SE412396C - Fotopolymeriserbar komposition - Google Patents
Fotopolymeriserbar kompositionInfo
- Publication number
- SE412396C SE412396C SE7213392A SE1339272A SE412396C SE 412396 C SE412396 C SE 412396C SE 7213392 A SE7213392 A SE 7213392A SE 1339272 A SE1339272 A SE 1339272A SE 412396 C SE412396 C SE 412396C
- Authority
- SE
- Sweden
- Prior art keywords
- photosensitizer
- parts
- reducing agent
- groups
- composition
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 88
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims description 53
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 claims description 48
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 35
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 18
- -1 aromatic vinyl compound Chemical class 0.000 claims description 17
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 16
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims description 15
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 8
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 8
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 7
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 6
- 239000003973 paint Substances 0.000 claims description 6
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims description 6
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims description 5
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 5
- YYVYAPXYZVYDHN-UHFFFAOYSA-N 9,10-phenanthroquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YYVYAPXYZVYDHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N Diacetyl Chemical group CC(=O)C(C)=O QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N dibutylamine Chemical compound CCCCNCCCC JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 230000005281 excited state Effects 0.000 claims description 4
- VNQXSTWCDUXYEZ-UHFFFAOYSA-N 1,7,7-trimethylbicyclo[2.2.1]heptane-2,3-dione Chemical compound C1CC2(C)C(=O)C(=O)C1C2(C)C VNQXSTWCDUXYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229930006711 bornane-2,3-dione Natural products 0.000 claims description 3
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- HNPDNOZNULJJDL-UHFFFAOYSA-N ethyl n-ethenylcarbamate Chemical compound CCOC(=O)NC=C HNPDNOZNULJJDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- DYFFAVRFJWYYQO-UHFFFAOYSA-N n-methyl-n-phenylaniline Chemical compound C=1C=CC=CC=1N(C)C1=CC=CC=C1 DYFFAVRFJWYYQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000006503 p-nitrobenzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1[N+]([O-])=O)C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- SXPUVBFQXJHYNS-UHFFFAOYSA-N α-furil Chemical compound C=1C=COC=1C(=O)C(=O)C1=CC=CO1 SXPUVBFQXJHYNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- FXJVNINSOKCNJP-UHFFFAOYSA-M 4-methylbenzenesulfinate Chemical compound CC1=CC=C(S([O-])=O)C=C1 FXJVNINSOKCNJP-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- AFPRJLBZLPBTPZ-UHFFFAOYSA-N acenaphthoquinone Chemical compound C1=CC(C(C2=O)=O)=C3C2=CC=CC3=C1 AFPRJLBZLPBTPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- ACLZYRNSDLQOIA-UHFFFAOYSA-N o-tolylthiourea Chemical compound CC1=CC=CC=C1NC(N)=S ACLZYRNSDLQOIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000001037 p-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 claims description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 1
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 45
- 238000000034 method Methods 0.000 description 26
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 20
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 19
- JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C(C)=C JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 16
- 239000010408 film Substances 0.000 description 13
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 10
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 9
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 9
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 7
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 6
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 6
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N benzil Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 5
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 5
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 4
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical group C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 4
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 3
- IICCLYANAQEHCI-UHFFFAOYSA-N 4,5,6,7-tetrachloro-3',6'-dihydroxy-2',4',5',7'-tetraiodospiro[2-benzofuran-3,9'-xanthene]-1-one Chemical compound O1C(=O)C(C(=C(Cl)C(Cl)=C2Cl)Cl)=C2C21C1=CC(I)=C(O)C(I)=C1OC1=C(I)C(O)=C(I)C=C21 IICCLYANAQEHCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 3
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N N-dimethylaminoethanol Chemical compound CN(C)CCO UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 3
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 3
- 229960002887 deanol Drugs 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 229930187593 rose bengal Natural products 0.000 description 3
- 229940081623 rose bengal Drugs 0.000 description 3
- STRXNPAVPKGJQR-UHFFFAOYSA-N rose bengal A Natural products O1C(=O)C(C(=CC=C2Cl)Cl)=C2C21C1=CC(I)=C(O)C(I)=C1OC1=C(I)C(O)=C(I)C=C21 STRXNPAVPKGJQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRRQSCPPOIUNGX-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1,2-bis(4-methoxyphenyl)ethanone Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C(O)C(=O)C1=CC=C(OC)C=C1 LRRQSCPPOIUNGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 2
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 2
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 2
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical group C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- VHRGRCVQAFMJIZ-UHFFFAOYSA-N cadaverine Chemical compound NCCCCCN VHRGRCVQAFMJIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 239000011243 crosslinked material Substances 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 2
- YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N fluoren-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 2
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 2
- MIJRFWVFNKQQDK-UHFFFAOYSA-N furoin Chemical compound C=1C=COC=1C(O)C(=O)C1=CC=CO1 MIJRFWVFNKQQDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 2
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- DPBLXKKOBLCELK-UHFFFAOYSA-N pentan-1-amine Chemical compound CCCCCN DPBLXKKOBLCELK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002165 photosensitisation Effects 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical compound CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N putrescine Chemical compound NCCCCN KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M sodium nitrite Chemical compound [Na+].[O-]N=O LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N trimethylenediamine Chemical compound NCCCN XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNANGXWUZWWFKX-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(4-methoxyphenyl)ethane-1,2-dione Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C(=O)C1=CC=C(OC)C=C1 YNANGXWUZWWFKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCWCEHMHCDCJAD-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(4-methylphenyl)ethane-1,2-dione Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1C(=O)C(=O)C1=CC=C(C)C=C1 BCWCEHMHCDCJAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 1-hexanamine Chemical compound CCCCCCN BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004066 1-hydroxyethyl group Chemical group [H]OC([H])([*])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C(C)=C RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCO GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCOC(=O)C=C QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LHYQAEFVHIZFLR-UHFFFAOYSA-L 4-(4-diazonio-3-methoxyphenyl)-2-methoxybenzenediazonium;dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].C1=C([N+]#N)C(OC)=CC(C=2C=C(OC)C([N+]#N)=CC=2)=C1 LHYQAEFVHIZFLR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical group O=C(CCNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000220317 Rosa Species 0.000 description 1
- 244000181025 Rosa gallica Species 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012963 UV stabilizer Substances 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- HTKFORQRBXIQHD-UHFFFAOYSA-N allylthiourea Chemical compound NC(=S)NCC=C HTKFORQRBXIQHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001748 allylthiourea Drugs 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003708 ampul Substances 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229940106691 bisphenol a Drugs 0.000 description 1
- 239000001055 blue pigment Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000000280 densification Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N dipropylamine Chemical compound CCCNCCC WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000001663 electronic absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- JGEMYUOFGVHXKV-UPHRSURJSA-N malealdehyde Chemical compound O=C\C=C/C=O JGEMYUOFGVHXKV-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- GUAWMXYQZKVRCW-UHFFFAOYSA-N n,2-dimethylaniline Chemical compound CNC1=CC=CC=C1C GUAWMXYQZKVRCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OOHAUGDGCWURIT-UHFFFAOYSA-N n,n-dipentylpentan-1-amine Chemical compound CCCCCN(CCCCC)CCCCC OOHAUGDGCWURIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JACMPVXHEARCBO-UHFFFAOYSA-N n-pentylpentan-1-amine Chemical compound CCCCCNCCCCC JACMPVXHEARCBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229940100684 pentylamine Drugs 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)OC(=O)C(C)=C BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYBIZMNPXTXVMV-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl prop-2-enoate Chemical class CC(C)OC(=O)C=C LYBIZMNPXTXVMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005057 refrigeration Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 235000010288 sodium nitrite Nutrition 0.000 description 1
- ZKDDJTYSFCWVGS-UHFFFAOYSA-M sodium;diethoxy-sulfanylidene-sulfido-$l^{5}-phosphane Chemical compound [Na+].CCOP([S-])(=S)OCC ZKDDJTYSFCWVGS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)(C)C SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl prop-2-enoate Chemical class CC(C)(C)OC(=O)C=C ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- VPYJNCGUESNPMV-UHFFFAOYSA-N triallylamine Chemical compound C=CCN(CC=C)CC=C VPYJNCGUESNPMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical compound CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F283/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G
- C08F283/01—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G on to unsaturated polyesters
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/124—Carbonyl compound containing
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S522/00—Synthetic resins or natural rubbers -- part of the class 520 series
- Y10S522/908—Dental utility
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S525/00—Synthetic resins or natural rubbers -- part of the class 520 series
- Y10S525/92—Polyurethane having terminal ethylenic unsaturation
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S525/00—Synthetic resins or natural rubbers -- part of the class 520 series
- Y10S525/921—Polyester having terminal ethylenic unsaturation other than polyesterurethanes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Description
å?21zz92-9
reduktionsmedel har nu påträffats, kombinationer som tillsammans med
polymeriserbart, eteniskt omättat material bildar de fotopolymeriser-
bara kompositionerna enligt föreliggande uppfinning. Fotosensibilisa-
torerna är färglösa, eller på sin höjd svagt färgade, och är sålunda
icke några färgämnen. Kompositionerna, innehållande de nya kombina-
tionerna av fotosensibilisator och reduktionsmedel, är i allmänhet
polymeriserbara i högre grad, och ofta i avsevärt högre grad, än kom-
positioner, som innehåller fotosensibilisator, men som icke innehål-
ler något reduktionsmedel. Dessutom är de ljuskänsliga katalysatorer-
na i kompositionerna enligt föreliggande uppfinning i allmänhet mind-
re känsliga för närvaro av syre, än vad fallet är med många av de ljus-
känsliga färgämnena och reduktionsmedel som tidigare föreslagits. Så
t.ex. reduceras i hög grad, i sådana fall då det polymeriserbara,
eteniskt omättade materialet i kompositionen utgöres av en blandning
av en eteniskt omättad polyester och en eteniskt omättad monomer samt
den ljuskänsliga katalysatorn är en blandning av ett färgämne, t.ex.
rose bengal, och ett reduktionsmedel, den polymerisationshastighet,
som kan erhållas_vid bestrålning med lämpligt ljus, i närvaro av sy-
re. Å andra sidan är, i sådana fall då den ljuskänsliga katalysatorn
är en av de nya kombinationerna av fotosensibilisatorer och reduk-
tionsmedel enligt föreliggande uppfinning, den polymerisationshastig-
het som kan iakttagas i allmänhet på sin höjd endast i ringa mån re-
ducerad i närvaro av syre.
Kompositionerna enligt föreliggande uppfinning är stabila i
mörker, på sådant sätt att ringa om ens någon polymerisation äger
rum om kompositionen får stå under veckor eller t.o.m. under månader
i mörker. Polymerisationlav det eteniskt omättade materialet initie-
ras endast under inverkan av strålning med lämplig våglängd.
