KR20160068773A - 공정 시트 - Google Patents

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고지 미야모토
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린텍 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명의 과제는 입자의 탈락을 억제할 수 있는 우수한 입자 밀착성을 갖고, 매트감 부여성이 양호한 공정 시트를 제공하는 것이다. 본 발명의 해결 수단은 기재 및 입자 함유 이형층을 갖는 공정 시트로서, 상기 입자 함유 이형층이, 수산기를 갖는 열경화성 수지 및 가교제를 포함하는 성분으로 형성되어 이루어지는 수지층 (A)와, 적어도 표면에 멜라민계 화합물을 포함하는 입자 (B)를 갖는 공정 시트이다.

Description

공정 시트{PROCESS SHEET}
본 발명은, 기재 및 해당 기재의 적어도 한쪽의 면 상에 형성된 입자 함유 이형층을 갖는 공정 시트에 관한 것이다.
합성 피혁, 화장 시트, 내장재 및 전자파 실드 필름 등과 같은 표면에 매트감(요철)을 갖는 수지 시트를 제작하는 경우, 일반적으로 수지 필름 상에 이형 처리가 된 이형층을 갖는 공정 시트(이형 시트)가 사용된다.
매트감을 갖는 수지 시트의 제조 방법으로서, 예를 들어 공정 시트의 이형층의 표면에 전사 수지를 도포하고, 건조 또는 경화시켜 수지 시트로 하고, 그 후 형성된 수지 시트를 공정 시트로부터 박리하여 얻는 방법을 들 수 있다.
통상적으로 공정 시트의 이형층에는 수지 등에 매트감을 부여하기 위하여, 실리카 입자나 실리콘 입자 등이 포함되고, 당해 이형층의 표면에는 요철이 형성되어 있다.
예를 들어, 특허문헌 1에는 칠흑성이 높은 소광면을 갖는 매트조 합성 피혁의 제조에 적합한 이형 시트의 제공을 목적으로 하여, 열경화성 수지, 소광제와 함께, 특정한 입경 및 표면적의 다공성 실리카 미립자를 소정량 포함하는 매트층 형성용 조성물을 도포하여 이루어지는 매트층(이형층)을 갖는 이형 시트가 개시되어 있다.
또한, 특허문헌 2에는 이형층의 박리성을 적당한 박리 강도가 되도록 제어 가능하면서, 또한 박리성이 경시 변화하지 않는 이형 시트의 제공을 목적으로 하여, 삼차원으로 연장된 실록산 결합을 포함하는 망상 형상을 갖는 특정한 평균 입경을 갖는 실리콘 수지 미립자를 함유하게 한 이형층이 기재 시트 표면에 형성된 이형 시트가 개시되어 있다.
일본 특허 제4330320호 공보 일본 특허 제3109532호 공보
그러나, 특허문헌 1 및 2에 개시된 이형 시트는 입자 밀착성이 떨어진다. 즉, 특허문헌 1 및 2에 기재된 이형 시트의 이형층 중의 입자가 전사 수지나 수지 시트와의 마찰에 의해 탈락되어, 전사 수지나 수지 시트의 표면에 이물로서 혼입되어 버리는 경우가 있다.
본 발명은, 입자의 탈락을 억제할 수 있는 우수한 입자 밀착성을 갖고, 매트감 부여성이 양호한 공정 시트를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명자들은, 기재의 적어도 한쪽의 면 상에 배치된 입자 함유 이형층이, 수산기를 갖는 열경화성 수지 및 가교제를 포함하는 성분으로 형성되어 이루어지는 수지층과, 적어도 표면에 멜라민계 화합물을 포함하는 입자를 갖는 공정 시트가 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 발견하고 본 발명을 완성시켰다.
즉, 본 발명은 하기 〔1〕 내지 〔8〕을 제공하는 것이다.
〔1〕 기재 및 입자 함유 이형층을 갖는 공정 시트로서, 상기 입자 함유 이형층이, 수산기를 갖는 열경화성 수지 및 가교제를 포함하는 성분으로 형성되어 이루어지는 수지층 (A)와, 적어도 표면에 멜라민계 화합물을 포함하는 입자 (B)를 갖는 공정 시트.
〔2〕 입자 (B)가 멜라민계 화합물 및 실리카를 포함하는 복합 입자인, 상기 〔1〕에 기재된 공정 시트.
〔3〕상기 입자 함유 이형층의 입자 (B)의 함유율이 6 내지 45질량%인, 상기 〔1〕 또는 〔2〕에 기재된 공정 시트.
〔4〕 수산기를 갖는 열경화성 수지가 비스페놀 A형 에폭시 수지 에스테르 및 알키드계 수지로부터 선택되는 1종 이상의 수지인, 상기 〔1〕 내지 〔3〕 중 어느 하나에 기재된 공정 시트.
