JPS623843B2 - - Google Patents

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JPS623843B2
JPS623843B2 JP53060718A JP6071878A JPS623843B2 JP S623843 B2 JPS623843 B2 JP S623843B2 JP 53060718 A JP53060718 A JP 53060718A JP 6071878 A JP6071878 A JP 6071878A JP S623843 B2 JPS623843 B2 JP S623843B2
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JP
Japan
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group
acid
ketone
photopolymerizable composition
alkyl group
Prior art date
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JP53060718A
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English (en)
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JPS54152091A (en
Inventor
Shunichi Kondo
Akihiro Matsufuji
Akira Umehara
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP6071878A priority Critical patent/JPS54152091A/ja
Priority to US06/040,370 priority patent/US4290870A/en
Publication of JPS54152091A publication Critical patent/JPS54152091A/ja
Publication of JPS623843B2 publication Critical patent/JPS623843B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029

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  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は光重合性組成物に関するものであり、
さらに詳しくは、光重合開始剤に特徴を有する光
重合性組成物に関するものである。 従来、塗料、印刷インク、接着剤などの組成物
の成分として放射線照射により硬化しうる不飽和
化合物を用い、かかる組成物に可視光線、紫外
線、X線等の電磁波や電子線、中性子線、α線等
の粒子線を作用させると組成物中の上記化合物は
重合して硬化し、さらにかかる作用を光重合性組
成物の存在下に為さしめるとその重合速度は著し
く大きくなることが広く知られている。これらの
技術についてはたとえば米国特許第3551235号、
同第3551246号、同第3551311号および同第
3558387号、ベルギー国特許第808179号、特開昭
49−110781号の各公報に記載されているが、かか
る技術によつて得られるものは優れたたわみ性、
耐化学薬品性、耐摩耗性、光沢、接着性および色
相等の特長をもつているが、その反面組成物の硬
化の感応度が低いので画像形成における画像露光
に長時間を要するため、細密な画像の場合には操
作にわずかな振動があると良好な画質の画像が再
現されず、また画像露光の光源または粒子線源の
エネルギー放射量を増大しなければならないため
にそれに伴なう多水な発熱の放散を考慮する必要
があり、さらに熱にする組成物の皮膜の変形およ
び変質も生じ易い等の問題があつた。 本発明者らは、光重合性組成物の感度が増大さ
せることにより上記のような諸問題を解決すべく
精意研究を重ねていたが、ある特定の組成の光重
合開始剤がエチレン性不飽和二重結合を有する重
合可能な化合物の光重合速度を著しく増大させる
ことを見出し、本発明に到達したものである。 1−フエニル−1・2−プロパンジオール−2
−O−ベンゾイルオキシムなどO−アシルオキシ
ムが光重合開始剤として有効であることはG.A.
Delzenne、U.Laridon、H.Peeters、「Eur.
Polymer J.」、、933(1970)に記載され、又
O−アシルオキシムがケトンにより増感分解され
ることもM.Yoshida、H.Sakuragi、T.
Nishimura、S.Ishikawa、K.Tokumaku、
「Chem.Lett.」1125(1975)に記載されている
が、これはいずれも実用上必要と思われる感度に
達していない。我々は、O−アシルケトンとして
環状のイソオキサゾロン、イソオキサジノンを用
いて、種々の化合物との組合せ系において従来知
られているものと異なり、特異的に高感度となる
ことを見出し、本発明に到達したものである。 本発明は目的の光重合性組成物(いわゆる感光
性樹脂(フオトレジスト)の一タイプ)に用いる
高感度の光重合開始剤および光重合開始剤系を提
供することである。 本発明のさらに他の目的は広く一般にエチレン
性不飽和二重結合を有する重合可能な化合物を含
む光重合性組成物の光重合速度を増大させる光重
合開始剤および光重合開始剤系を提供することで
ある。 本発明のさらに他の目的は以下の記述から明ら
かになるであろう。 本発明は、 (1) エチレン性不飽和二重結合を少なくとも1
個有する付加重合可能な化合物および光重合
開始剤を必須の構成成分とする光重合性組成物
において、該光重合開始剤が(a)一般式〔1〕で
表わされる5−イソオキサゾロンと(b)芳香族カ
ルボニル化合物、一般式〔2〕ないし〔5〕で
表わされるジアルキルアミノ芳香族系カルボニ
ル化合物、一般式〔6〕で表わされる化合物又
は2−(α−チオキソフエネチリデン)−3−メ
チルナフト〔1・2−d〕〔1・3〕チアゾリ
ンとの組合せであることを特徴とする光重合性
組成物。 一般式〔1〕において、A1およびA2はそれ
ぞれアルキル基、アルキルカルボニル基、アル
コキシカルボニル基、アリール基、アリールカ
ルボニル基又は水素原子を表わし、互いに同じ
でも異なつてもよい。一般式〔2〕ないし
〔5〕において、R1およびR2はそれぞれアルキ
ル基又は置換アルキル基を表わし、互いに同じ
でも異なつてもよい。R3はアルキル基、アリ
ール基、アラルキル基、置換アルキル基、アル
コキシ基、アリールオキシ基又はN、S又はO
を含む5員又は6員の複素芳香環の1価の残基
を表わす。Xはハメツト(Hammett)のσ
(シグマ)値が−0.9から+0.7までの範囲にあ
る置換基を表わす。一般式〔6〕において、
R4はアルキル基、置換アルキル基又はアルケ
ニル基を表わす。R5はアルキル基、アリール
基、置換アリール基、チエニル基又はフリル基
を表わす。Zは窒素を含む複素環を形成するの
に必要な原子団を表わす。 ならびに、 (2) さらにバインダーとして皮膜形成能を有
し、成分およびと相溶性を有する有機高分
子物質の含有する(1)に記載の光重合性組成物で
ある。 以下本発明について詳細に説明する。 本発明の光重合性組成物に第一の必須成分とし
て含まれるエチレン性不飽和二重結合を少なくと
も1個有する付加重合可能な化合物(以下、エチ
レン性化合物という。)は、光重合性組成物が活
性光で照射されたときに、第二の必須成分である
光重合開始剤(混合物)の光分解生成物の作用に
より、付加重合して、線状または網状構造の高分
子量の高重合物質に変化し、光重合性組成物の硬
度を増大し、その有機及び/又は無機溶媒に対す
る溶解度を著しく減少させるか又はそれを実質的
に不溶化する成分である。 エチレン性化合物は、その1分子の化学構造中
に少なくとも1個の付加重合しうるエチレン性不
飽和二重結合を有する化合物であつて、モノマ
ー、プレプリマー、すなわち二量体、三量体、四
量体およびオリゴマー(分子量約1万以下の重合
物又は重縮合物を意味する。)、それらの混合物、
ならびにそれらの低重合度の共重合体などを包含
する。エチレン性化合物の例としては、不飽和カ
ルボン酸、不飽和カルボン酸塩、不飽和カルボン
酸と脂肪族ポリヒドロキシ化合物(以下、脂肪族
ポリオールという。)または芳香族ポリヒドロキ
シ化合物(以下、多価フエノールという。)との
エステル、2価以上の多価カルボン酸と2価以上
のポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸から
エステル反応により得られるオリゴエステルをあ
げることができる。 エチレン性化合物は、光重合性組成物を常温
(約10℃から約40℃までの範囲)で実質的に非流
動性の組成物として用いる場合には、その大気圧
下における沸点が約100℃以上のものを用いるこ
とができる。しかし、光重合性組成物を常温で流
動性の組成物として用いる場合には、エチレン性
化合物の大気圧下における沸点が約30℃以上、好
ましくは約40℃から約100℃までの温度範囲のも
のを用いることができる。 不飽和カルボン酸の具体例としてはアクリル
酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イ
ソクロトン酸、マレイン酸がある。不飽和カルボ
ン酸の塩としては、前述の不飽和カルボン酸のナ
トリウム塩およびカリウム塩がある。 前述の脂肪族ポリオールとしてはエチレングリ
コール、トリエチレングリコール、テトラエチレ
ングリコール、テトラメチレングリコール、ネオ
ペンチルグリコール、1・10−デカンジオール、
1・2−ブタンジオール、1・3−ブタンジオー
ル、プロピレンジオール、プロピレングリコール
等の二価アルコール類、トリメチロールエタン、
トリメチロールプロパン等の三価アルコール類、
およびそれらの多量体、ペンタエリトリトール、
ジペンタエリトリトール、トリペンタエリトリト
ール、他の多量体ペンタエリトリトール等の四価
以上のアルコール類、ソルビトール、d−マンニ
トール等の糖類、ジヒドロキシマレイン酸等のジ
ヒドロキシカルボン酸類がある。多価フエノール
としては、ヒドロキノン、カテコール、レゾルシ
