JP2589558B2 - 感光性組成物 - Google Patents
感光性組成物Info
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- JP2589558B2 JP2589558B2 JP63285404A JP28540488A JP2589558B2 JP 2589558 B2 JP2589558 B2 JP 2589558B2 JP 63285404 A JP63285404 A JP 63285404A JP 28540488 A JP28540488 A JP 28540488A JP 2589558 B2 JP2589558 B2 JP 2589558B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は環化付加反応によって架橋する光架橋性組成
物に関し、特に、マレイミド基を側鎖に有する光架橋性
重合体と新規な増感剤とからなる感光性組成物に関し、
特に感光性印刷版の感光層、フォトレジスト等に有用な
感光性組成物に関するものである。
物に関し、特に、マレイミド基を側鎖に有する光架橋性
重合体と新規な増感剤とからなる感光性組成物に関し、
特に感光性印刷版の感光層、フォトレジスト等に有用な
感光性組成物に関するものである。
環化付加反応によって架橋する光架橋性材料は良く知
られており、これらは、感光性平版印刷版、フォトレジ
スト等の製造に用いられる感光性組成物の主要成分とし
て用いられている。これらの架橋材料のうちマレイミド
基を側鎖に有する光架橋性ポリマーは充分な感光性がな
く、感光性を高めるために、増感剤として、チオキサン
トン類、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、アンスラキ
ノン、アンスラセン、クリセン、ｐ−ジニトロベンゼ
ン、２−ニトロフルオレノン等が用いられてきた。これ
らの増感剤を用いた場合、感度は高くなるが、それでも
充分とはいえず、画像形成における像露光に長時間を要
するため、作業性が悪く、細密な画像の場合には操作に
わずかな振動があると良好な画質の画像が再現されない
等の問題点があった。
られており、これらは、感光性平版印刷版、フォトレジ
スト等の製造に用いられる感光性組成物の主要成分とし
て用いられている。これらの架橋材料のうちマレイミド
基を側鎖に有する光架橋性ポリマーは充分な感光性がな
く、感光性を高めるために、増感剤として、チオキサン
トン類、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、アンスラキ
ノン、アンスラセン、クリセン、ｐ−ジニトロベンゼ
ン、２−ニトロフルオレノン等が用いられてきた。これ
らの増感剤を用いた場合、感度は高くなるが、それでも
充分とはいえず、画像形成における像露光に長時間を要
するため、作業性が悪く、細密な画像の場合には操作に
わずかな振動があると良好な画質の画像が再現されない
等の問題点があった。
従って、本発明の目的は高感度な光架橋型の感光性組
成物を提供することである。更に詳しくはマレイミド基
を側鎖に有する光架橋性重合体を含む光架橋型感光性組
成物において、その組成物の光架橋速度を増大させる増
感剤を含む感光性組成物を提供することにある。
成物を提供することである。更に詳しくはマレイミド基
を側鎖に有する光架橋性重合体を含む光架橋型感光性組
成物において、その組成物の光架橋速度を増大させる増
感剤を含む感光性組成物を提供することにある。
本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねて
来た結果、ある特定の増感剤がマレイミド基を側鎖に有
する光架橋性重合体を含む光架橋型感光性組成物の光架
橋速度を増大させることを見出し、本発明に到達したも
のである。
来た結果、ある特定の増感剤がマレイミド基を側鎖に有
する光架橋性重合体を含む光架橋型感光性組成物の光架
橋速度を増大させることを見出し、本発明に到達したも
のである。
即ち、本発明は（ａ）マレイミド基を側鎖に有する光
架橋性な重合体と、（ｂ）下記一般式（Ｉ）： 〔式中、Ｚは窒素を含む複素環核を形成するのに必要な
非金属原子群を表わす。
架橋性な重合体と、（ｂ）下記一般式（Ｉ）： 〔式中、Ｚは窒素を含む複素環核を形成するのに必要な
非金属原子群を表わす。
R1はアルキル、置換アルキルを表わす。
R2は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基または （R4は、置換置を持ち、又は持たない、アルキル基、ア
リール基、ヘテロ環基を表わす。） R3は、置換基を持ち、又は持たないアルキル基、アリ
ール基、ヘテロ環基を表わす〕 で表わされる化合物とを含有することを特徴とする感光
性組成物に関するものである。
リール基、ヘテロ環基を表わす。） R3は、置換基を持ち、又は持たないアルキル基、アリ