7 I enlighet härmed åstadkommas enligt föreliggande uppfinning
en fotopolymeriserbar komposition, innehållande ett polymeriserbart,
eteniskt omättat material och en ljuskänslig katalysator, vilken in-
nehåller en fotosensibilisator och ett reduktionsmedel som är i stånd
att reducera fotosensibilisatorn då denna befinner sig i ett excite-
rat tillstånd, varvid det polymeriserbara materialet är en omättad
ester eller polyester, en aromatisk vinylförening, en vinylnitril
eller en vinyluretan, vilken komposition i huvudsak kännetecknas av
att __
(1) fotosensibilisatorn är biacetyl eller har den allmänna
formeln
.J
A-c- x -A
u ()n
-o
7213392-9
där n är 1 eller O, X är > C=0, > CHOH eller CHOR4, där R4 är al-
kyl, och grupperna A, som kan vara lika eller olika, är aromatiska
grupper som kan vara substituerade med nitro, halogen eller alkoxi,
eller som är bundna tillsammans på annat sätt än medelst
-C-.X-
't ( )n
0
-gruppen, eller där grupperna A tillsammans bildar ett kondenserat
aromatiskt ringsystem eller en struktur av kamfer-typ,
(2) reduktionsmedlet har formeln
R
|
R _ N - R
där N är kväve och enheterna R, som kan vara lika eller olika, är
väteatomer, hydrokarbylgrupper eller substituerade hydrokarbylgrup-
per, eller två enheter R tillsammans med N kan bilda ett cykliskt
ringsystem, varvid icke fler än två av enheterna R är väteatomer
eller substituerade hydrokarbylgrupper, och där N är bundet direkt
till en aromatisk grupp R, varvid minst en av de andra enheterna R
har en
- é - grupp bunden till N,
I
H
och
(3) kompositionen, för varje l00-tal delar eteniskt omättat
material, innehåller 0,002-20 delar av den ljuskänsliga katalysatorn,
som i sin tur innehåller 0,001-10 delar av fotosensibilisatorn och
0,001-10 delar av reduktionsmedlet.
Polymera material kan framställas genom bestrålning av en fo-
topolymeriserbar komposition av ovan närmare beskrivet slag med strål-
ning som har en våglängd vilken kan absorberas av fotosensibilisa-
torn i och för omvandling av denna till ett exciterat tillstånd.
Strålningen kan vara synligt ljus eller ultravioletta strå-
lar eller också strålar som i sitt spektrum innehåller strålar med
både synliga och ultravioletta våglängder. Lämpligen kan strålningen
ha en våglängd inom området 230 mp till 600 mp. Solljus kan användas
som strâlningskälla, även om våglängden för den strålning som skall
användas kommer att bestämas av den speciella fotosensibilisatorn
i kompositionen, varvid strålningen har sådan våglängd, att den kan
absorberas av fotosensibilisatorn för att omvandla denna till Étt
7213392-9
exciterat tillstånd. En lämplig våglängd kan väljas med ledning av
enkla försök, t.ex. genom mätning av fotosensibilisatorns elektron-
absorptionsspektrum. 7
Grupperna A kan vara lika eller olika, men av lämplighetsskäl
är, vid framställningen av fotosensibilisatorn, grupperna A företrä-
desvis lika. Företrädesvis har gruppen X strukturen > C=O.
Då A är en aromatisk grupp kan den vara en bensenoid aroma-
tisk grupp, t.ex. en fenylgrupp, eller också kan den vara en non-ben-
senoid cyklisk grupp, vilken är känd på området för att vara i besitt-
pning av samma egenskaper som kännetecknar en bensenoid aromatisk grupp.
Särskilt föredragna fotosensibilisatorer är, på grund av de
höga.hastmflæmer, varmed det eteniskt omättade materialet kan polymeri-
seras, d-diketoner med strukturen I, där X är > C=O och n är l. I all-
mänhet kan a-diketonerna exciteras genom bestrâlning inom det synli-
ga området av spektrum, dvs med ljus som har en våglängd längre än
400 mp, t.ex. inom vâglängdomrâdet 400 mn - 500 mu, även om också
bestrâlning med ultraviolett ljus, eller med en blandning av ultra-
Violett ljus och synligt ljus, kan användas. Lämpliga a-diketon-foto-
sensibilisatorer inkluderar benzil, där båda grupperna A är fenyl,
a-diketoner, i vilka båda grupperna A är kondenserade aromatiska, =
t.ex. a-naftil och B-naftil, samt a-diketoner, i vilka grupperna A är
aralkylgrupper, t.ex. p-tolil. Som ett exempel på en lämplig a-dike-
ton-fotosensibilisator, i vilken grupperna A är non-bensenoid-aroma-
tiska, kan nämnas furil, där grupperna A har strukturen
I
o \.
A bära icke-hydrokarbylgrupper, varvid fotosensibilisatorn kan vara
t.ex. p,p'-dialkoxibenzil, t.ex. p,p'-dimetoxibenzil, eller p,p'-di-
halobenzil, t.ex. p,p'-diklorbenzil, eller p-nitrobenzil.
I fotosensibilisatorn med strukturen I kan n vara 0. Ett
[: 3, t.ex. 2,2Lfuril. I a-diketon-fotosensibilisatorn kan grupperna
exempel på en sådan fotosensibilisator är bensofenon, där båda grup-
perna A är fenyl.
Andra lämpliga. fotosensibilisatorer inkluderar sådana i vil-
ka n är l och X är > CHOH eller > CHOR4. Så t.ex. kan fotosensibilisa-
torn vara bensoin, en alkylbensoin, i vilken R4 är t.ex. metyl, a-
naftoin och B-naftoin, där båda grupperna A är kondenserade aromatis-
ka, p,p'-dialkoxibensoin, t.ex. p,p'-dimetoxibensoin, och p,p'-di-
halobensoin, t.ex. p,p'-diklorobensoin, där grupperna A bär icke-hyd-
rokarbylgrupper, samt furoin, där grupperna A är non-bensenoid-aroma-
tiska och har strukturen J
5 1213392-9
[Og , t.ex. 2,2'-furoin.
I fotosensibilisatorn kan grupperna A vara bundna tillsammans
genom en direkt bindning för att bilda ett cykliskt ringsystem, t.ex.
fluorenon eller fenantrakinon. Grupperna A kan också bilda en struk-
tur av kamfer-typ, såsom i kamferkinon, eller ett kondenserat aroma-
tiskt ringsystem, t.ex. acenaftenkinon.
Lämpligen är fotosensibilisatorn närvarande i en koncentra-
tion av 0,1-7 viktprocent, företrädesvis 0,5-5 viktprocent, räknat
på det eteniskt omättade materialet i kompositionen.
R Det reduktionsmedel med strukturen
R-à-R, som är närvarande i den fotopolymeriserbara kompositionen,
skall ha en reduktionspotential av sådant slag, att det är i stånd
att reducera fotosensibilisatorn då denna befinner sig i ett excite-
rat tillstånd, även om det icke har förmåga att reducera fotosensibi-
lisatorn då denna icke är exciterad genom bestrålning. Vidare är det
troligt att reduktionsmedlet. då det oxiderats av den exciterade fo-
tosensibilisatorn, måste kunna initiera polymerisation av det eteniskt
omättade materialet. Reduktionsmedlet skaIL vid den koncentration,
vid vilken det är närvarande i den fotopolymeriserbara kompositionen,
ha ringa eller ingen inhiberande verkan alls på polymerisationen
som sådan. Huruvida ett reduktionsmedel har inhiberande inverkan el-
ler ej kan bestämmas med hjälp av enkla försök, t.ex. genom att poly-
merisation av det eteniskt omättade materialet genomföres med hjälp
av en värmeinitiator i närvaro av, och i frånvaro av, ett reduktions-
medel i den önskade koncentrationen och genom jämförelse av polymeri-
sationshastigheterna i närvaro och frånvaro av reduktionsmedlet.
R Företrädesvis är reduktionsmedlet med strukturen
R-É-R fritt från aromatiska grupper bundna direkt till grundämnet N.
Reduktionsmeglet kan vara primärt, sekundärt eller tertiärt,
dvs i strukturen R-É-R kan två, en resp. ingen av enheterna R vara
väteatomer. Så t.ex. kan reduktionsmedlet vara en primär, sekundär
eller tertiär amin. _
En eller flera av grupperna R kan vara hydrokarbyl. Hydrokar-
bylgruppen kan vara t.ex. alkyl, cykloalkyl eller alkaryl. Lämpligen
kan gruppen R vara en alkylgrupp med l-10 kolatomer.
Exempel på lämpliga reduktionsmedel, i vilka en eller flera
av enheterna R är hydrokarbyl, inkluderar propylamin, n-butylamin,
pentylamin, hexylamin, dimetylamin, dietylamin, dipropylamin,_§i-n-
'7213392-9
-butylamin, dipentylamin, trimetylamin, trietylamin, tripropylamin,
tri-n-butylamin, tripentylamin, dimetylaminoetylmetakrylat, och lång-
kedjiga alifatiska aminer, t.ex. Cl8H37NMe2. Exempel på reduktions-
medel, innehållande aromatiska grupper, inkluderar N,N'-dimetylanilin
och N-metyldifenylamin.
En eller flera av enheterna R kan vara en substituerad hydro-
karbylgrupp och isynnerhet kan hydrokarbylgruppen bära en substituent
R
som har strukturen - RS - N: 6 , där enheten RS är t.ex. en alkylen-
R
6
kedja samt enheterna R6, som kan vara lika eller olika, är t.ex. vä-
teatomer eller hydrokarbylgrupper. R
Exempel pâ reduktionsmedel med strukturen R-É-R, där minst en
av enheterna R är en substituerad hydrokarbylgrupp, inkluderar diami-
ner med strukturen
N - (CK2)n - N::R6 , där n är ett helt tal med ett värde av minst
6
2 och grupperna R6, som kan vara lika eller olika, är väteatomer el-
6\
R:
ler hydrokarbylgrupper, isynnerhet alkylgrupper. Så t.ex. kan reduk-
tionsmedlet vara etylendiamin, trimetylendiamin, tetrametylendiamin,
pentametylendiamin eller hexametylendiamin, eller N-hydrokarbylderi-
vat, och då isynnerhet N-alkylderivat, därav. Andra lämpliga reduk-
tionsmedel inkluderar derivat med strukturen t
R6\ / Rs
/,N - (CH2)n - N\_ , där en eller flera av väteatomerna i -CH2-
R R
6 6
. /Ra . '
enheten bär en - N -gruPP: isynnerhet en -NH -grupp.
\R _ 2
6
Exempel på reduktionsmedel, i vilka grundämnet N bildar del
av ett cykliskt ringsystem, inkluderar piperidin samt N-hydrokarbyl-
derivat, isynnerhet N-alkylderivat, av piperidin.
Andra reduktionsmedel inkluderar triallylamin,
(allyl)2-N-CH2-<::>-CH2-N-(allyl)2, allyltiourea, o-tolyltiourea,
och lösliga salter av aromatiska sulfinsyror, t.ex. S-bensyliso-tiu-
ronium~p-toluensulfinat.
Företrädesvis är reduktionsmedlet närvarande i en koncentra-
tion av l-5 viktprocent, räknat på det eteniskt omättade materialet
i den fotopolymeriserbara kompositionen.
I sådana fall då en eller flera av grupperna R i reduktions-
7 7213392-9
medlet R-N-R är aromatiskt är det att föredraga att ha en koncentra-
I
R
tion av reduktionsmedel i den fotopolymeriserbara kompositionen inom
området 0,01-0,5 viktprocent, räknat på det eteniskt omättade materia-
let i kompositionen, detta på grund av de höga polymerisationshastig-
heter, som kan erhållas då reduktionsmedlet är närvarande i en mängd
inom detta koncentrationsområde.
Det är önskvärt att fotosensibilisatorn och reduktionsmedlet
är lösliga i det eteniskt omättade materialet, åtminstone i en omfatt-
ning som är tillräcklig för att ge den önskade koncentrationen däri.
Även om polymerisation kommer att fortskrida då fotosensibilisatorn
och reduktionsmedlet icke är fullständigt lösliga, är det avgjort
att föredraga, att fotosensibilisatorn och reduktionsmedlet tillsam-
mans är fullständigt lösliga i det eteniskt omättade materialet i
önskad omfattning.
Sättet för hopblandning av fotosensibilisatorn och reduktions-
medlet med det eteniskt omättade materialet kan påverka framgången
eller inverka på annat sätt vad gäller att uppnå de önskade koncent-
rationerna av fotosensibilisator och reduktionsmedel däri.
