JP2939193B2 - 防塵膜 - Google Patents
防塵膜Info
- Publication number
- JP2939193B2 JP2939193B2 JP1244297A JP1244297A JP2939193B2 JP 2939193 B2 JP2939193 B2 JP 2939193B2 JP 1244297 A JP1244297 A JP 1244297A JP 1244297 A JP1244297 A JP 1244297A JP 2939193 B2 JP2939193 B2 JP 2939193B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- adhesive
- pellicle
- frame
- film
- mask
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
- G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
- G03F1/84—Inspecting
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明が属する技術分野】本発明は、ＩＣ、ＬＳＩ等の
半導体装置の製造工程におけるフォトリソグラフィ工程
で使用されるフォトマスクやレチクル等（以下単にマス
クという）に塵埃等の異物が付着するのを防止する目的
で使用される防塵膜（以下ペリクルという）に関する。 【０００２】 【従来技術】フォトリソグラフィ工程では、ガラス板表
面にクロム等の蒸着膜で回路パターンを形成したマスク
を使用し、その回路パターンをレジストを塗布したシリ
コンウエハー上に転写する作業が行われる。この工程で
はマスク上の回路パターンに塵埃等の異物が付着した状
態で露光が行われると、ウエハー上にも上記異物が転写
され、不良製品となる。ことに前記露光をステッパーで
行う場合には、ウエハー上に形成される全てのチップが
不良となる可能性が高くなり、マスク等の回路パターン
への異物の付着は大きな問題である。この問題を解消す
るため近年、ペリクルが開発され使用され始めてきた。 【０００３】ペリクルは一般にアルミ製のペリクル枠の
一側面にニトロセルロース等からなる透明膜を張設して
なるもので、他側端面に両面粘着テープを貼着してマス
ク上に取付けられるようになっている。これによれば、
外部からの異物の侵入を防ぐことができ、また仮に膜上
に異物が付着するようなことがあっても露光時にはピン
ボケの状態で転写されるため問題は生じないが、異物が
膜やペリクル枠の内側に付着していると、これが何かの
拍子で例えば露光装置上のマスクを取換えるときなどに
振動や衝撃が生じると、マスク上に落下して不良品の発
生原因となることがある。 【０００４】特表昭６０ー５０２１２１号には、ペリク
ル内部へ異物が入り込むのを防止するためにペリクル枠
のマスク側接着面に保護カバーを貼ったものが開示され
ているが、使用時に保護カバーを剥がすとき内部が減圧
されて回りの空気とともに異物を吸込むことがあり、従
来は問題にならなかったような１〜２μm 以下の微小サ
イズの異物でも半導体装置の集積度が向上し、異物の許
容サイズが小さくなるのに伴い問題を生ずるおそれがあ
る。 【０００５】 【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、マスク
への取付前に膜やペリクルの内側に異物が付着していな
いのを確認したクリーンなペリクルをマスクに取付けて
みたところ、それでもなおマスクを交換した際などにマ
スク上に当初はなかった異物が付着していることを見出
した。この原因を解明するためペリクル内部を精緻に観
察したところ、ペリクル枠として一般に使用されるアル
マイト処理されたアルミ枠には、その表面に微細な凹凸
の窪みがあることを見出し、これらの窪みに入り込んで
いる異物が振動や衝撃を与えられたときに発塵の原因と
なることが判明した。こうした窪みに入り組んだ異物は
