JPS591282B2 - ヒカリジユウゴウセイソセイブツ - Google Patents
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- C08F299/0407—Processes of polymerisation
- C08F299/0421—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F299/0428—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F299/0435—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明はエチレン性不飽和重合性物質および感光性触
媒よりなる光重合性組成物、および該組成物から重合体
の製造法に関する。
媒よりなる光重合性組成物、および該組成物から重合体
の製造法に関する。
輻射線を吸収して不飽和物質の重合を開始できる感光剤
の存在下で、エチレン性不飽和重合性物質を可視光線ま
たは紫外線で照射してエチレン性不飽和重合性物質を重
合する方法は公知である。
の存在下で、エチレン性不飽和重合性物質を可視光線ま
たは紫外線で照射してエチレン性不飽和重合性物質を重
合する方法は公知である。
感光性染料例えばローズベンガルおよび染料が励起状態
にあるときは感光性染料を還元できる還元剤の存在下で
重合性物質を照射してエチレン性不飽和重合性物質を重
合することは既に提案されている。感光性染料は、一般
に高度に着色しており、かつこのような染料を含む光重
合性組成物は、一般に酸素の存在に対して極めて敏感で
あり、即ち酸素の存在下では、染料で吸収される波長の
輻射線で照射したときの組成物の重合速度は、酸素の不
存在下での組成物の重合速度と比較して一般に著るしく
低下する。この発明により、重合性エチレン性不飽和物
質とともにこの発明の光重合性組成物を形成するある種
の感光剤および還元剤の新規な組合せを見出した。
にあるときは感光性染料を還元できる還元剤の存在下で
重合性物質を照射してエチレン性不飽和重合性物質を重
合することは既に提案されている。感光性染料は、一般
に高度に着色しており、かつこのような染料を含む光重
合性組成物は、一般に酸素の存在に対して極めて敏感で
あり、即ち酸素の存在下では、染料で吸収される波長の
輻射線で照射したときの組成物の重合速度は、酸素の不
存在下での組成物の重合速度と比較して一般に著るしく
低下する。この発明により、重合性エチレン性不飽和物
質とともにこの発明の光重合性組成物を形成するある種
の感光剤および還元剤の新規な組合せを見出した。
新規な組合せの感光剤および還元剤を含む組成物は、感
光剤は含むが還元剤を含まない組成物に比して、一般に
より大きな速度で重合可能であり、かつ著るしく速度が
大きい場合が多い。この発明の組成物は暗所では安定で
あり、組成物を暗所で数週間、時には数ケ月も貯蔵した
後でも何らの重合が起きない程度である。エチレン性不
飽和物質の重合は、適当な波長の輻射線の影響でのみ開
始する。この発明により、 (a)次の構造を有する少なくとも1種の感光剤式中R
およびR1は同一または異なる炭化水素基または置換炭
化水素基、Aは炭化水素基、置換炭化水素基または次の
式の基または (式中XおよびYは同一または異なり、水素、炭化水素
基または置換炭化水素基であり、好ましくはX=R,.
Y−R1である)と(b)感光剤が励起状態にあるとき
感光剤を還元できる少なくとも1種の還元剤とよりなる
感光性触媒および少なくとも1種の重合性エチレン性不
飽和物質よりなる光重合性組成物を提供する。
光剤は含むが還元剤を含まない組成物に比して、一般に
より大きな速度で重合可能であり、かつ著るしく速度が
大きい場合が多い。この発明の組成物は暗所では安定で
あり、組成物を暗所で数週間、時には数ケ月も貯蔵した
後でも何らの重合が起きない程度である。エチレン性不
飽和物質の重合は、適当な波長の輻射線の影響でのみ開
始する。この発明により、 (a)次の構造を有する少なくとも1種の感光剤式中R
およびR1は同一または異なる炭化水素基または置換炭
化水素基、Aは炭化水素基、置換炭化水素基または次の
式の基または (式中XおよびYは同一または異なり、水素、炭化水素
基または置換炭化水素基であり、好ましくはX=R,.