ノール、フロログルシノール、ピロガロール等が
ある。脂肪族ポリオールと不飽和カルボン酸との
エステルの具体例としてはアクリル酸エステルと
して、ジアクリル酸エチレングリコールエステ
ル、トリアクリル酸トリエチレングリコールエス
テル、ジアクリル酸1・3−ブタンジオールエス
テル、ジアクリル酸テトラメチレングリコールエ
ステル、ジアクリル酸プロピレングリコールエス
テル、トリアクリル酸トリメチロールプロパンエ
ステル、トリアクリル酸トリメチロールエタンエ
ステル、ジアクリル酸テトラエチレングリコール
エステル、ジアクリル酸ペンタエリトリトールエ
ステル、トリアクリル酸ペンタエリトリトールエ
ステル、テトラアクリル酸ペンタエリトリトール
エステル、ジアクリル酸ジペンタエリトリトール
エステル、トリアクリル酸ジペンタエリトリトー
ルエステル、テトラアクリル酸ジペンタエリトリ
トールエステル、ペンタアクリル酸ジペンタエリ
トリトールエステル、ヘキサアクリル酸ジペンタ
エリトリトールエステル、オクタアクリル酸トリ
ペンタエリトリトールエステル、テトラアクリル
酸ジペンタエリトリトールエステル、ペンタアク
リル酸ジペンタエリトリトールエステル、ヘキサ
アクリル酸ジペンタエリトリトールエステル、オ
クタアクリル酸トリペンタエリトリトールエステ
ル、トリアクリル酸ソルビトールエステル、テト
ラアクリル酸ソルビトールエステル、ペンタアク
リル酸ソルビトールエステル、ヘキサアクリル酸
ソルビトールエステル、ポリエステルアクリレー
トオリゴマー等がある。メタアクリル酸エステル
として、ジメタアクリル酸テトラメチレングリコ
ールエステル、ジメタアクリル酸トリエチレング
リコールエステル、トリメタアクリル酸トリメチ
ロールプロパンエステル、トリメタアクリル酸ト
リメチロールエタンエステル、ジメタアクリル酸
ペンタエリトリトールエステル、トリメタアクリ
ル酸ペンタエリトリトールエステル、ジメタアク
リル酸ジペンタエリトリトールエステル、ジメタ
アクリル酸ペンタエリトリトールエステル、トリ
メタアクリル酸ペンタエリトリトールエステル、
ジメタアクリル酸ジペンタエリトリトールエステ
ル、テトラメタアクリル酸ジペンタエリトリトー
ルエステル、オクタメタアクリル酸トリペンタエ
リトリトールエステル、ジメタアクリル酸エチレ
ングリコールエステル、ジメタアクリル酸1・3
−ブタンジオールエステル、ジメタアクリル酸テ
トラメチレングリコールエステル、テトラメタア
クリル酸ソルビトールエステル等がある。イタコ
ン酸エステルとしてはジイタコン酸エチレングリ
コールエステル、ジイタコン酸プロピレングリコ
ールエステル、ジイタコン酸1・3−ブタンジオ
ールエステル、ジイタコン酸1・4−ブタンジオ
ールエステル、ジイタコン酸テトラメチレングリ
コールエステル、ジイタコン酸ペンタエリトリト
ールエステル、トリイタコン酸ジペンタエリトリ
トールエステル、ペンタイタコン酸ジペンタエリ
トリトールエステル、ヘキサイタコン酸ジペンタ
エリトリトールエステル、テトライタコン酸ソル
ビトールエステル等がある。クロトン酸エステル
としてはジクロトン酸エチレングリコールエステ
ル、ジクロトン酸プロピレングリコールエステ
ル、ジクロトン酸テトラメチレングリコールエス
テル、ジクロトン酸ペンタエリトリトールエステ
ル、テトラクロトン酸ソルビトールエステル等が
ある。イソクロトン酸エステルとして、ジイソク
ロトン酸エチレングリコールエステル、ジイソク
ロトン酸ペンタエリトリトールエステル、テトラ
イソクロトン酸ソルビトールエステル等がある。
マレイン酸エステルとして、ジマレイン酸エチレ
ングリコールエステル、ジマレイン酸トリエチレ
ングリコールエステル、ジマレイン酸ペンタエリ
トリトールエステル、テトラマレイン酸ソルビト
ールエステル等がある。さらに前述のエステルの
混合物もあげることができる。 前述のオリゴエステルの例としては、オリゴエ
ステルアクリレートおよびオリゴエステルメタア
クリレート(以下、この両者又はいずれか一方を
あらわすのに、更にオリゴエステル(メタ)アク
リレートという。)をあげることができる。 オリゴエステル(メタ)アクリレートは、アク
リル酸又はメタアクリル酸、多価カルボン酸およ
びポリオールのエステル化反応によつて得られる
反応生成物で、推定される構造式は一般式〔7〕 で表わされる化合物であり、ここでRは水素原子
又はメチル基を表わし、Qは多価アルコールと多
価カルボン酸から成る、少くとも1つのエステル
結合を含むエステル残基を表わし、pは1乃至6
の整数である。 エステル残基Qを構成するポリオールとして
は、例えばエチレングリコール、1・2−プロピ
レングリコール、1・4−ブタンジオール、1・
6−ヘキサンジオール、トリメチロールプロパ
ン、トリメチロールメタン、1・2・6−ヘキサ
ントリオール、グリセリン、ペンタエリトリトー
ル、ソルビトールなどのポリオール、ジエチレン
グリコール、トリエチレングリコール、テトラエ
チレングリコール、デカエチレングリコール、テ
トラデカエチレングリコール、ポリエチレングリ
コール、ジプロピレングリコール、トリプロピレ
ングリコール、テトラプロピレングリコール、ポ
リプロピレングリコールなどのポリエーテル型ポ
リオールがある。 一方、エステル残基Qを構成する多価カルボン
酸としては、例えばフタル酸、イソフタル酸、テ
レフタル酸、テトラクロルフタル酸、テトラブロ
ムフタル酸、トリメリツト酸、ピロメリツト酸、
ベンゾフエノンジカルボン酸、レゾルシノールジ
酢酸、ビスフエノールAジ酢酸等の芳香族多価カ
ルボン酸、マレイン酸、フマル酸、ハイミツク
酸、イタコン酸等の不飽和脂肪族多価カルボン
酸、マロン酸、こはく酸、グルタール酸、アジピ
ン酸、ピメリン酸、セバシン酸、ドデカン酸、テ
トラヒドロフタル酸等の飽和脂肪族多価カルボン
酸などがある。 エステル残基Qは、上記の如きポリオールと多
価カルボン酸のそれぞれ一種類づつから構成され
ているもの、及びそれらの一方が又は両方が二種
以上のものから構成されているものが含まれる。
またポリオールと多価カルボン酸がエステル残基
Q中に、1分子づつ含まれているもの、及びそれ
らの一方が又は両方が2分子以上含まれているも
のが含まれる。即ちエステル結合がQ中に少くと
も一つ含まれていればいかなるものも使用でき
る。また、Q中に水酸基がのこつているもの、或
いはこれが一価カルボン酸とエステルを形成して
いるか又はメトキシ基、エトキシ基などのアルコ
キシ基で置換されているものも含まれる。またQ
中にカルボン酸がのこつているものでもよい。一
般式〔7〕中のpの数及びQ中に含まれるエステ
ル結合の数はふつう1〜6個の範囲である。pの
値が2以上の時、一つのポリエステル(メタ)ア
クリレート分子中に、アクリロイル基又はメタク
リロイル基のいずれかのみを含むものを用いても
よいが、または、一つの分子中にアクリロイル基
とメタクリロイル基を任意の割合で含むものでも
よい。オリゴエステル(メタ)アクリレートの具
体例の推定構造式を第1表に掲げる。この他に特
開昭47−9676号(米国特許第3732107号に対応す
る。)明細書に記載されている不飽和エステル類
等もオリゴエステルの例としてあげることができ
る。第1表において構造式中Yはアクリロイル基
【式】又はメタアクリロイル基
【式】を表わす。
【表】
【表】
【表】 次に本発明の光重合性組成物において著しい特
徴をなす光重合開始剤について説明する。成分(a)
の一般式〔1〕で表わされる5−イソオキサゾロ
ンの置換基A1およびA2はそれぞれアルキル基、
アリール基、アルコキシカルボニル基又は水素原
子を表わし、互いに同じでも異なつてもよい。ア
ルキル基としては炭素原子数が1から5までの直
線状、分岐状のアルキル基をあげることができ
る。その具体例としては、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ペンチル基、イソプロピ
ル基、イソブチル基、イソペンチル基、sec−ブ
チル基、ネオペンチル基、tert−ブチル基をあげ
ることができる。これらのうちで好ましいものは
メチル基、エチル基である。アルキルカルボニル
基としては炭素原子数2から6までのアルキルカ
ルボニル基をあげることができる。その具体例と
しては、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル
基(butyryl group)、バレリル基、ペンチルオキ
シ基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロ
イル基をあげることができる。これらのうちで好
ましいものは、アセチル基である。アルコキシカ
ルボニル基としてはアルキル基が炭素原子数1か
ら5までの直線状、分岐状のアルキル基であるア
ルコキシカルボニル基をあげるものができる。そ
の具体例としては、メトキシカルボニル基、エト
キシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブ
トキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル
基、イソプロポキシカルボニル基、イソブトキシ
カルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基
をあげることができる。これらのうちで好ましい
ものはメトキシカルボニル基、エトキシカルボニ
ル基である。アリール基としてはフエニル基、p
−トリル基、m−トリル基、o−トリル基をあげ
ることができ、好ましいものはフエニル基であ
る。アリールカルボニル基としてはベンゾイル
基、p−トルオイル基、m−トルオイル基、o−
トルオイル基をあげることができ、好ましいもの
はベンゾイル基である。A1とA2は前述のとお
り、互いに同じでもよいが、A1とA2がともに水
素原子ではない組合が好ましい。一般式〔1〕で
表わされる5−イソオキサゾロンの具体例として
は、3−フエニル−5−イソオキサゾロン、3−
メチル−5−イソオキサゾロン、3−エチル−5
−イソオキサゾロン、3−アセチル−5−イソオ
キサゾロン、4−エトキシカルボニル−5−イソ
オキサゾロンをあげることができる。一般式
〔1〕で表わされる5−イソオキサゾロンは、A.
O.Fitton、R.K.Smalley著「Practical
Heterocyclic Chemistry」(Academic Press
Inc.、London、1968年発行)第29頁、R.C.
