JPH04163551A - ペリクル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概　要〕 半導体装置製造用のマスク又はレチクルのゴミ付着を防
止するために用いられるペリクルに関し、ペリクル膜の
更新を容易とすることを目的とし、矩形状をなすペリク
ル枠の対向する２辺の枠材に、それぞれ長手方向に溝が
形成され、その一方の溝には長いペリクル膜を巻回した
軸が、他方の溝には前記ペリクル膜の一端を固定した軸
がそれぞれ回転可能に設けられ、前記ペリクル枠の一方
の面にペリクル膜が移動可能に張り渡されてなるように
構成する。

〔産業上の利用分野〕

本発明は半導体装置製造用のマスク又はレチクルのゴミ
付着を防止するために用いられるペリクルに関する。

近年、半導体装置の高集積化要求に伴い、ホトリソグラ
フィ工程で使用される転写製蓋の性能が上り、解像力も
向上して来ている。このためレチクル又はマスク上の小
さなゴミでも被転写物に転写されるため、許容されるゴ
ミの大きさは次第に小さくなって来ている。またペリク
ルにあっても同様である。

〔従来の技術〕

第３図は従来のペリクルを示す図である。これはパター
ン１ａを有するレチクル又はマスク１の上に枠２を接着
して設け、さらに抜枠２にペリクル膜（例えばニトロセ
ルロースの薄膜）３を張設したものである。そしてレチ
クル又はマスク１に付着しようとするゴミはべりタル膜
３で遮ぎられ、該ペリクル膜３に付着する。このゴミは
転写時には、レチクル又はマスクのパターン面より枠２
の高さＨ（スタンドオフ量）だけ離れているため、転写
装置のレンズの焦点から外れた位置となる。

これにより許容されるゴミの大きさはべりタルのない場
合より大きくなる。

〔発明が解決しようとする課題〕

上記従来のペリクルでは、レチクル又はマスクに取り付
けたままの状態で長時間使用するため、ペリクル膜３に
異物がつき、取り除けなくなった場合、及び光によるペ
リクル膜自身の劣化が顕著となった場合はべりタル膜を
交換する必要がある。

ペリクル膜を交換する場合は、マスク、ペリクルとペリ
クル膜の接着剤の関係から、ペリクル膜の剥離に長時間
を要する。またペリクル枠に接着剤が残り不良の原因と
なる。またペリクル膜が高価であり、交換費用が犬にな
る。等の問題があった。

本発明は上記従来の問題点に鑑み、ペリクル膜の更新を
容易としたペリクルを提供することを目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

上記目的を達成するために本発明のペリクルでは、矩形
状をなすペリクル枠２の対向する２辺の枠材２ａ、　２
ｂにそれぞれ長手方向に溝４．４′が形成され、その一
方の溝４には長いペリクル膜３を巻回した軸５が、他方
の溝４′には前記ペリクル膜３の一端を固定した軸６が
それぞれ回転可能に設けられ、前記ペリクル枠２の一方
の面にペリクル膜３が移動可能に張り渡されてなること
を特徴とする。

また上記ペリクル枠２に、ペリクル膜３を固定するため
の押え枠（７）が着脱自在に設けられたことを特徴とす
る。

〔作　用〕

ペリクル枠の対向する２辺の枠材２ａ、２ｂに溝４．４
′を設け、その一方の溝４にペリクル膜３を巻回した回
転可能な軸５を設け、他方の溝４′に該ペリクル膜３の
一端を固定して巻取可能な様に回転可能とした軸６を設
けることにより、ペリクル枠２上にペリクル膜３を張り
渡すことができ、且つ該ペリクル膜３が塵埃付着等によ
り交換が必要となったときは、一方の軸６を回転させて
ペリクル膜３を巻取ることにより、他方の軸５からペリ
クル膜３の新しい部分を引き出し、ペリクル枠２上のペ
リクル膜を更新することができる。新らしく引出された
ペリクル膜３はペリクル枠２に圧着するか又は押え枠８
によって固定することができる。