〔5〕 가교제가 멜라민계 화합물인, 상기 〔1〕 내지 〔4〕 중 어느 하나에 기재된 공정 시트.
〔6〕상기 가교제의 멜라민계 화합물이 헥사메톡시메틸멜라민 또는 그의 중합체인, 상기 〔5〕에 기재된 공정 시트.
〔7〕상기 입자 함유 이형층의 산술 평균 표면 거칠기(Ra)가 0.25 내지 1.50㎛인, 상기 〔1〕 내지 〔6〕 중 어느 하나에 기재된 공정 시트.
〔8〕상기 입자 함유 이형층의 최대 산 높이(Rp)가 1.50 내지 8.00㎛인, 상기 〔1〕 내지 〔7〕 중 어느 하나에 기재된 공정 시트.
본 발명의 공정 시트는 입자의 탈락을 억제할 수 있는 우수한 입자 밀착성을 갖고, 양호한 매트감 부여성을 갖는다.
도 1은 본 발명의 공정 시트의 일 실시 형태인 공정 시트의 단면도이다.
〔공정 시트〕
본 발명의 공정 시트는, 기재 및 입자 함유 이형층을 갖고, 입자 함유 이형층은 수산기를 갖는 열경화성 수지 및 가교제를 포함하는 성분으로 형성되어 이루어지는 수지층 (A)와, 적어도 표면에 멜라민계 화합물을 포함하는 입자 (B)를 갖는다.
도 1은 본 발명의 공정 시트의 일 실시 형태인 공정 시트의 단면도이다.
본 발명의 공정 시트로서는, 예를 들어 기재(2)와 해당 기재(2)의 적어도 한쪽의 면 상에 형성된 입자 함유 이형층(3)을 갖고, 해당 입자 함유 이형층(3)이 수지층(4) 및 입자(5)를 갖는 공정 시트(1)를 들 수 있다.
도 1의 공정 시트(1)에서는 기재(2)와 입자 함유 이형층(3)은 직접 적층한 구조를 갖고 있지만, 이들 이외의 층을 갖고 있을 수도 있다.
예를 들어, 기재(2)와 입자 함유 이형층(3)의 층간 밀착력을 향상시키기 위하여 기재(2)와 입자 함유 이형층(3) 사이에 접착 용이층을 갖는 공정 시트로 할 수도 있다. 당해 접착 용이층을 형성하는 재료로서는, 수지층 (A)를 구성하는 열경화성 수지를 포함하는 조성물 등을 들 수 있다.
또한, 본 발명의 공정 시트는 대전 방지제를 함유한 대전 방지층을 갖고 있을 수도 있다.
본 발명에 공정 시트에 있어서, 대전 방지층은 기재(2)와 입자 함유 이형층(3) 사이, 혹은 기재(2)의 입자 함유 이형층(3)이 적층된 면과는 반대측의 면 상 등에 형성할 수 있다.
당해 대전 방지제로서는, 예를 들어 제4급 암모늄염, 피리디늄염, 제1 내지 제3 아미노기 등의 양이온성 화합물; 술폰산염기, 황산에스테르염기, 인산에스테르 염기, 포스폰산염기 등의 음이온성 화합물; 아미노산계, 아미노황산에스테르계 등의 양쪽성 화합물; 아미노알코올계, 글리세린계, 폴리에틸렌글리콜계 등의 비이온성 화합물 등을 들 수 있다.
<기재>
본 발명에서 사용하는 기재로서는, 후술하는 입자 함유 이형층을 지지할 수 있는 것이면 공정 시트의 용도에 따라 적절히 선택할 수 있다.
기재로서는, 예를 들어 종이 기재, 수지 필름 또는 시트를 포함하는 기재, 종이 기재를 수지로 라미네이트한 기재 등을 들 수 있다.
종이 기재를 구성하는 종이로서는, 예를 들어 박엽지, 중질지, 상질지, 함침지, 코팅지, 아트지, 황산지, 글라신지 등을 들 수 있다.
수지 필름 또는 시트를 구성하는 수지로서는, 예를 들어 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀 수지; 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 폴리비닐알코올, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체, 에틸렌-비닐알코올 공중합체 등의 비닐계 수지; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르 수지; 폴리스티렌, 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 공중합체, 삼아세트산셀룰로오스, 폴리카르보네이트 등을 들 수 있다.
종이 기재를 수지로 라미네이트한 기재로서는, 상기한 종이 기재를 폴리에틸렌 등의 열가소성 수지로 라미네이트한 라미네이트지 등을 들 수 있다.
