KR20170080582A - 펠리클용 지지 프레임 및 제조 방법 - Google Patents

펠리클용 지지 프레임 및 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20170080582A
KR20170080582A KR1020177011500A KR20177011500A KR20170080582A KR 20170080582 A KR20170080582 A KR 20170080582A KR 1020177011500 A KR1020177011500 A KR 1020177011500A KR 20177011500 A KR20177011500 A KR 20177011500A KR 20170080582 A KR20170080582 A KR 20170080582A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
frame
support frame
pellicle
transparent substrate
frame body
Prior art date
Application number
KR1020177011500A
Other languages
English (en)
Other versions
KR102389124B1 (ko
Inventor
노부유키 이시토
Original Assignee
니폰게이긴조쿠가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 니폰게이긴조쿠가부시키가이샤 filed Critical 니폰게이긴조쿠가부시키가이샤
Publication of KR20170080582A publication Critical patent/KR20170080582A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102389124B1 publication Critical patent/KR102389124B1/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/62Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
    • G03F1/64Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K20/00Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D11/00Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
    • C25D11/02Anodisation
    • C25D11/04Anodisation of aluminium or alloys based thereon
    • G03F1/14
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/62Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Pressure Welding/Diffusion-Bonding (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

펠리클용 지지 프레임(1A)은 알루미늄 합금제의 프레임체(10)를 구비하고, 프레임체(10)의 표면(10a)에 펠리클막이 접착되고, 프레임체(10)의 이면에 투명 기판이 접착된다. 프레임체(10)의 내부에는, 복수의 중공부(51 내지 53)가 프레임체(10)의 주위 방향으로 병설되어 있고, 인접하는 두개의 중공부(51 내지 53)의 사이에, 프레임체(10)의 외주면(10c)으로부터 내주면(10d)에 이르는 관통 구멍(20)이 형성되어 있다. 이 구성으로는, 지지 프레임(1A)을 투명 기판에 접착한 후에, 지지 프레임(1A) 및 투명 기판에 변형이 발생하는 것을 방지할 수 있다.

