative Properties Company | Dental composition, method of producing and use thereof |
WO2012112321A2 (en) | 2011-02-15 | 2012-08-23 | 3M Innovative Properties Company | Dental compositions comprising mixture of isocyanurate monomer and tricyclodecane monomer |
WO2013023138A1 (en) | 2011-08-11 | 2013-02-14 | 3M Innovative Properties Company | Dental composition, method of producing and use thereof |
EP2785307B1 (en) | 2011-12-01 | 2019-06-26 | 3M Innovative Properties Company | One component self-adhesive dental composition, process of production and use thereof |
US20140302251A1 (en) | 2013-03-15 | 2014-10-09 | The Sherwin-Williams Company | Radiation polymerizable abrasion resistant aqueous coatings |
EP3043766B1 (en) | 2013-09-09 | 2023-07-19 | 3M Innovative Properties Company | Dental composition containing polyoxometalates, process of production and use thereof |
JP6599346B2 (ja) | 2014-02-18 | 2019-10-30 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 歯科用組成物及びその使用 |
WO2015126666A1 (en) | 2014-02-18 | 2015-08-27 | 3M Innovative Properties Company | Dental composition and use thereof |
WO2015126865A1 (en) | 2014-02-18 | 2015-08-27 | 3M Innovative Properties Company | Adhesive bonding composition and use thereof |
EP3152261B8 (en) | 2014-06-05 | 2018-12-26 | Swimc Llc | Radiation polymerizable waterborne soft-feel coatings |
WO2015191436A1 (en) | 2014-06-13 | 2015-12-17 | 3M Innovative Properties Company | Curable compositions and methods for isolating a working area |
EP3212153A1 (en) | 2014-10-31 | 2017-09-06 | 3M Innovative Properties Company | Dental materials and methods |
US10350297B2 (en) | 2014-10-31 | 2019-07-16 | 3M Innovative Properties Company | Dental materials and methods |
EP3150641B1 (de) | 2015-09-29 | 2018-08-29 | Ivoclar Vivadent AG | Acylgermanium-photoinitiatoren und verfahren zu deren herstellung |
EP3293215B1 (de) | 2016-09-07 | 2020-10-21 | Ivoclar Vivadent AG | Polymerisierbare zusammensetzungen mit acylzinn-photoinitiatoren |
JP6942888B2 (ja) | 2017-11-08 | 2021-09-29 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 高弾性率の歯科用組成物 |
EP3868767B1 (de) | 2020-02-21 | 2022-01-05 | Ivoclar Vivadent AG | Langwellig absorbierende photoinitiatoren |
WO2022112886A1 (en) | 2020-11-25 | 2022-06-02 | 3M Innovative Properties Company | Curable dental compositions and uses thereof |
US20240122815A1 (en) | 2021-03-17 | 2024-04-18 | 3M Innovative Properties Company | Polymerizable 4,4'-spirobi[chromane]-2,2'-diones and curable compositions including the same |
EP4257592A1 (en) | 2022-04-08 | 2023-10-11 | Evonik Operations GmbH | Bisacyl digermanium compounds, their preparation and their use as photoinitiator for radical polymerization |
Family Cites Families (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA828150A (en) * | 1969-11-25 | B. Rust John | Photopolymers and the process of making same | |
BE465271A (no) * | 1941-12-31 | 1900-01-01 | ||
US2548685A (en) * | 1946-12-21 | 1951-04-10 | Alexander H Kerr & Co Inc | Photopolymerization process and compositions |
NL227834A (no) * | 1957-05-17 | |||
GB1090142A (en) * | 1965-02-26 | 1967-11-08 | Agfa Gevaert Nv | Photochemical insolubilisation of polymers |
