JPH04146905A - 光重合開始剤 - Google Patents
光重合開始剤Info
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
しうる単量体またはオリゴマーを近赤外光で高感度に重
合を開始させつる重合開始剤に関する。
、凸版印刷、金属表面加工、インキ、プリント基盤作成
用、レジストまたはフォトマスク、白黒またはカラーの
転写発色用シートもしくは発色ンート作成などの多方面
の用途にわたり使用されている。また、歯科技術の領域
においても光重合性組成物か使用されている。
の向上を目的として、重合開始剤の開発が盛んに進めら
れている(例えば、特開平2−22370及び特開昭6
2−143044)。特開平2−22370号明細書に
はポリ(メタ)アクリル酸エステルと紫外光重合開始剤
を含むことを特徴とした紫外光硬化型インキ組成物を開
示しており、また特開昭82−143044号明細書に
は1価陽イオン染料−ホウ素陰イオン錯体を光重合開始
剤とし、エチレン性不飽和化合物とともにマイクロカプ
セル中に内包させ可視光照射により硬化できる光硬化性
組成物を開示している。
物を光で照射することにより、急速硬化するものである
が、その特徴を活かして使用量が増大するにつれて、生
産性の向上が益々要求されており、より硬化速度が速く
硬化物の硬度の優れた光重合開始剤が望まれている。本
発明は、透過性に優れている近赤外光によって重合開始
する光重合開始剤を提供することを目的とする。
オン染料とホウ素陰イオンとの錯体を鋭意検討した結果
、近赤外光に感度をもつ重合開始剤が得られることを見
いだすに至った。すなわち、本発明によれば近赤外光に
吸収をもつ2価陽イオン染料とホウ素陰イオンから一般
式(1)で表される2価陽イオン染料−ホウ素錯体から
なる光重合開始剤が得られ、この重合開始剤は700n
i以上の近赤外領域の光で重合を開始しうる。
オン色素であり、R1,R2,R3及びR4は各々独立
的にアルキル、アリール、アルカリール、アリル、アラ
ルキル、アルケニル、アルキニル、脂環式及び飽和また
は不飽和複素環式基を示し、R,、R2,R3及びR4
の中の少なくとも1個は炭素原子数1〜8個のアルキル
基である。) 本発明の光重合開始剤に用いられる2価陽イオン染料−
ホウ素陰イオン錯体を構成する2価陽イオン染料の特定
な種類は近赤外光の領域に吸収をもつテトラジン系、ジ
インモニウム系に代表される2価の陽イオン染料であり
、ホウ素陰イオンのR1,R2,R3及びR4は各々独
立的にアルキル、アリール、アルカリール、アリル、ア
ラルキル、アルケニル、アルキニル、脂環式及び飽和ま
たは不飽和複素環式基を示し、Ri 、 R2。
〜8個のアルキル基である。例えば、好ましい陰イオン
はトリフェニルブチル−ホウ素陰イオンとドリアニシル
ブチルーホウ素陰イオンである。これらは容易に解離し
てトリフェニルホウ素またはトリフニルホウ素とブチル
ラジカルとなるからである。
える酸素除去剤との併用が好ましい。酸素除去剤の例と
しては、フォスフイン、フォスファイト、フォスフオネ
ート、第1錫塩及び酸素により容易に酸化されるその他
の化合物があげられ、有用な例としては、トリメチルバ
ルビッール酸、2−メルカプトベンゾキサゾール、2−
メルカプトベンゾチアゾール、N、N−ジメチル−2,
6−ジイツプロピルアニリン、N、N−2,4,8−ペ
ンタメチルアニリンなどである。N、N−ジアルキルア
ニリンの例としては、オルト、メタもしくはバラ位の1
以上がアルキル基、フェニル基、アセチル基、エトキシ
カルボニル基、カルボニル基、カルボキシレート基、シ
リル基、アルコキシ基、フェノキシ基、アセチルオキシ
基、ヒドロキシ基、ハロゲン基などにて置換されたもの
であり、なかでも好適な例としてはオルト位がアルキル
基で置換されたものであり、2.6−ジイツブロビルー
N、Nジメチルアニリン、2.6−ジニチルーN、N−
ジメチルアニリン、N、N、2,4.6−ペンタメチル
アニリン及びp−t−ブチル−N、N−ジメチルアニリ
ンなどがあげられる。
ムホウ素塩、4級フォスフインホウ素塩、N−フェニル
グリシン、及び有機過酸化物を併用することにより、開
始剤の感度をあげることができる。すなわち、4級アン
モニウムホウ素塩の例としては、テトラメチルアンモニ
ウムn−ブチルトリフェニルホウ素、テトラメチルアン
モニウムn−ブチルトリフニルホウ素、テトラメチルア
ンモニウムn−オクチルトリフェニルホウ素、テトラメ
チルアンモニウムn−オクチルトリアユシルホウ素、テ
トラエチルアンモニウムn−ブチルトリフェニルホウ素
、テトラエチルアンモニウムn−ブチルトリアユシルホ
ウ素、トリメチルハイドロゲンアンモニウムn−ブチル
トリフェニルホウ素、トリエチルハイドaゲンアンモニ
ウムn−ブチルトリフェニルホウ素、テトラハイドロゲ
ンアンモニウムn−ブチルトリフェニルホウ素、テトラ
メチルアンモニウムテトラブチルホウ素、テトラエチル
アンモニウムテトラブチルホウ素などがあげられ、4級
フォスフインホウ素塩の例としては、トリフェニルメチ
ルフォスフインnブチルトリフェニルホウ素、トリフェ
ニルエチルフォスフインn−ブチルトリフェニルホウ素
、トリフェニルメチルフォスフインn−プチルトリアニ
シルホウ素、トリフェニルエチルフォスフインn−ブチ
ルトリフニルホウ素、テトラフェニルフォスフインn−
ブチルトリフェニルホウ素、テトラフェニルフォスフイ
ンn−ブチルトリアユシルホウ素などがあげられる。ま
た、本発明で用いられる有機過酸化物は慣用のすべての
