KR20140123891A - 펠리클 프레임 및 이것을 이용한 펠리클 - Google Patents

Abstract

[과제]
본 발명은 펠리클 프레임 내측의 표면에 보이드나 흰점 등의 이물로 오인되는 휘점(결함)이 없고, 외관 품질이나 신뢰성이 뛰어난 펠리클 프레임 및 이것을 이용한 펠리클을 제공하는 것을 목적으로 한다.
[해결 수단]
본 발명의 알루미늄 합금제의 펠리클 프레임(10)은 펠리클 프레임(10)의 형상으로 가공된 후에 적어도 펠리클 프레임 내측 표면에 순알루미늄 피막(22)이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 것이며, 이 순알루미늄 피막(22) 상에 알루마이트 피막(23)을 형성할 수 있다. 순알루미늄 피막(22)은 그 순도가 99.7% 이상인 것이 바람직하고, 그 두께는 3㎛ 이상 50㎛ 이하인 것이 바람직하다.

Description

펠리클 프레임 및 이것을 이용한 펠리클{A PELLICLE FRAME AND A PELLICLE WITH THIS}

본 발명은 반도체 디바이스, 프린트 기판, 액정 또는 유기 EL 디스플레이 등을 제조할 때의 먼지 막이로서 사용되는 펠리클 프레임 및 이것을 이용한 펠리클에 관한 것이다.

LSI , 초LSI 등의 반도체 또는 액정 디스플레이 등의 제조에 있어서는 반도체 웨이퍼 또는 액정용 원판에 광을 조사해서 패턴을 제작하지만, 이때에 이용하는 포토마스크 또는 레티클(이하, 간단히 포토마스크로 기술)에 먼지가 부착되어 있으면 이 먼지가 광을 흡수하거나 광을 왜곡해버리기 때문에 전사한 패턴이 변형되거나, 에지가 울퉁불퉁한 것으로 되는 외에, 하지(下地)가 검게 오염되거나 하는 등 치수, 품질, 외관 등이 손상된다는 문제가 있었다.

이 때문에, 이들 작업은 통상 클린룸에서 행해지고 있지만, 그래도 포토마스크를 항상 청정하게 유지하는 것이 어렵다. 그래서, 포토마스크 표면에 먼지 막이로서 펠리클을 부착한 후에 노광을 행하고 있다. 이 경우, 이물은 포토마스크의 표면에는 직접 부착되지 않고 펠리클 상에 부착되기 때문에 리소그래피 시에 초점을 포토마스크의 패턴 상에 맞춰 두면 펠리클 상의 이물은 전사에 관계없게 된다.

일반적으로, 펠리클은 광을 잘 투과시키는 니트로셀룰로오스, 아세트산 셀룰로오스 또는 불소 수지 등으로 이루어지는 투명한 펠리클막을 알루미늄, 스테인리스강 등으로 이루어지는 펠리클 프레임의 상단면에 부착 또는 접착해서 구성되어 있다. 또한, 펠리클 프레임의 하단에는 포토마스크에 장착하기 위한 폴리부텐 수지, 폴리아세트산 비닐 수지, 아크릴 수지, 실리콘 수지 등으로 이루어지는 점착층 및 점착층의 보호를 목적으로 한 이형층(세퍼레이터)이 형성되어 있다.

이와 같은 펠리클은 암실 내 등에서 집광 램프를 이용한 이물 검사가 행해져 사용할 때에 이물의 부착이 없는지 확인된다. 그리고, 이 검사는 펠리클막면뿐만 아니라 펠리클 프레임의 내면에 대해서도 행해진다. 펠리클 프레임 내면에 부착된 이물은 마스크 표면으로 낙하할 우려가 있기 때문에, 일반적으로 이 이물 검사는 암실 내에서 집광 램프 등의 조도가 큰 광을 조사해서 육안으로 행해지고, 이물이 있을 경우에는 펠리클 프레임 상의 휘점으로서 인식된다. 이 펠리클 프레임의 표면에는 미세한 요철이 존재하고 있기 때문에 미소한 요철도 포함시키면 휘점이라 할 수 있는 것은 무수하게 있다고 말해도 좋다. 그 때문에, 현상태에서는 휘점의 크기로부터 대략적인 이물의 크기를 판단하고, 설정한 역치에 따라서 허용할 수 없는 크기의 것을 불량으로 판정하고 있다.