Y−R1である)と(b)感光剤が励起状態にあるとき
感光剤を還元できる少なくとも1種の還元剤とよりなる
感光性触媒および少なくとも1種の重合性エチレン性不
飽和物質よりなる光重合性組成物を提供する。
この発明により、さらに上記の光重合性組成物を感光剤
により吸収されて感光剤を励起状態に変換できる波長を
有する照射線で照射して重合体を製造する方法を提供す
る。
により吸収されて感光剤を励起状態に変換できる波長を
有する照射線で照射して重合体を製造する方法を提供す
る。
輻射線は、可視光線、紫外線または可視波長および紫外
波長の両者を輻射スペクトル内に含む輻射線である。
波長の両者を輻射スペクトル内に含む輻射線である。
適当な輻射線は、230mμ〜600mμの範囲の波長
を有している。日光も輻射線源として用いられるが、使
用すべき輻射線の波長は、組成物中の特定の感光剤によ
り決定され、輻射線は感光剤を励起状態に換えるように
感光剤により吸収される波長である。特定の感光剤に対
する最適波長は、簡単な実験により例えば感光剤の電子
吸収スペクトルの測定により決定される。感光剤中の基
RおよびR1は、脂肪族基または芳香族基であり、同一
でも異つていてもよい。例えば構造式1の感光剤では基
RおよびR1の両者は芳香族、両者は脂肪族または一方
は芳香族で他方は脂肪族である。しかし、感光剤製造が
便利な理由からは、普通はRおよびR1は同一である。
1旨肪族基7の範囲には、脂環族および芳香族置換基を
有する脂肪族基、即ちアルカリール基を含む。
を有している。日光も輻射線源として用いられるが、使
用すべき輻射線の波長は、組成物中の特定の感光剤によ
り決定され、輻射線は感光剤を励起状態に換えるように
感光剤により吸収される波長である。特定の感光剤に対
する最適波長は、簡単な実験により例えば感光剤の電子
吸収スペクトルの測定により決定される。感光剤中の基
RおよびR1は、脂肪族基または芳香族基であり、同一
でも異つていてもよい。例えば構造式1の感光剤では基
RおよびR1の両者は芳香族、両者は脂肪族または一方
は芳香族で他方は脂肪族である。しかし、感光剤製造が
便利な理由からは、普通はRおよびR1は同一である。
1旨肪族基7の範囲には、脂環族および芳香族置換基を
有する脂肪族基、即ちアルカリール基を含む。
同様に、7芳香族基7はアルキル置換基を有する基即ち
アラルキル基を含む。芳香族基はベンゼノイド芳香族基
例えばフエニル基、または当業者にはベンゼノイド芳香
族基の特性を有すると認められる非ベンゼノイド環状基
である。
アラルキル基を含む。芳香族基はベンゼノイド芳香族基
例えばフエニル基、または当業者にはベンゼノイド芳香
族基の特性を有すると認められる非ベンゼノイド環状基
である。
基RおよびR1は、特にこれらが芳香族基のときは、炭
化水素基以外の置換基例えばハロゲン原子またはアルコ
キシ基を有することができるが、但し置換基を含む感光
剤は光重合性組成物にエチレン性不飽和物質の重合を実
質上抑止するような濃度では存在させない。
化水素基以外の置換基例えばハロゲン原子またはアルコ
キシ基を有することができるが、但し置換基を含む感光
剤は光重合性組成物にエチレン性不飽和物質の重合を実
質上抑止するような濃度では存在させない。
構造を有する感光剤では、基Aは構造またはを有するの
が好ましく、特にXがR′(′YがR1の構造、即ち次
のものが好適である:上記の通り、基RおよびR1は脂
肪族または芳香族基であり、特に有用は感光剤は構造を
有しRおよびR1の両者がフエニル基、特にRおよびR
1の両者がであるN−N′−オキザリル インジゴであ
る。
が好ましく、特にXがR′(′YがR1の構造、即ち次
のものが好適である:上記の通り、基RおよびR1は脂
肪族または芳香族基であり、特に有用は感光剤は構造を
有しRおよびR1の両者がフエニル基、特にRおよびR
1の両者がであるN−N′−オキザリル インジゴであ
る。
N・N′−オキザリルインジゴは、可視光線または紫外
線にあてたとき有効な感光剤であるが、大部分のN−マ
ージ置換インジゴ誘導体は不活性であることが判明した
。基RおよびR1は、一緒になつて縮合芳香族環を形成
することもある。
線にあてたとき有効な感光剤であるが、大部分のN−マ
ージ置換インジゴ誘導体は不活性であることが判明した
。基RおよびR1は、一緒になつて縮合芳香族環を形成
することもある。
光重合性組成物中の感光剤の濃度は重要ではない。
例えば、一般には0.001%ないし10%の範囲が満
足であるが、所望によりこの範囲外も用いられる。一般
に組成物中の重合性エチレン性不飽和物質の0.1〜7
wt%、好ましくは0.5〜5wt%の濃度で感光剤を
存在させる。光重合性組成物中に存在させる還元剤は、
感光剤が励起状態のときはこれを還元できるが非励起状
態のときは感光剤を還元できない還元電位を有すべきで
ある。
足であるが、所望によりこの範囲外も用いられる。一般
に組成物中の重合性エチレン性不飽和物質の0.1〜7
wt%、好ましくは0.5〜5wt%の濃度で感光剤を
存在させる。光重合性組成物中に存在させる還元剤は、
感光剤が励起状態のときはこれを還元できるが非励起状
態のときは感光剤を還元できない還元電位を有すべきで
ある。
さらに、励起した感光剤により酸化されたとき還元剤は
、重合性エチレン性不飽和物質の重合を開始できるもの
が望ましい。還元剤は、光重合性組成物に存在する濃度
で、不飽和物質の重合を阻止する作用を有してはならな
い。還元剤が重合阻止作用を有するかがうかは簡単な実
験で決定でき、例えば所望濃度の還元剤の存在下および
不存在下で、エチレン性不飽和物質の重合を熱開始剤で
行い、得られる重合速度を比較して決定できる。用いる
還元剤としては、次の構造の化合物がある:式中Mは元
素の週期律表のグループV6の元素であり、R2〜R4
は同一でも異つていてもよく、水素原子、炭化水素基、
置換炭化水素基、または2個の基が元素Mと一緒になり
シクロ環を形成するものであり、2個までの基は水素原
子であり、元素Mが直接に芳香族基と結合しているとき
は少なくとも1個の基はMに結合した−C−である。
、重合性エチレン性不飽和物質の重合を開始できるもの
が望ましい。還元剤は、光重合性組成物に存在する濃度
で、不飽和物質の重合を阻止する作用を有してはならな
い。還元剤が重合阻止作用を有するかがうかは簡単な実
験で決定でき、例えば所望濃度の還元剤の存在下および
不存在下で、エチレン性不飽和物質の重合を熱開始剤で
行い、得られる重合速度を比較して決定できる。用いる
還元剤としては、次の構造の化合物がある:式中Mは元
素の週期律表のグループV6の元素であり、R2〜R4
は同一でも異つていてもよく、水素原子、炭化水素基、
置換炭化水素基、または2個の基が元素Mと一緒になり
シクロ環を形成するものであり、2個までの基は水素原