有機過酸化物を示す。具体的には、ジアセチルペルオキ
シド、ジラウロイルペルオキシドジヘンゾイルペルオキ
シド、p、p’−ジクロルジベンゾイルペルオキシド、
p、p’−ジメトキシジベンゾイルベルオキシ)”、p
、p’−ジメチルジベンゾイルベルオキシド、p、p′
−ジニトロジベンゾイルベルオキンドなどのジアシルペ
ルオキシド類、ターシャリ−ブチルハイドロペルオキシ
ド、クメンハイドロペルオキシド、2.5−ジメチルヘ
キサン2,5−ジハイドロベルオキンドなどのハイトロ
ベルオキンド、メチルエチルケトンベルオキシトなどの
ケトンペルオキシド類、ターシャリ−ブチルペルオキシ
ドベンゾエート、3,3°、4.4’−テトラ−(t−
ブチルベルオキシカルボニル)ベンゾフェノンなとのベ
ルオキシカーホネート類なとを例示することができる。
°、4.4’−テトラ−(t−ブチルベルオキシカルボ
ニル)ベンゾフェノンなとが好ましい。
ジカル付加重合可能なもしくは架橋可能な化合物は、慣
用のすべてのエチレン性不飽和化合物、特に1価アルコ
ールまたは多価アルコールのアクリル酸エステルまたは
メタクリル酸エステルまたは4− (メタ)アクリロイ
ルオキシル基含有芳香族ポリカルボン酸及びその酸無水
物などであり、これらのエステルの下にはいわゆるウレ
タンアクリレートまたはメタクリレートも含むものとし
、また米国特許第3066112号から既知の反応物で
ある2、2−ビス(4−(3−メタクリロキシ−2−ヒ
ドロキシプロポキシ)−フェニル)プロパンやジ(メタ
クリロキシエチル)トリメチルへキサメチレンジウレタ
ン、2,2−ビス(4−メタクリロキシポリエトキシフ
ェニル)プロパン、テトラメチロールメタントリメタク
リレート、テトラメチロールメタンテトラメタクリレー
ト、ジペンタエリスリトールへキサアクリレート、ジペ
ンタエリスリトールへキサメタクリレート、4− (メ
タ)アクリロイルオキシメトキシカルボニルフタル酸及
びその酸無水物、4− (メタ)アクリロイルオキシエ
トキシカルボニルフタル酸及びその酸無水物などを意味
する。
物を基準として0,01〜10重量%、好ましくは、0
.1〜5重量%の量の光重合開始剤を添加することがで
き、さらに増感剤は光重合開始剤1重量部に対して、0
.1〜10重量部、好ましくは0.5〜5重量部の範囲
で添加できる。さらに、酸素除去剤も光重合開始剤と同
様な量を添加することかできる。また、必要によって無
機の添加物、色剤として染料及び顔料、溶剤などを加え
ることができる。
合が使用される写真、スクリーン印刷、枚葉印刷、平版
印刷、凸版印刷、金属表面加工、インキ、プリント基盤
作成用、レジストまたはフォトマスク、白黒またはカラ
ーの転写発色用シートもしくは発色シート作成、複写機
用トナー複写機用カプセルトナーなどの用途に使用する
ことかできる。また、この光重合開始剤とエチレン性不
飽和化合物及びロイコ系染料または可視領域に吸収をも
つ染料とからなる組成物は、黒またはカラーの転写発色
用シートもしくは発色シート作製に使用することができ
、さらに、これら組成物はマイクロカプセルに内包して
使用することもできる。また、この他、有床義歯、歯用
補欠材料及び歯の充IA#I成物、及び歯の目的に対す
る被覆及び接着組成物など歯科治療用の光重合組成物と
して適用することかできる。しかし、本発明による光重
合開始剤は、これらの適用例に限定されるものではない
。
開始剤とエチレン性不飽和化合物及びロイコ系染料から
なる組成物をマイクロカプセルに内包させ、このマイク
ロカプセルをポリビニルアルコールによって原紙または
フィルム上に塗布し近赤外光ランプを用いて露光した後
、転写用の原紙を重ねて加圧ロールで加圧すると画像に
従ってマイクロカプセルか破壊し転写用の原紙に画像を
形成することかできる。
1〜5 トリメチロールプロパントリアクリレート 10g2価
陽イオン染料−ホウ素陰イオン錯体第2表に表示 N、N、2.4.6−ペンタメチルアニリン 0.0
2gからなる混合物を調整し組成物1〜5を作成した実
施例 6〜9 ペンタエリスリトールトリアクリレート 10g2価陽
イオン染料−ホウ素陰イオン錯体第2表に表示 増 感 剤 第2表に表示からなる混
合物を調整し組成物6〜9を作成した。
製、U −108−A) 1.0g2価陽イオン染料
−ホウ素陰イオン錯体第2表に表示 増 感 剤 第2表に表示からなる混
合物を調整し組成物10〜12を作成した。
タンアクリレートジメタクリレート(新中村化学社製、
U−108−A) 4g2価陽イオン染料−ボレート
陰イオン錯体第2表に表示 増 感 剤 第2表に表示画像形成用
色剤 SO−レッド] (オリエント化学社製)Igからなる
混合物を調整し組成物13を作成した。
タンアクリレートジメタクリレート(新中村化学社製、
U−108−A) 4g2価陽イオン染料−ボレート
陰イオン錯体第2表に表示 増 感 剤 第2表に表示画像形成用
色剤 Oil Yellow GGS (オリエント化学社製
)1gからなる混合物を調整し組成物14を作成した。
に、従来可視重合型レジンで用いられているカンファー
キノンを用いた以外は同様にサンプルを調整し組成物1
5を作成した。
れた組成物1〜15をアプリケータを用いてカルトン紙
上膜厚5ミクロンになるように展色し、ジクロイックコ
ート型ハロゲンランプ(IW/cd)で0.1秒間照射
した後、アート紙に圧着し硬化を評価した。結果は第3
表に示す。
フェニルホウ素 NPC: N−フェニルグリシン BPOニジベンゾイルペルオキシド TBBPB : 3.3’、4.4°−テトラ−(t−ブチルペルオキシ