検出することも除去することも困難で、その結果、例え
表面上は異物の全くないペリクルを得、外部からの異物
の侵入をなくしたとしても従来の構造のまゝでは発塵を
防止することはできないという結論に達した。 【０００６】本発明は上記の問題を解消し、振動や衝撃
が与えられても発塵することのない無発塵性のペリクル
を得るため、ペリクル枠内側面に枠からの発塵を防止す
るために粘着剤をコーティングしようとするものである
が、、これには次のような問題があることが分かった。
すなわちペリクルは、膜の光透過性が限りなく１００％
に近いものが望まれるが、本発明者らの実験によると、
粘着剤として一般に使用される有機系のもので、トルエ
ン、酢酸エチル等低沸点物質（沸点１５０℃以下）が含
まれる場合、低沸点物質の和が０．０００１０mol を越
えると、ペリクル膜が厚くなり、透過率が低くなって、
使用に不適となることを見出した。 【０００７】本発明者らはまた、マスク上にペリクルを
両面粘着テープを用いて取付ける代わりに、ペリクル枠
側端面に粘着剤を直接塗布してマスク上に取付けること
を考え、粘着剤の厚みを種々変えて実験を行ったとこ
ろ、粘着剤層の厚みが０．１mm以下だと接着面積が少な
くなって接着密封性が大幅に低下し、ペリクル内に異物
が入り込むおそれがある一方、３mm以上になると接着時
に枠内外にはみ出したり、取扱い時にべと付き、ハンド
リング上の問題が生じることを見出した。 【０００８】 【課題の解決手段】本発明は上記の知見に基づいてなさ
れたもので、ペリクル枠と、該枠の一側端面に張設され
るペリクル膜よりなり、ペリクル枠の内側面に枠表面か
らの発塵を防止するための粘着剤をコーティングして粘
着剤層を形成してなる、マスクに貼着される防塵膜にお
いて、上記粘着剤が、沸点１５０℃以下の低沸点物質の
和が０．０００１０mol 以下の有機系粘着剤であること
を特徴とする。 【０００９】本発明で用いる粘着剤は更に保管中或いは
運搬中に流動化することのないようにする必要があり、
そのため好ましくは流動化温度が50℃以上のものを使用
するのが望まれる。粘着剤としてはまた露光時の 250〜
450 nmの光で分解したり劣化しないものを使用するのが
望まれる。 【００１０】粘着剤のコーティング方法には、塗布、ス
プレー塗布などが例として挙げられる。ペリクル枠は従
来より一般に使用されているアルミ製のアルマイト処理
された枠ばかりでなく他の材料からなる、とくに発塵性
を有する枠を使用することもできる。防塵膜をマスクに
貼着する際には、両面粘着テープ又は粘着剤が用いられ
る。両面粘着テープを使用する場合、そのテープ幅は枠
端面と同一巾か若しくはこれより若干小さくする必要が
ある。枠端面より巾広で内側にはみ出した場合には、露
光に影響を与え、外側にはみ出た場合にはハンドリング
上の問題が生じるようになるからであり、また逆に小さ
過ぎると、接着面積が小さくなって密封性が悪くなるか
らである。 【００１１】図１は、一側端面にペリクル膜１を張設し
たペリクル枠２の他側端面に両面粘着テープ３を取付
け、かつペリクル枠より両面粘着テープに至る内側面全
域に粘着剤４を塗布したペリクルの使用例を示すもの
で、マスク５の表裏両側面にパターン回路６を囲むよう
にして貼着されるようになっている。 【００１２】更に別の発明は、ペリクル枠と、該枠の一
側端面に張設されるペリクル膜よりなり、ペリクル枠の
内側面に枠表面からの発塵を防止するための粘着剤をコ
ーティングして粘着剤層を形成し、ペリクル枠の他側端
面に粘着剤を直接塗布してマスクに貼着される防塵膜に
おいて、上記粘着剤が、沸点１５０℃以下の低沸点物質
の和が０．０００１０mol 以下の有機系粘着剤であり、
また上記粘着剤の厚みを０．１〜３mmとしたことを特徴
とする。 【００１３】 【発明の実施の形態】 実施例１ 図１に示すペリクルにおいて、ペリクル枠内側面全域に
塗布される粘着剤にトルエン０．５％、酢酸ブチル０．
４％、メチルエチルケトン０．３％を含有する有機系粘
着剤を用い、粘着剤の塗布量を０．４〜０．８ｇまで