子であり、元素Mが直接に芳香族基と結合しているとき
は少なくとも1個の基はMに結合した−C−である。
ここで用いた元素の週期律表は、F.A.コツトンおよ
びG.ウイルキソン著7アドバンスド・インオーガニツ
ク・ケミストリー7第2版(1966年インターサイエ
ンス社発行)記載のものである。構造R2−M−R4を
有する還元剤は、元素Mに直接結合した芳香族基を含ま
ないものが好ましい。還元剤中の元素Mは、例えばリン
、ヒ素、アンチモニであり好ましくは窒素である。還元
剤は第1級、第2級または第3級、即ち構造R2−M−
R4においてR2〜R4の中で水素はO、1または2個
である。
びG.ウイルキソン著7アドバンスド・インオーガニツ
ク・ケミストリー7第2版(1966年インターサイエ
ンス社発行)記載のものである。構造R2−M−R4を
有する還元剤は、元素Mに直接結合した芳香族基を含ま
ないものが好ましい。還元剤中の元素Mは、例えばリン
、ヒ素、アンチモニであり好ましくは窒素である。還元
剤は第1級、第2級または第3級、即ち構造R2−M−
R4においてR2〜R4の中で水素はO、1または2個
である。
例えば還元剤は、第1級、第2級または第3級アミンま
たはフオスフインである。基R2、R3およびR4の1
個またはそれ以上は、炭化水素基、例えばアルキル基、
シクロアルキル基またはアルカリール基である。
たはフオスフインである。基R2、R3およびR4の1
個またはそれ以上は、炭化水素基、例えばアルキル基、
シクロアルキル基またはアルカリール基である。
好ましくは、少なくとも1個がアルキル基例えば炭素原
子1〜10を含むものである。基R2、R3およびR4
の1個またはそれ以上が炭化水素基である適当な還元剤
には、プロピルアミン、n−ブチルアミン、ベンチルア
ミン、ヘキシルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミ
ン、ジプロピルアミン、ジ一n−ブチルアミン、ジペン
チルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ト
リプロピルアミン、トリ−n−ブチルアミン、トリペン
チルアミン、ジメチルアミノエチルメタクリレートおよ
び長鎖脂肪族アミン、例えばCl8H37NMe2があ
る。
子1〜10を含むものである。基R2、R3およびR4
の1個またはそれ以上が炭化水素基である適当な還元剤
には、プロピルアミン、n−ブチルアミン、ベンチルア
ミン、ヘキシルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミ
ン、ジプロピルアミン、ジ一n−ブチルアミン、ジペン
チルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ト
リプロピルアミン、トリ−n−ブチルアミン、トリペン
チルアミン、ジメチルアミノエチルメタクリレートおよ
び長鎖脂肪族アミン、例えばCl8H37NMe2があ
る。
芳香族基を含む還元剤の例には、N−マージメチルアニ
リンおよびNーメチルジフエニルアミンがある。この明
細書を通じて、適当な還元剤の特定の例としては元素M
が窒素のものを示しているが、元素Mがリン、ヒ素また
はアンチモニ一の対応するものも含まれている。
リンおよびNーメチルジフエニルアミンがある。この明
細書を通じて、適当な還元剤の特定の例としては元素M
が窒素のものを示しているが、元素Mがリン、ヒ素また
はアンチモニ一の対応するものも含まれている。
基R2〜R4の1個またはそれ以上は、置換炭化水素基
でもよく、特に次の構造を有する置換基を有するもので
ある:式中Mは元素の週期律表のグループVbの元素で
あり、R5は例えばアルキレン鎖であり、R6は同一で
も異つていてもよく例えば水素原子または炭化水素基で
ある。
でもよく、特に次の構造を有する置換基を有するもので
ある:式中Mは元素の週期律表のグループVbの元素で
あり、R5は例えばアルキレン鎖であり、R6は同一で
も異つていてもよく例えば水素原子または炭化水素基で
ある。
構造R−M−R(式中少なくとも1個のRは炭化水素基
である)を有する還元剤には、ジアルキルアミノアルカ
ノール例えばジメチルアミノエタノールおよび次の構造
のジアミンがある:式中nは少なくとも2の整数、R6
は同一でも異つていてもよく、水素原子または炭化水素
基、特にアルキル基である。
である)を有する還元剤には、ジアルキルアミノアルカ
ノール例えばジメチルアミノエタノールおよび次の構造
のジアミンがある:式中nは少なくとも2の整数、R6
は同一でも異つていてもよく、水素原子または炭化水素
基、特にアルキル基である。
例えば、還元剤は、エチレンジアミン、トリメチレンジ
アミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジア
ミンまたはヘキサメチレンジアミン、あるいはそのN一
炭化水素誘導体、特にN−アルキル誘導体である。他の
適当な還元剤には、次構造を有する誘導体がある:式中 CH2 単位の1個またはそれ以上の水素 基、特に−NH2基を有する。
アミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジア
ミンまたはヘキサメチレンジアミン、あるいはそのN一
炭化水素誘導体、特にN−アルキル誘導体である。他の
適当な還元剤には、次構造を有する誘導体がある:式中 CH2 単位の1個またはそれ以上の水素 基、特に−NH2基を有する。
元素Mが環状系の部分をなす還元剤の例としては、ピペ
リジンおよびピペリジンのN一炭化水素基誘動体殊にN
−アルキル誘導体がある。
リジンおよびピペリジンのN一炭化水素基誘動体殊にN
−アルキル誘導体がある。
その他の還元剤としては、トリアリルアミン、(アリル
)2、チオ尿素アリル、チオ尿素−0トリル、芳香族ス
ルフイン酸の可溶性塩(例えばS−ベンジルイソーチウ
ロニウム、p−トルエンスルフイネート、ナトリウムジ
エチルジチオフオスフエート)およびアミノ酸(例えば
インドール3一酢酸)がある。
)2、チオ尿素アリル、チオ尿素−0トリル、芳香族ス
ルフイン酸の可溶性塩(例えばS−ベンジルイソーチウ
ロニウム、p−トルエンスルフイネート、ナトリウムジ
エチルジチオフオスフエート)およびアミノ酸(例えば
インドール3一酢酸)がある。
還元剤の濃度は適切には感光剤に関して前記したごとき
範囲であるが、それらの範囲外の濃度も所望により使用
できる。
範囲であるが、それらの範囲外の濃度も所望により使用
できる。
好ましくは還元剤は光重合性組成物中のエチレン系不飽
和物質の1〜5wt%の濃度で存在する。還元剤R−M
−R中の1個またはそれ以上のRが芳香族系である場合
には、光重合性組成物中のエチレン系不飽和物質の0.