그런데, 펠리클 프레임 내면에 점착층이 형성되어 있을 경우에는 만일 이물이 부착되어 있어도 낙하의 우려가 작기 때문에 허용할 수 있는 이물은 예를 들면 수십㎛ 정도로 커지지만, 최근에는 노광 시의 미광(迷光)에 의한 열화나 가스 방출을 우려해서 점착층을 형성하지 않는 경우도 많으므로, 그 경우에는 매우 작은 예를 들면 수㎛ 정도의 이물까지도 문제시하는 매우 엄격한 검사가 행해지기 때문에 불량으로 판정되는 케이스가 많이 발생하고 있다.

그러나, 이 엄격한 검사에 있어서 이물로서 검출되는 것 중에는 부착 이물 이 아니라 펠리클 프레임의 알루마이트 피막의 결함이 이물로 오인되는 케이스도 많다. 일반적으로 이용되는 알루미늄 합금제 펠리클 프레임의 표면에는 흑색 알루마이트 처리가 실시되어 있지만, 표면에 조대한 정출물(금속간 화합물) 등이 있을 경우에 그 표면에 정상인 양극 산화 피막이 형성되지 않고 보이드(void)로 되거나 또는 제대로 염색되지 않아 흰점으로 되는 경우도 있다.

특허문헌 1 및 2에는 이것을 방지하기 위해서, 알루미늄 합금의 합금 원소의 불순물량을 저감해서 정출물의 크기를 작게 하는 등의 시도가 기재되어 있다. 그러나, 알루미늄 합금 중에는 강화 원소로서 다양한 것이 함유되어 있어 합금 성분 유래의 결함(휘점)을 완전히 방지하는 것은 매우 어렵다는 문제가 있다.

한편, 특허문헌 3에는 알루마이트 피막의 표면이 다공질이기 때문에 이 표면으로부터의 먼지 발생을 우려해서 펠리클 프레임 표면에 수지 코팅을 행하는 방법이 기재되어 있지만, 이 경우에는 펠리클 프레임 표면에 수지 코팅에 의해 약간 광택이 부여되기 때문에 표면의 결함(휘점)이 보다 강조된다는 현상이 문제로 된다.

이상과 같이, 지금까지는 이물로 오인되는 결함(휘점)이 없는 표면 품질이 뛰어난 펠리클 프레임이나 펠리클은 얻어지지 않고 있는 것이 실정이다. 그 때문에, 펠리클 프레임 내면의 이물 검사에 매우 긴 시간을 필요로 하고 있었지만, 이와 같은 장시간의 이물 검사는 비용의 점에서 문제가 있는 것 이외에, 검사에 있어서 오인이나 간과의 가능성도 많으므로 신뢰성이라는 점에서도 문제가 있다.

일본 특허 3777987 호 일본 특허 4605305 호 일본 특허 공개 2007-333910 호

본 발명은 상기와 같은 문제를 감안하여 이루어진 것이며, 펠리클 프레임 내측 표면에 보이드나 흰점 등의 이물로 오인되는 휘점(결함)이 없고, 외관 품질이나 신뢰성이 우수한 펠리클 프레임 및 이것을 이용한 펠리클을 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명자들은 상기 목적을 달성하기 위하여 예의 검토를 행한 바, 펠리클 프레임을 구성하는 알루미늄 합금의 표면 또는 표면 근방에 적지 않게 정출물이 존재하고 있으면 양극 산화 피막이 그 부근에서는 정상적으로 형성되지 않아 보이드 등의 형상 결함이 발생하기 쉬워지고, 이 형상 결함이 이물로 오인되는 표면 결함(휘점)의 원인으로 되고 있으므로, 이 형상 결함을 갖는 표면 또는 표면 근방을 정출물이 거의 없는 순도가 높은 순알루미늄으로 덮으면 알루미늄 합금 유래의 정출물이나 이 정출물에 따라서 발생하는 형상 결함의 영향을 전혀 받지 않는 것을 발견해서 본 발명에 이른 것이다.

즉, 본 발명은 알루미늄 합금에 의해 제작된 펠리클 프레임이며, 펠리클 프레임 형상으로 가공된 후에 적어도 펠리클 프레임 내측 표면에 순알루미늄 피막이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 것이다. 이 경우의 순알루미늄 피막의 순도는 99.7% 이상인 것, 그 표면 거칠기는 Ra 0.5~5㎛인 것이 바람직하고, 순알루미늄 피막을 연마해서 평활화하는 것도 바람직하다.

또한, 순알루미늄 피막의 두께는 3㎛ 이상 50㎛ 이하인 것이 바람직하고, 이와 같은 순알루미늄 피막은 용사(溶射) 또는 증착에 의해 형성할 수 있다.

