KR920000006A - 포토리소그래픽 패터닝용 레티클 - Google Patents

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야스따까 반
겐지 스기시마
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세끼사와 요시
후지쓰 가부시끼가이샤
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Abstract

내용 없음.

Description

포토리소그래픽 패터닝용 레티클
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1a도 내지 제1c도는 위상 이동 패턴을 사용하여 패터닝의 해상도를 개선하는 원리를 보인 도.
제3a도 내지 제3g도는 본 발명의 실시예에 따른 위상 이동 패턴을 구비한 레티클을 형성하는 공정을 보인 도.

Claims (6)

  1. 광학 빔에 의해 웨이퍼상에 패턴을 투영시키기 위한 레티클에 있어서, 상.하면을 가지며, 광학 빔을 전달시킬 수 있도록 광학 빔에 대해 투명한 기재(10) ; 상.하면을 가지며, 원하는 패턴에 따라 입사되는 광학 빔을 차단하는 불투명 패턴(11) 및 광학 빔을 웨이퍼 상에 선택적으로 전달시키는 투명 패턴(11', 11")을 형성하도록 상기 기재의 상면에 패터닝 된 불투명 층(11a) 및 상.하면을 가지며, 광학 빔을 전달시킬 수 있도록 광학 빔에 투명하게, 상기 불투명 층에 형성된 상기 투명 패턴에 대응하여 상기 기재의 상면에 제공되서 상기 투명 패턴을 통과하는 광학 빔의 회절을 상쇄시키기 위한 위상 이동 패턴(13)으로 이루어지며, 상기 위상 이동 패턴(13)은 전기적으로 도전체인 물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 레티클.
  2. 제1항에 있어서, 상기 위상 이동 패턴(13)은 인듐 주석 산화물로 이루어진 것을 특징으로 하는 레티클.
  3. 제1항에 있어서, 상기 위상 이동 패턴(13)은 주석 산화물로 이루어진 것을 특징으로 하는 레티클.
  4. 제1항에 있어서, 상기 위상 이동 패턴(13)은 광학 빔의 회절을 상쇄시키도록 결정된 두께(α)를 갖는 것을 특징으로 하는 레티클.
  5. 제1항에 있어서, 상기 위상 이동 패턴(13)은 광학 빔의 회절을 상쇄시키도록 결정된 반사 지수를 갖는 것을 특징으로 하는 레티클.
  6. 1의 배율을 가지는 광학 빔에 의해 웨이퍼상에 패턴을 투영하기 위한 마스크에 있어서, 상.하면을 가지며, 광학 빔을 전달시킬 수 있도록 광학 빔에 대해 투명한 기재(10); 상.하면을 가지며, 원하는 패턴에 따라 입사되는 광학 빔을 차단하는 불투명 패턴(11) 및 광학 빔을 웨이퍼 상에 선택적으로 전달시키는 투명패턴(11', 11")을 형성하도록 상기 기재의 상면에 패터닝된 불투명 층(11a) 및 상.하면을 가지며, 광학 빔을 전달시킬 수 있도록 광학 빔에 투명하며, 상기 불투명 층에 형성된 상기 투명 패턴에 대응하여 상기 기재의 상면에 제공되서 상기 투명 패턴을 통과하는 광학 빔의 회절을 상쇄시키기 위한 위상 이동패턴(13)으로 이루어지며, 상기 위상 이동 패턴(13)은 전기적으로 도전체인 물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 레티클.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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