０．１ｇづゝ変えた５種類のペリクル及び上記粘着剤に
トルエン０．６％、酢酸ブチル０．６％、メチルエチル
ケトン０．８％を含有する０．５ｇの有機系粘着剤を用
いたペリクルを用意した。これらのペリクルはいづれも
薄膜が０．８６５μm で、粘着剤を塗布するに当たって
は、予め各量の粘着剤中に含まれるトルエン、酢酸ブチ
ル、メチルエチルケトンなど、沸点１５０℃以下の低沸
点物質の和を測定しておいた。次にこれらペリクルをそ
れぞれシリコンウエハーに貼付した。そして一週間経過
したのち、薄膜の変化をオーク社製の薄膜測定装置（Ｔ
ＦＭ−１２０）を使用して測定した。その結果を表１に
示す。 【００１４】 【表１】 表１に見られるように、１５０℃以下の低沸点物質の量
が０．０００１mol を越えると、薄膜の変動が１２０Å
以上と急激に大きくなり、光透過率が低下した。 実施例２ ペリクルの側端面に粘着剤を直接塗布してペリクルをマ
スクに貼着する際、粘着剤（接着剤）の厚みを０．０３
〜１．００mmまで変えて、それぞれの接着面積％を調べ
た。結果を表２に示す。 【００１５】 【表２】 表２に見られるように、接着剤圧さが０．１mmでは接着
面積が６０〜１００％となって密封性がよいのに対し、
接着剤厚さが０．０７mmになると、接着面積が１５〜３
０％となって大きな差を生じた。ここで接着面積％と
は、枠側端面の接着部分の面積と、接着剤が塗布される
面積の比をいう。 【００１６】 【発明の効果】請求項１記載の防塵膜によると、ペリク
ル枠内側面に塗布した粘着剤により枠からの発塵を防止
することができる効果のほかに、次のような効果を有す
る。すなわちペリクルは、使用直前に枠内側面の異物の
検査が目視により行われるが（自動検査することがきわ
めて困難であるため）、検査時に見過ごした異物や目視
では見出せない小さなサイズの異物、更には検査後マス
クへの取付前に異物が入り込んで枠内側面に付着するよ
うなことがあった場合、そうした異物をマスク上に落下
しないように保持することができ、マスクに取付時の異
物検査を省略することも可能となる。しかも防塵膜のペ
リクル膜は、露光時の光透過性のよいものが望まれる
が、粘着剤に含まれる１５０℃以下の低沸点物質の和を
０．０００１０mol 以下に抑えることによって膜厚変動
が小さくなり、光透過性を損なわないようにすることが
できる。 【００１７】請求項２記載の防塵膜によれば、粘着剤が
夏季においても流動化するのを防ぐことができ、請求項
３記載の防塵膜では２５０〜４５０nmの露光光源を使用
することができる。請求項４記載の防塵膜によると、請
求項１記載の発明の効果を奏すると共に、ペリクル枠側
端面に塗布される粘着剤の厚みを０．１〜３mmとするこ
とによってマスクへの接着面積を十分に取ることがで
き、接着密封性を向上させることができると共に、マス
クへの接着時に粘着剤が枠内外にはみ出したり、取扱い
時にべと付いたりすることがないという効果を奏する。
半導体装置の製造工程におけるフォトリソグラフィ工程
で使用されるフォトマスクやレチクル等（以下単にマス
クという）に塵埃等の異物が付着するのを防止する目的
で使用される防塵膜（以下ペリクルという）に関する。 【０００２】 【従来技術】フォトリソグラフィ工程では、ガラス板表
面にクロム等の蒸着膜で回路パターンを形成したマスク
を使用し、その回路パターンをレジストを塗布したシリ
コンウエハー上に転写する作業が行われる。この工程で
はマスク上の回路パターンに塵埃等の異物が付着した状
態で露光が行われると、ウエハー上にも上記異物が転写
され、不良製品となる。ことに前記露光をステッパーで
行う場合には、ウエハー上に形成される全てのチップが
不良となる可能性が高くなり、マスク等の回路パターン
への異物の付着は大きな問題である。この問題を解消す
るため近年、ペリクルが開発され使用され始めてきた。 【０００３】ペリクルは一般にアルミ製のペリクル枠の
一側面にニトロセルロース等からなる透明膜を張設して
なるもので、他側端面に両面粘着テープを貼着してマス
ク上に取付けられるようになっている。これによれば、
