KR950700269A - 신규 측쇄-함유 탁산 및 그의 중간체 화합물(Novel Sidechain-Bearing Taxanes and Intermediates Thereof) - Google Patents

신규 측쇄-함유 탁산 및 그의 중간체 화합물(Novel Sidechain-Bearing Taxanes and Intermediates Thereof)

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KR950700269A
KR950700269A KR1019940702930A KR19940702930A KR950700269A KR 950700269 A KR950700269 A KR 950700269A KR 1019940702930 A KR1019940702930 A KR 1019940702930A KR 19940702930 A KR19940702930 A KR 19940702930A KR 950700269 A KR950700269 A KR 950700269A
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마이클 에이. 포스
제로미 엘. 모니오트
이반 디. 트리푸노비치
데이비드 제이. 쿠세라
죤 케이. 토타틸
슈-휴이 첸
지안메이 웨이
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니콜라스피, 말라테스티닉
브리스톨-마이어즈 스퀴브 캄파니
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Abstract

본 발명은 옥사졸린 화합물을 제조하고, 옥사졸린 화합물을 히드록실기가 C-13에 직접 결합된 탁산으로 커플링시키고, 그렇게 생성한 옥사졸린 측쇄-함유 탁산의 옥사졸린 고리를 개환하는 단계를 포함하는 신규의 측쇄-함유 탁산의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명은 또한 본 발명의 방법에 따라 제조된 신규의 화합물을 제공한다.

Description

신규 측쇄-함유 탁산 및 그의 중간체 화합물(Novel Sidechain-Bearing Taxanes and Intermediates Thereof)
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (79)

  1. 하기 일반식(Ⅱ)의 옥사졸린 또는 그의 염을 커플링제의 존재하에서 히드록실기가 C-13에 직접 결합된 탁산 또는 그의 염과 접촉시켜 하기 일반식(Ⅲ)의 측쇄-함유 탁산 또는 그의 염을 생성하는 단계를 포함하는 하기 일반식(Ⅲ)의 옥사졸린 측쇄-함유 탁산 또는 그의 염의 제조 방법.
    상기식에서, R1은 R5, R7-0-, R7-S- 또는 (R5)(R|6)N-이고 ; R3및 R4는 각각 R5, R5-0-C(0)- 또는 (R5)(R6)N-C(0)-(여기서, R5및 R6은 각각 수소, 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로이고 ; R7은 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로임)이며 ; T는 C-13을 통하여 직접 결합된 탁산 잔기이다.
  2. 제1항에 있어서, 히드록실기가 C-13에 직접 결합된 탁산 또는 그의 염이 하기 일반식(Ⅸ)의 화합물 또는 그의 염인 방법.
    상기식에서, R8은 수소, 히드록실, R14-0-, R15-C(0)-0- 또는 R15-0-C(0)-0-이고 ; R9는 수소, 히드록실, 플루오로, R14-0-, R15-C(0)-0- 또는 R15-0-C(0)-0-(여기서, R14는 히드록실보호기이며 ; R15는 수소, 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로임)이며 ; R10및 R11이 각각 수소, 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로이다.
  3. 제2항에 있어서, 커플링제가 1-히드록시벤조트리아졸, N-히드록시숙신이미드, 트리에틸아민, 피리딘 및 4-위치에서 -N(R16)(R17)으로 치환된 피리딘(여기서, R16및 R17은 각각 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐 또는 헤테로시클로 중에서 선택되거나, 또는 R16및 R17은 그들이 결합되는 질소원자와 함께 헤테로시클로기를 형성함)으로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물과 함께, 디시클로헥실카르보디이미드, 1,3-디이소프로필카르보디이미드, 1-(3-디메틸아미노프로필)-3-에틸-카르보디이미드히드로클로라이드, 비스(2-옥소-3-옥사졸리디닐)포스폰산 클로라이드, 카르보닐 디이미다졸, 피발로일클로라이드 및 2,4,6-트리클로로벤조일 클로라이드로 이루어진 군으로부터 선택된 화합물을 함유하는 것인 방법.
  4. 제2항에 있어서, R1이 아릴 또는 알콕시이고, R3가 아릴 또는 헤테로시클로이며, R4가 수소이고, R8이 히드록실 또는 알킬카르보닐옥시이며, R9가 히드록실 또는 보호된 히드록실기이고, R10이 알킬이며, R11이 아릴인 방법.
  5. 제4항에 있어서, R1이 페닐 또는 t-부틸옥시이고, R3가 페닐, 푸릴 또는 티에닐이며, R8이 히드록실 또는 아세틸옥시이고, R9가 히드록실 또는 트리알킬실릴옥시이며, R10이 메틸이고, R11이 페닐인 방법.
  6. 제5항에 있어서, 일반식(Ⅱ)의 옥사졸린이(4S-트랜스)-4,5-디히드로-2,4-디페닐-5-옥사졸카르복실산 또는 (4S-시스)-4,5-디히드로-2,4-디페닐-5-옥사졸카르복실산, 또는 그의 혼합물이고, 탁산은 7-트리에틸실릴 박카틴 Ⅲ 또는 7-트리메틸실릴 박카틴 Ⅲ인 방법.