Sålunda har det visat sig, i sådana fall då fotosensibilisa-
torn eller reduktionsmedlet icke är tillräckligt löslig(t) i det ete-
niskt omättade materialet, eller i sådana fall då den ena eller den
andra av dessa komponenter kan lösas endast med svårighet, att upp-
lösning av fotosensibilisatorn och/eller reduktionsmedlet kan befräm-
jas genom att det eteniskt omättade materialet försättas med en liten
mängd av ett utspädningsmedel, i vilket fotosensibilisatorn eller
reduktionsmedlet är löslig(t) och som är blandbart med det eteniskt
omättade materialet. Lämpligen kan fotosensibilisatorn eller reduk-
tionsmedlet införas i det eteniskt omättade materialet i form av en
lösning i ett sådant utspädningsmedel.
Fotosensibilisatorn och reduktionsmedlet kan lösas i samma
sats av ett lämpligt utspädningsmedel och därefter sättas till det
eteniskt omättade materialet. Alternativt kan fotosensibilisatorn och
reduktionsmedlet lösas i olika satser av samma eller av olika utspäd-
ningsmedel och sättas till det eteniskt omättade materialet. Sättet
för tillsättning av lösningsmedlet eller lösningsmedlen och mängder-
na därav som skall användas kan lätt bestämmas av en fackman på om-
rådet.
I allmänhet fortskrider polymerisation av det eteniskt omät-
Lade materialet lätt vid omgivningens temperatur, då kompositignen
-7213392-9
bestrålas med strålar som har en våglängd vilken omvandlar fotosen-
sibilisatorn till ett exciterat tillstånd. Polymerisationshastigheten
kan emellertid i allmänhet ökas genom att polymerisationen genomföras
vid en temperatur högre än omgivningens.
Vinylestrar, lämpliga att använda vid förfarandet enligt före-
liggande uppfinning, inkluderar t.ex. vinylacetat och estrar av akryl
syra med strukturen CH2 = CH - COOR7, där R7 är en alkyl-, aryl-,
alkaryl-, aralkyl- eller cykloalkylgrupp. Som exempel kan nämnas, att
R7 kan vara en alkylgrupp med l-20 och företrädesvis l-l0 kolatomer.
Speciella vinylestrar som kan nämnas inkluderar t.ex. metylakrylat,
etylakrylat, n- och iso-propylakrylater samt n-, iso- och tert.-buty1-
akrylater. '
Andra lämpliga vinylestrar inkluderar t.ex. estrar med formeln
CH2 = C(R8IC00R7, där R8 är metyl. I estern med formeln CH2 =
= C(R8)C0OR7 kan R7 och R8 vara lika eller olika. Särskilda vinyl-
estrar som kan nämnas i samanhanget inkluderar t.ex. metylmetakry-
lat, etylmetakrylat, n- och iso-propylmetakrylat samt n-, iso- och
tert.-butylmetakrylat. Lämpliga aromatiska vinylföreningar inkluderar
t.ex. styren och derivat därav, t.ex. u-alkylderivat av styren, så-
som a-metylstyren, samt vinyltoluen. 7
Andra lämpliga vinylestrar inkluderar hydroxialkylakrylater
och.-metakrylater, t.ex. hydroxietylakrylat, hydroxipropylakrylat,
hydroxietylmetakrylat och hydroxipropylmetakrylat.
Lämpliga vinylnitriler inkluderar t.ex. akrylnitril och deri-
vat därav, t.ex. metakrylnitril.
Det eteniskt omättade materialet kan innehålla minst en ete-
niskt omättad polyester, bildad genom kondensation av minst en ete-
niskt omättad polykarboxylsyra eller -anhydrid, valfritt i kombina-
tion med minst en mättad polykarboxylsyra eller -anhydrid, med minst
en polyol. _ _
I sådana fall då den fotopolymeriserbara kompositionen inne-
håller en blandning av en eteniskt omättad polyester och en eteniskt
omättad monomer kan polyestern och monomeren lämpligen vara närvaran-
de i kompositionen i en viktproportion mellan polyester och monomer
av 99:l - 1:99, företrädesvis 90:10 - 10:90.
Det har i enlighet med uppfinningen visat sig, att i sådana-
fall då det eteniskt omättade materialet i den fotopolymeriserbara
kompositionen innehåller en blandning av en eteniskt omättad polyes-
Ler och en eteniskt omättad monomer, accelerationen i polymerisations-
hastigheten för det eteniskt omättade materialet, som erhållesJgenom
'7213392-9
att en viss bestämd koncentration av reduktionsmedel är närvarande
i kompositionen, är högre ju lägre syratalet är för den eteniskt
omättade polyestern i kompositionen.
Den eteniskt omättade monomeren kan vara, eller kan innehål-
la, en polyfunktionell monomer, vars polymerisation leder till bild-
ning av förnätade material. Lämpliga polyfunktionella, eteniskt omät-
tade monomerer inkluderar t.ex. divinylbensen, glykoldimetakrylat
och en reaktionsprodukt av ett hydroxialkylakrylat eller -metakrylat
med en isocyanat-ändad addukt av en diol och ett diisocyanat, t.ex.
en reaktionsprodukt av hydroxietylmetakrylat och en isocyanat-ändad
addukt av 4,4'-difenylmetandiisocyanat och oxipropylerad bisfenol-A.
I sådana fall då det eteniskt omättade materialet är ett fast
ämne kan det, i avsikt att framställa en vätskeformig komposition,
vara lämpligt att i kompositionen införliva en tillräcklig mängd av
ett lämpligt utspädningsmedel. Utspädningsmedlet skall av naturliga
skäl ha liten eller ingen inhiberande inverkan på polymerisationen
av det eteniskt omättade materialet i kompositionen.
Kompositionerna enligt föreliggande uppfinning är lämpliga
för framställning av formade alster av polymera material, t.ex. folier,
och är särskilt lämpliga att använda vid framställning av polymera
material i form av filmer och då isynnerhet färgskikt. Sålunda bildar
kompositionerna enligt uppfinningen, eftersom de är i huvudsak stabi-
la på sådant sätt, att ringa eller ingen polymerisation alls av det
eteniskt omättade materialet äger rum i frånvaro av bestrâlning, lag-
ringsbeständiga kompositioner, som kan formas till en film, t.ex.
ett färgskikt, och därefter bringas eller får polymerisera genom in-
verkan av ljus, t.ex. genom att filmen utsättes för inverkan av na-
turligt ljus, såsom solljus. Då de formas till en film och utsättes
för inverkan av ljus polymeriserar kompositionerna snabbt.
De kompositioner som användes vid förfarandet enligt förelig-'
gande uppfinning, och detta gäller isynnerhet kompositioner som skall
användas vid bildning av förnätade material, särskilt färgskikt, kan
också innehålla pigment, som kan vara organiska eller oorganiska.
I sådana fall då kompositionen innehåller ett pigment, skall
en fotosensibilisator väljas, som exciteras medelst strålar, som har
en våglängd som icke i någon överdriven omfattning absorberas av det
pigment som är närvarande i kompositionen. Företrädesvis skall pig-
mentet vara transparent för strålar vid den våglängd, som exciterar
fotosensibilisatorn. I sådana fall då pigmentet absorberar ultravio-
letta strålar, men absorberar ringa eller ingen strålning allsJinom
7213392-9
10
det synliga området av spektrum, är sådana fotosensibilisatorer i
kompositionerna enligt föreliggande uppfinning, som exciteras av
synligt ljus, t.ex. a-diketonerna, särskilt värdefulla.
Andra tillsatser kan också vara närvarande i de fotopolymeri-
serbara kompositionerna, t.ex. antioxidanter och UV-stabilisatorer.
Uppfinningen kommer nu att belysas närmare med hjälp av ne-
danstående utföringsexempel, i vilka alla angivna delar avser vikt-
delar, för såvitt icke annorlunda särskilt framgår av texten.
Exempel 1
2 delar benzil löstes i 263 delar av en blandning av 38 vikt-
procent styren och 62 viktprocent av en omättad polyester, vilken po-
lyester hade ett syratal av 41 mg KOH/g och hade framställts genom
kondensation av propylenglykol, fumarsyra och isoftalsyra, med ett
molförhållande mellan fumarsyra och isoftalsyra av 3:1. Den resulte-
rande blandningen hälldes i en kolv av Pyrex-glas, som därefter till-
slöts och bestrålades med en blandning av ultraviolett och synligt
ljus från åtta 20 W blå fluorescerande lysrör (Atlas). Maximi-emis-
sionen var 425 mp. Lysrören var anordnade i en ring och kolven var
placerad på ett avstånd av ca 75 m från varje rör.
Efter bestrålning under 20 minuter hade innehållet i kolven
gelat i så hög grad, att det icke längre kunde hällas. Detta till-
stånd kommer i det följande att kallas gelningspunkten eller gelnings-
tiden.
Vid ytterligare försök chargerades kolvar av Pyrex-glas med
benzil samt med blandningen av styren och omättad polyester på sam-
ma sätt som ovan beskrivts och dessutom med 4 viktdelar reduktions-
medel. De gelningstider, som härvid erhölls i närvaro av ett antal
olika reduktionsmedel, finns sammanställda i tabell l nedan.
Tabell l
Reduktionsmedel Gelningstid
Dimetylaminoetylmetakrylat 15 sek.
n-butylamin 6 min.
di-n-butylamin > ' 3 min,
trietylamin _ 35 sek.
allyltiourea 2,1 min.
S-bensyl-iso-tiuronium-p-toluensulfinat l min.
72123392-9
ll
Exempel 2
Den i exempel l beskrivna proceduren upprepades, med undan-
tag av att i ett första experiment, som genomfördes i frånvaro av
reduktionsmedel, 4 delar fluorenon användes i stället för benzil,
och att i ett andra försök, som genomfördes i närvaro av reduktions-
medel, 4 delar dimetylaminoetylmetakrylat användes som reduktions-
medel. De gelningstider som härvid erhölls var ca 2 timmar resp. 6
minuter.
Exempel 3
Det i exempel l beskrivna tillvägagångssättet upprepades, med
undantag av att i ett första experiment, som genomfördes i frånvaro
av reduktionsmedel, 0,1 del fenantrakinon användes i stället för ben-
zil, och att i ett andra försök, som genomfördes i närvaro av reduk-
tionsmedel, 4 delar dimetylaminoetylmetakrylat användes som reduk-
tionsmedel. De gelningstider som härvid kunde konstateras var ca 30
minuter resp. 3 minuter.
Exemoel 4
Det i exempel 3 angivna förfarandet upprepades, med undantag
av att 2 delar bensofenon användes i stället för fenantrakinonen och
att den ljuskälla som användes var en 250 W mediumtryck-kvicksilver-
lampa (Hanovia), varvid kolven var placerad på ett avstånd av 10 cm
från lampan.
Gelningstiderna som härvid erhölls var ca 2 timmar resp. 33
minuter.
Exempel 5
Den i exempel 1 beskrivna proceduren upprepades, med undan-
tag av att kolven av Pyrex-glas chargerades med 100 delar av en för-
ening med strukturen XHNCONHX, där X har strukturen -CH2-O-CH2-CH2-
-0COC(CH3)=CH2, och 2 delar benzil. Den gelningstid som kunde konsta-
teras vid bestrålning av innehållet i kolven var 25 minuter.
Vid ytterligare två försök upprepades den ovan beskrivna pro-
ceduren, med undantag av att kolvarna också beskickades med 4 delar
dimetylaminoetylmetakrylat resp. 4 delar allyltiourea. De gelnings-
tider som erhölls var 2 minuter 45 sekunder resp. l minut 25 sekun-
der.