이들 기재 중에서도 수지 필름 또는 시트를 포함하는 기재가 바람직하고, 폴리에스테르계 수지 필름 또는 시트를 포함하는 기재가 보다 바람직하고, 적당한 강도를 갖고 입수가 용이하다는 관점에서, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름 또는 시트를 포함하는 기재가 더욱 바람직하다.
또한, 기재로서 수지 필름 또는 시트를 포함하는 기재를 사용하는 경우, 기재와 입자 함유 이형층의 밀착성을 향상시키는 관점에서, 기재의 입자 함유 이형층이 형성되는 측의 면에 산화법 등의 물리적 또는 화학적 표면 처리를 실시할 수도 있다.
상기 산화법으로서는, 예를 들어 코로나 방전 처리, 크롬산 처리, 화염 처리, 열풍 처리, 오존·자외선 조사 처리 등을 들 수 있다.
이들 표면 처리법은 기재의 종류에 따라 적절히 선택되지만, 코로나 방전 처리법이 바람직하다. 또한, 프라이머 처리를 실시할 수도 있다.
기재의 두께는 공정 시트의 용도에 따라 적절히 설정되지만, 취급성 및 경제성의 관점에서, 바람직하게는 1 내지 300㎛, 보다 바람직하게는 5 내지 200㎛, 더욱 바람직하게는 10 내지 125㎛이다.
기재의 두께가 1㎛ 이상이면 주름이 생기기 쉽다는 등의 문제가 발생하기 어려워 취급성이 양호해진다. 한편, 기재의 두께가 300㎛ 이하이면 비용이 억제되어 경제성의 관점에서 바람직하다.
<입자 함유 이형층>
본 발명의 공정 시트가 갖는 입자 함유 이형층은, 수산기를 갖는 열경화성 수지 및 가교제를 포함하는 성분으로 형성되어 이루어지는 수지층 (A)와, 적어도 표면에 멜라민계 화합물을 포함하는 입자 (B)를 갖는다.
입자 함유 이형층을 구성하는 수지층 (A)는 수산기를 갖는 열경화성 수지를 포함하는 성분으로 형성되어 있다. 수지층 (A) 중의 이 열경화성 수지의 수산기와 입자 (B)의 표면에 갖는 멜라민계 화합물은 열경화 시에 반응하기 때문에, 수지층 (A)와 입자 (B)가 견고하게 결합되어, 본 발명의 공정 시트는 입자 (B)의 탈락을 억제할 수 있는 우수한 입자 밀착성이 발현된다고 생각되어진다.
또한, 입자 함유 이형층은 입자 (B)가 점재되어 있기 때문에 입자 함유 이형층의 표면에는 요철이 형성되어 있고, 이 요철에 의해 공정 시트에 도포되는 전사 수지 등의 표면에 매트감을 부여할 수 있다.
본 발명의 공정 시트의 입자 함유 이형층의 산술 평균 표면 거칠기(Ra)는, 바람직하게는 0.25 내지 1.50㎛, 보다 바람직하게는 0.30 내지 1.30㎛, 더욱 바람직하게는 0.40 내지 1.00㎛이다.
Ra가 0.25㎛ 이상이면 매트감 부여성이 양호한 공정 시트로 할 수 있다. 한편, Ra가 1.50㎛ 이하이면 입자 함유 이형층으로부터 입자 (B)가 탈락되는 것을 억제할 수 있다.
본 발명의 공정 시트의 입자 함유 이형층의 최대 산 높이(Rp)는, 바람직하게는 1.50 내지 8.00㎛, 보다 바람직하게는 1.70 내지 7.50㎛, 더욱 바람직하게는 2.00 내지 7.00㎛이다.
Rp가 1.50㎛ 이상이면 매트감 부여성이 양호한 공정 시트로 할 수 있다. 한편, Rp가 8.00㎛ 이하이면 입자 함유 이형층으로부터 입자 (B)가 탈락되는 것을 억제할 수 있다.
또한, 본 발명에 있어서 입자 함유 이형층의 Ra, Rp의 값은 JIS B 0601-1994에 준거하여 측정된 값이며, 구체적으로는 실시예에 기재된 방법에 의해 측정된 값을 의미한다.
입자 (B)의 평균 입경(직경)과 수지층 (A)의 막 두께의 비〔입자 (B)/수지층 (A)〕는, 바람직하게는 1.2/1.0 내지 8.0/1.0, 보다 바람직하게는 1.6/1.0 내지 7.3/1.0, 더욱 바람직하게는 2.0/1.0 내지 6.8/1.0이다.
