KR970049062A - 노광 에너지와 포커스를 모니터 하는 오버레이 마크 - Google Patents

노광 에너지와 포커스를 모니터 하는 오버레이 마크 Download PDF

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Abstract

본 발명은 반도체소자 제조시 적용되는 리소그라피 공정 분야에서 노광 에너지와 포커스를 모니터하는 오버레이 마크에 관한 것으로, 노광 에너지 및 포커스의 변화가 오버레이 마크에서 위치 시프트 되도록 오버레이 마크를 구비하고, 이러한 오버레이 마크를 이용하여 포토레지스트를 노광 및 현상하여 포토레지스트 패턴을 형성하고 노광 에너지 및 포커스의 변화를 모니터 할 수 있도록 하는 것이다.

Description

노광 에너지와 포커스를 모니터 하는 오버레이 마크
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 의해 노광 에너지와 포스를 동시에 측정하기 위해 오버레이 마크가 구비된 마스크를 도시한 평면도,
제2도는 포커스의 변화가 패턴의 이동으로 나타나게 되는 원리를 도시한 도면.

Claims (11)

  1. 노광 에너지와 포커스를 동시에 측정하기 위해 오버레이 마크가 구비된 마스크에 있어서, 노광 에너지와 포커스의 변화가 오버레이 마크에서 내부 박스와 외부 박스 사이의 위치 시프트로 나타나도록 하고, 노광에너지의 변화는 X축으로 나타나고 포커스의 변화는 Y축으로 나타나도록 구비하는 노광 에너지와 포커스를 모니터하는 오버레이 마크.
  2. 제1항에 있어서, 노광 에너지와 포커스를 동시에 측정하기 위해 오버레이 마크의 내부 박스와 외부박스의 바의 형태가 비대칭 구조를 배열되는 것을 특징으로 하는 노광 에너지와 포커스를 모니터 하는 오버레이 마크.
  3. 제1항에 있어서, 상기 외부박스의 좌측에는 좌측에서 우측 방향으로 광 투과영역, 광 차단 패턴, 반 투과 패턴 및 위상 시프트 영역의 순서로 구비되고, 외부박스의 우측은 좌측에서 우측 방향으로 영상 시프트 영역, 광 차단 패턴 및 반 투과 패턴의 순서로 구비되는 것을 특징으로 하는 노광 에너지와 포커스를 모니터 하는 오버레이 마크.
  4. 제1항에 있어서, 상기 내부박스의 좌측에는 좌측에서 우측 방향으로 위상 시프트 영역, 반 투과 패턴, 광 차단 패턴, 광 투과영역의 순서로 구비되고, 내부박스의 우측은 좌측에서 우측 방향으로 광 투과영역, 반투과 패턴, 광 차단 패턴 및 반 투과 패턴의 순서로 구비되는 것을 특징으로 하는 노광 에너지와 포커스를 모니터 하는 오버레이 마크.
  5. 제1항에 있어서, 상기 외부박스와 내부박스를 대각선으로 4등분 한 상태에서 내부박스 내측의 저부면에 위상 시프트 영역이 구비되고, 내부박스와 외부박스 사이의 하부면은 광 투과영역으로 구비되고, 외부박스의 하부측으로 위상 시프트 영역으로 구비되는 것을 특징으로 하는 노광 에너지와 포커스를 모니터 하는 오버레이 마크.
  6. 제3항 또는 제4항에 있어서, 상기 위상 시프트 영역은 45 내지 135°까지 위상 시프트 되도록 구비된 것을 특징으로 하는 노광 에너지와 포커스를 모니터 하는 오버레이 마크.
  7. 제3항 또는 제4항에 있어서, 상기 반 투과 패턴을 광 투과율이 30-50%인 것을 특징으로 하는 노광 에너지와 포커스를 모니터 하는 오버레이 마크.
  8. 제3항 또는 제4항에 있어서, 상기 광 차단 패턴은 크롬 패턴으로 이루어진 것을 특징으로 하는 노광 에너지와 포커스를 모니터 하는 오버레이 마크.
  9. 제3항 또는 제4항에 있어서, 상기 광 투과영역은 석영기판으로 이루어진 것을 특징으로 하는 노광 에너지와 포커스를 모니터 하는 오버레이 마크.
  10. 제1항에 있어서, 상기 노광 마스크를 이용하여 노광하는 레지스트는 포지티브 또는 네가티브를 이용하는 것을 특징으로 하는 노광 에너지와 포커스를 모니터 하는 오버레이 마크.
  11. 제1항에 있어서, 상기 노광 마스크를 이용하여 노광장비는 G-라인, i-라인 또는 DUV 파장을 이용하는 것을 특징으로 하는 노광 에너지와 포커스를 모니터 하는 오버레이 마크.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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