01〜0.5重量%の範囲の還元剤濃度を光重合性組成
物中に存在させることは、この濃度範囲で還元剤が存在
するときに得られる一層迅速な重合速度故好ましい。
和物質の1〜5wt%の濃度で存在する。還元剤R−M
−R中の1個またはそれ以上のRが芳香族系である場合
には、光重合性組成物中のエチレン系不飽和物質の0.
01〜0.5重量%の範囲の還元剤濃度を光重合性組成
物中に存在させることは、この濃度範囲で還元剤が存在
するときに得られる一層迅速な重合速度故好ましい。
望ましくは感光剤および還元剤はエチレン系不飽和物質
中に、少なくとも所望の濃度を与えるのに充分な程度に
まで可溶性であるべきである。
中に、少なくとも所望の濃度を与えるのに充分な程度に
まで可溶性であるべきである。
感光剤と還元剤とが完全に溶解されなくても重合は進行
しようが、感光剤と還元剤とが所望の程度にまでエチレ
ン系不飽和物質中に一緒に完全に可溶性であることはよ
り一層好ましい。感光剤および還元剤をエチレン系不飽
和物質と混合する方法は、エチレン系不飽和物質中に所
望濃度の感光剤および還元剤を含ませることができるか
どうかに関係することがある。
しようが、感光剤と還元剤とが所望の程度にまでエチレ
ン系不飽和物質中に一緒に完全に可溶性であることはよ
り一層好ましい。感光剤および還元剤をエチレン系不飽
和物質と混合する方法は、エチレン系不飽和物質中に所
望濃度の感光剤および還元剤を含ませることができるか
どうかに関係することがある。
従つて、感光剤または還元剤がエチレン系不飽和物質中
に十分に可溶性でない場合、あるいはその一方または他
方が非常に困難してはじめて溶解するに過ぎない場合に
は;感光剤または還元剤を溶解することができかつエチ
レン系不飽和物質と混和性である稀釈剤の少量を、エチ
レン系不飽和物質に添加することにより、感光剤、還元
剤およびエチレン系不飽和物質の溶解を助力できること
が判つた。適切には、感光剤または還元剤はそのような
稀釈剤中の溶液としてエチレン系不飽和物質へ導入する
ことができる。感光剤および還元剤を適当な稀釈剤の同
一バツチ中に溶解し、次いでエチレン系不飽和物質に添
加することができる。
に十分に可溶性でない場合、あるいはその一方または他
方が非常に困難してはじめて溶解するに過ぎない場合に
は;感光剤または還元剤を溶解することができかつエチ
レン系不飽和物質と混和性である稀釈剤の少量を、エチ
レン系不飽和物質に添加することにより、感光剤、還元
剤およびエチレン系不飽和物質の溶解を助力できること
が判つた。適切には、感光剤または還元剤はそのような
稀釈剤中の溶液としてエチレン系不飽和物質へ導入する
ことができる。感光剤および還元剤を適当な稀釈剤の同
一バツチ中に溶解し、次いでエチレン系不飽和物質に添
加することができる。
別法として、感光剤および還元剤を同一または相異る稀
釈剤の別々のバツチ中に溶解し、エチレン系不飽和物質
に添加することができる。添加方法、稀釈剤(1種また
は以上)および稀釈剤使用量は当業者ならば容易に決定
することができる。―般に最小量の稀釈剤を使用する。
一般に、エチレン系不飽和物質の重合は、本発明組成物
を感光剤を励起状態にする波長の輻射線で照射すると、
室温で容易に進行する。
釈剤の別々のバツチ中に溶解し、エチレン系不飽和物質
に添加することができる。添加方法、稀釈剤(1種また
は以上)および稀釈剤使用量は当業者ならば容易に決定
することができる。―般に最小量の稀釈剤を使用する。
一般に、エチレン系不飽和物質の重合は、本発明組成物
を感光剤を励起状態にする波長の輻射線で照射すると、
室温で容易に進行する。
しかし、その重合を室温以上の温度で実施することによ
り、しばしば重合速度を増大させることができる。重合
性エチレン系不飽和物質(このものは普通フリーラジカ
ル重合する)は、末端基中にエチレン系不飽和を有する
少なくとも1種の単量体であることが適当である。例え
ば、エチレン系不飽和物質は、ビニル単量体、アリル単
量体およびデニリデン単量体から選択される1種または
それ以上の単量体でありうる。重合することができる適
切なビニル単量体としては、例えばビニルエステル、芳
香族ビニル化合物およびビニルニトリルがある。
り、しばしば重合速度を増大させることができる。重合
性エチレン系不飽和物質(このものは普通フリーラジカ
ル重合する)は、末端基中にエチレン系不飽和を有する
少なくとも1種の単量体であることが適当である。例え
ば、エチレン系不飽和物質は、ビニル単量体、アリル単
量体およびデニリデン単量体から選択される1種または
それ以上の単量体でありうる。重合することができる適
切なビニル単量体としては、例えばビニルエステル、芳
香族ビニル化合物およびビニルニトリルがある。
本発明方法において使用するのに適当なビニルエステル
としては、例えば酢酸ビニルおよびCH2−CH−CO
OR7なる構造のアクリル酸エステル(R7はアルキル
、アリール、アルカリール、アラルキルまたはシクロア
ルキル基である)がある。
としては、例えば酢酸ビニルおよびCH2−CH−CO
OR7なる構造のアクリル酸エステル(R7はアルキル
、アリール、アルカリール、アラルキルまたはシクロア
ルキル基である)がある。
例えばR7は1〜20個(好ましくは1〜10個)の炭
素原子をもつアルキル基であつてよい。挙げることがで
きる個々のビニルエステルとしては、例えば、アクリル
酸メチル、アクリル酸エチル、n−およびイソ−プロピ
ルアクリレート、ならびにn−、イソ一およびt−ブチ
ルアクリレートがある。その他の適当なビニルエステル
としては、例えば、一般式CH2=C(R8)COOR
7のエステルがある(R8はメチル基)。
素原子をもつアルキル基であつてよい。挙げることがで
きる個々のビニルエステルとしては、例えば、アクリル
酸メチル、アクリル酸エチル、n−およびイソ−プロピ
ルアクリレート、ならびにn−、イソ一およびt−ブチ
