SE412396B - Fotopolymeriserbar komposition - Google Patents

Fotopolymeriserbar komposition

Info

Publication number
SE412396B
SE412396B SE7213392A SE1339272A SE412396B SE 412396 B SE412396 B SE 412396B SE 7213392 A SE7213392 A SE 7213392A SE 1339272 A SE1339272 A SE 1339272A SE 412396 B SE412396 B SE 412396B
Authority
SE
Sweden
Prior art keywords
photosensitizer
composition according
reducing agent
ethylenically unsaturated
parts
Prior art date
Application number
SE7213392A
Other languages
English (en)
Other versions
SE412396C (sv
Inventor
E Dart
J Nemcek
Original Assignee
Ici Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ici Ltd filed Critical Ici Ltd
Publication of SE412396B publication Critical patent/SE412396B/sv
Publication of SE412396C publication Critical patent/SE412396C/sv

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F283/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G
    • C08F283/01Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G on to unsaturated polyesters
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • Y10S430/124Carbonyl compound containing
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S522/00Synthetic resins or natural rubbers -- part of the class 520 series
    • Y10S522/908Dental utility
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S525/00Synthetic resins or natural rubbers -- part of the class 520 series
    • Y10S525/92Polyurethane having terminal ethylenic unsaturation
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S525/00Synthetic resins or natural rubbers -- part of the class 520 series
    • Y10S525/921Polyester having terminal ethylenic unsaturation other than polyesterurethanes

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)