カルボニル)ベンゾフェノン第 表 O:照射部が完全に重合した × :照射部が全(重合しない 発明の効果 本発明により、 近赤外光によって重合を開始す る近赤外光重合開始剤が提供される。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式(I)で表わされる2価陽イオン染料ホウ素陰
イオン錯体からなる近赤外光重合開始剤。 一般式(I); ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、D++は近赤外光領域に吸収をもつ2価の陽イ
オン色素であり、R_1、R_2、R_3及びR_4は
各々独立的にアルキル、アリール、アルカリール、アリ
ル、アラルキル、アルケニル、アルキニル、脂環式及び
飽和または不飽和複素環式基を示し、R_1、R_2、
R_3及びR_4の中の少なくとも1個は炭素原子数1
〜8個のアルキル基である。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27290490A JP2878818B2 (ja) | 1990-10-11 | 1990-10-11 | 光重合開始剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27290490A JP2878818B2 (ja) | 1990-10-11 | 1990-10-11 | 光重合開始剤 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04146905A true JPH04146905A (ja) | 1992-05-20 |
JP2878818B2 JP2878818B2 (ja) | 1999-04-05 |
Family
ID=17520381
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27290490A Expired - Lifetime JP2878818B2 (ja) | 1990-10-11 | 1990-10-11 | 光重合開始剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2878818B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6316089B1 (en) | 1997-12-05 | 2001-11-13 | Showa Denko K.K. | Photocurable prepreg sheet for waterproofing, method and apparatus for production of prepreg sheet, and waterproofing method using the sheet |
JP2008260738A (ja) * | 2007-04-13 | 2008-10-30 | Fujifilm Corp | トリアリールアミン誘導体 |
US7723445B2 (en) | 2004-08-06 | 2010-05-25 | Showa Highpolymer Co., Ltd. | Curable resin composition, molded product, and process for producing the same |
JP2020186278A (ja) * | 2019-05-09 | 2020-11-19 | 国立大学法人宇都宮大学 | 光硬化性組成物および光導波路用光硬化性組成物 |
-
1990
- 1990-10-11 JP JP27290490A patent/JP2878818B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6316089B1 (en) | 1997-12-05 | 2001-11-13 | Showa Denko K.K. | Photocurable prepreg sheet for waterproofing, method and apparatus for production of prepreg sheet, and waterproofing method using the sheet |
US7723445B2 (en) | 2004-08-06 | 2010-05-25 | Showa Highpolymer Co., Ltd. | Curable resin composition, molded product, and process for producing the same |
JP2008260738A (ja) * | 2007-04-13 | 2008-10-30 | Fujifilm Corp | トリアリールアミン誘導体 |
US7759504B2 (en) | 2007-04-13 | 2010-07-20 | Fujifilm Corporation | Triarylamine derivative |
JP2020186278A (ja) * | 2019-05-09 | 2020-11-19 | 国立大学法人宇都宮大学 | 光硬化性組成物および光導波路用光硬化性組成物 |
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---|---|
JP2878818B2 (ja) | 1999-04-05 |
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