JPS6133028B2 - - Google Patents

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JPS6133028B2
JPS6133028B2 JP12627077A JP12627077A JPS6133028B2 JP S6133028 B2 JPS6133028 B2 JP S6133028B2 JP 12627077 A JP12627077 A JP 12627077A JP 12627077 A JP12627077 A JP 12627077A JP S6133028 B2 JPS6133028 B2 JP S6133028B2
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JP
Japan
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acid
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furan
alkyl group
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JP12627077A
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Takahiro Noguchi
Shunichi Kondo
Akihiro Matsufuji
Hisatake Ono
Toshio Uchida
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Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Priority to US05/953,318 priority patent/US4224225A/en
Publication of JPS5461164A publication Critical patent/JPS5461164A/ja
Publication of JPS6133028B2 publication Critical patent/JPS6133028B2/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D307/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
    • C07D307/77Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D307/92Naphthofurans; Hydrogenated naphthofurans
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029
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    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
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    • Y10S430/117Free radical
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
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  • Furan Compounds (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は新規化合物2−アリールナフト〔1・
8−bc〕フラン−5−オン(以下、ナフトフラ
ノンという。)に関するもの、およびナフトフラ
ノンを付加重合性エチレン化合物の光重合開始剤
として含有する光重合性組成物に関するものであ
る。 従来、塗料、印刷インク、接着剤などの組成物
の成分として輻射線照射により硬化しうる不飽和
化合物を用い、かかる組成物に可視光線、紫外
線、X線等の電磁波や電子線、中性子線、α線等
の粒子線を作用させると組成物中の上記化合物は
重合して硬化し、さらにかかる作用を重合開始剤
組成物(以下、単に光重合開始剤と呼ぶ。)の存
在下に為さしめるとその重合速度は著しく大きく
なることが広く知られている。これらの技術につ
いてはたとえば米国特許第3551235号、同第
3551246号、同第3551311号および同第3558387
号、ベルギー特許第808179号、特開昭49−110781
号の各公報に記載されている。かかる技術によつ
て得られる硬化物は優れたたわみ性、耐化学薬品
性、耐摩耗性、光沢、接着性および色相等の特長
をもつているが、その反面組成物の硬化感応度が
低いので画像形成における像露光に長時間を要す
る欠点を有していた。従つて細密な画像露光の場
合には操作にわずかな振動があると良好な画質の
画像が再現されず、また露光の光源または粒子線
源のエネルギー放射量を増大しなければならない
ためにそれに伴なう多大な発熱のため組成物の皮
膜の変形や変質が生じ易い等の問題があつた。ま
た一般的に硬化感応度が比較的高くなると、組成
物が画像記録に使用する迄の、暗所での通常の保
存中に熱によつて硬化しやすくなる欠点を有して
いた。 本発明者らは、光重合開始剤の改良によつて硬
化感応度の秀れた感光性組成分について鋭意研究
を重ねていたが、特定のナフトフラノン類が、エ
チレン性不飽和化合物の光重合速度を著しく増大
させ、上記の欠点を全く示さないが、従来公知の
光重合開始剤使用時よりも上記の欠点が著しく少
ない、高性能の光重合開始剤であることを見出
し、本発明に到達したものである。 本発明の第1の目的は、未だ文献に記載を見な
い新規な化合物であり、後記一般式()で示さ
れる2−アリールナフト〔1・8−bc〕フラン
−5−オン類を提供することにある。 本発明の第2の目的は、(A)エチレン性不飽和二
重結合を有する付加重合可能な化合物(以下にお
いて単にエチレン性化合物という)の少くとも1
種および(B)光重合開始剤を必須の構成成分として
含有する光重合性組成物において、光重合開始剤
として2−アリールナフト〔1・8−bc〕フラ
ン−5−オン類の少くとも1種を使用する光重合
性組成物を提供することにある。 本発明の第3の目的は、(A)エチレン性化合物の
少くとも1種および(B)光重合開始剤を必須の構成
成分として含有する光重合性組成物において、光
重合開始剤として、2−アリールナフト〔1・8
−bc〕フラン−5−オンの少くとも1種および
(C)後記の一般式()から()で示される窒素
化合物の少くとも1種を組合せて得られる高感度
の光重合性組成物を提供することである。 本発明の第4の目的は、労働安全上好ましくな
い原料を使用することなく、かつ唯一の反応容器
中で光重合開始剤を製造し、かつこれを簡便に単
離精製する工程を提供することにある。 本発明の第5の目的は、熱安定性にすぐれ、従
つて製品の生保存性の長い光重合性組成物を提供
することにある。 本発明の第6の目的は、光酸化性の光開始剤に
よつて発色する被酸化性ロイコ色素と組合せて、
光プリントアウト組成物となるナフトフラノンを
提供することにある。 本発明は、次のとおりである: (1) 下記一般式()で表わされる2−アリール
ナフト〔1・8−bc〕フラン−5−オン。 (式中、Gはベンゼン環またはナフタレン環か
ら導かれた3価の残基を表わし、R1およびR2
は、炭素原子数1から5までのアルキル基、炭
素原子数1から3までのアルコキシ基、ハロゲ
ン原子または水素を表わす。R1とR2とは互い
に同じでも異つていてもよいが、Gがベンゼン
環である場合には、R1とR2とがともに水素原
子である組合せを除く。) (2) Gがベンゼン環から導かれた3価の残基を表
わすときには、R1およびR2はメチル基、エチ
ル基、n−プロピル基、n−ブチル基、イソプ
ロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、
tert−ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、塩
素原子、臭素原子または水素原子を表わし、互
いに同じでも異つていてもよいが、ともに水原
素子である組合せを除き、Gがナフタレン環か
ら導かれた3価の残基のときは、1−ナフチル
基あるいは2−ナフチル基を表わす特許請求の
範囲1に記載の2−アリールナフト〔1・8−
bc〕フラン−5−オン。 (3) (A)エチレン性不飽和二重結合を有する付加重
合可能な化合物(以下、エチレン性化合物とい
う)の少くとも1種および、(B)光重合開始剤の
少くとも1種を必須の構成成分として含有する
光重合性組成物において、光重合開始剤が、下
記一般式()で示される、2−アリールナフ
ト〔1・8−bc〕フラン−5−オンであるこ
とを特徴とする光重合性組成物。 〔式中、Gはベンゼン環またはナフタレン環よ
り導かれた3価の残基を表わし、R3およびR4
は炭素原子数1から5までのアルキル基、炭素
原子数1から3までのアルコキシ基、ハロゲン
原子または水素を表わす。R3とR4とは互いに
同じでも異つていてもよいが、Gがベンゼン環
である場合には、R1とR2とがともに水素原子
である組合せを除く。〕 (4) さらに(C)光重合促進剤として、下記一般式
()から(XII)のいずれかで表わされる窒素
原子含有化合物を含有することを特徴とする(3)
に記載の光重合性組成物。 〔式中、R5、R6およびR7は、アルキル基、アリ
ール基、アラルキル基または置換アルキル基を
表わし、R5、R6、およびR7は互いに同じでも
異つていてもよい。〕 (式()〜(XII)において、R11およびR12
は、それぞれアルキル基または、置換アルキル
基を表わし、かつ互いに同じでも異つていても
よい。R13はアルキル基、アリール基、アラル
キル基、置換アルキル基、アルコキシ基、アリ
ールオキシ基、又はN、S、またはO原子を含
む5員または6員の複素芳香環の1価の残基を
表わす。R14はアルキル基を表わす。mは1ま
たは2を、nは3から8までの正の整数をそれ
ぞれ表わす。Xはハメツト(Hammett)の置
換基定数σ(シグマ)値が−0.9から+0.7まで
の範囲にある置換基を表わす。)。 以下、本発明について詳細に説明する。 一般式()(化学構造式に付した1から8ま
での数値は位置番号である。)で表わされる新規
化合物において、Gはベンゼン環またはナフタレ
ン環から導かれた3価の残基(trivalent
radical)を表わし、R1およびR2は炭素原子1か
ら5までの直鎖状あるいは分岐状のアルキル基、
炭素数1から3までの直鎖あるいは分岐状のアル
コキシ基、ハロゲン原子(弗素、塩素、臭素また
は沃素)または水素を表わす。R1とR2とは互い
に同じでも異つていてもよいが、Gがベンゼン環
であるばあいにはR1とR2がともに水素原子であ
る組合せを除く。 上記の置換基で好ましい具体例は、Gがベンゼ
ン環であるときには、R1およびR2は、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロ
ピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−
ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、塩素原子、
臭素原子または水素原子であり、互いに同じで
も、異つていてもよいが、ともに水素原子である
組合せを除く。またGがナフタレン環であるばあ
いには、1−あるいは2−ナフチル環であり、
R1およびR2はともに水素原子である。 一般式()で表わされる化合物において、
G、R3およびR4はそれぞれ前述の一般式()
におけるG、R1およびR2と同じ意味を表わす。 一般式()で示される新規化合物は、
「Org・Synthesis」第21巻、103頁(1941年)に
記載のS.R.Cooperの方法に準じた工程で合成す
ることができる。すなわち、下記式のごとく、
1・5−ジヒドロキシナフタレン類と安息香酸、
ナフトエ酸類などの芳香族モノカルボン酸とを、
塩化亜鉛の存在下で加熱反応させると、1つの反
応容器の中で製造可能である。 式中、Gはベンゼン環またはナフタレン環から
導かれた3価の残基を表わし、R3およびR4は、
炭素数1から5までの直鎖状または分岐状の低級
アルキル基、炭素原子数1から3までの直鎖状あ
るいは分岐状アルコキシ基、ハロゲン原子(弗
素、塩素、臭素、沃素)または水素原子を表わ
し、R3とR4とは互いに同じでも異つてもよい。
具体的な低級アルキル基の例としては、メチル
基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、
イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル
基、tert−ブチル基があり、アルコキシ基の例と
しては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、イソプロポキシ基がある。 上記の反応に使用しうる1・5−ジヒドロキシ