Description

å?21zz92-9 reduktionsmedel har nu påträffats, kombinationer som tillsammans med polymeriserbart, eteniskt omättat material bildar de fotopolymeriser- bara kompositionerna enligt föreliggande uppfinning. Fotosensibilisa- torerna är färglösa, eller på sin höjd svagt färgade, och är sålunda icke några färgämnen. Kompositionerna, innehållande de nya kombina- tionerna av fotosensibilisator och reduktionsmedel, är i allmänhet polymeriserbara i högre grad, och ofta i avsevärt högre grad, än kom- positioner, som innehåller fotosensibilisator, men som icke innehål- ler något reduktionsmedel. Dessutom är de ljuskänsliga katalysatorer- na i kompositionerna enligt föreliggande uppfinning i allmänhet mind- re känsliga för närvaro av syre, än vad fallet är med många av de ljus- känsliga färgämnena och reduktionsmedel som tidigare föreslagits. Så t.ex. reduceras i hög grad, i sådana fall då det polymeriserbara, eteniskt omättade materialet i kompositionen utgöres av en blandning av en eteniskt omättad polyester och en eteniskt omättad monomer samt den ljuskänsliga katalysatorn är en blandning av ett färgämne, t.ex. rose bengal, och ett reduktionsmedel, den polymerisationshastighet, som kan erhållas_vid bestrålning med lämpligt ljus, i närvaro av sy- re. Å andra sidan är, i sådana fall då den ljuskänsliga katalysatorn är en av de nya kombinationerna av fotosensibilisatorer och reduk- tionsmedel enligt föreliggande uppfinning, den polymerisationshastig- het som kan iakttagas i allmänhet på sin höjd endast i ringa mån re- ducerad i närvaro av syre.
Kompositionerna enligt föreliggande uppfinning är stabila i mörker, på sådant sätt att ringa om ens någon polymerisation äger rum om kompositionen får stå under veckor eller t.o.m. under månader i mörker. Polymerisationlav det eteniskt omättade materialet initie- ras endast under inverkan av strålning med lämplig våglängd. 7 I enlighet härmed åstadkommas enligt föreliggande uppfinning en fotopolymeriserbar komposition, innehållande ett polymeriserbart, eteniskt omättat material och en ljuskänslig katalysator, vilken in- nehåller en fotosensibilisator och ett reduktionsmedel som är i stånd att reducera fotosensibilisatorn då denna befinner sig i ett excite- rat tillstånd, varvid det polymeriserbara materialet är en omättad ester eller polyester, en aromatisk vinylförening, en vinylnitril eller en vinyluretan, vilken komposition i huvudsak kännetecknas av att __ (1) fotosensibilisatorn är biacetyl eller har den allmänna formeln .J A-c- x -A u ()n -o 7213392-9 där n är 1 eller O, X är > C=0, > CHOH eller CHOR4, där R4 är al- kyl, och grupperna A, som kan vara lika eller olika, är aromatiska grupper som kan vara substituerade med nitro, halogen eller alkoxi, eller som är bundna tillsammans på annat sätt än medelst -C-.X- 't ( )n 0 -gruppen, eller där grupperna A tillsammans bildar ett kondenserat aromatiskt ringsystem eller en struktur av kamfer-typ, (2) reduktionsmedlet har formeln R | R _ N - R där N är kväve och enheterna R, som kan vara lika eller olika, är väteatomer, hydrokarbylgrupper eller substituerade hydrokarbylgrup- per, eller två enheter R tillsammans med N kan bilda ett cykliskt ringsystem, varvid icke fler än två av enheterna R är väteatomer eller substituerade hydrokarbylgrupper, och där N är bundet direkt till en aromatisk grupp R, varvid minst en av de andra enheterna R har en - é - grupp bunden till N, I H och (3) kompositionen, för varje l00-tal delar eteniskt omättat material, innehåller 0,002-20 delar av den ljuskänsliga katalysatorn, som i sin tur innehåller 0,001-10 delar av fotosensibilisatorn och 0,001-10 delar av reduktionsmedlet.
Polymera material kan framställas genom bestrålning av en fo- topolymeriserbar komposition av ovan närmare beskrivet slag med strål- ning som har en våglängd vilken kan absorberas av fotosensibilisa- torn i och för omvandling av denna till ett exciterat tillstånd.
Strålningen kan vara synligt ljus eller ultravioletta strå- lar eller också strålar som i sitt spektrum innehåller strålar med både synliga och ultravioletta våglängder. Lämpligen kan strålningen ha en våglängd inom området 230 mp till 600 mp. Solljus kan användas som strâlningskälla, även om våglängden för den strålning som skall användas kommer att bestämas av den speciella fotosensibilisatorn i kompositionen, varvid strålningen har sådan våglängd, att den kan absorberas av fotosensibilisatorn för att omvandla denna till Étt 7213392-9 exciterat tillstånd. En lämplig våglängd kan väljas med ledning av enkla försök, t.ex. genom mätning av fotosensibilisatorns elektron- absorptionsspektrum. 7 Grupperna A kan vara lika eller olika, men av lämplighetsskäl är, vid framställningen av fotosensibilisatorn, grupperna A företrä- desvis lika. Företrädesvis har gruppen X strukturen > C=O.
Då A är en aromatisk grupp kan den vara en bensenoid aroma- tisk grupp, t.ex. en fenylgrupp, eller också kan den vara en non-ben- senoid cyklisk grupp, vilken är känd på området för att vara i besitt- pning av samma egenskaper som kännetecknar en bensenoid aromatisk grupp.
Särskilt föredragna fotosensibilisatorer är, på grund av de höga.hastmflæmer, varmed det eteniskt omättade materialet kan polymeri- seras, d-diketoner med strukturen I, där X är > C=O och n är l. I all- mänhet kan a-diketonerna exciteras genom bestrâlning inom det synli- ga området av spektrum, dvs med ljus som har en våglängd längre än 400 mp, t.ex. inom vâglängdomrâdet 400 mn - 500 mu, även om också bestrâlning med ultraviolett ljus, eller med en blandning av ultra- Violett ljus och synligt ljus, kan användas. Lämpliga a-diketon-foto- sensibilisatorer inkluderar benzil, där båda grupperna A är fenyl, a-diketoner, i vilka båda grupperna A är kondenserade aromatiska, = t.ex. a-naftil och B-naftil, samt a-diketoner, i vilka grupperna A är aralkylgrupper, t.ex. p-tolil. Som ett exempel på en lämplig a-dike- ton-fotosensibilisator, i vilken grupperna A är non-bensenoid-aroma- tiska, kan nämnas furil, där grupperna A har strukturen I o \.
A bära icke-hydrokarbylgrupper, varvid fotosensibilisatorn kan vara t.ex. p,p'-dialkoxibenzil, t.ex. p,p'-dimetoxibenzil, eller p,p'-di- halobenzil, t.ex. p,p'-diklorbenzil, eller p-nitrobenzil.
I fotosensibilisatorn med strukturen I kan n vara 0. Ett [: 3, t.ex. 2,2Lfuril. I a-diketon-fotosensibilisatorn kan grupperna exempel på en sådan fotosensibilisator är bensofenon, där båda grup- perna A är fenyl.
Andra lämpliga. fotosensibilisatorer inkluderar sådana i vil- ka n är l och X är > CHOH eller > CHOR4. Så t.ex. kan fotosensibilisa- torn vara bensoin, en alkylbensoin, i vilken R4 är t.ex. metyl, a- naftoin och B-naftoin, där båda grupperna A är kondenserade aromatis- ka, p,p'-dialkoxibensoin, t.ex. p,p'-dimetoxibensoin, och p,p'-di- halobensoin, t.ex. p,p'-diklorobensoin, där grupperna A bär icke-hyd- rokarbylgrupper, samt furoin, där grupperna A är non-bensenoid-aroma- tiska och har strukturen J 5 1213392-9 [Og , t.ex. 2,2'-furoin.
I fotosensibilisatorn kan grupperna A vara bundna tillsammans genom en direkt bindning för att bilda ett cykliskt ringsystem, t.ex. fluorenon eller fenantrakinon. Grupperna A kan också bilda en struk- tur av kamfer-typ, såsom i kamferkinon, eller ett kondenserat aroma- tiskt ringsystem, t.ex. acenaftenkinon.
Lämpligen är fotosensibilisatorn närvarande i en koncentra- tion av 0,1-7 viktprocent, företrädesvis 0,5-5 viktprocent, räknat på det eteniskt omättade materialet i kompositionen.
R Det reduktionsmedel med strukturen R-à-R, som är närvarande i den fotopolymeriserbara kompositionen, skall ha en reduktionspotential av sådant slag, att det är i stånd att reducera fotosensibilisatorn då denna befinner sig i ett excite- rat tillstånd, även om det icke har förmåga att reducera fotosensibi- lisatorn då denna icke är exciterad genom bestrålning. Vidare är det troligt att reduktionsmedlet. då det oxiderats av den exciterade fo- tosensibilisatorn, måste kunna initiera polymerisation av det eteniskt omättade materialet. Reduktionsmedlet skaIL vid den koncentration, vid vilken det är närvarande i den fotopolymeriserbara kompositionen, ha ringa eller ingen inhiberande verkan alls på polymerisationen som sådan. Huruvida ett reduktionsmedel har inhiberande inverkan el- ler ej kan bestämmas med hjälp av enkla försök, t.ex. genom att poly- merisation av det eteniskt omättade materialet genomföres med hjälp av en värmeinitiator i närvaro av, och i frånvaro av, ett reduktions- medel i den önskade koncentrationen och genom jämförelse av polymeri- sationshastigheterna i närvaro och frånvaro av reduktionsmedlet.
R Företrädesvis är reduktionsmedlet med strukturen R-É-R fritt från aromatiska grupper bundna direkt till grundämnet N.
Reduktionsmeglet kan vara primärt, sekundärt eller tertiärt, dvs i strukturen R-É-R kan två, en resp. ingen av enheterna R vara väteatomer. Så t.ex. kan reduktionsmedlet vara en primär, sekundär eller tertiär amin. _ En eller flera av grupperna R kan vara hydrokarbyl. Hydrokar- bylgruppen kan vara t.ex. alkyl, cykloalkyl eller alkaryl. Lämpligen kan gruppen R vara en alkylgrupp med l-10 kolatomer.
Exempel på lämpliga reduktionsmedel, i vilka en eller flera av enheterna R är hydrokarbyl, inkluderar propylamin, n-butylamin, pentylamin, hexylamin, dimetylamin, dietylamin, dipropylamin,_§i-n- '7213392-9 -butylamin, dipentylamin, trimetylamin, trietylamin, tripropylamin, tri-n-butylamin, tripentylamin, dimetylaminoetylmetakrylat, och lång- kedjiga alifatiska aminer, t.ex. Cl8H37NMe2. Exempel på reduktions- medel, innehållande aromatiska grupper, inkluderar N,N'-dimetylanilin och N-metyldifenylamin.
En eller flera av enheterna R kan vara en substituerad hydro- karbylgrupp och isynnerhet kan hydrokarbylgruppen bära en substituent R som har strukturen - RS - N: 6 , där enheten RS är t.ex. en alkylen- R 6 kedja samt enheterna R6, som kan vara lika eller olika, är t.ex. vä- teatomer eller hydrokarbylgrupper. R Exempel pâ reduktionsmedel med strukturen R-É-R, där minst en av enheterna R är en substituerad hydrokarbylgrupp, inkluderar diami- ner med strukturen N - (CK2)n - N::R6 , där n är ett helt tal med ett värde av minst 6 2 och grupperna R6, som kan vara lika eller olika, är väteatomer el- 6\ R: ler hydrokarbylgrupper, isynnerhet alkylgrupper. Så t.ex. kan reduk- tionsmedlet vara etylendiamin, trimetylendiamin, tetrametylendiamin, pentametylendiamin eller hexametylendiamin, eller N-hydrokarbylderi- vat, och då isynnerhet N-alkylderivat, därav. Andra lämpliga reduk- tionsmedel inkluderar derivat med strukturen t R6\ / Rs /,N - (CH2)n - N\_ , där en eller flera av väteatomerna i -CH2- R R 6 6 . /Ra . ' enheten bär en - N -gruPP: isynnerhet en -NH -grupp.
\R _ 2 6 Exempel på reduktionsmedel, i vilka grundämnet N bildar del av ett cykliskt ringsystem, inkluderar piperidin samt N-hydrokarbyl- derivat, isynnerhet N-alkylderivat, av piperidin.
Andra reduktionsmedel inkluderar triallylamin, (allyl)2-N-CH2-<::>-CH2-N-(allyl)2, allyltiourea, o-tolyltiourea, och lösliga salter av aromatiska sulfinsyror, t.ex. S-bensyliso-tiu- ronium~p-toluensulfinat.
Företrädesvis är reduktionsmedlet närvarande i en koncentra- tion av l-5 viktprocent, räknat på det eteniskt omättade materialet i den fotopolymeriserbara kompositionen.
I sådana fall då en eller flera av grupperna R i reduktions- 7 7213392-9 medlet R-N-R är aromatiskt är det att föredraga att ha en koncentra- I R tion av reduktionsmedel i den fotopolymeriserbara kompositionen inom området 0,01-0,5 viktprocent, räknat på det eteniskt omättade materia- let i kompositionen, detta på grund av de höga polymerisationshastig- heter, som kan erhållas då reduktionsmedlet är närvarande i en mängd inom detta koncentrationsområde.
