KR900013590A - 노광용 마스크와 그 노광용 마스크의 제조방법 및 제조된 마스크를 사용한 노광방법 - Google Patents

노광용 마스크와 그 노광용 마스크의 제조방법 및 제조된 마스크를 사용한 노광방법 Download PDF

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Abstract

내용 없음

Description

노광용 마스크와 그 노광용 마스크의 제조방법 및 제조된 마스크를 사용한 노광방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도(A) 내지 제1도(C)는 종래의 위상변위(shift)형 노광마스크의 일련의 제조광정을 나타낸 단면도,
제2도는 (A), (B)는 종래의 노광마스크의 단면과 광강도분포의 관계를 나타낸 도면,
제3도(A) 내지 제3도 (C)는 본 발명의 제1실시예에 따른 위상 변위형 노광마스크의 단면과 광강도분포, 평면도의 관계를 나타낸 도면.

Claims (25)

  1. 투광성 기판과, 이 투광성 기판 위에 형성되며, 투과광의 첨예한 광강도분포를 얻을 수 있게 해주는 하나 또는 다수의 광투과구를 형성하기 위해 패턴화되는 차광층을 구비하여 구성된 리소그래피용 노광마스크.
  2. 제1항에 있어서, 상기 광투과구가 그 중아에 위치하는 주광 투과영역과 상기 차광층에 인접한 위상변위영역을 구비하여 구성되어, 상기 주광투과영역을 투과한 빛에 대해 상기 위상변위 영역을 투과한 빛의 위상이 변위되는 것을 특징으로 하는 노광 마스크.
  3. 제2항에 있어서, 상기 광투과구가 그 중앙에 위치하며 제1광경로를 갖는 주광투과영역과, 상기 차광층에 인접해 있으며 제1광경로와 다른 제2광경로를 갖는 위상변위영역을 구비하여 구성된 것을 특징으로 하는 노광마스크.
  4. 제2항에 있어서, 상기 주광투과영역을 투과하는 빛에 대해 상기 위상변위영역을 투과하는 빛의 위상이 180°변위되는 것을 특징으로 하는 노광마스크.
  5. 제3항에 있어서, 상기 주광투과영역이 상기 위상변위영역에 대하여, 상기 투광성기판을 에칭다운하므로써 형성되는 것을 특징으로 하는 노광마스크.
  6. 제3항에 있어서, 상기 위상변위영역이 상기 광투과구에 부가광투과층을 배치하여 형성되는 것을 특징으로 하는 노광마스크.
  7. 제6항에 있어서, 상기 부가광투과층이 상기 투광성기판과 상기 차광층 사이에, 상기 차광층으로부터 상기 광투과구 안쪽으로 돌출된 상기 투광층부분으로 배치되어있는 것을 특징으로 하는 노광마스크.
  8. 제6항에 있어서, 상기 부가광투과층이 상기 차광층으로부터 상기 광투과구 안쪽으로 상기 투광층의 돌출된 부분이 상기 차광층의 위에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 노광마스크.
  9. 제6항에 있어서, 상기 부가광투과층이 상기 차광층과 동일한 면에 상기 광투과구의 안쪽에만 있게하여 형성된 것을 특징으로 하는 노광마스크.
  10. 제1항에 있어서, 상기 기판이 상기 광투과구 안엘 블록렌즈 모양으로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 노광마스크.
  11. 제3항에 있어서, 제1부분과 그 제1부분과의 레벨 차가 있고, 상기 마스크로 부터 더 멀리 는 제2부분으로 된 대상 물체에 있어서 제1부분의 제1광투과구의 위상변위량이 제2부분의 제2광투과구의 위상변위량보다 크게 되어 있는, 상기 대상 물체를 노광시킬 수 있도록 된 것을 특징으로 하는 노광마스크.