  7. 하기 일반식(Ⅲ)의 옥사졸린 측쇄-함유 탁산 또는 그의 염.
    상기식에서, R1은 R5, R7-0-, R7-S- 또는 (R5)(R|6)N-이고 ; R3및 R4는 각각 R5, R5-0-C(0)- 또는 (R5)(R6)N-C(0)-(여기서, R5및 R6은 각각 수소, 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로이고 ; R7은 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로임)이며 ; T는 C-13을 통하여 직접 결합된 탁산 잔기이다.
  8. 제7항에 있어서 T가 하기 잔기인 화합물.
    상기식에서, R8은 수소, 히드록실, R14-0-, R15-C(0)-0- 또는 R15-C(0)-0-이고 ; R9는 수소, 히드록실, 플루오로, R14-0-, R15-C(0)-0- 또는 R15-0-C(0)-0-(여기서, R14는 히드록실 보호기이며 ; R15는 수소, 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로임)이며 ; R10및 R11이 각각 수소, 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로이다.
  9. 제8항에 있어서, R1이 아릴 또는 알콕시이고, R3가 아릴 또는 헤테로시클로이며, R4가 수소이고, R8이 히드록실 또는 알킬카르보닐옥시이며, R9가 히드록실 또는 보호된 히드록실기이고, R10이 알킬이며, R11이 아릴인 화합물.
  10. 제9항에 있어서, R1이 페닐 또는 t-부틸옥시이고, R3가 페닐 또는 푸릴 또는 티에닐이며, R8이 히드록실 또는 아세틸옥시이고, R9가 히드록실 또는 트리알킬실릴옥시이며, R10이 메틸이고, R11이 페닐인 화합물.
  11. 제10항에 있어서, 7-트리에틸실린 13-[[(4S-트랜스)-4,5-디히드로-2,4-디페닐-5-옥사졸릴]-카르보닐]박카틴 Ⅲ 또는 7-트리에틸실릴 13-[[(4S-트랜스)-4,5-디히드로-2,4-디페닐-5-옥사졸릴]-카르보닐]박카틴 Ⅲ인 화합물.
  12. 하기 일반식(Ⅰ)의 옥사졸린 화합물 또는 그의 염.
    상기식에서, R1은 R5, R7-0-, R7-S- 또는 (R5)(R|6)N-이고 ; R2는 R7-0-, R7-S-, 또는 (R5)(R6)N-이며 ; R3및 R4는 각각 R5, R5-0-C(0)- 또는 (R5)(R6)N-C(0)-(여기서, R5및 R6은 각각 수소 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로이며 ; R7은 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로임)인데, 단, R1이 페닐이고, R3또는 R4중의 어느 하나가 수소일 때, (i) R3또는 R4중의 다른 하나가 펜타데실, 벤질, 또는 메톡시카르보닐이면 R2는 메톡시가 아니거나, 또는 (ii) R3또는 R4중의 다른 하나가 에톡시카르보닐이면 R2는 에톡시가 아니고 ; R1이 메틸이고 R3또는 R4중의 어느 하나가 수소일 때, R3또는 R4중의 다른 하나가 2-메틸프로필이면 R2는 8-페닐메틸옥시가 아니며 ; R1이 아세틸메틸이고 R3및 R4가 수소일 때, R2는 에톡시 또는 -NH2가 아니다.
  13. 제12항에 있어서, R1이 아릴 또는 알콕시이고, R2가 알콕시이며, R3가 아릴 또는 헤테로시클로이고, R4가 수소인 화합물.
  14. 제13항에 있어서, R1이 페닐 또는 t-부틸옥시이고, R2가 메톡시 또는 에톡시이며, R3가 페닐 또는 푸릴 또는 티에닐인 화합물.
  15. 제14항에 있어서, (4S-트랜스)-4,5-디히드로-2,4-디페닐-5-옥사졸카르복실산, 에틸 에스테르, 또는 (4S-트랜스)-4,5-디히드로-2,4-디페닐-5-옥사졸카르복실산, 메틸 에스테르, (4S-시스)-4,5-디히드로-2,4-디페닐-5-옥사졸카르복실산, 에틸 에스테르, 또는 (4S-시스)-4,5-디히드로-2,4-디페닐-5-옥사졸카르복실산, 메틸 에스테르인 화합물.
  16. 하기 일반식(Ⅴ)의 화합물 또는 그의 염을 이 일반식(Ⅴ)의 화합물 또는 그의 염의 탈수 반응을 일으킬 수 있는 산과 접촉시켜 하기 일반식(Ⅰ)의 화합물 또는 그의 염을 생성하는 단계를 포함하는 하기 일반식(Ⅰ)의 옥사졸린 화합물 또는 그의 염의 제조 방법.