Det är önskvärt att fotosensibilisatorn och reduktionsmedlet är lösliga i det eteniskt omättade materialet, åtminstone i en omfatt- ning som är tillräcklig för att ge den önskade koncentrationen däri. Även om polymerisation kommer att fortskrida då fotosensibilisatorn och reduktionsmedlet icke är fullständigt lösliga, är det avgjort att föredraga, att fotosensibilisatorn och reduktionsmedlet tillsam- mans är fullständigt lösliga i det eteniskt omättade materialet i önskad omfattning.
Sättet för hopblandning av fotosensibilisatorn och reduktions- medlet med det eteniskt omättade materialet kan påverka framgången eller inverka på annat sätt vad gäller att uppnå de önskade koncent- rationerna av fotosensibilisator och reduktionsmedel däri.
Sålunda har det visat sig, i sådana fall då fotosensibilisa- torn eller reduktionsmedlet icke är tillräckligt löslig(t) i det ete- niskt omättade materialet, eller i sådana fall då den ena eller den andra av dessa komponenter kan lösas endast med svårighet, att upp- lösning av fotosensibilisatorn och/eller reduktionsmedlet kan befräm- jas genom att det eteniskt omättade materialet försättas med en liten mängd av ett utspädningsmedel, i vilket fotosensibilisatorn eller reduktionsmedlet är löslig(t) och som är blandbart med det eteniskt omättade materialet. Lämpligen kan fotosensibilisatorn eller reduk- tionsmedlet införas i det eteniskt omättade materialet i form av en lösning i ett sådant utspädningsmedel.
Fotosensibilisatorn och reduktionsmedlet kan lösas i samma sats av ett lämpligt utspädningsmedel och därefter sättas till det eteniskt omättade materialet. Alternativt kan fotosensibilisatorn och reduktionsmedlet lösas i olika satser av samma eller av olika utspäd- ningsmedel och sättas till det eteniskt omättade materialet. Sättet för tillsättning av lösningsmedlet eller lösningsmedlen och mängder- na därav som skall användas kan lätt bestämmas av en fackman på om- rådet.
I allmänhet fortskrider polymerisation av det eteniskt omät- Lade materialet lätt vid omgivningens temperatur, då kompositignen -7213392-9 bestrålas med strålar som har en våglängd vilken omvandlar fotosen- sibilisatorn till ett exciterat tillstånd. Polymerisationshastigheten kan emellertid i allmänhet ökas genom att polymerisationen genomföras vid en temperatur högre än omgivningens.
Vinylestrar, lämpliga att använda vid förfarandet enligt före- liggande uppfinning, inkluderar t.ex. vinylacetat och estrar av akryl syra med strukturen CH2 = CH - COOR7, där R7 är en alkyl-, aryl-, alkaryl-, aralkyl- eller cykloalkylgrupp. Som exempel kan nämnas, att R7 kan vara en alkylgrupp med l-20 och företrädesvis l-l0 kolatomer.
Speciella vinylestrar som kan nämnas inkluderar t.ex. metylakrylat, etylakrylat, n- och iso-propylakrylater samt n-, iso- och tert.-buty1- akrylater. ' Andra lämpliga vinylestrar inkluderar t.ex. estrar med formeln CH2 = C(R8IC00R7, där R8 är metyl. I estern med formeln CH2 = = C(R8)C0OR7 kan R7 och R8 vara lika eller olika. Särskilda vinyl- estrar som kan nämnas i samanhanget inkluderar t.ex. metylmetakry- lat, etylmetakrylat, n- och iso-propylmetakrylat samt n-, iso- och tert.-butylmetakrylat. Lämpliga aromatiska vinylföreningar inkluderar t.ex. styren och derivat därav, t.ex. u-alkylderivat av styren, så- som a-metylstyren, samt vinyltoluen. 7 Andra lämpliga vinylestrar inkluderar hydroxialkylakrylater och.-metakrylater, t.ex. hydroxietylakrylat, hydroxipropylakrylat, hydroxietylmetakrylat och hydroxipropylmetakrylat.
Lämpliga vinylnitriler inkluderar t.ex. akrylnitril och deri- vat därav, t.ex. metakrylnitril.
Det eteniskt omättade materialet kan innehålla minst en ete- niskt omättad polyester, bildad genom kondensation av minst en ete- niskt omättad polykarboxylsyra eller -anhydrid, valfritt i kombina- tion med minst en mättad polykarboxylsyra eller -anhydrid, med minst en polyol. _ _ I sådana fall då den fotopolymeriserbara kompositionen inne- håller en blandning av en eteniskt omättad polyester och en eteniskt omättad monomer kan polyestern och monomeren lämpligen vara närvaran- de i kompositionen i en viktproportion mellan polyester och monomer av 99:l - 1:99, företrädesvis 90:10 - 10:90.
Det har i enlighet med uppfinningen visat sig, att i sådana- fall då det eteniskt omättade materialet i den fotopolymeriserbara kompositionen innehåller en blandning av en eteniskt omättad polyes- Ler och en eteniskt omättad monomer, accelerationen i polymerisations- hastigheten för det eteniskt omättade materialet, som erhållesJgenom '7213392-9 att en viss bestämd koncentration av reduktionsmedel är närvarande i kompositionen, är högre ju lägre syratalet är för den eteniskt omättade polyestern i kompositionen.
Den eteniskt omättade monomeren kan vara, eller kan innehål- la, en polyfunktionell monomer, vars polymerisation leder till bild- ning av förnätade material. Lämpliga polyfunktionella, eteniskt omät- tade monomerer inkluderar t.ex. divinylbensen, glykoldimetakrylat och en reaktionsprodukt av ett hydroxialkylakrylat eller -metakrylat med en isocyanat-ändad addukt av en diol och ett diisocyanat, t.ex. en reaktionsprodukt av hydroxietylmetakrylat och en isocyanat-ändad addukt av 4,4'-difenylmetandiisocyanat och oxipropylerad bisfenol-A.
I sådana fall då det eteniskt omättade materialet är ett fast ämne kan det, i avsikt att framställa en vätskeformig komposition, vara lämpligt att i kompositionen införliva en tillräcklig mängd av ett lämpligt utspädningsmedel. Utspädningsmedlet skall av naturliga skäl ha liten eller ingen inhiberande inverkan på polymerisationen av det eteniskt omättade materialet i kompositionen.
Kompositionerna enligt föreliggande uppfinning är lämpliga för framställning av formade alster av polymera material, t.ex. folier, och är särskilt lämpliga att använda vid framställning av polymera material i form av filmer och då isynnerhet färgskikt. Sålunda bildar kompositionerna enligt uppfinningen, eftersom de är i huvudsak stabi- la på sådant sätt, att ringa eller ingen polymerisation alls av det eteniskt omättade materialet äger rum i frånvaro av bestrâlning, lag- ringsbeständiga kompositioner, som kan formas till en film, t.ex. ett färgskikt, och därefter bringas eller får polymerisera genom in- verkan av ljus, t.ex. genom att filmen utsättes för inverkan av na- turligt ljus, såsom solljus. Då de formas till en film och utsättes för inverkan av ljus polymeriserar kompositionerna snabbt.
De kompositioner som användes vid förfarandet enligt förelig-' gande uppfinning, och detta gäller isynnerhet kompositioner som skall användas vid bildning av förnätade material, särskilt färgskikt, kan också innehålla pigment, som kan vara organiska eller oorganiska.
I sådana fall då kompositionen innehåller ett pigment, skall en fotosensibilisator väljas, som exciteras medelst strålar, som har en våglängd som icke i någon överdriven omfattning absorberas av det pigment som är närvarande i kompositionen. Företrädesvis skall pig- mentet vara transparent för strålar vid den våglängd, som exciterar fotosensibilisatorn. I sådana fall då pigmentet absorberar ultravio- letta strålar, men absorberar ringa eller ingen strålning allsJinom 7213392-9 10 det synliga området av spektrum, är sådana fotosensibilisatorer i kompositionerna enligt föreliggande uppfinning, som exciteras av synligt ljus, t.ex. a-diketonerna, särskilt värdefulla.
Andra tillsatser kan också vara närvarande i de fotopolymeri- serbara kompositionerna, t.ex. antioxidanter och UV-stabilisatorer.
Uppfinningen kommer nu att belysas närmare med hjälp av ne- danstående utföringsexempel, i vilka alla angivna delar avser vikt- delar, för såvitt icke annorlunda särskilt framgår av texten.
Exempel 1 2 delar benzil löstes i 263 delar av en blandning av 38 vikt- procent styren och 62 viktprocent av en omättad polyester, vilken po- lyester hade ett syratal av 41 mg KOH/g och hade framställts genom kondensation av propylenglykol, fumarsyra och isoftalsyra, med ett molförhållande mellan fumarsyra och isoftalsyra av 3:1. Den resulte- rande blandningen hälldes i en kolv av Pyrex-glas, som därefter till- slöts och bestrålades med en blandning av ultraviolett och synligt ljus från åtta 20 W blå fluorescerande lysrör (Atlas). Maximi-emis- sionen var 425 mp. Lysrören var anordnade i en ring och kolven var placerad på ett avstånd av ca 75 m från varje rör.
Efter bestrålning under 20 minuter hade innehållet i kolven gelat i så hög grad, att det icke längre kunde hällas. Detta till- stånd kommer i det följande att kallas gelningspunkten eller gelnings- tiden.
Vid ytterligare försök chargerades kolvar av Pyrex-glas med benzil samt med blandningen av styren och omättad polyester på sam- ma sätt som ovan beskrivts och dessutom med 4 viktdelar reduktions- medel. De gelningstider, som härvid erhölls i närvaro av ett antal olika reduktionsmedel, finns sammanställda i tabell l nedan.
Tabell l Reduktionsmedel Gelningstid Dimetylaminoetylmetakrylat 15 sek. n-butylamin 6 min. di-n-butylamin > ' 3 min, trietylamin _ 35 sek. allyltiourea 2,1 min.
S-bensyl-iso-tiuronium-p-toluensulfinat l min. 72123392-9 ll Exempel 2 Den i exempel l beskrivna proceduren upprepades, med undan- tag av att i ett första experiment, som genomfördes i frånvaro av reduktionsmedel, 4 delar fluorenon användes i stället för benzil, och att i ett andra försök, som genomfördes i närvaro av reduktions- medel, 4 delar dimetylaminoetylmetakrylat användes som reduktions- medel. De gelningstider som härvid erhölls var ca 2 timmar resp. 6 minuter.
Exempel 3 Det i exempel l beskrivna tillvägagångssättet upprepades, med undantag av att i ett första experiment, som genomfördes i frånvaro av reduktionsmedel, 0,1 del fenantrakinon användes i stället för ben- zil, och att i ett andra försök, som genomfördes i närvaro av reduk- tionsmedel, 4 delar dimetylaminoetylmetakrylat användes som reduk- tionsmedel. De gelningstider som härvid kunde konstateras var ca 30 minuter resp. 3 minuter.
Exemoel 4 Det i exempel 3 angivna förfarandet upprepades, med undantag av att 2 delar bensofenon användes i stället för fenantrakinonen och att den ljuskälla som användes var en 250 W mediumtryck-kvicksilver- lampa (Hanovia), varvid kolven var placerad på ett avstånd av 10 cm från lampan.
Gelningstiderna som härvid erhölls var ca 2 timmar resp. 33 minuter.
Exempel 5 Den i exempel 1 beskrivna proceduren upprepades, med undan- tag av att kolven av Pyrex-glas chargerades med 100 delar av en för- ening med strukturen XHNCONHX, där X har strukturen -CH2-O-CH2-CH2- -0COC(CH3)=CH2, och 2 delar benzil. Den gelningstid som kunde konsta- teras vid bestrålning av innehållet i kolven var 25 minuter.
Vid ytterligare två försök upprepades den ovan beskrivna pro- ceduren, med undantag av att kolvarna också beskickades med 4 delar dimetylaminoetylmetakrylat resp. 4 delar allyltiourea. De gelnings- tider som erhölls var 2 minuter 45 sekunder resp. l minut 25 sekun- der.
Exempel 6 Till en lösning av 2 delar benzil och 4 delar dimetylaminoetyl- metakrylat i 263 delar av en blandning av styren och omättad poly- ester av enligt exempel 1 använt slag sattes 3 delar av en l0-vikt- 7213392-9 12 procentig lösning av paraffinvax i toluen. Blandningen göts på en metallplåt och utsattes för inverkan av ljus från två 2 kW högtrycks- kvicksilverlampor. Plåten var placerad på ett avstånd av 10 cm från lamporna. Efter 15 sekundersinverkan av lamporna hade en hård förnä- tad film bildats. _ Ett liknande resultat erhölls då blandningen innehöll 30 de- lar dispergerad titandioxid (rutil).
Exempel 7 2 delar u-naftil och 4 delar dimetylaminoetylmetakrylat lös- tes i 260 delar av en blandning av 38 viktprocent styren och 62 vikt- procent av en omättad polyester av enligt exempel l använt slag. Den resulterande blandningen infördes i en kolv av Pyrex-glas, som däref- ter tillslöts och bestrålades med ljus från åtta 20 W blå fluoresce- rande lysrör (Atlas). Lysrören var anordnade i en ring och kolven var placerad på ett avstånd av ca 75 mm från varje rör.