당해 비가 1.2/1.0 이상이면 매트감 부여성이 양호한 공정 시트로 할 수 있다. 한편, 당해 비가 8.0/1.0 이하이면 수지층 (A)와 입자 (B)의 접착 면적이 충분해져 입자 (B)의 탈락을 억제할 수 있는 우수한 입자 밀착성이 발현된다.
또한, 수지층 (A)의 막 두께는 도 1의 X로 표시되는 두께이며, 입자 함유 이형층(3)에 있어서의 입자 (B)가 존재하지 않는 부분의 수지층(4)의 두께를 나타낸다.
<수지층 (A)>
수지층 (A)는 수산기를 갖는 열경화성 수지 및 가교제를 포함하는 성분으로 형성되어 이루어진다.
수산기를 갖는 열경화성 수지로서는, 예를 들어 페놀 수지, 크레졸 수지, 레조르신 수지, 크실레놀 수지, 나프톨 수지, 비스페놀 A 수지, 비스페놀 F 수지, 에폭시 수지, 아르알킬페놀 수지, 비페닐아르알킬페놀 수지 등의 페놀계 수지; 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 A형 에폭시 수지 에스테르, 비스페놀 F형 에폭시 수지 등의 수산기 함유 에폭시 수지; 수산기 함유 폴리에스테르 수지; 수산기 함유 우레탄 수지; 수산기 함유 실리콘 수지; 알키드 수지 등을 들 수 있다.
이들 중에서도 경화 후의 수지층 (A)의 강도 및 기재와 수지층 (A)의 밀착성의 관점에서, 비스페놀 A형 에폭시 수지 에스테르, 수산기 함유 폴리에스테르 수지 및 알키드계 수지로부터 선택되는 1종 이상의 수지가 바람직하고, 비스페놀 A형 에폭시 수지 에스테르 또는 알키드계 수지가 보다 바람직하다.
가교제로서는 상술한 수산기를 갖는 열경화성 수지를 가교시킬 수 있는 화합물이면 되지만, 입자 (B)와도 반응하여 입자 (B)의 탈락을 더욱 억제할 수 있는 우수한 입자 밀착성을 향상시키는 관점에서, 멜라민계 화합물이 바람직하다.
멜라민계 화합물로서는, 예를 들어 헥사메톡시메틸멜라민, 헥사에톡시메틸멜라민, 헥사프로폭시메틸멜라민, 헥사부톡시부틸멜라민 및 이들의 중합체(수지) 등을 들 수 있다.
이들 중에서도 수지층 (A)의 내용제성을 향상시키는 관점에서, 헥사메톡시메틸멜라민 또는 그의 중합체가 바람직하다.
수지층 (A)를 구성하는 성분 중의 수산기를 갖는 열경화성 수지와 가교제의 함유량비〔수산기를 갖는 열경화성 수지/가교제〕(질량비)는 내용제성과 박리성 모두 우수한 수지층을 형성하는 관점에서, 바람직하게는 15/85 내지 98/2, 보다 바람직하게는 40/60 내지 95/5, 더욱 바람직하게는 60/40 내지 90/10, 보다 더욱 바람직하게는 70/30 내지 85/15이다.
또한, 수산기를 갖는 열경화성 수지 및 가교제의 합계 함유량은 수지층 (A)를 구성하는 성분의 전량에 대하여, 바람직하게는 60 내지 100질량%, 보다 바람직하게는 70 내지 99.9질량%, 더욱 바람직하게는 80 내지 99.5질량%, 보다 더욱 바람직하게는 90 내지 99질량%이다.
수지층 (A)를 구성하는 성분으로서는 수지층 (A)의 형성 시의 반응을 촉진시키는 관점에서, 산 촉매가 더 포함되어 있는 것이 바람직하다.
산 촉매로서는 수산기를 갖는 열경화성 수지와 가교제의 가교 반응 촉매로서 알려져 있는 공지의 산 촉매 중에서 적절히 선택하여 사용할 수 있지만, p-톨루엔술폰산, 메탄술폰산, 도데실벤젠술폰산이 바람직하다.
산 촉매의 사용량은 수산기를 갖는 열경화성 수지 및 가교제의 합계 100질량부에 대하여, 바람직하게는 0.1 내지 15질량부, 보다 바람직하게는 0.5 내지 10질량부, 더욱 바람직하게는 1 내지 5질량부이다.
또한, 수지층 (A)를 구성하는 성분으로서 상술한 수산기를 갖는 열경화성 수지, 가교제, 산 촉매 이외의 그 밖의 성분을 사용할 수도 있다.
그 밖의 성분으로서는 수산기를 갖지 않는 아크릴계 수지 등의 열경화성 수지, 대전 방지제 등을 들 수 있다.