ナフタレン類(1・5−ナフタレンジオール類)
には、無置換体以外に、4・8−位がともに置換
された誘導体を除く種々の核置換体を挙げること
ができる。すなわち下記の一般式()におい
て、 (上式において1から8までの数字は位置番号を
表わす。) 置換基Qとして可能なものは、ハロゲン原子
(弗素、塩素、臭素、沃素)、炭素数が1から5ま
での飽和または不飽和の低級アルキル基(メチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ア
リル基、2−メチルプロペニル基など)、アルキ
ル置換アミノアルキレン基(アルキル基としては
炭素数が1から5までの直鎖状あるいは分岐状ア
ルキル基および炭素数が5から7までの環状アル
キル基が挙げられ、アルキレン基としては、炭素
数が1から3までのモノ−、ジ−あるいはトリメ
チレン基がある)であり、eは1から5までの整
数であつて、eが2以上のときには、Qは同一で
も異つていてもよい。 本発明に使用しうる1・5−ナフタレンジオー
ル類の具体例としては、1・5−ナフタレンジオ
ール、2・6−ジブロム−1・5−ナフタレンジ
オール、2・4−ジクロル−1・5−ナフタレン
ジオール、2・4−ジブロム−1・5−ナフタレ
ンジオール、2−アミノ−1・5−ナフタレンジ
オール、2・6−ビス〔(シクロヘキシルアミ
ノ)メチル〕−1・5−ナフタレンジオール、
2・6−ビス〔(プロピルアミノ)メチル〕−1・
5−ナフタレンジオール、2・6−ジ−tert−ブ
チル−1・5−ナフタレンジオール、2・6−ビ
ス(2−メチルプロペニル)−1・5−ナフタレ
ンジオールなどがある。 また、芳香族モノカルボン酸として使用しうる
化合物の代表例は、安息香酸、1−ナフトエ酸あ
るいは2−ナフトエ酸のそれぞれ無置換体あるい
は核置換体である。置換安息香酸は次の一般式
()で表わされ 式中Zは、炭素数1から5までの直鎖あるいは
分岐状アルキル基、炭素数1から5までの直鎖あ
るいは分岐状アルコキシ基、ハロゲン原子(弗
素、塩素、臭素、沃素)、水素基、シアノ基、フ
エニル基、ベンゾイル基、炭素数が1から3まで
のカルボン酸アミド基、炭素数が1から3までの
モノおよびジアルキル置換アミノ基などであり、
rは1から5までの整数である。rが2以上のと
きは置換体Zは同じでも異つていてもよい。 安息香酸のフエニル核置換体の具体例を挙げる
と、 o−トルイル酸、m−トルイル酸、p−トルイ
ル酸、p−エチル安息香酸、p−イソプロピル安
息香酸、p−ブチル安息香酸、p−tert−ブチル
安息香酸、3・4−ジメチル安息香酸、3・5−
ジメチル安息香酸、o−アニス酸、m−アニス
酸、p−アニス酸、2・4−ジメトキシ安息香
酸、3・4−ジメトキシ安息香酸(ベラトルム
酸)、2・3−ジメトキシ安息香酸(o−ベラト
ルム酸)、o−エトキシ安息香酸、3−メトキシ
−4−メチル安息香酸、p−エトキシ安息香酸、
p−プロポキシ安息香酸、o−ブロム安息香酸、
m−ブロム安息香酸、p−ブロム安息香酸、o−
クロル安息香酸、m−クロル安息香酸、p−フル
オロ安息香酸、3・4−ジクロル安息香酸、o−
ヒドロキシ安息香酸、m−ヒドロキシ安息香酸、
p−ヒドロキシ安息香酸、4−ヒドロキシ−3−
メトキシ安息香酸、o−ビフエニルカルボン酸、
4−ビフエニルカルボン酸、o−ベンゾイル安息
香酸、p−アセトアミド安息香酸、m−ジメチル
アミノ安息香酸、p−メチルアミノ安息香酸、m
−シアノ安息香酸、p−シアノ安息香酸がある。 また核置換ナフトエ酸をモノカルボン酸として
使用するときに、核置換基として可なものは、ハ
ロゲン原子(弗素、塩素、臭息、沃素)、炭素数
が1から3までの低級アルキル基、ニトロ基であ
り、置換基の数は、1または2個以上が可能であ
る。また、安息香酸類あるいはナフトエ酸類から
誘導されるカルボン酸無水物あるいはカルボン酸
塩化物を縮合の原料として使用してもよい。 核置換ナフトエ酸の具体例としては、 2−クロル−1−ナフトエ酸、4−クロル−1
−ナフトエ酸、5−クロル−1−ナフトエ酸、8
−クロル−1−ナフトエ酸、4−フルオロ−1−
ナフトエ酸、4−ブロム−1−ナフトエ酸、5−
ヨード−1−ナフトエ酸、5・8−ジクロル−1
−ナフトエ酸、1−クロル−2−ナフトエ酸、3
−クロル−2−ナフトエ酸、5−クロル−2−ナ
フトエ酸、4・5−ジクロル−2−ナフトエ酸、
1−ブロム−2−ナフトエ酸、2−メチル−1−
ナフトエ酸、6−メチル−1−ナフトエ酸、8−
メチル−2−ナフトエ酸などがある。 上記の1・5−ナフタレンジオール類と芳香族
モノカルボン酸とを反応させる場合、最も簡単な
簡便な方法としては、まず芳香族モノカルボン酸
類を融点以上で熔融せしめ撹拌下に、塩化亜鉛粉
末あるいは1・5−ナフタレンジオール類をこの
順序で、あるいは逆の順序で、順次加えて、反応
溶媒なしで反応せしめる。通常、1・5−ナフタ
レンジオール類1モルに対して、芳香族モノカル
ボン酸0.5モルないし4モル、好ましくは1.2モル
ないし2.5モルを、塩化亜鉛0.1当量ないし4当
量、好ましくは0.4当量ないし2.0当量の存在下で
反応させる。 反応温度は、上記の熔融混合物状態で合成する
場合には、芳香族モノカルボン酸の融点よりも5
℃以上高い反応温度、好ましくは10℃ないし30℃
高い温度範囲で(ただし、この温度範囲が150゜
に至らないときは150゜〜170℃の範囲で)反応さ
せるときに、副反応を少くして目的物を収率よく
製造することができる。反応の進行は、シリカゲ
ル薄層クロマトグラフにより、容易にモニターす
ることができ、反応時間の決定に供することがで
きる。 1・5−ナフタレンジオールおよび芳香族カル
ボン酸類を融解縮合させる場合には、原料カルボ
ン酸の融点が低いと反応温度を低く選ぶことがで
き、高収率でナフトフラノンが得られる傾向があ
る。このような芳香族モノカルボン酸は融点が20
℃以下、好ましくは190℃以下の結晶である。さ
らに置換基のハメツト(Hammett)の置換基定
数σが−0.9<σ<+0.4の範囲にあり、かつ窒素
原子を含まない置換基で置換された安息香酸誘導
体は、これに該当しない置換基を有する安息香酸
誘導体よりもナフトフラノンの収率が高い傾向が
ある。〔本明細書においては、ハメツトのσ値の
定義はJ.E.レフラー(Leffler)著都野雄甫訳
「有機反応速度論」(東京、広川書店、1968年発
行)に従うものである。〕また、水酸基を有しな
いカルボン酸原料から得られたナフトフラノンは
後に詳述するように、水酸化ナトリウム水溶液に
よる抽出操作で未反応原料あるいは副生成物から
容易に分離可能である。 まとめると、無置換の安息香酸あるいはナフト
エ酸;あるいは、ハメツトの置換基定数σが−
0.9から+0.4の範囲にあり、水酸基あるいは窒素
を含まない置換基を有し、融点が190℃以下の安
息香酸誘導体を約120℃から約250℃の温度範囲
で、好ましくは約150℃(下限)から約180℃また
は置換安息香酸の融点より約40℃高い温度(上
限)までの温度範囲で反応させて、後述の方法で
分離すると、目的とするナフトフラノンが高収率
で製造できかつ、これを簡単な分離操作で単離で
きるような工程で簡便に製造可能なナフトフラノ
ンのカルボン酸成分は、下記の一般式()で
表わすことができ、 ここでG、R3およびR4は、前に説明したのと
同じ意味を表わす。また、上記に該当するカルボ
ン酸の具体例としては、安息香酸;1−ナフトエ
酸;2−ナフトエ酸;o−、m−あるいはp−ア
ニス酸;ベラトルム酸;o−ベラトルム酸;o−
エトキシ安息香酸;p−プロピルオキシ安息香
酸;o−、m−あるいはp−トルイル酸、3・5
−ジメチル安息香酸;p−エチル安息香酸;p−
イソプロピル安息香酸;p−n−ブチル安息香
酸;p−tert−ブチル安息香酸、3−メトキシ−
4−メチル安息香酸、o−ブロム安息香酸、m−
ブロム安息香酸、o−クロル安息香酸;m−クロ
ル安息香酸が挙げられる。 融点が190℃を越えるカルボン酸成分を反応せ
しめるときにおいても前述の熔融状態での反応は
可能であるが、より好ましくは、通常フリーデ
ル・クラフツ反応に使用される反応溶媒(ニトロ
ベンゼン、1・1・2・2−テトラクロルエタン
など)を反応に使用する。また塩化亜鉛の代り
に、塩化アルミニウム、ポリ燐酸などのフリーデ
ル・クラフツのアシル化触媒を代用したり、併用
したりすることもできる。 目的とする2−アリールナフト〔1・8−
bc〕フラン−5−オン類は、反応混合物より次
のいずれかの方法によつて単離できる: 混合物を熱アルコール、あるいはヘキサンよ
り再結晶する 反応混合物を固化紛砕した後、水酸化ナトリ
ウム水溶液で抽出し、次いで乾燥残渣からナフ
トフラノンをベンゼンあるいはトルエンで抽出
する 反応混合物をベンゼンまたはトルエンに溶解
した後、水酸化ナトリウム水溶液で洗浄し、有
機層を濃縮する。上記いずれかの方法で得られ
た粗生成物は、必要ならば活性炭処理をした
後、再結晶、昇華など固体試料の精製に常用さ
れる方法によつて純粋にすることができる。シ
リカゲル、アルミナなどのカラム中でクロマト
グラフ法によつても精製しうることはいうまで
もない。 本発明によつて製造された2−アリールナフト
〔1・8−bc〕フラン−5−オン類の構造は、元
素分析値、赤外線吸収(IR)スペクトル、マス
スペクトル、プロトン核磁気共嗚(NMR)スペ
クトル等の各種機器分析により決定することがで
きる。。 前記の方法によつて製造された2−アリールナ
フト〔1・8−bc〕−フラン−5−オン類の化合
物は第1表の通りであり、それらの詳細な合成方
法および各種の分析値は合成実施例に記載されて
いる。 第 1 表 化合物番号 化 合 物 名 −1: 2−フエニルナフト〔1・8−bc〕
フラン−5−オン −2: 2−(2−メチルフエニル)ナフト
〔1・8−bc〕フラン−5−オン −3: 2−(3−メチルフエニル)ナフト
〔1・8−bc〕フラン−5−オン −4: 2−(4−メチルフエニル)ナフト
〔1・8−bc〕フラン−5−オン −5: 2−(4−エチルフエニル)ナフト
〔1・8−bc〕フラン−5−オン −6: 2−(3・5−ジメチルフエニル)ナ
フト〔1・8−bc〕フラン−5−オ
ン −7: 2−(2−メトキシフエニル)ナフト
〔1・8−bc〕フラン−5−オン −8: 2−(3−メトキシフエニル)ナフト
〔1・8−bc〕フラン−5−オン −9: 2−(4−メトキシフエニル)ナフト
〔1・8−bc〕フラン−5−オン −10: 2−(3・4−ジメトキシフエニル)
ナフト〔1・8−bc〕フラン−5−
オン −11: 2−(2・4−ジメトキシフエニル)
ナフト〔1・8−bc〕フラン−5−
オン −12: 2−(2−クロルフエニル)ナフト
〔1・8−bc〕フラン−5−オン −13: 2−(3−クロルフエニル)ナフト
〔1・8−bc〕フラン−5−オン −14: 2−(3−ブロムフエニル)ナフト
〔1・8−bc〕フラン−5−オン −15: 2−(1−ナフチル)ナフト〔1・8
−bc〕フラン−5−オン −16: 2−(2−ナフチル)ナフト〔1・8
−bc〕フラン−5−オン −17: 2−(4−イソブチルフエニル)ナフ
ト〔1・8−bc〕フラン−5−オン −18: 2−(4−n−ブチルフエニル)ナフ
ト〔1・8−bc〕フラン−5−オン −19: 2−(4−tert−ブチルフエニル)ナ
フト〔1・8−bc〕フラン−5−オ
ン −20: 2−(2−エトキシフエニル)ナフト
〔1・8−bc〕フラン−5−オン 2−アリールナフト〔1・8−bc〕フラン−
5−オンは、単独あるいはアミン系光重合促進剤
(または補助光重合開始剤)と併用して、エチレ
ン性化合物の光重合開始剤として使用することが
できる。 本発明において、エチレン性化合物とは、付加
重合性のエチレン性不飽和二重結合を分子内に1
個以上有する化合物で、それらを1、2および3
個有する化合物である‘官能、2官能および3官
能モノマーにとどまらず、多官能であり、その分
子量が約1万以下であるオリゴマーまでを含む総
称である。これらの混合物ならびに、それらの混
合物のエチレン性結合が一部分共重合した形態を
有するプレポリマーをも、エチレン性化合物は合
せ意味するものである。 本発明においては、好ましいエチレン性化合物
はエチレン性二重結合を分子内に2個以上有する
化合物であり、かつ、少くとも1つ、より好まし
くはほとんど全てのエチレン性二重結合が、炭素
あるいは、酸素、窒素、硫黄などのヘテロ原子と
二重結合している炭素に共役的に隣接しているよ
うな化合物である。特に顕著な効果を示すエチレ
ン性化合物としては、重合性エチレン性二重結合
がエステルあるいはアミド結合のカルルボニル基
と共役している化合物である。これらのエチレン
性化合物の例としては、以下の不飽和カルボン酸
と脂肪族ポリオールとのエステル、多価カルボン
酸と脂肪族ポリオールとのオリゴエステル(また
はポリエステル)と不飽和ポリボン酸とがエステ
ル結合したオリゴエステル(またはポリエステ
ル)不飽和カルボキシレートがある。 不飽和カルボン酸の具体例としてはアクリル
酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イ
