KR970002016A - 스테이지 및 스테이지 구동 방법 - Google Patents
스테이지 및 스테이지 구동 방법 Download PDFInfo
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Abstract
예를 들면, 반도체 처리기기에 제공하는 것과 같은 정밀한 X-Y 위치 결정용 2중 가이드빔 스테이지의 기구가 정밀한 2차원 운동과 요잉 조절을 구비할 수 있다. 그들 상대운동중 구성요소간의 구속 과잉은 가요성을 갖고 부착된 공기베어링을 적어도 1개의 가동가이드빔과 그것에 대응하는 정지 가이드간과, 적어도 1개의 가이드빔과 그것에 인접하는 스테이지 자체간에는 이용되는 것에 의해 최소한으로 감소시킬 수 있다. 이리하여 스테이지의 요잉 운동은 한쪽 가이드빔의 요잉 운동을 인가함으로써 부여된다. 예압에 의해 충분한 구속이 공기베어링을 거쳐 이동 구성 요소를 구속 과잉으로 하지 않게 인가되고, 그때문에 정도를 개선하고 제조 공차를 협소화하는 요구도 저감할 수 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 따른 스테이지 기구의 투시도, 제3도는 제2도 기구의 평면도, 제4도는 제2도와 제3도 기구의 공기베어링 전체를 도시한 “X선풍 투시도”, 제5도는 본 발명의 제2실시예에 따른 스테이지 기구의 평면도.
Claims (11)
- 평탄한 표면을 갖는 지지대와, 상기 지지대상에 배치되며 제1방향으로 연장된 제1가이드 가이드와, 상기 지지대상에 배치되며 상기 제1방향과 일정한 각도를 이룬 제2방향으로 연장된 제2가이드 가이드와, 일단부에 제1이동자와 제1유체 베어링을 배치하고, 상기 제1가이드 가이드를 따라 이동하는 제1가이드부재와, 일단부에 제2이동자와 상기 제1베어링보다도 약한 구속을 갖는 제2유체 베어링을 배치하며, 상기 제2가이드 가이드를 따라 이동하는 제2가이드부재 및, 상기 제1가이드부재에 제3유체 베어링을 거쳐 가이드됨과 동시에, 상기 제2가이드부재에 상기 제3베어링보다도 약한 구속을 갖는 제4유체 베어링을 거쳐 가이드되는 테이블을 포함하며, 상기 제2이동자에 편조정용 힘을 부여함으로 편조정이 가능한 것을 특징으로 하는 스테이지.
- 평탄한 표면을 갖는 지지대와, 상기 지지대상에 고정하여 제1방향으로 연장된 제1가이드 가이드와, 상기 지지대상에 고정하여 제1방향과 일정한 각도를 이룬 제2방향으로 연장된 제2가이드와, 상기 제1고정 가이드에 의해 규정된 제1방향을 제1구속을 갖고 자유로이 이동하며, 요잉 운동을 제한하는 제1가이드부재와, 상기 제2고정 가이드에 의해 규정된 방향을 제1구속보다 약한 제2구속을 갖고 자유로이 이동하며, 상기 제2가이드부재의 요잉 운동을 기정량만큼 허용하는 제2가이드부재와, 상기 제1가이드부재와 상기 제2가이드부재를 따라 상기 지지대의 상기 표면상을 이동하는 테이블을 포함하는 것을 특징으로 하는 스테이지.
- 제2항에 있어서, 상기 제1가이드부재로부터 평행으로 이격되어 상기 지지대상에 고정된 제2가이드부재와, 상기 제2가이드부재로부터 이격되어 상기 지지대상에 고정된 제4가이드 및, 상기 제1가이드부재의 양단부는 상기 제1가이드부재와 상기 제3가이드부재에 의해 구속되며, 상기 제2가이드부재의 양단부는 상기 제2가이드부재와 상기 제4가이드부재에 의해 구속되어 있는 것을 특징으로 하는 스테이지.