Efter bestrålning under 2,5 minuter hade innehållet i kolven gelat i sådan grad, att det icke längre kunde hållas.
I jämförelsesyfte upprepades det ovan beskrivna försöket, med undantag av att dimetylaminoetylmetakrylatet utelämnades. I detta fall hade innehållet i kolven icke gelat ens efter bestrålning under 30 minuter.
Exempel 8 Den i exempel 7 beskrivna proceduren upprepades, med undantag av att u-naftilen ersattes med B-naftil.
I närvaro av dimetylaminoetylmetakrylat hade innehållet i kol- ven gelat efter bestrålning under 2 minuter, under det att, för jäm- förelses skull och i frånvaro av dimetylaminoetylmetakrylat, innehål- let i kolven gelade efter bestrålning under 6 minuter.
Exempel 9 Det i exempel 7 beskrivna tillvägagångssättet upprepades, med undantag av att u-naftilen ersattes med p-tolil.
I närvaro av dimetylaminoetylmetakrylat gelade innehållet i kolven efter bestrålning under 15 sekunder, under det att, för jämfö- relses skull och i frånvaro av dimetylaminoetylmetakrylat, innehål- let i kolven icke hade gelat ens efter bestrålning under 30 minuter.
Exempel 10 Vid ett antal försök polymeriserades 100 viktdelar av en bland- ning av 38 viktprocent styren och 62 viktprocent av en omättadJpoly- ester av enligt exempel l använt slag, på liknande sätt som beskrivits 13 7213392-9 i exempel 1, med användning av ett antal olika fotosensibilisatorer och i jämförelsesyfte användes fotosensibilisatorerna antingen ensam- ma eller i närvaro av ett reduktionsmedel. De erhållna resultaten finns sammanställda i nedanstående tabell 2.
Tabell 2 Reduktionsmedel, dime- Fotosensibilisator tylaminoetylmetakrylat Gelnings- viktdelar viktdelar tid Acenaftenkinon 0,2 4 3 min. “ " 0 >l5 min.
B-naftoin 2,0 4 6 min. " " 0 15 min. a-naftoin 2,0 4 2 min. " " 0 7 min.
Benzoin 2,0 4 4 min. " " 0 8 min. 4,4'-diklorbenzil 0,35 4 1 min. " " 0 30 min.
Anisil 2,0 4 l/2 min. “ " 0 >l0 min.
Anisoin 2,0 4 4 min. “ " 0 >l0 min.
Furil 0,3 4 4 min. " " 0 >20 min.
Biacetyl 2,0 4 2 min. " " 0 >l0 min.
Kamferkinon 2,0 4 1/3 min. “ " 0 >20 min.
Exemgel ll Den i exempel l beskrivna arbetsgången följdes med användning, i stället för blandningen av styren och omättad polyester som använ- des enligt exempel 1, av de monomerer och blandningar av monomerer som framgår av nedanstående tabell 3 i där angivna mängder, och med användning i stället för benzilen och de reduktionsmedel som använ- des enligt exempel 1 i där angivna mängder, av de fotosensibilisato- rer och reduktionsmedel, som också framgår av nedanstående tabell 3, i där angivna mängder. 7213392-9 14 Bestrâlningsproceduren och metoden för bestämning av gelnings- tiden var desamma som beskrivits i exempel l.
Tabell 3 lknxxnar, Fbtosensibilisator, Reduktionsnedel, Gelnings- Försök viktdelar , wdktdelar vfldflelar tfld A l N-vinylpyroliden Benzil 2 Allyltiourea 4 5 nün. 7 95 Ghßokünet- akrylat 5 A.2 “ " - l5nün.
B 1 Styren 95 5 Benzil 2 Dinetylaminoetyl- 300 min. _ Divhufllæxsen 5 neuæuydat 4 B 2 " “ - ' >400 nån.
, C l Hetyünetakrylat 95 Benzil 2 tünsmylanánoetyl- 45 min.
Glykolanætalmylat s netakryiat 4 C 2 " " - 120nfin. n 1 “vinyluretan 66,7 Benzil 2 Dinetyiammoetyl- 1 1/3 m.
Hbtyünetakrylat 33,3 netakrylat 4 D 2 “ " - 4 1/4nün.
E l Akrylnitril 95 Benzil 2 Iünetylanfinoetyl- 30 nün.
Glykohdümæakrylat 5 meuflugdat 4 E 2 " " - >90nün.
F 1 Hydroxietyl Biacetyl 2 Dinetylandnetyür 4 1/2 min. nsiakrylat 100 netmuqdat 4 F 2 _ " “ - 7 nån.
F 3 " Benzil 2 Dinemylanünoetyl- 7 min. netæoädat 4 F 4 “ “ - ' . >2o m. x En vinyländad reaktionsprodukt av hydroxietylmetakrylat och en iso- cyanat-ändad addukt av 2 mol 4,4'-difenylmetandiisocyanat och l mol oxipropylerad bisfenol-A med en molekylvikt av ca l040.
Exemgel 12 I avsikt att påvisa stabiliteten hos de fotopolymeriserbara kompositionerna i frånvaro av bestrålning bereddes två lösningar, var och en innehållande 100 viktdelar av en blandning av styren och omättad polyester av enligt exempel l använt slag, 4 viktdelar dime- tylaminoetylmetakrylat samt 2 viktdelar benzil resp. 2 viktdelar fluor- enon.
Lösningarna förvarades separat i mörka, tillslutna flaskor.
Efter förvaring 15 månader öppnades flaskorna. Blandningarna av sty- 15 7213392-9 ren och omättad polyester företedde liten om ens någon förändring i viskositet, vilket utvisade att ringa om ens någon polymerisation ägt rum under förvaringen.
Exempel 13 Eër§ëk_ê På liknande sätt som beskrivits i exempel 1 chargerades fyra kolvar av Pyrex-glas separat med en lösning av 100 viktdelar av en blandning av styren och omättad polyester av enligt exempel 1 använt slag, 4 viktdelar dimetylaminoetylmetakrylat samt med 2, 0,5, 0,1 resp. 0,05 delar benzil.
Kolvarna bestrålades med en blandning av synligt och ultravio- lett ljus (maximiemission 425 mn) från åtta 20 W blå fluorescerande lysrör (Atlas) på liknande sätt som beskrivits i exempel 1.
Gelningstiderna för blandningarna i kolvarna var 20 sekunder, 25 sekunder, 60 sekunder resp. 95 sekunder. §ër§ëë_§ Det ovan beskrivna tillvägagångssättet upprepades, med undan- tag av att de blå fluorescerande lamporna ersattes med åtta 20 W blå lysrör med svart ljus (Atlas). Dessa lysrör sände ut ultraviolett ljus med en maximiemission av 350 um.
Gelningstiderna för blandningarna i kolvarna var 10 minuter, 60 sekunder, 70 sekunder resp. 90 sekunder.
EëE§ëE_§ Det tillvägagångssätt, som beskrivits under "Försök A" ovan, upprepades, med undantag av att de strålar som riktades emot kolvarna först filtrerades genom en l cm tjock, 8-procentig vattenlösning av natriumnitrit i avsikt att filtrera bort de ultravioletta strålarna från det ljus som lysrören utsände.
Gelningstiderna förblev oförändrade.
Exempel 14 Vid två separata försök följdes den i exempel l beskrivna pro- ceduren med användning av 100 delar av en blandning av styren och en omättad polyester, 2 delar benzil och som reduktionsmedel l del 0-tolyltiourea samt 2 delar natriumdietylditiofosfat.
Gelningstiderna var 2 minuter resp. 5 minuter.
Exempel 15 Det i exempel 1 beskrivna tillvägagångssättet följdes med an- vändning av 100 delar av en blandning med ett syratal av 25 mgJKOH/g ~ '7753392-9 16 och innehållande 30 delar styren samt 70 delar av en omättad polyes- ter, framställd genom kondensation av propylenglykol, maleinsyraan- hydrid och isoftalsyra med ett molförhâllande mellan maleinsyraan- hydrid och isoftalsyra av 2;l. Efter bestrâlning under 18 minuter ha- de innehållet i kolven nått gelningspunkten.
Vid ett ytterligare försök upprepades den ovan beskrivna ar- betsgången, med undantag av att blandningen av omättad polyester och styren hade ett syratal av 0,8 mg KOH/g. Den omättade polyestern fram- ställdes på samma sätt som ovan beskrivits, med undantag av att kon- densationsreaktionen genomfördes tills den omättade polyestern hade ett syratal av l0 mg KOH/g och attéflyestern efteråt bringades rea- gera med en glycidylester (Cardula E, Shell Chemical Company) tills en polyester med det önskade syratalet bildats.
Gelningspunkten uppnåddes efter bestrålning under 15 sekunder.
Exempel 16 En målningsfärg-komposition framställdes genom hopblandning av 25 delar titandioxid, 63 delar av en blandning av styren och en omät- tad polyester av i exempel 15 beskrivet slag, varvid blandningen ha- de ett syratal av 0,8 mg KOH/g, 3 delar kiseldioxid, 0,3 delar paraf- 0,35 delar benzil och 0,35 delar dimetylaminoetylmetakrylat.
En våt film med en tjocklek av 0,07-0,08 mm utströks på en plåt och placerades på ett avstånd av 20 cm från två 2 kW högtrycks-kvick- silverlampor. Filmen härdade inom loppet av 2 minuter till en hård icke-klibbande film.
En liknande folie bringades härda genom inverkan av dagsljus; finvax, Vid ett annat experiment följdes den ovan beskrivna proceduren, med undantag av att dessutom 2,5 delar av ett blått pigment (Monolite Fast Blue 3 RS, Imperial Chemical Industries Limited) inblandades i målningsfärg-kompositionen.
Filmen krävde 2,5 minuters bestrålning med de båda 2 kW hög- trycks-kvicksilverlamporna för att härda till en hård icke-klibbande film.
Exempel 17 Det i exempel l beskrivna tillvägagângssättet följdes vid två separata experiment, med användning av 100 delar av en blandning av styren och omättad polyester, 4 delar dimetylaminoetylmetakrylat som reduktionsmedel samt 0,2 resp. 0,02 delar p-nitrobenzil.
Gelningstiderna var 5 minuter resp. 2,5 minuter. 7213392-9 17 Exemoel 18 Proceduren enligt exempel l följdes i två separata försök med användning av 100 delar av en blandning av styren och omättad polyester, 2 delar benzil och 0,1 del av N,N-dimetylanilin resp. N- ~metyldifenylamin.
Gelningstiderna var 80 sekunder resp. 90 sekunder.
I frånvaro av reduktionsmedlet uppgick gelningstiden till 20 minuter.
Exempel 19 Till en lösning av 2 delar benzil och 4 delar dimetylaminoetyl- metakrylat i 100 delar av en blandning av styren och en omättad poly- ester av enligt exempel l använt slag sattes 3 delar av en l0-vikt- procentig lösning av paraffinvax i toluen.
En tunn film av lösningen utströks på en plåt och utsattes för inverkan av dagsljus i luft. Filmen härdade till en hård film inom loppet av 2-30 minuter i beroende av dagsljusets intensitet.
För jämförelses skull, och i avsikt att belysa känsligheten för luft hos tidigare föreslagna, ljuskänsliga färgämnen, upprepades den ovan beskrivna proceduren, med undantag av att benzilen ersattes med 0,1 del rose bengal. Filmen hade icke härdat efter exponering i luft för dagsljus under 2 dagar. Då lösningen, innehållande rose ben- gal, i sin helhet infördes i en kolv av Pyrex-glas, som därefter till- slöts, och sedan utsattes för inverkan av dagsljus, gelade emellertid lösningen inom loppet av 30 minuter, vilket sålunda utvisade, att rose bengal i klup var i stånd att polymerisera blandningen av styren och omättad polyester.
Försöksrapport Eë:§§ë_l 4 g benzil löstes i en varm blandning av 16 g trietylamin (TEA) och 3 g styren. Den resulterande lösningen sattes till 400 g av en blandning av styren och ett omättat polyesterharts, vilken bland-; ning förekommer i handeln under varubenämningen Crystic 199 (Scott- Bader).
Ett l grams prov av den resulterande vätskeformiga blandningen infördes i en 2 ml ampull, som därefter placerades ca 60 cm framför en 400 W MBI PAR 64-lampa av fabrikat Thorn. Den tid det tog för blandningen att gela just i sådan omfattning, att den icke längre kunde hållas, noterades och denna tid sades representera blandningens gelningstid. J '7213392-9 18 Ett separat 100 grams prov av den vätskeformiga blandningen placerades i en form, bestående av glasskivor som var åtskilda medelst en 6 mm gummipackning, och formen placerades på ett avstånd av ca 90 cm framför den ovan angivna lampan. Provets exoterm under dess gelning registrerades. Bestrålningen av formen fortsattes under 1 timme, efter vilken tid den avbröts och formen fick svalna. Det kalla provet uttogs från formen och dess Barcol-hårdhet bestämdes. Provet förvarades därefter i mörker och efter ytterligare 24 timar bestäm- des dess Barcol-hårdhet på nytt, varjämte dess procentuella åldrings~ fria styrenhalt fastställdes.
EëE§ëE_2 Den i försök l beskrivna arbetsgången upprepades, men med an- vändning av 16 g dimetylaminoetanol (DMAE) i stället för trietylaminen.
Eëifsëlaâ i De i försök l.beskrivna procedurerna upprepades, men med an- vändning av 16 g trietanolamin (TEOA) i stället för trietylaminen.
De erhållna resultaten finns samanställda i nedanstående ta- bell.
Tabell 7 Exotenn . Bæaxflrhårdhet % styren väx. dæmn.
Gelnurfir . . . - ... n . ._ l . 24 flnfir . d _ T .
Forsok Amin tia (sekJ F tmB - Ftlf- B 24 tim. (ššh) ä? TEA 20 25 10 32 15 1,99 9 93 DAE 25 32 18 35 22 1,87 8 96 TBQA 105 O 0 8 0 3,51 24 60 Exotermerna finns utritade på bifogade diagram.
De ovan redovisade försöken visar, att användning av benzil i närvaro av trietylamin eller dimetylaminoetanol leder till mycket överlägsna resultat jämfört med användning av benzil i närvaro av trietanolamin.