Description

펠리클용 지지 프레임 및 제조 방법{PELLICLE SUPPORT FRAME AND PRODUCTION METHOD}
본 발명은 펠리클용 지지 프레임 및 제조 방법에 관한 것이다.
집적 회로의 제조 공정 중에는, 포토마스크나 레티클이라 불리는 투명 기판에 그려진 회로 패턴을, 웨이퍼 상에 도포한 레지스트에 전사하는 포토리소그래피 공정이 포함되어 있다.
상기한 포토리소그래피 공정에 있어서, 투명 기판에 먼지 등의 이물이 부착되어 있으면, 레지스트에 전사되는 회로 패턴이 불선명해지는 점에서, 투명 기판에는, 펠리클이라 불리는 방진 커버가 씌워져 있다(예를 들어, 특허문헌 1 또는 특허문헌 2 참조).
펠리클은, 투명 기판에 그려진 회로 패턴의 전체를 둘러싸는 지지 프레임과, 이 지지 프레임의 표면에 피복 형성된 투광성의 펠리클막을 구비하고 있다. 지지 프레임의 이면은 투명 기판에 접착된다.
일본 특허 공개 제2009-025562호 공보 일본 특허 공개 평9-068793호 공보
상기한 지지 프레임은, 단체의 상태로 표리 방향으로 변형되어 있는 경우가 있지만, 평탄한 투명 기판에 접착할 때, 투명 기판에 압박되기 때문에, 지지 프레임은 평탄한 상태로 투명 기판에 접착된다. 그러나, 지지 프레임에는 원래의 변형된 형상으로 복귀되려고 하는 복원력이 발생하므로, 복원력이 큰 경우에는, 지지 프레임의 변형에 따라서 투명 기판에도 변형이 발생해 버린다.
그리고, 투명 기판에 변형이 발생하면, 투명 기판의 회로 패턴을 웨이퍼 상의 레지스트에 전사할 때, 회로 패턴이 정규의 위치로부터 어긋나 버린다는 문제가 있다.
본 발명은 상기한 문제를 해결하고, 지지 프레임을 투명 기판에 접착한 후에 지지 프레임 및 투명 기판에 변형이 발생하는 것을 방지할 수 있는 펠리클용 지지 프레임 및 펠리클용 지지 프레임의 제조 방법을 제공하는 것을 과제로 한다.
상기 과제를 해결하기 위해서, 본 발명의 펠리클용 지지 프레임은, 알루미늄 합금제의 프레임체를 구비하고, 상기 프레임체의 표면에 펠리클막이 접착되고, 상기 프레임체의 이면에 투명 기판이 접착된다. 상기 프레임체의 내부에는, 복수의 중공부가 상기 프레임체의 주위 방향으로 병설되어 있고, 인접하는 두개의 상기 중공부의 사이에, 상기 프레임체의 외주면으로부터 내주면에 이르는 관통 구멍이 형성되어 있다.
지지 프레임에 중공부를 형성하면, 지지 프레임의 강성이 작아진다. 이에 의해, 지지 프레임을 평탄한 투명 기판에 접착한 후에 지지 프레임이 원래의 변형된 형상으로 복귀되려고 하는 복원력이 작아지기 때문에, 지지 프레임을 투명 기판에 따라서 평탄한 형상으로 유지할 수 있다.
또한, 본 발명에서는, 지지 프레임의 중공부가 외부 공간으로 통하고 있지 않기 때문에, 중공부에 티끌이나 가공 시의 처리액 등의 이물이 들어가는 것을 방지할 수 있다.
또한, 프레임체에 관통 구멍이 형성되어 있기 때문에, 지지 프레임에 펠리클막 및 투명 기판에 접착한 후에, 진공 중에 있어서 지지 프레임의 내부 공간과 외부 공간에 압력차가 발생하는 것을 방지할 수 있다.
상기한 펠리클용 지지 프레임에 있어서, 두개의 프레임 부재를 접합하여 상기 프레임체를 형성해도 된다. 이 경우에는, 상기 양쪽 프레임 부재의 접합면의 적어도 한쪽에 복수의 오목 홈을 주위 방향으로 병설시키고, 상기 오목 홈에 의해 상기 중공부를 형성하면 된다. 이렇게 하면, 중공 구조의 지지 프레임을 용이하게 제조할 수 있다.
상기 과제를 해결하기 위해서, 본 발명은 알루미늄 합금제의 두개의 프레임 부재로 이루어지는 펠리클용 지지 프레임의 제조 방법이다. 본 발명은 상기 양쪽 프레임 부재의 접합면의 적어도 한쪽에 오목 홈을 형성하는 단계와, 상기 양쪽 프레임 부재의 접합면끼리를 접합하고, 상기 오목 홈에 의해 중공부를 형성하는 단계를 구비하고 있다.
상기한 펠리클용 지지 프레임의 제조 방법에 있어서, 상기 양쪽 프레임 부재를 고상 접합했을 경우에는, 두개의 프레임 부재를 고정밀도로 접합함과 함께, 지지 프레임의 강도 저하를 방지할 수 있다.
또한, 고상 접합으로서는, 확산 접합, 집속 이온빔(Focused Ion Beam)을 사용한 증착, 마찰 교반 접합(Friction Stir Welding) 등의 접합 방법을 사용할 수 있다.
상기한 제조 방법에 의해, 지지 프레임에 중공부를 형성하면, 지지 프레임의 강성이 작아진다. 이에 의해, 지지 프레임을 평탄한 투명 기판에 접착한 후에 지지 프레임이 원래의 변형된 형상으로 복귀되려고 하는 복원력이 작아지기 때문에, 지지 프레임을 투명 기판에 따라서 평탄한 형상으로 유지할 수 있다.
또한, 본 발명의 제조 방법에 의해 형성된 지지 프레임은, 중공부가 외부 공간에 통하고 있지 않기 때문에, 중공부에 티끌이나 가공 시의 처리액 등의 이물이 들어가는 것을 방지할 수 있다.
또한, 본 발명의 제조 방법에 의하면, 중공 구조의 지지 프레임을 용이하게 제조할 수 있다.
본 발명의 펠리클용 지지 프레임 및 제조 방법에 의하면, 지지 프레임의 강성을 작게 할 수 있으므로, 지지 프레임을 평탄한 투명 기판에 접착한 후에, 지지 프레임이 원래의 변형된 형상으로 복귀되려고 하는 복원력이 작아진다. 즉, 본 발명에 따르면, 지지 프레임 및 투명 기판을 평탄한 상태로 유지할 수 있기 때문에, 투명 기판의 회로 패턴을 웨이퍼 상의 레지스트에 고정밀도로 전사할 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시 형태의 펠리클 및 투명 기판을 도시한 사시도이다.
도 2는 본 발명의 실시 형태의 펠리클 및 투명 기판을 도시한 측단면도이다.
도 3은 본 발명의 실시 형태의 지지 프레임을 도시한 모식적인 평면도이다.
도 4의 (a)는 본 발명의 실시 형태의 지지 프레임을 도시한 모식적인 측면도, (b)는 A-A 단면도, (c)는 B-B 단면도이다.
도 5는 본 발명의 실시 형태의 두개의 프레임 부재를 도시한 도면이며, (a)는 두개의 프레임 부재를 접합하기 전의 상태의 측단면도, (b)는 두개의 프레임 부재를 접합한 상태의 측단면도이다.
도 6은 본 발명의 다른 실시 형태의 제조 방법에 사용되는 평판을 도시한 평면도이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시 형태의 지지 프레임을 도시한 도면이며, (a)는 내외의 프레임 부재를 갖는 구성의 측단면도, (b)는 이측의 프레임 부재에만 오목 홈을 형성한 구성의 측단면도이다.
본 발명의 실시 형태에 대해서, 적절히 도면을 참조하면서 상세하게 설명한다.
또한, 본 실시 형태의 각 도면에서는, 지지 프레임의 구성을 이해하기 쉽게 설명하기 위해서, 지지 프레임의 각 부를 적절하게 모식적으로 도시하고 있다.
이하의 설명에 있어서, 전후 좌우 및 표리는, 지지 프레임을 이해하기 쉽게 설명하기 위해 설정한 것이며, 지지 프레임의 구성을 특정하는 것은 아니다.
본 실시 형태의 지지 프레임(1A)은, 도 1에 도시하는 바와 같이, 펠리클 P에 사용되는 것이다. 펠리클 P는, 투명 기판 M(포토마스크)의 표면 Ma에 티끌 등이 부착되는 것을 방지하기 위한 방진 커버이다.
펠리클 P는, 투명 기판 M에 그려진 회로 패턴(도시하지 않음)의 전체를 둘러싸는 지지 프레임(1A)과, 지지 프레임(1A)의 표면에 피복 형성된 펠리클막(2)을 구비하고 있다.
지지 프레임(1A)은, 평면에서 볼 때 직사각형의 프레임체(10)를 갖고 있다. 프레임체(10)는 전후 한 쌍의 가로 프레임부(11, 11)와, 좌우 한 쌍의 세로 프레임부(12, 12)에 의해 구성되어 있다.
양쪽 가로 프레임부(11, 11)는, 프레임체(10)의 긴 변이 되는 부분이며, 양쪽 세로 프레임부(12, 12)는, 프레임체(10)의 짧은 변이 되는 부분이다.
가로 프레임부(11) 및 세로 프레임부(12)의 축 단면은, 도 2에 도시하는 바와 같이, 폭 치수보다도 높이 치수가 큰 직사각형으로 형성되어 있다.
펠리클막(2)은 도 1에 도시하는 바와 같이, 투광성을 갖는 얇은 막이며, 예를 들어 자외선의 투과성이 우수한 니트로셀룰로오스, 아세트산 셀룰로오스, 프로피온산 셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 중합체나, 비정질 불소계 중합체 등을 사용하여 형성되어 있다.