수지층 (A)의 막 두께(도 1의 X와 같이 입자에 의한 돌기를 제외한 평탄부의 두께)는, 바람직하게는 0.3 내지 5.0㎛, 보다 바람직하게는 0.4 내지 4.0㎛, 더욱 바람직하게는 0.5 내지 2.5㎛이다.
<입자 (B)>
입자 (B)는 적어도 표면에 멜라민계 화합물을 포함하는 입자이다.
입자 (B)의 표면에 존재하는 멜라민계 화합물이 수지층 (A)의 열경화성 수지의 수산기와 반응함으로써, 입자의 탈락이 억제된 입자 함유 이형층이 형성되어, 우수한 입자 밀착성을 갖는 공정 시트로 될 수 있다.
멜라민계 화합물로서는, 예를 들어 헥사메톡시메틸멜라민, 헥사에톡시메틸멜라민, 헥사프로폭시메틸멜라민, 헥사부톡시부틸멜라민 및 이들의 중합체(수지) 등을 들 수 있다.
이들 중에서도 수지층 (A)의 내용제성을 향상시키는 관점에서, 헥사메톡시메틸멜라민 또는 그의 중합체가 바람직하다.
입자 (B)는 적어도 표면에 멜라민계 화합물을 포함하는 입자이면 되며, 멜라민계 화합물만으로 이루어지는 단일 입자일 수도 있고, 멜라민계 화합물과 함께 무기 재료 및/또는 유기 재료를 포함하는 복합 입자일 수도 있다.
무기 재료로서는, 예를 들어 탄산칼슘, 카올린, 탈크, 클레이, 산화티타늄, 산화아연, 실리카, 알루미나, 수산화마그네슘 및 수산화알루미늄 등을 들 수 있다.
유기 재료로서는, 폴리스티렌, 폴리프로필렌, 사불화에틸렌 수지, 실리콘 수지, 전분 및 아크릴 수지 등을 들 수 있다.
복합 입자의 형태로서는, 무기 재료 및/또는 유기 재료를 포함하는 핵 입자의 표면의 일부 또는 전부에 멜라민계 화합물이 피복된 복합 입자나, 멜라민계 화합물을 포함하는 입자의 내측에 무기 재료 및/또는 유기 재료가 층상으로 점재되어 있는 구조를 갖는 복합 입자 등을 들 수 있다.
이들 중에서도, 공정 시트가 프레스기 등에 가열 압축되어도 입자 (B)의 형상이 찌부러지지 않는 강도를 갖고 내열성도 우수하다는 관점에서, 멜라민계 화합물 및 실리카를 포함하는 복합 수지가 바람직하고, 멜라민계 화합물을 포함하는 입자의 내측에 실리카가 층상으로 점재되어 있는 구조를 갖는 복합 수지가 보다 바람직하다.
입자 (B)의 평균 입경(직경)은, 바람직하게는 1.0 내지 8.0㎛, 보다 바람직하게는 1.3 내지 7.5㎛, 보다 바람직하게는 1.7 내지 7.0㎛이다.
또한, 입자 (B)의 평균 입경의 값은 실시예에 기재된 방법에 의해 측정한 값을 의미한다.
또한, 본 발명에 있어서 상기 범위 내의 평균 입경의 입자 (B)를 2종 이상 조합하여 사용할 수도 있다.
입자 함유 이형층의 입자 (B)의 함유율은, 바람직하게는 6 내지 45질량%, 보다 바람직하게는 7 내지 40질량%, 더욱 바람직하게는 8 내지 35질량%, 보다 더욱 바람직하게는 9 내지 30질량%이다.
입자 (B)의 함유율이 6질량% 이상이면 수지 시트의 표면에의 매트감 부여성이 양호한 공정 시트로 할 수 있다. 한편, 입자 (B)의 함유율이 45질량% 이하이면 입자 함유 이형층으로부터 입자 (B)가 탈락되는 것을 억제할 수 있다. 또한, 균일한 도포면을 형성할 수 있다.
〔공정 시트의 제조 방법〕
본 발명의 공정 시트의 제조 방법은 특별히 한정되지 않는다.
예를 들어, 수지층 (A)를 구성하는 수산기를 갖는 열경화성 수지, 가교제, 산 촉매 등의 각 성분 및 입자 (B)를 배합하고, 유기 용매로 희석하여, 입자 함유 이형층 형성용 용액을 제조한 후, 당해 용액을 기재 상에 도포하여 도막을 형성하고, 해당 도막을 건조·경화함으로써 제조할 수 있다.
상기한 유기 용매로서는, 수지층 (A)를 구성하는 성분과의 용해성이 양호하며, 그들 성분에 대하여 불활성인 것 중에서 적절히 선택하여 사용할 수 있는데, 예를 들어 톨루엔, 크실렌, 메탄올, 에탄올, 이소프로필알코올, 이소부탄올, n-부탄올, 아세톤, 메틸에틸케톤, 테트라히드로푸란 등을 들 수 있다.