Claims (17)

    19 7213392-9 Patentkrav F 1. Fotopolymeriserbar komposition, innehållande ett polymeriserbart, eteniskt omättat material och en ljuskänslig katalysator, vilken innehåller en fotosensibilisator och ett reduktionsmedel som är i stånd att reducera fotosensibilisa- torn då denna befinner sig i ett exciterat tillstånd, varvid det polymeriserbara materialet är en omättad ester eller poly- . ester, en aromatisk vinylförening, en vinylnitril eller en vi- 5 nyluretan, k ä n n e t e o k n a d av att p(i) fotosensibilisatorn är biacetyl eller har den all- männa formeln
  1. A - <3 - (mn - A Q . där n är .'1. eller O, X är >C=O,> CHOH eller CHORMdErBMiraIkyI, f och grupperna A, som kan vara lika eller olika, är aromatiska grupper som kan vara substituerade med nitro, halogen eller_ alkoxi, eller som är bundna tillsammans pà annat sätt än me- delst - g-(x)n- O 1 -gruppen, eller där grupperna A tillsammans bildar ett konden- serat aromatiskt ringsystem eller en struktur av kamfer-typ, (2) reduktionsmedlet har formeln R f R - å - R där N är kväve och enheterna R, som kan vara lika eller olika, är väteatomer, hydrokarbylgrupper eller substituerade hydro- karbylgrupper, eller två enheter R tillsammans med N kan bilda ett eykliskt ringsystem, varvid icke fler än två av enheterna R är väteatomer eller substituerade hydrokarbylgrupper, och där N är bundet direkt till en aromatisk grupp R, varvid minst en av de andra enheterna R har en I - ? - grupp bunden till N, H -_ 7213392-9' 20; F M och - « e _ (3) kompositionen, för_varje 100-tal delar eteniskt omät- _ tat material, innehåller 0,002-20 delar av den ljuskänsliga kata- lysatorn, som i sin tur innehåller 0,001-10 delar av fotosensi- bilisatorn och 0,001-10 delar av reduktionsmedlet.
  2. 2. Komposition enligt krav 1, k ä n n e t e c k n a d av att fotosensibilisatorn är åtminstone en av benzil, biaoetyl, a-naftil, B-naftil, furil, p,p'-dimetoxibenzil, p,p'-diklorbenzil, p-tolil och p~nitrobenzi1.
  3. 3. Komposition enligt krav 1 och/ eller 2, k ä n n e- t e e k n a d av att fotosensibilisatorn är bensofenon.
  4. 4. Komposition enligt krav 1, k ä n n e t e c k n a d av att fotosensibilisatorn är åtminstpne en av benzoin,_a-naftoin, ß-naftoin, p,p'-dimetoxibenzoin, p,p'-diklorobenzoin och furoin.
  5. 5. Komposition enligt krav 1, k ä n n e t e c k n a d av att fotosensibilisatorn är en alkylbenzoineter, i vilken, i strukturen I, R3 är väte den R4 är alkyl.
  6. 6; Komposition enligt krav 1, k ä n n e t e c k n a d av att fotosensibilisatorn har strukturen (som 1 3 _ (X)n _ där X och n har 1 krav 1 angivna betydelser och i vilken Y är å>CH2, eller ett hydrokarbylderivat därav, samt m är O, 1 eller 2.
  7. 7. Kompositiøn enligt krav 6, k ä n nte t e c k n a d av att fotosensibilisatorn är åtminstone en av fenantrakinon, fluorenon, acenaftalenkinon och kamferkinon.
  8. 8. Komposition enligt ett eller flera av föregående krav, k ä n n e t e c k nia d av att 1 reduktionsmedlet med strukturen R R - n - R grupperna R är fria från aromatiska grupper bundna direkt till grundämnet N. -
  9. 9. Komposition enligt ett eller flera av föregående krav, k ä n n e t e c k n a d av att reduktionsmedlet.är en amin eller fosfin.
  10. 10. Komposition enligt krav 9, k ä n n e t e c k- n a d_ av att reduktionsmedlet är minst en av föreningarna di- ar '7213392-9 metylaminoetylmetakrylat, n-butylamin, di-n-butylamin, trietyl- amin, N,N-dimetylanilin och N-metyldifenylamin. _
  11. 11. Komposition enligt ett eller flera av kraven 1-7, k ä n n e t e c k n a d av att reduktionsmedlet är_minst enl av föreningarna_allyltiourea, S-bensyl-isotiuronium-p-toluen- sulfinat och o-tolyltiourea.
  12. 12. Komposition enligt ett eller flera av kraven 1-11, k ä n n e t e c k n a d av att fotosensibilisatorn är närva- rande i en koncentration inom området 0,001-10 viktprocent, räknat på det eteniskt omättade materialet i kompositionen.“
  13. 13. Komposition enligt ett eller flera av kraven 1-12, k ä n n e t e o k n a d av att reduktionsmedlet är närvarande i en koncentration inom området 1-5 viktprocent, räknat på det eteniskt omättade materialet 1 kompositionen. _
  14. 14. Komposition enligt ett eller flera av kraven 1-13, k ä n n e t e c k n a d av att det etenißkt omättade materia- let innehåller minst en monomer, som innehåller etenisk omått- nad i en terminal grupp. _
  15. 15. Komposition enligt krav 14, k ä n n e t e c k- n a d av att den innehåller minst en eteniskt omättad polyes- ter. _
  16. 16. Komposition enligt krav 14 och/eller 15, k ä n- n e t e c k n a d av att den eteniskt omättade monomeren är minst en av metylmetakrylat, styren, vinylpyrrolidon, akryl- nitril, vinylacetat, hydroxietylmetakrylat och en reaktions- produktmav hydroxietylmetakrylat och en isocyanat-ändad addnkt av 4,4'-difenylmetandiisocyanat och oxipropylerad bisfenyl-A.
  17. 17. Komposition enligt ett eller flera av kraven 1-16, k ä n n e t e c k n a d av att den innehåller minst ett pig- ment ooh att den är lämplig att använda som màlningsfärg-kom- position. AN FURDA PUBLIKATIONER: Sverige 322 626 (C08F 11/02), 341 477 (42 h:10/05), 371 447 (C08F 21/02) Canada 828 150 Storbritannien 843 854, 1 055 197, 1 243 703 US 2 367 661 (204-159.23), 2 448 828 (204-159.23), 3 307 943 (96-28)
SE7213392A 1971-10-18 1972-10-17 Fotopolymeriserbar komposition SE412396C (sv)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB4836571 1971-10-18
GB980772*[A GB1408265A (en) 1971-10-18 1972-03-02 Photopolymerisable composition

Publications (2)

Publication Number Publication Date
SE412396B true SE412396B (sv) 1980-03-03
SE412396C SE412396C (sv) 1984-03-08

Family

ID=26243188

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SE7213392A SE412396C (sv) 1971-10-18 1972-10-17 Fotopolymeriserbar komposition

Country Status (16)

Country Link
US (1) US4071424B1 (sv)
JP (1) JPS5410986B2 (sv)
AT (1) AT331507B (sv)
BE (1) BE789950A (sv)
CA (1) CA984210A (sv)
CH (1) CH593305A5 (sv)
DE (2) DE2251048C2 (sv)
DK (1) DK147708C (sv)
ES (1) ES407740A1 (sv)
FR (1) FR2156760B1 (sv)
GB (1) GB1408265A (sv)
HK (1) HK57478A (sv)
IT (1) IT969627B (sv)
NL (1) NL165570C (sv)
NO (1) NO142915C (sv)
SE (1) SE412396C (sv)