ール基、ヘテロ環基を表わす〕 で表わされる化合物とを含有することを特徴とする感光
性組成物に関するものである。
以下、本発明について詳述する。
本発明の組成物におけるマレイミド基を側鎖に有する
光架橋性重合体としては、一般式（Ａ）で示されるマレ
イミド基： （式中、R1及びR2はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子又
はアルキル基を示し、R1とR2とが一緒になって５員環又
は６員環を形成していてもよい。尚、R1及びR2のアルキ
ル基としては、炭素数１〜４のものが好ましく、特に好
ましいのはメチル基である。又、ハロゲン原子として
は、塩素原子、臭素原子又は沃素原子が好ましい。） を側鎖に有する重合体が例示される。このような重合体
は、例えば、特開昭52−988号（対応米国特許第4,079,0
41号）明細書、西独特許2,626,769号明細書、ヨーロッ
パ特許21,019号明細書、ヨーロッパ特許3,552号明細書
やジ・アンゲバンテ・マクロモレクラエ・ケミ（Die An
gewandte Mackromolekulare Chemi）115（1983）の163
〜181ページ、特開昭49−128991号〜同49−128993号、
同50−5376号〜同50−5380号、同53−5298号〜同53−53
00号、同50−50107号、同51−47940号、同52−13907
号、同50−45076号、同52−121700号、同50−10884号、
同50−45087号、西独特許第2,349,948号、同2,616,276
号各号明細書に記載されている。本発明では、これらの
うち、成分（ａ）の重合体として、１分子当り平均２個
以上のマレイミド基を側鎖に有し、かつ平均分子量が10
00以上のものを用いるのが好ましい。このような重合体
は、例えば一般式（Ｂ）〜（Ｄ）： （式中、R1及びR2は上記と同じ意味を有し、ｎは整数を
示し、好ましくは１から６である。） で表わされるモノマーと、分子中にアルカリ可溶性基を
有するモノマーとを、例えば95/5〜30/70、好ましくは9
0/10〜70/30（モル比）の割合で共重合させることによ
って容易に調製される。つまり、酸基を有する重合体
は、現像時にアルカリ水を用いることが出来るので好ま
しく、又公害上有利であるからである。酸基を有するマ
レイミド重合体の酸価は20〜250の範囲が好ましく、更
に好ましくは50〜150の範囲である。尚、上記共重合し
うるモノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸等の
カルボキシル基を有するビニルモノマー、マレイン酸無
水物、イタコン酸無水物等が例示される。
光架橋性重合体としては、一般式（Ａ）で示されるマレ
イミド基： （式中、R1及びR2はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子又
はアルキル基を示し、R1とR2とが一緒になって５員環又
は６員環を形成していてもよい。尚、R1及びR2のアルキ
ル基としては、炭素数１〜４のものが好ましく、特に好
ましいのはメチル基である。又、ハロゲン原子として
は、塩素原子、臭素原子又は沃素原子が好ましい。） を側鎖に有する重合体が例示される。このような重合体
は、例えば、特開昭52−988号（対応米国特許第4,079,0
41号）明細書、西独特許2,626,769号明細書、ヨーロッ
パ特許21,019号明細書、ヨーロッパ特許3,552号明細書
やジ・アンゲバンテ・マクロモレクラエ・ケミ（Die An
gewandte Mackromolekulare Chemi）115（1983）の163
〜181ページ、特開昭49−128991号〜同49−128993号、
同50−5376号〜同50−5380号、同53−5298号〜同53−53
00号、同50−50107号、同51−47940号、同52−13907
号、同50−45076号、同52−121700号、同50−10884号、
同50−45087号、西独特許第2,349,948号、同2,616,276
号各号明細書に記載されている。本発明では、これらの
うち、成分（ａ）の重合体として、１分子当り平均２個
以上のマレイミド基を側鎖に有し、かつ平均分子量が10
00以上のものを用いるのが好ましい。このような重合体
は、例えば一般式（Ｂ）〜（Ｄ）： （式中、R1及びR2は上記と同じ意味を有し、ｎは整数を
示し、好ましくは１から６である。） で表わされるモノマーと、分子中にアルカリ可溶性基を
有するモノマーとを、例えば95/5〜30/70、好ましくは9
0/10〜70/30（モル比）の割合で共重合させることによ
って容易に調製される。つまり、酸基を有する重合体
は、現像時にアルカリ水を用いることが出来るので好ま
しく、又公害上有利であるからである。酸基を有するマ
レイミド重合体の酸価は20〜250の範囲が好ましく、更