또한, 순알루미늄 피막이 형성된 후에 양극 산화 처리, 염색 또는 전해 착색, 또한 봉공 처리가 실시되는 것이 바람직하고, 봉공 처리 후에 그 외측에 수지 피막이 더 형성되어도 좋고, 이 수지 피막의 재질은 아크릴 수지, 폴리에스테르 수지, 실리콘 수지, 불소 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것이 바람직하다.

[발명의 효과]

본 발명에 의하면, 펠리클 프레임 내면에 순알루미늄 피막층을 형성함으로써 펠리클 프레임 내면의 이물로 오인되는 결함(휘점)을 대폭 감소시킬 수 있으므로 이물 검사가 단기간에 완료되는데 더해 외관 품질이 뛰어나고, 또한 신뢰성이 높은 펠리클을 얻을 수 있다.

도 1은 본 발명의 일실시형태를 나타내는 펠리클 프레임의 평면도이다.
도 2는 본 발명의 일실시형태를 나타내는 펠리클 프레임의 정면도이다.
도 3은 본 발명의 일실시형태를 나타내는 펠리클 프레임의 우측면도이다.
도 4는 본 발명의 일실시형태를 나타내는 펠리클 프레임의 단면 상세도이다.
도 5는 종래의 펠리클 프레임의 알루마이트 피막 근방의 단면도이다.
도 6은 본 발명의 펠리클 프레임의 알루마이트 피막 근방의 단면도이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시형태를 나타내는 펠리클 프레임의 단면 상세도이다.
도 8은 본 발명의 펠리클 프레임에 의해 구성된 펠리클의 사시도이다.

이하, 본 발명을 실시하기 위한 형태에 대해서 설명하지만 본 발명은 이것에 한정되는 것은 아니다.

도 1은 발명의 일실시형태인 펠리클 프레임(10)의 평면도이며, 도 2는 그 정면도이고, 도 3은 그 우측면도이며, 도 4는 도 1의 A-A 단면의 확대도이다.

본 발명의 펠리클 프레임(10)은 알루미늄 합금을 이용하여 기계 가공 또는 다이 캐스팅 등으로 제작되고, 통기 구멍(11)이나 핸들링을 위한 지그 구멍(12) 등이 형성되어 있다. 또한, 이 펠리클 프레임(10)은 알루미늄 합금 구조체(21)의 내측 표면에 순알루미늄 피막(22)이 형성되어 있다.

또한, 이 순알루미늄 피막(22)은 구조체(21)가 펠리클 프레임 형상으로 가공된 후에 그 표면 상에 형성되지만, 내면뿐만 아니라 그 이외의 표면에 형성되어 있어도 상관없다. 또한, 최외층에는 양극 산화 처리나 염색 또는 전해 착색 처리, 또한 봉공 처리를 행한 소위 알루마이트 피막(23)이 형성되어 있다. 순알루미늄 피막(22)은 이것을 형성한 후, 양극 산화 처리를 행하기 전에 기계 연마 또는 화학 연마를 행해서 표면을 평활화하는 것이 바람직하고, 피막 형성 시의 외관 불균일이 저감된다.

구조체(21)에 이용하는 알루미늄 합금으로서는 JIS 7000계, 6000계, 5000계, 2000계 또는 주조용 합금 등 다양한 것이 사용되지만, 본 발명은 정출물(금속간 화합물)이 많이 생성되는 알루미늄 합금계가 이용된 경우에 특히 그 효과가 크다.

도 5에는 이물로 오인되는 표면 결함(휘점)이 나타내어져 있지만, 이 표면 결함(휘점)의 원인은 펠리클 프레임을 구성하는 알루미늄 합금(51)의 표면 또는 표면 근방에 정출물(52)이 존재하고 있을 경우에 양극 산화 피막(53)이 그 부근에서는 정상적으로 형성되지 않아 보이드 등의 형상 결함(54)이 발생하기 때문이다. 이것에 대하여, 도 6에 나타내는 본 발명의 펠리클 프레임에서는 알루미늄 합금(61)의 표면에 정출물(62)이 존재하고 있을 경우라도 그 외측에 순알루미늄 피막(22)이 형성되어 있으므로 알루마이트 피막(23)을 형성할 때에 정출물(62)의 영향을 전혀 받지 않는다. 그 결과, 결함(휘점)이 매우 적은 알루마이트 피막(23)을 형성할 수 있다.