Families Citing this family (198)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1412754A (en) * 1971-12-29 1975-11-05 Ici Ltd Photopolymerisable composition
US4089763A (en) 1973-04-24 1978-05-16 Imperial Chemical Industries Limited Method of repairing teeth using a composition which is curable by irradiation with visible light
US4110184A (en) 1973-04-24 1978-08-29 Imperial Chemical Industries Limited Photocurable dental filling compositions
GB1469643A (en) * 1973-11-19 1977-04-06 Ici Ltd Photopolymerisable composition
GB1485776A (en) * 1974-01-10 1977-09-14 Ici Ltd Method of making a foamed article
US4069054A (en) * 1975-09-02 1978-01-17 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photopolymerizable composition containing a sensitized aromatic sulfonium compound and a cationacally polymerizable monomer
GB1553580A (en) * 1975-11-21 1979-09-26 Espe Pharm Praep Photopolymerisable acrylic or methacrylic acid ester-containing compositions
DE2625538C2 (de) * 1976-06-05 1984-03-22 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Photopolymerisierbare Überzugsmassen
DE2730462A1 (de) * 1976-07-15 1978-01-19 Ciba Geigy Ag Photoinitiatoren fuer uv-haertbare massen
CA1117685A (en) * 1976-11-15 1982-02-02 Narayanan Madhavan One paste polymeric dental restorative composition
JPS6026122B2 (ja) * 1977-01-20 1985-06-21 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
DE2722264C2 (de) * 1977-05-17 1984-06-28 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Verwendung von substituierten Oxyalkylphenonen als Photosensibilisatoren
EP0003002B1 (de) * 1977-12-22 1984-06-13 Ciba-Geigy Ag Verwendung von aromatisch-aliphatischen Ketonen als Photoinitiatoren, photopolymerisierbare Systeme enthaltend solche Ketone und neue aromatisch-aliphatische Ketone
JPS54130633A (en) * 1978-04-01 1979-10-11 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The Ultraviolet-curing coating composition
US4222835A (en) * 1978-05-25 1980-09-16 Westinghouse Electric Corp. In depth curing of resins induced by UV radiation
US4234399A (en) * 1978-10-13 1980-11-18 Lord Corporation Radiation curable compositions containing acyloin urethane compounds
JPS5565264A (en) * 1978-11-08 1980-05-16 Sumitomo Chem Co Ltd Photo-setting composition and its photo-setting method
DE2964564D1 (en) * 1978-12-18 1983-02-24 Ici Plc Dental compositions comprising a selected vinyl urethane prepolymer and processes for their manufacture
NO150963C (no) 1979-01-11 1985-01-16 Scott Bader Co Polyesterharpiksmateriale som er herdbart ved hjelp av synlig lys, og fremgangsmaate til herding av dette
NO801021L (no) * 1979-04-10 1980-10-13 Akzo Nv Ultrafiolett herdbart belegg.
EP0022188B1 (en) * 1979-06-18 1984-10-03 EASTMAN KODAK COMPANY (a New Jersey corporation) Co-initiator compositions for photopolymerization containing 3-acyl-substituted coumarins, photopolymerizable composition and photographic element
DE3001616A1 (de) * 1980-01-17 1981-07-23 ESPE Fabrik pharmazeutischer Präparate GmbH, 8031 Seefeld Verfahren zur herstellung von zahnersatzteilen durch photopolymerisieren einer verformbaren masse
DE3029276A1 (de) * 1980-08-01 1982-02-18 Etablissement Dentaire Ivoclar, Schaan Photopolymerisierbare masse, insbesondere fuer dentalzwecke
US4553940A (en) * 1980-08-29 1985-11-19 Dentsply Research & Development Corp. Visible light curable dental compositions
US4491453A (en) * 1980-08-29 1985-01-01 Dentsply Research & Development Corp. Process for restoring teeth with visible light curable compositions
US4411625A (en) * 1980-08-29 1983-10-25 Dentsply Research & Development Corp. Broad spectrum light curable dental compositions
DE3167493D1 (en) * 1980-11-05 1985-01-10 Akzo Nv Photopolymerizable composition, photoinitiator mixture and curing process
EP0053442B2 (en) 1980-12-03 1993-05-19 Imperial Chemical Industries Plc Dental compositions
IL65159A0 (en) * 1981-03-04 1982-05-31 Ici Plc Polymerisable dental compositions
US4801528A (en) * 1981-05-04 1989-01-31 Dentsply Research & Development Corporation Dental adhesive system
USRE35264E (en) * 1981-05-04 1996-06-04 Dentsply Research & Development Corp. Dental adhesive system
DE3136484A1 (de) * 1981-09-15 1983-03-31 Kulzer & Co Gmbh, 6380 Bad Homburg "verfahren zur photopolymerisation von vinylverbindu ngen und photopolymerisierbares material"
DE3203096A1 (de) * 1982-01-30 1983-08-04 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Verwendung von hydroxyalkylphenonen als initiatoren fuer die strahlungshaertung waessriger prepolymerdispersionen
IE54502B1 (en) * 1982-03-04 1989-10-25 Ici Plc Photopolymerisable compositions
DE3212379A1 (de) * 1982-04-02 1983-10-20 ESPE Fabrik pharmazeutischer Präparate GmbH, 8031 Seefeld Geraet zum behandeln von dentalen werkstoffen
US4500657A (en) * 1982-08-02 1985-02-19 Johnson & Johnson Dental Products Company Dental restorative compositions having improved mechanical properties and hydrolytic stability
DE3332179A1 (de) * 1982-12-07 1984-06-07 Kulzer & Co GmbH, 6393 Wehrheim Grundiermasse
DE3301010A1 (de) * 1983-01-14 1984-07-19 Kulzer & Co GmbH, 6393 Wehrheim Verfahren zur photopolymerisation von vinylverbindungen und photopolymerisierbares material
DE3301012A1 (de) * 1983-01-14 1984-07-19 Kulzer & Co GmbH, 6393 Wehrheim Verfahren zur photopolymerisation von vinylverbindungen und photopolymerisierbares material
DE3301011A1 (de) * 1983-01-14 1984-07-19 Kulzer & Co GmbH, 6393 Wehrheim Verfahren zur photopolymerisation von vinylverbindungen und photopolymerisierbares material (ii)
US4512340A (en) * 1983-02-22 1985-04-23 Johnson & Johnson Products, Inc. Visible light cured orthopedic polymer casts
US4615665A (en) * 1983-05-06 1986-10-07 Dentsply International Inc. Method for making dental prosthetic device with oxygen barrier layer and visible light irradiation to cure polymer
US4563438A (en) * 1983-05-06 1986-01-07 Ciba Geigy Corporation Liquid mixture of photoinitiators
US4544467A (en) * 1983-06-28 1985-10-01 Minnesota Mining And Manufacturing Company Light-curable dentin and enamel adhesive
US4525256A (en) * 1983-07-01 1985-06-25 Johnson & Johnson Dental Products Company Photopolymerizable composition including catalyst comprising diketone plus 4-(N,N-dimethylamino)benzoic acid or ester thereof
DE3331157A1 (de) * 1983-08-30 1985-03-14 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Photopolymerisierbare mischungen, enthaltend tertiaere amine als photoaktivatoren
US4551486A (en) * 1983-11-16 1985-11-05 Dentsply Research & Development Corp. Interpenetrating polymer network compositions
US5210109A (en) * 1983-11-16 1993-05-11 Dentsply Research & Development Corp. Interpenetrating polymer network compositions employing rubber-modified polymers
US4863977A (en) * 1983-11-16 1989-09-05 Dentsply Research & Development Corp. Process for preparing interpenetrating polymer network objects employing rubber-modified polymers
US4711913A (en) * 1983-11-16 1987-12-08 Dentsply International Inc. Interpenetrating polymer network compositions employing rubber-modified polymers
US4604295A (en) * 1983-12-22 1986-08-05 Loctite Corporation Visible light absorbing peroxy-esters
JPS60149603A (ja) * 1984-01-17 1985-08-07 Kuraray Co Ltd 光重合性の組成物
DE3414163A1 (de) * 1984-04-14 1985-10-17 Kulzer & Co GmbH, 6393 Wehrheim Photopolymerisierbarer phosphathaltiger dentaler haftvermittler-lack
DE3414164A1 (de) * 1984-04-14 1985-10-17 Kulzer & Co GmbH, 6393 Wehrheim Photopolymerisierbarer dentaler haftvermittler-lack
DE3414165A1 (de) * 1984-04-14 1985-10-17 Kulzer & Co GmbH, 6393 Wehrheim Photopolymerisierbares dentales haftmittel
NO164303C (no) * 1984-05-14 1990-09-19 Ici Plc Oligomer, fremgangsmaate for fremstilling av en slik samt anvendelse av den.
US4657941A (en) * 1984-11-29 1987-04-14 Dentsply Research & Development Corp. Biologically compatible adhesive containing a phosphorus adhesion promoter and a sulfinic accelerator
NL8403706A (nl) * 1984-12-06 1986-07-01 Dsm Resins Bv Fotopolymeriseerbare samenstelling en een fotoinitiatorsysteem.
JPH0662688B2 (ja) * 1985-06-25 1994-08-17 三井石油化学工業株式会社 光硬化性組成物
US4940645A (en) * 1985-07-16 1990-07-10 The Mead Corporation Imaging material employing photosensitive microcapsules containing tertiary amines as coinitiators
IT1187703B (it) * 1985-07-23 1987-12-23 Lamberti Fratelli Spa Benzofenoni sostituiti e loro miscele liquide,atti all'impiego come iniziatori di fotopolimerizzazione
JPH0662689B2 (ja) * 1985-07-30 1994-08-17 三井石油化学工業株式会社 光硬化性組成物
US5415816A (en) 1986-01-28 1995-05-16 Q2100, Inc. Method for the production of plastic lenses
US5364256A (en) * 1986-01-28 1994-11-15 Ophthalmic Research Group International, Inc. Apparatus for the production of plastic lenses
US6730244B1 (en) 1986-01-28 2004-05-04 Q2100, Inc. Plastic lens and method for the production thereof
US6201037B1 (en) 1986-01-28 2001-03-13 Ophthalmic Research Group International, Inc. Plastic lens composition and method for the production thereof
US5529728A (en) * 1986-01-28 1996-06-25 Q2100, Inc. Process for lens curing and coating
DE3708618A1 (de) * 1987-03-17 1988-09-29 Kulzer & Co Gmbh Kunststoff-zahnersatzteil
DE3710281A1 (de) * 1987-03-28 1988-10-06 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
DE3710282A1 (de) * 1987-03-28 1988-10-13 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
CA1323949C (en) * 1987-04-02 1993-11-02 Michael C. Palazzotto Ternary photoinitiator system for addition polymerization
US4828583A (en) * 1987-04-02 1989-05-09 Minnesota Mining And Manufacturing Company Coated abrasive binder containing ternary photoinitiator system
JPH0669928B2 (ja) * 1987-10-06 1994-09-07 宇部興産株式会社 光重合性歯科材料
DE3738864A1 (de) * 1987-11-16 1989-05-24 Hoechst Ag Polymerisierbare verbindungen und diese enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch
DE3743454A1 (de) * 1987-12-22 1989-07-06 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
DE3743455A1 (de) * 1987-12-22 1989-07-06 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
DE3743457A1 (de) * 1987-12-22 1989-07-06 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
US4892478A (en) * 1988-03-21 1990-01-09 Dentsply Research & Development Corp. Method of preparing dental appliances
DE3824903A1 (de) * 1988-07-22 1990-02-01 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
DE3832032A1 (de) * 1988-09-21 1990-03-22 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
US5254602A (en) * 1988-10-01 1993-10-19 Nippon Oil & Fats Co., Ltd. Curability-imparting composition, method for curing with said composition, and method for production of glass fiber-reinforced plastic
WO1990004211A1 (en) * 1988-10-11 1990-04-19 Desoto, Inc. Synergistic initiator compositions for the visible light fabrication and postcure of stereolithographic objects
US6490730B1 (en) 1989-09-20 2002-12-10 Robert M. Lyden Shin-guard, helmet, and articles of protective equipment including light cure material
GB2237023B (en) * 1989-10-06 1993-09-29 Toa Gosei Chem Ind A catalytic composition for photopolymerization and a photopolymerizable composition containing the same
ATE88337T1 (de) * 1989-10-19 1993-05-15 Heraeus Kulzer Gmbh Dentales haftmittel.
US5709548A (en) * 1990-02-23 1998-01-20 Minnesota Mining And Manufacturing Company Dental crown liner composition and methods of preparing provisional applications
EP0443269B1 (en) * 1990-02-23 1993-10-27 Minnesota Mining And Manufacturing Company Semi-thermoplastic molding composition having heat-stable custom shape memory
US5066231A (en) * 1990-02-23 1991-11-19 Minnesota Mining And Manufacturing Company Dental impression process using polycaprolactone molding composition
DE4007428A1 (de) * 1990-03-09 1991-09-12 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
US5514521A (en) * 1990-08-22 1996-05-07 Brother Kogyo Kabushiki Kaisha Photocurable composition
DK0486775T3 (da) * 1990-11-17 1995-03-13 Heraeus Kulzer Gmbh Polymeriserbart dentalmateriale
US5362769A (en) * 1992-05-07 1994-11-08 Ormco Corporation Orthodontic adhesives
US5865471A (en) 1993-08-05 1999-02-02 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photo-erasable data processing forms
US6211383B1 (en) 1993-08-05 2001-04-03 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Nohr-McDonald elimination reaction
US5721287A (en) 1993-08-05 1998-02-24 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method of mutating a colorant by irradiation
US5773182A (en) 1993-08-05 1998-06-30 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method of light stabilizing a colorant
US5733693A (en) 1993-08-05 1998-03-31 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method for improving the readability of data processing forms
US5681380A (en) 1995-06-05 1997-10-28 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Ink for ink jet printers
US6017471A (en) 1993-08-05 2000-01-25 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorants and colorant modifiers
US6017661A (en) 1994-11-09 2000-01-25 Kimberly-Clark Corporation Temporary marking using photoerasable colorants
US5645964A (en) 1993-08-05 1997-07-08 Kimberly-Clark Corporation Digital information recording media and method of using same
US6033465A (en) 1995-06-28 2000-03-07 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorants and colorant modifiers
US5514214A (en) * 1993-09-20 1996-05-07 Q2100, Inc. Eyeglass lens and mold spin coater
TW414713B (en) * 1994-05-12 2000-12-11 Dentsply Gmbh Fluoride releasing liquid dental primer product and method
US6071979A (en) 1994-06-30 2000-06-06 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoreactor composition method of generating a reactive species and applications therefor
US6242057B1 (en) 1994-06-30 2001-06-05 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoreactor composition and applications therefor
US5685754A (en) 1994-06-30 1997-11-11 Kimberly-Clark Corporation Method of generating a reactive species and polymer coating applications therefor
US6008268A (en) 1994-10-21 1999-12-28 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoreactor composition, method of generating a reactive species, and applications therefor
DE4446033C2 (de) * 1994-12-23 1996-11-07 Heraeus Kulzer Gmbh Polymerisierbares Dentalmaterial
US5786132A (en) 1995-06-05 1998-07-28 Kimberly-Clark Corporation Pre-dyes, mutable dye compositions, and methods of developing a color
ATE195815T1 (de) 1995-06-05 2000-09-15 Kimberly Clark Co Farbstoffvorläufer und diese enthaltende zusammensetzungen
US6099628A (en) 1996-03-29 2000-08-08 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorant stabilizers
JPH10513502A (ja) 1995-11-28 1998-12-22 キンバリー クラーク ワールドワイド インコーポレイテッド 改良された着色剤安定剤
US5782963A (en) 1996-03-29 1998-07-21 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorant stabilizers
US5855655A (en) 1996-03-29 1999-01-05 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorant stabilizers
US5891229A (en) 1996-03-29 1999-04-06 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorant stabilizers
US6022498A (en) * 1996-04-19 2000-02-08 Q2100, Inc. Methods for eyeglass lens curing using ultraviolet light
DE19615763C2 (de) * 1996-04-20 1999-10-28 Heraeus Kulzer Gmbh & Co Kg Füllstoff auf Siliciumdioxid-Basis, Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung
US6280171B1 (en) 1996-06-14 2001-08-28 Q2100, Inc. El apparatus for eyeglass lens curing using ultraviolet light
JP3843154B2 (ja) * 1996-09-25 2006-11-08 関西ペイント株式会社 光重合性組成物
US5891931A (en) * 1997-08-07 1999-04-06 Alcon Laboratories, Inc. Method of preparing foldable high refractive index acrylic ophthalmic device materials
US6524379B2 (en) 1997-08-15 2003-02-25 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorants, colorant stabilizers, ink compositions, and improved methods of making the same
DE19736471A1 (de) * 1997-08-21 1999-02-25 Espe Dental Ag Lichtinduziert kationisch härtende Zusammensetzungen und deren Verwendung
CA2298468A1 (en) 1998-06-03 1999-12-09 John Gavin Macdonald Novel photoinitiators and applications therefor
CA2298615C (en) 1998-06-03 2009-03-31 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Neonanoplasts produced by microemulsion technology and inks for ink jet printing
US6187836B1 (en) * 1998-06-05 2001-02-13 3M Innovative Properties Company Compositions featuring cationically active and free radically active functional groups, and methods for polymerizing such compositions
WO2000004104A1 (en) 1998-07-20 2000-01-27 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Improved ink jet ink compositions
JP2003533548A (ja) 1998-09-28 2003-11-11 キンバリー クラーク ワールドワイド インコーポレイテッド 光重合開始剤であるキノイド基を含むキレート
ES2195869T3 (es) 1999-01-19 2003-12-16 Kimberly Clark Co Nuevos colorantes, estabilizantes de colorantes, compuestos de tinta y metodos mejorados para su fabricacion.
US6331056B1 (en) 1999-02-25 2001-12-18 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Printing apparatus and applications therefor
US6294698B1 (en) 1999-04-16 2001-09-25 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoinitiators and applications therefor
US6368395B1 (en) 1999-05-24 2002-04-09 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Subphthalocyanine colorants, ink compositions, and method of making the same
US6376590B2 (en) 1999-10-28 2002-04-23 3M Innovative Properties Company Zirconia sol, process of making and composite material
US6572693B1 (en) 1999-10-28 2003-06-03 3M Innovative Properties Company Aesthetic dental materials
US6730156B1 (en) 1999-10-28 2004-05-04 3M Innovative Properties Company Clustered particle dental fillers
US6387981B1 (en) 1999-10-28 2002-05-14 3M Innovative Properties Company Radiopaque dental materials with nano-sized particles
EP1586294B2 (en) * 1999-10-28 2016-02-17 3M Innovative Properties Company Nano-sized silica particles in a dry powder form
US6444725B1 (en) 2000-01-21 2002-09-03 3M Innovative Properties Company Color-changing dental compositions
US6681403B2 (en) 2000-03-13 2004-01-27 Robert M. Lyden Shin-guard, helmet, and articles of protective equipment including light cure material
DE60029015T2 (de) * 2000-04-03 2007-06-28 3M Innovative Properties Co., Saint Paul Dentalmaterialien mit verlängerter verarbeitungszeit, kits und verfahren
KR100772772B1 (ko) 2000-06-19 2007-11-01 킴벌리-클라크 월드와이드, 인크. 신규한 광개시제 및 그의 용도
US6528555B1 (en) 2000-10-12 2003-03-04 3M Innovative Properties Company Adhesive for use in the oral environment having color-changing capabilities
US6613812B2 (en) 2001-01-03 2003-09-02 3M Innovative Properties Company Dental material including fatty acid, dimer thereof, or trimer thereof
CN100415198C (zh) * 2001-08-15 2008-09-03 3M创新有限公司 可硬化的自支撑结构和方法
JP4748938B2 (ja) * 2002-01-31 2011-08-17 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 歯科ペースト、歯科物品、および方法
US20080103222A1 (en) * 2002-04-26 2008-05-01 Albemarle Corporation New Class of Amine Coinitiators in Photoinitiated Polymerizations
CN1305911C (zh) * 2002-04-26 2007-03-21 雅宝公司 一种光引发聚合中的新型胺共引发剂
US7091259B2 (en) * 2002-07-03 2006-08-15 3M Innovative Properties Company Dental fillers, pastes, and compositions prepared therefrom
US7025791B2 (en) * 2002-12-02 2006-04-11 Gi Dynamics, Inc. Bariatric sleeve
US20040185013A1 (en) * 2003-01-30 2004-09-23 Burgio Paul A. Dental whitening compositions and methods
US20040151691A1 (en) * 2003-01-30 2004-08-05 Oxman Joel D. Hardenable thermally responsive compositions
US7223826B2 (en) * 2003-01-30 2007-05-29 3M Innovative Properties Company Amide-functional polymers, compositions, and methods
US6984261B2 (en) 2003-02-05 2006-01-10 3M Innovative Properties Company Use of ceramics in dental and orthodontic applications
US20060293404A1 (en) * 2003-04-24 2006-12-28 Santobianco John G New class of amine coinitiators in photoinitiated polymerizations
KR100756325B1 (ko) 2003-05-23 2007-09-06 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤 (메트)아크릴산에스테르 화합물 및 그 용도
US20050042576A1 (en) * 2003-08-19 2005-02-24 Oxman Joel D. Dental article forms and methods
US20050040551A1 (en) * 2003-08-19 2005-02-24 Biegler Robert M. Hardenable dental article and method of manufacturing the same
US20050042577A1 (en) * 2003-08-19 2005-02-24 Kvitrud James R. Dental crown forms and methods
US7553670B2 (en) * 2004-04-28 2009-06-30 3M Innovative Properties Company Method for monitoring a polymerization in a three-dimensional sample
DE602005015333D1 (de) 2004-07-14 2009-08-20 3M Innovative Properties Co Dentalzusammensetzungen mit carbosilanpolymere
AU2005275246B2 (en) * 2004-07-14 2011-10-06 3M Deutschland Gmbh Dental compositions containing carbosilane monomers
EP1749513B1 (de) 2005-08-01 2009-03-04 Ivoclar Vivadent AG Photopolymerisierbare Dentalmaterialien mit Bisacylphosphinoxiden als Initiator
JP2009522003A (ja) * 2005-12-29 2009-06-11 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 発泡性歯科用組成物及び方法
US7803850B2 (en) 2006-03-13 2010-09-28 Kabushiki Kaisha Shofu Camphorquinone derivative having acylphosphine oxide group, photopolymerization initiator and photo/chemical polymerization initiator containing the same and hardenable composition containing the same
EP1905415B1 (de) 2006-09-27 2009-07-01 Ivoclar Vivadent AG Polymerisierbare Zusammensetzungen mit Acylgermanium-Verbindungen als Initiatoren
DE102006050153A1 (de) 2006-10-25 2008-05-08 Ivoclar Vivadent Ag Mikroverkapselte Photoinitiatoren und deren Verwendung für Dentalmaterialien
CN101610749B (zh) * 2006-12-28 2013-01-02 3M创新有限公司 牙科填料及方法
AU2008206045A1 (en) * 2007-01-19 2008-07-24 Ardea Biosciences, Inc. Inhibitors of MEK
EP2008636A1 (en) * 2007-06-29 2008-12-31 3M Innovative Properties Company Dental composition containing a polyfunctional (meth)acrylate comprising urethane, urea or amide groups, method of production and use thereof
EP2042486A1 (en) * 2007-09-26 2009-04-01 3M Innovative Properties Company Methacrylate Based Monomers containing a Urethane Linkage, Process for Production and Use thereof
JP5461415B2 (ja) * 2007-11-01 2014-04-02 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 歯科用組成物及び色安定アミン電子供与体を有する開始剤系
JP5702044B2 (ja) 2008-03-04 2015-04-15 株式会社松風 モノマーによって色調変化を抑えた光硬化性歯科用組成物
JP5203749B2 (ja) 2008-03-04 2013-06-05 株式会社松風 硬化前後における色調変化の少ない光重合性歯科用組成物
EP2103297B1 (de) 2008-03-20 2012-05-16 Ivoclar Vivadent AG Polymerisierbare Zusammensetzung mit mehrere Germanium-Atome enthaltenden Initiatoren
KR101441998B1 (ko) * 2008-04-25 2014-09-18 후지필름 가부시키가이샤 중합성 조성물, 차광성 컬러필터, 흑색 경화성 조성물, 고체촬상소자용 차광성 컬러필터와 그 제조 방법, 및 고체촬상소자
DE102008047006A1 (de) 2008-09-12 2010-03-25 Heinrich-Heine-Universität Düsseldorf Lichthärtende Zusammensetzungen
WO2010067790A1 (ja) * 2008-12-11 2010-06-17 株式会社トクヤマデンタル デュアルキュア型硬化材料キット
EP2401998A1 (en) 2010-07-02 2012-01-04 3M Innovative Properties Company Dental composition, kit of parts and use thereof
EP2481390A1 (en) 2011-01-31 2012-08-01 3M Innovative Properties Company Dental composition, method of producing and use thereof
WO2012112321A2 (en) 2011-02-15 2012-08-23 3M Innovative Properties Company Dental compositions comprising mixture of isocyanurate monomer and tricyclodecane monomer
WO2013023138A1 (en) 2011-08-11 2013-02-14 3M Innovative Properties Company Dental composition, method of producing and use thereof
EP2785307B1 (en) 2011-12-01 2019-06-26 3M Innovative Properties Company One component self-adhesive dental composition, process of production and use thereof
US20140302251A1 (en) 2013-03-15 2014-10-09 The Sherwin-Williams Company Radiation polymerizable abrasion resistant aqueous coatings
EP3043766B1 (en) 2013-09-09 2023-07-19 3M Innovative Properties Company Dental composition containing polyoxometalates, process of production and use thereof
JP6599346B2 (ja) 2014-02-18 2019-10-30 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 歯科用組成物及びその使用
WO2015126666A1 (en) 2014-02-18 2015-08-27 3M Innovative Properties Company Dental composition and use thereof
WO2015126865A1 (en) 2014-02-18 2015-08-27 3M Innovative Properties Company Adhesive bonding composition and use thereof
EP3152261B8 (en) 2014-06-05 2018-12-26 Swimc Llc Radiation polymerizable waterborne soft-feel coatings
WO2015191436A1 (en) 2014-06-13 2015-12-17 3M Innovative Properties Company Curable compositions and methods for isolating a working area
EP3212153A1 (en) 2014-10-31 2017-09-06 3M Innovative Properties Company Dental materials and methods
US10350297B2 (en) 2014-10-31 2019-07-16 3M Innovative Properties Company Dental materials and methods
EP3150641B1 (de) 2015-09-29 2018-08-29 Ivoclar Vivadent AG Acylgermanium-photoinitiatoren und verfahren zu deren herstellung
EP3293215B1 (de) 2016-09-07 2020-10-21 Ivoclar Vivadent AG Polymerisierbare zusammensetzungen mit acylzinn-photoinitiatoren
JP6942888B2 (ja) 2017-11-08 2021-09-29 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 高弾性率の歯科用組成物
EP3868767B1 (de) 2020-02-21 2022-01-05 Ivoclar Vivadent AG Langwellig absorbierende photoinitiatoren
WO2022112886A1 (en) 2020-11-25 2022-06-02 3M Innovative Properties Company Curable dental compositions and uses thereof
US20240122815A1 (en) 2021-03-17 2024-04-18 3M Innovative Properties Company Polymerizable 4,4'-spirobi[chromane]-2,2'-diones and curable compositions including the same
EP4257592A1 (en) 2022-04-08 2023-10-11 Evonik Operations GmbH Bisacyl digermanium compounds, their preparation and their use as photoinitiator for radical polymerization