外部からの異物の侵入を防ぐことができ、また仮に膜上
に異物が付着するようなことがあっても露光時にはピン
ボケの状態で転写されるため問題は生じないが、異物が
膜やペリクル枠の内側に付着していると、これが何かの
拍子で例えば露光装置上のマスクを取換えるときなどに
振動や衝撃が生じると、マスク上に落下して不良品の発
生原因となることがある。 【０００４】特表昭６０ー５０２１２１号には、ペリク
ル内部へ異物が入り込むのを防止するためにペリクル枠
のマスク側接着面に保護カバーを貼ったものが開示され
ているが、使用時に保護カバーを剥がすとき内部が減圧
されて回りの空気とともに異物を吸込むことがあり、従
来は問題にならなかったような１〜２μm 以下の微小サ
イズの異物でも半導体装置の集積度が向上し、異物の許
容サイズが小さくなるのに伴い問題を生ずるおそれがあ
る。 【０００５】 【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、マスク
への取付前に膜やペリクルの内側に異物が付着していな
いのを確認したクリーンなペリクルをマスクに取付けて
みたところ、それでもなおマスクを交換した際などにマ
スク上に当初はなかった異物が付着していることを見出
した。この原因を解明するためペリクル内部を精緻に観
察したところ、ペリクル枠として一般に使用されるアル
マイト処理されたアルミ枠には、その表面に微細な凹凸
の窪みがあることを見出し、これらの窪みに入り込んで
いる異物が振動や衝撃を与えられたときに発塵の原因と
なることが判明した。こうした窪みに入り組んだ異物は
検出することも除去することも困難で、その結果、例え
表面上は異物の全くないペリクルを得、外部からの異物
の侵入をなくしたとしても従来の構造のまゝでは発塵を
防止することはできないという結論に達した。 【０００６】本発明は上記の問題を解消し、振動や衝撃
が与えられても発塵することのない無発塵性のペリクル
を得るため、ペリクル枠内側面に枠からの発塵を防止す
るために粘着剤をコーティングしようとするものである
が、、これには次のような問題があることが分かった。
すなわちペリクルは、膜の光透過性が限りなく１００％
に近いものが望まれるが、本発明者らの実験によると、
粘着剤として一般に使用される有機系のもので、トルエ
ン、酢酸エチル等低沸点物質（沸点１５０℃以下）が含
まれる場合、低沸点物質の和が０．０００１０mol を越
えると、ペリクル膜が厚くなり、透過率が低くなって、
使用に不適となることを見出した。 【０００７】本発明者らはまた、マスク上にペリクルを
両面粘着テープを用いて取付ける代わりに、ペリクル枠
側端面に粘着剤を直接塗布してマスク上に取付けること
を考え、粘着剤の厚みを種々変えて実験を行ったとこ
ろ、粘着剤層の厚みが０．１mm以下だと接着面積が少な
くなって接着密封性が大幅に低下し、ペリクル内に異物
が入り込むおそれがある一方、３mm以上になると接着時
に枠内外にはみ出したり、取扱い時にべと付き、ハンド
リング上の問題が生じることを見出した。 【０００８】 【課題の解決手段】本発明は上記の知見に基づいてなさ
れたもので、ペリクル枠と、該枠の一側端面に張設され
るペリクル膜よりなり、ペリクル枠の内側面に枠表面か
らの発塵を防止するための粘着剤をコーティングして粘
着剤層を形成してなる、マスクに貼着される防塵膜にお
いて、上記粘着剤が、沸点１５０℃以下の低沸点物質の
和が０．０００１０mol 以下の有機系粘着剤であること
を特徴とする。 【０００９】本発明で用いる粘着剤は更に保管中或いは
運搬中に流動化することのないようにする必要があり、
そのため好ましくは流動化温度が50℃以上のものを使用
するのが望まれる。粘着剤としてはまた露光時の 250〜
450 nmの光で分解したり劣化しないものを使用するのが
望まれる。 【００１０】粘着剤のコーティング方法には、塗布、ス
プレー塗布などが例として挙げられる。ペリクル枠は従
来より一般に使用されているアルミ製のアルマイト処理
された枠ばかりでなく他の材料からなる、とくに発塵性
を有する枠を使用することもできる。防塵膜をマスクに