US3418118A (en) | 1965-06-03 | 1968-12-24 | Du Pont | Photographic processes and products |
US3495987A (en) * | 1965-09-03 | 1970-02-17 | Du Pont | Photopolymerizable products |
US3558387A (en) * | 1966-06-10 | 1971-01-26 | Sun Chemical Corp | Radiation-curable compositions |
DE1694930A1 (de) * | 1966-06-10 | 1971-10-21 | Sun Chemical Corp | Photopolymerisierbare Massen |
US3551246A (en) * | 1967-07-10 | 1970-12-29 | Sun Chemical Corp | Radiation curable compositions |
US3839171A (en) * | 1968-02-15 | 1974-10-01 | Asahi Chemical Ind | Unsaturated polyesters and laminates thereof |
DE1769854C3 (de) * | 1968-07-26 | 1982-08-19 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Photoinitiatoren und Verfahren zur Photopolymerisation |
US3759807A (en) * | 1969-01-28 | 1973-09-18 | Union Carbide Corp | Photopolymerization process using combination of organic carbonyls and amines |
CA935398A (en) * | 1969-01-28 | 1973-10-16 | L. Osborn Claiborn | Crosslinking process |
JPS4818563B1 (no) * | 1969-03-07 | 1973-06-07 | ||
BE759041A (fr) * | 1969-11-18 | 1971-05-17 | Du Pont | Compositions photopolymerisables contenant des aminophenylcetones et des adjuvants |
US3699022A (en) * | 1970-02-05 | 1972-10-17 | Reichhold Albert Chemie Ag | Photopolymerizable unsaturated polyesters containing benzoin-ether,organic acid ester,organic phosphine initiators |
US3864133A (en) * | 1970-08-11 | 1975-02-04 | Dainippon Ink & Chemicals | Photo-polymerizable compositions |
CA1013743A (en) * | 1972-01-05 | 1977-07-12 | George W. Borden | Acrylated epoxidized soybean oil compositions |
US3729404A (en) * | 1971-09-10 | 1973-04-24 | Grace W R & Co | Photocurable polyene-polythiol polymers using a phosphine plus an additional sensitizer |
JPS5034445B2 (no) * | 1972-02-29 | 1975-11-08 | ||
JPS5021933B2 (no) * | 1972-04-19 | 1975-07-26 |
-
1972
- 1972-03-02 GB GB980772*[A patent/GB1408265A/en not_active Expired
- 1972-10-06 DK DK495272A patent/DK147708C/da not_active IP Right Cessation
- 1972-10-11 BE BE789950D patent/BE789950A/xx not_active IP Right Cessation
- 1972-10-12 NO NO3665/72A patent/NO142915C/no unknown
- 1972-10-13 CA CA153,924A patent/CA984210A/en not_active Expired
- 1972-10-17 IT IT30574/72A patent/IT969627B/it active
- 1972-10-17 FR FR7236748A patent/FR2156760B1/fr not_active Expired
- 1972-10-17 SE SE7213392A patent/SE412396C/sv unknown
- 1972-10-17 CH CH1515372A patent/CH593305A5/xx not_active IP Right Cessation
- 1972-10-18 DE DE2251048A patent/DE2251048C2/de not_active Expired - Lifetime
- 1972-10-18 NL NLAANVRAGE7214074,A patent/NL165570C/xx not_active IP Right Cessation
- 1972-10-18 DE DE2266023A patent/DE2266023C2/de not_active Expired
- 1972-10-18 JP JP10368972A patent/JPS5410986B2/ja not_active Expired
- 1972-10-18 AT AT891072A patent/AT331507B/de not_active IP Right Cessation
- 1972-10-18 ES ES407740A patent/ES407740A1/es not_active Expired
-
1975
- 1975-02-11 US US05549052 patent/US4071424B1/en not_active Expired - Lifetime
-
1978
- 1978-09-28 HK HK574/78A patent/HK57478A/xx unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4071424A (en) | 1978-01-31 |
SE412396C (sv) | 1984-03-08 |
NO142915C (no) | 1980-11-12 |