ソクロトン酸、マレイン酸がある。 前述の脂肪族ポリオール化合物としてはエチレ
ングリコール、トリエチレングリコール、テトラ
エチレングリコール、テトラメチレングリコー
ル、ネオペンチルグリコール、1・10−デカンジ
オール、トリメチロールエタン、トリメチロール
プロパン、1・2−ブタンジオール、1・3−ブ
タンジオール、プロピレングリコール、ペンタエ
リトリトール、ジペンタエリトリトール、トリペ
ンタエリトリトール、他の多量体ペンタエリトリ
トール、ソルビトール、d−マニトール、ジヒド
ロキシマレイン酸などがある。脂肪族ポリオール
化合物と不飽和カルボン酸とのエステルの具体例
とししてはアクリル酸エステルとして、ジアクリ
ル酸エチレングリコールエステル、トリアクリル
酸トリエチレングリコールエステル、ジアクリル
酸1・3−ブタンジオールエステル、ジアクリル
酸テトラメチレングリコールエステル、ジアクリ
ル酸プロピレングリコールエステル、トリアクリ
ル酸トリメチロールプロパンエステル、トリアク
リル酸トリメチロールエタンエステル、トリメタ
クリル酸トリメチロールプロパンエステル、トリ
メタクリル酸トリメチロールエタンエステル、ジ
アクリル酸テトラエチレングリコールエステル、
ジアクリル酸ペンタエリトリトールエステル、ト
リアクリル酸ペンタエリトリトールエステル、テ
トラアクリル酸ペンタエリトリトールエステル、
ジアクリル酸ジペンタエリトリトールエステル、
トリアクリル酸ジペンタエリトリトールエステ
ル、テトラアクリル酸ジペンタエリトリールエス
テル、ペンタアクリル酸ジペンタエリトリトール
エステル、ヘキサアクリル酸ジペンタエリトリト
ールエステル、オクタアクリル酸トリペンタエリ
トリトールエステル、テトラアクリル酸ジペンタ
エリトリトールエステル、ペンタアクリル酸ジペ
ンタエリトリトールエステル、ヘキサアクリル酸
ジペンタエリトリトールエステル、オクタアクリ
ル酸トリペンタエリトリトールエステル、トリア
クリル酸ソルビトールエステル、テトラアクリル
酸ソルビトールエステル、ペンタアクリル酸ソル
ビトールエステル、ヘキサアクリル酸ソルビトー
ルエステル、ポリエステルアクリレートオリゴマ
ー等がある。メタクリル酸エステルとして、ジメ
タクリル酸テトラメチレングリコールエステル、
ジメタクリル酸トリエチレングリコールエステ
ル、ジメタクリル酸ペンタエリトリトールエステ
ル、トリメタクリル酸ペンタエリトリトールエス
テル、ジメタクリル酸ジペンタエリトリトールエ
ステル、ジメタクリル酸ペンタエリトリトールエ
ステル、トリメタクリル酸ペンタエリトリトール
エステル、ジメタクリル酸ジペンタエリトリトー
ルエステル、テトラメタクリル酸ジペンタエリト
リトールエステル、オクタメタクリル酸トリペン
タエリトリトールエステル、ジメタクリル酸エチ
レングリコールエステル、ジメタクリル酸1・3
−ブタンジオールエステル、ジメタクリル酸テト
ラメチレングリコールエステル、テトメタクリル
酸ソルビトールエステル等がある。イタコン酸エ
ステルとしてはジイタコン酸エチレングリコール
エステル、ジイタコン酸プロピレングリコールエ
ステル、ジイタコン酸1・3−ブタンジオールエ
ステル、ジイタコン酸1・4−ブタンジオールエ
ステル、ジイタコン酸テトラメチレングリコール
エステル、ジイタコン酸ペンタエリトリトールエ
ステル、トリイタコン酸ジペンタエリトリトール
エステル、ペンタイタコン酸ジペンタエリトリト
ールエステル、ヘキサイタコン酸ジペンタエリト
リトールエステル、テトライタコン酸ソルビトー
ルエステル等がある。クロトン酸エステルとして
はジクロトン酸エチレングリコールエステル、ジ
クロトン酸プロピレングリコールエステル、ジク
ロトン酸テトラメチレングリコールエステル、ジ
クロトン酸ペンタエトリトールエステル、テトラ
クロトン酸ソルビトールエステル等がある。イソ
クロトン酸エステルとして、ジイソクロトン酸エ
チレングリールエステル、ジイソクロトン酸ペン
タエリトリトールエステル、テトライソクロトン
酸ソルビトールエステル等がある。マレイン酸エ
ステルとして、ジマレイン酸エチレングリコール
エステル、ジマレイン酸トリエチレングリコール
エステル、ジマレイン酸ペンタエリトリトールエ
ステル、テトラマレイン酸ソルビトールエステル
等がある。 次にオリゴエステル(またはポリエステル)不
飽和カルボキシレートの例としては、オリゴエス
テルアクリレートおよびオリゴエステルメタアク
リレート(以下、両者をあわせてオリゴエステル
(メタ)アクリレートという。)がある。 オリゴエステル(メタ)アクリレートとは、ア
クリル酸又はメタクリル酸、多価カルボン酸およ
び脂肪族ポリオールのエステル化反応によつて得
られる反応生成物で推定される構造式は一般式
() で表わされる化合物であり、ここでR15は水素原
子又はメチル基を表わし、Eは脂肪族ポリオール
と多価カルボン酸から成る、少くとも1つのエス
テル結合を含むエステル残基を表わし、kは1か
ら6までの整数である。 エステル残基Eを構成する脂肪族ポリオールと
しては、例えばエチレングリコール、1・2−プ
ロピレングリコール、1・4−ブタンジオール、
1・6−ヘキサンジオール、トリメチロールプロ
パン、トリメチロールエタン、1・2・6−ヘキ
サントリオール、グリセリン、ペンタエリトリト
ール、ソルビトールなどのポリオール、ジエチレ
ングリコール、トリエチレングリール、テトラエ
チレングリコール、デカエチレングリコール、テ
トラデカエチレングリコール、ポリエチレングリ
コール、ジプロピレングリコール、トリプロピレ
ングリコール、テトラプロピレングリコール、ポ
リプロピレングリコールなどのポリエーテル型ポ
リオールがある。 一方、エステル残基Eを構成する多価カルボン
酸としては、例えばフタル酸、イソフタル酸、テ
レフタル酸、テトラクロルフタル酸、テトラブロ
ムフタル酸、トリメリツト酸、ピロメリツト酸、
ベンゾフエノンジカルボン酸、レゾルシノールジ
酢酸、ビスフエノールAジ酢酸等の芳香族多価カ
ルボン酸、マレイン酸、フマル酸、ハイミツク
酸、イタコン酸等の不飽和脂肪族多価カルボン
酸、マロン酸、こはく酸、グルタール酸、アジピ
ン酸、ピメリン酸、セバジン酸、ドデカン酸、テ
トラヒドロフタル酸等の飽和脂肪族多価カルボン
酸などがある。 エステル残基Eは、上記の如き脂肪族ポリオー
ルと多価カルボン酸のそれぞれ一種類づつから構
成されているもの、及びそれらの一方が又は両方
が二種以上のものから構成されているものが含ま
れる。また脂肪族ポリオールと多価カルボン酸が
エステル残基E中に、1分子づつ含まれているも
の、及びそれらの一方が又は両方が2分子以上含
まれているものが含まれる。即ちエステル結合が
E中に少くとも一つ含まれていればいかなるもの
も使用できる。また、E中に水酸基がのこつてい
るもの、或いはこれが一価カルボン酸とエステル
を形成しているか又はメトキシ基、エトキシ基な
どのアルコキシ基で置換されているものも含まれ
る。またE中にカルボキシル基がのこつているも
のでもよい。一般式()中のkの数及びE中
に含まれるエステル結合の数はふつう1〜6個の
範囲である。kの値が2以上の時、一つのオリゴ
エステル(メタ)アクリレート分子中に、アクリ
ロイル基又はメタクリロイル基のいずれかのみを
含むものを用いてもよいが、または、一つの分子
中にアクリロイル基とメタクリロイル基を任意の
割合で含むものも用いることができる。 本発明に用いられるオリゴエステル(メタ)ア
クリレートの具体例として、その推定構造式を第
2表にあげるが、これは本発明に用いられるオリ
ゴエステル(メタ)アクリレートのごく一部の例
であつて、これ以外の広範な種類のものも好適に
用いることが出来る。第2表において、構造式
中、Yはアクリロイル基(CH2=CH−CO−)又
はメタアクリロイル基
【式】のい ずれかを表わす。
【表】
【表】
【表】 本発明において、エチレン性化合物に対して、
2−アリールナフト〔1・8−bc〕フラン−5
−オンを光重合開始剤の唯一の成分として含まし
めても、きわめて高感度の光重合性組成物が得ら
れる。 光重合開始剤として有効な2−アリールナフト
〔1・8−bc〕フラン−5−オンは、前記の一般
式()で表わすことができる。 式()で表わされる化合物の中では、R3
よびR4がともに水素原子である、2−フエニル
ナフト〔1・8−bc〕−フラン−5−オンのみ
が、D.H.Barton、B.Halpern、Q.N.Portarおよび
D.J.Collinsの英国化学会誌(「J.Chem、Soc.
(C)」)1971年巻2166−2174頁によつて知られてい
る。しかしながら、ここで説明すべきことは、既
知化合物である2−フエニルナフト〔1・8−
bc〕フラン−5−オン自身も、単に抗生物質の
全合成を目ざして行なわれた合成中間体の副生成
物として得られたことが報告されているに過ぎな
いことである。すなわち、本既知化合物が、光重
合開始剤として使用して極めめて有効であること
は、今までに全然知られていず、本発明者らの予
期せざる発見に基ずくものである。 2−アリールナフト〔1・8−bc〕フラン−
5−オン(以下、単にナフトフラノンという。)
は、エチレン性化合物に対して、単独で良好な光
重光開始剤となるが、さらに、(C)アミン系の光重
合促進剤(あるいは補助光重合開示剤、
polymerization accelerator or co−initiator)
を併用するときに、相乗的に感度が上昇した光重
合開始剤の組合せとなる。成分(C)アミン系光重合
促進剤として有効な化合物は、前述の一般式
()、()、()、()、()、()、(
)、
()、(XI)あるいは(XII)で表わされる化合物
であり、成分(B)ナフトフラノンと併用して相
乗的な増感効果がある。 前述の一般式()におけるR5、R6およびR7
の例を以下に示す。まず、アルキル基としては炭
素原子数が1から18までの直線状、分岐状および
環状のアルキル基をあげることができ、その具体
例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル
基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル
基、オクタデシル基、イソプロピル基、イソブチ
ル基、イソペンチル基、イソヘキシル基、sec−
ブチル基、ネオペンチル基、tert−ブチル基、
tert−ペンチル基、シクロペンチル基、シクロヘ
キシル基、シクロヘプチル基、2−ノルボルニル
基をあげることができる。これらのうちでは、炭
素原子数1から10までの直線状、分岐状および環
状のアルキル基が好ましい。アリール基として
は、1個のベンゼン環の残基、2個および3個の
縮合ベンゼン環の残基、ビフエニルの残基ならび
にベンゼン環と5員不飽和環との縮合系の残基お
よびこれらの残基の環形成炭素原子にハロゲン原
子(弗素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原
子)、ニトロ基、アミノ基、置換アミノ基〔モノ
アルキル置換アミノ基(アルキル基の例、メチル
基、エチル基、プロピル基、ペンチル基、イソプ
ロピル基、sec−ブチル基、イソペンチル基、)、
ジアルキルアミノ基(アルキル基の例はモノアル
キル置換アミンの例と同じ)、モノアシルアミノ
基(アシル基の例、アセチル基、プロピオニル
基、ブチリル(butyryl)基、イソブチリル基、
バレリル(valeryl)基〕、アシノ基、アルキル基
(炭素原子数が1から18までの直線状、分岐状お
よび環状のアルキル基、好ましくは炭素原子数1
から10までの直線状、分岐状および環状のアルキ
ル基、これらの具体例はすでに上に述べた。)、ハ
ロゲノアルキル基(例、クロロメチル基、2−ク
ロロメチル基、5−クロロペンチル基、トリフル
オロメチル基)、アルコキシル基(アルキル基の
例、メチル基、エチル基、ブチル基、ペンチル
基、イソプロピル基、イソペンチル基、2−メチ
ルブチル基、sec−ブチル基)、アリールオキシ基
(アリール基の例、フエニル基、1−ナフチル
基、2−ナフチル基)、アルコキシカルボニル基
(アルキル基の例、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、イソプロピル基、ブチル基)、アシルオキ
シ基(アシル基の例はモノアシルアミノ基の例と
同じ)、アルコキシスルホニル基(アルキル基の
例はアルコキシル基のアルキル基の例と同じ)等
の置換基が1個又は、互いに同じであるかあるい
は異つた2個以上の置換基が置換した残基をあげ
ることができる。これらのアリール基の具体例と
しては、フエニル基、クロロフエニル基、ニトロ
フエニル基、アミノフエニル基(メチルアミノ)
フエニル基、(エチルアミノ)フエニル基、(ジメ
チルアミノ)フエニル基、アセチルアミノフエニ
ル基、トリル基、エチルフエニル基、(クロロメ
チル)フエニル基、アセチルフエニル基、フエノ
キシフエニル基、メトキシカルボニルフエニル
基、エトキシカルボニルフエニル基、アセトキシ
フエニル基、メトキシスルホニルフエニル基、ナ
フチル基、2−アミノ−1−ナフチル基、1−ジ
メチルアミノ−2−ナフチル基、クロロナフチル