본 발명에서는 적어도 펠리클 프레임의 내면측에 순알루미늄 피막(22)을 형성하는 것이 바람직하고, 그 이유로서는 마스크를 보호하는 영역이 아닌 펠리클 프레임의 외면측이나 펠리클막 접착층이나 마스크 점착층으로 덮이는 상하의 끝면에 대해서는 표면 결함(휘점)은 그다지 고려할 필요가 없기 때문이다. 그리고, 이 순알루미늄 피막(22)은 용사 또는 증착에 의해 형성하는 것이 바람직하고, 그 순도는 99.7% 이상, 보다 바람직하게는 99.9% 이상이다. 순도가 높을수록 표면 결함은 발생하기 어려워지지만, 순도가 99.7% 미만에서는 정출물이 적지 않게 존재하기 때문에 바람직하지 않다.

또한, 양호한 양극 산화 피막(23)을 형성하기 위해서는 순알루미늄층(22)의 두께가 3㎛ 이상 50㎛ 이하인 것이 바람직하고, 3㎛ 미만에서는 양극 산화 피막을 형성할 시에 하지의 구조체(21) 표면의 영향을 받아서 결함이 발생할 우려가 있고, 50㎛를 초과하면 피막의 형성에 시간이 걸려 비용이 상승함과 아울러 치수 정밀도의 악화도 우려되기 때문이다.

순알루미늄 피막(22)의 표면 거칠기는 표면 자체의 요철이 결함(휘점)의 원인으로 되는 것을 방지하기 위해서 Ra 0.5~5㎛의 범위인 것이 바람직하다. Ra 0.5㎛ 미만에서는 지나치게 평활해서 광택이 나기 때문에 약간의 흠집 등의 결함도 두드러져 버리는 것 이외에, 반사가 강해서 검사 시에 장해로 된다. Ra 5㎛를 초과하면 표면이 반짝이는 느낌이 강해져 문제로 하고 있는 표면 결함(휘점)이 검출되기 어려워지기 때문에 이것도 또한 부적절하다. 또한, 양극 산화 피막의 형성 전에 화학 연마나 샌드 블라스트 처리 등에 의해 표면 거칠기를 조정하는 것이 바람직하고, 이 경우 대략 Ra 1㎛ 이하의 표면 거칠기로 하는 것이 좋다.

양극 산화 피막을 형성한 후에는 염색 및 봉공 처리를 실시해서 알루마이트 피막(23)을 완성시키게 되지만, 이때에 내광성의 관점으로부터 흑색 유기 염료를 이용한 염색에 대신하여 Ni, Co, Cu, Sn, Fe 등을 석출시키는 전해 착색을 이용해도 좋다. 또한, 양극 산화 피막의 형성에 사용하는 전해액으로서는 일반적인 황산 이외에 옥살산, 타르타르산, 인산이나 시트르산 등의 유기산을 사용할 수 있다.

도 7은 다른 실시형태를 나타내는 것이며, 도 4와 마찬가지로 도 1의 펠리클 프레임의 A-A 단면의 확대도이다. 펠리클 프레임의 기본적인 구조는 상술한 실시형태와 같지만, 알루마이트 피막(23)의 미세한 요철로부터 먼지가 발생하는 것을 방지하는 목적으로 알루마이트 피막(23)의 더 외측에 수지 피막(24)이 형성되어 있다. 이 수지 피막(24)의 재질은 에폭시 수지, 아미노아크릴 수지, 나일론 수지 등 다양한 것이 적용 가능하지만, 특히 내광성, 가스 방출량, 외관, 취급 등의 관점으로부터 아크릴 수지, 폴리에스테르 수지, 실리콘 수지 및 불소 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것이 바람직하다.

하지의 알루마이트 피막(23)이 흑색이면 수지 피막(24)을 흑색으로 할 필요는 없고, 투명해도 상관없다. 또한, 펠리클 프레임 내측과 외측은 각각 다른 재질로 구성되어 있어도 좋다. 이 경우, 전체를 수지 피막(24)으로 구성하고 나서 더 내측에만 다른 수지 피막(도시하지 않음)을 형성해도 좋고, 내측 및 외측을 각각 단독으로 별개의 재질로 나누어 도장해도 좋다. 이 경우, 특히 내측에 대해서는 점착성이 부여된 재질로 하는 것이 바람직하다.