이들 유기 용매는 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수도 있다.
입자 함유 이형층 형성용 용액의 고형분 농도로서는, 바람직하게는 5 내지 50질량%, 보다 바람직하게는 10 내지 40질량%, 더욱 바람직하게는 15 내지 30질량%이다.
도포 방법으로서는, 예를 들어 바 코팅법, 리버스 롤 코팅법, 나이프 코팅법, 롤 나이프 코팅법, 그라비아 코팅법, 에어닥터 코팅법, 닥터 블레이드 코팅법 등을 들 수 있다.
도막 형성 후 해당 도막을 가열함으로써 도막 내부의 유기 용매가 제거됨과 함께, 열경화성 수지의 수산기와 입자 (B)의 멜라민계 화합물이 반응하여 입자의 탈락이 억제된 입자 함유 이형층이 형성된다.
이 때의 가열 온도는, 바람직하게는 80 내지 180℃, 보다 바람직하게는 100 내지 160℃이고, 가열 시간은, 바람직하게는 15초간 내지 5분간, 보다 바람직하게는 20초간 내지 3분간이다.
본 발명의 공정 시트는, 전사 수지가 도포, 제막되어 매트감이 부여된 표면 형상을 갖는 수지 시트를 제조하기 위하여 사용된다. 이렇게 매트감이 부여된 수지 시트로서는 합성 피혁, 화장 시트, 내장재 및 전자파 실드 필름 등을 들 수 있다.
상기 전사 수지로서 사용되는 수지로서는, 예를 들어 폴리우레탄 수지, 폴리아크릴 수지, 폴리염화비닐 수지, 셀룰로오스아세테이트, 셀룰로오스트리아세테이트, 폴리카르보네이트 및 폴리비닐알코올 등을 들 수 있다.
이들 수지를 유기 용매나 수계 용매 등의 용매에 용해 또는 분산매에 분산하고, 필요에 따라 가소제 등의 각종 첨가제를 용해하여, 도포 가능한 점도를 갖는 전사 수지가 제조된다. 상기 전사 수지를 공정용 시트의 이형 처리면 상에 도포, 건조하여 제막한 뒤, 해당 공정용 시트를 박리함으로써, 원하는 매트감을 갖는 수지 시트가 얻어진다.
매트감을 갖는 수지 시트의 제조에 있어서 본 발명의 공정 시트가 사용되면, 이형층 중의 입자의 탈락이 억제되어 있기 때문에, 매트감이 상실된 개소가 없고, 입자가 이물로서 혼입되는 경우가 없는 의장성이 우수한 수지 시트가 얻어진다.
실시예
이하의 실시예 및 비교예에 있어서의 각종 물성의 측정법 및 얻어진 공정 시트의 평가 방법은 이하와 같다.
<수지층의 막 두께>
주사형 전자 현미경(가부시키가이샤 키엔스사제, 제품명 「VE-9800S」)을 사용하여 공정 시트의 수지층면으로부터 돌기 부분을 제외한 평탄부의 두께를 측정하여 수지층의 막 두께로 했다.
<입자 성분의 평균 입경>
분산매로서 메틸에틸케톤을 사용하여 고형분 농도 5질량%의 입자 성분의 분산액을 제조했다. 그리고, 레이저 회절 산란식 입도 분포 측정 장치(가부시키가이샤 호리바 세이사쿠쇼제, 제품명 「LA-920」)를 사용하여 입자 성분의 평균 입경을 측정했다.
<공정 시트의 Ra, Rp>
접촉식 표면 조도계((주) 미츠토요제, 제품명 「SV3000S4」)를 사용하여 JIS B 0601-1994에 준거하여 실시예 및 비교예에서 제작한 공정 시트의 입자 함유 이형층의 표면의 산술 평균 표면 거칠기(Ra) 및 최대 산 높이(Rp)를 측정했다.
<입자 밀착성>
마찰 견뢰 시험기 「RT-200」(제품명, (주) 다이에 가가쿠 세이키 세이사쿠쇼제)을 압접하여 접동 찰과하도록, 실시예 및 비교예에서 제작한 공정 시트의 입자 함유 이형층의 표면에 대하여, 두께 80㎛의 비연신 폴리프로필렌 필름을 사용하여 하중 1kg, 왕복 50회의 연마를 행했다.
그리고, 연마 후의 공정 시트의 입자 함유 이형층의 표면을 육안 및 주사형 전자 현미경에 의한 관찰로 입자 성분의 탈락(분말 낙하)을 확인하고, 이하의 기준에 의해 공정 시트의 입자 밀착성을 평가했다.