- 제2항에 있어서, 상기 테이블이 제1가이드부재와 제2가이드부재에 의해 적어도 3개의 자유도로써 위치 결정되는 것을 특징으로 하는 스테이지.
- 제3항에 있어서, 상기 제1가이드부재는 상기 제1가이드부재의 일단부에 견고하게 장착되는 베어링과 타단부에 가요성을 갖고 장착되는 베어링 및, 상기 제2가이드부재는 상기 제2가이드부재의 일단부에 견고하게 장착되는 베어링과 타단부에 가요성을 갖고 장착되는 베어링을 구비하며, 상기 제2가이드부재의 베어링에 의한 구속은 상기 제1가이드부재의 베어링에 의한 구속보다도 약한 것을 특징으로 하는 스테이지.
- 제5항에 있어서, 상기 베어링은 유체 베어링인 것을 특징으로 하는 스테이지.
- 제2항에 있어서, 상기 테이블의 하측 표면상에 장착되어 상기 지지대와 서로 대향하는 다수의 베어링을 포함하는 것을 특징으로 하는 스테이지.
- 제5항에 있어서, 상기 제2가이드부재에 장착되는 베어링은 적어도 1개의 베어링으로, 상기 제1가이드부재에 장착되는 베어링은 적어도 2개의 이격된 베어링인 것을 특징으로 하는 스테이지.
- 제2항에 있어서, 상기 테이블에 형성된 상기 제1가이드부재를 통과시키는 제1개구부와 상기 제2가이드부재를 통과시키는 제2개구부와, 상기 스테이지의 일부에 장착되어, 상기 제1개구부를 규정하는 제1스테이지 베어링 및, 상기 스테이지의 일부에 장착되어 상기 제2개구부를 규정하기 위해 상기 제1스테이지 베어링보다도 강한 구속을 갖는 제2스테이지 베어링을 구비하는 것을 특징으로 하는 스테이지.
- 제3항에 있어서, 상기 제1가이드부재는 상기 제1가이드부재의 양단부에 배치된 이동자와, 상기 제2가이드부재는 상기 제2가이드부재의 양단부에 배치된 이동자를 구비하고, 상기 제1가이드와 제3가이드에 인접하여 상기 제1가이드부재의 이동자와 협동하는 고정자와, 상기 제2가이드와 상기 제4가이드에 인접하여 상기 제2가이드부재의 이동자와 협동하는 고정자를 포함하는 것을 특징으로 하는 스테이지.
- 제1 및 제2정지 가이드부재에 의해 적어도 그 일단부를 각각 구속시킴과 동시에 서로 직교하는 제1 및 제2가이드부재를 구비하고, 상기 제1 및 제2가이드부재에 의해 테이블을 구동하고 또한 위치 결정하는 스테이지 구동 방법에 있어서, 적어도 1개의 유체 베어링을 상기 제1가이드부재의 일단부에 견고하게 장착된 상태로 제1정지 가이드부재에 대해 이동시키는 단계와, 적어도 1개의 유체 베어링을 상기 제2가이드부재의 일단부에 가요성을 갖고 장착한 상태에서 상기 정지 가이드부재에 대해 이동시킴과 동시에, 상기 제1가이드부재에 대해 요잉을 가능하게 하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 스테이지 구동 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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KR970002016A true KR970002016A (ko) | 1997-01-24 |
KR100445848B1 KR100445848B1 (ko) | 2005-02-03 |
Family
ID=23967028
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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KR1019960023403A KR100445848B1 (ko) | 1995-06-27 | 1996-06-25 | 스테이지및스테이지구동방법 |
Country Status (3)
Country | Link |
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US (1) | US5760564A (ko) |
JP (1) | JPH0934135A (ko) |
KR (1) | KR100445848B1 (ko) |
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FPAY | Annual fee payment |
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