  12. 투광성 기판과, 이 투광성 기판 위에 형성된 차광층, 상기 차광층이 패턴화되어 형성된 소정의 형태의 하나 또는 다수의 광투과구로 되어 있으며, 이 때 상기 광투과구가 그 중앙에 위치하는 주광투과 영역과 상기 차광층에 인접한 위상변위영역으로 구성되어 있고, 상기 위상변위영역을 투과한 빛이 상기 주광투과영역을 투과한 빛에 대해 그 위상이 변위도록 만들어 진 리소그래피용 노광마스크의 제조방법에 있어서, 상기 투광층 위에 상기 차광층을 형성하는 단계와, 상기 차광층 위에 제1막을 형성하는 단계, 상기 제1막 위에 레지스트층을 형성하는 단계, 상기 광투과구와 일치하게 레지스트층을 패턴화하는 단계, 패턴화된 레지스트층을 마그크로 하여 상기 투광층 표면의 상기 차광층과 상기 제1막을 에칭하는 단계, 상기 레지스트층을 제거한 후, 상기 투광층과 상기 차광층 그리고 상게 제1막을 제2막으로 덮는 단계, 상기 차광층과 상기 제1막의 측면에만 상기 제2막이 남도록 상기 제2막을 비등방성에칭하는 단계, 제2막의 잔여부분을 이용하여 위상변위영역을 형성하는 단계를 구비하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 리소그래피용 노광마스크의 제조방법.
  13. 제12항에 있어서, 상기 주광투과 영역이 상기 위상변위영역에 대해 상기 투광성기판을 에칭다운하여 형성될 때, 상기 투광층은 상기 투광성기판으로 되어 있고 제2막의 잔여부분을 이용한 상길 위상변위영역일 제1, 제2막의 잔여부분을 마스크로 하여 상기 제1, 제2막을 제거하므로써 형성되는 것을 특징으로 하는 노광마스크의 제조방법.
  14. 제12항에 있어서, 상기 위상변위영역이 상기 투광성기판과 상기 차광층의 사이에 상기 광투과구 안쪽으로 돌출된 상기 부가 광투과층 부분을 배치하므로써 형성될때, 상기 투광층은 상기 투광성 기판위에 배치된 소정의 두께의 상기 부가광투과층으로 구성되고 제2막의 잔여부분을 이용한 상기 위상변위영역은 제1, 제2막의 잔여부분을 마스크로 하여 상기 투광성기판 표면의 상기 부가광투과층을 에칭한 다음 상기 제1, 제2막을 제거하므로써 형성되는 것을 특징으로 하는 노광마스크의 제조방법.
  15. 제12항에 있어서, 상기 위상변위영역이 상기 차광층과 동일한 면에 상기 광투과구 안쪽으로만 위치하도록 부가광투과층을 배치하여 형성될 때 상기 투광층은 상기 투광성기판으로 구성되고 상기 제2막은 투광성 재료로 되어 있으며, 제2막의 잔여부분을 이용한 상기 위상변위영역은 제1막과 제2막의 잔여부분위에 제2레지스트층을 형성한 다음 상기 차광층 표면의 상기 제1, 제2막과 상기 제2레지스트층을 에칭한 후 제2막의 잔여부분이 상기 부가광투과층으로서 남아있도록 상기 제2레지스트층을 제거하여 형성되는 것을 특징으로 하는 노광마스크의 제조방법.
  16. 투광성기판과, 이 투광성기판위의 차광층, 상기 차광층이 패턴화되어 형성된 하나 또는 다수의 소정의 형태의 광투과구로 되어있으며, 이 때 상기 각 광투과구는 그 중앙에 위치한 주광투과영역과 상기 차광층에 인접한 위상변위영역으로 구성되어 있고, 상길 위상변위영역을 투과한 빛이 상기 주광투과영역을 투과한 빛에 대해 그 위상이 변위도록 만들어진 리소그 래피용 노광마스크의 제조방법에 있어서, 투광층 위에 상기 차광층을 형성하는 단계와, 상기차광층위에 제1막을 형성하는 단계, 상기 광투과구의 상기 주광투과영역과 일치하게 상기 제1막을 패턴화하는 단계, 패턴화된 제1막을 마스크로 하여 상기 광투과구 위치의 상기 차광층을 오버에 칭하는 단계를 구비하여 이루어진 것을 특징으로 하는 노광마스크의 제조방법.
  17. 제16항에 있어서, 상기 위상변위영역이 상기 차광층 위에 부가광투과층을 상기 광투과구 안쪽으로 돌출된 상기 부가광투과층부분으로 배치하여 형성될 때, 상기 투광층이 상기 투광성 기판으로 구성되고 투광성재료의 레지스트로 되어있는 상기 제1막이 상기 부가광투과층을 형성하도록 되어있는 것을 특징으로 하는 노광마스크의 제조방법.