A: 공정 시트의 입자 함유 이형층 표면의 입자 성분의 유무를 관찰하여 탈락(분말 낙하)된 입자 성분의 개수 비율이 3% 미만이었음.
B: 공정 시트의 입자 함유 이형층 표면의 입자 성분의 유무를 관찰하여 탈락(분말 낙하)된 입자 성분의 개수 비율이 3% 이상 10% 미만이었음.
C: 공정 시트의 입자 함유 이형층 표면의 입자 성분의 유무를 관찰하여 탈락(분말 낙하)된 입자 성분의 개수 비율이 10% 이상이었음.
<수지 시트의 헤이즈값>
실시예 및 비교예에서 제작한 공정 시트에 전사 수지를 도포 후 박리하여 수지 시트를 얻고, 당해 수지 시트의 헤이즈값을 측정함으로써, 공정 시트의 매트감 부여성을 평가했다.
전사 수지로서 메틸메타크릴레이트(MMA) 및 2-히드록시에틸메타크릴레이트(2HEMA)를 포함하는 아크릴 공중합체(MMA/2HEMA=95/5(질량%))를 사용했다.
구체적으로는, 실시예 및 비교예의 공정 시트의 입자 함유 이형층의 표면에 상기한 전사 수지의 용액(고형분 30질량%)을 도포하고 건조하여 막 두께 60㎛의 수지 시트를 형성했다. 그리고 공정 시트로부터 당해 수지 시트를 박리하고, 당해 수지 시트의 헤이즈값을 헤이즈 미터(닛본 덴쇼쿠 고교(주)제, 제품명 「NDH2000」)를 사용하여 JIS K 7136-2000에 준거하여 측정했다.
수지 시트의 헤이즈값은 수지 시트의 표면의 요철의 정도를 나타내는 지표로 된다. 수지 시트의 헤이즈값이 큰 경우 수지 시트의 표면의 요철의 정도는 크고, 수지 시트의 헤이즈값이 작은 경우 수지 시트의 표면의 요철의 정도는 작다. 즉, 수지 시트의 헤이즈값의 크기에 따라 공정 시트의 매트감 부여성을 평가할 수 있다.
또한, 이형 처리된 유리 상에 상기 수지 시트를 형성했을 때의 수지 시트의 헤이즈값은 0.1%이었다.
상기한 「이형 처리된 유리」는, 소다석회 유리(100㎜×100㎜×5㎜) 상에 고형분 농도 2질량%의 이형제의 톨루엔 용액을 메이어 바 #4로 도포하여 도막을 형성하고, 해당 도막을 150℃에서 1분 가열하여 경화한 것이다. 사용한 이형제의 종류 및 배합량을 이하에 나타낸다.
·「KS-847H」(상품명, 신에츠 가가쿠(주)제, 고형분 농도: 30질량%): 100질량부(고형분)
·「PL-50T」(상품명, 신에츠 가가쿠(주)제, 고형분 농도: 2질량%): 1질량부(고형분)
실시예 1 내지 11, 비교예 1 내지 2
수산기를 갖는 열경화성 수지인 비스페놀 A형 에폭시 수지 에스테르 80질량부와 가교제인 멜라민 수지 20질량부의 혼합물(히타치 카세이 폴리마(주)제, 상품명 「TA31-059D」, 고형분 농도 50%, 용매: 크실렌/톨루엔/이소부탄올=36/32/32(질량비)의 혼합 용매)의 고형분 100질량부에 대하여, 산 촉매로서 p-톨루엔술폰산의 메탄올 용액(고형분 농도: 50질량%)을 2.5질량부(고형분) 첨가하여 수지 조성물의 용액을 제조했다.
이어서, 당해 수지 조성물의 용액에 표 1에 나타내는 종류 및 배합량의 입자 성분을 첨가하고, 톨루엔/메틸에틸케톤=30/70(질량비)의 혼합 용매로 희석하여, 이형층 형성용 용액을 제조했다. 또한, 당해 이형층 형성용 용액의 고형분 농도는 실시예 1 내지 3, 10, 11 및 비교예 1 내지 2에 있어서는 18질량%, 실시예 4 내지 9에 있어서는 24질량%로 제조했다. 또한, 실시예 10 내지 11에 있어서는 멜라민계 화합물을 포함하는 입자 (B)를 2종 병용하여 이형층 형성용 용액을 조정했다.
그리고, 기재인 두께 50㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름(도레이(주)제, 상품명 「S10」)의 한쪽의 면 상에 상기한 입자 함유 이형층 형성용 용액을 각종 메이어 바로 도포하여 도막을 형성했다. 그리고, 당해 도막을 150℃에서 1분간 가열 경화시켜 표 1에 기재된 막 두께의 수지층을 형성하여, PET 필름 상에 입자 함유 이형층을 갖는 공정 시트를 제작했다.