基、メチルナフチル基、アントリル基、フエナン
トリル基、インデニル基、ビフエニリル基、クロ
ロビフエニリル基、アミノビフエニリル基、メチ
ルビフエニリル基、アセナフテニルをあげること
ができる。これらのうちでは1個のベンゼン環の
残基に上述の置換基が1個、又は同じかあるいは
互いに異なる上述の置換基が2個以上置換した残
基が好ましい。 アラルキル基としては炭素原子数1から10ま
で、好ましくは同じく1から5までの直線状、分
岐状又は環状のアルキル基にフエニル基又はナフ
チル基が置換した残基をあげることができ、その
具体例としては、ベンジル基、フエネチル基、3
−フエニルプロピル基、3−フエニルヘキシル
基、10−フエニルデシル基、4−フエニルシクロ
ヘキシル基をあげることができる。 置換アルキル基の置換基としてはハロゲン原子
(弗素、塩素、臭素、沃素)およびヒドロキシル
基をあげることができ、一方アルキル基としては
炭素原子数1から18まで、好ましくは同じく1か
ら10までの直線状、分岐状および環状のアルキル
基をあげることができる。その具体例としては、
クロロメチル基、ブロモメチル基、2−クロロエ
チル基、2・2・2−トリクロロエチル基、2−
クロロペンチル基、1−(クロロメチル)プロピ
ル基、10−ブロモデシル基、18−メチルオクタデ
シル基、クロロシクロヘキシル基、ヒドロキシメ
チル基、2−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキ
シブチル基、5−ヒドロキシペンチル基、10−ヒ
ドロキシデシル基、2−ヒドロキシオクタデシル
基、2−(ヒドロキシメチル)エチル基、ヒドロ
キシシクロヘキシル基、3−ヒドロキシ−2−ノ
ルボルニル基をあげることができる。 一般式()で表わされるアミン類の具体例と
しては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、
トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリペ
ンチルアミン、トリス(デシル)アミン、メチル
ジエチルアミン、エチルジブチルアミン、ジメチ
ルデシルアミン、ジメチルシクロヘキシルアミ
ン、ジエチルシクロヘキシルアミン、N・N−ジ
メチルアニリン、N・N−ジエチルアニリン、
N・N−ジメチルベンジルアミン、N・N−ジエ
チルベンジルアミン、N−ベンジル−N−メチル
アニリン、N−ベンジル−N−エチルアニリン、
N−ベンジル−N−プロピルアニリン、N−フエ
ネチル−N−メチルアニリン、N−フエネチル−
N−エチルアニリン、N・N−ジフエニルアニリ
ン、N・N−ジベンジルアニリン、トリフエニル
アミン、トリベンジルアミン、トリメタノールア
ミン、トリエタノールアミン、1・1′・1″−ニト
リロトリプロパノール、2・2′・2″−ニトリロト
リプロパール、ジメチルアミン、ジエチルアミ
ン、ジプロピルアミン、ジブチルアミン、ジペン
チルアミン、ジデシルアミン、メチルエチルアミ
ン、エチルブチルアミン、メチルシクロヘキシル
アミン、エチルシクロヘキシルアミン、N−メチ
ルアニリン、N−エチルアニリン、N−ブチルア
ニリン、N−ベンジルアニリン、N−フエネチ
ル、アニリン、ジフエニルアミン、ジベンジルア
ミン、ジフエネチルアミン、ビス(ヒドロキシメ
チル)アミン、ジエタノールアミン、ビス(3−
ヒドロキシプロピル)アミン、N・N−ビス−
(2・2−ジエトキシエチル)メチルアミン、2
−(ジイソプロピルアミノ)エタノール、2−(N
−エチル−m−トルイジノ)エタノール、1−ジ
メチルアミノ−2−プロパノール、3−ジメチル
アミノ−1−プロパノール、2−ジエチルアミノ
エタノール、N−エチル−N−(β−ヒドロキシ
エチル)アニリンをあげることができる。 上述の具体例の中で、特に相乗効果が大きく好
ましい化合物としては第3表の化合物をあげるこ
とができる。
【表】
【表】 上述のアミン化合物類は1種のみを用いればよ
いが、2種以上を混合して用いることもできる。 一般式()から()および(XII)で表わさ
れるp−ジアルキルアミノ芳香族系カルボニル化
合物、一般式(XI)で表わされるp−ジアルキル
アミノ芳香族系スルホン化合物、ならびに一般式
()で表わされるp−ジアルキルアミノスチル
ベンおよびそのビニル同族体の置換基R11および
R12はアルキル基又は置換アルキル基を表わし、
それらは互いに同じでも異なつていてもよい。ア
ルキル基としては、炭素原子数が1から18までの
直線状、分岐状のアルキル基、および炭素原子数
が5から18までの環状アルキル基をあげることが
できる。その具体例としては、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシ
ル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシ
ル基、ドデシル基、オクタデシル基、イソプロピ
ル基、イソブチル基、イソペンチル基、イソヘキ
シル基、sec−ブチル基、ネオペンチル基、tert
−ブチル基、tert−ペンチル基、シクロペンチル
基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、2−
ノルボニル基、α−デカリル基、β−デカリル基
をあげることができる。これらのうちでは炭素原
子数1から10までの直線状および分岐状のアルキ
ル基、ならびに炭素原子数6から10までの環状ア
ルキル基が好ましい。 置換アルキル基の置換基としてはハロゲン原子
(弗素、塩素、臭素、沃素)およびヒドロキシル
基をあげることができ、一方アルキル基としては
前述の炭素原子数1から18まで、好ましくは同じ
く1から10までの直線状、分岐状および環状のア
ルキル基をあげることができる。その具体例とし
ては、クロロメチル基、ブロモメチル基、2−ク
ロロエチル基、2・2・2−トリクロロエチル
基、2−クロロペンチル基、1−(クロロメチ
ル)プロピル基、10−ブロモデシル基、18−メチ
ルオクタデシル基、クロロシクロヘキシル基、ヒ
ドロキシメチル基、2−ヒドロキシエチル基、2
−ヒドロキシブチル基、5−ヒドロキシペンチル
基、10−ヒドロキシデシル基、2−ヒドロキシオ
クタデシル基、2−(ヒドロキシメチル)エチル
基、ヒドロキシシクロヘキシル基、3−ヒドロキ
シ−2−ノルボニル基をあげることができる。 一般式()および()で表わされるp−ジ
アルキルアミノ芳香族系カルボニル化合物および
一般式(XI)で表わされるp−ジアルキルアミノ
芳香族系スルホン化合物の置換基R13はアルキル
基、置換アルキル基、アルコキシ基、アリール
基、アラルキル基、アリールオキシ基、又はN、
S又はOを含む5員又は6員の複素芳香環の1価
の残基を表わす。ここでアルキル基および置換ア
ルキル基は、前述の置換基R11のアルキル基およ
び置換アルキル基と同じ意味を有する。アルコキ
シ基としては炭素原子数1から10まで、好ましく
は同じく1から5までの直線状、分岐状および環
状のアルキル基を有するアルコキシル基をあげる
ことができ、その具体例としては、メトキシ基、
エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチ
ルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ノニルオキシ
基、デシルオキシ基、イソプロポキシ基、sec−
ブトキシ基、tert−ブトキシ基、イソペンチルオ
キシ基、シクロヘキシルオキシ基、2−ノルボニ
ルオキシ基をあげることができる。 アリール基としては、1個のベンゼン環の残
基、2個および3個の縮合ベンゼン環の残基、2
個のベンゼン環集合系の残基ならびにベンゼン環
と5員不飽和環との縮合系の残基およびこれらの
残基の環形成炭素原子にハロゲン原子(弗素原
子、塩素原子、臭素原子、沃素原子)、ニトロ
基、アミノ基、置換アミノ基(モノアルキル置換
アミノ基(アルキル基の例、メチル基、エチル
基、プロピル基、ペンチル基、イソプロピル基、
sec−ブチル基、イソペンチル基)、ジアルキルア
ミノ基(アルキル基の例はモノアルキル置換アミ
ンの例と同じ)、モノアシルアミノ基(アシル基
の例、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル
(butyryl)基、イソブチリル基、バレリル
(valeryl)基)、シアノ基、アルキル基(炭素原
子数が1から18までの直線状、分岐状および環状
のアルキル基、好ましくは炭素原子数1から10ま
での直線状、分岐状および環状のアルキル基、こ
れらの具体例はすでに上に述べた。)、ハロゲノア
ルキル基(例、クロロメチル基、2−クロロメチ
ル基、5−クロロペンチル基、トリフルオロメチ
ル基)、アルコキシル基(アルキル基の例、メチ
ル基、エチル基、ブチル基、ペンチル基、イソプ
ロピル基、イソペンチル基、2−メチルブチル
基、sec−ブチル基)、アリールオキシ基(アリー
ル基の例、フエニル基、1−ナフチル基、2−ナ
フチル基)、アルコキシカルボニル基(アルキル
基の例、メチル基、エチル基、プロピル基、イソ
プロピル基、ブチル基)、アシルオキシ基(アシ
ル基の例はモノアシルアミノ基の例と同じ)、ア
ルコキシスルホニル基(アルキル基の例はアルコ
キシル基のアルキル基の例と同じ)等の置換基が
1個、又は2個以上互いに同じあるいは異つた置
換基が置換した残基をあげることができる。これ
らのアリール基の具体例としては、フエニル基、
クロロフエニル基、アミノフエニル基(メチルア
ミノ)フエニル基、(エチルアミノ)フエニル
基、(ジメチルアミノ)フエニル基、アセチルア
ミノフエニル基、トリル基、エチルフエニル基、
(クロロメチル)フエニル基、アセチルフエニル
基、フエノキシフエニル基、メトキシカルボニル
フエニル基、エトキシカルボニルフエニル基、ア
セトキシフエニル基、メトキシスルホニルフエニ
ル基、ナフチル基、2−アミノ−1−ナフチル
基、1−ジメチルアミノ−2−ナフチル基、クロ
ロナフチル基、メチルナフチル基、アントリル
基、フエナントリル基、インデニル基、ビフエニ
リル基、クロロビフエニリル基、アミノビフエニ
リル基メチルビフエニリル基、アセナフテニル基
をあげることができる。これらのうちでは1個の
ベンゼン環に上述の置換基が1個、又は2個以上
の同じかあるいは互いに異なる上述の置換基が2
個以上置換した残基が好ましい。 アラルキル基としては炭素原子数1から10ま
で、好ましくは同じく1から5までの直線状、分
岐状又は環状のアルキル基にフエニル基又はナフ
チル基が置換した残基をあげることができ、その
具体例としては、ベンジル基、フエネチル基、3
−フエニルプロピル基、3−フエニルヘキシル
基、10−フエニルデシル基、4−フエニルシクロ
ヘキシル基をあげることができる。 アリールオキシ基としては、フエノキシ基、ナ
フチルオキシ基、ビフエニルオキシ基をあげるこ
とができる。 N、S又はOを含む複素芳香環の1価の残基と
しては、フリル基、ベンゾフリル基、ピロリル
基、ピリジル基、インドリル基、チエニル基、ベ
ンゾチエニル基をあげることができる。 一般式()から()で表わされるp−ジア
ルキルアミノ芳香族系カルボニル化合物および一
般式(X)で表わされるp−ジアルキルアミノス
チルベンおよびそのビニル同族体の置換基Xはハ
メツトのσ値が−0.9から+0.7までの範囲にある
置換基を表わす。その具体例としては、水素原
子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、tert
−ブチル基、フエニル基、トリフルオロメチル
基、シアノ基、アセチル基、エトキシカルボニル
基、カルボキシル基、カルボキシラト基(−
COO)、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチル
アミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、
アセチルアミノ基、−PO3H基、メトキシ基、エ
トキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブ
トキシ基、ペンチルオキシ基、フエノキシ基、ヒ
ドロキシル基、アセトキシ基、メチルチオ基、エ
チルチオ基、イソプロピルチオ基、メルカプウ
基、アセチルチオ基、チオシアノ基(−SCN)、
メチルスルフイニル基、エチルスルフイニル基、
メチルスルフオニル基、エチルスルフオニル基、
アミノスルホニル基、ジメチルスルフオニル基、
(−S(CH32)、スルフオナト基(−SO3)、
弗素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子、ヨー
ジル基、トリメチルシリル基(−Si(CH33)、
トリエチルシリル基、トリメチルスタニル基(−
Sn(CH33)をあげることができる。これらの置
換基のうちで好ましいものは、水素原子、メチル
基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基、ジメチ
ルアミノ基、ジエチルアミミノ基、塩素原子、臭
素原子、シアノ基である。 一般式()で表わされる化合物は、p−ジ