Exempel 6
Till en lösning av 2 delar benzil och 4 delar dimetylaminoetyl-
metakrylat i 263 delar av en blandning av styren och omättad poly-
ester av enligt exempel 1 använt slag sattes 3 delar av en l0-vikt-
7213392-9
12
procentig lösning av paraffinvax i toluen. Blandningen göts på en
metallplåt och utsattes för inverkan av ljus från två 2 kW högtrycks-
kvicksilverlampor. Plåten var placerad på ett avstånd av 10 cm från
lamporna. Efter 15 sekundersinverkan av lamporna hade en hård förnä-
tad film bildats. _
Ett liknande resultat erhölls då blandningen innehöll 30 de-
lar dispergerad titandioxid (rutil).
Exempel 7
2 delar u-naftil och 4 delar dimetylaminoetylmetakrylat lös-
tes i 260 delar av en blandning av 38 viktprocent styren och 62 vikt-
procent av en omättad polyester av enligt exempel l använt slag. Den
resulterande blandningen infördes i en kolv av Pyrex-glas, som däref-
ter tillslöts och bestrålades med ljus från åtta 20 W blå fluoresce-
rande lysrör (Atlas). Lysrören var anordnade i en ring och kolven var
placerad på ett avstånd av ca 75 mm från varje rör.
Efter bestrålning under 2,5 minuter hade innehållet i kolven
gelat i sådan grad, att det icke längre kunde hållas.
I jämförelsesyfte upprepades det ovan beskrivna försöket, med
undantag av att dimetylaminoetylmetakrylatet utelämnades. I detta
fall hade innehållet i kolven icke gelat ens efter bestrålning under
30 minuter.
Exempel 8
Den i exempel 7 beskrivna proceduren upprepades, med undantag
av att u-naftilen ersattes med B-naftil.
I närvaro av dimetylaminoetylmetakrylat hade innehållet i kol-
ven gelat efter bestrålning under 2 minuter, under det att, för jäm-
förelses skull och i frånvaro av dimetylaminoetylmetakrylat, innehål-
let i kolven gelade efter bestrålning under 6 minuter.
Exempel 9
Det i exempel 7 beskrivna tillvägagångssättet upprepades, med
undantag av att u-naftilen ersattes med p-tolil.
I närvaro av dimetylaminoetylmetakrylat gelade innehållet i
kolven efter bestrålning under 15 sekunder, under det att, för jämfö-
relses skull och i frånvaro av dimetylaminoetylmetakrylat, innehål-
let i kolven icke hade gelat ens efter bestrålning under 30 minuter.
Exempel 10
Vid ett antal försök polymeriserades 100 viktdelar av en bland-
ning av 38 viktprocent styren och 62 viktprocent av en omättadJpoly-
ester av enligt exempel l använt slag, på liknande sätt som beskrivits
13 7213392-9
i exempel 1, med användning av ett antal olika fotosensibilisatorer
och i jämförelsesyfte användes fotosensibilisatorerna antingen ensam-
ma eller i närvaro av ett reduktionsmedel. De erhållna resultaten finns
sammanställda i nedanstående tabell 2.
Tabell 2
Reduktionsmedel, dime-
Fotosensibilisator tylaminoetylmetakrylat Gelnings-
viktdelar viktdelar tid
Acenaftenkinon 0,2 4 3 min.
“ " 0 >l5 min.
B-naftoin 2,0 4 6 min.
" " 0 15 min.
a-naftoin 2,0 4 2 min.
" " 0 7 min.
Benzoin 2,0 4 4 min.
" " 0 8 min.
4,4'-diklorbenzil 0,35 4 1 min.
" " 0 30 min.
Anisil 2,0 4 l/2 min.
“ " 0 >l0 min.
Anisoin 2,0 4 4 min.
“ " 0 >l0 min.
Furil 0,3 4 4 min.
" " 0 >20 min.
Biacetyl 2,0 4 2 min.
" " 0 >l0 min.
Kamferkinon 2,0 4 1/3 min.
“ " 0 >20 min.
Exemgel ll
Den i exempel l beskrivna arbetsgången följdes med användning,
i stället för blandningen av styren och omättad polyester som använ-
des enligt exempel 1, av de monomerer och blandningar av monomerer
som framgår av nedanstående tabell 3 i där angivna mängder, och med
användning i stället för benzilen och de reduktionsmedel som använ-
des enligt exempel 1 i där angivna mängder, av de fotosensibilisato-
rer och reduktionsmedel, som också framgår av nedanstående tabell 3,
i där angivna mängder.
7213392-9
14
Bestrâlningsproceduren och metoden för bestämning av gelnings-
tiden var desamma som beskrivits i exempel l.
Tabell 3
lknxxnar, Fbtosensibilisator, Reduktionsnedel, Gelnings-
Försök viktdelar , wdktdelar vfldflelar tfld
A l N-vinylpyroliden Benzil 2 Allyltiourea 4 5 nün.
7 95 Ghßokünet-
akrylat 5
A.2 “ " - l5nün.
B 1 Styren 95 5 Benzil 2 Dinetylaminoetyl- 300 min.
_ Divhufllæxsen 5 neuæuydat 4
B 2 " “ - ' >400 nån.
, C l Hetyünetakrylat 95 Benzil 2 tünsmylanánoetyl- 45 min.
Glykolanætalmylat s netakryiat 4
C 2 " " - 120nfin.
n 1 “vinyluretan 66,7 Benzil 2 Dinetyiammoetyl- 1 1/3 m.
Hbtyünetakrylat 33,3 netakrylat 4
D 2 “ " - 4 1/4nün.
E l Akrylnitril 95 Benzil 2 Iünetylanfinoetyl- 30 nün.
Glykohdümæakrylat 5 meuflugdat 4
E 2 " " - >90nün.
F 1 Hydroxietyl Biacetyl 2 Dinetylandnetyür 4 1/2 min.
nsiakrylat 100 netmuqdat 4
F 2 _ " “ - 7 nån.
F 3 " Benzil 2 Dinemylanünoetyl- 7 min.
netæoädat 4
F 4 “ “ - ' . >2o m.
x En vinyländad reaktionsprodukt av hydroxietylmetakrylat och en iso-
cyanat-ändad addukt av 2 mol 4,4'-difenylmetandiisocyanat och l mol
oxipropylerad bisfenol-A med en molekylvikt av ca l040.
Exemgel 12
I avsikt att påvisa stabiliteten hos de fotopolymeriserbara
kompositionerna i frånvaro av bestrålning bereddes två lösningar,
var och en innehållande 100 viktdelar av en blandning av styren och
omättad polyester av enligt exempel l använt slag, 4 viktdelar dime-
tylaminoetylmetakrylat samt 2 viktdelar benzil resp. 2 viktdelar fluor-
enon.
Lösningarna förvarades separat i mörka, tillslutna flaskor.
Efter förvaring 15 månader öppnades flaskorna. Blandningarna av sty-
15 7213392-9
ren och omättad polyester företedde liten om ens någon förändring
i viskositet, vilket utvisade att ringa om ens någon polymerisation
ägt rum under förvaringen.
Exempel 13
Eër§ëk_ê
På liknande sätt som beskrivits i exempel 1 chargerades fyra
kolvar av Pyrex-glas separat med en lösning av 100 viktdelar av en
blandning av styren och omättad polyester av enligt exempel 1 använt
slag, 4 viktdelar dimetylaminoetylmetakrylat samt med 2, 0,5, 0,1
resp. 0,05 delar benzil.
Kolvarna bestrålades med en blandning av synligt och ultravio-
lett ljus (maximiemission 425 mn) från åtta 20 W blå fluorescerande
lysrör (Atlas) på liknande sätt som beskrivits i exempel 1.
Gelningstiderna för blandningarna i kolvarna var 20 sekunder,
25 sekunder, 60 sekunder resp. 95 sekunder.
§ër§ëë_§
Det ovan beskrivna tillvägagångssättet upprepades, med undan-
tag av att de blå fluorescerande lamporna ersattes med åtta 20 W blå
lysrör med svart ljus (Atlas). Dessa lysrör sände ut ultraviolett ljus
med en maximiemission av 350 um.
Gelningstiderna för blandningarna i kolvarna var 10 minuter,
60 sekunder, 70 sekunder resp. 90 sekunder.
EëE§ëE_§
Det tillvägagångssätt, som beskrivits under "Försök A" ovan,
upprepades, med undantag av att de strålar som riktades emot kolvarna
först filtrerades genom en l cm tjock, 8-procentig vattenlösning av
natriumnitrit i avsikt att filtrera bort de ultravioletta strålarna
från det ljus som lysrören utsände.
Gelningstiderna förblev oförändrade.
Exempel 14
Vid två separata försök följdes den i exempel l beskrivna pro-
ceduren med användning av 100 delar av en blandning av styren och
en omättad polyester, 2 delar benzil och som reduktionsmedel l del
0-tolyltiourea samt 2 delar natriumdietylditiofosfat.
Gelningstiderna var 2 minuter resp. 5 minuter.
Exempel 15
Det i exempel 1 beskrivna tillvägagångssättet följdes med an-
vändning av 100 delar av en blandning med ett syratal av 25 mgJKOH/g
~ '7753392-9
16
och innehållande 30 delar styren samt 70 delar av en omättad polyes-
ter, framställd genom kondensation av propylenglykol, maleinsyraan-
hydrid och isoftalsyra med ett molförhâllande mellan maleinsyraan-
hydrid och isoftalsyra av 2;l. Efter bestrâlning under 18 minuter ha-
de innehållet i kolven nått gelningspunkten.
Vid ett ytterligare försök upprepades den ovan beskrivna ar-
betsgången, med undantag av att blandningen av omättad polyester och
styren hade ett syratal av 0,8 mg KOH/g. Den omättade polyestern fram-
ställdes på samma sätt som ovan beskrivits, med undantag av att kon-
densationsreaktionen genomfördes tills den omättade polyestern hade
ett syratal av l0 mg KOH/g och attéflyestern efteråt bringades rea-
gera med en glycidylester (Cardula E, Shell Chemical Company) tills
en polyester med det önskade syratalet bildats.
Gelningspunkten uppnåddes efter bestrålning under 15 sekunder.
Exempel 16
En målningsfärg-komposition framställdes genom hopblandning av
25 delar titandioxid, 63 delar av en blandning av styren och en omät-
tad polyester av i exempel 15 beskrivet slag, varvid blandningen ha-
de ett syratal av 0,8 mg KOH/g, 3 delar kiseldioxid, 0,3 delar paraf-
0,35 delar benzil och 0,35 delar dimetylaminoetylmetakrylat.
En våt film med en tjocklek av 0,07-0,08 mm utströks på en plåt
och placerades på ett avstånd av 20 cm från två 2 kW högtrycks-kvick-
silverlampor. Filmen härdade inom loppet av 2 minuter till en hård
icke-klibbande film.
En liknande folie bringades härda genom inverkan av dagsljus;
finvax,
Vid ett annat experiment följdes den ovan beskrivna proceduren, med
undantag av att dessutom 2,5 delar av ett blått pigment (Monolite
Fast Blue 3 RS, Imperial Chemical Industries Limited) inblandades i
målningsfärg-kompositionen.
Filmen krävde 2,5 minuters bestrålning med de båda 2 kW hög-
trycks-kvicksilverlamporna för att härda till en hård icke-klibbande
film.
Exempel 17
Det i exempel l beskrivna tillvägagângssättet följdes vid två
separata experiment, med användning av 100 delar av en blandning av
styren och omättad polyester, 4 delar dimetylaminoetylmetakrylat som
reduktionsmedel samt 0,2 resp. 0,02 delar p-nitrobenzil.
Gelningstiderna var 5 minuter resp. 2,5 minuter.
7213392-9
17
Exemoel 18
Proceduren enligt exempel l följdes i två separata försök
med användning av 100 delar av en blandning av styren och omättad
polyester, 2 delar benzil och 0,1 del av N,N-dimetylanilin resp. N-
~metyldifenylamin.
Gelningstiderna var 80 sekunder resp. 90 sekunder.