펠리클막(2)은 평면에서 볼 때 직사각형으로 형성되어 있고, 지지 프레임(1A)의 외형과 같은 형상으로 되어 있다.
펠리클막(2)을 프레임체(10)의 표면(10a)에 중첩했을 때에는, 펠리클막(2)에 의해 프레임체(10)의 표면(10a) 전체가 덮인다.
프레임체(10)는 표측의 프레임 부재(30)와 이측의 프레임 부재(40)를 접합한 부재이다. 양쪽 프레임 부재(30, 40)는, 알루미늄 합금제의 압출재를 가공하여 얻어진 것이다.
양쪽 프레임 부재(30, 40)는 동일 형상의 부재이며, 양쪽 프레임 부재(30, 40)는 표리 역방향으로 배치되어 있다. 그리고, 표측의 프레임 부재(30)의 이면(30a)과 이측의 프레임 부재(40)의 표면(40a)이 접합되어 있다.
도 3에 도시하는 바와 같이, 프레임체(10)에는, 관통 구멍(20)과, 복수의 중공부(51 내지 53)와, 복수의 지그 구멍(60)이 형성되어 있다.
관통 구멍(20)은 도 4의 (c)에 도시하는 바와 같이, 프레임체(10)의 외주면(10c)으로부터 내주면(10d)에 관통되어 있는 원통 형상의 구멍이다. 관통 구멍(20)은 프레임체(10)의 높이 방향의 중앙에 배치되어 있다.
또한, 본 실시 형태에서는, 도 3에 도시하는 바와 같이, 전방측의 가로 프레임부(11)의 좌우 방향의 중앙에 관통 구멍(20)이 형성되어 있지만, 관통 구멍(20)의 배치는 한정되는 것은 아니며, 예를 들어 후방측의 가로 프레임부(11)나 좌우의 세로 프레임부(12, 12)에 형성해도 된다. 또한, 관통 구멍(20)의 수도 한정되는 것은 아니며, 예를 들어 가로 프레임부(11)와 세로 프레임부(12)에 관통 구멍(20)을 하나씩 형성해도 되고, 또는, 전후의 가로 프레임부(11, 11)의 양쪽 또는 좌우의 세로 프레임부(12, 12)의 양쪽에 관통 구멍(20)을 형성해도 된다.
지그 구멍(60)은 프레임체(10)의 외주면(10c)에 형성된 바닥이 있는 원통상의 구멍이다. 지그 구멍(60)은 지지 프레임(1A)의 제조 시나 펠리클(도 1 참조)의 사용 시에 지그에 의해 지지 프레임(1A)을 보유 지지하기 위한 부위이다. 지그 구멍(60)에는 지그의 핀이 삽입된다.
또한, 본 실시 형태에서는, 도 4의 (a)에 도시하는 바와 같이, 프레임체(10)의 높이 방향의 중앙에 지그 구멍(60)이 배치되어 있지만, 지그 구멍(60)의 높이는 한정되는 것은 아니며, 사용하는 지그에 따라서 지그 구멍(60)의 높이가 설정된다.
지그 구멍(60)은 도 3에 도시하는 바와 같이, 전방측의 가로 프레임부(11)의 좌우 양단부의 가까이에 형성됨과 함께, 후방측의 가로 프레임부(11)의 좌우 양단부의 가까이에 형성되어 있다. 즉, 프레임체(10)의 전후의 가로 프레임부(11, 11)에는, 각각 좌우 두개의 지그 구멍(60)이 형성되어 있다.
프레임체(10)의 내부에는, 12개의 중공부(51 내지 53)가 프레임체(10)의 주위 방향으로 병설되어 있다. 각 중공부(51 내지 53)는 축 단면이 직사각형인 밀폐 공간이다(도 4의 (b) 참조).
전방측의 가로 프레임부(11)에는, 좌우 두개의 제1 중공부(51, 51)와, 좌우 두개의 제2 중공부(52, 52)가 형성되어 있다. 제1 중공부(51) 및 제2 중공부(52)는 모두 가로 프레임부(11)의 긴 방향(도 3의 좌우 방향)으로 직선상으로 연장되어 있다.
좌우의 제1 중공부(51, 51)는, 전방측의 가로 프레임부(11)의 긴 방향의 중앙을 사이에 두고 배치되어 있다.
제1 중공부(51)의 축 단면은, 도 4의 (b)에 도시하는 바와 같이, 폭 치수보다도 높이 치수가 큰 직사각형으로 형성되어 있다. 제1 중공부(51)는 가로 프레임부(11)의 짧은 방향(도 3의 전후 방향)의 중앙 또한 표리 방향의 중앙에 배치되어 있다.
또한, 가로 프레임부(11)에 있어서 제1 중공부(51)를 둘러싸는 부위는, 표면부 및 이면부의 두께 t1보다도 좌벽부 및 우벽부의 두께 t2가 크게 형성되어 있다.
제1 중공부(51)의 표측의 절반은, 표측의 프레임 부재(30)의 이면(30a)에 형성된 오목 홈(31)에 의해 형성되어 있다. 또한, 제1 중공부(51)의 이측의 절반은, 이측의 프레임 부재(40)의 표면(40a)에 형성된 오목 홈(41)에 의해 형성되어 있다. 이와 같이, 양쪽 프레임 부재(30, 40)의 접합면에 형성된 오목 홈(31, 41)을 합침으로써, 제1 중공부(51)가 형성되어 있다.
좌우의 제2 중공부(52, 52)는, 도 3에 도시하는 바와 같이, 두개의 제1 중공부(51, 51)를 사이에 두고 좌우 양측에 배치되어 있다. 양쪽 제2 중공부(52, 52)는, 가로 프레임부(11)의 긴 방향의 양단부에 배치되어 있다. 제2 중공부(52)의 긴 방향의 길이는, 제1 중공부(51)의 긴 방향의 길이보다도 작게 형성되어 있다.
인접하는 제1 중공부(51)와 제2 중공부(52)의 사이에는, 지그 구멍(60)이 배치되어 있다(도 4의 (a) 참조).
제2 중공부(52)의 축 단면은, 제1 중공부(51)의 축 단면(도 4의 (b) 참조)과 동일 형상이다. 또한, 도 4의 (a)에 도시하는 바와 같이, 제2 중공부(52)는 제1 중공부(51)와 마찬가지로, 표리의 프레임 부재(30, 40)의 접합면에 형성된 오목 홈(31, 41)에 의해 형성되어 있다.
후방측의 가로 프레임부(11)에는, 도 3에 도시하는 바와 같이, 전방측의 가로 프레임부(11)와 마찬가지로, 좌우 두개의 제1 중공부(51, 51)와, 좌우 두개의 제2 중공부(52, 52)가 형성되어 있다.
또한, 후방측의 가로 프레임부(11)에는, 인접하는 제1 중공부(51)와 제2 중공부(52)의 사이에 지그 구멍(60)이 배치되어 있다.
좌측의 세로 프레임부(12)에는, 전후 두개의 제3 중공부(53, 53)가 형성되어 있다. 제3 중공부(53)는 세로 프레임부(12)의 긴 방향(도 3의 전후 방향)으로 직선상으로 연장되어 있다.
전후의 제3 중공부(53, 53)는, 좌측의 세로 프레임부(12)의 긴 방향의 중앙을 사이에 두고 배치되어 있다.
제3 중공부(53)의 축 단면은, 제1 중공부(51)의 축 단면(도 4의 (b) 참조)과 동일 형상이다. 또한, 도 4의 (a)에 도시하는 바와 같이, 제3 중공부(53)는 제1 중공부(51)와 마찬가지로, 표리의 프레임 부재(30, 40)의 접합면에 형성된 오목 홈(31, 41)에 의해 형성되어 있다.
우측의 세로 프레임부(12)에는, 도 3에 도시하는 바와 같이, 좌측의 세로 프레임부(12)와 마찬가지로, 전후 두개의 제3 중공부(53, 53)가 형성되어 있다.
이어서, 상기한 지지 프레임(1A)의 제조 방법에 대하여 설명한다.
먼저, 각통상의 알루미늄 합금제의 압출재를 축 방향에 직교하는 방향으로 절단하고, 도 5의 (a)에 도시하는 바와 같이, 두개의 프레임 부재(30, 40)를 준비한다.
계속해서, 표측의 프레임 부재(30)의 이면(30a)에 오목 홈(31)을 형성함과 함께, 이측의 프레임 부재(40)의 표면(40a)에 오목 홈(41)을 형성한다.
도 5의 (b)에 도시하는 바와 같이, 표측의 프레임 부재(30)와 이측의 프레임 부재(40)를 표리에 중첩한다. 즉, 표측의 프레임 부재(30)의 오목 홈(31)과 이측의 프레임 부재(40)의 오목 홈(41)이 마주보도록 양쪽 프레임 부재(30, 40)를 중첩한다.
그 후, 표측의 프레임 부재(30)의 이면(30a)과 이측의 프레임 부재(40)의 표면(40a)을 접합한다. 이에 의해, 두개의 프레임 부재(30, 40)로 이루어지는 프레임체(10)가 형성된다.
본 실시 형태에서는, 양쪽 프레임 부재(30, 40)의 접합면끼리를 고상 접합하고 있다. 고상 접합으로서는, 확산 접합, 집속 이온빔(Focused Ion Beam)을 사용한 증착, 마찰 교반 접합(Friction Stir Welding) 등의 접합 방법을 사용할 수 있다.
양쪽 프레임 부재(30, 40)를 접합함으로써, 양쪽 프레임 부재(30, 40)의 오목 홈(31, 41)이 중첩되고, 표리의 오목 홈(31, 41)에 의해 각 중공부(51 내지 53)(도 3 참조)가 형성된다.