    상기식에서, R1은 R5, R7-0-, R7-S- 또는 (R5)(R|6)N-이고 ; R2및 R7-0-, R7-S-, 또는 (R5)(R6)N-이며 ; R3및 R4는 각각 R5, R|5-0-C(0)- 또는 (R5)(R6)N-C(0)-(여기서, R5및 R6은 각각 수소, 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로이고 ; R7은 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로임)이다.
  17. 제16항에 있어서, 산이 술폰산, 카르복실산 및 무기산으로 이루어진 군으로부터 선택된 것인 방법.
  18. 제16항에 있어서, 일반식(Ⅴ)의 화합물 또는 그의 염으로서 하기 일반식(Ⅴa)의 화합물 또는 그의 염을 사용하여 일반식(Ⅰ)의 화합물 또는 그의 염으로서 하기 일반식(Ⅰa)의 화합물 또는 그의 염을 제조하거나, 일반식(Ⅴ)의 화합물 또는 그의 염으로서 하기 일반식(Ⅴc)의 화합물 또는 그의 염을 사용하여 일반식(Ⅰ)의 화합물 또는 그의 염으로서 하기 일반식(Ⅰc)의 화합물 또는 그의 염을 제조하는 방법.
  19. 제18항에 있어서, R1이 페닐 또는 t-부틸옥시이고, R2가 메톡시 또는 에톡시이며, R3가 페닐이고, R4가 수소인 방법.
  20. 하기 일반식(Ⅴ)의 화합물 또는 그의 염을 염기의 존재하에서 일반식(Ⅴ)의 화합물 또는 그의 염의 히드록실기를 활성화시킬 수 있는 활성화제와 접촉시켜 분자내 치환을 일으켜 하기 일반식(Ⅰ)의 화합물 또는 그의 염을 생성하는 단계를 포함하는 하기 일반식(Ⅰ)의 옥사졸린 화합물 또는 그의 염의 제조 방법.
    상기식에서, R1은 R5, R7-0-, R7-S- 또는 (R5)(R|6)N-이고 ; R2및 R7-0-, R7-S-, 또는 (R5)(R6)N-이며 ; R3및 R4는 각각 R5, R|5-0-C(0)- 또는 (R5)(R6)N-C(0)-(여기서, R5및 R6은 각각 수소, 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로이고 ; R7은 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로임)인데, 단, R1이 페닐이고, R3또는 R4중의 어느 하나가 수소일 때, (i) R3또는 R4중의 다른 하나가 에톡시카르보닐이면 R2는 에톡시가 아니거나, 또는 (ii) R3또는 R4중의 다른 하나가 벤질이면 R2는 메톡시가 아니다.
  21. 제20항에 있어서, 활성화제는 알킬 술포닐 할라이드, 아릴 술포닐 할라이드, 옥시염화 인, 오염화 인 및 티오닐 클로라이드로 이루어진 군으로부터 선택된 것이고, 염기는 피리딘, 트리에틸아민, 디이소프로필에틸아민, 루티딘, 1,8-디아자비시클로[5.4.0]운데스-7-엔, 리튬 헥사메틸디실라지드 및 알칼리 금속 탄산염으로 이루어진 군으로부터 선택된 것인 방법.
  22. 제20항에 있어서, 일반식(Ⅴ)의 화합물 또는 그의 염으로서 하기 일반식(Ⅴc)의 화합물 또는 그의 염을 사용하여 일반식(Ⅰ)의 화합물 또는 그의 염으로서 하기 일반식(Ⅰa)의 화합물 또는 그의 염을 제조하거나 ; 일반식(Ⅴ)의 화합물 또는 그의 염으로서 하기 일반식(Ⅴc)의 화합물 또는 그의 염을 사용하여 일반식(Ⅰ)의 화합물 또는 그의 염으로서 하기 일반식(Ⅰc)의 화합물 또는 그의 염을 제조하는 방법.
  23. 제22항에 있어서, R1이 페닐 또는 t-부틸옥시이고, R2가 메톡시 또는 에톡시이며, R3가 페닐이고, R4가 수소인 방법.
  24. 하기 일반식(Ⅵ)의 화합물 또는 그의 염.
    상기식에서, R1은 R5, R7-0-, R7-S- 또는 (R5)(R|6)N-이고 ; R2및 R7-0-, R7-S- 또는 (R5)(R6)N-이며 ; R3및 R4는 각각 R5, R5-0-C(0)- 또는 (R5)(R6)N-C(0)- (여기서, R5및 R6은 각각 수소, 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로이며 ; R7은 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로임)이고 ; L은 이탈기인데, 단, R1이 페닐이고, R2가 메톡시이며, R3또는 R4중의 어느 하나가 수소이고, 다른 하나가 벤질일 경우에, L은 클로로가 아니다.
  25. 하기 일반식(Ⅶ)의 화합물 또는 그의 염을 하기 일반식(Ⅷ)의 화합물 또는 그의 염과 접촉시키는 단계를 포함하는 하기 일반식(Ⅰ)의 옥사졸린 화합물 또는 그의 염의 제조 방법.