I frånvaro av reduktionsmedlet uppgick gelningstiden till 20
minuter.
Exempel 19
Till en lösning av 2 delar benzil och 4 delar dimetylaminoetyl-
metakrylat i 100 delar av en blandning av styren och en omättad poly-
ester av enligt exempel l använt slag sattes 3 delar av en l0-vikt-
procentig lösning av paraffinvax i toluen.
En tunn film av lösningen utströks på en plåt och utsattes för
inverkan av dagsljus i luft. Filmen härdade till en hård film inom
loppet av 2-30 minuter i beroende av dagsljusets intensitet.
För jämförelses skull, och i avsikt att belysa känsligheten
för luft hos tidigare föreslagna, ljuskänsliga färgämnen, upprepades
den ovan beskrivna proceduren, med undantag av att benzilen ersattes
med 0,1 del rose bengal. Filmen hade icke härdat efter exponering i
luft för dagsljus under 2 dagar. Då lösningen, innehållande rose ben-
gal, i sin helhet infördes i en kolv av Pyrex-glas, som därefter till-
slöts, och sedan utsattes för inverkan av dagsljus, gelade emellertid
lösningen inom loppet av 30 minuter, vilket sålunda utvisade, att rose
bengal i klup var i stånd att polymerisera blandningen av styren
och omättad polyester.
Försöksrapport
Eë:§§ë_l
4 g benzil löstes i en varm blandning av 16 g trietylamin
(TEA) och 3 g styren. Den resulterande lösningen sattes till 400 g
av en blandning av styren och ett omättat polyesterharts, vilken bland-;
ning förekommer i handeln under varubenämningen Crystic 199 (Scott-
Bader).
Ett l grams prov av den resulterande vätskeformiga blandningen
infördes i en 2 ml ampull, som därefter placerades ca 60 cm framför
en 400 W MBI PAR 64-lampa av fabrikat Thorn. Den tid det tog för
blandningen att gela just i sådan omfattning, att den icke längre
kunde hållas, noterades och denna tid sades representera blandningens
gelningstid. J
'7213392-9
18
Ett separat 100 grams prov av den vätskeformiga blandningen
placerades i en form, bestående av glasskivor som var åtskilda medelst
en 6 mm gummipackning, och formen placerades på ett avstånd av ca
90 cm framför den ovan angivna lampan. Provets exoterm under dess
gelning registrerades. Bestrålningen av formen fortsattes under 1
timme, efter vilken tid den avbröts och formen fick svalna. Det kalla
provet uttogs från formen och dess Barcol-hårdhet bestämdes. Provet
förvarades därefter i mörker och efter ytterligare 24 timar bestäm-
des dess Barcol-hårdhet på nytt, varjämte dess procentuella åldrings~
fria styrenhalt fastställdes.
EëE§ëE_2
Den i försök l beskrivna arbetsgången upprepades, men med an-
vändning av 16 g dimetylaminoetanol (DMAE) i stället för trietylaminen.
Eëifsëlaâ i
De i försök l.beskrivna procedurerna upprepades, men med an-
vändning av 16 g trietanolamin (TEOA) i stället för trietylaminen.
De erhållna resultaten finns samanställda i nedanstående ta-
bell.
Tabell
7 Exotenn
. Bæaxflrhårdhet % styren väx. dæmn.
Gelnurfir . . . -
... n . ._ l . 24 flnfir . d _ T .
Forsok Amin tia (sekJ F tmB - Ftlf- B 24 tim. (ššh) ä?
TEA 20 25 10 32 15 1,99 9 93
DAE 25 32 18 35 22 1,87 8 96
TBQA 105 O 0 8 0 3,51 24 60
Exotermerna finns utritade på bifogade diagram.
De ovan redovisade försöken visar, att användning av benzil
i närvaro av trietylamin eller dimetylaminoetanol leder till mycket
överlägsna resultat jämfört med användning av benzil i närvaro av
trietanolamin.
Claims (2)
1. Fotopolymeriserbar komposition, innehållande ett poly- meriserbart, eteniskt omättat material och en ljuskänslig katalysator, vilken innehåller en fotosensibilisator och ett reduktionsmedel som är i stånd att reducera fotosensi- bilisatorn då denna befinner sig i ett exciterat tillstånd, varvid det polymeriserbara materialet är en omättad ester eller polyester, en aromatisk vinylförening, en vinylnitril eller en vinyluretan, k ä n n e t e c k n a d a v att (1) fotosensibilisatorn är biacetyl eller har den allmän- na formeln A - C - C - A II II O O där grupperna A, som kan vara lika eller olika, är aroma- tiska grupper som kan vara substituerade med nitro, halogen eller alkoxi, eller som är bundna tillsammans på annat sätt än medelst C _ II O -gruppen, eller där grupperna A tillsammans bildar ett kon- 0:0 denserat aromatiskt ringsystem eller en struktur av kamfer- typ, (2) reduktionsmedlet har formeln i R R - N - R där N är kväve och enheterna R, som kan vara lika eller olika, är väteatomer, hydrokarbylgrupper eller substituerade hydrokarbylgrupper, eller två enheter R tillsammans med N kan bilda ett cykliskt ringsystem, varvid icke fler än två av enheterna R är väteatomer eller substituerade hydro- karbylgrupper, och där N är bundet direkt till en aromatisk grupp R, varvid minst en av de andra enheterna R har en - C - grupp bunden till N, och 7213392-9 bb (3) kompositionen, för varje 100-tal delar eteniskt omättat material, innehåller 0,002 - 20 delar av den ljus- känsliga katalysatorn, som i sin tur innehåller 0,001 - 10 »delar av fotosensibilisatorn och 0,001 - 10 delar av reduk- tionsmedlet.
2. Kompositíon enligt krav 1, k ä n n e t e c k n a d' a V att fotosensibilisatorn är åtminstone en av benzil, biacetyl, a-naftil, B-naftil, furíl, p,p'-dimetoxibenzil, p,p'-diklorbenzil, p-tolil och p-nitrobenzil.
3. Komposition enligt krav 1, k ä n n e t e c k n a d a v att fotosensibilisatorn har strukturen x Y)m -c-.C- II II O O där Y är )CH2, eller ett hydrokarbylderivat därav, samt m är O, 1 eller 2. U. Komposition enligt krav 3, k ä n n e t e c k n a d a v att fotosensibilisatorn är minst en av fenantrakinon, acenaftenkinon och kamferkinon.
5. Komposition enligt ett eller flera av föregående krav, k ä n n e t e c k n a d a v att reduktionsmedlet är minst en av föreningarna dimetyl-aminoetylmetakrylat, n-butylamin, di-n-butylamin, trietylamin, N,N-dimetylanílin och N-metyl- difenylamín.
6. Komposition enligt ett eller flera av kraven 1 - 4, k ä n n e t e c k n a d a v att reduktionsmedlet är minst en av föreningarna allyltiourea, S-bensyl-isotiuronium-p- toluen-sulfinat och o-tolyltiourea. .U
7. Komposition enligt ett eller flera av kraven 1 - 6, k ä n n e t e c k n a d a v att reduktionsmedlet är närvarande i en koncentration inom området 1 - 5 viktprocent, räknat på det eteniskt omättade materialet i kompositionen.
8. Komposition enligt ett eller flera av kraven 1 - 7, k ä n n e t e c k n a d a v att den innehåller minst ett pigment och att den är lämplig att använda som målningsfärg- komposition.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB4836571 | 1971-10-18 | ||
GB980772*[A GB1408265A (en) | 1971-10-18 | 1972-03-02 | Photopolymerisable composition |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SE412396B SE412396B (sv) | 1980-03-03 |
SE412396C true SE412396C (sv) | 1984-03-19 |
Family
ID=26243188
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SE7213392A SE412396C (sv) | 1971-10-18 | 1972-10-17 | Fotopolymeriserbar komposition |
Country Status (16)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4071424B1 (sv) |
JP (1) | JPS5410986B2 (sv) |
AT (1) | AT331507B (sv) |
BE (1) | BE789950A (sv) |
CA (1) | CA984210A (sv) |
CH (1) | CH593305A5 (sv) |
DE (2) | DE2251048C2 (sv) |
DK (1) | DK147708C (sv) |
ES (1) | ES407740A1 (sv) |
FR (1) | FR2156760B1 (sv) |
GB (1) | GB1408265A (sv) |
HK (1) | HK57478A (sv) |
IT (1) | IT969627B (sv) |
NL (1) | NL165570C (sv) |
NO (1) | NO142915C (sv) |
SE (1) | SE412396C (sv) |
Families Citing this family (199)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1412754A (en) * | 1971-12-29 | 1975-11-05 | Ici Ltd | Photopolymerisable composition |
US4110184A (en) | 1973-04-24 | 1978-08-29 | Imperial Chemical Industries Limited | Photocurable dental filling compositions |
US4089763A (en) | 1973-04-24 | 1978-05-16 | Imperial Chemical Industries Limited | Method of repairing teeth using a composition which is curable by irradiation with visible light |
GB1469643A (en) * | 1973-11-19 | 1977-04-06 | Ici Ltd | Photopolymerisable composition |
GB1485776A (en) * | 1974-01-10 | 1977-09-14 | Ici Ltd | Method of making a foamed article |
US4069054A (en) * | 1975-09-02 | 1978-01-17 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photopolymerizable composition containing a sensitized aromatic sulfonium compound and a cationacally polymerizable monomer |
GB1553580A (en) * | 1975-11-21 | 1979-09-26 | Espe Pharm Praep | Photopolymerisable acrylic or methacrylic acid ester-containing compositions |
DE2625538C2 (de) * | 1976-06-05 | 1984-03-22 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Photopolymerisierbare Überzugsmassen |
DE2730462A1 (de) * | 1976-07-15 | 1978-01-19 | Ciba Geigy Ag | Photoinitiatoren fuer uv-haertbare massen |
CA1117685A (en) * | 1976-11-15 | 1982-02-02 | Narayanan Madhavan | One paste polymeric dental restorative composition |
JPS6026122B2 (ja) * | 1977-01-20 | 1985-06-21 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
DE2722264C2 (de) * | 1977-05-17 | 1984-06-28 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Verwendung von substituierten Oxyalkylphenonen als Photosensibilisatoren |
EP0003002B1 (de) * | 1977-12-22 | 1984-06-13 | Ciba-Geigy Ag | Verwendung von aromatisch-aliphatischen Ketonen als Photoinitiatoren, photopolymerisierbare Systeme enthaltend solche Ketone und neue aromatisch-aliphatische Ketone |
JPS54130633A (en) * | 1978-04-01 | 1979-10-11 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | Ultraviolet-curing coating composition |
US4222835A (en) * | 1978-05-25 | 1980-09-16 | Westinghouse Electric Corp. | In depth curing of resins induced by UV radiation |
US4234399A (en) * | 1978-10-13 | 1980-11-18 | Lord Corporation | Radiation curable compositions containing acyloin urethane compounds |
JPS5565264A (en) * | 1978-11-08 | 1980-05-16 | Sumitomo Chem Co Ltd | Photo-setting composition and its photo-setting method |
EP0012535B1 (en) * | 1978-12-18 | 1983-01-19 | Imperial Chemical Industries Plc | Dental compositions comprising a selected vinyl urethane prepolymer and processes for their manufacture |
NO150963C (no) | 1979-01-11 | 1985-01-16 | Scott Bader Co | Polyesterharpiksmateriale som er herdbart ved hjelp av synlig lys, og fremgangsmaate til herding av dette |
DK151680A (da) * | 1979-04-10 | 1980-10-11 | Akzo Nv | Uv-haerdbart overtraeksmateriale |