계속해서, 도 3에 도시하는 바와 같이, 전방측의 가로 프레임부(11)에 있어서, 인접하는 제1 중공부(51, 51)의 사이에 관통 구멍(20)을 형성한다.
또한, 전후의 가로 프레임부(11, 11)에 있어서, 인접하는 제1 중공부(51)와 제2 중공부(52)의 사이에 지그 구멍(60)을 형성한다.
이에 의해, 도 4의 (a)에 도시하는 바와 같이, 표리 두개의 프레임 부재(30, 40)로 이루어지는 프레임체(10)를 구비한 지지 프레임(1A)이 형성된다.
또한, 양쪽 프레임 부재(30, 40)를 접합하기 전에, 양쪽 프레임 부재(30, 40)의 접합면에 관통 구멍(20) 및 지그 구멍(60)을 형성해도 된다.
이어서, 도 2에 도시하는 바와 같이, 지지 프레임(1A)에 펠리클막(2) 및 투명 기판 M을 접착할 때에는, 먼저, 프레임체(10)의 표면(10a)에 아크릴 수지나 에폭시 수지 등의 접착제를 도포하고, 프레임체(10)의 표면(10a) 위에 접착층(4a)을 형성한다.
그리고, 표측의 접착층(4a)에 펠리클막(2)을 중첩함으로써, 펠리클막(2)이 접착층(4a)을 통해 프레임체(10)의 표면(10a)에 접착된다.
계속해서, 프레임체(10)의 이면(10b)에 폴리부텐 수지, 폴리아세트산 비닐 수지, 아크릴 수지 등의 점착층(4b)을 형성한다.
그리고, 이측의 점착층(4b)에 투명 기판 M의 표면 Ma를 중첩하고, 지지 프레임(1A)을 투명 기판 M에 압박함으로써, 지지 프레임(1A)이 점착층(4b)을 통해 투명 기판 M의 표면 Ma에 접착된다.
이상과 같은 지지 프레임(1A)에서는, 도 3에 도시하는 바와 같이, 프레임체(10)에 복수의 중공부(51 내지 53)가 형성되어 있다. 이와 같이, 지지 프레임(1A)을 중공 구조로 하면, 프레임체(10)의 단면 2차 모멘트가 작아져, 지지 프레임(1A)의 강성이 작아진다.
이에 의해, 도 2에 도시하는 바와 같이, 지지 프레임(1A)을 평탄한 투명 기판 M에 접착한 후에, 지지 프레임(1A)이 원래의 변형된 형상으로 복귀되려고 하는 복원력이 작아지기 때문에, 지지 프레임(1A)을 투명 기판 M에 따라서 평탄한 형상으로 유지할 수 있다.
이와 같이, 지지 프레임(1A) 및 투명 기판 M을 평탄한 상태로 유지할 수 있기 때문에, 투명 기판 M의 회로 패턴을 웨이퍼 상의 레지스트에 고정밀도로 전사할 수 있다.
또한, 지지 프레임(1A)에서는, 도 3에 도시하는 바와 같이, 각 중공부(51 내지 53)가 외부 공간으로 통하고 있지 않기 때문에, 각 중공부(51 내지 53)에 티끌이나 가공 시의 처리액 등의 이물이 들어가는 것을 방지할 수 있다.
또한, 지지 프레임(1A)에서는, 프레임체(10)에 관통 구멍(20)이 형성되어 있기 때문에, 지지 프레임(1A)에 펠리클막(2) 및 투명 기판 M(도 2 참조)을 접착한 후에, 진공 중에 있어서 지지 프레임(1A)의 내부 공간과 외부 공간에 압력차가 발생하는 것을 방지할 수 있다.
본 실시 형태의 제조 방법에서는, 도 4의 (a)에 도시하는 바와 같이, 두개의 프레임 부재(30, 40)의 접합면끼리를 접합함으로써, 상기한 중공 구조의 지지 프레임(1A)을 용이하게 제조할 수 있다. 그리고, 양쪽 프레임 부재(30, 40)를 고상 접합함으로써, 양쪽 프레임 부재(30, 40)를 고정밀도로 접합함과 함께, 지지 프레임(1A)의 강도 저하를 방지할 수 있다.
이상, 본 발명의 실시 형태에 대하여 설명했지만, 본 발명은 상기 실시 형태에 한정는 일 없이, 그 취지를 일탈하지 않는 범위에서 적시에 변경이 가능하다.
예를 들어, 본 실시 형태에서는, 각통상의 압출재로부터 프레임 부재(30, 40)(도 5의 (a) 참조)를 잘라내었지만, 도 6에 도시하는 바와 같이, 1매의 알루미늄 합금제의 평판(5)으로 프레임 부재(30, 40)를 형성해도 된다.
이 구성에서는, 2매의 평판(5, 5)을 센터 블랭킹 가공하여 두개의 프레임 부재(30, 40)를 형성하고, 양쪽 프레임 부재(30, 40)에 오목 홈(31, 41)을 형성한 후에, 양쪽 프레임 부재(30, 40)를 접합한다.
도 6에 도시하는 평판(5)의 대각선 상의 한 쌍의 코너부에는 위치 결정 구멍(70, 70)이 형성되어 있다. 두개의 프레임 부재(30, 40)를 접합할 때에는, 양쪽 프레임 부재(30, 40)의 위치 결정 구멍(70)을 합침으로써, 양쪽 프레임 부재(30, 40)를 고정밀도로 접합할 수 있다. 또한, 위치 결정 구멍(70)은 프레임체(10)의 외주부를 절삭 가공할 때, 절삭되는 부위에 형성되어 있다.
본 실시 형태에서는, 도 5의 (a)에 도시하는 바와 같이, 두개의 프레임 부재(30, 40)를 고상 접합하고 있지만, 그 접합 방법은 한정되는 것은 아니며, 예를 들어 양쪽 프레임 부재(30, 40)를 아크 용접이나 저항 용접 등의 용접 방법에 의해 접합해도 된다.
본 실시 형태에서는, 도 4의 (a)에 도시하는 바와 같이, 두개의 프레임 부재(30, 40)를 접합함으로써 중공 구조의 지지 프레임(1A)이 형성되어 있지만, 적층 조형법에 의한 물체의 조형이 가능한 3D 프린터 등의 장치에 의해, 알루미늄 합금제의 지지 프레임을 성형해도 된다. 이 구성에서는, 지지 프레임의 프레임체가 하나의 부재로서 구성된다.
본 실시 형태에서는, 표리의 프레임 부재(30, 40)가 접합되어 있지만, 도 7의 (a)에 도시하는 지지 프레임(1B)과 같이, 외측의 프레임 부재(45)의 내부에 내측의 프레임 부재(35)를 배치하고, 내측의 프레임 부재(35)의 외주면과 외측의 프레임 부재(45)의 내주면을 접합해도 된다. 이 구성에서는, 지지 프레임(1B)의 내주면 및 외주면에 접합부가 노출되지 않는 구조가 된다.
또한, 지지 프레임(1B)에서는, 내측의 프레임 부재(35)의 외주면에 오목 홈(31)을 형성함과 함께, 외측의 프레임 부재(45)의 내주면에 오목 홈(41)이 형성되어 있고, 내외의 프레임 부재(35, 45)의 오목 홈(31, 41)에 의해 중공부(50)가 형성되어 있다.
본 실시 형태에서는, 도 2에 도시하는 바와 같이, 두개의 프레임 부재(30, 40)의 양쪽에 오목 홈(31, 41)이 형성되어 있지만, 도 7의 (b)에 도시하는 지지 프레임(1C)과 같이, 이측의 프레임 부재(40)의 표면(40a)에만 오목 홈(41)을 형성해도 된다.
이 구성에서는, 이측의 프레임 부재(40)의 오목 홈(41)이 표측의 프레임 부재(30)에 의해 막힘으로써 중공부(50)가 형성되어 있다.
또한, 표측의 프레임 부재(30)의 이면(30a)에만 오목 홈을 형성하고, 표측의 프레임 부재(30)의 오목 홈을 이측의 프레임 부재(40)에 의해 막음으로써 중공부(50)를 형성해도 된다.
본 실시 형태에서는, 도 3에 도시하는 바와 같이, 프레임체(10)에 복수의 중공부(51 내지 53)가 형성되어 있지만, 그 수 및 배치는 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 프레임체(10)의 코너부에 굴곡된 중공부를 형성해도 된다.
또한, 본 실시 형태에서는, 도 4의 (b)에 도시하는 바와 같이, 각 중공부(51 내지 53)(도 3 참조)의 축 단면이 직사각형으로 형성되어 있지만, 그 형상은 한정되는 것은 아니다.
또한, 본 실시 형태에서는, 도 4의 (b)에 도시하는 바와 같이, 표측의 프레임 부재(30)의 축 단면과 이측의 프레임 부재(40)의 축 단면이 동일 형상으로 형성되어 있지만, 양쪽 프레임 부재(30, 40)의 축 단면의 높이가 상이해도 된다.
또한, 본 실시 형태의 프레임체(10)의 축 단면은 직사각형으로 형성되어 있지만, 그 형상은 한정되는 것은 아니며, 예를 들어 프레임체(10)의 축 단면이 정사각형이어도 된다.
1A: 지지 프레임
2: 펠리클막
4a: 접착층
4b: 점착층
5: 평판
10: 프레임체
11: 가로 프레임부
12: 세로 프레임부
20: 관통 구멍
30: 표측의 프레임 부재
30a: 이면
31: 오목 홈
40: 이측의 프레임 부재
40a: 표면
41: 오목 홈
51: 제1 중공부
52: 제2 중공부
53: 제3 중공부
60: 지그 구멍
M: 투명 기판
P: 펠리클