ルアクリレートがある。その他の適当なビニルエステル
としては、例えば、一般式CH2=C(R8)COOR
7のエステルがある(R8はメチル基)。
このCH2=C(R8)COOR7のエステルにおいて
、R7およびR8は同一または相異なつてよい。
、R7およびR8は同一または相異なつてよい。
挙げることができる個々のビニルエステルとしては、例
えばメタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタク
リル酸n−およびイソ−プロピル、ならびにメタクリル
酸n−、イソ一およびt−ブチルがある。適切な芳香族
ビニル化合物としては、例えばスチレンおよびその誘導
体(例えばα−メチルスチレンのごときスチレンのα−
アルキル誘導体およびビニルトルエン)がある。適当な
ビニルニトリルとしては、例えば、アクリロニトリルお
よびその誘導体(例:メタクリロニトリル)がある。
えばメタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタク
リル酸n−およびイソ−プロピル、ならびにメタクリル
酸n−、イソ一およびt−ブチルがある。適切な芳香族
ビニル化合物としては、例えばスチレンおよびその誘導
体(例えばα−メチルスチレンのごときスチレンのα−
アルキル誘導体およびビニルトルエン)がある。適当な
ビニルニトリルとしては、例えば、アクリロニトリルお
よびその誘導体(例:メタクリロニトリル)がある。
その他の適当なビニル単量体としては、ビニルピロリド
ン、ヒドロキシアルキルアクリレートおよびヒドロキシ
アルキルメタクリレートがある(例えばアクリル酸ヒド
ロキシエチル、アクリル酸ヒドロキシプロピル、メタク
リル酸ヒドロキシエチルおよびメタクリル酸ヒドロキシ
プロピル)。エチレン系不飽和物質は、少なくとも1種
のエチレン系不飽和重合体を、適切には少なくとも1種
のエチレン系不飽和単量体と組合せて、含んでいてよい
。
ン、ヒドロキシアルキルアクリレートおよびヒドロキシ
アルキルメタクリレートがある(例えばアクリル酸ヒド
ロキシエチル、アクリル酸ヒドロキシプロピル、メタク
リル酸ヒドロキシエチルおよびメタクリル酸ヒドロキシ
プロピル)。エチレン系不飽和物質は、少なくとも1種
のエチレン系不飽和重合体を、適切には少なくとも1種
のエチレン系不飽和単量体と組合せて、含んでいてよい
。
例えば、エチレン系不飽和重合体は、少なくとも1種の
エチレン系不飽和ポリカルボン酸またはその無水物(任
意に少なくとも1種の飽和ポリカルボン酸またはその無
水物と組合せて)と、少なくとも1種のポリオールとを
結合することにより得られるエチレン系不飽和ポリエス
テルであつてよい。光重合性組成物がエチレン系不飽和
ポリエステルとエチレン系不飽和単量体との混合物を含
む場合、そのポリエステルと単量体は、99:1ないし
1:99好ましくは90:10ないし10:90のポリ
エステル:単量体の重量比で存在してよい。
エチレン系不飽和ポリカルボン酸またはその無水物(任
意に少なくとも1種の飽和ポリカルボン酸またはその無
水物と組合せて)と、少なくとも1種のポリオールとを
結合することにより得られるエチレン系不飽和ポリエス
テルであつてよい。光重合性組成物がエチレン系不飽和
ポリエステルとエチレン系不飽和単量体との混合物を含
む場合、そのポリエステルと単量体は、99:1ないし
1:99好ましくは90:10ないし10:90のポリ
エステル:単量体の重量比で存在してよい。
光重合性組成物中のエチレン系不飽和物質がエチレン系
不飽和ポリエステルとエチレン系不飽和単量体との混合
物からなる場合(殊に還元剤がアミンである場合)には
、組成物中に一定濃度の還元剤を含ませることによつて
達成されるエチレン系不飽和物質の重合速度の促進は、
組成物中のエチレン系不飽和ポリエステルの酸価が低け
れば低い程、大きくなることが判つた。
不飽和ポリエステルとエチレン系不飽和単量体との混合
物からなる場合(殊に還元剤がアミンである場合)には
、組成物中に一定濃度の還元剤を含ませることによつて
達成されるエチレン系不飽和物質の重合速度の促進は、
組成物中のエチレン系不飽和ポリエステルの酸価が低け
れば低い程、大きくなることが判つた。
エチレン系不飽和単量体は、重合することによつて交叉
結合物質を生成しうる多官能性単量体であつてもよいし
、あるいはそのような多官能性単量体を含んでいてよい
。
結合物質を生成しうる多官能性単量体であつてもよいし
、あるいはそのような多官能性単量体を含んでいてよい
。
適当な多官能性エチレン系不飽和単量体としては、例え
ば、ジビニルベンゼン、ジメタクリル酸グリコール、な
らびにヒドロキシアルキル−アクリレートもしくは−メ
タクリレートとジオールおよびジイソシアネートのイソ
シアネート末端基アダクトとの反応生成物(例えばヒド
ロキシエチルメタクリレートと4:4′−ジフエニルメ
タンジイソシアネートおよびオキシプロピル化ビスフエ
ノールAのイソシアネート末端基アダクトとの反応生成
物)である。エチレン系不飽和物質が固定であるときに
は、組成物中に適当な稀釈剤を含ませることは液体の組
成物を得るのに便利である。
ば、ジビニルベンゼン、ジメタクリル酸グリコール、な
らびにヒドロキシアルキル−アクリレートもしくは−メ
タクリレートとジオールおよびジイソシアネートのイソ
シアネート末端基アダクトとの反応生成物(例えばヒド
ロキシエチルメタクリレートと4:4′−ジフエニルメ
タンジイソシアネートおよびオキシプロピル化ビスフエ
ノールAのイソシアネート末端基アダクトとの反応生成
物)である。エチレン系不飽和物質が固定であるときに
は、組成物中に適当な稀釈剤を含ませることは液体の組
成物を得るのに便利である。
もちろん、その稀釈剤は組成物中のエチレン系不飽和物
質の重合に対してほとんどまたは全く抑制効果を有しな
いものであるべきである。本発明の組成物は、重合体物