EP0022188B1 (en) * | 1979-06-18 | 1984-10-03 | EASTMAN KODAK COMPANY (a New Jersey corporation) | Co-initiator compositions for photopolymerization containing 3-acyl-substituted coumarins, photopolymerizable composition and photographic element |
DE3001616A1 (de) * | 1980-01-17 | 1981-07-23 | ESPE Fabrik pharmazeutischer Präparate GmbH, 8031 Seefeld | Verfahren zur herstellung von zahnersatzteilen durch photopolymerisieren einer verformbaren masse |
DE3029276A1 (de) * | 1980-08-01 | 1982-02-18 | Etablissement Dentaire Ivoclar, Schaan | Photopolymerisierbare masse, insbesondere fuer dentalzwecke |
US4553940A (en) * | 1980-08-29 | 1985-11-19 | Dentsply Research & Development Corp. | Visible light curable dental compositions |
US4411625A (en) * | 1980-08-29 | 1983-10-25 | Dentsply Research & Development Corp. | Broad spectrum light curable dental compositions |
US4491453A (en) * | 1980-08-29 | 1985-01-01 | Dentsply Research & Development Corp. | Process for restoring teeth with visible light curable compositions |
DE3167493D1 (en) * | 1980-11-05 | 1985-01-10 | Akzo Nv | Photopolymerizable composition, photoinitiator mixture and curing process |
DE3172366D1 (en) | 1980-12-03 | 1985-10-24 | Ici Plc | Dental compositions |
IL65159A0 (en) * | 1981-03-04 | 1982-05-31 | Ici Plc | Polymerisable dental compositions |
US4801528A (en) * | 1981-05-04 | 1989-01-31 | Dentsply Research & Development Corporation | Dental adhesive system |
USRE35264E (en) * | 1981-05-04 | 1996-06-04 | Dentsply Research & Development Corp. | Dental adhesive system |
DE3136484A1 (de) * | 1981-09-15 | 1983-03-31 | Kulzer & Co Gmbh, 6380 Bad Homburg | "verfahren zur photopolymerisation von vinylverbindu ngen und photopolymerisierbares material" |
DE3203096A1 (de) * | 1982-01-30 | 1983-08-04 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Verwendung von hydroxyalkylphenonen als initiatoren fuer die strahlungshaertung waessriger prepolymerdispersionen |
IE54502B1 (en) * | 1982-03-04 | 1989-10-25 | Ici Plc | Photopolymerisable compositions |
DE3212379A1 (de) * | 1982-04-02 | 1983-10-20 | ESPE Fabrik pharmazeutischer Präparate GmbH, 8031 Seefeld | Geraet zum behandeln von dentalen werkstoffen |
US4500657A (en) * | 1982-08-02 | 1985-02-19 | Johnson & Johnson Dental Products Company | Dental restorative compositions having improved mechanical properties and hydrolytic stability |
DE3332179A1 (de) * | 1982-12-07 | 1984-06-07 | Kulzer & Co GmbH, 6393 Wehrheim | Grundiermasse |
DE3301010A1 (de) * | 1983-01-14 | 1984-07-19 | Kulzer & Co GmbH, 6393 Wehrheim | Verfahren zur photopolymerisation von vinylverbindungen und photopolymerisierbares material |
DE3301011A1 (de) * | 1983-01-14 | 1984-07-19 | Kulzer & Co GmbH, 6393 Wehrheim | Verfahren zur photopolymerisation von vinylverbindungen und photopolymerisierbares material (ii) |
DE3301012A1 (de) * | 1983-01-14 | 1984-07-19 | Kulzer & Co GmbH, 6393 Wehrheim | Verfahren zur photopolymerisation von vinylverbindungen und photopolymerisierbares material |
US4512340A (en) * | 1983-02-22 | 1985-04-23 | Johnson & Johnson Products, Inc. | Visible light cured orthopedic polymer casts |
US4563438A (en) * | 1983-05-06 | 1986-01-07 | Ciba Geigy Corporation | Liquid mixture of photoinitiators |
US4615665A (en) * | 1983-05-06 | 1986-10-07 | Dentsply International Inc. | Method for making dental prosthetic device with oxygen barrier layer and visible light irradiation to cure polymer |
US4544467A (en) * | 1983-06-28 | 1985-10-01 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Light-curable dentin and enamel adhesive |
US4525256A (en) * | 1983-07-01 | 1985-06-25 | Johnson & Johnson Dental Products Company | Photopolymerizable composition including catalyst comprising diketone plus 4-(N,N-dimethylamino)benzoic acid or ester thereof |
DE3331157A1 (de) * | 1983-08-30 | 1985-03-14 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Photopolymerisierbare mischungen, enthaltend tertiaere amine als photoaktivatoren |
US4711913A (en) * | 1983-11-16 | 1987-12-08 | Dentsply International Inc. | Interpenetrating polymer network compositions employing rubber-modified polymers |
US5210109A (en) * | 1983-11-16 | 1993-05-11 | Dentsply Research & Development Corp. | Interpenetrating polymer network compositions employing rubber-modified polymers |
US4551486A (en) * | 1983-11-16 | 1985-11-05 | Dentsply Research & Development Corp. | Interpenetrating polymer network compositions |
US4863977A (en) * | 1983-11-16 | 1989-09-05 | Dentsply Research & Development Corp. | Process for preparing interpenetrating polymer network objects employing rubber-modified polymers |
US4604295A (en) * | 1983-12-22 | 1986-08-05 | Loctite Corporation | Visible light absorbing peroxy-esters |
JPS60149603A (ja) * | 1984-01-17 | 1985-08-07 | Kuraray Co Ltd | 光重合性の組成物 |
DE3414165A1 (de) * | 1984-04-14 | 1985-10-17 | Kulzer & Co GmbH, 6393 Wehrheim | Photopolymerisierbares dentales haftmittel |
DE3414163A1 (de) * | 1984-04-14 | 1985-10-17 | Kulzer & Co GmbH, 6393 Wehrheim | Photopolymerisierbarer phosphathaltiger dentaler haftvermittler-lack |
DE3414164A1 (de) * | 1984-04-14 | 1985-10-17 | Kulzer & Co GmbH, 6393 Wehrheim | Photopolymerisierbarer dentaler haftvermittler-lack |
NO164303C (no) * | 1984-05-14 | 1990-09-19 | Ici Plc | Oligomer, fremgangsmaate for fremstilling av en slik samt anvendelse av den. |
US4657941A (en) * | 1984-11-29 | 1987-04-14 | Dentsply Research & Development Corp. | Biologically compatible adhesive containing a phosphorus adhesion promoter and a sulfinic accelerator |
NL8403706A (nl) * | 1984-12-06 | 1986-07-01 | Dsm Resins Bv | Fotopolymeriseerbare samenstelling en een fotoinitiatorsysteem. |
JPH0662688B2 (ja) * | 1985-06-25 | 1994-08-17 | 三井石油化学工業株式会社 | 光硬化性組成物 |
US4940645A (en) * | 1985-07-16 | 1990-07-10 | The Mead Corporation | Imaging material employing photosensitive microcapsules containing tertiary amines as coinitiators |
IT1187703B (it) * | 1985-07-23 | 1987-12-23 | Lamberti Fratelli Spa | Benzofenoni sostituiti e loro miscele liquide,atti all'impiego come iniziatori di fotopolimerizzazione |
JPH0662689B2 (ja) * | 1985-07-30 | 1994-08-17 | 三井石油化学工業株式会社 | 光硬化性組成物 |
US6201037B1 (en) | 1986-01-28 | 2001-03-13 | Ophthalmic Research Group International, Inc. | Plastic lens composition and method for the production thereof |
US5415816A (en) | 1986-01-28 | 1995-05-16 | Q2100, Inc. | Method for the production of plastic lenses |
US5364256A (en) * | 1986-01-28 | 1994-11-15 | Ophthalmic Research Group International, Inc. | Apparatus for the production of plastic lenses |
US5529728A (en) * | 1986-01-28 | 1996-06-25 | Q2100, Inc. | Process for lens curing and coating |
US6730244B1 (en) | 1986-01-28 | 2004-05-04 | Q2100, Inc. | Plastic lens and method for the production thereof |
DE3708618A1 (de) * | 1987-03-17 | 1988-09-29 | Kulzer & Co Gmbh | Kunststoff-zahnersatzteil |
DE3710282A1 (de) * | 1987-03-28 | 1988-10-13 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
DE3710281A1 (de) * | 1987-03-28 | 1988-10-06 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
US4828583A (en) * | 1987-04-02 | 1989-05-09 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Coated abrasive binder containing ternary photoinitiator system |
CA1323949C (en) * | 1987-04-02 | 1993-11-02 | Michael C. Palazzotto | Ternary photoinitiator system for addition polymerization |
JPH0669928B2 (ja) * | 1987-10-06 | 1994-09-07 | 宇部興産株式会社 | 光重合性歯科材料 |
DE3738864A1 (de) * | 1987-11-16 | 1989-05-24 | Hoechst Ag | Polymerisierbare verbindungen und diese enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch |
DE3743457A1 (de) * | 1987-12-22 | 1989-07-06 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
DE3743454A1 (de) * | 1987-12-22 | 1989-07-06 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
DE3743455A1 (de) * | 1987-12-22 | 1989-07-06 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
US4892478A (en) * | 1988-03-21 | 1990-01-09 | Dentsply Research & Development Corp. | Method of preparing dental appliances |
DE3824903A1 (de) * | 1988-07-22 | 1990-02-01 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
DE3832032A1 (de) * | 1988-09-21 | 1990-03-22 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
US5254602A (en) * | 1988-10-01 | 1993-10-19 | Nippon Oil & Fats Co., Ltd. | Curability-imparting composition, method for curing with said composition, and method for production of glass fiber-reinforced plastic |
WO1990004211A1 (en) * | 1988-10-11 | 1990-04-19 | Desoto, Inc. | Synergistic initiator compositions for the visible light fabrication and postcure of stereolithographic objects |
US6490730B1 (en) | 1989-09-20 | 2002-12-10 | Robert M. Lyden | Shin-guard, helmet, and articles of protective equipment including light cure material |
GB2237023B (en) * | 1989-10-06 | 1993-09-29 | Toa Gosei Chem Ind | A catalytic composition for photopolymerization and a photopolymerizable composition containing the same |
DE59001245D1 (de) * | 1989-10-19 | 1993-05-27 | Heraeus Kulzer Gmbh | Dentales haftmittel. |
DK0443269T3 (da) * | 1990-02-23 | 1993-12-27 | Minnesota Mining & Mfg | Semi-termoplastisk støbemateriale med varmestabil hukommelse af individuelt tilpasset form |
US5709548A (en) * | 1990-02-23 | 1998-01-20 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Dental crown liner composition and methods of preparing provisional applications |
US5066231A (en) * | 1990-02-23 | 1991-11-19 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Dental impression process using polycaprolactone molding composition |
DE4007428A1 (de) * | 1990-03-09 | 1991-09-12 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
US5514521A (en) * | 1990-08-22 | 1996-05-07 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Photocurable composition |
DK0486775T3 (da) * | 1990-11-17 | 1995-03-13 | Heraeus Kulzer Gmbh | Polymeriserbart dentalmateriale |
US5362769A (en) * | 1992-05-07 | 1994-11-08 | Ormco Corporation | Orthodontic adhesives |
US6017471A (en) | 1993-08-05 | 2000-01-25 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorants and colorant modifiers |