(置換)アルキルフエニル基を有する化合物であ
つて、その具体例としては、第4表の化合物をあ
げることができる。
【表】 特に好ましく使用されるものとしては、化合物
番号−2、−3(ミヒラーケトン)、−5
および−8である。 一般式()で表わされる化合物はp−ジアル
キルアミノシンナモイル基を有する化合物類であ
つて、その具体例としては、第5表の化合物をあ
げることができる。
【表】
【表】 上記具体例中で好ましい具体例は、化合物番号
−1、−2、−3、−4、−5、−
6、−9、−10、−11、−12、−13、
−15、−16、−17、および−21である。 一般式()で表わされるp−ジアルキルアミ
ノ芳香族カルボニル化合物において、nは3から
8までの整数であり、好ましくは3および4であ
る。その具体例としては第6表の化合物をあげる
ことができる。
【表】 この中では化合物−1および−2が好まし
く使用される。 一般式()であらわされるp−ジアルキルア
ミノ芳香族系カルボニル化合物はp−ジアルキル
アミノカルコンおよびその誘導体であつて、その
具体例としては第7表の化合物をあげることがで
きる。
【表】
【表】 上記具体例中、好ましく併用される化合物例
は、化合物−1、−2、−3、−4、
−5、−6、−7、−8、−9、−
10、−11、−13、−15、−16、−17、
−18、−19、−20、−26および−27で
ある。 一般式()で表わされるp−ジアルキルアミ
ノ芳香族系カルボニル化合物は、カルコン誘導体
類であつて、その具体例としては第8表の化合物
をあげることができる。
【表】 上の具体例中、併用してより好ましい化合物
は、番号−1、−2、−3、−4、−
5、−6、−7、−9、−11、−13お
よび−14である。 一般式()で表わされるp−ジアルキルアミ
ノ芳香族系カルボニル化合物は、p−ジアルキル
スチリルケトン誘導体であつて、その具体例とし
ては第9表の化合物をあげることができる。
【表】 上記の具体例中、より好ましく併用できる化合
物例は番号−1、−2、−3、−4、
−5、−6、−8、−9、−11、−
13、−14、および−23である。 一般式()で表わされるアミン系光重合促進
剤は、p−ジアルキルアミノスチルベンおよびそ
のビニル同族体であつて、その具体例としては第
10表の化合物をあげることができる。
【表】 一般式(XI)で表わされる化合物は、p−ジア
ルキルアミノスチリルスルホン類であつて、その
具体例としては第11表の化合物をあげることがで
きる。
【表】 一般式(XII)で表わされる化合物は、p−ジア
ルキルアミノフエニルエテリデン化合物であつ
て、その具体例としては第12表の化合物をあげる
ことができる。
【表】 さらにポリアミン化合物類にも相剰的な光重合
促進効果を示す化合物がある。ポリアミン化合物
の具体例としては、メチレンジアミン、エチレン
ジアミン、トリメチレンジアミン、テトラメチレ
ンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメ
チレンジアミン、デカメチレンジアミン、プロピ
レンジアミン、ブチレンジアミン、1・4−シク
ロヘキサンジアミン、フエニレンジアミン、(2
−アミノメチルブチル)アミン、トリエチレンテ
トラミン、ヘキサメチレンテトラミンをあげるこ
とができる。 前述のp−ジアルキルアミノ芳香族系化合物の
合成方法をここで説明する。例としてp−ジメチ
ルアミノスチリルプロピルケトンは、p−ジメチ
ルアミノベンズアルデヒドとプロピルエチルケト
ンとの縮合反応(パーキン(Perkin)反応な
ど)にり合成することができ、また、p−ジメチ
ルアミノカルコンは、p−ジメチルアミノベンズ
アルデヒドとフエニルメチルケトンとの縮合反応
(パーキン反応など)により合成することができ
る。具体的には、一般式()から()で表わ
される化合物は、「Justus Liebigs Annalen der
Chemie」誌第44巻、第228−265頁(1925年)に
記載のP.PfeifferとO.Angenの方法、「Ukrain
khim.Zhur.」誌第21巻第619〜624頁(1955年)
に記載のB.N.DashkevichとI.V.Smedankaの方法
および「Nauch.Zapjski.Uzhgrod.Univ.」誌第18
巻第15〜19頁(1957年)に記載のI.V.Smedanka
の方法等により合成することができる。 (C)光重合促進剤として、前述の一般式()で
表わされるp−ジアルキルアミノ芳香族系カルボ
ニル化合物を、(B)ナフトフラノンと併用した光重
合性組成物に画像露光を行つたとき、(C)光重合促
進剤の消色を伴うことが多い。その機構は不明で
あるが、一般式()から(XII)までで表わされ
るp−ジアルキルアミノ芳香族系化合物のうち
で、一般式()で表わされる化合物のみに特に
顕著な現象である。この特徴のために、一般式
()で表わされる化合物を含有する感光性組成
物の層に画像露光すれば、露光された部分の着色
度の低下によつて、ポジ像が得られる。 エチレン性不飽和化合物に対して、カルボニル
基含有化合物を光重合開始剤として使用するとき
に周期律表族元素の化合物を併用すると、その
光重合の感度が上昇することは、アンソニー・ジ
エイ・ビーンらの日本における特許出願公開公報
特開昭49−110781号(1974年)に記載されている
が、本発明における(B)ナフトフラノンと(C)アミン
系光重合促進剤の組合は、彼らの発明とは組合せ
の特異性および得られる効果の大きさにおいて全
く異質の発明である。すなわち、2−アリールナ
フト〔1・8−bc〕フラン−5−オン類は、
1・4−ナフトキノンのカルボニル基の1つを、
exo−メチレン結合で置き換えた部分構造を有す
るが、この構造を有するいわゆる1・4−ナフト
キノンメチド(naphthoquinone methide)類に
属する化合物群が光重合開始剤としてきわめて有
効であることは従来単に知られていなかつたのみ
でなく、全く本発明者らの予期せざる発見に基ず
くものである。 さらに、本発明において定義された(C)アミン系
光重合促進剤がカルボニル基含有化合物に対して
示す協力作用の大きさにおいても、本発明の組合
せは従来得られていた従来の効果に比較して特に
顕著なものである。 また、化合物(C)の好ましい具体例に見られる共
通の部分構造であるジアルキルアミノ基が、この
光重合開始剤2成分の組合せの協力作用を予測さ
せるには不充分である。このことは、例えば、化
合物−1に対して、下記の化合物を併用した場
合、いずれも協力作用を全く示されないか(aま
たはb)または逆に作用効果が減少する(c、d
またはe)するのである。 従つて、ナフトフラノンに対して相乗的促進効
果を有する化合物を併用できたことは、全く予期
せざるものである。 本発明の光重合性組成物中に含有される(B)光重
合開始剤2−アリールナフト〔1・8−bc〕フ
ラン−5−オンの量は、エチレン性化合物に対し
重量比で、約1:5から約1:1000までの広い範
囲をとることができる。通常約1:10から1:
100までの範囲で、最高の光重合(光硬化)感度
が得られ、この範囲での使用が好ましい。一般
に、ナフトフラノンの量を零から次第に増加して
ゆくと、組成物の感度は次第に増大し、多くの場
合極大値を経て再びゆるやかに減少する。(減少
するまでに飽和溶解度に達するものもある。)従
つて最高感度を得る必要のない場合は、上記の好
ましい範囲外でも操作は可能である。さらに、(B)
ナフトフラノンと(C)アミン系光重合促進剤の窒素
化合物を両者併用して使用する場合、促進効果が
得られる両成分のモル比は、約20:1から約1:
20迄の範囲であるが、最高の促進効果は約4:1
から約1:4までの範囲で得られ、この範囲での
使用が好ましい。ただしこの範囲外でも光重合促
進効果は得られる。 前述のエチレン性化合物と光重合開始剤とを含
有する本発明の光重合性組成物にはさらに結合剤
(バインダー)、熱重合防止剤、可塑性、着色剤、
表面平滑剤などの公知の常用の添加剤を必要に応
じて含有させることができる。 特に後述するごとき剥離現像を行なうための感
光材料、あるいは液体現象を行なうための感光材
料のごとく、支持体上にレジスト(肉厚の)画像
をつくる目的には皮膜形成高分子物質(バインダ
ー)を併用することが好ましい。そして重合可能
なエチレン性不飽和二重結合を有する化合物と相
溶性のある有機高分子重合体である限り、いかな
る重合体も使用可能であるが、望ましくは剥離現
像、水現像あるいは弱アルカリ水現像を可能とす
る様な高分子重合体を選択すべきである。有機高
分子重合体は単なる該組成物の皮膜形成剤として
だけでなく現像液として用いられる水、弱アルカ
リ水、あるいは有機溶剤に可溶性または膨潤性の
ものを選んで使用される。たとえば水可溶性有機
高分子重合体を用いると水現像が可能になる。こ
の様な有機高分子重合体としては側鎖にカルボキ
シル基を有する付加重合体、たとえばメタクリル
酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共
重合体、部分エステルマレイン酸共重合体、マレ
イン酸共重合体、クロトン酸共重合体等があり、
又同様に側鎖にカルボキシル基を有する酸性セル
ロース誘導体などがある。この他水酸基を有する
付加重合体に環状酸無水物を付加させたもの等が
有用である。この他に水溶性有機高分子重合体と
してポリビニルピロリドンやポリエチレンオキシ
ド等が有用である。また露光後の硬化部分の皮膜
の強度をあげるためにアルコール可溶性ナイロン
や2・2−ビス(4−ヒドロキシフエニル)プロ
パンとエピクロロヒドリンのポリエーテルなども
有用である。これらの有機高分子重合体は全組成
中に任意な量を混和させることができるが、通常
90重量%を越えることは形成される画像強度等の
点で好ましい結果を与えない。また剥離現像時に
用いられる線状有機高分子重合体は塩素化ポリエ
チレン、塩素化ポリプロピレンなどの塩素含有量
が約60重量%から約75重量%までの範囲の塩素化
ポリオレフイン、ポリメチルメタクリレート、ポ
リアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリル
酸アルキルエステル(アルキル基としては、メチ
ル基、エチル基、ブチル基など)、アクリル酸ア
ルキルエステル(アルキル基は同上)とアクリロ
ニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、スチレ
ン、ブタジエン等のモノマーの少くとも一種との
共重合物、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルとアクリ
ロニトリルの共重合物、ポリ塩化ビニリデン、塩
化ビニリデンとアクリロニトリルの共重合物、ポ
リ酢酸ビニル、酢酸ビニルと塩化ビニルの共重合
物、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリド
ン、ポリアクリロニトリル、アクリロニトリルと
スチレンの共重合物、アクリロニトリルとブタジ
エン及びスチレンとの共重合物、ポリビニルアル
キルエーテル(アルキル基としては、メチル基、
エチル基、イソプロピル基、ブチル基等)、ポリ
メチルピニルケトン、ポリエチルビニルケトン、
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチンン、
ポリスチレン、ポリ−α−メチルスチレン、ポリ
アミド(6−ナイロン、6・6−ナイロン等)、
ポリ−1・3−ブタジエン、ポリイソプレン、ポ
リウレタン、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
エチレンイソフタレート、塩化ゴム、ポリクロロ
プレン、塩化ゴム、エチルセルロース、アセチル
セルロース、ポリビニルブチラート、ポリビニル
ホルマール、スチレン−ブタジエンゴム、ポリ
(クロロスルホン化エチレン)などのホモポリマ
ー又は共重合物がある。共重合物の場合、その成
分モノマーの含有比は、広範囲の値をとりうる
が、一般には、少量モノマー成分がモル比で10%
以上50%以下の範囲のものが好適である。またこ
れら以外の熱可塑性の高分子物質であつても、前
記の条件を満たすものであれば、本発明に用いる
ことができる。 上記のポリマーのうち、本発明の光重合性組成
物とともに好適に用いられるものとしては、塩素
含有量が約60重量%から約75重量%までの範囲の
塩素化ポリエチレン、同じ範囲の塩素含有量の塩
素化ポリプロピレン、ポリメチルメタクリレー
ト、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−塩化ビニリデ
ン共重合物(塩化ビニルのモル含量率20〜80
%)、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合
物(アクリロニトリルのモル含量率10〜30%)、
塩化ビニル−アクリロニトリル共重合物(アクリ
ロニトリルの含量率10〜30%)、ポリスチレン、
ポリビニルブチラール、ポリビニルアセテート、
ポリビニルホルマール、エチルセルロース、アセ