수지 피막(24)의 형성 방법으로는 전착 도장, 스프레이 도장, 디핑 등의 방법을 채용할 수 있지만, 피막 형성 시에는 이물이 피막 내에 혼입되지 않도록 작업 환경의 클린화나 도공액의 필터링을 행하는 것이 바람직하다.

도 8은 본 발명의 펠리클 프레임을 이용하여 구성된 펠리클의 사시도이다. 펠리클 프레임(10)의 한쪽 끝면에는 펠리클막 접착층(81)이 형성되고, 펠리클막(82)이 적절한 장력으로 접착되어 있다. 또한, 다른 한쪽 끝면에는 마스크 점착층(83) 및 보호용 세퍼레이터(84)가 부착되어 있다. 펠리클 프레임(10)에는 적어도 1개의 통기 구멍(11)이 형성되고, 이 통기 구멍(11)은 필터(85)로 덮여 있다.

본 발명의 펠리클 프레임(10)은 이상과 같이 해서 제작되므로 검사에 있어서 이물로 오인되는 표면의 결함(휘점)이 매우 적고, 또한 외관 품질이 뛰어남과 아울러 이 펠리클 프레임(10)을 이용하여 펠리클(80)을 구성한 경우라도 펠리클 프레임 내면의 검사가 용이하므로 작업성이 향상되는 이외에, 검사 감도를 보다 높여서 검사하는 것이 가능해 지기 때문에 신뢰성이 향상된다.

[실시예]

이하에, 본 발명의 실시예에 대해서 상세히 설명한다. 이하의 실시예는 반도체용으로 이용되는 소형 펠리클에 관한 것이지만, 본 발명은 적용되는 펠리클의 크기에 한정되는 것은 아니다.

<실시예 1>

도 1에 나타낸 바와 같은 외관 형상의 펠리클 프레임(10)을 기계 절삭 가공에 의해 제작했다. 도 2에 나타낸 바와 같이, 장변의 측면에는 핸들링을 위한 지그 구멍(12)이 각 변 2개소에 형성되어 있음과 아울러 통기 구멍(11)이 형성되어 있다. 이 펠리클 프레임(10)의 치수는 바깥치수 115×149㎜, 안치수 111×145㎜, 높이 3.5㎜의 직사각형이며, 그 코너부는 외측 R5㎜, 내측 R3㎜으로 되어 있다.

실시예 1에서는 도 7에 나타내는 실시형태의 펠리클 프레임을 제작했다. 구조체(21)의 재질은 알루미늄 합금 A7075이고, 이것에 T651의 열처리를 실시한 것으로 하고, 내측 표면에는 가스 용사에 의해 두께 20㎛의 순도가 99.9%의 순알루미늄 피막(22)을 형성했다. 이 피막 표면은 표면 거칠기 Ra 6~7㎛로 약간 거칠기 때문에 이 피막 표면을 숫돌로 연마해서 평활면으로 하고, 또한 샌드 블라스트 처리에 의해 표면 거칠기 Ra 0.7~0.8㎛의 새틴 마무리(satin finish)로 했다. 또한, 양극 산화 처리 및 흑색의 염색, 봉공 처리를 행해 알루마이트 피막(23)을 형성했다. 또한, 이것을 수세하고, 완전하게 건조시킨 후에 전착 도장에 의해 표면에 두께 5㎛의 투명한 아크릴 수지 피막(24)을 형성했다.

이어서, 이와 같이 해서 제작된 펠리클 프레임(10)을 클린룸에 반입하고, 계면활성제와 순수로 세정하고, 건조시킨 후에 암실에 있어서 집광 램프에 의한 이물 검사를 행한 바, 내면측에는 이물로 오인되는 표면 결함(휘점)이 일절 발견되지 않고, 매우 뛰어난 외관으로 되어 있었다.

<실시예 2>

상기 실시예 1과 동일 형상의 펠리클 프레임(10)을 내측 표면의 순알루미늄 피막(22)의 형성법을 증착으로 변경해서 제작했다. 이때, 순도 99.9%의 순알루미늄 피막(22)의 두께는 3~4㎛로 했지만, 표면이 평활했기 때문에 연마는 행하지 않고 샌드 블라스트에 의한 새틴 마무리 처리만을 실시하여 알루마이트 피막(23)을 형성했다. 그 후, 상기 실시예 1과 마찬가지로 해서 전착 도장에 의해 최외층에 아크릴 수지 피막(24)을 형성했다.

이어서, 이 펠리클 프레임(10)을 상기 실시예 1과 마찬가지로 해서 집광 램프에 의해 이물 검사를 행한 바, 내면측에는 이물로 오인되는 표면 결함(휘점)이 일절 발견되지 않고, 매우 뛰어난 외관으로 되어 있었다.