Claims (4)

  1. 알루미늄 합금제의 프레임체를 구비하고,
    상기 프레임체의 표면에 펠리클막이 접착되고, 상기 프레임체의 이면에 투명 기판이 접착되는 펠리클용 지지 프레임이며,
    상기 프레임체의 내부에는, 복수의 중공부가 상기 프레임체의 주위 방향으로 병설되어 있고,
    인접하는 두개의 상기 중공부의 사이에, 상기 프레임체의 외주면으로부터 내주면에 이르는 관통 구멍이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 펠리클용 지지 프레임.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 프레임체는, 두개의 프레임 부재를 접합하여 형성되어 있고,
    상기 양쪽 프레임 부재의 접합면의 적어도 한쪽에 복수의 오목 홈이 주위 방향으로 병설되고,
    상기 오목 홈에 의해 상기 중공부가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 펠리클용 지지 프레임.
  3. 알루미늄 합금제의 두개의 프레임 부재로 이루어지는 펠리클용 지지 프레임의 제조 방법이며,
    상기 양쪽 프레임 부재의 접합면의 적어도 한쪽에 오목 홈을 형성하는 단계와,
    상기 양쪽 프레임 부재의 접합면끼리를 접합하고, 상기 오목 홈에 의해 중공부를 형성하는 단계
    를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 펠리클용 지지 프레임의 제조 방법.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 양쪽 프레임 부재를 고상 접합하는 것을 특징으로 하는 펠리클용 지지 프레임의 제조 방법.
KR1020177011500A 2014-11-04 2015-09-09 펠리클용 지지 프레임 및 제조 방법 KR102389124B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2014-224521 2014-11-04
JP2014224521A JP6274079B2 (ja) 2014-11-04 2014-11-04 ペリクル用支持枠および製造方法
PCT/JP2015/075550 WO2016072149A1 (ja) 2014-11-04 2015-09-09 ペリクル用支持枠および製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20170080582A true KR20170080582A (ko) 2017-07-10
KR102389124B1 KR102389124B1 (ko) 2022-04-20