チルセルロース、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合
物、ポリクロロプレン、ポリイソプレン、塩化ゴ
ム、ポリ(クロロスルホン化エチレン)などであ
る。 これらのポリマーは、単独で用いてもよいが、
塗布液の調合から、塗布、乾燥に至る製造工程中
に脱混合を起さない程度に良いポリマーを、適当
な比で二重以上混合して用いることができる。 熱重合防止剤の具体例としては、例えばパラメ
トキシフエノール、ヒドロキノン、アルキル若し
くはアリール置換ヒドロキノン、t−ブチルカテ
コール、ピロガロール、塩化第一銅、フエノチア
ジン、クロラニール、ナフチルアミン、β−ナフ
トール、2・6−ジ−t−ブチル−p−クレゾー
ル、ピリジン、ニトロベンゼン、ジニトロベンゼ
ン、p−トルイジン、メチレンブルー、有機酸銅
(例えば酢酸銅など)などがある。これらの熱重
合防止剤は前述のエチレン性化合物100重量部に
対して0.001重量部から5重量部の範囲で含有さ
せるのが好ましい。熱重合防止剤は本発明の組成
物の露光前の経時安定性を向上させる目的で含有
させることができるのである。 着色剤としては、例えば酸化チタン、カーボン
ブラツク、酸化鉄、フタロシアニン系顔料、アゾ
系顔料などの顔料や、メチレンブルー、クリスタ
ルバイオレツト、ローダミンB、フクシン、オー
ラミン、アゾ系染料、アントラキノン系染料など
の染料があるが、使用される着色剤が光重合開始
剤の吸収波長の光を吸収しないものが好ましい。
かかる着色剤は、バインダーとエチレン性化合物
の合計量100重量部に対して顔料の場合は0.1重量
部から30重量部、染料の場合は0.01重量部から10
重量部、好ましくは0.1重量部から3重量部の範
囲含有させるのが好ましい。上述の着色剤を含有
させる場合には、着色剤の補助物質としてステア
リン酸ジクロロメチルおよびその他の塩素化脂肪
酸などを用いることが好ましく、その量は、着色
剤1重量部に対して0.005重量部から0.5重量部ま
での範囲で用いることができる。しかし光重合性
組成物中に可塑剤が含有される場合には着色剤の
補助物質は不要である。可塑剤としては、ジメチ
ルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフ
タレート、ジイソブチルフタレート、ジオクチル
フタレート、オクチルカプリルフタレート、ジシ
クロヘキシルフタレート、ジトリデシルフタレー
ト、ブチルベンジルフタレート、ジイソデシルフ
タレート、ジアリルフタレートなどのフタル酸エ
ステル類、ジメメチルグリコールフタレート、エ
チルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリ
ヲエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグ
リコール、トリエチレングリコールジカプリル酸
エステルなどのグリコールエステル類、トリクレ
ジルホスフエート、トリフエニルフオスヘートな
どの燐酸エステル類、ジイソブチルアジペート、
ジオクチルアジペート、ジメチルセバケート、ジ
ブチルセバケート、ジオチルアゼレート、ジブチ
ルマレートなどの脂肪族二塩基酸エステル類、く
えん酸トリエチル、グリセリントリアセチルエス
テル、ラウリン酸ブチルなどがある。 表面平滑剤としてはラノリン、パラフインワツ
クスおよび天然ワツクス等がある。 必要に応じて本発明の組成物に含有させること
ができる上述の種々の変性剤は光重合性組成物の
全重量に対して3重量%まで、好ましくは1重量
%までの範囲で用いることができる。 本発明の光重合性組成物は溶剤に溶解して塗布
光重合性組成物溶液にして、これを支持体上に公
知の方法により塗布し、溶剤を除去して、光重合
性感光材料として用いるのが、最も一般的な本発
明の光重合性組成物の用い方である。 溶剤としては、例えばアセトン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサ
ノン、ジイソブチルケトンなどの如きケトン類、
例えば酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸−n−アミ
ル、蟻酸メチル、プロピオン酸エチル、フタル酸
ジメチル、安息香酸エチルなどの如きエステル
類、例えばトルエン、キシレン、ベンゼン、エチ
ルベンゼンなどの如き芳香族炭化水素、例えば四
塩化炭素、トリクロルエチレン、クロロホルム、
1・1・1−トリクロルエタン、モノクロルベン
ゼン、クロルナフタリンなどの如きハロゲン化炭
化水素、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエ
ーテル、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセ
テートなどの如きエーテル類、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシドなどがある。 本発明の光重合性組成物を適当な形態(例えば
前述の溶液)で適用するための支持体としては、
著しい寸法変化を越さない平面状の物質や他の形
状の物質がある。平面状の物質の例としては、ガ
ラス、酸化珪素、セラミツクス、紙、金属、例え
ば、アルミニウム、亜鉛、マグネシウム、銅、
鉄、クロム、ニツケル、銀、金、白金、パラジウ
ム、アルミニウムを主成分とする合金、亜鉛を主
成分とする合金、マグネシウムを主成分とする合
金、銅−亜鉛金、鉄−ニツケル−クロム合金、銅
を主成分とする合金、金属化合物、例えば酸化ア
ルミニウム、酸化錫(SnO2)、酸化インジウム
(In2O3)、ポリマー、例えば、再生セルロース、
セルロースニトラート、セルロースジアセター
ト、セルローストリアセタート、セルロースアセ
タートブチラート、セルロースアセタートプロピ
オナート、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタ
ラート、ポリエチレンイソフタラート、ビスフエ
ノールAのポリカルボナート、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ナイロン(6−ナイロン、6・6
−ナイロン、6・10−ナイロン等)、ポリ塩化ビ
ニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合物、塩化ビ
ニル−アクリロニトリロ共重合物、塩化ビニル−
塩化ビニリデン共重合物、ポリアクリロニトリ
ル、ポリアクリル酸メチル、ポリメタアクリル酸
メチルをあげることができる。また、上述の物質
の薄板を2つ以上堅固に積層したもの、例えば、
サーメツト、鉄−アルミニウム積層板、鉄−銅−
アルミニウム積層板、鉄−クロム−銅積層板、表
面にポリエチレンをコーテイングした紙、表面に
セルローストリアセタートをコーテイングした
紙、表面を陽極酸化して表面に酸化アルミニウム
層を形成させたアルミニウム板、公知の方法で表
面に酸化クロム層を形成させたクロム板、酸化錫
の層を表面に設けたガラス板、酸化インジウムの
層を表面に設けた酸化珪素の板を支持体として用
いることもできる。 これらの支持体は感光性画像形成材料の目的に
応じて透明なもの不透明なものの選択をする。透
明な場合にも無色透明なものだけでなく、J.
SMPTE誌、第67巻第296頁(1958年)などに記
載されているように染料や顔料を添加して着色透
明にしたものを用いることができる。不透明支持
体の場合にも紙や金属のごとく本来不透明なもの
の他に、透明な材料に染料や酸化チタン等の顔料
を加えたもの、特公昭47−19068号に記載されて
いる方法で表面処理したプラスチツクフイルムお
よびカーボンブラツク等を加えて完全に遮光性と
した紙、プラスチツクフイルム等を用いることも
できる。また表面に砂目立て、電解エツチング、
陽極酸化、化学エツチング等の処理により微細な
凹陥を設けた支持体、および表面をコロナ放電、
紫外線照射、火焔処理等の予備処理した支持体を
用いることもできる。さらにまたガラス繊維、炭
素繊維、ボロン繊維、種々の金属繊維、金属ウイ
スカー等の補強剤を混入して強度を増大させたプ
ラスチツク支持体を用いることもできる。 支持体はその表面に必要に応じて結合を容易に
する為に必要な他の塗布層或いはハレーシヨン防
止層、紫外線吸収層、可視光線吸収層を設けても
良い。 又、本発明の組成物は酸素による光重合速度
(感度)の低下を防止する意味から、米国特許
3060026号明細書中に記載されている如き真空焼
枠を用いて画像露光を行なうか、除去することの
できる透明カバーを設けるか、或いは特公昭40−
17828号公報に記載されているように感光層の上
に酸素の透過性の小さい被覆層を設けることがで
きる。 本発明の光重合性組成物が光重合し硬化・乾燥
する速度を決定する要因には、支持体、とくにそ
の表面の性質、組成物中の特定成分、光重合開始
剤の全光重合性組成物中の含存量、光重合性組成
物の層の厚さ、光源の性質(照射スペクトルの特
性)、強度、酸素の有無ならびに周囲の気温等が
含まれる。光の照射は、各種方法の中の任意の一
つあるいはそれらを組合わせて行なつてもよい。
例えば組成物は、それが有効な露光量を与える限
り、どんな光源と型のものから得られる活性光線
に曝露されてもよい。本発明の2−アリールナフ
ト〔1・8−bc〕フラン−5−オン類の長波長
側の吸収極大は380〜430nm、にあり(分子吸光
係数約104・mol-1・em-1)、その吸収の長波長
端は460〜500nm迄延びている。またこのナフト
フランと併用使用して、著しい光感度上昇が達せ
られる窒素化合物のうち、p−ジアルキルアミノ
芳香族系カルボニル化合物もその長波長側の吸収
極大は380〜420nmにあり、また吸収も500nm附
近に迄達している。本発明の光重合性組成物を硬
化させるのに有効な波長域は波長が180nmの紫
外線から約600nmの可視光に至り、これらの範
囲に分光エネルギー分布を有する光源はすべて使
用して有効である。しかし本発明の組成物は真空
紫外線、X線、γ線の範囲の短波長の電磁波およ
び電子線、中性子線およびα線等の粒子線にも感
度を有しているので、それらも画像露光に利用す
ることができる。紫外線および可視光線領域の適
当な光源の例としては、カーボンアークランプ、
水銀蒸気ランプ、キセノンランプ、螢光ランプ、
アルゴングロー放電管、写真用フラツドランプお
よびヴアン・デ・グラーフ加速器などがある。 光照射時間は、有効な光量を与えるに充分な程
度でなくてはならない。光照射は任意の有利な温
度で行なつてもよいが、実用上の理由から室温す
なわち10℃から40℃までの範囲で行なうのが最適
である。硬化された本発明の組成物は乾燥してお
り弾力があり、耐摩耗性及び耐化学薬品性を示
し、またすぐれたインク受容性、しみ解消性、刷
り出し特性等を有し、特にあらかじめ感光性を付
与した凸版および平版印刷用の刷版材料およびフ
オトレジスト等の用途に適性を持つている。本組
成物はまた感光性の印刷インク;金属箔、フイル
ム、紙類、織物類等の光硬化性接着剤;金属、プ
ラスチツクス、紙、木材、金属箔、織物、ガラ
ス、厚紙、製函用厚紙等に用いる光硬化性の塗料
ならびに道路、駐車場および空港用の光硬化性標
織その他に用いることができることはいうまでも
ない。 本発明の組成物を例えば印刷インクのビヒクル
として使用する時は、既知量の染料で着色すると
同時に各種公知の有機顔料、例えば、モリブデー
トオレンジ、チタン白、クロムイエロー、フタロ
シアニンブルーおよびカーボンブラツク等で着色
することができる。またビヒクルの使用可能量
は、組成物金重量の約20%から99.9%までの範
囲、着色剤の重量は約0.1%から80%までの範囲
で用いることができる。印刷材料には、紙、粘土
被覆紙および製函用厚紙も含まれる。 本発明の組成物はさらに天然繊維および合成繊
維の織物類の処理に適しており、例えば布地印刷
インク用ビヒクル、あるいは防水性、耐油性、耐
汚れ性、耐折り目性等を与えるための織物類の特
殊処理に用いるビヒクルの中に使用することがで
きる。 本発明の光重合(光硬化)性組成物は金属、ガ
ラスおよびプラスチツクスの表面にローラー方式
およびスプレー方式で塗装または印刷するための
塗料として用いることができる。またガラス、ポ
リエステルフイルムおよびビニルポリマーフイル
ム、重合体被覆セロフアン、例えば使い捨てのコ
ツプやびんに用いた処理または未処理ポリエチレ
ン、処理及び未処理ポリプロピレン等には、着色
塗装方式を使用してもよい。塗装してもよいよう
な金属の例にも、サイジングを施したまたは施さ
ないブリキも含まれる。 本発明の光硬化可能な組成物から調製される光
重合性の感光性画像形成材料は、本発明の組成物
からなる層を感光性要素としてシート状またはプ
レート状の支持体の表面上に有する材料である。 本発明の組成物を用いた感光性画像形成材料の
ひとつの形態として、支持体の表面に本発明の組
成物の層を設け、さらにその上に透明なプラスチ
ツクフイルムを設けた構成のものがある。この構
成の材料においては、後述する画像露光の直前に
透明プラスチツクスフイルムを剥離して用いるこ