    상기식에서, R1'는 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로이고 ; R2는 R7-0-, R7-S- 또는 (R5)(R6)N-이며 ; R3및 R4는 각각 R5, R5-0-C(0)- 또는 (R5)(R6)N-C(0)-(여기서, R5및 R6은 각각 수소, 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로이며 ; R7은 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로임)이고 ; E은 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로인데 ; 단, E가 에틸이고, R3또는 R4중의 어느 하나가 수소이고, (i) R1'가 페닐일 때, R3또는 R4중의 다른 하나가 메톡시카르보닐이면 R2는 메톡시가 아니고, R3또는 R4중의 다른 하나가 에톡시카르보닐이면 R2는 에톡시가 아니고, (ii) R1'가 메틸일 때, R3또는 R4중의 다른 하나가 2-메틸프로필이면 R2는 8-페닐메틸옥시가 아니다.
  26. 제25항에 있어서, 아민 염기가 더 사용되는 방법.
  27. 제25항에 있어서, 일반식(Ⅶ)의 화합물 또는 그의 염으로서 하기 일반식(Ⅶa)의 화합물 또는 그의 염을 사용하여 일반식(Ⅰ)의 화합물 또는 그의 염으로서 하기 일반식(Ⅰa)의 화합물 또는 그의 염을 제조하거나, 일반식(Ⅶ)의 화합물 또는 그의 염으로서 하기 일반식(Ⅶc)의 화합물 또는 그의 염을 사용하여 일반식(Ⅰ)의 화합물 또는 그의 염으로서 하기 일반식(Ⅰc)의 화합물 또는 그의 염을 제조하는 방법.
  28. 제27항에 있어서, R1'가 페닐이고, R2는 메톡시 또는 에톡시이며, R3가 페닐이고, R4가 수소인 방법.
  29. 하기 일반식(Ⅰ)의 옥사졸린 또는 그의 염의 -C(0)-R2기를 카르복실기로 전환하는 단계를 포함하는 하기 일반식(Ⅱ)의 옥사졸린 화합물 또는 그의 염의 제조 방법.
    상기식에서, R1은 R5, R7-0-, R7-S- 또는 (R5)(R|6)N-이고 ; R2및 R7-0-, R7-S- 또는 (R5)(R6)N-이며 ; R3및 R4는 각각 R5, R5-0-C(0)- 또는 (R5)(R6)N-C(0)-(여기서, R5및 R6은 각각 수소, 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로이며 ; R7은 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로임)이다.
  30. 제29항에 있어서, 전환 단계가 가수분해에 의해 행해지는 방법.
  31. 제30항에 있어서, 일반식(Ⅰ)의 옥사졸린에서 4- 및 5- 위치 치환체는 시스 위치로 존재하고, 제30항의 방법으로 생성된 일반식(Ⅱ)의 가수분해 생성물의 적어도 일부분에서 5-위치 카르복실기가 전환되어 상기 치환체들이 트랜스 위치에 있게 되는 방법.
  32. 제29항에 있어서, R1이 페닐 또는 t-부틸옥시이고, R2가 메톡시 또는 에톡시이며, R3가 페닐이고, R4가 수소인 방법.
  33. 하기 일반식(Ⅱ)의 옥사졸린 화합물 또는 그의 염.
    상기식에서, R1은 R5, R7-0-, R7-S- 또는 (R5)(R|6)N-이고 ; R3및 R4는 각각 R5, R5-0-C(0)- 또는 (R5)(R6)N-C(0)-(여기서, R5및 R6은 각각 수소, 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로이고 ; R7은 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로임)인데 ; 단, R1이 페닐이고 R3또는 R4중의 어느 하나가 수소일 경우에 R3또는 R4중의 다른 하나는 COOH가 아니다.
  34. 제33항에 있어서, R1이 아릴 또는 알콕시이고, R3가 아릴 또는 헤테로시클로이며, R4가 수소인 화합물.
  35. 제34항에 있어서, R1이 페닐 또는 t-부틸옥시이고, R3가 페닐 또는 푸릴 또는 티에닐인 화합물.
  36. 제35항에 있어서, (4S-트랜스)-4,5-디히드로-2,4-디페닐-5-옥사졸카르복실산 또는 (4S-시스)-4,5-디히드로-2,4-디페닐-5-옥사졸카르복실산인 화합물.
  37. 하기 일반식(Ⅲ)의 옥사졸린 측쇄-함유 탁산 또는 그의 염을 이 일반식(Ⅲ)의 화합물 또는 그의 염의 옥사졸린 고리를 개환할 수 있는 수성 산과 접촉시켜 하기 일반식(Ⅹ)의 측쇄-함유 탁산 또는 그의 염을 생성하는 단계(여기서, 하기 일반식(Ⅹ)의 아민기에서 산염이 개환용 산과의 접촉에 의해 생성됨)를 포함하는 하기 일반식(Ⅹ)의 측쇄-함유 탁산 또는 그의 염의 제조 방법.