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA828150A (en) * 1969-11-25 B. Rust John Photopolymers and the process of making same
BE465271A (sv) * 1941-12-31 1900-01-01
US2548685A (en) * 1946-12-21 1951-04-10 Alexander H Kerr & Co Inc Photopolymerization process and compositions
NL227834A (sv) * 1957-05-17
GB1090142A (en) * 1965-02-26 1967-11-08 Agfa Gevaert Nv Photochemical insolubilisation of polymers
US3418118A (en) 1965-06-03 1968-12-24 Du Pont Photographic processes and products
US3495987A (en) * 1965-09-03 1970-02-17 Du Pont Photopolymerizable products
US3558387A (en) * 1966-06-10 1971-01-26 Sun Chemical Corp Radiation-curable compositions
DE1694930A1 (de) * 1966-06-10 1971-10-21 Sun Chemical Corp Photopolymerisierbare Massen
US3551246A (en) * 1967-07-10 1970-12-29 Sun Chemical Corp Radiation curable compositions
US3839171A (en) * 1968-02-15 1974-10-01 Asahi Chemical Ind Unsaturated polyesters and laminates thereof
DE1769854C3 (de) * 1968-07-26 1982-08-19 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Photoinitiatoren und Verfahren zur Photopolymerisation
US3759807A (en) * 1969-01-28 1973-09-18 Union Carbide Corp Photopolymerization process using combination of organic carbonyls and amines
CA935398A (en) * 1969-01-28 1973-10-16 L. Osborn Claiborn Crosslinking process
JPS4818563B1 (sv) * 1969-03-07 1973-06-07
BE759041A (fr) * 1969-11-18 1971-05-17 Du Pont Compositions photopolymerisables contenant des aminophenylcetones et des adjuvants
US3699022A (en) * 1970-02-05 1972-10-17 Reichhold Albert Chemie Ag Photopolymerizable unsaturated polyesters containing benzoin-ether,organic acid ester,organic phosphine initiators
US3864133A (en) * 1970-08-11 1975-02-04 Dainippon Ink & Chemicals Photo-polymerizable compositions
CA1013743A (en) * 1972-01-05 1977-07-12 George W. Borden Acrylated epoxidized soybean oil compositions
US3729404A (en) * 1971-09-10 1973-04-24 Grace W R & Co Photocurable polyene-polythiol polymers using a phosphine plus an additional sensitizer
JPS5034445B2 (sv) * 1972-02-29 1975-11-08
JPS5021933B2 (sv) * 1972-04-19 1975-07-26