とができるし、また透明プラスチツクフイルムを
存在させたまま透明プラスチツクフイルムを通し
て、あるいは支持体が透明な場合には支持体を通
して、画像露光し、しかる後に透明プラスチツク
スフイルムを剥離することにより露光されて硬化
した部分の層を支持体の上に残留させ、露光され
ずに硬化されなかつた部分の層を透明プラスチツ
クフイルムの上に残留させる(あるいは、露光さ
れて硬化した部分の層を透明プラスチツクフイル
ムの上に残留させ、露光されずに硬化されなかつ
た部分の層を支持体上に残留させる。)、いわゆる
剥離現像型の材料として特に有利に用いることが
できる。 本発明の組成物を用いた感光性画像形成材料
は、光照射された部分における付加重合反応が所
望の厚まに達して完了するまで、その光重合可能
な組成物の層の特定の部分を光に曝露することに
より画像露光が完了する。次に組成物層の未露光
部分を、光硬化部分を溶解せずにエチレン性化合
物(モノマー、オリゴマーまたはプレポリマー)
が未反応の未硬化部分のみを溶解するような溶媒
を使用すること、または前述の剥離現像により除
去する。感光性画像複製材料中に用いる場合に
は、光硬化可能な組成物の溶媒除去(乾燥)後の
厚さは、0.5μmから150μmまで、好ましくは1
μmから100μmまでの範囲である。たわみ性は
層の厚さが厚くなればなるほど減少し、耐摩耗性
は、層の厚さが薄ければ薄いほど減少する。 印刷インク、塗料組成物および接着剤として使
用する場合は、本発明の組成物は揮発性溶剤なし
で使用することができる。その場合には公知の含
油樹脂性および溶剤型のインク又は塗料にない無
溶剤の長所を持つている。 本発明のナフトフラノン類を被酸化性のコイコ
色素と組合せて光照射すると、着色画像を得るこ
とができる。ここで「ロイコ色素」は例えば酸化
剤であることが知られているトリアリールイミダ
ゾリルラジカルなどによつて酸化されて、素色形
に変化しうる被酸化性の色素の形である。 このようなロイコ色素は、例えば、米国特許第
3445234号、第3423427号、第3449379号、第
3395018号および第3390997号各明細書に記載され
ているような、アミノトリアリールメタン類、ア
ミノキサンテン類、アミノチオキサンテン類、ア
ミノ−9・10−ジヒドロアクリジン類、アミノフ
エノオキサジン類、アミノフエノチアジン類、ア
ミノジヒドロフエナジン類、アミノジフエニルメ
タン類、コイコインダミン類、アミノヒドロ桂皮
酸類、ヒドラジン類、ロイコインジゴイド染料、
アミノ−2・3−ジヒドロアントラキノン類など
がある。 アミノトリアリールメタン類の代表的具体例を
挙げると、トリス(p−ジエチルアミノフエニ
ル)メタン、トリス(4−ジエチルアミノ−o−
トルイル)メタン、ビス(4−ジエチルアミノ−
o−トルイル)(p−ベンジルチオフエニル)メ
タン、ビス(4−ジエチルアミノ−o−トルイ
ル)(2・4−ジメトキシフエニル)メタン、お
よびビス(4−ジエチルアミノ−o−トルイル)
(p−クロロフエニル)メタンがある。 本発明によつて達成された効果を列挙する。ま
ず本発明の2−アリールナフト〔1・8−bc〕
フラン−5−オン類は合成が容易である。すなわ
ち、置換または無置換アリールカルボン酸と1・
5−ジヒドロキシナフタレンを、塩素亜鉛などの
触媒存在下に加熱反応させると多段階と思われる
反応が1つの反応釜中で進行し目的物を生成す
る。さらに後の実施例に示すごとく目的物は簡便
に単離精製することができる。従つてこのナフト
フラノンは従来、数段階の反応を順々に進行せし
めて合成される重合開始剤に比べてきわめて安価
である。 本発明のナフトフラノン類はその長波側の吸収
極大は380〜430nmにあり、画像露光に頻用され
るキセノン光源や、超高圧水銀灯の分光エネルギ
ー分布とよく一致している。本発明の光重合開始
剤を含む光重合性組成物がこれらの光源に対して
従来知られている光重合開始剤を含む光重合性組
成物に比べて高感度であることは上の事実と関連
すると思われる。また本発明のナフトフラノン類
を利用した印刷版はきわめて解像性が高く、網点
の再現性も良好である。 本発明ナフトフラノン類を使用した光重合性組
成物はきわめて熱安定性にすぐれている。これ
は、ナフトフラノン類が基底状態で熱重合禁止剤
としての作用を持つことによると考えられるが、
本発明の光重合性組成物は、いわゆるシエルフ・
ライフ(未使用の状態で光重合性組成物本来の性
質を保持する期間)の長い製品とすることができ
る。 さらに、本発明のナフトフラノン類はアミン系
光重合促進剤の併用効果がきわめて顕著であり、
従来得られなかつたような感度が得られる。これ
は、従来公知のカルボニル化合物とアミン系光重
合促進剤の組み合せで得られた効果をはるかにし
のぐものである。 本発明のナフトフラノンの作用機構については
詳細は不明であるが、既知文献から類推すると、
()式 に示すごとく、光励起によつてナフトフラノンの
カルボニル基の水素引き抜きとベンゼノイド構造
への異性化が起つてできる。2−位に不対電子を
有するラジカルが、ラジカル反応の開始剤になつ
ているものと考えられる。後の実施例に見るよう
にナフトフラノン類は、ラジカル写真の分野で頻
用される、被酸化性のロイコ色素に対する光酸化
剤としても有利である。従つてエチレン性化合物
にこれらロイコ色素を共存させると、画像露光部
分が硬化すると同時に着色したようないわゆるプ
リントアウト適性を有する印刷版の製造などが可
能である。 以下実施例1〜19においてナフトフラノン類の
製造法を詳細に説明した後、実施例20〜184にお
いてナフトフラノン類を含有する光重合性組成物
について具体的に説明する。 実施例 1 化合物−6の合成 185℃で激しく撹拌した3・5−ジメチル安息
香酸(25.0g)と1・5−ジヒドロキシナフタレ
ン(17.7g)との熔融混合物に、塩化亜鉛粉末
(18.1g)を加え、45分間反応させた。反応混合
物は、反応終了後200mlのエタノールに熱時溶解
した。室温で晶出した粗結晶は、エタノール中で
活性炭と蒸沸した後、再結晶すると2−(3・5
−ジメチルフエニル)ナフト〔1・8−bc〕−フ
ラン−5−オン(−6)黄色結晶4.5gが得ら
れた(収率14.8%)、融点223.0℃。 元素分析値:C19H14O2 計算値 C:83.20% H:5.15% 実測値 C:82.95% H:5.12% 赤外線吸収スペクトル(以下IRと略記する、
cm-1単位)1635(υC=O)、核磁気共鳴スペク
トル(以下NMRと略記する、TMSを内部標準と
したときのCDCl3でのδ−値、ppm単位)2.39
(s、5.4H)、6.59(d、0.95H、J=10Hz)、8.1
−7.0(m、7.0H) 実施例 2 化合物−9の合成 実施例1と同様にしてp−アニス酸25gと1・
5−ジヒドロキシナフタレン17.5gおよび塩化亜
鉛18.0gとを190℃で40分間反応させた。反応混
合物のエタノール溶液より晶出した粗結晶を活性
炭で処理した後熱エタノールより再結晶して、2
−(4−メトキシフエニル)ナフト〔1・8−
bc〕フラン−5−オン(−9)橙色板状晶7.3
g(収率30.7%)を得た。融点200.5℃。 元素分析値:C18H12O13 計算値 C:78.25% H:4.38% 実測値 C:77.88% H:4.56% IR、1625(υC=O);NMR、δ(ジメチル
スルホキシド−d6中)3.85(s、2.8H)、8.1−7.0
(m、9.0H) 実施例 3 化合物−5の合成 160℃に加熱熔融したp−エチル安息香酸25.0
g(0.167モル)を撹拌しつつ、粉末の塩化亜鉛
18.1g(0.133モル)を加えた。5分後に1・5
−ジヒドロキシナフタレン17.8g(0.111モル)
を5分間にわたつて加え40分間加熱した。油浴を
はずして反応混合物が固化する前に100mlのエタ
ノールを加え反応混合物を溶解した。室温迄冷却
した後、晶出した粗結晶をろ別した。エタノール
より再結晶すると2−(4−エチルフエニル)ナ
フト〔1・8−bc〕フラン−5−オン(−
5)黄橙色結晶5.0gが得られた(収率16.4%)、
融点185.5℃。 元素分析値:C19H14O2 計算値 C:83.20% H:5.15% 実測値 C:80.91% H:5.12% なお本試料は、再結晶や減圧昇華をくり返して
も、元素分析の計算値と実測値が一致しなかつた
が、質量分析(以下MSと略記する)の親イオン
のm/e−値および同位体存在比は次の通りであ
り、そのフラグメンテーシヨンの形式も、他のア
リールナフトフラノンに見られる脱COが顕著で
あつた。 計算値m/e=274 P+1=20.82% P+2=2.63% 実測値m/e=274 P+1=20.50% P+2=2.96% さらに、IRスペクトルで、カルボニル基に基
ずく1630cm-1の特性吸収があり、またNMRスペ
クトル(ジメチルスルホキシド中)においてもδ
=1.28にエチル基に帰因するβ−プトロンの三本
線をはじめとして、目的物に予想されるのと同一
のスペクトルが記録されたことから、目的とする
化合物が得られたと判定した。 実施例 4 化合物−7の合成 o−アニス酸42.8gと1・5−ジヒドロキシナ
フタレン30gとの熔融混合物を150℃で撹拌した
中へ、塩化亜鉛30.6gを加え、50分間加熱した。
反応混合物は1.5の飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液にあけ、アジターで1時間撹拌した。残渣は
次いで5%の水酸化ナトリウム水溶液(900ml)
で抽出した。乾燥した残渣をベンゼンで抽出(ソ
ツクスレー抽出器)し、得られた粗生成物をエタ
ノールより再結晶して、2−(2−メトキシフエ
ニル)ナフト〔1・8−bc〕フラン−5−オン
(−7)の黄色結晶4.8g(9.3%)を得た。融
点144.5℃。 元素分析:C18H12O3 計算値 C:78.25% H:4.38% 実測値 C:78.45% H:4.39% NMRスペクトルυ(CDCl3)8.1−6.5(m、
8.5H)、4.0(s、3.0H);IRスペクトル1640
(υCO) 実施例 5 化合物−10の合成 193℃に加熱した反応フラスコ中でベラトルム
酸50.0gを融解させ、撹拌しながら29.8gの塩化
亜鉛を加える。5分後に29.3gの1・5−ジヒド
ロキシナフタレンを加え45分間反応させた。反応
混合物を1のベンゼンに溶解し、6gの活性炭
(ノーリツト・エキストラ)と沸騰させたのち食
塩を飽和させた1%−水酸化ナトリウム水溶液
500mlで2回抽出した。有機層を濃縮し、残渣を
エタノールから再結晶して、2−(3・4−ジメ
トキシフエニル)ナフト〔1・8−bc〕フラン
−5−オン(−10)の黄褐色針状晶8.0gを得
た。(14.4%)。 元素分析値:C19H14O4 計算値 C:74.50% H:4.61% 実測値 C:74.45% H:4.70% IRスペクトル1638(υCO);NMRスペクトル
(CDCl3)8.0−7.1(m、6.8H)、6.5(d、1.0H、
J=10Hz)、6.9(d、1.0H、J=10Hz)、3.92と
3.95(2つのs、6.0H) 実施例 6〜15 実施例5と同様にして、置換安息香酸と1・5
−ジヒドロキシナフタレンを塩化亜鉛存在下で反
応させ、次いで製品は実施例5に記載された方法
で単離した後精製した。得られた2−アリールナ
フト〔1・8−bc〕フラン−5−オン類の分析
値を第13表に示した。
【表】 実施例 16、17、18および19 実施例5と同様にして、p−イソプロピル安息
香酸、p−n−ブチル安息香酸、p−tert−ブチ
ル安息香酸あるいはo−エトキシ安息香酸と1・
5−ナフタレンジオールとを塩化亜鉛存在下で縮
合させそれぞれ化合物−17、−18、−19お
よび−20を得た。これらの化合物の性質を次に
示す。 (実施例16) 化合物−17、2−(4−イソプロ
ピルフエニル)ナフト〔1・8−bc〕フラン
−5−オン 黄色結晶;融点99℃;IRスペクトル1635
(υCO);NMRスペクトル(CDCl3)7.9−7.2
(m、8.1H)、6.45(d、1.0H)、2.95(m、
1.0H)、1.30(d、5.7H) (実施例17) 化合物−18、2−(4−n−ブチ
ルフエニル)ナフト〔1・8−bc〕フラン−
5−オン 黄色結晶;融点74.0℃;IRスペクトル1635
(υCO);NMRスペクトル(CDCl3)8.1−7.2
(m、8.0H)、6.5(d、0.9H)、2.65(t、
1.9H)1.9−0.8(m、7.4H) (実施例18) 化合物−19、2−(4−tert−ブ
チルフエニル)ナフト〔1・8−bc〕フラン
−5−オン 黄色結晶;融点127.5℃;IRスペクトル1640
(υCO);NMRスペクトル(CDCl3)8.2−7.2
(m、8.5H)、6.6(d、1.0H)1.38(s、
9.0H) (実施例19) 化合物−20、2−(2−エトキシ
フエニル)ナフト〔1・8−bc〕フラン−5
−オン 黄色結晶;融点122.0℃;IRスペクトル1635
(υCO);NMRスペクトル(CDCl3)8.2−6.9
(m、8.3H)、6.6(d、1.0H)、4.2(q、
2.0H)、1.5(t、3.0H) 実施例 20〜64(比較例を含む) 本実施例では、(B)ナフトフラノンの種々の2−