に好ましくは50〜150の範囲である。尚、上記共重合し
うるモノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸等の
カルボキシル基を有するビニルモノマー、マレイン酸無
水物、イタコン酸無水物等が例示される。
成分（ａ）のポリマーとしては、上記のうちでも、ジ
・アンゲバンテ・マクロモレクラエ・ケミ（Die Angewa
ndte Makromolekulare Chemie）128（1984）の71〜91ペ
ージに記載されている様なＮ−〔２−（メタクリロイル
オキシ）エチル〕−2,3−ジメチルマレイミドとメタク
リル酸あるいはアクリル酸の共重合体、つまりアルカリ
可溶性基をもつモノマーとの共重合体が好ましい。さら
に上記ビニルモノマーとは異なるビニルモノマーを共存
させて重合させた多元共重合体も好ましい。
・アンゲバンテ・マクロモレクラエ・ケミ（Die Angewa
ndte Makromolekulare Chemie）128（1984）の71〜91ペ
ージに記載されている様なＮ−〔２−（メタクリロイル
オキシ）エチル〕−2,3−ジメチルマレイミドとメタク
リル酸あるいはアクリル酸の共重合体、つまりアルカリ
可溶性基をもつモノマーとの共重合体が好ましい。さら
に上記ビニルモノマーとは異なるビニルモノマーを共存
させて重合させた多元共重合体も好ましい。
尚、本発明で用いる成分（ａ）のポリマーとしては、
分子量1000以上、好ましくは１万〜50万、特に好ましく
は２万〜30万のものを用いるのが望ましい。
分子量1000以上、好ましくは１万〜50万、特に好ましく
は２万〜30万のものを用いるのが望ましい。
上記成分（ａ）の重合体の全組成物に対する添加量は
10〜99重量％（以下％と略称する）、好ましくは50〜99
％である。
10〜99重量％（以下％と略称する）、好ましくは50〜99
％である。
次に本発明の光架橋性組成物において著しい特徴をな
す増感剤（ｂ）について説明する。
す増感剤（ｂ）について説明する。
本発明で用いられる一般式（Ｉ）： で表わされる増感剤において、Ｚは窒素を含むヘテロ環
核を形成するのに必要な非金属原子群である。Ｚと共に
形成する窒素を含むヘテロ環核とは例えば、ベンゾチア
ゾール、α−ナフトチアゾール、β−ナフトチアゾール
等のチアゾール類、ベンゾオキサゾール、β−ナフトオ
キサゾール等のオキサゾール類、ベンゾセレナゾール等
のセレナゾール類、イミダゾール、ベンゾイミダゾール
等のイミダゾール類、3,3−ジメチルインドレニン等の
イソインドール類、キノリン、イソキノリン等のキノリ
ン類、1,3,4−オキサジアゾール、1,3,4−チアジアゾー
ル、1,3,4−セレナジアゾール等のジアゾール類、1,2,4
−トリアゾール等のトリアゾール類などの他、ピラジ
ン、キノキサリン、Ｓ−トリアジン、フェナントリジン
等を挙げることができる。これらのＺと共に形成する窒
素を含むヘテロ環核は置換基を有していても良く、置換
基としては、メチル基、エチル基等の炭素数１〜６個の
アルキル基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１〜６
個のアルコキシ基、炭素、臭素等のハロゲン原子、シア
ノ基、アミノ基、ジメチルアミノ基等の炭素数１〜４個
のアルキル基で置換されたアミノ基、カルボメトキシ基
等の炭素数１〜４個のアルキル基を有するカルボアルコ
キシ基、フェニル基、ｐ−メトキシフェニル基、ｐ−ク
ロロフェニル基等の炭素数６〜10個の置換もしくは非置
換のアリール基等が挙げられる。
核を形成するのに必要な非金属原子群である。Ｚと共に
形成する窒素を含むヘテロ環核とは例えば、ベンゾチア
ゾール、α−ナフトチアゾール、β−ナフトチアゾール
等のチアゾール類、ベンゾオキサゾール、β−ナフトオ
キサゾール等のオキサゾール類、ベンゾセレナゾール等
のセレナゾール類、イミダゾール、ベンゾイミダゾール
等のイミダゾール類、3,3−ジメチルインドレニン等の
イソインドール類、キノリン、イソキノリン等のキノリ
ン類、1,3,4−オキサジアゾール、1,3,4−チアジアゾー
ル、1,3,4−セレナジアゾール等のジアゾール類、1,2,4
−トリアゾール等のトリアゾール類などの他、ピラジ
ン、キノキサリン、Ｓ−トリアジン、フェナントリジン
等を挙げることができる。これらのＺと共に形成する窒
素を含むヘテロ環核は置換基を有していても良く、置換
基としては、メチル基、エチル基等の炭素数１〜６個の
アルキル基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１〜６
個のアルコキシ基、炭素、臭素等のハロゲン原子、シア
ノ基、アミノ基、ジメチルアミノ基等の炭素数１〜４個
のアルキル基で置換されたアミノ基、カルボメトキシ基
等の炭素数１〜４個のアルキル基を有するカルボアルコ
キシ基、フェニル基、ｐ−メトキシフェニル基、ｐ−ク