Family

ID=55908879

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020177011500A KR102389124B1 (ko) 2014-11-04 2015-09-09 펠리클용 지지 프레임 및 제조 방법

Country Status (7)

Country Link
US (1) US10642151B2 (ko)
EP (1) EP3217221B1 (ko)
JP (1) JP6274079B2 (ko)
KR (1) KR102389124B1 (ko)
CN (1) CN107077062B (ko)
TW (1) TWI658322B (ko)
WO (1) WO2016072149A1 (ko)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019050288A1 (ko) * 2017-09-08 2019-03-14 주식회사 에프에스티 펠리클 프레임
KR20200128134A (ko) * 2018-03-27 2020-11-11 미쯔이가가꾸가부시끼가이샤 펠리클용 지지 프레임, 펠리클 및 그의 제조 방법, 그리고 이것들을 사용한 노광 원판, 반도체 장치의 제조 방법
KR20210048152A (ko) * 2019-10-23 2021-05-03 주식회사 에프에스티 일체화된 프레임과 멤브레인을 포함하는 펠리클의 제조방법
KR20220056609A (ko) * 2020-10-28 2022-05-06 주식회사 에프에스티 극자외선 리소그라피용 펠리클 프레임 및 그 제조방법

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016139103A (ja) * 2015-01-29 2016-08-04 日本軽金属株式会社 ペリクル用支持枠
JP6706575B2 (ja) * 2016-12-22 2020-06-10 信越化学工業株式会社 ペリクルフレーム及びこれを用いたペリクル
US11143952B2 (en) 2017-09-28 2021-10-12 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Pellicle removal method
WO2019081095A1 (en) * 2017-10-27 2019-05-02 Asml Netherlands B.V. FILM FRAME AND FILM ASSEMBLY
US11106127B2 (en) * 2017-11-08 2021-08-31 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Structure of pellicle-mask structure with vent structure
JP6496086B1 (ja) * 2017-12-25 2019-04-03 堺ディスプレイプロダクト株式会社 蒸着マスク、蒸着方法及び有機el表示装置の製造方法
JP7061288B2 (ja) * 2018-08-28 2022-04-28 日本軽金属株式会社 フラットパネルディスプレイ用ペリクル枠体及びその製造方法
TWI687760B (zh) * 2019-04-16 2020-03-11 家登精密工業股份有限公司 具有擾流結構的光罩盒
JP7347789B2 (ja) * 2019-07-09 2023-09-20 三井化学株式会社 ペリクル枠体及びペリクル