貼着する際には、両面粘着テープ又は粘着剤が用いられ
る。両面粘着テープを使用する場合、そのテープ幅は枠
端面と同一巾か若しくはこれより若干小さくする必要が
ある。枠端面より巾広で内側にはみ出した場合には、露
光に影響を与え、外側にはみ出た場合にはハンドリング
上の問題が生じるようになるからであり、また逆に小さ
過ぎると、接着面積が小さくなって密封性が悪くなるか
らである。 【００１１】図１は、一側端面にペリクル膜１を張設し
たペリクル枠２の他側端面に両面粘着テープ３を取付
け、かつペリクル枠より両面粘着テープに至る内側面全
域に粘着剤４を塗布したペリクルの使用例を示すもの
で、マスク５の表裏両側面にパターン回路６を囲むよう
にして貼着されるようになっている。 【００１２】更に別の発明は、ペリクル枠と、該枠の一
側端面に張設されるペリクル膜よりなり、ペリクル枠の
内側面に枠表面からの発塵を防止するための粘着剤をコ
ーティングして粘着剤層を形成し、ペリクル枠の他側端
面に粘着剤を直接塗布してマスクに貼着される防塵膜に
おいて、上記粘着剤が、沸点１５０℃以下の低沸点物質
の和が０．０００１０mol 以下の有機系粘着剤であり、
また上記粘着剤の厚みを０．１〜３mmとしたことを特徴
とする。 【００１３】 【発明の実施の形態】 実施例１ 図１に示すペリクルにおいて、ペリクル枠内側面全域に
塗布される粘着剤にトルエン０．５％、酢酸ブチル０．
４％、メチルエチルケトン０．３％を含有する有機系粘
着剤を用い、粘着剤の塗布量を０．４〜０．８ｇまで
０．１ｇづゝ変えた５種類のペリクル及び上記粘着剤に
トルエン０．６％、酢酸ブチル０．６％、メチルエチル
ケトン０．８％を含有する０．５ｇの有機系粘着剤を用
いたペリクルを用意した。これらのペリクルはいづれも
薄膜が０．８６５μm で、粘着剤を塗布するに当たって
は、予め各量の粘着剤中に含まれるトルエン、酢酸ブチ
ル、メチルエチルケトンなど、沸点１５０℃以下の低沸
点物質の和を測定しておいた。次にこれらペリクルをそ
れぞれシリコンウエハーに貼付した。そして一週間経過
したのち、薄膜の変化をオーク社製の薄膜測定装置（Ｔ
ＦＭ−１２０）を使用して測定した。その結果を表１に
示す。 【００１４】 【表１】 表１に見られるように、１５０℃以下の低沸点物質の量
が０．０００１mol を越えると、薄膜の変動が１２０Å
以上と急激に大きくなり、光透過率が低下した。 実施例２ ペリクルの側端面に粘着剤を直接塗布してペリクルをマ
スクに貼着する際、粘着剤（接着剤）の厚みを０．０３
〜１．００mmまで変えて、それぞれの接着面積％を調べ
た。結果を表２に示す。 【００１５】 【表２】 表２に見られるように、接着剤圧さが０．１mmでは接着
面積が６０〜１００％となって密封性がよいのに対し、
接着剤厚さが０．０７mmになると、接着面積が１５〜３
０％となって大きな差を生じた。ここで接着面積％と
は、枠側端面の接着部分の面積と、接着剤が塗布される
面積の比をいう。 【００１６】 【発明の効果】請求項１記載の防塵膜によると、ペリク
ル枠内側面に塗布した粘着剤により枠からの発塵を防止
することができる効果のほかに、次のような効果を有す
る。すなわちペリクルは、使用直前に枠内側面の異物の
検査が目視により行われるが（自動検査することがきわ
めて困難であるため）、検査時に見過ごした異物や目視
では見出せない小さなサイズの異物、更には検査後マス
クへの取付前に異物が入り込んで枠内側面に付着するよ
うなことがあった場合、そうした異物をマスク上に落下
しないように保持することができ、マスクに取付時の異
物検査を省略することも可能となる。しかも防塵膜のペ
リクル膜は、露光時の光透過性のよいものが望まれる
が、粘着剤に含まれる１５０℃以下の低沸点物質の和を
０．０００１０mol 以下に抑えることによって膜厚変動
が小さくなり、光透過性を損なわないようにすることが
できる。 【００１７】請求項２記載の防塵膜によれば、粘着剤が
夏季においても流動化するのを防ぐことができ、請求項
３記載の防塵膜では２５０〜４５０nmの露光光源を使用
