JPS6131331Y2 - - Google Patents
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- JPS6131331Y2 JPS6131331Y2 JP1979139676U JP13967679U JPS6131331Y2 JP S6131331 Y2 JPS6131331 Y2 JP S6131331Y2 JP 1979139676 U JP1979139676 U JP 1979139676U JP 13967679 U JP13967679 U JP 13967679U JP S6131331 Y2 JPS6131331 Y2 JP S6131331Y2
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Description
【考案の詳細な説明】
本考案は汚染防止用の容器に固持された構造を
有するフオトマスクに関するものである。
有するフオトマスクに関するものである。
半導体装置の製造において、半導体基板にフオ
トプロセスにより素子パターンや配線パターンを
形成する際、或るいは上記フオトプロセスに使用
するフオトマスクを製造する際に露光原板である
レチクルやフオトマスクに付着している微細なご
みや汚れは露光パターンに欠陥を発生させる原因
になる。
トプロセスにより素子パターンや配線パターンを
形成する際、或るいは上記フオトプロセスに使用
するフオトマスクを製造する際に露光原板である
レチクルやフオトマスクに付着している微細なご
みや汚れは露光パターンに欠陥を発生させる原因
になる。
上記フオトプロセスにおいて、例えばレチクル
を使用してステツプ・アンド・リピート方式等に
よりハードマスクを製造するに際して、従来は枠
に固定されたレチクルを露光装置にセツトし、該
レチクルを透過させた光により（ハード）マスク
用のブランク板にパターンを焼きつける方法が行
われていた。
を使用してステツプ・アンド・リピート方式等に
よりハードマスクを製造するに際して、従来は枠
に固定されたレチクルを露光装置にセツトし、該
レチクルを透過させた光により（ハード）マスク
用のブランク板にパターンを焼きつける方法が行
われていた。
然し該従来方法においては、露光原板であるレ
チクルが室内雰囲気に直かにさらされているため
に、室内雰囲気中のごみや汚れがレチクル面に付
着することが避けられなかつた。そして目視可能
な大きさのごみや汚れは発見し次第除去すること
が可能であるが、目視によつて確認が困難な数10
〔μｍ〕以下の微細なごみや汚れはレチクル面に
付着したまま露光が行われ、ブランク板に焼きつ
けたパターンに欠陥を発生させる。そこで該パタ
ーン欠陥によるマスク製造歩留りの低下を防止す
るためにはレチクルの洗浄を露光作業中かなりの
頻度で行わねばならず、従つて露光作業の能率は
低下し、更に余分な洗浄工数を要すると共にレチ
クルのパターンを傷つけるという問題があつた。
チクルが室内雰囲気に直かにさらされているため
に、室内雰囲気中のごみや汚れがレチクル面に付
着することが避けられなかつた。そして目視可能
な大きさのごみや汚れは発見し次第除去すること
が可能であるが、目視によつて確認が困難な数10
〔μｍ〕以下の微細なごみや汚れはレチクル面に
付着したまま露光が行われ、ブランク板に焼きつ
けたパターンに欠陥を発生させる。そこで該パタ
ーン欠陥によるマスク製造歩留りの低下を防止す
るためにはレチクルの洗浄を露光作業中かなりの
頻度で行わねばならず、従つて露光作業の能率は
低下し、更に余分な洗浄工数を要すると共にレチ
クルのパターンを傷つけるという問題があつた。
本考案は上記問題点に鑑み、レチクル或るいは
フオトマスクを該レチクル或るいはフオトマスク
面に直かにごみや汚れが付着することのないよう
に容器内に密封固持せしめ、該容器を通して露光
を行うことができるような構造を有するフオトマ
スク固持体を提供する。
フオトマスクを該レチクル或るいはフオトマスク
面に直かにごみや汚れが付着することのないよう
に容器内に密封固持せしめ、該容器を通して露光
を行うことができるような構造を有するフオトマ
スク固持体を提供する。
即ち本考案は両面に透明なガラス板で平行に形
成されたガラス窓を有し、乾燥窒素ガスが封入さ
れている気密容器内に、前記ガラス窓に面し、か
つ平行して配設固持されたフオトマスクを有して
なることを特徴とするフオトマスク固持体に関す
るものである。
成されたガラス窓を有し、乾燥窒素ガスが封入さ
れている気密容器内に、前記ガラス窓に面し、か
つ平行して配設固持されたフオトマスクを有して
なることを特徴とするフオトマスク固持体に関す
るものである。
以下本考案を図示実施例により詳細に説明す
る。
る。
図は本考案のフオトマスク固持体の一実施例に
おける断面構造図である。
おける断面構造図である。
例えば本考案のフオトマスク固持体は図に示す
ようにアルミニウム等からなり高精度に加工され
た高さＨが約2.0〔mm〕程度の角形の金属枠１の
内壁に、該金属枠１の高さＨのほぼ1/2の位置に
形成された鍔部２を有し、該鍔部２上にガラス板
に露光パターン３の形成されたレチクル４が載置
され厳密に位置合わせされた状態で、エポキシ或
るいはシアノアクリレート等の接着剤５により固
着保持されている。そしてレチクル３面と平行な
平面上に形成されている金属枠１の両端面にはマ
スク基板と同様に高品質の透明なガラス板６ａ及
び６ｂが、該ガラス板６ａ及び６ｂとレチクル３
との間隙部７に外気圧よりやや高い圧力例えば
1.1〜1.5〔気圧〕程度の圧力で高純度窒素ガスが
充たされた状態でレチクル３面と平行にエポキシ
或るいはシアノアクリレート等の接着剤５により
気密に接着された構造を有している。
ようにアルミニウム等からなり高精度に加工され
た高さＨが約2.0〔mm〕程度の角形の金属枠１の
内壁に、該金属枠１の高さＨのほぼ1/2の位置に
形成された鍔部２を有し、該鍔部２上にガラス板
に露光パターン３の形成されたレチクル４が載置
され厳密に位置合わせされた状態で、エポキシ或
るいはシアノアクリレート等の接着剤５により固
着保持されている。そしてレチクル３面と平行な
平面上に形成されている金属枠１の両端面にはマ
スク基板と同様に高品質の透明なガラス板６ａ及
び６ｂが、該ガラス板６ａ及び６ｂとレチクル３
との間隙部７に外気圧よりやや高い圧力例えば
1.1〜1.5〔気圧〕程度の圧力で高純度窒素ガスが
充たされた状態でレチクル３面と平行にエポキシ
或るいはシアノアクリレート等の接着剤５により
気密に接着された構造を有している。
そして該フオトマスク固持体を組み立てるに際
しては、フオトマスク固持体の内部に微細なごみ
や汚れを封じ込めることのないように、完全に洗
浄した金属枠１、レチクル３及びガラス板６ａ及
び６ｂを使用し、高純度窒素ガスが流入せしめら
れている充分に清浄化されたドライボツクス等の
中で組み立て密封を行わねばならない。
しては、フオトマスク固持体の内部に微細なごみ
や汚れを封じ込めることのないように、完全に洗
浄した金属枠１、レチクル３及びガラス板６ａ及
び６ｂを使用し、高純度窒素ガスが流入せしめら
れている充分に清浄化されたドライボツクス等の
中で組み立て密封を行わねばならない。
然して本考案のレチクルを固持せしめたフオト
マスク固持体を使用して、例えばハードマスク用
のブランク板に対してステツプ・アンド・リピー
ト方式により露光を行うに際しては、上記フオト
マスク固持体を、該フオトマスク固持体の金属枠
を基準にしてリピータにセツトして、該フオトマ
スク固持体両面のガラス窓を通してフオトマスク
固持体内に固持されているレチクルのパターンを
ブランク板上に投影させて行う。
マスク固持体を使用して、例えばハードマスク用
のブランク板に対してステツプ・アンド・リピー
ト方式により露光を行うに際しては、上記フオト
マスク固持体を、該フオトマスク固持体の金属枠
を基準にしてリピータにセツトして、該フオトマ
スク固持体両面のガラス窓を通してフオトマスク
固持体内に固持されているレチクルのパターンを
ブランク板上に投影させて行う。
従つて該露光に際して室内雰囲気中の微細なご
みや汚れはレチクル面に直かに付着せず、フオト
マスク固持体のガラス窓外面に付着するので、該
ごみや汚れがブランク板上に結像することがな
く、露光パターンに欠陥を生ぜしめない。それ故
フオトマスク固持体の洗浄は頻繁に行う必要がな
く、また洗浄に際してレチクル面に損傷を与える
こともない。
みや汚れはレチクル面に直かに付着せず、フオト
マスク固持体のガラス窓外面に付着するので、該
ごみや汚れがブランク板上に結像することがな
く、露光パターンに欠陥を生ぜしめない。それ故
フオトマスク固持体の洗浄は頻繁に行う必要がな
く、また洗浄に際してレチクル面に損傷を与える
こともない。
またフオトマスク固持体の内部には露点の極め
て低い高純度窒素ガスが封入されているのでレチ
クル面及びガラス窓内面が湿気により曇ることは
ない。
て低い高純度窒素ガスが封入されているのでレチ
クル面及びガラス窓内面が湿気により曇ることは
ない。
上記実施例においてはレチクルを固持せしめた
フオトマスク固持体を用いてハードマスクの製造
を行う場合について説明したが、本考案のフオト
マスク固持体はマスターマスク或るいはワークマ
スク等を固持せしめて、プロジエクシヨン型の露
光装置によりフオトマスクの複写や半導体基板へ
のパターンの焼きつけを行う際にも勿論適用する
ことができる。
フオトマスク固持体を用いてハードマスクの製造
を行う場合について説明したが、本考案のフオト
マスク固持体はマスターマスク或るいはワークマ
スク等を固持せしめて、プロジエクシヨン型の露
光装置によりフオトマスクの複写や半導体基板へ
のパターンの焼きつけを行う際にも勿論適用する
ことができる。
以上説明したように本考案のフオトマスク固持
体を使用することにより、フオトプロセスにおけ
る露光作業中に頻繁にフオトマスクの洗浄を行わ
ないでも露光パターンに欠陥を発生させることが
なくなり、また洗浄に際してフオトマスクを傷つ
けることもなくなる。
体を使用することにより、フオトプロセスにおけ
る露光作業中に頻繁にフオトマスクの洗浄を行わ
ないでも露光パターンに欠陥を発生させることが
なくなり、また洗浄に際してフオトマスクを傷つ
けることもなくなる。
従つてフオトマスク或るいは半導体装置の製造
においてフオトプロセスの工数の削減ができると
同時に製造歩留りの向上がはかれる。
においてフオトプロセスの工数の削減ができると
同時に製造歩留りの向上がはかれる。
図は本考案のフオトマスク固持体の一実施例に
おける断面構造図である。 図において、１は金属枠、２は鍔部、３は露光
パターン、４はレチクル、５は接着剤、６ａ，６
ｂはガラス板、７は間隙部、Ｈは高さ。
おける断面構造図である。 図において、１は金属枠、２は鍔部、３は露光
パターン、４はレチクル、５は接着剤、６ａ，６
ｂはガラス板、７は間隙部、Ｈは高さ。
Claims (1)
- 両面に透明なガラス板で平行に形成されたガラ
ス窓を有し、乾燥窒素ガスが封入されている気密
容器内に、前記ガラス窓に面しかつ平行して配設
固持されたフオトマスクを有してなることを特徴
とするフオトマスク固持体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1979139676U JPS6131331Y2 (ja) | 1979-10-09 | 1979-10-09 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1979139676U JPS6131331Y2 (ja) | 1979-10-09 | 1979-10-09 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5658856U JPS5658856U (ja) | 1981-05-20 |
| JPS6131331Y2 true JPS6131331Y2 (ja) | 1986-09-11 |
Family
ID=29371016
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1979139676U Expired JPS6131331Y2 (ja) | 1979-10-09 | 1979-10-09 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6131331Y2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0262A (ja) * | 1989-04-07 | 1990-01-05 | Daicel Chem Ind Ltd | フォトマスクカバー |
| JP5189614B2 (ja) * | 2010-03-29 | 2013-04-24 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル及びその取り付け方法、並びにペリクル付マスク及びマスク |
-
1979
- 1979-10-09 JP JP1979139676U patent/JPS6131331Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5658856U (ja) | 1981-05-20 |
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