SE412396B (sv) | 1980-03-03 |
DE2266023C2 (no) | 1989-07-20 |
US4071424B1 (en) | 1995-07-18 |
JPS5410986B2 (no) | 1979-05-11 |
HK57478A (en) | 1978-10-06 |
BE789950A (fr) | 1973-04-11 |
NL7214074A (no) | 1973-04-24 |
ES407740A1 (es) | 1976-02-01 |
DK147708C (da) | 1990-04-09 |
IT969627B (it) | 1974-04-10 |
AT331507B (de) | 1976-08-25 |
JPS4849875A (no) | 1973-07-13 |
CH593305A5 (no) | 1977-11-30 |
DK147708B (da) | 1984-11-19 |
NL165570B (nl) | 1980-11-17 |
GB1408265A (en) | 1975-10-01 |
NL165570C (nl) | 1983-02-16 |
DE2251048C2 (de) | 1993-01-28 |
FR2156760A1 (no) | 1973-06-01 |
ATA891072A (de) | 1975-11-15 |
DE2251048A1 (de) | 1973-05-10 |
CA984210A (en) | 1976-02-24 |
FR2156760B1 (no) | 1979-01-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
NO142915B (no) | Fotopolymeriserbar blanding som omfatter minst en polymeriserbar, etylenisk umettet forbindelse og en fotosensitiv katalysator | |
US4048034A (en) | Photopolymerization using an alpha-aminoacetophenone | |
Shin et al. | Degree of conversion and color stability of the light curing resin with new photoinitiator systems | |
US4089762A (en) | Photopolymerizable compositions | |
US8211613B2 (en) | Photoradical polymerization initiator, radical generator, photosensitive compound and photosensitive resin composition containing these materials and product or its accessory portions using the composition | |
KR0148114B1 (ko) | 부가중합용 3성분 광개시제계 | |
Gencoglu et al. | A Water Soluble, Low Migration, and Visible Light Photoinitiator by Thioxanthone‐Functionalization of Poly (ethylene glycol)‐Containing Poly (β‐amino ester) | |
Mutlu et al. | Thioxanthone–anthracene‐9‐carboxylic acid as radical photoinitiator in the presence of atmospheric air | |
JPS5928569B2 (ja) | 光重合性歯科用材料 | |
US3650927A (en) | Photopolymerization utilizing dye-sensitized sulfones | |
Bibaut‐Renauld et al. | Use of α‐diketones as visible photoinitiators for the photocrosslinking of waterborne latex paints | |
JPS591282B2 (ja) | ヒカリジユウゴウセイソセイブツ | |
Swami | Radiation synthesis of polymeric hydrogels for swelling-controlled drug release studies | |
US3429795A (en) | Photopolymerisation of ethylenically unsaturated organic compounds using a carboxylic dithiocarbamic anhydride as a photoinitiator | |
Xiao et al. | Synthesis and photopolymerization characterization of a novel difunctional photoinitiator | |
US3974052A (en) | Photopolymerizable compositions containing triketone/alcohol adducts as photosensitizers | |
Pouliquen et al. | Polysiloxanes with benzophenone side groups: factors affecting their efficiency as free radical polymerization photoinitiators | |
Georglev et al. | Photopolymerization of 2-(dimethylaminoethyl) methacrylate induced by diacetoxyiodobenzene and bis (trifluoroacetoxy) iodobenzene | |
JP2007169328A (ja) | 光硬化型インキ | |
EP0697025A1 (en) | COMPOSITIONS OF SUBSTANCES | |
Allen et al. | Photochemistry and photoinitiator properties of novel 1-chloro-substituted thioxanthones—II. Influence of 4-oxy and 1-phenylthio substitution | |
NO761006L (no) | ||
CN117586437A (zh) | 一种硫代巴比妥酸结构化合物在制备光引发剂中的应用 | |
JP2022007950A (ja) | 光ラジカル重合性組成物 | |
JP2508134B2 (ja) | 可視光線硬化性ポリエステル樹脂組成物 |