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0343652U (ko) * 1989-09-04 1991-04-24
JPH0968793A (ja) 1995-08-30 1997-03-11 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクル
JP2001068405A (ja) * 1999-08-31 2001-03-16 Nikon Corp 駆動機構付き転写マスク及びそれを備えた電子線投影露光装置
JP2003107678A (ja) * 2001-09-27 2003-04-09 Mitsui Chemicals Inc ペリクル
KR20050100492A (ko) * 2004-04-14 2005-10-19 주식회사 에프에스티 대형 페리클 프레임
JP2009025562A (ja) 2007-07-19 2009-02-05 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクルフレーム
KR20100076691A (ko) * 2008-12-26 2010-07-06 주식회사 하이닉스반도체 펠리클이 구비된 포토마스크
KR20110000493A (ko) * 2009-06-26 2011-01-03 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 펠리클
JP2013222143A (ja) * 2012-04-18 2013-10-28 Renesas Electronics Corp 半導体装置の製造方法および露光用マスク
KR20140123891A (ko) * 2013-04-15 2014-10-23 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 펠리클 프레임 및 이것을 이용한 펠리클

Family Cites Families (47)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4890784A (en) * 1983-03-28 1990-01-02 Rockwell International Corporation Method for diffusion bonding aluminum
JPS6344824Y2 (ko) * 1985-02-28 1988-11-21
JPH0343652A (ja) * 1989-07-07 1991-02-25 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd ガスインジェクションディーゼルエンジン
CN2076477U (zh) * 1990-02-21 1991-05-08 陈家山 塑料镀膜保温板
JPH0493945A (ja) * 1990-08-07 1992-03-26 Seiko Epson Corp フォトマスク
JPH04163551A (ja) * 1990-10-29 1992-06-09 Fujitsu Ltd ペリクル
JP3037745B2 (ja) * 1990-11-29 2000-05-08 三井化学株式会社 ペリクル構造体
US5168993A (en) * 1991-08-26 1992-12-08 Yen Yung Tsai Optical pellicle holder
JPH05107747A (ja) * 1991-10-18 1993-04-30 Seiko Epson Corp フオトマスク及び半導体装置の製造方法
JPH0615353A (ja) * 1992-07-01 1994-01-25 Nisshin Steel Co Ltd 角管製造方法
US5529819A (en) * 1995-04-17 1996-06-25 Inko Industrial Corporation Pellicle assembly with vent structure
US5820950A (en) * 1996-10-30 1998-10-13 Micro Lithography, Inc. Optical pellicle and package
JP4006659B2 (ja) * 1998-01-14 2007-11-14 沖電気工業株式会社 ペリクルの取付構造
JP3813725B2 (ja) * 1998-01-23 2006-08-23 富士写真フイルム株式会社 インクジェットヘッド及びその駆動方法
US6459090B1 (en) * 1999-07-23 2002-10-01 Nikon Corporation Reticles for charged-particle-beam microlithography that exhibit reduced warp at pattern-defining regions, and semiconductor-device-fabrication methods using same
US6492067B1 (en) * 1999-12-03 2002-12-10 Euv Llc Removable pellicle for lithographic mask protection and handling
JP3538357B2 (ja) 2000-01-24 2004-06-14 株式会社日立製作所 摩擦攪拌接合方法
TW539704B (en) * 2000-12-08 2003-07-01 Toyo Boseki Coating film for optical application
JP2002202589A (ja) * 2000-12-27 2002-07-19 Mitsui Chemicals Inc ペリクル
JP2003043670A (ja) * 2001-07-30 2003-02-13 Asahi Glass Co Ltd ペリクル
JP2004240221A (ja) * 2003-02-06 2004-08-26 Semiconductor Leading Edge Technologies Inc フォトマスク、ペリクル装脱着装置及び基板処理装置
JP2004354720A (ja) * 2003-05-29 2004-12-16 Semiconductor Leading Edge Technologies Inc マスク用ペリクル
JP4393899B2 (ja) * 2004-03-17 2010-01-06 エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 アトムプローブ装置用試料及びその加工方法
JP2006091667A (ja) * 2004-09-27 2006-04-06 Renesas Technology Corp フォトマスク及びその洗浄方法並びに洗浄装置
JP2006184817A (ja) * 2004-12-28 2006-07-13 Fujitsu Ltd ペリクル及び転写基板
US7815355B2 (en) * 2005-08-27 2010-10-19 3M Innovative Properties Company Direct-lit backlight having light recycling cavity with concave transflector
KR20070087967A (ko) * 2006-02-24 2007-08-29 강준모 펠리클 프레임
US20070203267A1 (en) * 2006-02-28 2007-08-30 3M Innovative Properties Company Optical display with fluted optical plate
JP2008065258A (ja) 2006-09-11 2008-03-21 Shin Etsu Chem Co Ltd リソグラフィー用ペリクル
US7851109B2 (en) * 2008-03-31 2010-12-14 Intel Corporation Low stress pellicle frames and reticle pellicle assemblies
JP4870788B2 (ja) * 2009-01-27 2012-02-08 信越化学工業株式会社 リソグラフィー用ペリクル
US8349525B2 (en) 2009-06-18 2013-01-08 Nikon Corporation Protective apparatus, mask, mask fabricating method and conveying apparatus, and exposure apparatus
JP5481106B2 (ja) * 2009-06-24 2014-04-23 信越化学工業株式会社 ペリクルフレーム及びリソグラフィ用ペリクル
JP5512340B2 (ja) * 2010-03-17 2014-06-04 旭化成イーマテリアルズ株式会社 大型ペリクル
TWI625555B (zh) * 2010-03-26 2018-06-01 友輝光電股份有限公司 具有光準直及擴散結構的光學基板
JP5755859B2 (ja) * 2010-09-03 2015-07-29 旭化成イーマテリアルズ株式会社 大型ペリクル用枠体、大型ペリクル及び大型ペリクル用枠体の製造方法
JP5722760B2 (ja) * 2011-02-08 2015-05-27 信越化学工業株式会社 ペリクル製造用キット
JP6024659B2 (ja) 2011-07-19 2016-11-16 旭硝子株式会社 薄板ガラスの巻取装置および収容装置
JP5751332B2 (ja) 2011-08-25 2015-07-22 株式会社ニコン 空間光変調素子の製造方法、空間光変調素子、空間光変調器および露光装置
JP2013074115A (ja) * 2011-09-28 2013-04-22 Fujifilm Corp ナノインプリント装置およびナノインプリント方法、並びに、歪み付与デバイスおよび歪み付与方法
KR20130067325A (ko) * 2011-10-07 2013-06-24 삼성전자주식회사 버퍼 존을 가진 펠리클 및 펠리클이 장착된 포토마스크 구조체
CN103205686A (zh) * 2012-01-16 2013-07-17 昆山允升吉光电科技有限公司 蒸镀用狭长沟槽掩模板
JP5854511B2 (ja) 2012-10-16 2016-02-09 信越化学工業株式会社 ペリクルおよびペリクルの貼付け方法
US8968971B2 (en) * 2013-03-08 2015-03-03 Micro Lithography, Inc. Pellicles with reduced particulates
CN103332031B (zh) * 2013-05-30 2016-02-10 合肥京东方光电科技有限公司 印刷版的制作方法、散射膜层及其制作方法、显示装置
CN203327362U (zh) * 2013-06-25 2013-12-04 珠海格力电器股份有限公司 Pcb板的固定板
JP6423730B2 (ja) * 2014-05-26 2018-11-14 三井化学株式会社 ペリクル用の支持枠