Also Published As

Publication number Publication date
US4071424A (en) 1978-01-31
SE412396C (sv) 1984-03-08
NO142915C (no) 1980-11-12
DE2266023C2 (sv) 1989-07-20
US4071424B1 (en) 1995-07-18
JPS5410986B2 (sv) 1979-05-11
HK57478A (en) 1978-10-06
BE789950A (fr) 1973-04-11
NL7214074A (sv) 1973-04-24
ES407740A1 (es) 1976-02-01
DK147708C (da) 1990-04-09
IT969627B (it) 1974-04-10
AT331507B (de) 1976-08-25
JPS4849875A (sv) 1973-07-13
NO142915B (no) 1980-08-04
CH593305A5 (sv) 1977-11-30
DK147708B (da) 1984-11-19
NL165570B (nl) 1980-11-17
GB1408265A (en) 1975-10-01
NL165570C (nl) 1983-02-16
DE2251048C2 (de) 1993-01-28
FR2156760A1 (sv) 1973-06-01
ATA891072A (de) 1975-11-15
DE2251048A1 (de) 1973-05-10
CA984210A (en) 1976-02-24
FR2156760B1 (sv) 1979-01-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
SE412396B (sv) Fotopolymeriserbar komposition
US4048034A (en) Photopolymerization using an alpha-aminoacetophenone
US3558309A (en) Photopolymerisation of ethylenically unsaturated organic compounds
CA1125285A (en) Poly(ethylenically unsaturated alkoxy) heterocyclic compounds
JP3471073B2 (ja) フォトクロミック組成物
US4089762A (en) Photopolymerizable compositions
WO1996037574A1 (fr) Composition photochromique durcissable
AU611721B2 (en) Improved composition
AU627177B2 (en) Photoinitiator copolymers
JPS61243807A (ja) 光重合開始剤
JP5359354B2 (ja) 光重合開始剤、重合性組成物、および重合物の製造方法
US3832188A (en) Photosensitive polyamide compositions
JPS5928569B2 (ja) 光重合性歯科用材料
EP0304886B1 (de) Oligomere Benzilketale und ihre Verwendung als Photoinitiatoren
JPS6231848A (ja) 平版用版材
JPH01126302A (ja) 光重合性組成物
US3974053A (en) Method of polymerizing ethylenically unsaturated materials by irradiation and composition for use therein
JP2002534488A (ja) ベンゾフェノンおよび光重合開始剤としてのその使用
US4826888A (en) Photopolymerizable composition
CA1079561A (en) Photopolymerisable compositions containing a polymer with a component which reduces a keto sensitizer in its excited state
JPH05241338A (ja) 光重合性組成物
US3974052A (en) Photopolymerizable compositions containing triketone/alcohol adducts as photosensitizers
JPH0588276B2 (sv)
JPH0643641A (ja) 光重合性組成物
JPH0348183B2 (sv)