    상기식에서, R1은 R5, R7-0-, R7-S- 또는 (R5)(R|6)N-이고 ; R3및 R4는 각각 R5, R5-0-C(0)- 또는 (R5)(R6)N-C(0)-(여기서, R5및 R6은 각각 수소, 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로이고 ; R7은 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로임)이며 ; T는 C-13을 통하여 결합된 탁산 잔기이다.
  38. 제37항에 있어서, 산이 수성 카르복실산 또는 무기산인 방법.
  39. 제37항에 있어서, T가 하기 잔기인 방법.
    상기식에서, R8은 수소, 히드록실, R14-0-, R15-C(0)-0- 또는 R15-0-C(0)-0-이고 ; R9는 수소, 히드록실, 플루오로, R14-0-, R15-C(0)-0- 또는 R15-0-C(0)-0-(여기서, R14는 히드록실보호기이며 ; R15는 수소, 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로임)이며 ; R10및 R11이 각각 수소, 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴, 또는 헤테로시클로이다.
  40. 제39항에 있어서, R1이 아릴 또는 알콕시이고, R3가 아릴이며, R4가 수소이고, R8이 히드록실 또는 알킬카르보닐옥시이며, R9가 히드록실 또는 보호된 히드록실기이고, R10이 알킬이며, R11이 아릴인 방법.
  41. 제40항에 있어서, R1이 페닐 또는 t-부틸옥시이고, R3가 페닐이며, R8이 히드록실 또는 아세틸옥시이고, R9가 히드록실 또는 트리알킬실릴옥시이며, R10이 메틸이고, R11이 페닐인 방법.
  42. 제39항에 있어서, 또한 T가 탈보호된 1개 이상의 히드록실기를 함유하는 것인 방법.
  43. 제42항에 있어서, 개환, 및 탁산의 C-7에서 보호된 히드록실기의 탈보호를 수성 산을 사용하여 동시에 수행하는 방법.
  44. 하기 일반식(Ⅹ)의 측쇄-함유 탁산 또는 그의 염을 염기와 접촉시켜 하기 일반식(Ⅳ)의 측쇄-함유 탁산 또는 그의 염을 생성하는 단계를 포함하는 하기 일반식(Ⅳ)의 측쇄-함유 탁산 또는 그의 염의 제조 방법.
    상기식에서, R1은 R5, R7-0-, R7-S- 또는 (R5)(R|6)N-이고 ; R3및 R4는 각각 R5, R5-0-C(0)- 또는 (R5)(R6)N-C(0)-(여기서, R5및 R6은 각각 수소, 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로이고 ; R7은 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로임)이며, T는 C-13을 통하여 직접 결합된 탁산 잔기이다.
  45. 제44항에 있어서, 염기가 알칼리 금속 중탄산염인 방법.
  46. 제44항에 있어서, 탁솔 또는 탁소테레가 일반식(Ⅳ)의 화합물로서 제조되는 방법.
  47. 제44항에 있어서, 일반식(Ⅹ)의 측쇄-함유 탁산 또는 그의 염이 하기 일반식(Ⅲ)의 옥사졸린 측쇄-함유 탁산 또는 그의 염을 이 일반식(Ⅲ)의 탁산 또는 그의 염의 옥사졸린기를 개환할 수 있는 수성 산과 접촉시켜 일반식(Ⅹ)의 화합물 또는 그의 염을 생성하는 단계를 포함하는 방법으로 제조된 것인 방법.
    상기식에서, R1, R3, R4및 T는 제44항에서 정의한 바와 같다.
  48. 제47항에 있어서, 일반식(Ⅲ)의 옥사졸린 측쇄-함유 탁산 또는 그의 염이 하기 일반식(Ⅱ)의 옥시졸린 또는 그의 염을 커플링제의 존재하에서 히드록실기가 C-13에 직접 결합된 탁산과 접촉시켜 일반식(Ⅲ)의 측쇄-함유 탁산 또는 그의 염을 생성하는 단계를 포함하는 방법으로 제조된 것인 방법.
    상기식에서, R1, R3및 R4는 제44항에서 정의한 바와 같다.
  49. 제48항에 있어서, 일반식(Ⅱ)의 옥사졸린 화합물 또는 그의 염이 하기 일반식(Ⅰ)의 옥사졸린 또는 그의 염의 -C(0)-R2기를 카르복실기로 전환시키는 단계를 포함하는 방법으로 제조된 것인 방법.
    상기식에서, R1, R3및 R4는 제44항에서 정의한 바와 같고, R2는 R7-0-, R7-S- 또는 (R5)(R6)N-이다.