US5733693A (en) | 1993-08-05 | 1998-03-31 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Method for improving the readability of data processing forms |
US5773182A (en) | 1993-08-05 | 1998-06-30 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Method of light stabilizing a colorant |
US5645964A (en) | 1993-08-05 | 1997-07-08 | Kimberly-Clark Corporation | Digital information recording media and method of using same |
US6211383B1 (en) | 1993-08-05 | 2001-04-03 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Nohr-McDonald elimination reaction |
US5865471A (en) | 1993-08-05 | 1999-02-02 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photo-erasable data processing forms |
US5681380A (en) | 1995-06-05 | 1997-10-28 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Ink for ink jet printers |
US5721287A (en) | 1993-08-05 | 1998-02-24 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Method of mutating a colorant by irradiation |
US6017661A (en) | 1994-11-09 | 2000-01-25 | Kimberly-Clark Corporation | Temporary marking using photoerasable colorants |
US5514214A (en) * | 1993-09-20 | 1996-05-07 | Q2100, Inc. | Eyeglass lens and mold spin coater |
TW414713B (en) * | 1994-05-12 | 2000-12-11 | Dentsply Gmbh | Fluoride releasing liquid dental primer product and method |
US6242057B1 (en) | 1994-06-30 | 2001-06-05 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photoreactor composition and applications therefor |
US5685754A (en) | 1994-06-30 | 1997-11-11 | Kimberly-Clark Corporation | Method of generating a reactive species and polymer coating applications therefor |
US6071979A (en) | 1994-06-30 | 2000-06-06 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photoreactor composition method of generating a reactive species and applications therefor |
US6008268A (en) | 1994-10-21 | 1999-12-28 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photoreactor composition, method of generating a reactive species, and applications therefor |
DE4446033C2 (de) * | 1994-12-23 | 1996-11-07 | Heraeus Kulzer Gmbh | Polymerisierbares Dentalmaterial |
US5786132A (en) | 1995-06-05 | 1998-07-28 | Kimberly-Clark Corporation | Pre-dyes, mutable dye compositions, and methods of developing a color |
JP2001515524A (ja) | 1995-06-05 | 2001-09-18 | キンバリー クラーク ワールドワイド インコーポレイテッド | 新規プレ染料 |
ATE206150T1 (de) | 1995-06-28 | 2001-10-15 | Kimberly Clark Co | Farbstoffstabilisierte zusammensetzungen |
US5855655A (en) | 1996-03-29 | 1999-01-05 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorant stabilizers |
BR9606811A (pt) | 1995-11-28 | 2000-10-31 | Kimberly Clark Co | Estabilizadores de corante aperfeiçoados |
US5782963A (en) | 1996-03-29 | 1998-07-21 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorant stabilizers |
US6099628A (en) | 1996-03-29 | 2000-08-08 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorant stabilizers |
US5891229A (en) | 1996-03-29 | 1999-04-06 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorant stabilizers |
US6022498A (en) * | 1996-04-19 | 2000-02-08 | Q2100, Inc. | Methods for eyeglass lens curing using ultraviolet light |
DE19615763C2 (de) * | 1996-04-20 | 1999-10-28 | Heraeus Kulzer Gmbh & Co Kg | Füllstoff auf Siliciumdioxid-Basis, Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung |
US6280171B1 (en) | 1996-06-14 | 2001-08-28 | Q2100, Inc. | El apparatus for eyeglass lens curing using ultraviolet light |
JP3843154B2 (ja) * | 1996-09-25 | 2006-11-08 | 関西ペイント株式会社 | 光重合性組成物 |
US5891931A (en) * | 1997-08-07 | 1999-04-06 | Alcon Laboratories, Inc. | Method of preparing foldable high refractive index acrylic ophthalmic device materials |
US6524379B2 (en) | 1997-08-15 | 2003-02-25 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorants, colorant stabilizers, ink compositions, and improved methods of making the same |
DE19736471A1 (de) * | 1997-08-21 | 1999-02-25 | Espe Dental Ag | Lichtinduziert kationisch härtende Zusammensetzungen und deren Verwendung |
CA2298615C (en) | 1998-06-03 | 2009-03-31 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Neonanoplasts produced by microemulsion technology and inks for ink jet printing |
AU4818299A (en) | 1998-06-03 | 1999-12-20 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Novel photoinitiators and applications therefor |
US6187836B1 (en) * | 1998-06-05 | 2001-02-13 | 3M Innovative Properties Company | Compositions featuring cationically active and free radically active functional groups, and methods for polymerizing such compositions |
JP2002520470A (ja) | 1998-07-20 | 2002-07-09 | キンバリー クラーク ワールドワイド インコーポレイテッド | 改良されたインクジェットインク組成物 |
AU1309800A (en) | 1998-09-28 | 2000-04-17 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Novel photoinitiators and applications therefor |
AU2853000A (en) | 1999-01-19 | 2000-08-01 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Novel colorants, colorant stabilizers, ink compositions, and improved methods ofmaking the same |
US6331056B1 (en) | 1999-02-25 | 2001-12-18 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Printing apparatus and applications therefor |
US6294698B1 (en) | 1999-04-16 | 2001-09-25 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photoinitiators and applications therefor |
US6368395B1 (en) | 1999-05-24 | 2002-04-09 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Subphthalocyanine colorants, ink compositions, and method of making the same |
US6730156B1 (en) | 1999-10-28 | 2004-05-04 | 3M Innovative Properties Company | Clustered particle dental fillers |
US6572693B1 (en) | 1999-10-28 | 2003-06-03 | 3M Innovative Properties Company | Aesthetic dental materials |
EP1227781B9 (en) * | 1999-10-28 | 2006-03-08 | 3M Innovative Properties Company | Dental materials with nano-sized silica particles |
US6376590B2 (en) | 1999-10-28 | 2002-04-23 | 3M Innovative Properties Company | Zirconia sol, process of making and composite material |
US6387981B1 (en) | 1999-10-28 | 2002-05-14 | 3M Innovative Properties Company | Radiopaque dental materials with nano-sized particles |
US6444725B1 (en) | 2000-01-21 | 2002-09-03 | 3M Innovative Properties Company | Color-changing dental compositions |
US6681403B2 (en) | 2000-03-13 | 2004-01-27 | Robert M. Lyden | Shin-guard, helmet, and articles of protective equipment including light cure material |
DE60029015T2 (de) * | 2000-04-03 | 2007-06-28 | 3M Innovative Properties Co., Saint Paul | Dentalmaterialien mit verlängerter verarbeitungszeit, kits und verfahren |
AU2001269905A1 (en) | 2000-06-19 | 2002-01-08 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Novel photoinitiators and applications therefor |
US6528555B1 (en) | 2000-10-12 | 2003-03-04 | 3M Innovative Properties Company | Adhesive for use in the oral environment having color-changing capabilities |
US6613812B2 (en) | 2001-01-03 | 2003-09-02 | 3M Innovative Properties Company | Dental material including fatty acid, dimer thereof, or trimer thereof |
EP1416902B1 (en) * | 2001-08-15 | 2014-09-24 | 3M Innovative Properties Company | Hardenable self-supporting structures and methods |
JP4748938B2 (ja) * | 2002-01-31 | 2011-08-17 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 歯科ペースト、歯科物品、および方法 |
US20080103222A1 (en) * | 2002-04-26 | 2008-05-01 | Albemarle Corporation | New Class of Amine Coinitiators in Photoinitiated Polymerizations |
US7297306B2 (en) * | 2002-04-26 | 2007-11-20 | Albemarle Corporation | Class of amine coinitiators in photoinitiated polymerizations |
US7091259B2 (en) * | 2002-07-03 | 2006-08-15 | 3M Innovative Properties Company | Dental fillers, pastes, and compositions prepared therefrom |
US7025791B2 (en) * | 2002-12-02 | 2006-04-11 | Gi Dynamics, Inc. | Bariatric sleeve |
US7223826B2 (en) * | 2003-01-30 | 2007-05-29 | 3M Innovative Properties Company | Amide-functional polymers, compositions, and methods |
US20040151691A1 (en) * | 2003-01-30 | 2004-08-05 | Oxman Joel D. | Hardenable thermally responsive compositions |
US20040185013A1 (en) * | 2003-01-30 | 2004-09-23 | Burgio Paul A. | Dental whitening compositions and methods |
US6984261B2 (en) * | 2003-02-05 | 2006-01-10 | 3M Innovative Properties Company | Use of ceramics in dental and orthodontic applications |
US20060293404A1 (en) * | 2003-04-24 | 2006-12-28 | Santobianco John G | New class of amine coinitiators in photoinitiated polymerizations |
EP1627867B1 (en) | 2003-05-23 | 2016-01-20 | Mitsui Chemicals, Inc. | (meth)acrylic ester compound and use thereof |
US20050042577A1 (en) * | 2003-08-19 | 2005-02-24 | Kvitrud James R. | Dental crown forms and methods |
US20050040551A1 (en) * | 2003-08-19 | 2005-02-24 | Biegler Robert M. | Hardenable dental article and method of manufacturing the same |
US20050042576A1 (en) * | 2003-08-19 | 2005-02-24 | Oxman Joel D. | Dental article forms and methods |
US7553670B2 (en) * | 2004-04-28 | 2009-06-30 | 3M Innovative Properties Company | Method for monitoring a polymerization in a three-dimensional sample |
WO2006019796A1 (en) | 2004-07-14 | 2006-02-23 | 3M Innovative Properties Company | Dental compositions conataining carbosilane polymers |
DE602005017633D1 (de) * | 2004-07-14 | 2009-12-24 | 3M Innovative Properties Co | Dentalzusammensetzungen mit carbosilan-monomeren |
EP1749513B1 (de) | 2005-08-01 | 2009-03-04 | Ivoclar Vivadent AG | Photopolymerisierbare Dentalmaterialien mit Bisacylphosphinoxiden als Initiator |
EP1968526A4 (en) * | 2005-12-29 | 2009-10-28 | 3M Innovative Properties Co | FOAMING DENTAL COMPOSITIONS AND METHODS |
JP4906845B2 (ja) | 2006-03-13 | 2012-03-28 | 株式会社松風 | アシルフォスフィンオキサイド基を有するカンファーキノン誘導体、それを含有する光重合触媒および光・化学重合触媒ならびにそれらを含有する硬化性組成物 |
EP1905415B1 (de) | 2006-09-27 | 2009-07-01 | Ivoclar Vivadent AG | Polymerisierbare Zusammensetzungen mit Acylgermanium-Verbindungen als Initiatoren |
DE102006050153A1 (de) | 2006-10-25 | 2008-05-08 | Ivoclar Vivadent Ag | Mikroverkapselte Photoinitiatoren und deren Verwendung für Dentalmaterialien |
CN101610749B (zh) * | 2006-12-28 | 2013-01-02 | 3M创新有限公司 | 牙科填料及方法 |
AU2008206045A1 (en) * | 2007-01-19 | 2008-07-24 | Ardea Biosciences, Inc. | Inhibitors of MEK |