することができる。請求項４記載の防塵膜によると、請
求項１記載の発明の効果を奏すると共に、ペリクル枠側
端面に塗布される粘着剤の厚みを０．１〜３mmとするこ
とによってマスクへの接着面積を十分に取ることがで
き、接着密封性を向上させることができると共に、マス
クへの接着時に粘着剤が枠内外にはみ出したり、取扱い
時にべと付いたりすることがないという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例に係わるペリクルの断面図。
【符号の説明】
１・・ペリクル膜
２・・ペリクル枠
３・・両面粘着テープ
４・・粘着剤
５・・マスク
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名)
G03F 1/14
H01L 21/027
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 １．ペリクル枠と、該枠の一側端面に張設されるペリク
ル膜よりなり、ペリクル枠の内側面に枠表面からの発塵
を防止するための粘着剤をコーティングして粘着剤層を
形成してなる、フォトマスクやレチクル等に貼着される
防塵膜において、上記粘着剤が、沸点１５０℃以下の低
沸点物質の和が０．０００１０mol 以下の有機系粘着剤
であることを特徴とする防塵膜。 ２．粘着剤の流動化温度は５０℃以上である請求項１記
載の防塵膜。 ３．粘着剤は、２５０〜４５０nmの光で分解並びに劣化
しない粘着剤である請求項１記載の防塵膜。 ４．ペリクル枠と、該枠の一側端面に張設されるペリク
ル膜よりなり、ペリクル枠の内側面に枠表面からの発塵
を防止するための粘着剤をコーティングして粘着剤層を
形成し、ペリクル枠の他側端面に粘着剤を直接塗布して
フォトマスクやレチクル等に貼着される防塵膜におい
て、上記粘着剤が、沸点１５０℃以下の低沸点物質の和
が０．０００１０mol 以下の有機系粘着剤であり、また
上記粘着剤の厚みを０．１〜３mmとしたことを特徴とす
る防塵膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1244297A JP2939193B2 (ja) | 1997-01-27 | 1997-01-27 | 防塵膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1244297A JP2939193B2 (ja) | 1997-01-27 | 1997-01-27 | 防塵膜 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20553387A Division JP2642637B2 (ja) | 1987-08-18 | 1987-08-18 | 防塵膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10171103A JPH10171103A (ja) | 1998-06-26 |
| JP2939193B2 true JP2939193B2 (ja) | 1999-08-25 |
Family
ID=11805435
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1244297A Expired - Lifetime JP2939193B2 (ja) | 1997-01-27 | 1997-01-27 | 防塵膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2939193B2 (ja) |
-
1997
- 1997-01-27 JP JP1244297A patent/JP2939193B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH10171103A (ja) | 1998-06-26 |
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