  50. 제49항에 있어서, 일반식(Ⅰ)의 옥사졸린 화합물 또는 그의 염이 하기 일반식(Ⅴ)의 화합물 또는 그의 염을 염기의 존재하에서 일반식(Ⅴ)의 화합물 또는 그의 염의 히드록실기를 활성화시킬 수 있는 활성화제와 접촉시켜 분자내 치환을 일으켜 일반식(Ⅰ)의 화합물 또는 그의 염을 생성하는 단계를 포함하는 방법으로 제조된 것인 방법.
    상기식에서, R1, R3및 R4는 제44항에서 정의한 바와 같고, R2는 제49항에서 정의한 바와 같다.
  51. 제49항에 있어서, 일반식(Ⅰ)의 옥사졸린 화합물 또는 그의 염이 하기 일반식(Ⅴ)의 화합물 또는 그의 염을 이 일반식(Ⅴ)의 화합물 또는 그의 염의 탈수 반응을 일으킬 수 있는 산과 접촉시켜 일반식(Ⅰ)의 화합물 또는 그의 염을 생성하는 단계를 포함하는 방법으로 제조된 것인 방법.
    상기식에서, R1, R3및 R4는 제44항에서 정의한 바와 같고, R2는 제49항에서 정의한 바와 같다.
  52. 제49항에 있어서, 일반식(Ⅰ)의 옥사졸린 화합물 또는 그의 염(여기서, R1은 R1'이고, R1'는 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로임)이 하기 일반식(Ⅶ)의 화합물 또는 그의 염을 하기 일반식(Ⅷ)의 화합물 또는 그의 염과 접촉시키는 단계를 포함하는 방법으로 제조된 것인 방법.
    상기식에서, R1'은 상기 정의한 바와 같고, R2는 제49항에서 정의한 바와 같으며, R3및 R4는 제44항에서 정의한 바와 같고, E는 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로이다.
  53. 제44항에 있어서, 일반식(Ⅹ)의 측쇄-함유 탁산 또는 그의 염이 다음 단계들, (a) 하기 일반식(Ⅰ)의 옥사졸린 화합물 또는 그의 염을 제조하는 단계 ; (b) 일반식(Ⅰ)의 옥사졸린 또는 그의 염을 일반식(Ⅱ)의 옥사졸린 또는 그의 염으로 전환하는 단계 ; (c) 일반식(Ⅱ)의 옥사졸린 또는 그의 염을 커플링제의 존재하에서 히드록실기가 C-13에 직접 결합된 탁산 또는 그의 염으로 커플링시켜 하기 일반식(Ⅲ)의 옥사졸린 측쇄-함유 탁산 또는 그의 염을 생성하는 단계 ; 및 (d) 일반식(Ⅲ)의 옥사졸린 측쇄-함유 탁산 또는 그의 염을 일반식(Ⅲ)의 화합물 또는 그의 염의 옥사졸린 고리를 개환할 수 있는 수성 산과 접촉시켜 일반식(Ⅹ)의 측쇄-함유 탁산 또는 그의 염을 생성하는 단계를 포함하는 방법으로 제조된 것인 방법.
    상기식에서, R1, R3, T 및 R4는 제44항에서 정의한 바와 같고 ; R2는 R7-0-, R7-S- 또는 (R5)(R6)N-이다.
  54. 하기 일반식(Ⅹ)의 화합물 또는 그의 염.
    상기식에서, R1은 R5, R7-0-, R7-S- 또는 (R5)(R|6)N-이고 ; R3및 R4는 각각 R5, R5-0-C(0)- 또는 (R5)(R6)N-C(0)-(여기서, R5및 R6은 각각 수소, 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로이고 ; R7은 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로임)이며 ; T는 C-13을 통하여 직접 결합된 탁산 잔기이다.
  55. 제30항에 있어서, 일반식(Ⅰ)의 옥사졸린에서 4- 및 5-위치 치환체는 시스 위치로 존재하고, 대응하는 일반식(Ⅰ)의 트랜스 화합물은 5-위치의 -C(0)-R2기가 전환되어 생성되는 방법.
  56. 제54항에 있어서, R1이 아릴 또는 알콕시이고, R3가 아릴 또는 헤테로시클로이며, R4가 수소이고, T가 하기 잔기인 화합물.
    상기식에서, R8은 수소, 히드록실, R14-0-, R15-C(0)-0- 또는 R15-0-C(0)-0-이고 ; R9는 수소, 히드록실, 플루오로, R14-0-, R15-C(0)-0- 또는 R15-0-C(0)-0-(여기서, R14는 히드록실보호기이며 ; R15는 수소, 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로임)이며 ; R10및 R11이 각각 수소, 알킬, R16-0-(여기서, R16는 저급 알킬임), 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로이다.
  57. 제56항에 있어서, R1이 페닐 또는 t-부틸옥시이고, R3가 페닐, 푸릴 또는 티에닐이며, R8이 히드록실 또는 아세틸옥시이고, R9가 히드록실 또는 트리알킬실릴옥시이며, R10이 시클로알킬 또는 -OR16이고, R11이 페닐인데, 단, R10은 메틸이 아닌 화합물.
