KR970016785A - 위상반전 마스크 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 위상반전 마스크 제조 방법에 관한 것으로 특히 고립 패턴들이 근접 거리에 배치되어 적당하도록 한 보조 패턴의 배치 방법에 관한 것이다.
본 발명은 투광성기판 ; 구 투광성 기판상에 위상천이부를 형성하는 공정 ; 그 위상천이부를 선택적으로 제거하여, 일정 간격의 투과성기판 노출부를 적어도 둘 이상 형성하는 공정 ; 그리고 그 투광성 기판 노출부들 사이의 위상천이부상에 적어도 하나 이상의 차광 패턴을 형성함을 특징으로 하는 위상반전 마스크 제조 방법이다.
또한 본 발명은 투광성 기판 ; 그 투광성 기판 상에 위상천이부를 형성하는 공정 ; 그리고 그 위상천이부를 선택적으로 제거하여 적어도 둘 이상의 투광성기판 노출부들과 그 투광성기판 노출부들 사이에 적어도 하나 이상의 투광 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 위상반전 마스크 제조 방법이다.

Description

위상반전 마스크 제조 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 5도는 제 1 본 발명의 기술 구성도들,
제 6도는 제 1 본 발명의 광강도 분포도.

Claims (15)

  1. 투광성 기판 ; 그 투광성 기판 상에 위상천이부를 형성하는 공정 ; 그 위상천이부를 선택적으로 투광성기판 노출부를 적어도 둘 이상 형성하는 공정 ; 그리고 그 투광성 기판 노출부들 사이의 위상천이부상에 적어도 하나 이상의 차광패턴을 형성함을 특징으로 하는 위상반전 마스크 제조 방법.
  2. 제 1항에 있어서, 투광성 기판은 유리로 구성됨을 특징으로 하는 위상반전 마스크 제조 방법.
  3. 제 1항에 있어서, 위상천이부는 6~30%의 투과율을 가짐을 특징으로 하는 위상반전 마스크 제조 방법.
  4. 제 3항에 있어서, 위상천이층의 두께 허용 오차를 고려하여 6~15%의 투과율 범위를 가짐을 특징으로 하는 위상반전 마스크 제조 방법.
  5. 제 1항에 있어서, 투광성 기판 노출부의 중심과 차광패턴 중심간의 거리는 0.50~1.10이며(λ : 빛의 파장, NA : 개구수(mmenical aperture), 웨이퍼 상에서 패터닝 되는 범위가 됨을 특징으로 하는 위상반전 마스크 제조 방법.
  6. 제 1항에 있어서, 차광패턴은 크롬 등 빛을 차단하는 물질로 형성되는 것을 특징으로 하는 위상반전 마스크 제조방법.
  7. 제 1항에 있어서, 그 투광성 기판 노출부들 사이의 가로 및 세로 중심 간격이 같은 경우 차광 패턴은 적어도 3개 이상의 각 투광성 기판 노출부 중심으로부터 모두 같은 거리인 곳에 중심이 위치하며, 그 모양은 원형, 사각형, (+)자형, 또는 다수의 도트(dot) 형태를 유지함을 특징으로 하는 위상반전 마스크 제조방법.
  8. 제 7항에 있어서, 그 투광성 기판 노출부 중심에서 가장 근접한 다른 투광성 기판 노출부 중심의 1/2되는 지점에도 차광 패턴이 원형, 사각형, (+)자형, 또는 다수의 도트(dot) 형태를 유지함을 특징으로 하는 위상반전 마스크 제조방법.
  9. 제 1항에 있어서, 차광 패턴의 중심은 투광성 기판 노출부들과의 간격에 대해 1/2 되는 곳에 위치하여 1개의 광강도 피크(peak)를 2개로 나누는 화소선폭의 보조 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 위상반전 마스크 제조방법.
  10. 투광성 기판 ; 그 투광성 기판 상에 위상천이부를 형성하는 공정 ; 그리고 그 위상천이부를 선택적으로 제거하여, 적어도 둘 이상의 투광성 기판 노출부 및 그 투광성 기판 노출부들 사이에 적어도 하나 이상의 투광 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 위상반전 마스크 제조방법.
  11. 제 10항에 있어서, 투광성 기판은 유리로 형성됨을 특징으로 하는 위상반전 마스크 제조방법.
  12. 제 10항에 있어서, 위상천이부는 6~30%의 투과율을 가짐을 특징으로 하는 위상반전 마스크 제조방법.
  13. 제 10항에 있어서, 투광 패턴은 투광성 기판 노출부를 의미함을 특징으로 하는 위상반전 마스크 제조방법.
  14. 제 13항에 있어서, 투광 패턴의 모양은 타원형, 사각형, (+)형 및 복수개의 도트 형태로 형성됨을 특징으로 하는 위상반전 마스크 제조방법.
  15. 제 10항에 있어서, 투광 패턴으로 투과된 광은 투광성 기판 노출부의 광의 사이드로브에서 서로 반대 방향으로 상쇄됨을 특징으로 하는 위상반전 마스크 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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