<실시예 3>

상기 실시예 1의 펠리클 프레임(10)을 이용해서 도 8에 나타낸 바와 같은 펠리클(80)을 제작했다. 펠리클막 접착층(81)으로서 불소 수지 접착제를 도포하고, 이것에 불소 수지로 이루어지는 펠리클막(82)을 주름이 없도록 적절한 장력을 가해서 접착했다. 또한, 아크릴 점착제에 의해 마스크 점착층(83)을 형성하고, 그 표면에 보호용으로서 PET 필름에 이형제를 도포한 세퍼레이터(84)를 부착했다. 또한, 통기 구멍(11)에는 PTFE제 멤브레인으로 이루어지는 필터(85)를 아크릴 점착층을 개재해서 부착했다.

이어서, 이와 같이 해서 제작한 펠리클(80)에 대해서 암실 내에서 집광 램프에 의한 외관, 이물 검사를 행한 바, 펠리클 프레임 내면 이외의 외관에 대해서도 특별히 문제는 보이지 않고, 전체적으로 매우 뛰어난 외관으로 되어 있었다. 또한, 펠리클 프레임 내면의 표면 결함(휘점)이 펠리클막에 반사되지도 않기 때문에 매우 검사가 용이했다.

[비교예]

이 비교예에서는 상기 실시예 1과 동일 형상의 펠리클 프레임(10)을 실시예 1과 동일 재질의 알루미늄 합금만을 이용하여 제작했다. 펠리클 프레임의 내면측에 순알루미늄 피막(23)을 형성하지 않은 이외는 실시예 1의 경우와 모두 동일 공정으로 하고, 최외층은 실시예 1과 동일 아크릴 수지의 전착 도장을 실시했다.

이어서, 이와 같이 해서 제작한 펠리클 프레임(10)에 대해서 상기 실시예 1과 마찬가지로 해서 검사를 행한 바, 크기 40~50㎛의 이물로 보이는 휘점이 2개, 10~20㎛의 이물로 보이는 휘점이 5개 발견되었다. 또한, 이 결함부를 현미경에 의해 관찰한 바, 이물로 보이는 이들 휘점은 모두 알루마이트 피막의 결함이며, 이것이 표면의 전착 도장막에 의해 강조된 것이 판명됐다.

10 : 펠리클 프레임 11 : 통기 구멍
12 : 지그 구멍 21 : 구조체
22 : 순알루미늄 피막 23 : 알루마이트 피막
24 : 수지 피막 51 : 알루미늄 합금
52 : 정출물 53 : 알루마이트 피막
54 : 표면 결함 61 : 알루미늄 합금
62 : 정출물 80 : 펠리클
81 : 펠리클막 접착층 82 : 펠리클막
83 : 마스크 점착층 84 : 세퍼레이터
85 : 필터

Claims (10)

1. 알루미늄 합금에 의해 제작된 펠리클 프레임으로서, 펠리클 프레임 형상으로 가공된 후에 적어도 펠리클 프레임 내측 표면에 순알루미늄 피막이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 펠리클 프레임.
2. 제 1 항에 있어서,
   상기 순알루미늄 피막의 순도는 99.7% 이상인 것을 특징으로 하는 펠리클 프레임.
3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
   상기 순알루미늄 피막의 표면 거칠기는 Ra 0.5~5㎛의 범위인 것을 특징으로 하는 펠리클 프레임.
4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 순알루미늄 피막을 연마해서 평활화하는 것을 특징으로 하는 펠리클 프레임.
5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 순알루미늄 피막의 두께는 3㎛ 이상 50㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 펠리클 프레임.
6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 순알루미늄 피막은 용사 또는 증착에 의해 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 펠리클 프레임.
7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 순알루미늄 피막이 형성된 후에 양극 산화 처리, 염색 또는 전해 착색, 또한 봉공 처리가 실시되는 것을 특징으로 하는 펠리클 프레임.
8. 제 7 항에 있어서,
   상기 봉공 처리 후에 그 외측에 수지 피막이 더 형성되는 것을 특징으로 하는 펠리클 프레임.
9. 제 8 항에 있어서,
   상기 수지 피막의 재질은 아크릴 수지, 폴리에스테르 수지, 실리콘 수지, 불소 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 펠리클 프레임.
10. 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 기재된 펠리클 프레임에 의해 구성되는 것을 특징으로 하는 펠리클.

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