  58. 제57항에 있어서, R10이 시클로알킬인 화합물.
  59. 제58항에 있어서, R10이 시클로프로필 또는 시클로부틸인 화합물.
  60. 하기 일반식(Ⅵ)의 화합물.
    상기식에서, R1은 R5, R7-0-, R7-S- 또는 (R5)(R|6)N-이고 ; R3및 R4는 각각 R5, R5-0-C(0)- 또는 (R5)(R6)N-C(O)-(여기서, R5및 R6은 각각 수소, 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로이고 ; R7은 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로임)이며 ; T는
    [식 중에서, R8은 수소, 히드록실, R14-0-, R15-C(0)-0- 또는 R15-0-C(0)-0-이고 ; R9는 수소, 히드록실, 플루오로, R14-0-, R15-C(0)-0- 또는 R15-0-C(0)-0-(여기서, R14는 히드록실보호기이며 ; R15는 수소, 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로임)이며 ; R10및 R11이 각각 수소, 알킬, R16-0-, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로인데 ; 단, R10은 메틸이 아님]이다.
  61. 제60항에 있어서, R1이 아릴 또는 알콕시이고, R3가 아릴 또는 헤테로시클로이며, R4가 수소이고, R8이 히드록실 또는 알킬카르보닐옥시이며, R9가 히드록실 또는 보호된 히드록실기이고, R10이 시클로알킬 또는 R10-0-이며, R11이 아릴인 화합물.
  62. 제61항에 있어서, R1이 페닐 또는 t-부틸옥시이고, R3가 페닐, 2- 또는 3-티에닐, 2- 또는 3-푸라닐, 이소부테닐, 2-프로페닐 또는 (CH3)2CH-이며, R8이 히드록실 또는 아세틸옥시이고, R9가 히드록실 또는 트리알킬실릴옥시이며, R10이 시클로프로필, 시클로부틸 또는 시클로펜틸 중에서 선택된 시클로알킬이고, R11이 페닐인 화합물.
  63. 제62항에 있어서, R10이 시클로프로필 또는 시클로부틸인 화합물.
  64. 하기 일반식의 화합물.
    상기식에서, R10은 시클로프로필, 시클로부틸 및 시클로펜틸로 이루어진 군으로부터 선택된 기이다.
  65. 제63항에 있어서, R10이 시클로프로필인 화합물.
  66. 하기 일반식의 화합물.
    상기식에서, R10은 시클로프로필, 시클로부틸 또는 시클로펜틸로 이루어진 군으로부터 선택된 기이다.
  67. 제65항에 있어서, R10이 시클로프로필인 화합물.
  68. 하기 일반식(Ⅳ)의 화합물 및 그의 포스포노옥시기 염기 염.
    상기식에서, R1은 R5, R7-0-, R7-S- 또는 (R5)(R|6)N-이고 ; R3및 R4는 각각 R5, R6-0-C(0)- 또는 (R5)(R6)N-C(O)-(여기서, R5및 R6은 각각 수소, 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로이고 ; R7은 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로임)이며, T는 하기 일반식(Ⅸ)"
    [식 중에서, R8은 수소, 히드록실, R14-0-, R15-C(0)-0-, R15-0-C(0)-0-, 또는 -OCH2(0CH2)mOP(0)(0H)2이고(여기서, R14는 히드록시 보호기이고, R15는 수소, 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로이며, m은 0 또는 1 내지 6의 정수임) ; R10및 R11은 각각 수소, 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, R16-0-, (여기서, R16은 알킬임) 아릴 또는 헤테로시클로이며 ; R30은 수소, 히드록시, 플루오로, -OCH2(OCH2)mOP(0)(OH)2또는 -OC(0)OR21(여기서, R21은 1 내지 6개의 할로겐 원자로 치환된 C1-C6알킬, C3-C6시클로알킬, C2-C6알케닐 또는 하기 일반식의 기(식 중, D는 결합 또는 C1-C6알킬이고, Ra, Rb및 Rc는 각각 수소, 아미노, C1-C6모노- 또는 디-알킬아미노, 할로겐, C1-C6알킬 또는 C1-C6알콕시임)]이고 ; R20은 수소, -OCH2(OCH2)mOP(0)(OH)2, -OC(0)R21또는 -OC(0)OR21(여기서 R21및 m은 상기 정의한 바와 같음)인데, 단, R8, R20및 R30중 적어도 어느 하나는 -OCH2(OCH2)mOP(0)(OH)2이고 R10은 메틸이 아니다.
  69. 제68항에 있어서, R10이 시클로알킬이고 ; R2가 아릴 또는 알콕시이며 ; R3가 알킬, 아릴, 알케닐 또는 헤테로시클로이고 ; R4가 수소이며 ; R8이 히드록시, 알킬 카르보닐옥시 또는 -OCH2(OCH2)mOP(0)OCH2이고 ; R11이 아릴이며 ; R20이 -OCH2(OCH2)mOP(0)(OH)2또는 -OC(0)OR21(여기서, R21은 에틸임)이고 ; R30이 -OCH2(OCH2)mOP(0)(OH)2이며 ; m이 0 또는 1인 화합물.