アリール置換体が単独で光重合開始剤となるこ
と、および(C)特定のアミン系光重合促進剤との併
用で得られる相乗的な促進効果への影響力を示
す。以下、実施例番号の次に「C」を付した場合
には、比較例であることを示す。なお、各実施例
および比較例で使用した試験方法は次の通りであ
る。 カーボランダムにて砂目立てをした平版印刷版
用の厚さ0.24mmのアルミニウム板上に、下記の感
光性組成物の溶液を、回転塗布機で塗布した後、
80℃で10分間乾燥した。感光層の乾燥塗布厚が約
8μmの感光材料が得られた。 感光材料の感光層に密着させて、グレイスケー
ル(富士写真フイルム社製Fuji PS step−
guide、隣接の光学濃度差が0.15であり、合計15
段からなる光学楔であり、最初で最小の光学濃度
の段0では光学濃度が0.06であり、支持体の固有
吸収に基く。)を置き、超高圧水銀灯(ORC Jet
Printer、2kW)から55cmの距離で15秒露光した
後、1・1・1−トリクロルエタンで60秒間現像
した。この操作により感光層の光硬化しない部分
は溶出され、光硬化した部分のみがアルミニウム
板上に残りこれは容易に平版印刷用ラツカーで現
像できた。光硬化させるために必要な最少の露光
量は、グレイスケールの段数として表示すること
ができ、これを試料とした感光材料の感度として
用いることができる。(なお、表中、−は像なしを
意味する)。段数が高いほど、感度が高いことを
示し、また使用したグレイスケールでは、段数が
1段上ると、その感光性が√2だけ高いことを意
味する。第14表の感度の欄の数値は前述のように
して測定された感度を表わす。感光性組成物は次
のように調製した: 塩素化ポリエチレンの100gとペンタエリトリ
トール・トリメタクリレートの130gとをメチル
エチルケトンの300gに溶解した。この重合性溶
液10gに対して、式()に相当するナフトフラ
ノン0.16ミリモルおよびアミン系光重合促進剤
0.16ミリモルとからなる混合物を加えた。 なお、上記の組成で化合物−1を使用したと
きは、エチレン性化合物に対して化合物−1は
重量比で1.6%に相当する。また塩素化ポリエチ
レンは、山陽国策パルプ(株)製の商品名
Superchlon、型番412999であつて、塩素化度
(塩素含有量)70重量%、ベンゼン中30℃におけ
る極限粘度数が0.140である市販品を使用した。
またペンタエリトリトール・トリメタクリレート
は、ペンタエリトリトール、ペンタエリトリトー
ルジメタクリレート、ペンタエリトリトール・ト
リアクリレート、およびペンタエリトリトール・
テトラアクリレートをそれぞれ3、4、60および
33重量部含む混合物である。
【表】
【表】 第14表のデータからナフトフラノン類が単独で
光重合開始剤となること、またトリエタノールア
ミン(−1)やミヒラーケトン(−5)との
同時使用によつて、対応量の両者が、それぞれ単
独で使用された組成物と比較して、相乗的な光重
合促進効果を有することがわかる。 実施例 65〜158(比較例を含む) 本実施例では、特定の(B)ナフトフラノンに対し
て(C)アミン系促進剤ないし補助開始剤を変化させ
たときの影響を示す。試験方法は実施例20と同じ
である。
【表】
【表】
【表】 第15表から、ナフトフラノンの代表例として選
んだ化合物−1(新規な光重合開始剤)を種々
のアミン系促進剤と共存させた感光性組成物が、
いずれも、対応量の化合物−1単独(実施例
20)または、対応量のアミン系光重合促進剤を単
独使用した光重合組成物(比較例)よりも早い硬
化感度を有することがわかる。なお、比較実験と
してのアミン系光重合促進剤の単独使用感度は、
それぞれの一般式を有する化合物について得られ
た範囲を示した。(C)の一般式が同一の化合物間で
は、ほぼ近似した単独感度を示している。 実施例 159〜167 本実施例は2成分開始剤系の混合比をその相乗
効果を失うことなく変化しうる限界を示す。試験
は実施例16と同一の重合性組成物10gに対して、
化合物−1および化合物−2の混合比を変化
させて加え、光重合性組成物とした。
【表】 実施例176および比較例168〜175 本実施例および比較例では、異つたカルボニル
化合物に対して、アミン系光重合促進剤の代表例
として選んだトリエタノールアミンの相乗効果を
比較した。試験方法は実施例20と同一である。結
果は、併用したときおよび併用しないときのグレ
イスケール段数の差を併用効果として示した。
【表】 本実施例および比較例の結果から、新規な光重
合開始剤である化合物−1が(実施例176)、従
来公知のカルボニル基含有光重合開始剤に比較し
て(比較例168〜175)著しいアミン系化合物との
相乗的光重合促進効果を示すことが明らかであ
る。 実施例 177〜183(比較例を含む) 平版用の3S材アルミニウム(アルミニウム96.9
〜97.4重量%、マンガン1.0〜1.5重量%、他の微
量成分の合計約1.6重量%からなる合金)板を、
圧延時に表面に付着した油を除去し情浄化するた
めに70℃の5%第三燐酸ナトリウムの水溶液中に
5分間浸漬処理した。この処理により、若干のエ
ツチングがおこり、保水性が増加した。これを水
洗後70%硝酸溶液中に浸漬し、充分水洗した後、
カーボランダムにて砂目立てをして、水洗した。 このアルミニウム板を50℃の20%硫酸溶液で電
流密度3A/dm2の条件にて2分間陽極酸化して水
洗・乾燥後、1%の燐酸水溶液を70℃に加温した
浴中に2分間浸漬し、水洗後、ポリビニルピロリ
ドンK−30(東京化成工業(株)製)の1.0%水溶液
をwhirler回転塗布機にて塗布、乾燥した。 一方、下記組成物を、メチルエチルケトン100
mlおよびジメチルホルムアミドの20mlからなる混
合液に溶解して感光性組成物の溶液を作成した。 塩素化ポリエチレン(山陽国策パルプ(株)製、 (Superchlon)CPE−907LTA)* 10g ペンタエリトリトール・トリ・メタクリレート
10g 光重合開始剤(および光重合促進剤)
第17表中のg数 ヒドロキノン 0.1g 銅フタロシニアニン顔料 0.2g (*スーパークロン CPE−907LTAは40重量%
トルエン溶液の25℃における粘度が約90cpsであ
り、塩素含有率が66重量%以上の化合物であ
る。) この溶液を先に表面処理および親水性高分子化
合物の下塗りを行つたアルミニウム板に回転塗布
機で塗布し、120℃で2分間乾燥した。乾燥後の
感光層の厚さは4μmであつた。次いで、この感
光層上に厚さ16μmのポリエチレンテレフタレー
トフイルムを室温で加圧積層した。
【表】 3つの実施例および4つの比較例の感光性平版
印刷版材料につき、印刷すべき画像(ネガ画像)
および段差が0.15のステツプウエツジをポリエチ
レンテレフタレートフイルムの上に密着させ、画
像およびポリエチレンテレフタレートフイルムを
通して富士写真フイルム株式会社製PSライトS
タイプ(メタルハライドランプ、2kW)を用
い、距離1mで20秒間画像露光を行つた。直ちに
ポリエチレンテレフタレートフイルムを剥がす
と、実施例179〜181および比較例177Cおよび
178Cではアルミニウム板上に光硬化されたポジ
画像が形成され、未硬化部分(未露光部分)は、
ポリエチレンテレフタレートフイルムと共に除去
された。しかしながら比較例182Cおよび183Cで
は光硬化したポジ画像は全くアルミニウム板上に
残らなかつた。ポジ画像の硬化を完結させるた
め、得られた印刷版を4kWの水銀灯から10cmの
距離におき30mm/secの速度で搬送した。アルミニ
ウム板上に残つたステツプウエツジの最小露光量
に相当する段数を第18表中に感度として示した。 ついで実施例179〜181および比較例177Cおよ
び平版印刷版をアラビアゴム水溶液(アラビアゴ
ム5gを水100mlに溶解したもの)でガム引き処
理した後、印刷機(ダビツドソン・デユアリス
700)に装着して、同一条件下でオフセツト印刷
した結果は次の通りであつた。
【表】
【表】 以上によつて、本発明の化合物−1を単独に
光重合開始剤として使用した感光性平版印刷版材
料が、公知の常用の光重合開始剤を使用した感光
性平版印刷版材料よりも約2倍高い感度を示すこ
と、およびアミン系の光重合促進剤(ないし補助
光重合開始剤)であるミヒラーケトンあるいはト
リエタノールアミンの併用によつていずれも約16
倍感度上昇が得られること、また、経時安定性お
よび印刷適性のすぐれた実用性の高い性能を有す
ることが認められた。 実施例 184 下記の成分をアセトン100mlおよびトリエチレ
ングリコール1mlからなる混合物に溶解して感光
性組成物の溶液を作成した。 酢酸酪酸セルロース 10.0g 化合物−1 1.0g トリス(4−ジエチルアミノ フエニル)メタン 0.4g p−トルエンスルホン酸 0.4g この感光性組成物を厚さ100μmのポリエチレ
ンテレフタレートフイルム上に乾燥後の感光性組
成物の層の厚さが10μmになるように塗布し、乾
燥して感光材料を調製した。この感光材料に
1kWのタングステン灯光源のスライドプレジエ
クター(レンズf=130mm f/3.5)の映写レン
ズ先端から50cmの距離で断熱のための熱さ20mmの
水層フイルターを通し、ポジの原稿画像を通して
10秒画像露光したところ、原稿に対応したポジの
着色画像が得られた。 比較のために、化合物−1を使用しないほか
は全く同様の組成物を用いて調製した材料に同じ
条件で画像露光したところ、着色画像は得られな
かつた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 下記の一般式()で表わされる2−アリー
    ルナフト〔1・8−bc〕フラン−5−オン。 (式中、Gはベンゼン環またはナフタレン環から
    導かれた3価の残基を表わし、R1およびR2は炭
    素原子数1から5までのアルキル基、炭素原子数
    1から3までのアルコキシル基、ハロゲン原子ま
    たは水素原子を表わす。R1とR2とは互いに同じ
    でも異つていてもよいが、Gがベンゼン環である
    ばあいには、R1とR2とがともに水素原子である
    組合せを除く。) 2 Gがベンゼン環から導かれた3価の残基を表
    わすときには、R1およびR2はメチル基、エチル
    基、n−プロピル基、n−ブチル基、イソプロピ
    ル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブ
    チル基、メトキシ基、エトキシ基、塩素原子、臭
    素原子または水素原子を表わし、互いに同じでも
    異つていてもよいが、ともに水素原子である組合
    せを除き、Gがナフタレン環から導かれた3価の
    残基のときは、1−ナフチル基あるいは2−ナフ
    チル基を表わす特許請求の範囲1に記載の2−ア
    リールナフト〔1・8−bc〕フラン−5−オ
    ン。 3 (A)エチレン性不飽和二重結合を有する付加重
    合可能な化合物(以下、エチレン性化合物とい
    う)の少くとも1種および(B)光重合開始剤の少く
    とも1種を必須の構成成分として含有する光重合
    性組成物において、光重合開始剤が、下記一般式
    ()で示される、2−アリールナフト〔1・8
    −bc〕フラン−5−オンであることを特徴とす
    る光重合性組成物。 (式中、Gはベンゼン環またはナフタレン環より
    導かれた3価の残基を表わし、R3およびR4は炭
    素原子数1から5までのアルキル基、炭素原子数
    1から3までのアルコキシル基、ハロゲン原子ま
    たは水素を表わす。R3とR4とは互いに同じでも
    異つてもよいが、Gがベンゼン環である場合に
    は、R1とR2とがともに水素原子である組合せを
    除く。) 4 さらに(C)光重合促進剤として、下記一般式
    ()から(XII)のいずれかで表わされる窒素原
    子含有化合物を含有することを特徴とする特許請
    求の範囲3に記載の光重合性組成物。 (式中、R5、R6およびR7は、アルキル基、アリー
    ル基、アラルキル基または置置換アルキル基を表
    わし、R5、R6、およびR7は互いに同じでも異つ
    ていてもよい。) (式()〜(XII)において、R11およびR12はそ
    れぞれアルキル基または、置換アルキル基を表わ
    し、かつ互いに同じでも異つていてもよい。R13
    はアルキル基、アリール基、アラルキル基、置換
    アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、
    又はN、S、またはO原子を含む5員または6員
    の複素芳香環の1価の残基を表わす。R14はアル
    キル基を表わす。mは1または2を、nは3から
    8までの正の整数をそれぞれ表わす。Xはハメツ
    ト(Hammett)の置換基定数σ(シグマ)値が
    −0.9から+0.7までの範囲にある置換基を表わ
    す。)
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