質の成形物品(例えばシート)の製造に適切であり、ま
た殊にフイルム状および特に塗料フイルム状の重合体物
質の製造に使用するのに適している。
質の重合に対してほとんどまたは全く抑制効果を有しな
いものであるべきである。本発明の組成物は、重合体物
質の成形物品(例えばシート)の製造に適切であり、ま
た殊にフイルム状および特に塗料フイルム状の重合体物
質の製造に使用するのに適している。
従つて、本発明の組成物は輻射線が存在しないとエチレ
ン系不飽和物質の重合がほとんどまたは全く起らない程
に実質上安定であるから、本発明の組成物は遮光安定性
組成物(例えばガン中に保存)を形成しこのものはフイ
ルム(例えば塗料フイルム)とし、次いでフイルムを露
光(例えば天然光に露光)することによつて重合させる
ことができる。組成物をフイルムとし次いで露光すると
、組成物は迅速に重合する。本発明の組成物、殊に交叉
結合物質(特に塗料フイルム)の形成に使用されるべき
組成物、には有機または無機顔料を含ませてよい。
ン系不飽和物質の重合がほとんどまたは全く起らない程
に実質上安定であるから、本発明の組成物は遮光安定性
組成物(例えばガン中に保存)を形成しこのものはフイ
ルム(例えば塗料フイルム)とし、次いでフイルムを露
光(例えば天然光に露光)することによつて重合させる
ことができる。組成物をフイルムとし次いで露光すると
、組成物は迅速に重合する。本発明の組成物、殊に交叉
結合物質(特に塗料フイルム)の形成に使用されるべき
組成物、には有機または無機顔料を含ませてよい。
組成物が顔料を含む場合には、組成物中に存在する顔料
によつて過度に吸収されない波長を有する輻射線によつ
て励起される感光剤を選択すべきである。
によつて過度に吸収されない波長を有する輻射線によつ
て励起される感光剤を選択すべきである。
好ましくは、顔料は感光剤が励起される波長の輻射線に
対し透過性であるべきである。顔料が紫外線を吸収する
けれどもスペクトルの可視領域の輻射線をほとんどまた
は全く吸収しない場合には、本発明の組成物においては
可視光線で励起される感光剤例えばN−マーオキサリル
インジゴは特に有用である。その他の添加剤例えば酸化
防止剤および安定剤が本発明の光重合組成物中に存在し
てよい。
対し透過性であるべきである。顔料が紫外線を吸収する
けれどもスペクトルの可視領域の輻射線をほとんどまた
は全く吸収しない場合には、本発明の組成物においては
可視光線で励起される感光剤例えばN−マーオキサリル
インジゴは特に有用である。その他の添加剤例えば酸化
防止剤および安定剤が本発明の光重合組成物中に存在し
てよい。
本発明を以下の実施例によりさらに説明する。各実施例
において″部″は7重量部7である。実施例 1実験1 スチレン38wt%と不飽和ポリエステル樹脂62wt
%との混合物(商標ソリスチツク(Crystic)1
997の市販品)の100部中にN−マーオキサリルイ
ンジゴ0.01部およびジメチルアミノエチルメタクリ
レート4部を溶解した。
において″部″は7重量部7である。実施例 1実験1 スチレン38wt%と不飽和ポリエステル樹脂62wt
%との混合物(商標ソリスチツク(Crystic)1
997の市販品)の100部中にN−マーオキサリルイ
ンジゴ0.01部およびジメチルアミノエチルメタクリ
レート4部を溶解した。
得られた溶液を室温でパイレツクスガラス瓶に入れ、栓
をし、瓶から約3インチ離して瓶の周囲に円形状に配置
した8本の20W青色光螢光管(アトラス・ケミカル社
製)で照射した。2%分後、溶液はそれをもはや注ぐこ
とができない程度にまでゲル化していた。
をし、瓶から約3インチ離して瓶の周囲に円形状に配置
した8本の20W青色光螢光管(アトラス・ケミカル社
製)で照射した。2%分後、溶液はそれをもはや注ぐこ
とができない程度にまでゲル化していた。
溶液がもはや注げなくなる程度にまでちようどゲル化す
るのに要する時間を溶液の「ゲル化点」として記録した
。実験2、3および4 上記の操作に従つてさらに3つの実験を行なつたが、上
記操作におけるN−N−オキザリルインジゴ0.01部
の代りにそれぞれN−マーオキサリルインジゴを0.0
2部、0.05部および0.005部用いた。
るのに要する時間を溶液の「ゲル化点」として記録した
。実験2、3および4 上記の操作に従つてさらに3つの実験を行なつたが、上
記操作におけるN−N−オキザリルインジゴ0.01部
の代りにそれぞれN−マーオキサリルインジゴを0.0
2部、0.05部および0.005部用いた。
ゲル化点はそれぞれ2分、1%分および2%分であつた
。実験5 実験1の操作を繰返えしてさらに別の実験を行なつたが
、この実験は、ジメチルアミノエチルメタクリレート(
4部)を用いずに行なつた。
。実験5 実験1の操作を繰返えしてさらに別の実験を行なつたが
、この実験は、ジメチルアミノエチルメタクリレート(
4部)を用いずに行なつた。
1時間経過してもゲル化点に達しなかつた。
実験6および7
実施2および4の操作を繰返えしたが、青色光螢光管の
代りに8本の20W黒光螢光管を用いた。
代りに8本の20W黒光螢光管を用いた。
両実験においてゲル化点は1%分であつた。実験8実験
1の操作を繰返えしたが、青色螢光管の代りに8本の2
0W緑色光螢光管を用いた。
1の操作を繰返えしたが、青色螢光管の代りに8本の2
0W緑色光螢光管を用いた。
ゲル化点は6%分であつた。実験9
実験3の操作を繰返えしたが、N−マーオキサリルイン
ジゴの代りに3・3′・5・5仁テトラクロル−N−マ
ーオキサリルインジゴを0.05部使用した。
ジゴの代りに3・3′・5・5仁テトラクロル−N−マ
ーオキサリルインジゴを0.05部使用した。
ゲル化点は5%分であつた。実施例 2
ヒドロキシメチルメタクリレート100部中にN−N/
−オキザリルインジゴ0.02部およびジメチルアミノ
エチルメタクリレート3部を溶解し、その溶液を実施例
1のようにパイレツクス瓶に入れ、8本の20W7B1