ロロフェニル基等の炭素数６〜10個の置換もしくは非置
換のアリール基等が挙げられる。
R1は通常シアニン色素で知られているアルキル基（例
えば、メチル基、エチル基、プロピル基など）又は置換
アルキル基（例えば、２−ヒドロキシエチル基、２−メ
トキシエチル基、カルボキシメチル基、２−カルボキシ
エチル基、３−カルボキシプロピル基、２−スルホエチ
ル基、３−スルホプロピル基、２−カルボメトキシエチ
ル基、ベンジル基、フェネチル基、ｐ−スルホフェネチ
ル基、ｐ−カルボキシフェネチル基、ビニルメチル基な
ど）を表わす。
えば、メチル基、エチル基、プロピル基など）又は置換
アルキル基（例えば、２−ヒドロキシエチル基、２−メ
トキシエチル基、カルボキシメチル基、２−カルボキシ
エチル基、３−カルボキシプロピル基、２−スルホエチ
ル基、３−スルホプロピル基、２−カルボメトキシエチ
ル基、ベンジル基、フェネチル基、ｐ−スルホフェネチ
ル基、ｐ−カルボキシフェネチル基、ビニルメチル基な
ど）を表わす。
R2は、水素原子、ハロゲン原子（例えば、Cl、Br）、
シアノ基、又は （R4は置換又は非置換のアルキル基、アリール基、ヘテ
ロ環基を表わす。） R3は、置換又は非置換のアルキル基（例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基）又はアリール基
（例えば、フェニル基、ｐ−ヒドロキシフェニル基、ｐ
−メトキシフェニル基、ｐ−クロロフェニル基、ナフチ
ル基）又は、ヘテロ環基（例えば、フリル基、チエニル
基など）を表わす。
シアノ基、又は （R4は置換又は非置換のアルキル基、アリール基、ヘテ
ロ環基を表わす。） R3は、置換又は非置換のアルキル基（例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基）又はアリール基
（例えば、フェニル基、ｐ−ヒドロキシフェニル基、ｐ
−メトキシフェニル基、ｐ−クロロフェニル基、ナフチ
ル基）又は、ヘテロ環基（例えば、フリル基、チエニル
基など）を表わす。
本発明で用いられる一般式（Ｉ）で表わされる化合物
の１種であるチアゾリン誘導体の中には、米国特許第29
48610号明細書、独国公開公報2012390号明細書、さらに
は、特開昭52−129791号（米国特許第4,062,686号）に
記載される様に既にアジド樹脂又は桂皮酸エステル系感
光性樹脂の増感剤として知られるものを包含するが、こ
れ等の例は本発明の意義をそこなうものではない。何故
ならば、本発明の感光性組成物の（ｂ）の化合物の代わ
りに、従来、アジド樹脂、桂皮酸エステル系感光物の増
感剤としてよく知られている５−ニトロアセトナフテン
や２−ニトロフルオレノン又は、ピリリウム塩類やチア
ピリリウム塩類を用いても高感度は達成されず、本発明
の目的は達成されないからである。
の１種であるチアゾリン誘導体の中には、米国特許第29
48610号明細書、独国公開公報2012390号明細書、さらに
は、特開昭52−129791号（米国特許第4,062,686号）に
記載される様に既にアジド樹脂又は桂皮酸エステル系感
光性樹脂の増感剤として知られるものを包含するが、こ
れ等の例は本発明の意義をそこなうものではない。何故
ならば、本発明の感光性組成物の（ｂ）の化合物の代わ
りに、従来、アジド樹脂、桂皮酸エステル系感光物の増
感剤としてよく知られている５−ニトロアセトナフテン
や２−ニトロフルオレノン又は、ピリリウム塩類やチア
ピリリウム塩類を用いても高感度は達成されず、本発明
の目的は達成されないからである。
成分（ｂ）の増感剤の添加量は全組成の１〜30％が好
ましく、より好ましくは、２〜10％である。
ましく、より好ましくは、２〜10％である。
本発明に用いられる一般式（Ｉ）で表わされる増感剤
の具体例を下記に示す。
の具体例を下記に示す。
本発明の光架橋型感光性組成物には、一般式（Ｉ）で
表わされる増感剤に加えて、他の増感剤を更に含有させ
てもよい。この場合には、一般式（Ｉ）で表わされる増
感剤との併用により光架橋速度をさらに増大させる増感
剤が選択される。このような増感剤の具体例としては、
ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエ
チルエーテル、2,2−ジメトキシ−２−フェニルアセト
フェノン、９−フルオレノン、２−クロロ−９−フルオ
レノン、２−メチル−９−フルオレノン、９−アントロ
ン、２−ブロモ−９−アントロン、２−エチル−９−ア
ントロン、9,10−アントラキノン、２−エチル−9,10−
アントラキノン、２−ｔ−ブチル−9,10−アントラキノ
ン、2,6−ジクロロ−9,10−アントラキノン、キサント
ン、２−メチルキサントン、２−メトキシキサントン、
ジベンザルアセトン、ｐ−（ジメチルアミノ）フェニル
スチリルケトン、ｐ−（ジメチルアミノ）フェニルｐ−
メチルスチリルケトン、ベンゾフェノン、ｐ−（ジメチ
ルアミノ）ベンゾフェノン（又はミヒラーケトン）、ｐ