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0343652U (ko) * 1989-09-04 1991-04-24
JPH0968793A (ja) 1995-08-30 1997-03-11 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクル
JP2001068405A (ja) * 1999-08-31 2001-03-16 Nikon Corp 駆動機構付き転写マスク及びそれを備えた電子線投影露光装置
JP2003107678A (ja) * 2001-09-27 2003-04-09 Mitsui Chemicals Inc ペリクル
KR20050100492A (ko) * 2004-04-14 2005-10-19 주식회사 에프에스티 대형 페리클 프레임
JP2009025562A (ja) 2007-07-19 2009-02-05 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクルフレーム
KR20100076691A (ko) * 2008-12-26 2010-07-06 주식회사 하이닉스반도체 펠리클이 구비된 포토마스크
KR20110000493A (ko) * 2009-06-26 2011-01-03 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 펠리클
JP2013222143A (ja) * 2012-04-18 2013-10-28 Renesas Electronics Corp 半導体装置の製造方法および露光用マスク
KR20140123891A (ko) * 2013-04-15 2014-10-23 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 펠리클 프레임 및 이것을 이용한 펠리클

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019050288A1 (ko) * 2017-09-08 2019-03-14 주식회사 에프에스티 펠리클 프레임
KR20200128134A (ko) * 2018-03-27 2020-11-11 미쯔이가가꾸가부시끼가이샤 펠리클용 지지 프레임, 펠리클 및 그의 제조 방법, 그리고 이것들을 사용한 노광 원판, 반도체 장치의 제조 방법
KR20210048152A (ko) * 2019-10-23 2021-05-03 주식회사 에프에스티 일체화된 프레임과 멤브레인을 포함하는 펠리클의 제조방법
KR20220056609A (ko) * 2020-10-28 2022-05-06 주식회사 에프에스티 극자외선 리소그라피용 펠리클 프레임 및 그 제조방법

Also Published As

Publication number Publication date
EP3217221B1 (en) 2022-04-27
EP3217221A4 (en) 2018-07-18
WO2016072149A1 (ja) 2016-05-12
JP2016090784A (ja) 2016-05-23
US10642151B2 (en) 2020-05-05
CN107077062B (zh) 2020-12-25
TWI658322B (zh) 2019-05-01
JP6274079B2 (ja) 2018-02-07
TW201617731A (zh) 2016-05-16
CN107077062A (zh) 2017-08-18
US20170343894A1 (en) 2017-11-30
KR102389124B1 (ko) 2022-04-20
EP3217221A1 (en) 2017-09-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20170080582A (ko) 펠리클용 지지 프레임 및 제조 방법
US10216081B2 (en) Pellicle frame, pellicle and method of manufacturing the same, original plate for exposure and method of manufacturing the same, exposure device, and method of manufacturing semiconductor device
JP6423730B2 (ja) ペリクル用の支持枠
JP2007180653A (ja) 複眼撮像装置
JP6519190B2 (ja) ペリクル用支持枠
WO2009119192A1 (ja) 接合レンズアレイ、接合レンズ及び接合レンズアレイの製造方法
JP6816870B2 (ja) 部品一体型クランプトレイ
JP2020508556A (ja) 電磁気パルス接合技術を適用したバッテリーモジュールハウジング及びバッテリーモジュールハウジングの製造方法
JP6380391B2 (ja) 積層型レンズアレイユニット及び撮像装置
KR20170108022A (ko) 펠리클용 지지 프레임
WO2019180799A1 (ja) 間隔環、レンズ系、間隔環の製造方法及びレンズ系の組立方法
JP2004341476A (ja) レンズアレイ及びレンズ部品
JP2013178363A (ja) 画像記録媒体、及びその製造方法
JP5756683B2 (ja) ウエハの接合方法
JP2014004727A (ja) 積層型レンズの製造方法及び積層型レンズ
JP6723123B2 (ja) 間隔環、レンズ系、間隔環の製造方法及びレンズ系の組立方法
KR20240047381A (ko) 광 투과성 적층체의 검사 방법 및 검사 장치
JP2014235307A (ja) レンズアレイユニット及び撮像装置
JP6561840B2 (ja) 積層型レンズアレイユニット及び撮像装置
JPH04276586A (ja) 断層撮影用コリメータの製造方法
JP2014149468A (ja) レンズアレイ構造体

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant