JPH0262A - フォトマスクカバー - Google Patents
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- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 8
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 11
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 28
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 21
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 15
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 10
- 238000005266 casting Methods 0.000 abstract description 9
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 abstract description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 7
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 abstract description 6
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 abstract description 6
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 abstract description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 238000009835 boiling Methods 0.000 abstract description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 abstract description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 abstract description 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 abstract description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract 1
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 14
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 238000009750 centrifugal casting Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N iso-butyl acetate Natural products CC(C)COC(C)=O GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M isocaproate Chemical compound CC(C)CCC([O-])=O FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid methyl ester Natural products COC(=O)CC(C)C OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N Cellulose propionate Chemical compound CCC(=O)OCC1OC(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C1OC1C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(COC(=O)CC)O1 DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMEGJBVQLJJKKX-HOTMZDKISA-N [(2R,3S,4S,5R,6R)-5-acetyloxy-3,4,6-trihydroxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound CC(=O)OC[C@@H]1[C@H]([C@@H]([C@H]([C@@H](O1)O)OC(=O)C)O)O SMEGJBVQLJJKKX-HOTMZDKISA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000007605 air drying Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 1
- 229920006218 cellulose propionate Polymers 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- -1 fatty acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はリソグラフィーにおけるフォトマスクを保護す
るためのフォトマスクカバーに関スるものである。
るためのフォトマスクカバーに関スるものである。
集積回路の製造のためのリソグラフィーにおいて、光源
に紫外線を用いたフォトレジストは、高い解像力と高い
生産性が特徴であり、特に集積度の高いウェハ乃至チッ
プの製造に極めて有用である。この場合、光源の波長が
短いほど解像力が高くなるので、ディープUV光が一般
に用いられる。
に紫外線を用いたフォトレジストは、高い解像力と高い
生産性が特徴であり、特に集積度の高いウェハ乃至チッ
プの製造に極めて有用である。この場合、光源の波長が
短いほど解像力が高くなるので、ディープUV光が一般
に用いられる。
この方式は、解像力が高いだけにフォトマスクの画像面
上への小さなゴミの付着はエツチング画像の精度を低下
させ、不良品発生の原因になるほか、ゴミ除去の作業に
より、フォトマスク自体を傷めやすく、その寿命を低下
させる。
上への小さなゴミの付着はエツチング画像の精度を低下
させ、不良品発生の原因になるほか、ゴミ除去の作業に
より、フォトマスク自体を傷めやすく、その寿命を低下
させる。
上記の対策として、フォトマスクの画像面側の光路中に
樹脂薄膜からなるフォトマスクカバーを挿入して、空気
中のゴミの付着からフォトマスク画像を保護する方法が
用いられている。
樹脂薄膜からなるフォトマスクカバーを挿入して、空気
中のゴミの付着からフォトマスク画像を保護する方法が
用いられている。
この場合、ゴミはフォトマスクの画像面上に付着するか
わりに、樹脂薄膜の表面に付着することになる。この際
、薄膜自身の厚み及びフォトマスク画像と薄膜との距離
が全面にわたって一定であれば、薄膜上の異物、即ちゴ
ミの存在の影響をレジスト面においてアウトフォーカシ
ングさせることが可能であり、フォトマスク画像に忠実
なパターンを露光により得ることができる。
わりに、樹脂薄膜の表面に付着することになる。この際
、薄膜自身の厚み及びフォトマスク画像と薄膜との距離
が全面にわたって一定であれば、薄膜上の異物、即ちゴ
ミの存在の影響をレジスト面においてアウトフォーカシ
ングさせることが可能であり、フォトマスク画像に忠実
なパターンを露光により得ることができる。
このようなフォトマスク保護用のフォトマスクカバーは
半導体産業において極めて有用なものであるが、その製
造方法が未だに確立されていない。
半導体産業において極めて有用なものであるが、その製
造方法が未だに確立されていない。
発明者等は、鋭意研究の結果、透明な樹脂薄膜を水中で
回収し、生乾きの状態でアルミニウム支持枠に固着した
のち乾燥することにより、フォトマスク保護に適したフ
ォトマスクカバーが得られることを認め、本発明に到達
した。
回収し、生乾きの状態でアルミニウム支持枠に固着した
のち乾燥することにより、フォトマスク保護に適したフ
ォトマスクカバーが得られることを認め、本発明に到達
した。
本発明に使用する支持枠に要求される機能は、以下の通
りである。
りである。
イ 薄膜を生乾きの状態で支持枠上にマウントし、揮発
性の溶剤を少量塗布し乾燥することにより、薄膜を支持
枠に接着できること。
性の溶剤を少量塗布し乾燥することにより、薄膜を支持
枠に接着できること。
口 薄膜が乾燥する際の収縮に耐えられること。
ハ 薄膜を均一な緊張状態に保持できること。
二 支持枠の厚みが、薄膜上の異物すなわちゴミの存在
の影響をレジスト面においてアウトフォーカシングさせ
ることが可能であること。
の影響をレジスト面においてアウトフォーカシングさせ
ることが可能であること。
ホ 支持枠材質から薄膜及びフォトマスクに悪影響を及
ぼすような物質がでないこと。
ぼすような物質がでないこと。
アルミニウム製支持枠は、上記の支持枠に要求される機
能を満足している。
能を満足している。
アルミニウム製支持枠に使用するアルミニウムには、強
度を増加するために他の金属を少量添加(10%以下)
したものを使用しても良い。
度を増加するために他の金属を少量添加(10%以下)
したものを使用しても良い。
支持枠の材質として有機ポリマーも考えられるが、接着
性、耐溶剤性、強度等の面で難点がある。
性、耐溶剤性、強度等の面で難点がある。
本発明に使用する薄膜の材料に要求される物性は以下の
通りである。
通りである。
イ 露光に使用する光の特定領域(特にこの場合UV領
域)で、できるだけ吸収が少ないこと。
域)で、できるだけ吸収が少ないこと。
口 薄い膜厚でも十分強度があり、支持枠で支持した後
、クリープや収縮のないこと。
、クリープや収縮のないこと。
ハ 結晶や配向により透過光に方向性を生じせしめない
こと。
こと。
また、薄膜の製造には次の条件を満足させることが必要
である。
である。
二 薄くて厚みの均一な膜とすること。
ホ 所定の厚みの膜とすること。
ヘ フレームに支持した状態が均一な緊張を保っている
こと。
こと。
ト 製膜及び支持の過程で膜を配向させないこと。
本発明のアルミニウム支持枠に支持した樹脂薄膜は、こ
れらの条件を満足させるものである。
れらの条件を満足させるものである。
本発明に使用する膜材料としてはセルロースエステルカ
適当であり、セルロースエステルとは、硝酸セルロース
、酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸酢酸
セルロースなどを指す。就中、硝酸セルロースは本発明
の目的に特に適当である。
適当であり、セルロースエステルとは、硝酸セルロース
、酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸酢酸
セルロースなどを指す。就中、硝酸セルロースは本発明
の目的に特に適当である。
樹脂薄膜の製造には、所謂流延方式を用いることによっ
て、配向性のない膜を得る。セルロースエステルはケト
ン、低級脂肪酸エステルなどの比較的低沸点溶剤に容易
に溶解し、溶液濃度及び流延厚みを規定することにより
、所定の出来上がり厚みの薄膜を製造することができる
。
て、配向性のない膜を得る。セルロースエステルはケト
ン、低級脂肪酸エステルなどの比較的低沸点溶剤に容易
に溶解し、溶液濃度及び流延厚みを規定することにより
、所定の出来上がり厚みの薄膜を製造することができる
。
フォトマスク保護用薄膜には、例えば2.8±0.3μ
mや4.5±0.3μmなどの一定の厚みのものが使用
される。
mや4.5±0.3μmなどの一定の厚みのものが使用
される。
流延時の流延基板を平滑なガラス板とし、溶媒除去後水
中に浸漬すると、薄膜はガラス板から自然に剥がれるの
で、容易に回収することができる。この薄膜をアルミニ
ウム支持枠に直接マウントし、生乾きの状態のとき、支
持枠と膜の接触部分に沿って、揮発性の溶剤を少量塗布
し乾燥させると、膜が支持枠に接着するとともに、ごく
僅かに膜が収縮しようとして、均一な緊張状態での支持
が得られる。
中に浸漬すると、薄膜はガラス板から自然に剥がれるの
で、容易に回収することができる。この薄膜をアルミニ
ウム支持枠に直接マウントし、生乾きの状態のとき、支
持枠と膜の接触部分に沿って、揮発性の溶剤を少量塗布
し乾燥させると、膜が支持枠に接着するとともに、ごく
僅かに膜が収縮しようとして、均一な緊張状態での支持
が得られる。
硝酸セルロースをはじめとするセルロースエステルは透
明度が高く、UV領域にも吸収が少なく、光学的に優れ
た材料である。また、結晶性が小さいのに分子構造が剛
直であるため、成形後のディメンショナルスタビリティ
がある。
明度が高く、UV領域にも吸収が少なく、光学的に優れ
た材料である。また、結晶性が小さいのに分子構造が剛
直であるため、成形後のディメンショナルスタビリティ
がある。
適当な流延溶剤が利用でき、ガラス板への密着性に乏し
いため、力を加えずに薄膜だけを回収することができ、
薄膜は水によりごく僅か膨潤するなど、種々の利点があ
る。
いため、力を加えずに薄膜だけを回収することができ、
薄膜は水によりごく僅か膨潤するなど、種々の利点があ
る。
一般にセルロースエステルの加工性は、可塑剤を使用す
ることにより向上するが、可塑剤の使用はUV領域の吸
収、ガラス面への接着性、クリープ性など、本発明の目
的には好ましくない効果が出るので、可塑剤は使用しな
い方が望ましい。
ることにより向上するが、可塑剤の使用はUV領域の吸
収、ガラス面への接着性、クリープ性など、本発明の目
的には好ましくない効果が出るので、可塑剤は使用しな
い方が望ましい。
以下の実施例によりさらに本発明を説明する。
実施例1
硝化綿R3−5(ダイセル化学工業製、インプロパツー
ル混綿、固型分70%)64g、メチルエチルケトン1
46 g 、酢酸ブチル120g及びトルエン120g
からなる硝化綿ドープを、クリアランス50μmのパー
コーターを用いて、平滑なガラス板上に塗布し、24時
間室温(20℃)に放置乾燥し、さらに60℃で1時間
乾燥した。乾燥フィルム化した硝化綿をガラス板ごと静
かに清浄な水中jこ浸漬した。暫時放置すると、硝化綿
フィルムはガラス板から自然に剥離したので、−旦直径
約150mmの円形アルミフレームを用いて形を崩さな
いようすくい上げ、該フレーム内の部分を内径100m
m、外径110mm、厚み10mmのアルミニウム支持
枠の上面にマウントした。次いで、フィルムの支持枠と
の接触界面に沿って、少量のメチルエチルケトンを塗布
し、風乾することによって、フィルムを支持枠に接着さ
せた。支持枠の外側にはみ出している部分のフィルムを
切り除き、60℃で3時間乾燥させると、均一な緊張度
で支持された厚さ3μm(比重1.6)の硝酸セルロー
スフィルムから成るフォトマスクカバーを得た。
ル混綿、固型分70%)64g、メチルエチルケトン1
46 g 、酢酸ブチル120g及びトルエン120g
からなる硝化綿ドープを、クリアランス50μmのパー
コーターを用いて、平滑なガラス板上に塗布し、24時
間室温(20℃)に放置乾燥し、さらに60℃で1時間
乾燥した。乾燥フィルム化した硝化綿をガラス板ごと静
かに清浄な水中jこ浸漬した。暫時放置すると、硝化綿
フィルムはガラス板から自然に剥離したので、−旦直径
約150mmの円形アルミフレームを用いて形を崩さな
いようすくい上げ、該フレーム内の部分を内径100m
m、外径110mm、厚み10mmのアルミニウム支持
枠の上面にマウントした。次いで、フィルムの支持枠と
の接触界面に沿って、少量のメチルエチルケトンを塗布
し、風乾することによって、フィルムを支持枠に接着さ
せた。支持枠の外側にはみ出している部分のフィルムを
切り除き、60℃で3時間乾燥させると、均一な緊張度
で支持された厚さ3μm(比重1.6)の硝酸セルロー
スフィルムから成るフォトマスクカバーを得た。
尚、アルミニウム支持枠の厚みは、フォトマスク画像面
と樹脂薄膜との間の光路中にふける一定の間隔を形成す
るスペーサーとして働くことになる。
と樹脂薄膜との間の光路中にふける一定の間隔を形成す
るスペーサーとして働くことになる。
実施例2
実施例1の硝化綿ドープに代えて、酢酸綿LT105(
ダイセル化学工業製)60g、塩化メチレン846g及
びメタノール94gからなる酢酸綿を用いて、実施例1
に準じて酢酸セルロースフィルムを作製した。但し流延
厚みは50μm、支持枠とフィルムとの接着に用いた溶
剤は塩化メチレン/メタノール=9/1の混合溶剤であ
った。
ダイセル化学工業製)60g、塩化メチレン846g及
びメタノール94gからなる酢酸綿を用いて、実施例1
に準じて酢酸セルロースフィルムを作製した。但し流延
厚みは50μm、支持枠とフィルムとの接着に用いた溶
剤は塩化メチレン/メタノール=9/1の混合溶剤であ
った。
同様にして均一な緊張度で支持された厚さ3μm(比重
1.3)のフィルムから成るフォトマスクカバーを得た
。
1.3)のフィルムから成るフォトマスクカバーを得た
。
実施例3
硝化綿R3−7(ダイセル化学工業製、イソプロパツー
ル混綿、固型分70%)20g、酢酸ブチル50g1酢
酸イソブチル50g及びシクロへキサノン90gからな
る硝化綿ドープを作製した。
ル混綿、固型分70%)20g、酢酸ブチル50g1酢
酸イソブチル50g及びシクロへキサノン90gからな
る硝化綿ドープを作製した。
このドープの23℃における粘度は480cpであった
。このドープを用いてスピンコーティング法によりフィ
ルムを作成した。即ち、スピンナーにガラス板をセット
し、?Orpmで回転させつつ、その回転中心に上記ド
ープを5秒間を要して滴下した。滴下終了後直ちに回転
速度を105゜rpmに上昇(立ち上がり所要時間0.
2秒)させ、この速度で15秒間維持する間に遠心流延
させた後、回転を停止させた。
。このドープを用いてスピンコーティング法によりフィ
ルムを作成した。即ち、スピンナーにガラス板をセット
し、?Orpmで回転させつつ、その回転中心に上記ド
ープを5秒間を要して滴下した。滴下終了後直ちに回転
速度を105゜rpmに上昇(立ち上がり所要時間0.
2秒)させ、この速度で15秒間維持する間に遠心流延
させた後、回転を停止させた。
次にガラス板をスピンナーから取り外し、24時間室内
(23℃、60%RH)に放置乾燥し、さらに60℃で
1時間乾燥した。以下実施例1と同様にして水中浸漬し
、ガラス板から生成フィルムを剥離し、アルミニウム支
持枠にマウントし、接着支持させた。支持枠ごと60℃
、3時間乾燥し、平均厚み0.29μm1厚みむら0.
03μm以下の均一な緊張度で支持された硝酸セルロー
スフィルムから成るフォトマスクカバーを得た。
(23℃、60%RH)に放置乾燥し、さらに60℃で
1時間乾燥した。以下実施例1と同様にして水中浸漬し
、ガラス板から生成フィルムを剥離し、アルミニウム支
持枠にマウントし、接着支持させた。支持枠ごと60℃
、3時間乾燥し、平均厚み0.29μm1厚みむら0.
03μm以下の均一な緊張度で支持された硝酸セルロー
スフィルムから成るフォトマスクカバーを得た。
実施例4
硝化綿R3−120(ダイセル化学工業製、イソプロパ
ツール混綿、固型分70%)10g、酢酸ブチル47.
6 g、酢酸イソブチル47.6 g及びシクロへキサ
ノン94.8 gからなる硝化綿ドープを作成した。
ツール混綿、固型分70%)10g、酢酸ブチル47.
6 g、酢酸イソブチル47.6 g及びシクロへキサ
ノン94.8 gからなる硝化綿ドープを作成した。
このドープの23℃における粘度は300cpであった
。
。
上記のドープを用い、且つ遠心流延の回転速度を78O
rpmとしたほかは、実施例3と同様に操作し、平均厚
さ0.90μm1厚みむら0.005μm以下の均一な
緊張度で支持された硝酸セルロースフィルムから成るフ
ォトマスクカバーを得た。
rpmとしたほかは、実施例3と同様に操作し、平均厚
さ0.90μm1厚みむら0.005μm以下の均一な
緊張度で支持された硝酸セルロースフィルムから成るフ
ォトマスクカバーを得た。
実施例5
酢酸綿L−20(ダイセル化学工業製、乾燥減率5%N
8.5g、エチレングリコールアセテートモノメチルエ
ーテル91゜2g1シクロへキサノン45、6 g 、
酢酸ブチル22.8 g及び酢酸イソブチル22、8
gからなる酢酸綿ドープを作成した。
8.5g、エチレングリコールアセテートモノメチルエ
ーテル91゜2g1シクロへキサノン45、6 g 、
酢酸ブチル22.8 g及び酢酸イソブチル22、8
gからなる酢酸綿ドープを作成した。
このドープの23℃における粘度は550cpであった
。
。
上記のドープを用い、ガラス板上に滴下するときの回転
速度が20Orpm、滴下所要時間7秒間、遠心流延の
回転速度850rpmとしたほかは、実施例3と同様に
操作し、平均厚さ2.90μm1厚みむら0.03μm
以下の均一な緊張度で支持された酢酸セルロースフィル
ムから成るフォトマスクカバーを得た。
速度が20Orpm、滴下所要時間7秒間、遠心流延の
回転速度850rpmとしたほかは、実施例3と同様に
操作し、平均厚さ2.90μm1厚みむら0.03μm
以下の均一な緊張度で支持された酢酸セルロースフィル
ムから成るフォトマスクカバーを得た。
Claims (1)
- アルミニウム支持枠に透明な樹脂薄膜が均一な緊張状態
で保持されてなるフォトマスクカバー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1089135A JPH0262A (ja) | 1989-04-07 | 1989-04-07 | フォトマスクカバー |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1089135A JPH0262A (ja) | 1989-04-07 | 1989-04-07 | フォトマスクカバー |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57103488A Division JPS58219023A (ja) | 1982-06-15 | 1982-06-15 | 樹脂薄膜の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0262A true JPH0262A (ja) | 1990-01-05 |
| JPH0578027B2 JPH0578027B2 (ja) | 1993-10-27 |
Family
ID=13962437
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1089135A Granted JPH0262A (ja) | 1989-04-07 | 1989-04-07 | フォトマスクカバー |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0262A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100910657B1 (ko) * | 2007-02-23 | 2009-08-05 | 박현진 | 신규한 락토바실러스 브츠네리 및 이의 용도 |
| KR100919852B1 (ko) * | 2007-11-15 | 2009-09-30 | 한국 한의학 연구원 | 해방풍 추출물을 유효성분으로 함유하는 부종 또는 피부염예방 및 치료용 조성물 |
| LT5905B (lt) | 2011-05-13 | 2013-02-25 | Ernest Vardanian | Pagalbinė plaukimo priemonė |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4255216A (en) * | 1980-01-14 | 1981-03-10 | International Business Machines Corporation | Pellicle ring removal method and tool |
| JPS5658856U (ja) * | 1979-10-09 | 1981-05-20 |
-
1989
- 1989-04-07 JP JP1089135A patent/JPH0262A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5658856U (ja) * | 1979-10-09 | 1981-05-20 | ||
| US4255216A (en) * | 1980-01-14 | 1981-03-10 | International Business Machines Corporation | Pellicle ring removal method and tool |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100910657B1 (ko) * | 2007-02-23 | 2009-08-05 | 박현진 | 신규한 락토바실러스 브츠네리 및 이의 용도 |
| KR100919852B1 (ko) * | 2007-11-15 | 2009-09-30 | 한국 한의학 연구원 | 해방풍 추출물을 유효성분으로 함유하는 부종 또는 피부염예방 및 치료용 조성물 |
| LT5905B (lt) | 2011-05-13 | 2013-02-25 | Ernest Vardanian | Pagalbinė plaukimo priemonė |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0578027B2 (ja) | 1993-10-27 |
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