Elderfield編「Heterocyclic Compounds」第5
巻(Isoxazoles)第472頁、E.H.Rodd編
「Chemistry of Carbon Compounds」第A巻
(Isoxazolines and Isoxazolones)第343頁等に
記載されている方法により合成することができ
る。上述の具体例としてあげた化合物はいずれも
室温で無色の固体である。 成分bとして用いられる芳香族カルボニル化合
物は、芳香環に結合したオキソ酸素原子を1個又
は2個有する化合物および芳香族の炭素原子に結
合した炭素原子に結合したオキソ酸素原子を1個
又は2個有する化合物を意味する。芳香族カルボ
ニル化合物としては、芳香族アシロイン類、芳香
族アシロインエーテル類、芳香族ケトン類、多環
縮合型キノン類をあげることができる。芳香族ア
シロイン類の具体例としては、ベンゾイン、o−
トルオイン、p−トルオイン、アニリイン、フロ
インをあげることができる。芳香族アシロインエ
ーテル類の具体例としては、ベンゾインメチルエ
ーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイン
イソプロピルエーテル、ベンゾインsec−ブチル
エーテル、o−トルオインメチルエーテル、p−
トルオインメチルエーテルをあげることができ
る。芳香族ケトン類としては、ベンゾフエノン、
フエニルトリルケトン、2−クロロベンゾフエノ
ン、2−クロロアセトフエノン、アセトフエノ
ン、プロピオフエノン、ベンジル、2・2′−ジメ
チルベンジル、ミヒラーケトン、ビス(p−アミ
ノフエニル)ケトン、フエニルβ−ナフチルケト
ン、フルオレノン、アントロン、ベンゾアントロ
ン、10・10′−ビアントロンをあげることができ
る。多環縮合型キノン類としては、アントラキノ
ン、1−ヒドロキシアントラキノン、1−メチル
アントラキノン、2−メチルアントラキノン、2
−エチルアントラキノン、1−クロロアントラキ
ノン、1−ブロモアントラキノン、2−クロロア
ントラキノン、フエナントラキノン、1−メチル
フエナントラキノン、4−エチルフエナントラキ
ノン、2−クロロフエナントラキノン、3−ブロ
モフエナントラキノン、2・7−ジメチルフエナ
ントラキノン、2・7−ジ−tert−ブチルフエナ
ントラキノン、1・2−ベンズ−9・10−アント
ラキノンをあげることができる。 これらの芳香族系カルボニル化合物のうちで
は、感光度の増大、入手のしやすさ、光重合性組
成物との相溶性や経時安定性、形成された画像の
強固さ等の観点から、ベンズアントロン、1・2
−ベンズ−9・10−アントラキノンおよびフルオ
レノンが好ましく、特に好ましい化合物はベンズ
アントロンおよび1・2−ベンズ−9・10−アン
トラキノンである。 一般式〔2〕から〔5〕で表わされるp−ジア
ルキルアミノ芳香族系カルボニル化合物の置換基
R1およびR2はアルキル基又は置換アルキル基を
表わし、それらは互いに同じでも異なつていても
よい。アルキル基としては、炭素原子数が1から
18までの直線状、分岐状のアルキル基、および炭
素原子数が5から18までの環状アルキル基をあげ
ることができる。その具体例としては、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニ
ル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、
イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル
基、イソヘキシル基、sec−ブチル基、ネオペン
チル基、tert−ブチル基、tert−ペンチル基、シ
クロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプ
チル基、2−ノルボニル基、α−デカリル基、β
−デカリル基をあげることができる。これらのう
ちでは炭素原子数1から10までの直線状および分
岐状のアルキル基、ならびに炭素原子数6から10
までの環状アルキル基が好ましい。 置換アルキル基の置換基としてはハロゲン原子
(弗素、塩素、臭素、沃素)およびヒドロキシル
基をあげることができ、一方アルキル基としては
前述の炭素原子数1から18まで、好ましくは同じ
く1から10までの直線状、分岐状および環状のア
ルキル基をあげることができる。その具体例とし
ては、クロロメチル基、ブロモメチル基、2−ク
ロロエチル基、2・2・2−トリクロロエチル
基、2−クロロペンチル基、1−(クロロメチ
ル)プロピル基、10−ブロモデシル基、18−メチ
ルオクタデシル基、クロロシクロヘキシル基、ヒ
ドロキシメチル基、2−ヒドロキシエチル基、2
−ヒドロキシブチル基、5−ヒドロキシペンチル
基、10−ヒドロキシデシル基、2−ヒドロキシオ
クタデシル基、2−(ヒドロキシメチル)エチル
基、ヒドロキシシクロヘキシル基、3−ヒドロキ
シ−2−ノルボニル基をあげることができる。 一般式〔2〕で表わされるp−ジアルキルアミ
ノ芳香族系カルボニル化合物の置換基R3はアル
キル基、置換アルキル基、アルコキシ基、アリー
ル基、アラルキル基、アリールオキシ基、又は
N、S又はOを含む5員又は6員の複素芳香環の
1価の残基を表わす。ここでアルキル基および置
換アルキル基は、前述の置換基R1のアルキル基
および置換アルキル基と同じ意味を有する。アル
コキシ基として炭素原子数1から10まで、好まし
くは同じく1から5までの直線状、分岐状および
環状のアルキル基を有するアルコキシル基をあげ
ることができ、その具体例としては、メトキシ
基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペ
ンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ノニルオキ
シ基、デシルオキシ基、イソプロポキシ基、sec
−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、イソペンチル
オキシ基、シクロヘキシルオキシ基、2−ノルボ
ニルオキシ基をあげることができる。 アリール基としては、1個のベンゼン環の残
基、2個および3個の縮合ベンゼン環の残基、2
個のベンゼン環集合系の残基ならびにベンゼン環
と5員不飽和環との縮合系の残基およびこれらの
残基の環形成炭素原子にハロゲン原子(弗素原
子、塩素原子、臭素原子、沃素原子)、ニトロ
基、アミノ基、置換アミノ基(モノアルキル置換
アミノ基(アルキル基の例、メチル基、エチル
基、プロピル基、ペンチル基、イソプロピル基、
sec−ブチル基、イソペンチル基)、ジアルキルア
ミノ基(アルキル基の例はモノアルキル置換アミ
ンの例と同じ)、モノアシルアミノ基(アシル基
の例、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル
(butyryl)基、イソブチリル基、バレリル
(valeryl)基)、シアノ基、アルキル基(炭素原
子数が1から18までの直線状、分岐状および環状
のアルキル基、好ましくは炭素原子数1から10ま
での直線状、分岐状および環状のアルキル基、こ
れらの具体例はすでに上に述べた。)、ハロゲノア
ルキル基(例、クロロメチル基、2−クロロメチ
ル基、5−クロロペンチル基、トリフルオロメチ
ル基)、アルコキシル基(アルキル基の例、メチ
ル基、エチル基、ブチル基、ペンチル基、イソプ
ロピル基、イソペンチル基、2−メチルブチル
基、sec−ブチル基)、アリールオキシ基(アリー
ル基の例、フエニル基、1−ナフチル基、2−ナ
フチル基)、アルコキシカルボニル基(アルキル
基の例、メチル基、エチル基、プロピル基、イソ
プロピル基、ブチル基)、アシルオキシ基(アシ
ル基の例はモノアシルアミノ基の例と同じ)、ア
ルコキシスルホニル基(アルキル基の例はアルコ
キシル基のアルキル基の例と同じ)等の置換基が
1個又は2個以上の同じ置換基あるいは互いに異
なる置換基が置換した残基をあげることができ
る。これらのアリール基の具体例としては、フエ
ニル基、クロロフエニル基、ニトロフエニル基、
アミノフエニル基(メチルアミノ)フエニル基、
(エチルアミノ)フエニル基、(ジメチルアミノ)
フエニル基、アセチルアミノフエニル基、トリル
基、エチルフエニル基、(クロロメチル)フエニ
ル基、アセチルフエニル基、フエノキシフエニル
基、メノキシカルボニルフエニル基、エトキシカ
ルボニルフエニル基、アセトキシフエニル基、メ
トキシスルホニルフエニル基、ナフチル基、2−
アミノ−1−ナフチル基、1−ジメチルアミノ−
2−ナフチル基、クロロナフチル基、メチルナフ
チル基、アントリル基、フエナントリル基、イン
デニル基、ビフエニリル基、クロロビフエニリル
基、アミノビフエニリル基メチルビフエニリル
基、アセナフテニル基をあげることができる。こ
れらのうちでは1個のベンゼン環の残基および上
述の置換基が1個又は2個以上の同じかあるいは
互いに異なる上述の置換基が2個以上置換した残
基が好ましい。 アラルキル基としては炭素原子数1から10ま
で、好ましくは同じく1から5までの直線状、分
岐状又は環状のアルキル基にフエニル基又はナフ
チル基が置換した残基をあげることができ、その
具体例としては、ベンジル基、フエネチル基、3
−フエニルプロピル基、3−フエニルヘキシル
基、10−フエニルデシル基、4−フエニルシクロ
ヘキシル基をあげることができる。 アリールオキシ基としては、フエノキシ基、ナ
フチルオキシ基、ビフエニルオキシ基をあげるこ
とができる。 N、S又はOを含む複素芳香環の1価の残基と
しては、フリル基、ベンゾフリル基、ピロリル
基、ピリジル基、インドリル基、チエニル基、ベ
ンゾチエニル基をあげることができる。 一般式〔3〕から〔5〕で表わされるp−ジア
ルキルアミノ芳香族系カルボニル化合物の置換基
Xはハメツトのσ値が−0.9から+0.7までの範囲
にある置換基を表わす。なお、本明細書において
は、ハメツトのσ値の定義はJ.E.Leffler著、都
野雄甫訳「有機反応速度論」(東京、広川書店、
1968年発行)に従うものである。その具体例とし
ては、水素原子、メチル基、エチル基、イソロピ
ル基、tert−ブチル基、フエニル基、トリフルオ
ロメチル基、シアノ基、アセチル基、エトキシカ
ルボニル基、カルボキシル基、カルボキシラト基
(−COO)、アミノ基、メチルアミノ基、ジメ
チルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ
基、アセチルアミノ基、−PO3H基、メトキシ
基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ
基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、フエノキシ
基、ヒドロキシル基、アセトキシ基、メチルチオ
基、エチルチオ基、イソプロピルチオ基、メルカ
プト基、アセチルチオ基、チオシアノ基(−
SCN)、メチルスルフイニル基、エチルスルフイ
ニル基、メチルスルフオニル基、エチルスルフオ
ニル基、アミノスルホニル基、ジメチルスルフオ
ニル基(−〓(CH32)、スルフオナト基(−
SO3)、弗素原子、塩素原子、臭素原子、沃素
原子、ヨージル基、トリメチルシリル基(−Si
(CH33)、トリエチルシリル基、トリメチルスタ
ニル基(−Sn(CH33)をあげることができる。
これらの置換基のうちで好ましいものは、水素原
子、メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ
基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、塩素
原子、臭素原子、シアノ基である。 一般式〔2〕で表わされるp−ジアルキルアミ
ノ芳香族カルボニル化合物はp−ジアルキルアミ
ノシンナモイル基を有する化合物類であつて、そ
の具体例としては、p−ジメチルアミノスチリル
メチルケトン、p−ジメチルアミノスチリルエチ
ルケトン、p−ジメチルアミノスチリルプロピル
ケトン、p−ジメチルアミノスチリルブチルケト
ン、p−ジメチルアミノスチリルイソブチルケト
ン、p−ジメチルアミノスチリルtert−ブチルケ
トン、p−ジメチルアミノスチリルシクロヘキシ
ルケトン、p−ジメチルアミノスチリルベンジル
ケトン、p−ジメチルアミノスチリルフエネチル
ケトン、p−ジメチルアミノ桂皮酸メチルエステ
ル、p−ジメチルアミノ桂皮酸エチルエステル、
p−ジメチルアミノスチリル2−ピリジルケト
ン、p−ジメチルアミノスチリル4−ピリジルケ
トン、p−ジメチルアミノスチリル2−チエニル
ケトン、p−ジメチルアミノスチリル9−アント
リルケトン、p−ジエチルアミノスチリルメチル
ケトン、p−ジエチルアミノスチリルエチルケト
ン、p−ジエチルアミノスチリルブチルケトンを
あげることができる。 一般式〔3〕であらわされるp−ジアルキルア
ミノ芳香族系カルボニル化合物はp−ジアルキル
アミノカルコンおよびその誘導体であつて、その
具体例は、p−ジメチルアミノカルコン(p−ジ
メチルアミノスチリルフエニルケトンを意味す
る。)、p−ジメチルアミノ−p′−シアノカルコン
(p−ジメチルアミノスチリルp−シアノフエニ
ルケトンを意味する。以下、プライムなしの位置
記号はスチリル基側のベンゼン環の位置を示し、
プライムつきの位置記号はフエニル基側のベンゼ
ン環の位置を示す。)、p−ジメチルアミノ−p′−
クロロカルコン、p−ジメチルアミノ−m′−ク
ロロカルコン、p−ジメチルアミノ−p′−ブロモ
カルコン、p−ジメチルアミノ−m′−ブロモカ
ルコン、p−ジメチルアミノ−p′−メチルカルコ
ン、p−ジメチルアミノ−m′−メチルカルコ
ン、p−ジメチルアミノ−p′−エチルカルコン、
p−ジメチルアミノ−m′−エチルカルコン、p
−ジメチルアミノ−p′−メトキシカルコン、p−
ジメチルアミノ−m′−メトキシカルコン、p−
ジメチルアミノ−p′−エトキシカルコン、p−ジ
メチルアミノ−m′−エトキシカルコン、p−ジ
メチルアミノ−p′−ジメチルアミノカルコン、p
−ジエチルアミノカルコン、p−ジエチルアミノ
−p′−シアノカルコン、p−ジエチルアミノ−
m′−クロロカルコン、p−ジエチルアミノ−
p′−クロロカルコン、p−ジエチルアミノ−
m′−ブロモカルコン、p−ジエチルアミノ−
p′−ブロモカルコン、p−ジエチルアミノ−
m′−メチルカルコン、p−ジエチルアミノ−
p′−メチルカルコン、p−ジエチルアミノ−
m′−エチルカルコン、p−ジエチルアミノ−
p′−メチルカルコン、p−ジエチルアミノ−p′−
エトキシカルコン、p−ジエチルアミノ−m′−
メトキシカルコン、p−ジエチルアミノ−p−ジ
エチルアミノカルコン、をあげることができる。 一般式〔4〕で表わされるp−ジアルキルアミ
ノ芳香族系カルボニル化合物は、カルコン誘導体
類であつて、その具体例としては、p′−ジメチル
アミノカルコン(すなわちp−ジメチルアミノフ
エニルスチリルケトン)、p−シアノ−p′−ジメ
チルアミノカルコン(すなわちp−シアノフエニ
ルp−ジメチルアミノスチリルケトン、位置記号
は前述と同じ意味を有する。)、p−クロロ−p′−
ジメチルアミノカルコン、m−クロロ−p′−ジメ
チルアミノカルコン、m−ブロモ−p′−ジメチル
アミノカルコン、p−ブロモ−p′−ジメチルアミ
ノカルコン、m−メチル−p′−ジメチルアミノカ
ルコン、p−メチル−p′−ジメチルアミノカルコ
ン、m−エチル−p′−ジメチルアミノカルコン、
p−エチル−p′−ジメチルアミノカルコン、m−
メトキシ−p′−ジメチルアミノカルコン、p−メ
トキシ−p′−ジメチルアミノカルコン、m−エト
キシ−p′−ジメチルアミノカルコン、p−エトキ
シ−p′−ジメチルアミノカルコン、p・p′−ビス
(ジメチルアミノ)カルコン、p・p′−ビス(ジ
エチルアミノ)カルコン、p′−ジエチルアミノカ
ルコン、p−シアノ−p′−ジエチルアミノカルコ
ン、p−クロロ−p′−ジエチルアミノカルコン、
m−ブロモ−p′−ジエチルアミノカルコン、p−
クロロ−p′−ジエチルアミノカルコン、p−エチ
ル−p′−ジエチルアミノカルコン、m−エチル−
p′−ジエチルアミノカルコン、p−メトキシ−
p′−ジエチルアミノカルコン、m−エトキシ−
p′−ジエチルアミノカルコンをあげることができ
る。 一般式〔5〕で表わされるp−ジアルキルアミ
ノ芳香族系カルボニル化合物は、p−ジアルキル
スチリルスチリルケトン誘導体であつて、その具
体例としては、p−ジメチルアミノスチリルp−
シアノスチリルケトン、p−ジメチルアミノスチ
リルp−クロロスチリルケトン、p−ジメチルア
ミノスチリルm−クロロスチリルケトン、p−ジ
メチルアミノスチリルp−ブロモスチリルケト
ン、p−ジメチルアミノスチリルm−ブロモスチ
リルケトン、p−ジメチルアミノスチリルスチリ
ルケトン、p−ジメチルアミノスチリルm−メチ
ルスチリルケトン、p−ジメチルアミノスチリル
p−メチルスチリルケトン、p−ジメチルアミノ
スチリルp−エチルスチリルケトン、p−ジメチ
ルアミノスチリルm−エチルスチリルケトン、p
−ジメチルアミノスチリルp−メトキシスチリル
ケトン、p−ジメチルアミノスチリルm−メトキ
シスチリルケトン、p−ジメチルアミノスチリル
p−エトキシスチリルケトン、ビス(p−ジメチ
ルアミノスチリル)ケトン、p−ジエチルアミノ
スチリルp−シアノスチリルケトン、p−ジエチ
ルアミノスチリルp−ブロモスチリルケトン、p
−ジエチルアミノスチリルm−クロロスチリルケ
トン、p−ジエチルアミノスチリルスチリルケト
ン、p−ジエチルアミノスチリルp−メチルスチ
リルケトン、p−ジエチルアミノスチリル、m−
エチルスチリルケトン、p−ジエチルアミノスチ
リルp−メトキシスチリルケトン、p−ジエチル
アミノスチリルm−エトキシスチリルケトン、ビ
ス(p−ジエチルアミノスチリル)ケトンをあげ
ることができる。 前述の一般式〔2〕から〔5〕で表わされる化
合物のうちで本発明に好ましく用いられるものは
次のとおりである。 一般式〔2〕で表わされるものとしては、p−
ジメチルアミノスチリルメチルケトン、p−ジメ
チルアミノスチリルエチルケトン、p−ジメチル
アミノスチリルプロピルケトン、p−ジメチルア
ミノスチリルブチルケトン、p−ジメチルアミノ
スチリルイソブチルケトン、p−ジメチルアミノ
スチリルtert−ブチルケトン、p−ジメチルアミ
ノスチリルシクロヘキシルケトン、p−ジメチル
アミノスチリルベンジルケトン、p−ジメチルア
ミノスチリルフエネルケトン、p−ジメチルアミ
ノ桂皮酸メチル、p−ジメチルアミノ桂皮酸エチ
ル、p−ジメチルアミノスチリル2−ピリジルケ
トン、p−ジメチルアミノスチリル4−ピリジル
ケトン、p−ジメチルアミノスチリル2−チエニ
ルケトン、p−ジメチルアミノ9−アントリルケ
トンがある。 一般式〔3〕で表わされるものとしては、p−
ジメチルアミノカルコン、p−ジメチルアミノ−
m′−クロロカルコン、p−ジメチルアミノ−
p′−クロロカルコン、p−ジメチルアミノ−
m′−ブロモカルコン、p−ジメチルアミノ−
p′−ブロモカルコン、p−ジメチルアミノ−p′−
シアノカルコン、p−ジメチルアミノ−p′−メト
キシカルコン、p−ジメチルアミノ−p′−メチル
カルコン、p−ジメチルアミノ−m′−メチルカ
ルコン、p−ジメチルアミノ−p′−エチルカルコ
ン、p−ジメチルアミノ−m′−エチルカルコ
ン、p−ジエチルアミノ−p′−ブロモカルコン、
p−ジエチルアミノ−m′−ブロモカルコン、
p′−ジエチルアミノ−p′−クロロカルコン、p−
ジエチルアミノ−m′−クロロカルコンがある。 一般式〔4〕で表わされるものとしては、p′−
ジメチルアミノカルコン、p−シアノ−p′−ジメ
チルアミノカルコン、m−クロロ−p′−ジメチル
アミノカルコン、p−クロロ−p′−ジメチルアミ
ノカルコン、m−ブロモ−p′−ジメチルアミノカ
ルコン、p−ブロモ−p′−ジメチルアミノカルコ
ン、m−メチル−p′−ジメチルアミノカルコン、
p−メチル−p′−ジメチルアミノカルコン、p−
エチル−p′−ジメチルアミノカルコン、m−エチ
ル−p′−ジメチルアミノカルコン、p−エチン−
p′−ジメチルアミノカルコン、p−メトキシ−
p′−ジメチルアミノカルコン、p・p′−ビス(ジ
メチルアミノ)カルコンがある。 一般式〔5〕で表わされるものとしては、p−
ジメチルアミノスチリルp−メチルスチリルケト
ン、p−ジメチルアミノスチリルp−エチルスチ
リルケトン、p−ジメチルアミノスチリルp−ク
ロロスチリルケトン、p−ジメチルアミノスチリ
ルm−クロロスチリルケトン、p−ジメチルアミ
ノスチリルp−ブロモスチリルケトン、p−ジメ
チルアミノスチリルm−ブロモスチリルケトン、
p−ジメチルアミノスチリルp−メトキシスチリ
ルケトン、p−ジメチルアミノスチリルp−エト
キシスチリルケトン、p−ジメチルアミノスチリ
ルp−シアノスチリルケトン、p−ジメチルアミ
ノスチリルm−メチルスチリルケトン、p−ジメ
チルアミノスチリルm−エチルスチリルケトン、
ビス(p−ジメチルアミノスチリル)ケトン、ビ
ス(p−ジエチルアミノスチリル)ケトンがあ
る。 前述のp−ジアルキルアミノ芳香族系カルボニ
ル化合物の合成方法をここで説明する。例として
p−ジメチルアミノスチリルプロピルケトンは、
p−ジメチルアミノベンズアルデヒドとプロピル
エチルケトンとの縮合反応(パーキン
(Perkin)反応など)により合成することがで
き、また、p−ジメチルアミノカルコンは、p−
ジメチルアミノベンズアルデヒドとフエニルメチ
ルケトンとの縮合反応(パーキン反応など)によ
り合成することができる。具体的には、一般式
〔2〕から〔5〕で表わされる化合物は、「Justus
Liebigs Annalen der Chemie」誌第44巻、第
228−265頁(1925年)に記載のP.PfeifferとO.
Angenの方法、「Ukrain.khim.Zhur.」誌第21巻第
619〜624頁(1955年)に記載のB.N.Dashkevich
とI.V.Smolankaの方法および「Nauch.Zapjski.
Uzhgrod.Univ.」誌第18巻第15〜19頁(1957年)
に記載のI.V.Smedankaの方法等により合成する
ことができる。 成分(b)の一般式〔6〕で表わされる化合物にお
いて、R4は通常シアニン色素で知られているア
ルキル基、置換アルキル基又はアルケニル基を表
わす。アルキル基としてはメチル基、エチル基、
プロピル基、イソプロピル基をあげることができ
る。置換アルキル基としては、ヒドロキシメチル
基、2−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシプ
ロピル基、メトキシメチル基、2−メトキシエチ
ル基、カルボキシメチル基、2−カルボキシエチ
ル基、3−カルボキシプロピル基、スルホメチル
基、2−スルホエチル基、3−スルホプロピル
基、メトキシカルボニルメチル基、2−(メトキ
シカルボニル)エチル基、ベンジル基、フエネチ
ル基、p−スルホベンジル基、p−スルホフエネ
チル基、p−カルボキシベンジル基、p−カルボ
キシフエネチル基をあげることができる。アルケ
ニル基としては、ビニル基、アリル(allyl)基、
1−プロペニル基、イソプロペニル基をあげるこ
とができる。R5はアルキル基、アリール基、置
換アリール基、チエニル基又はフリル基を表わ
す。アルキル基としては、メチル基、エチル基、
プロピル基、イソプロピル基をあげることができ
る。アリール基としては、フエニル基、α−ナフ
チル基、β−ナフチル基をあげることができる。
置換アリール基としては、p−ヒドロキシフエニ
ル基、p−メトキシフエニル基、p−エトキシフ
エニル基、p−クロロフエニル基、p−ブロモフ
エニル基、p−(ジメチルアミノ)フエニル基、
p−(ジエチルアミノ)フエニル基をあげること
ができる。 Zは窒素を含む複素環を形成するのに必要な原
子団を表わし、より具体的には、炭素原子と水素
原子からなる2価の残基、硫黄原子、セレン原子
又は酸素原子と炭素原子と水素原子からなる2価
の残基、前述の2価の残基にさらに置換基が1個
以上結合しているものをあげることができる。前
述の窒素を含む複素環の例としては、ベンゾチア
ゾール類(例、ベンゾチアゾール、5−クロロベ
ンゾチアゾール、6−クロロベンゾチアゾール、
4−メチルベンゾチアゾール、6−メチルベンゾ
チアゾール、5−フエニルベンゾチアゾール、6
−メトキシベンゾチアゾール、4−エトキシベン
ゾチアゾール、5−メトキシベンゾチアゾール、
5−ヒドロキシベンゾチアゾール、5・6−ジメ
チルベンゾチアゾール、5・6−ジメトキシベン
ゾチアゾール)、ナフトチアゾール類(例、α−
ナフトチアゾール、β−ナフトチアゾール)、ベ
ンゾセレナゾール類(例、ベンゾセレナゾール、
5−クロロベンゾセレナゾール、6−メチルベン
ゾセレナゾール、6−メトキシベンゾセレナゾー
ル)、ナフトセレナゾール類(例、α−ナフトセ
レナゾール、β−ナフトセレナゾール)、ベンゾ
オキサゾール類(例、ベンゾオキサゾール、5−
メチルベンゾオキサゾール、5−フエニルベンゾ
オキサゾール、6−メトキシベンゾオキサゾー
ル)、ナフトオキサゾール類(例、α−ナフトオ
キサゾール、β−ナフトオキサゾール)、チアゾ
ール類(例、1・3−チアゾール、4・5−ジフ
エニル−1・3−チアゾール)、インドリン類
(例、インドリン、3・3−ジメチルインドリ
ン、3・3−ジエチルインドリン、3−メチルイ
ンドリン、3−エチルインドリン)をあげること
ができる。 一般式〔6〕で表わされる化合物は特開昭49−
108192号(米国特許第3870524号)、米国特許第
2948610号、西独国特許出願公開(OLS)第
2012390号等の明細書に記載されている化合物で
あつて、公知の化合物である。一般式〔6〕で表
わされる化合物の具体例としては、下記の〔8〕
から〔27〕までの化学構造式で表わされる化合物
をあげることができる。 2−(α−チオキソフエネチリデン)−3−メチ
ルナフト〔1・2−d〕〔1・3〕チアゾリンは
化学構造式〔28〕で表わされる化合物である。 本発明の光重合性組成物に含まれ、その特徴を
なる光重合開始剤は、前述のとおり成分である化
合物(a)および(b)の組合せであるが、本発明の効果
が特に顕著に発揮される組合せの重量比は、いず
れの組合せにおいても、化合物(a)対(b)の比が約
1:30から約30:1までの範囲にあり、好ましく
は約1:10から約10:1までの範囲である。 本発明の光重合性組成物においては、成分の
エチレン性化合物に対して成分の光重合開始剤
を重量比で約0.1%から約20%まで、好ましくは
約0.2%から約10%までの範囲で含有することが
できる。 本発明の光重合性組成物は前述のエチレン性化
合物と光重合開始剤を必須の構成成分とする混合
物である。しかし光重合性組成物に強い皮膜形成
能を付与する場合、エチレン性化合物の沸点が低
く常温(約10℃から約40℃までの範囲の温度)で
エチレン性化合物と光重合開始剤との混合物が液
状である場合に、この混合物に皮膜形成能を付与
する場合、又は光重合性組成物の粘度を増大させ
る場合などには、前述のエチレン性化合物および
光重合開始剤と相溶性があり、かつ皮膜形成能を
有する有機高分子物質がバインダーとして光重合
性組成物中に含有させることができる。 特に後述するごとき剥離現像を行なうための感
光材料、あるいは液体による現像を行なうための
感光材料のごとく、感光材料上にレジスト(肉厚
の)画像をつくる目的に用いる光重合性組成物中
には皮膜形成能を有する有機高分子物質(バイン
ダー)を併用することが好ましい。バインダーと
してはエチレン性化合物および光重合開始剤と相
溶性のある有機高分子物質である限りどれを使用
してもさしつかえないが、望ましくは剥離現像、
水現像あるいは弱アルカリ水現像を可能とする様
な高分子物質を選択すべきである。すなわち、有
機高分子物質は単なる該組成物の皮膜形成剤とし
てだけでなく現像液として用いられる水、弱アル
カリ水、あるいは有機溶剤の種類に応じてそれに
対する親和性が必要である。たとえば水可溶性有
機高分子物質を用いると水現像が可能になる。こ
の様な有機高分子物質としては側鎖にカルボキシ
ル基を有する付加重合体、たとえばメタクリル酸
共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重
合体、部分エステル化マレイン酸共重合体、マレ
イン酸共重合体、クロトン酸共重合体等があり、
又同様に側鎖にカルボキシル基を有する酸性セル
ロース誘導体がある。この他水酸基を有する付加
重合体には環状酸無水物を付加させたもの等が有
用である。この他に水溶性有機高分子重合体とし
てポリビニルピロリドンやポリエチレンオキシド
等が有用である。また露光後の硬化部分の皮膜の
強度をあげるためにアルコール可溶性ナイロンや
2・2−ビス(4−ヒドロキシフエニル)プロパ
ンとエピクロロヒドリンのポリエーテルなども有
用である。これらの有機高分子物質は全組成(後
述の溶媒を除外する。)中に任意な量を混和させ
ることができるが、90重量%を超えることは形成
される画像強度等の点で好ましい結果を与えな
い。また剥離現像しうる光重合性組成物に用いら
れる線状有機高分子物質は塩素化ポリエチレン、
塩素化ポリプロピレンなどの塩素化ポリオレフイ
ン(塩素含有量約60重量%から約75重量%までの
範囲)、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリ
ル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリル酸アルキ
ルエステル(アルキル基としては、メチル基、エ
チル基、ブチル基など)、アクリル酸アルキルエ
ステル(アルキル基は向上)とアクリロニトリ
ル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、スチレン、ブ
タジエン等のモノマーの少くとも一種との共重合
物、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルとアクリロニト
リルの共重合物、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニ
リデンとアクリロニトリルの共重合物、ポリ酢酸
ビニル、酢酸ビニルと塩化ビニルの共重合物、ポ
リビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポ
リアクリロニトリル、アクリロニトリルとスチレ
ンの共重合物、アクリロニトリルとブタジエン及
びスチレンとの共重合物、ポリビニルアルキルエ
ーテル(アルキル基としては、メチル基、エチル
基、イソプロピル基、ブチル基等)、ポリメチル
ビニルケトン、ポリエチルビニルケトン、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリブチン、ポリスチ
レン、ポリ−α−メチルスチレン、ポリアミド
(6−ナイロン、6・6−ナイロン等)、ポリ−
1・3−ブタジエン、ポリイソプレン、ポリウレ
タン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ンイソフタレート、塩化ゴム、ポリクロロプレ
ン、塩化ゴム、エチルセルロース、アセチルセル
ロース、ポリビニルブチラール、ポリビニルホル
マール、スチレン−ブタジエンゴム、クロロスル
ホン化ポリエチレンなどのホモポリマー又は共重
合物がある。共重合物の場合、その成分モノマー
の含有比は、広範囲の値をとりうるが、一般に
は、少量モノマー成分がモル比で10%以上50%以
下の範囲のものが好適である。またこれら以外の
熱可塑性の高分子物質であつても、前記の条件を
満たすものであれば、本発明に用いることができ
る。 上記の有機高分子物質のうち、本発明の光重合
性組成物とともに好適に用いられるものとして
は、塩素化ポリエチレン(塩素含有量約60重量%
から約75重量%までの範囲)、塩素化ポリプロピ
レン(塩素含有量約60重量%から約75重量%まで
の範囲)、ポリメチルメタアクリレート、ポリ塩
化ビニル、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合物
(塩化ビニルのモル含量率20〜80%)、塩化ビニリ
デン−アクリロニトリル共重合物(アクリロニト
リルのモル含量率10〜30%)、塩化ビニル−アク
リロニトリル共重合物(アクリロニトリルのモル
含量率10〜30%)、ポリスチレン、ポリビニルブ
チラール、ポリビニルアセテート、ポリビニルホ
ルマール、エチルセルロース、アセチルセルロー
ス、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合物、ポリクロ
ロピレン、ポリイソプレン、塩化ゴム、クロロス
ルホン化ポリエチレンなどである。 これらの有機高分子物質は、単独で用いてもよ
いが、塗布液の調合から、塗布、乾燥に至る製造
工程中に脱混合を起さない程度に相溶性が良い高
分子物質を、適当な比で二種以上混合して用いる
ことができる。 前述の有機高分子物質は、本発明の光重合性組
成物中にバインダーとして含有させた場合、その
種類によつて良好な画像を与える範囲が変化しう
るが、一般には重量比でエチレン性化合物の量の
約10%から約500%まで、好ましくは約20%から
約200%までの範囲である。 本発明の光重合性組成物には、必要に応じて公
知の熱重合防止剤、可塑剤、着色剤、表面平滑
剤、表面保護剤などの添加剤を加えることができ
る。 熱重合防止剤の具体例としては、例えばp−メ
トキシフエノール、ヒドロキノン、アルキル若し
くはアリール置換ヒドロキノン、t−ブチルカテ
コール、ピロガロール、フエノチアジン、クロラ
ニール、ナフチルアミン、β−ナフトール、2・
6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピリジ
ン、ニトロベンゼン、ジニトロベンゼン、p−ト
ルイジンなどがある。これらの熱重合防止剤は前
述のエチレン性化合物に対して重量比で約0.001
%から約5%までの範囲で、好ましくは約0.01%
から約3%までの範囲で含有させることができ
る。熱重合防止剤は本発明の光重合性組成物の使
用前(露光前)の経時安定性を向上させる機能を
有する。 着色剤としては、例えば酸化チタン、カーボン
ブラツク、酸化鉄、フタロシアニン系顔料、アゾ
系顔料などの顔料や、メチレンブルー、クリスタ
ルバイオレツト、ローダミンB、フクシン、オー
ラミン、アゾ系染料、アントラキノン系染料など
の染料があるが、使用される着色剤が光重合開始
剤の吸収波長の光を吸収しないものが好ましい。
かかる着色剤は、エチレン性化合物とバインダー
との合計量100重量部に対して顔料の場合は0.1重
量部から30重量部、染料の場合は0.01重量部から
10重量部、好ましくは0.1重量部から3重量部の
範囲含有させるのが好ましい。上述の着色剤を含
有させる場合には、着色剤の補助物質としてステ
アリン酸ジクロロメチルおよびその他の塩素化脂
肪酸などを用いることが好ましく、その量は、着
色剤1重量部に対して0.005重量部から0.5重量部
までの範囲で用いることができる。しかし光重合
性組成物中に可塑剤が含有される場合には着色剤
の補助物質は不要である。可塑剤としては、ジメ
チルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチル
フタレート、ジイソブチルフタレート、ジオクチ
ルフタレート、オクチルカプリルフタレート、ジ
シクロヘキシルフタレート、ジトリデシルフタレ
ート、ブチルベンジルフタレート、ジイソデシル
フタレート、ジアリルフタレートなどのフタル酸
エステル類、ジメチルグリコールフタレート、エ
チルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリ
ルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグ
リコレート、トリエチレングリコールジカプリル
酸エステルなどのグリコールエステル類、トリク
レジルホスフエート、トリフエニルフオスフエー
トなどの燐酸エステル類、ジイソブチルアジペー
ト、ジオクチルアジペート、ジメチルセバケー
ト、ジブチルセバケート、ジオクチルアゼレー
ト、ジブチルマレエートなどの脂肪族二塩基酸エ
ステル類、くえん酸トリエチル、グリセリントリ
アセチルエステル、ラウリン酸ブチルなどがあ
る。表面平滑剤としては、ラノリン、パラフイン
ワツクス、天然ワツクスなどがある。表面保護剤
は、光重合性組成物との相溶性に乏しく、従つて
溶媒除去時に光重合性組成物層の表面に全面に層
上に又は不連続な島状又は粒子状に析出し、それ
により光重合性組成物層の表面を保護し、又はさ
らに空気中の酸素による重合抑制作用を防止する
機能を果す物質である。表面保護剤としては、ポ
リスチレン、炭素原子数12以上の脂肪族カルボン
酸、そのアミドがある。炭素原子数12以上の脂肪
族カルボン酸の例としては、ラウリン酸、ミリス
チン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ノナデカ
ン酸、アラキン酸、ベヘン酸、セロチン酸、ヘプ
タコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル
酸をあげることができ、炭素原子数12以上の脂肪
酸アミドの具体例としては、前述の脂肪酸のアミ
ドをあげることができる。 上述の種々の添加剤は光重合性組成物の全重量
(後述の溶媒を除外する。)に対して3重量%ま
で、好ましくは1重量%までの範囲で用いること
ができる。 本発明の光重合性組成物は溶剤に溶解して光重
合性組成物溶液にして、これを支持体上に公知の
方法により塗布し、溶剤を除去(乾燥)して、光
重合性感光材料として用いるのが、最も一般的な
本発明の光重合性組成物の用い方である。 溶剤としては、例えばアセトン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサ
ノン、ジイソブチルケトンなどの如きケトン類、
例えば酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、蟻
酸メチル、プロピオン酸エチル、フタル酸ジメチ
ル、安息香酸エチルなどの如きエステル類、例え
ばトルエン、キシレン、ベンゼン、エチルベンゼ
ンなどの如き芳香族炭化水素、例えば四塩化炭
素、トリクロロエチレン、クロロホルム、1・
1・1−トリクロロエタン、モノクロロベンゼ
ン、クロルナフタリンなどの如きハロゲン化炭化
水素、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエー
テル、エチレングリコールモノメチルエーテル、
エチレングリコールモノエチルエーテルアセテー
トなどの如きエーテル類、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシドなどがある。 本発明の光重合性組成物を適当な形態(例えば
前述の溶液)で適用するための支持体としては、
著しい寸法変化をおこさない平面状の物質や他の
形状の物質がある。平面状の物質の例としては、
ガラス、酸化珪素、セラミツクス、紙、金属、例
えば、アルミニウム、亜鉛、マグネシウム、銅、
鉄、クロム、ニツケル、銀、金、白金、パラジウ
ム、アルミニウムを主成分とする合金、亜鉛を主
成分とする合金、マグネシウムを主成分とする合
金、銅−亜鉛合金、鉄−ニツケル−クロム合金、
銅を主成分とする合金、金属化合物、例えば酸化
アルミニウム、酸化錫(SnO2)、酸化インジウム
(In2O3)、ポリマー、例えば、再生セルロース、
セルロースニトラート、セルロースジアセター
ト、セルローストリアセタート、セルロースアセ
タートブチラート、セルロースアセタートプロピ
オナート、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタ
ラート、ポリエチレンイソフタラート、ビスフエ
ノールAのポリカルボナート、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ナイロン(6−ナイロン、6・6
−ナイロン、6・10−ナイロン等)、ポリ塩化ビ
ニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合物、塩化ビ
ニル−アクリロニトリル共重合物、塩化ビニル−
塩化ビニリデン共重合物、ポリアクリロニトリ
ル、ポリアクリル酸メチル、ポリメタアクリル酸
メチルをあげることができる。また、上述の物質
の薄板を2つ以上堅固に積層したもの、例えば、
サーメツト、鉄−アルミニウム積層板、鉄−銅−
アルミニウム積層板、鉄−クロム−銅積層板、表
面にポリエチレンをコーテイングした紙、表面に
セルローストリアセタートをコーテイングした
紙、表面を陽極酸化して表面に酸化アルミニウム
層を形成させたアルミニウム板、公知の方法で表
面に酸化クロム層を形成させたクロム板、酸化錫
の層を表面に設けたガラス板、酸化インジウムの
層を表面に設けた酸化珪素の板を支持体として用
いることもできる。 これらの支持体は感光性画像形成材料の目的に
応じて透明なもの不透明なものの選択をする。透
明な場合にも無色透明なものだけでなく、「J.
SMPTE」誌、第67巻第296頁(1958年)などに
記載されているように染料や顔料を添加して着色
透明にしたものを用いることができる。不透明支
持体の場合にも紙や金属のごとく本来不透明なも
のの他に、透明な材料に染料や酸化チタン等の顔
料を加えたもの、特公昭47−19068号に記載され
ている方法で表面処理したプラスチツクフイルム
およびカーボンブラツク等を加えて完全に遮光性
とした紙、プラスチツクフイルム等を用いること
もできる。また表面に砂目立て、電解エツチン
グ、陽極酸化、化学エツチング等の処理により微
細な凹陥を設けた支持体、および表面をコロナ放
電、紫外線照射、火焔処理等の予備処理した支持
体を用いることもできる。さらにまたガラス繊
維、炭素繊維、ボロン繊維、種々の金属繊維、金
属ウイスカー等の補強剤を混入して強度を増大さ
せたプラスチツク支持体を用いることもできる。 支持体はその表面に必要に応じて結合を容易に
する為に必要な他の塗布層或いはハレーシヨン防
止層、紫外線吸収層、可視光線吸収層を設けても
良い。 又、本発明の組成物は酸素による感度の低下を
防止する意味から、米国特許第3060026号明細書
中に記載されている如き真空焼枠を用いて露光を
行なうか、除去することのできる透明カバーを設
けるか、或いは特公昭40−17828号公報に記載さ
れているように感光層の上に酸素の透過性の小さ
い被覆層を設けることができる。 本発明の光重合性組成物が光重合し硬化・乾燥
する速度を決定する要因には、支持体、とくにそ
の表面の性質、組成物中の特定成分、光重合開始
剤の全光重合性組成物中の含存量、光重合性組成
物の層の厚さ、光源の性質(照射スペクトルの特
性)、強度、酸素の有無ならびに周囲の気温等が
含まれる。光の照射は、各種方法の中の任意の一
つあるいはそれらを組合わせて行なつてもよい。
例えば組成物は、それが有効な露光量を与える限
り、どんな光源と型のものから得られる活性光線
に曝露されてもよい。というのは本発明の光重合
性組成物は一般にその波長が約180nmから約
450nmまで、また光重合開始剤の成分(b)として
ジアルキルアミノ芳香族系カルボニル化合物のう
ちから適当なものを選ぶことにより波長約180n
mから約540nmまでの範囲の紫外光および可視
光の領域において高い感度を示すからである。し
かし本発明の組成物は真空紫外線(波長約1nm
から約180nmまでの範囲の紫外線)、X線、γ線
の範囲の短波長の電磁波および電子線、中性子線
およびα線等の粒子線にも感度を有しているの
で、それらも画像露光に利用することができる。
紫外線および可視光線領域の適当な光源の例とし
ては、カーボンアークランプ、水銀蒸気ランプ、
キセノンランプ、螢光ランプ、アルゴングロー放
電管、写真用フラツドランプおよびヴアン・デ・
グラーフ加速器などがある。 光照射(画像露光)時間は、有効な光量を与え
るに充分な程度でなくてはならない。光照射は任
意の有利な温度で行なつてもよいが、実用上の理
由から室温すなわち10℃から40℃までの範囲で行
なうのが最適である。光によつて硬化された本発
明の組成物は乾燥しており弾力があり、耐摩耗性
及び耐化学薬品性を示し、またすぐれたインク受
容性、親水−疎水平衡、しみ解消性、初期ロール
−アツプ性(実用しうる印刷物を印刷できるまで
の印刷回数)等を有し、特にあらかじめ感光性を
付与した平版印刷用の刷版材料およびフオトレジ
スト等の用途に適性を持つている。本組成物はま
た印刷インク;金属箔、フイルム、紙類、織物類
等の接着剤;金属、プラスチツクス、紙、木材、
金属箔、織物、ガラス、厚紙、製函用厚紙等に用
いる光硬化性の塗料ならびに道路、駐車場および
空港等の標識その他に用いることができることは
いうまでもない。 本発明の組成物を例えば印刷インクのビヒクル
として使用する時は、既知量の染料で着色すると
同時に各種公知の有機顔料、例えば、モリブデー
トオレンジ、チタン白、クロムイエロー、フタロ
シアニンブルーおよびカーボンブラツク等で着色
することができる。またビヒクルの使用可能量
は、組成物金重量の約20%から99.9%までの範
囲、着色剤の重量は約0.1%から80%までの範囲
で用いることができる。印刷材料には、紙、粘土
被覆紙および製函用厚紙も含まれる。 本発明の組成物はさらに天然繊維および合成繊
維の織物類の処理に適しており、例えば布地印刷
インク用ビヒクル、あるいは防水性、耐油性、耐
汚れ性、耐折り目性等を与えるための織物類の特
殊処理に用いるビヒクルの中に使用することがで
きる。 本発明の組成物を接着剤として使う場合は、接
着される基質の少なくとも一つは、紫外線または
可視光に対して透明でなくてはならない。本発明
の組成物を用いて基質を接着してえられる積層物
の代表的な例としては、重合体を被覆したセロフ
アン、たとえばポリプロピレンを被覆したセロフ
アンなど、アルミニウムまたは銅などの金属にポ
リエチレンテレフタレートフイルムを被覆したも
の、アルミニウムにポリプロピレンを被覆したも
のなどがある。 本発明の光重合可能な組成物は金属、ガラスお
よびプラスチツクスの表面にローラー方式および
スプレー方式で塗装または印刷するための塗料と
して用いることができる。またガラス、ポリエス
テルフイルムおよびビニルポリマーフイルム、重
合体被覆セロフアン、例えば使い捨てのコツプや
びんに用いた処理または未処理ポリエチレン、処
理及び未処理ポリプロピレン等には、着色塗装方
式を使用してもよい。塗装してもよいような金属
の例にも、サイジングを施したまたは施さないブ
リキも含まれる。 本発明の光重合可能な組成物から調製される光
重合性の感光性画像形成材料は、本発明の組成物
からなる層を感光性層としてシート状またはプレ
ート状の支持体の表面上に有する材料である。 本発明の組成物を用いた感光性画像形成材料の
ひとつの形態として、支持体の表面に本発明の組
成物の層を設け、さらにその上に透明なプラスチ
ツクフイルムを設けた構成のものがある。この構
成の材料においては、後述する画像露光の直前に
透明プラスチツクスフイルムを剥離して用いるこ
とができるし、また透明プラスチツクフイルムを
存在させたまま透明プラスチツクフイルムを通し
て、あるいは支持体が透明な場合には支持体を通
して、画像露光し、しかる後に透明プラスチツク
スフイルムを剥離することにより露光されて重合
し硬化した部分の層を支持体の上に残留させ、露
光されずに硬化されなかつた部分の層を透明プラ
スチツクフイルムの上に残留させる(あるいは、
露光されて重合し硬化した部分の層を透明プラス
チツクフイルムの上に残留させ、露光されずに硬
化されなかつた部分の層を支持体上に残留させ
る。)、いわゆる剥離現像型の感光材料として特に
有利に用いることができる。 本発明の組成物を用いた感光性画像形成材料
は、光照射された部分における付加重合反応が所
望の厚さに達して完了するまで、その光重合性組
成物の層の特定の部分を光に曝露することにより
画像露光を完了する。次に組成物の層の露光しな
かつた部分を、例えば重合体を溶解せずにエチレ
ン性化合物(モノマーまたはオリゴマー)のみを
溶解するような溶媒を使用すること、またはいわ
ゆる剥離現像により除去する。感光性画像複製材
料中に用いる場合には、光重合可能な組成物の溶
媒除去(乾燥)後の厚さは、約0.5μmから約150
μmまで、好ましくは約2μmから約100μmま
での範囲である。たわみ性は層の厚さが厚くなれ
ばなるほど減少し、耐摩耗性は、層の厚さが薄け
れば薄いほど減少する。 印刷インク、塗料組成物および接着剤として使
用する場合は、本発明の組成物は揮発性溶剤なし
で使用することができる。その場合には公知の含
油樹脂性および溶剤型のインク又は塗料よりすぐ
れた長所を幾つか持つている。 本発明の光重合性組成物は、光重合開始剤の成
分(b)としてジアルキルアミノ芳香族系カルボニル
化合物のうちから適当なものを選ぶことにより波
長約180nmから波長約540nmまでの輻射線に対
して高い感度を示すものを得ることができ、また
本発明に用いる光重合開始剤は波長約180nmか
ら少なくとも約450nmまでの輻射線に対しては
必らず高い感度を有しているので、従来の光重合
性組成物に対して用いられていた高圧水銀灯、超
高圧水銀灯、高圧キセノン−水銀灯、高圧キセノ
ン灯、ハロゲンランプ、螢光灯などのほか、波長
488nmおよび514.5nmのアルゴンレーザー光線を
使用することができることは従来の光重合性組成
物よりは優れた特性を有し、特にアルゴンレーザ
ー光線を用いて走査露光をすることができるので
その応用分野は著しく広範である。また本発明の
光重合性組成物は、容易に入手できる化合物を組
合せた光重合開始剤を用いたことにより、著しく
大きい光開始された重合速度を有する、すなわち
高感度であるという効果を有するものであり、ま
た前述の光重合開始剤はエチレン性不飽和二重結
合を有する付加重合可能な化合物一般に対して大
きい光開始された重合速度を与えることができる
ので、広い応用範囲を有し、エレクトロニクス工
業におけるプリント配線板の作成、平版、凹版又
は凸版印刷版の作成、画像の複製など種々の分野
における感光材料の感光層として用いることがで
きるので、本発明はきわめて有用な発明である。 以下実施例1〜28及び比較例1〜24に基づいて
本発明を詳細かつ具体的に説明する。なお各例に
おける感光材料の調製は、次の方法及び操作によ
つた。 (1) 感光材料の調製 光重合性組成物溶液の組成 ペンタエリトリトールトリメタアクリレート
(エチレン性化合物) 50重量部 光重合開始剤(第2表から第5表に記載の化合
物。成分(b)のうち一般式〔6〕で表わされる化
合物は前記の化学構造式に付した番号で記載し
てある。) 5重量部 バインダー(塩素化ポリエチレン又はポリメチ
ルメタアクリレート) 45重量部 ジクロロエタン(溶媒) 500重量部 (註1) 表において「−」は光重合性組成物
中に含有しないことを表わす。 (註2) 塩素化ポリエチレン:40重量%トル
エン溶液の25℃における粘度が約90cpsで、
塩素含有率が約69重量%の高分子化合物。 ポリメチルメタアクリレート:メチルエチ
ルケトン溶液の30℃における極限粘度〔η〕
30℃メチルエチルケトン0.282の高分子化合物。 上表の成分を容器に入れて3時間撹拌して溶
解させ均質な溶液としたのち、得られた溶液を
スピンナー(回転塗布機)で表面を常法により
砂目立てし、陽極酸化した厚さ0.24mmのアルミ
ニウム板上に塗布し、これを温度80℃で10分間
乾燥して感光層(光重合性組成物の層)を形成
させた。感光層の乾燥後の厚さは約10μmであ
つた。 (2) 感光材料の感度の測定 感光材料の感光層(光重合性組成物層)の上
に光学濃度段差0.15の光学楔(光学濃度段数は
0〜15段で、最小光学濃度は0.10、最大光学濃
度は2.30である。)を減圧して密着させて置
き、光源(超高圧水銀灯、出力2kW)から50
cmの距離をおいて15秒画像露光したのち、感光
層を1・1・1−トリクロロエタンで30秒間処
理して現像した。現出した画像に対応する光学
楔の最高段数を感光材料の感度とする。段数が
高いほど(数値が大きいほど)感度が高いこと
を意味する。 上述のごとく実施して得られた結果を、バイン
ダーおよび光重合開始剤として用いた化合物とと
もに第2表から第5表に記載する。なお、Eは実
施例、Cは比較例をそれぞれ表わす。
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】 第2表から第5表までの結果から比較例と比べ
て、本発明の光重合性組成物を使用した感光材料
は超高圧水銀灯に対して画像形成のために必要な
実用に供しうる高感度を有することが明らかであ
る。 なお、実施例に示したバインダーとして塩素化
ポリエチレンを含む光重合性組成物を用いた感光
材料の場合、感光材料を調製する際にポリエチレ
ンテレフタレートフイルムを感光層に強く圧接し
て積層体としておくと、いずれの感光材料も画像
のできる露光量で画像露光した後、ポリエチレン
テレフタレートフイルムを剥離することにより、
未露光部分の感光層がポリエチレンテレフタレー
トフイルムとともに除去され、露光部分の重合し
て硬化した感光層がアルミニウム板の上に残留し
て画像が形成された。 本発明の好ましい実施態様は次のとおりであ
る。 1 エチレン性不飽和二重結合を少なくとも1
個有する付加重合可能な化合物および光重合
開始剤を必須の構成成分とする光重合性組成物
において、該光重合開始剤が(a)一般式〔1〕で
表わされる5−イソオキサゾロンと(b)芳香族カ
ルボニル化合物、一般式〔2〕ないし〔5〕で
表わされるジアルキルアミノ芳香族系カルボニ
ル化合物、一般式〔6〕で表わされる化合物又
は2−(α−チオキソフエネチリデン)−3−メ
チルナフト〔1・2−d〕〔1・3〕チアゾリ
ンとの組合せであることを特徴とする光重合性
組成物。 一般式〔1〕において、A1およびA2はそれ
ぞれアルキル基、アルキルカルボニル基、アル
コキシカルボニル基、アリール基、アリールカ
ルボニル基又は水素原子を表わし、互いに同じ
でも異なつてもよい。一般式〔2〕ないし
〔5〕において、R1およびR2はそれぞれアルキ
ル基又は置換アルキル基を表わし、互いに同じ
でも異なつてもよい。R3はアルキル基、アリ
ール基、アラルキル基、置換アルキル基、アル
コキシ基、アリールオキシ基又はN、S又はO
を含む5員又は6員の複素芳香環の1価の残基
を表わす。Xはハメツト(Hammett)のσ
(シグマ)値が−0.9から+0.7までの範囲にあ
る置換基を表わす。一般式〔6〕において、
R4はアルキル基、置換アルキル基又はアルケ
ニル基を表わす。R5はアルキル基、アリール
基、置換アリール基、チエニル基又はフリル基
を表わす。Zは窒素を含む複素環を形成するの
に必要な原子団を表わす。 2 さらにバインダーとして皮膜形成能を有
し、成分およびと相溶性を有する有機高分
子物質を含有する1に記載の光重合性組成物。 3 成分(a)が3−フエニル−5−イソオキサゾロ
ン又は4−エトキシカルボニル−5−イソオキ
サゾロンである1又は2に記載の光重合性組成
物。 4 成分(b)が芳香族カルボニル化合物である1、
2又は3に記載の光重合性組成物。 5 芳香族カルボニル化合物がベンズアントロン
又はアントロンである4に記載の光重合性組成
物。 6 芳香族カルボニル化合物が1・2−ベンゾ−
9・10−アントラキノン又は2−メチル−9・
10−アントラキノンである4に記載の光重合性
組成物。 7 成分(b)が一般式〔2〕ないし〔5〕で表わさ
れるジアルキルアミノ芳香族系カルボニル化合
物である1、2又は3に記載の光重合性組成
物。 8 ジアルキルアミノ芳香族系カルボニル化合物
が一般式〔2〕で表わされるp−ジアルキルア
ミノシンナモイル基を有する化合物類である7
に記載の光重合性組成物。 9 ジアルキルアミノ芳香族系カルボニル化合物
が一般式〔3〕で表わされるp−ジアルキルア
ミノカルコン誘導体である7に記載の光重合性
組成物。 10 p−ジアルキルアミノカルコン誘導体に属す
る化合物がp−ジメチルアミノカルコンである
9に記載の光重合性組成物。 11 ジアルキルアミノ芳香族系カルボニル化合物
が一般式〔4〕で表わされるカルコン誘導体で
ある7に記載の光重合性組成物。 12 ジアルキルアミノ芳香族系カルボニル化合物
が一般式〔5〕で表わされるp−ジアルキルア
ミノスチリルスチリルケトン誘導体である7に
記載の光重合性組成物。 13 p−ジアルキルアミノスチリルスチリルケト
ン誘導体に属する化合物がp−ジメチルアミノ
スチリルスチリルケトン、p−ジメチルアミノ
スチリルm−クロロスチリルケトン又はp−ジ
メチルアミノスチリルp−メトキシスチリルケ
トンである12に記載の光重合性組成物。 14 成分(b)が一般式〔6〕で表わされる化合物で
ある1、2又は3に記載の光重合性組成物。 15 一般式〔6〕で表わされる化合物が化学構造
式〔8〕で表わされる化合物である14に記載の
光重合性組成物。 16 一般式〔6〕で表わされる化合物が化学構造
式〔23〕、〔24〕又は〔25〕で表わされる化合物
である14に記載の光重合性組成物。 17 成分(b)が2−(α−チオキソフエネチリデ
ン)−3−メチルナフト〔1・2−d〕〔1・
3〕チアゾリンである1、2又は3に記載の光
重合性組成物。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 エチレン性不飽和二重結合を少なくとも1
    個有する付加重合可能な化合物および光重合開
    始剤を必須の構成成分とする光重合性組成物にお
    いて、該光重合開始剤が(a)一般式〔1〕で表わさ
    れる5−イソオキサゾロンと(b)芳香族カルボニル
    化合物、一般式〔2〕ないし〔5〕で表わされる
    ジアルキルアミノ芳香族系カルボニル化合物、一
    般式〔6〕で表わされる化合物又は2−(α−チ
    オキソフエネチリデン)−3−メチルナフト
    〔1・2−d〕〔1・3〕チアゾリンとの組合せで
    あることを特徴とする光重合性組成物。 一般式〔1〕において、A1およびA2はそれぞ
    れアルキル基、アルキルカルボニル基、アルコキ
    シカルボニル基、アリール基、アリールカルボニ
    ル基又は水素原子を表わし、互いに同じでも異な
    つてもよい。一般式〔2〕ないし〔5〕におい
    て、R1およびR2はそれぞれアルキル基又は置換
    アルキル基を表わし、互いに同じでも異なつても
    よい。R3はアルキル基、アリール基、アラルキ
    ル基、置換アルキル基、アルコキシ基、アリール
    オキシ基又はN、S又はOを含む5員又は6員の
    複素芳香環の1価の残基を表わす。Xはハメツト
    (Hammett)のσ(シグマ)値が−0.9から+0.7
    までの範囲にある置換基を表わす。一般式〔6〕
    において、R4はアルキル基、置換アルキル基又
    はアルケニル基を表わす。R5はアルキル基、ア
    リール基、置換アリール基、チエニル基又はフリ
    ル基を表わす。Zは窒素を含む複素環を形成する
    のに必要な原子団を表わす。 2 さらにバインダーとして皮膜形成能を有
    し、成分およびと相溶性を有する有機高分子
    物質を含有する特許請求の範囲1に記載の光重合
    性組成物。
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