  70. 제69항에 있어서, R10이 시클로프로필, 시클로부틸 및 시클로펜틸로 이루어진 군으로부터 선택된 시클로알킬이고 ; R1이 페닐 또는 t-부틸옥시이며 ; R3가 페닐, 티에닐, 2- 또는 3-푸라닐, 이소부테닐, 2-프로페닐 또는 (CH3)2CH-이고 ; R4가 수소이며 ; R11이 페닐인 화합물.
  71. 제70항에 있어서, 염기 염이 나트륨, 리신, 아르기닌, N-메틸글루카민, 트리에틸아민 및 트리에탄올아민염으로 이루어진 군으로부터 선택된 것인 화합물.
  72. 제70항에 있어서, R20이 -OC(0)OR21(여기서 R21은 에틸임)인 화합물.
  73. 하기 구조식의 화합물.
  74. 하기 구조식의 화합물.
  75. (A) 박카틴 Ⅲ을 약 -30℃ 내지 실온의 불활성 유기 용매 중에서 C-7 및 C-13의 히드록시기를 보호하기 위한 과량의 적절한 제제와 반응시키는 단계 ; (B) (A)의 생성물을 약 -30℃ 내지 실온에서 3차 아민 염기의 존재하에서 트리메틸실란 또는 디메틸실란과 반응시키는 단계 ; (C) (B)의 생성물을 약 -30℃ 내지 0℃에서 적알루미늄(Red-Al) 또는 수소화 리튬 알루미늠과 반응시켜 환원시키는 단계 ; (D) (C)의 생성물을 약 -30℃ 내지 실온에서 2차 아민 염기의 알칼리 금속 음이온의 존재하에서 아실 클로라이드, 산 무수물 또는 혼합 무수물과 반응시키는 단계 ; (E) (D)의 생성물을 아세토니트릴 중의 피리디늄플루오라이드와 이어서 THF 중의 테트라부틸암모늄 플루오라이드 또는 세슘 플루오라이드와 반응시켜 탈보호시키는 단계 ; 및 필요하다면 (C-7이 히드록시 보호기인 경우) ; (F) (E)의 생성물을 C-7의 히드록시기를 보호하기에 적절한 시제와 반응시키는 단계를 포함하는 하기 일반식(XIV)의 화합물의 제조 방법.
    상기식에서, R20은 히드록시 보호기 또는 수소이고 R은 C(0)R10(여기서, R10은 수소, 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, -OR16, 아릴 또는 헤테로시클로이고, R16은 알킬임)이다.
  76. (A) 하기 일반식(XIV)의 화합물을 측쇄 치환을 일으키는 적절한 β-락탐과 반응시키는 단계 ; 및 (B) 이어서, 분자의 C-2' 및 C-7 위치에서 (A)의 생성물을 탈보호시키는 단계를 포함하는 하기 일반식(Ⅳ)의 화합물의 제조 방법.
    상기식에서, R1은 R5, R7-0-, R7-S- 또는 (R5)(R|6)N-이고 ; R3및 R4는 각각 R5, R6-0-C(0)- 또는 (R5)(R6)N-C(0)-(여기서, R5및 R6은 각각 수소, 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로이며 ; R7은 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로임)이며 ; T는 일반식(Ⅸ)'
    [식 중, R8는 수소, 히드록실, R14-0-, R15-C(0)-0- 또는 R15-0-C(0)-0-이고 ; R9는 수소, 히드록실, 플루오로, R14-0-, R15-C(0)-0- 또는 R15-0-C(0)-0-(여기서, R14는 히드록실 보호기이며 ; R15는 수소, 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴 또는 헤테로시클로임)이며 ; R10및 R11이 각각 수소, 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, R16-0-(여기서, R16은 알킬임), 아릴 또는 헤테로시클로임]이고 ; R20은 히드록시 보호기이고 ; R은 C(0)R10(여기서 R10은 상기 정의한 바와 같음)인데, 단 R10은 메틸이 아니다.
  77. 하기 일반식(XII)의 화합물.
    상기식에서, X는 트리메틸실란 또는 디메틸실란 중에서 선택되고,R14는 히드록시 보호기이다.
  78. 하기 일반식(XIII)의 화합물.
    상기식에서, X는 트리메틸실란 또는 디메틸실란 중에서 선택되고 ; R14는 히드록시 보호기이며 ; R은 수소 또는 C(O)R10(여기서, R10은 수소, 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴, 헤테로시클로 또는 -0-알킬 중에서 선택됨)이다.
  79. 하기 일반식(XIV)의 화합물.
    상기식에서, R20은 수소 또는 히드록시 보호기이고, R은 C(0)R10(여기서 R10은 수소, 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 시클로알케닐, 아릴, 헤테로시클로 또는 -0- 저급 알킬 중에서 선택됨)이다.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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