EP2008636A1 (en) * | 2007-06-29 | 2008-12-31 | 3M Innovative Properties Company | Dental composition containing a polyfunctional (meth)acrylate comprising urethane, urea or amide groups, method of production and use thereof |
EP2042486A1 (en) * | 2007-09-26 | 2009-04-01 | 3M Innovative Properties Company | Methacrylate Based Monomers containing a Urethane Linkage, Process for Production and Use thereof |
CN102112097B (zh) * | 2007-11-01 | 2013-08-07 | 3M创新有限公司 | 牙科组合物以及具有颜色稳定的胺电子供体的引发剂系统 |
JP5702044B2 (ja) | 2008-03-04 | 2015-04-15 | 株式会社松風 | モノマーによって色調変化を抑えた光硬化性歯科用組成物 |
JP5203749B2 (ja) | 2008-03-04 | 2013-06-05 | 株式会社松風 | 硬化前後における色調変化の少ない光重合性歯科用組成物 |
EP2103297B1 (de) | 2008-03-20 | 2012-05-16 | Ivoclar Vivadent AG | Polymerisierbare Zusammensetzung mit mehrere Germanium-Atome enthaltenden Initiatoren |
KR101441998B1 (ko) * | 2008-04-25 | 2014-09-18 | 후지필름 가부시키가이샤 | 중합성 조성물, 차광성 컬러필터, 흑색 경화성 조성물, 고체촬상소자용 차광성 컬러필터와 그 제조 방법, 및 고체촬상소자 |
DE102008047006A1 (de) | 2008-09-12 | 2010-03-25 | Heinrich-Heine-Universität Düsseldorf | Lichthärtende Zusammensetzungen |
US8993652B2 (en) * | 2008-12-11 | 2015-03-31 | Tokuyama Dental Corporation | Dual-cure curable material kit |
EP2401998A1 (en) | 2010-07-02 | 2012-01-04 | 3M Innovative Properties Company | Dental composition, kit of parts and use thereof |
EP2481390A1 (en) | 2011-01-31 | 2012-08-01 | 3M Innovative Properties Company | Dental composition, method of producing and use thereof |
WO2012112321A2 (en) | 2011-02-15 | 2012-08-23 | 3M Innovative Properties Company | Dental compositions comprising mixture of isocyanurate monomer and tricyclodecane monomer |
WO2013023138A1 (en) | 2011-08-11 | 2013-02-14 | 3M Innovative Properties Company | Dental composition, method of producing and use thereof |
RU2600814C2 (ru) | 2011-12-01 | 2016-10-27 | 3М Инновэйтив Пропертиз Компани | Однокомпонентный самоклеющийся стоматологический состав, способ его изготовления и применения |
US20140302251A1 (en) | 2013-03-15 | 2014-10-09 | The Sherwin-Williams Company | Radiation polymerizable abrasion resistant aqueous coatings |
EP3043766B1 (en) | 2013-09-09 | 2023-07-19 | 3M Innovative Properties Company | Dental composition containing polyoxometalates, process of production and use thereof |
US10004669B2 (en) | 2014-02-18 | 2018-06-26 | 3M Innovative Properties Company | Dental composition and use thereof |
WO2015126865A1 (en) | 2014-02-18 | 2015-08-27 | 3M Innovative Properties Company | Adhesive bonding composition and use thereof |
EP3107522B1 (en) | 2014-02-18 | 2018-10-17 | 3M Innovative Properties Company | Dental composition and use thereof |
EP3152261B8 (en) | 2014-06-05 | 2018-12-26 | Swimc Llc | Radiation polymerizable waterborne soft-feel coatings |
EP3154502A1 (en) | 2014-06-13 | 2017-04-19 | 3M Innovative Properties Company | Curable compositions and methods for isolating a working area |
US10350297B2 (en) | 2014-10-31 | 2019-07-16 | 3M Innovative Properties Company | Dental materials and methods |
EP3212153A1 (en) | 2014-10-31 | 2017-09-06 | 3M Innovative Properties Company | Dental materials and methods |
EP3150641B1 (de) | 2015-09-29 | 2018-08-29 | Ivoclar Vivadent AG | Acylgermanium-photoinitiatoren und verfahren zu deren herstellung |
ES2841406T3 (es) | 2016-09-07 | 2021-07-08 | Ivoclar Vivadent Ag | Composiciones polimerizables con fotoiniciadores de acilestaño |
US10932995B2 (en) | 2017-11-08 | 2021-03-02 | 3M Innovative Properties Company | Dental composition with high E-modulus |
US20230051188A1 (en) * | 2019-12-18 | 2023-02-16 | 3M Innovative Properties Company | Composition including unsaturated polyester resin, epoxy resin, and photoinitiator and method of using the same |
EP3868767B1 (de) | 2020-02-21 | 2022-01-05 | Ivoclar Vivadent AG | Langwellig absorbierende photoinitiatoren |
US11992539B2 (en) | 2020-11-25 | 2024-05-28 | Solventum Intellectual Properties Company | Curable dental compositions and uses thereof |
WO2022195364A1 (en) | 2021-03-17 | 2022-09-22 | 3M Innovative Properties Company | Polymerizable 4,4'-spirobi[chromane]-2,2'-diones and curable compositions including the same |
EP4257592A1 (en) | 2022-04-08 | 2023-10-11 | Evonik Operations GmbH | Bisacyl digermanium compounds, their preparation and their use as photoinitiator for radical polymerization |
Family Cites Families (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA828150A (en) * | 1969-11-25 | B. Rust John | Photopolymers and the process of making same | |
BE465271A (sv) * | 1941-12-31 | 1900-01-01 | ||
US2548685A (en) * | 1946-12-21 | 1951-04-10 | Alexander H Kerr & Co Inc | Photopolymerization process and compositions |
NL108006C (sv) * | 1957-05-17 | |||
GB1090142A (en) * | 1965-02-26 | 1967-11-08 | Agfa Gevaert Nv | Photochemical insolubilisation of polymers |
US3418118A (en) * | 1965-06-03 | 1968-12-24 | Du Pont | Photographic processes and products |
US3495987A (en) * | 1965-09-03 | 1970-02-17 | Du Pont | Photopolymerizable products |
DE1694930A1 (de) * | 1966-06-10 | 1971-10-21 | Sun Chemical Corp | Photopolymerisierbare Massen |
US3558387A (en) * | 1966-06-10 | 1971-01-26 | Sun Chemical Corp | Radiation-curable compositions |
US3551246A (en) * | 1967-07-10 | 1970-12-29 | Sun Chemical Corp | Radiation curable compositions |
US3839171A (en) * | 1968-02-15 | 1974-10-01 | Asahi Chemical Ind | Unsaturated polyesters and laminates thereof |
DE1769854C3 (de) * | 1968-07-26 | 1982-08-19 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Photoinitiatoren und Verfahren zur Photopolymerisation |
CA935398A (en) * | 1969-01-28 | 1973-10-16 | L. Osborn Claiborn | Crosslinking process |
US3759807A (en) * | 1969-01-28 | 1973-09-18 | Union Carbide Corp | Photopolymerization process using combination of organic carbonyls and amines |
JPS4818563B1 (sv) * | 1969-03-07 | 1973-06-07 | ||
BE759041A (fr) * | 1969-11-18 | 1971-05-17 | Du Pont | Compositions photopolymerisables contenant des aminophenylcetones et des adjuvants |
US3699022A (en) * | 1970-02-05 | 1972-10-17 | Reichhold Albert Chemie Ag | Photopolymerizable unsaturated polyesters containing benzoin-ether,organic acid ester,organic phosphine initiators |
US3864133A (en) * | 1970-08-11 | 1975-02-04 | Dainippon Ink & Chemicals | Photo-polymerizable compositions |
CA1013743A (en) * | 1972-01-05 | 1977-07-12 | George W. Borden | Acrylated epoxidized soybean oil compositions |
US3729404A (en) * | 1971-09-10 | 1973-04-24 | Grace W R & Co | Photocurable polyene-polythiol polymers using a phosphine plus an additional sensitizer |
JPS5034445B2 (sv) * | 1972-02-29 | 1975-11-08 | ||
JPS5021933B2 (sv) * | 1972-04-19 | 1975-07-26 |
-
1972
- 1972-03-02 GB GB980772*[A patent/GB1408265A/en not_active Expired
- 1972-10-06 DK DK495272A patent/DK147708C/da not_active IP Right Cessation
- 1972-10-11 BE BE789950D patent/BE789950A/xx not_active IP Right Cessation
- 1972-10-12 NO NO3665/72A patent/NO142915C/no unknown
- 1972-10-13 CA CA153,924A patent/CA984210A/en not_active Expired
- 1972-10-17 FR FR7236748A patent/FR2156760B1/fr not_active Expired
- 1972-10-17 SE SE7213392A patent/SE412396C/sv unknown
- 1972-10-17 CH CH1515372A patent/CH593305A5/xx not_active IP Right Cessation
- 1972-10-17 IT IT30574/72A patent/IT969627B/it active
- 1972-10-18 DE DE2251048A patent/DE2251048C2/de not_active Expired - Lifetime
- 1972-10-18 JP JP10368972A patent/JPS5410986B2/ja not_active Expired
- 1972-10-18 NL NLAANVRAGE7214074,A patent/NL165570C/xx not_active IP Right Cessation
- 1972-10-18 DE DE2266023A patent/DE2266023C2/de not_active Expired
- 1972-10-18 ES ES407740A patent/ES407740A1/es not_active Expired
- 1972-10-18 AT AT891072A patent/AT331507B/de not_active IP Right Cessation
-
1975
- 1975-02-11 US US05549052 patent/US4071424B1/en not_active Expired - Lifetime
-
1978
- 1978-09-28 HK HK574/78A patent/HK57478A/xx unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DK147708B (da) | 1984-11-19 |
NO142915B (no) | 1980-08-04 |
JPS5410986B2 (sv) | 1979-05-11 |
NL165570B (nl) | 1980-11-17 |
NL165570C (nl) | 1983-02-16 |
FR2156760B1 (sv) | 1979-01-26 |
GB1408265A (en) | 1975-10-01 |
ATA891072A (de) | 1975-11-15 |
NO142915C (no) | 1980-11-12 |
CH593305A5 (sv) | 1977-11-30 |
BE789950A (fr) | 1973-04-11 |
NL7214074A (sv) | 1973-04-24 |
HK57478A (en) | 1978-10-06 |
FR2156760A1 (sv) | 1973-06-01 |
IT969627B (it) | 1974-04-10 |
ES407740A1 (es) | 1976-02-01 |
US4071424A (en) | 1978-01-31 |
SE412396B (sv) | 1980-03-03 |
AT331507B (de) | 1976-08-25 |
DE2266023C2 (sv) | 1989-07-20 |
DK147708C (da) | 1990-04-09 |
US4071424B1 (en) | 1995-07-18 |
DE2251048C2 (de) | 1993-01-28 |
JPS4849875A (sv) | 1973-07-13 |
CA984210A (en) | 1976-02-24 |
DE2251048A1 (de) | 1973-05-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
SE412396C (sv) | Fotopolymeriserbar komposition | |
US4048034A (en) | Photopolymerization using an alpha-aminoacetophenone | |
US3558309A (en) | Photopolymerisation of ethylenically unsaturated organic compounds | |
CA1125285A (en) | Poly(ethylenically unsaturated alkoxy) heterocyclic compounds | |
US20020019453A1 (en) | Polymerization processes using aliphatic maleimides | |
US4089762A (en) | Photopolymerizable compositions | |
WO1996037574A1 (fr) | Composition photochromique durcissable | |
JPH05306392A (ja) | フォトクロミック組成物 | |
AU611721B2 (en) | Improved composition | |
AU627177B2 (en) | Photoinitiator copolymers | |
JP5359354B2 (ja) | 光重合開始剤、重合性組成物、および重合物の製造方法 | |
US3832188A (en) | Photosensitive polyamide compositions | |
JPS5928569B2 (ja) | 光重合性歯科用材料 | |
EP0304886B1 (de) | Oligomere Benzilketale und ihre Verwendung als Photoinitiatoren | |
JP2002534488A (ja) | ベンゾフェノンおよび光重合開始剤としてのその使用 | |
US3974053A (en) | Method of polymerizing ethylenically unsaturated materials by irradiation and composition for use therein | |
US4826888A (en) | Photopolymerizable composition | |
JPH05241338A (ja) | 光重合性組成物 | |
CA1079561A (en) | Photopolymerisable compositions containing a polymer with a component which reduces a keto sensitizer in its excited state | |
US3974052A (en) | Photopolymerizable compositions containing triketone/alcohol adducts as photosensitizers | |
JPH0588276B2 (sv) | ||
JPH09235310A (ja) | 光硬化性組成物 | |
JPH0348183B2 (sv) | ||
JP2010539270A (ja) | エネルギー硬化のための光開始剤 | |
JPS63254111A (ja) | 親水性(メタ)アクリル酸誘導体類モノマ−用光重合触媒 |