ackLightB1ue″管(ThOrnElect
ric社製)の光線で照射した。
−オキザリルインジゴ0.02部およびジメチルアミノ
エチルメタクリレート3部を溶解し、その溶液を実施例
1のようにパイレツクス瓶に入れ、8本の20W7B1
ackLightB1ue″管(ThOrnElect
ric社製)の光線で照射した。
ゲル化点に11.5分で達した。比較のため、上記操作
をジメチルアミノエチルメタクリレートを用いずに繰返
えした。
をジメチルアミノエチルメタクリレートを用いずに繰返
えした。
30分間照射しても溶液はゲル化しなかつた。
実施例 3
″BlackLight″管の代りに″BlueLig
hビ管(ThOrnElectric社製)を用いて、
実施例2を繰返えした。
hビ管(ThOrnElectric社製)を用いて、
実施例2を繰返えした。
溶液のゲル化点は10分であつた。ジメチルアミノエチ
ルメタクリレートを排除した比較実験では、1時間照射
しても溶液はゲル化しなかつた。実施例 4 ヒドロキシエチルメタクリレート100部中に2・3−
ジベンゾイルノルボルネン−2(0.02部)およびジ
メチルアミノエチルメタクリレート(3部)を溶解し、
その溶液を″BlackLightBlue″管を用い
て実施例2のように照射した。
ルメタクリレートを排除した比較実験では、1時間照射
しても溶液はゲル化しなかつた。実施例 4 ヒドロキシエチルメタクリレート100部中に2・3−
ジベンゾイルノルボルネン−2(0.02部)およびジ
メチルアミノエチルメタクリレート(3部)を溶解し、
その溶液を″BlackLightBlue″管を用い
て実施例2のように照射した。
ゲル化点は21分であつた。2・3−ジベンゾイルノル
ボルネン−2の量を0.01部に減少した別の実験では
、ゲル化点は25分であつた。
ボルネン−2の量を0.01部に減少した別の実験では
、ゲル化点は25分であつた。
実施例 5
実施例1の操作を繰返えしたがN−N−オキザリルイン
ジゴ2.1部の代りに、2・3−ジベンゾイルノルボル
ナ一2●5−ジエンをクロロホルム中で臭素化すること
により得られる下記構造の二化合物の5:1重量比の混
合物を0.2部用いた。
ジゴ2.1部の代りに、2・3−ジベンゾイルノルボル
ナ一2●5−ジエンをクロロホルム中で臭素化すること
により得られる下記構造の二化合物の5:1重量比の混
合物を0.2部用いた。
およびゲル化点に11分で達した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 (a)次の構造を有する少なくとも1種の感光剤▲
数式、化学式、表等があります▼( I )〔式中Rおよ
びR_1は同一または異なる炭化水素基または置換炭化
水素基、Aは炭化水素基、置換炭化水素基または次の式
の基▲数式、化学式、表等があります▼(II)もしくは ▲数式、化学式、表等があります▼(III)(式中Xお
よびYは同一または異なり、水素、炭化水素基または置
換水素基である)〕と(b)感光剤が励起状態にあると
き感光剤を還元できる少なくとも1種の還元剤とよりな
る感光性触媒; および少なくとも1種の重合性エチレン性不飽和物質;
よりなる光重合性組成物。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB5358173A GB1469643A (en) | 1973-11-19 | 1973-11-19 | Photopolymerisable composition |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5084683A JPS5084683A (ja) | 1975-07-08 |
JPS591282B2 true JPS591282B2 (ja) | 1984-01-11 |
Family
ID=10468296
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP49132608A Expired JPS591282B2 (ja) | 1973-11-19 | 1974-11-18 | ヒカリジユウゴウセイソセイブツ |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3974053A (ja) |
JP (1) | JPS591282B2 (ja) |
CA (1) | CA1058796A (ja) |
DE (1) | DE2454800C2 (ja) |
DK (1) | DK152437C (ja) |
FR (1) | FR2257641B1 (ja) |
GB (1) | GB1469643A (ja) |
IT (1) | IT1025839B (ja) |
SE (1) | SE7414517L (ja) |
ZA (1) | ZA747402B (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2536493A1 (de) * | 1975-08-16 | 1977-02-24 | Bayer Ag | Polymerisationsprodukte |
US4151056A (en) * | 1977-09-29 | 1979-04-24 | Union Carbide Corporation | Radiation curable coating compositions containing alkanediones or cycloalkanediones |
EP0003002B1 (de) * | 1977-12-22 | 1984-06-13 | Ciba-Geigy Ag | Verwendung von aromatisch-aliphatischen Ketonen als Photoinitiatoren, photopolymerisierbare Systeme enthaltend solche Ketone und neue aromatisch-aliphatische Ketone |