〔実施例〕

第１図は本発明の第１の実施例を示す図であり、（ａ）
は平面図、（ｂ）はａ図のｂ−ｂ線における断面図、（
Ｃ）はａ図のｃ−ｃ線における断面図である。

同図において、２は矩形状のペリクル枠であり、抜枠２
の対向する２辺２ａ、　２ｂにはその長手方向に溝４．
４′が形成されている。そして抜溝の一方の溝４の中に
は一端につまみ７を有する軸５が回転自在に設けられて
ふり、該軸５にはべりクル枠２を覆うことができる幅を
有し、且長さの長いペリクル膜３が巻回されている。ま
た他方の溝４′の中には一端につまみ７を有する軸６が
回転自在に設けられており、該軸６には軸５に巻回され
ているペリクル膜３を引き出した一端を固定している。

従ってペリクル膜３はペリクル枠２の上面を完全に覆っ
ている。

このように構成された本実施例は、パターン１ａを有す
るレチクル又はマスク１の上にペリクル枠２の下面を接
着固定して用いられる。そしてペリクル枠２上にあるペ
リクル膜３が塵埃の付着又は光による劣化等により交換
が必要となった場合には、ｌ［ｌ１６をつまみ７により
回転させ、ペリクル枠２上に露出しているペリクル膜３
を巻き取ることにより、ペリクル枠２上には軸５に巻回
されたペリクル膜３の新しい部分が引き出され、ペリク
ル膜３の更新が行なわれる。なお更新されたペリクル膜
３は枠２にプレス機等により押圧することにより枠２に
付着固定される。

以上のように本実施例によればペリクル膜の更新を従来
に比して極めて簡単容易に行なうことができる。

第２図は本発明の第２の実施例を示す図であり、（ａ）
は平面図、（ｂ）はａ図のｂ−ｂ線における断面図、（
Ｃ）はａ図のｃ−ｃ線における断面図である。同図にお
いて第１図と同一部分は同一符号を付して示した。

本実施例は第１の実施例と基本的には同一であり、異な
るところはべりタル膜３をペリクル枠２に押圧固定する
ための押え枠８を設けたことである。抜挿え枠はべりク
ル枠２とほぼ同じ形状に形成されており複数本のねじ９
によりペリクル枠２に着脱自在に取付けられるようにな
っている。

このように構成された本実施例は、前実施例と同様な効
果を有する上、更新されたペリクル膜３をプレス機等を
使用せずにペリクル枠２に固定することができる。

〔発明の効果〕

以上説明した様に本発明によれば、ペリクル膜上べの異
物付着、膜劣化、破損等があった場合でもペリクル膜の
はりかえを行なわずに済み、工程上のペリクル剥離、マ
スク、レチクル洗浄、ペリクルマウント等の工程削減に
よる時間短縮、ペリクルコストの削減等、また、その場
で直ちに使用可能となる効果を奏し、半導体製造工程及
びペリクル製造方法の向上に寄与するところ大である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第１の実施例を示す図、第２図は本発
明の第２の実施例を示す図、第３図は従来のペリクルを
示す図である。 図において、 １はレチクル又はマスク、 ２はペリクル枠、 ３はペリクル膜、 ４．４′は溝、 ５．６は軸、 ７はつまみ、 ８は押え枠、 ９はねじ を示す。 従来のペリクルを示す図 第３図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、矩形状をなすペリクル枠（２）の対向する２辺の枠
   材（２ａ、２ｂ）にそれぞれ長手方向に溝（４、４′）
   が形成され、その一方の溝（４）には長いペリクル膜（
   ３）を巻回した軸（５）が、他方の溝（４′）には前記
   ペリクル膜（３）の一端を固定した軸（６）がそれぞれ
   回転可能に設けられ、前記ペリクル枠（２）の一方の面
   にペリクル膜（３）が移動可能に張り渡されてなること
   を特徴とするペリクル。 ２、上記ペリクル枠（２）に、ペリクル膜（３）を固定
   するための押え枠（７）が着脱自在に設けられたことを
   特徴とする請求項１記載のペリクル。