−（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、ベンズアントロ
ンなどを挙げることができる。
表わされる増感剤に加えて、他の増感剤を更に含有させ
てもよい。この場合には、一般式（Ｉ）で表わされる増
感剤との併用により光架橋速度をさらに増大させる増感
剤が選択される。このような増感剤の具体例としては、
ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエ
チルエーテル、2,2−ジメトキシ−２−フェニルアセト
フェノン、９−フルオレノン、２−クロロ−９−フルオ
レノン、２−メチル−９−フルオレノン、９−アントロ
ン、２−ブロモ−９−アントロン、２−エチル−９−ア
ントロン、9,10−アントラキノン、２−エチル−9,10−
アントラキノン、２−ｔ−ブチル−9,10−アントラキノ
ン、2,6−ジクロロ−9,10−アントラキノン、キサント
ン、２−メチルキサントン、２−メトキシキサントン、
ジベンザルアセトン、ｐ−（ジメチルアミノ）フェニル
スチリルケトン、ｐ−（ジメチルアミノ）フェニルｐ−
メチルスチリルケトン、ベンゾフェノン、ｐ−（ジメチ
ルアミノ）ベンゾフェノン（又はミヒラーケトン）、ｐ
−（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、ベンズアントロ
ンなどを挙げることができる。
更に、チオキサントン誘導体、例えば２−クロルチオ
キサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ジメチ
ルチオキサントン等や、ドイツ特許第3018891号及び同3
117568号、並びにヨーロッパ特許第33720号、英国特許
第2075506号公報に記載されているような置換されたチ
オキサントン類を用いるのがよい。一般式（Ｉ）の化合
物と併用する増感剤の添加量は全組成物の0.5〜20％が
好ましく、より好ましくは３〜10％である。
キサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ジメチ
ルチオキサントン等や、ドイツ特許第3018891号及び同3
117568号、並びにヨーロッパ特許第33720号、英国特許
第2075506号公報に記載されているような置換されたチ
オキサントン類を用いるのがよい。一般式（Ｉ）の化合
物と併用する増感剤の添加量は全組成物の0.5〜20％が
好ましく、より好ましくは３〜10％である。
本発明の感光性組成物には必要により結合剤を含有さ
せることができるが、通常線状有機高分子より適宜選択
される。結合剤の具体例としては、塩素化ポリエチレ
ン、塩素化ポリプロピレン、ポリアクリル酸アルキルエ
ステル、アクリル酸アルキルエステルとアクリロニトリ
ル、塩化ビニル、スチレン、ブタジェンなどのモノマー
の少くとも一種との共重合体、ポリアミド、メチルセル
ロース、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラー
ル、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタ
コン酸共重合体、ジアゾ樹脂などがある。
せることができるが、通常線状有機高分子より適宜選択
される。結合剤の具体例としては、塩素化ポリエチレ
ン、塩素化ポリプロピレン、ポリアクリル酸アルキルエ
ステル、アクリル酸アルキルエステルとアクリロニトリ
ル、塩化ビニル、スチレン、ブタジェンなどのモノマー
の少くとも一種との共重合体、ポリアミド、メチルセル
ロース、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラー
ル、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタ
コン酸共重合体、ジアゾ樹脂などがある。
以上の他に感光性組成物には更に熱重合防止剤を加え
ておくことが好ましく、例えばハイドロキノン、ｐ−メ
トキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、
ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、
4,4′−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノ
ール）、2,2′−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−
ブチルフェノール）、２−メルカプトベンゾイミダゾー
ル等が有用である。
ておくことが好ましく、例えばハイドロキノン、ｐ−メ
トキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、
ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、
4,4′−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノ
ール）、2,2′−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−
ブチルフェノール）、２−メルカプトベンゾイミダゾー
ル等が有用である。
場合によっては着色を目的として染料もしくは顔料、
例えばメチレンブルー、クリスタルバイオレット、ロー
ダミンＢ、フクシン、オーラミン、アゾ系染料、アント
ラキノン系染料、酸化チタン、カーボンブラック、酸化
鉄、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料などを加えても
よい。
例えばメチレンブルー、クリスタルバイオレット、ロー
ダミンＢ、フクシン、オーラミン、アゾ系染料、アント
ラキノン系染料、酸化チタン、カーボンブラック、酸化
鉄、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料などを加えても
よい。
本発明の感光性組成物は前述の各種構成成分を溶媒中
に溶解せしめ、適当な支持体上に公知の方法により塗布
して用いられる。
に溶解せしめ、適当な支持体上に公知の方法により塗布
して用いられる。
本発明の感光性組成物を塗布するときに用いられる溶
媒としては、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、
メチルエチルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソ
ルブ、酢酸メチルセロソルブ、モノクロルベンゼン、ト
ルエン、キシレン、プロピレングリコールモノエチルエ
ーテル、３−メトキシプロパノール、３−メトキシプロ
ピルアセテート、酢酸エチル、酢酸ブチルなどが挙げら
れる。これらの溶媒は単独又は混合して使用される。
媒としては、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、
メチルエチルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソ
ルブ、酢酸メチルセロソルブ、モノクロルベンゼン、ト
ルエン、キシレン、プロピレングリコールモノエチルエ
ーテル、３−メトキシプロパノール、３−メトキシプロ
ピルアセテート、酢酸エチル、酢酸ブチルなどが挙げら
れる。これらの溶媒は単独又は混合して使用される。
本発明の感光性組成物は感光性平版印刷版の感光層と
して好適である。感光性平版印刷版に適した支持体とし
ては、親水化処理したアルミニウム板、例えばシリケー
ト処理アルミニウム板、陽極酸化アルミニウム板、シリ
ケート電着したアルミニウム板があり、その他亜鉛板、
ステンレス板、クローム処理銅板、親水化処理したプラ
スチックフィルムや紙を挙げることができる。
して好適である。感光性平版印刷版に適した支持体とし
ては、親水化処理したアルミニウム板、例えばシリケー
ト処理アルミニウム板、陽極酸化アルミニウム板、シリ
ケート電着したアルミニウム板があり、その他亜鉛板、
ステンレス板、クローム処理銅板、親水化処理したプラ
スチックフィルムや紙を挙げることができる。
感光性平版印刷版を製造する場合の塗布量は、一般に
固形分として0.1〜10.0g/m2が適当であり、特に好まし
くは0.5〜5.0g/m2である。
固形分として0.1〜10.0g/m2が適当であり、特に好まし
くは0.5〜5.0g/m2である。
本発明の組成物をフォトレジストとして使用する場合
には銅板または銅メッキ板、ステンレス板、ガラス板等
の種々のものを支持体として用いることができる。
には銅板または銅メッキ板、ステンレス板、ガラス板等
の種々のものを支持体として用いることができる。
以下、実施例に基づいて更に詳細に説明する。尚、％
は重量％を示す。
は重量％を示す。
実施例１〜３、比較例１〜３ 厚さ0.30mmのアルミニウム板をナイロンブラシと400
メッシュのパミストンの水懸濁液を用いその表面を砂目
立てした後、よく水で洗浄した。10％水酸化ナトリウム
に70℃で60秒間浸漬してエッチングした後、流水で水洗
後20％NHO3で中和洗浄、水洗した。これをVA＝12.7Vの
条件下で正弦波の交番波形電流を用いて１％硝酸水溶液
中で160クーロン/dm2の電気量で電解粗面化処理を行っ
た。その表面粗さを測定したところ、0.6μ（Ra表示）
であった。引き続いて30％のH2SO4水溶液中に浸漬し、5
5℃で２分間デスマットした後、20％H3PO4水溶液中、電
流密度2A/dm2において陽極酸化皮膜量が1.2g/m2になる
ように５分間陽極酸化処理した（陽極酸化皮膜のポアの
直径1000Å）。その後70℃のケイ酸ソーダ2.5％水溶液
に１分間浸漬し、水洗し、乾燥させた。こうして得られ
たアルミニウム板に回転塗布機を用いて回転速度200r.
p.m.にて第１表に示す増感剤を用いた下記感光液を塗布
して100℃２分間乾燥し、乾燥膜厚約1.5μの感光層を形
成させ感光板を作成した。
メッシュのパミストンの水懸濁液を用いその表面を砂目
立てした後、よく水で洗浄した。10％水酸化ナトリウム
に70℃で60秒間浸漬してエッチングした後、流水で水洗
後20％NHO3で中和洗浄、水洗した。これをVA＝12.7Vの
条件下で正弦波の交番波形電流を用いて１％硝酸水溶液
中で160クーロン/dm2の電気量で電解粗面化処理を行っ
た。その表面粗さを測定したところ、0.6μ（Ra表示）
であった。引き続いて30％のH2SO4水溶液中に浸漬し、5
5℃で２分間デスマットした後、20％H3PO4水溶液中、電
流密度2A/dm2において陽極酸化皮膜量が1.2g/m2になる
ように５分間陽極酸化処理した（陽極酸化皮膜のポアの
直径1000Å）。その後70℃のケイ酸ソーダ2.5％水溶液
に１分間浸漬し、水洗し、乾燥させた。こうして得られ
たアルミニウム板に回転塗布機を用いて回転速度200r.
p.m.にて第１表に示す増感剤を用いた下記感光液を塗布
して100℃２分間乾燥し、乾燥膜厚約1.5μの感光層を形
成させ感光板を作成した。
メチルメタクリレート/N−〔２−（メタクリロイルオキ
シ）エチル〕−2,3−ジメチルマレイミド／メタクリル
酸＝15/65/20（重量比）共重合体のメチルエチルケトン
/2−メトキシエタノール＝1/1重量比混合物の20％溶液
（特開昭59−206425号明細書中の樹脂Ｖ） 25 ｇ 第１表に示す増感剤 0.5 g Ｆ−177（大日本インキ（株）製：フッ素系ノニオン界
面活性剤） 0.02g 銅フタロシアニン顔料（CI Pigment Blue 15）の可塑剤
10％分散液 1.0 g メチルエチルケトン 20 ｇ メタノール ２ ｇ エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート 28 ｇ 露光は真空焼枠装置を用いて、作製した感光板上にス
テップ・ウェッジ（濃度段差0.15、濃度段数15段）に置
き、2KWの超高圧水銀灯を16秒間照射し、露光後下記処
方の現像液を用いて現像した。
シ）エチル〕−2,3−ジメチルマレイミド／メタクリル
酸＝15/65/20（重量比）共重合体のメチルエチルケトン
/2−メトキシエタノール＝1/1重量比混合物の20％溶液
（特開昭59−206425号明細書中の樹脂Ｖ） 25 ｇ 第１表に示す増感剤 0.5 g Ｆ−177（大日本インキ（株）製：フッ素系ノニオン界
面活性剤） 0.02g 銅フタロシアニン顔料（CI Pigment Blue 15）の可塑剤
10％分散液 1.0 g メチルエチルケトン 20 ｇ メタノール ２ ｇ エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート 28 ｇ 露光は真空焼枠装置を用いて、作製した感光板上にス
テップ・ウェッジ（濃度段差0.15、濃度段数15段）に置
き、2KWの超高圧水銀灯を16秒間照射し、露光後下記処
方の現像液を用いて現像した。
現像液 ベンジルアルコール 4.5g イソプロピルナフタレンスルホン酸のナトリウム塩の38
％水溶液 4.5g トリエタノールアミン 1.5g モノエタノールアミン 0.1g 亜硫酸ナトリウム 0.3g 純水 100g 現出した画像の対応するステップ・ウェッジの最高段
数を試料の感度として第１表に示した。段数が高いほど
感度も高いことを意味する。
％水溶液 4.5g トリエタノールアミン 1.5g モノエタノールアミン 0.1g 亜硫酸ナトリウム 0.3g 純水 100g 現出した画像の対応するステップ・ウェッジの最高段
数を試料の感度として第１表に示した。段数が高いほど
感度も高いことを意味する。
比較のために増感剤として本発明の化合物に替えて2,
3−ジメチルチオキサントン、ミヒラーケトンを添加し
たものをそれぞれ比較例（１）、（２）とし、また無添
加のものを比較例（３）とし、これらの感度もあわせて
第１表に示した。
3−ジメチルチオキサントン、ミヒラーケトンを添加し
たものをそれぞれ比較例（１）、（２）とし、また無添
加のものを比較例（３）とし、これらの感度もあわせて
第１表に示した。
第１表のように従来の増感剤である2,3−ジエチルチ
オキサントン、ミヒラーケトンに比べ、本発明の一般式
（Ｉ）で示される増感剤は、高感度であった。
オキサントン、ミヒラーケトンに比べ、本発明の一般式
（Ｉ）で示される増感剤は、高感度であった。
本発明の感光性組成物は高感度であり、従って、短時
間露光で画像形成が可能であり、製版等の作業性にすぐ
れている。
間露光で画像形成が可能であり、製版等の作業性にすぐ
れている。
Claims (1)
- 【請求項１】（ａ） マレイミド基を側鎖に有する光架
橋性重合体と、 （ｂ） 下記式（Ｉ）で示される化合物と、 を含有することを特徴とする感光性組成物。 式中、R1は、アルキル基又は置換アルキル基を表し、R2
及びR3は、隣接するチアゾリジン環と一緒になって、ベ
ンゾチアゾリジン環又はα−若しくはβ−ナフトチアゾ
リジン環を形成し、R4は、シアノ基又は−CO−R5を示
し、R5は、フェニル基を示す。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63285404A JP2589558B2 (ja) | 1988-11-11 | 1988-11-11 | 感光性組成物 |
| DE68921146T DE68921146T2 (de) | 1988-11-11 | 1989-11-09 | Lichtempfindliche Zusammensetzung. |
| EP89120820A EP0368327B1 (en) | 1988-11-11 | 1989-11-09 | Light-sensitive composition |
| US07/433,975 US5202221A (en) | 1988-11-11 | 1989-11-09 | Light-sensitive composition |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63285404A JP2589558B2 (ja) | 1988-11-11 | 1988-11-11 | 感光性組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02131236A JPH02131236A (ja) | 1990-05-21 |
| JP2589558B2 true JP2589558B2 (ja) | 1997-03-12 |
Family
ID=17691084
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63285404A Expired - Fee Related JP2589558B2 (ja) | 1988-11-11 | 1988-11-11 | 感光性組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2589558B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5401042B2 (ja) * | 2008-02-28 | 2014-01-29 | 富士フイルム株式会社 | フォトレジスト用化合物、フォトレジスト液、およびこれを用いるエッチング方法 |
| JP5634888B2 (ja) * | 2011-01-12 | 2014-12-03 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、画像形成方法及び印画物 |
Family Cites Families (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5612857B2 (ja) * | 1973-04-03 | 1981-03-25 | ||
| US4062686A (en) * | 1976-04-21 | 1977-12-13 | Eastman Kodak Company | Sensitizers for photocrosslinkable polymers |
| JPS5928328B2 (ja) * | 1977-11-29 | 1984-07-12 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
| JPS54152091A (en) * | 1978-05-22 | 1979-11-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photopolymerizable composition |
| US4282309A (en) * | 1979-01-24 | 1981-08-04 | Agfa-Gevaert, N.V. | Photosensitive composition containing an ethylenically unsaturated compound, initiator and sensitizer |
| JPS55988A (en) * | 1979-03-28 | 1980-01-07 | Hitachi Ltd | Light pen |
| DE3069448D1 (en) * | 1979-05-18 | 1984-11-22 | Ciba Geigy Ag | Photocrosslinkable copolymers, photosensitive recording material containing them, its utilisation in the production of photographic pictures and process for the production of photographic pictures |
| JPS5664335A (en) * | 1979-10-29 | 1981-06-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive composition |
| JPS5989303A (ja) * | 1982-11-12 | 1984-05-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
| DE3471486D1 (de) * | 1983-08-15 | 1988-06-30 | Ciba Geigy Ag | Photocurable compositions |
| DE3333450A1 (de) * | 1983-09-16 | 1985-04-11 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Trihalogenmethylgruppen enthaltende carbonylmethylenheterocyclen, verfahren zu ihrer herstellung und lichtempfindliches gemisch, das diese verbindungen enthaelt |
| JPS60188943A (ja) * | 1984-03-08 | 1985-09-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
| JPS61204628A (ja) * | 1985-03-07 | 1986-09-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
| JPS61203443A (ja) * | 1985-03-06 | 1986-09-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
| JPS62294238A (ja) * | 1986-06-13 | 1987-12-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
| JPS63137923A (ja) * | 1986-11-28 | 1988-06-09 | Matsushita Electric Works Ltd | 感光性耐熱樹脂組成物 |
-
1988
- 1988-11-11 JP JP63285404A patent/JP2589558B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02131236A (ja) | 1990-05-21 |
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