US4343921A (en) | 1978-11-06 | 1982-08-10 | Usm Corporation | Adhesive composition |
US4289844A (en) | 1979-06-18 | 1981-09-15 | Eastman Kodak Company | Photopolymerizable compositions featuring novel co-initiators |
US4366228A (en) | 1980-09-05 | 1982-12-28 | Eastman Kodak Company | Photopolymerizable compositions featuring novel co-initiators |
JPS5787473A (en) * | 1980-10-07 | 1982-05-31 | Akzo Nv | Ultraviolet curable coating composition |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1669723A1 (de) * | 1967-09-22 | 1971-06-09 | Basf Ag | Indigoide Farbstoffe enthaltende Platten,Folien oder Filme aus photopolymerisierbaren Massen |
US3759807A (en) * | 1969-01-28 | 1973-09-18 | Union Carbide Corp | Photopolymerization process using combination of organic carbonyls and amines |
JPS4818563B1 (ja) * | 1969-03-07 | 1973-06-07 | ||
BE754916A (nl) * | 1969-11-11 | 1971-02-17 | Agfa Gevaert Nv | Fotopolymerisatie van ethylenisch onverzadigde organische verbindingen |
GB1307995A (en) * | 1970-03-06 | 1973-02-21 | Norprint Ltd | Photopolymerisation |
BE787029A (nl) * | 1971-09-01 | 1973-02-01 | Agfa Gevaert Nv | Werkwijze voor fotopolymerisatie |
GB1408265A (en) * | 1971-10-18 | 1975-10-01 | Ici Ltd | Photopolymerisable composition |
-
1973
- 1973-11-19 GB GB5358173A patent/GB1469643A/en not_active Expired
-
1974
- 1974-11-18 JP JP49132608A patent/JPS591282B2/ja not_active Expired
- 1974-11-19 DK DK600974A patent/DK152437C/da not_active IP Right Cessation
- 1974-11-19 IT IT29613/74A patent/IT1025839B/it active
- 1974-11-19 DE DE2454800A patent/DE2454800C2/de not_active Expired
- 1974-11-19 ZA ZA00747402A patent/ZA747402B/xx unknown
- 1974-11-19 SE SE7414517A patent/SE7414517L/xx unknown
- 1974-11-19 US US05/525,275 patent/US3974053A/en not_active Expired - Lifetime
- 1974-11-19 CA CA214,043A patent/CA1058796A/en not_active Expired
- 1974-11-29 FR FR7439206A patent/FR2257641B1/fr not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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DK152437B (da) | 1988-02-29 |
DE2454800A1 (de) | 1975-05-28 |
SE7414517L (ja) | 1975-05-20 |
IT1025839B (it) | 1978-08-30 |
DK152437C (da) | 1988-07-25 |
CA1058796A (en) | 1979-07-17 |
US3974053A (en) | 1976-08-10 |
FR2257641A1 (ja) | 1975-08-08 |
AU7555674A (en) | 1976-05-20 |
ZA747402B (en) | 1976-07-28 |
DE2454800C2 (de) | 1986-01-09 |
DK600974A (ja) | 1975-07-21 |
GB1469643A (en) | 1977-04-06 |
JPS5084683A (ja) | 1975-07-08 |
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