  18. 제16항에 있어서, 상기 위상변위영역이 상기 차광층위에 부가광투과층을 상기 광투과구 안쪽으로 돌출된 상기 부가광투과층 부분으로 배치하여 형성될 때, 상기 투광층이 상기 투광성기판으로 구성되고 상기 제1막이 투광성 재료로 되어있으며, 상기 제1막의 패턴은 상기 제1막위에 레지스트층을 형성하고 상기 레지스트층을 패턴화한 다음, 패턴화된 레지스트층을 마스크로 하여 상기 제1막을 에칭하여 형성되는 것을 특징으로 하는 노광마스크의 제조방법.
  19. 제16항에 있어서, 상기 위상변위영역이 상기 차광층위에 부가광투과층을 상기 광투과구 안쪽으로 돌출된 상기 부가광투과 층부분으로 배치하여 형성될 때, 상기 투광층이 상기 투광성기판으로 구성되고 투광성재료의 레지스트로 되어있는 상기 제1막이 상기 부가광투과층을 구성하며 상기 차광층이 상기 제1막의 형성에 앞서 이미 패턴화되어 있으며, 상기 제1막이 패턴화되도록하는 노광공정이 상기 투광성기판의 배면으로부터 실행되는 것을 특징으로 하는 노광마스크의 제조방법.
  20. 제16항에 있어서, 상기 위상변위영역이 상기 투광성기판과 상기 차광층 사이에 부가광투과층을 상기 광투과구 안쪽으로 돌출된 상기 부가광투과층 부분으로 배치하여 형성될때, 상기 투광층은 소정의 두께로 상기 투광성기판 위에 배치된 상기 부가광투과층으로 되어 있고 상기 제1막은 레지스트재료로 되어 있으며, 패턴화된 제1막을 마스크로 하여 상기 투광층을 에칭하는 과정이 추가된 것을 특징으로 하는 노광마스크의 제조방법.
  21. 투광성 기판과 상기 투광성 기판위의 차광층, 상기 차광층이 패턴화되어 형성된 하나 또는 다수의 소정의 형태의 광투과구, 그리고 상기의 광투과구 안에 볼록렌즈 모양으로 형성되게 되는 상기 기판을 구비하여 이루어진 리소그래피용 노광마스크의 제조방법에 있어서, 상기 투광성기판위에 상기 차광층을 형성하는 단계와, 상기 차광층 위에 제1막을 형성하는 단계, 상기 제1막 위에 레지스트층을 형성하는 단계, 상기 광투과구와 일치하게 상기 레지스트층을 패턴화하는 단계, 패턴화된 레지스트층을 마스크로하여 상기 차광층과 상기 투광성기판을 에칭하는 단계, 상기 레지스트층을 제거한 후, 상기 투광성기판과 상기 차광층 그리고상기 제1막을 제2막으로 덮는 단계, 상기 제2막이 상기 광투과구의 중앙부분에 위치한 상기 기판부분과 상기 차광층 및 상기 제1막의 측면에만 남아 있도록, 상기 제2막을 등방성하는 에칭단계, 제2막의 잔여부분을 이용하여 상기 투광성 기판을 추가에칭하는 단계를 구비하여 이루어진 것을 특징으로 하는 노광마스크의 제조방법.
  22. 투광성 기판과 상기 투광성기판위의 차광층, 하나 또는 다수의 광투과구가 형성되도록 패턴화되는 상기 차광층, 투과광의 첨예한 광강도분포를 얻을 수 있게 하는 상기 각 광투과구를 구비하여 이루어진 노광마스크를 사용한 리소그래피 노광방법.
  23. 제22항에 있어서, 상기 광투과구가 그 중앙에 위치하며 제1광경로를 갖는 주광투과영역과 상기 차광층에 인접해 있으며 제1광경로와 다른 제2광경로를 갖는 위상변위영역으로 구성되는 것을 특징으로 하는 노광마스크의 제조방법.
  24. 제22항에 있어서, 상기 기판이 상기 광투과구 안쪽에 볼록렌즈모양으로 형성되는 것을 특징으로 하는 노광마스크의 제조방법.
  25. 제22항에 있어서, 제1부분과 그 제1부분과의 레벨차가 있고, 상기 마스크로부터 더 멀리 있는 제2부분으로 된 대상 물체에서, 제1부분의 제1광투과구의 위상변위량이 제2부분의 제2광투과구의 위상변위량보다 커지게 되며, 이러한 대상물체를 노광시키도록 된 것을 특징으로 하는 노광마스크의 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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