실시예 12
수산기를 갖는 열경화성 수지인 알키드 수지(히타치 가세이(주)제, 상품명 「테슬락 2052-60T」, 고형분 농도 60질량%, 용매:톨루엔/크실렌=85/15(질량비)의 혼합 용매)의 고형분 80질량부에 대하여, 가교제로서 멜라민 수지(닛본 사이텍 인더스트리즈(주)제, 상품명 「사이멜 303」, 고형분 농도 100%)를 20질량부(고형분) 배합하고, 또한 산 촉매로서 p-톨루엔술폰산의 메탄올 용액(고형분 농도: 50질량%)을 2.5질량부(고형분) 첨가하여 수지 조성물의 용액을 제조했다.
이어서, 당해 수지 조성물의 용액에 표 1에 나타내는 종류 및 배합량의 입자 성분을 첨가하고, 톨루엔/메틸에틸케톤=30/70(질량비)의 혼합 용매로 희석하여 고형분 농도 18질량%의 이형층 형성용 용액을 제조했다.
그리고, 제조된 이형층 형성용 용액을 사용하여, 상술한 실시예 1 등과 마찬가지로 하여, PET 필름 상에 입자 함유 이형층을 갖는 공정 시트를 제작했다.
실시예 및 비교예에서 사용한 입자 성분은 이하와 같다.
·「옵트 비즈(R) 2000M」: 상품명, 닛산 가가쿠 고교(주)제, 멜라민 수지 입자의 최표면으로부터 약 100㎚ 내측에 층상으로 실리카가 점재된 구조를 갖는 복합 입자, 진비중: 1.65, 평균 입경: 2.0㎛.
·「옵트 비즈(R) 3500M」: 상품명, 닛산 가가쿠 고교(주)제, 멜라민 수지 입자의 최표면으로부터 약 100㎚ 내측에 층상으로 실리카가 점재된 구조를 갖는 복합 입자, 진비중: 1.65, 평균 입경: 3.5㎛.
·「옵트 비즈(R) 6500M」: 상품명, 닛산 가가쿠 고교(주)제, 멜라민 수지 입자의 최표면으로부터 약 100㎚ 내측에 층상으로 실리카가 점재된 구조를 갖는 복합 입자, 진비중: 1.65, 평균 입경: 6.5㎛.
·「닙실 SS-50B」: 상품명, 도소·실리카(주)제, 다공질 부정형 실리카 입자.
·「토스펄 120」: 상품명, 모멘티브·퍼포먼스·머티리얼즈·재팬(주)제, 실리콘 입자, 평균 입경: 2.0㎛, 진비중: 1.32.
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실시예 1 내지 12의 공정 시트는 우수한 입자 밀착성을 갖고 있으며, 또한 수지 시트의 헤이즈의 값이 높고, 당해 공정 시트의 매트감 부여성도 양호했다.
한편, 비교예 1 및 2의 공정 시트는 비연신 폴리프로필렌 필름과의 마찰에 의해 입자 함유 이형층으로부터 입자의 탈락이 두드러져, 입자 밀착성이 떨어진 결과가 되었다. 특히, 비교예 1의 공정 시트는 입자 성분의 다공질 부정형 실리카의 마찰에 의한 파괴가 보였다.
본 발명의 공정 시트는 합성 피혁, 화장 시트, 내장재 및 전자파 실드 필름 등의 표면에 매트감(요철)을 갖는 수지 시트의 제작에 사용할 수 있다.
1: 공정 시트
2: 기재
3: 입자 함유 이형층
4: 수지층 (A)
5: 입자 (B)
X: 수지층 (A)의 막 두께

Claims (8)

  1. 기재 및 입자 함유 이형층을 갖는 공정 시트로서,
    상기 입자 함유 이형층이, 수산기를 갖는 열경화성 수지 및 가교제를 포함하는 성분으로 형성되어 이루어지는 수지층 (A)와, 적어도 표면에 멜라민계 화합물을 포함하는 입자 (B)를 갖는 공정 시트.
  2. 제1항에 있어서, 입자 (B)가 멜라민계 화합물 및 실리카를 포함하는 복합 입자인 공정 시트.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 입자 함유 이형층의 입자 (B)의 함유율이 6 내지 45질량%인 공정 시트.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 수산기를 갖는 열경화성 수지가 비스페놀 A형 에폭시 수지 에스테르 및 알키드계 수지로부터 선택되는 1종 이상의 수지인 공정 시트.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 가교제가 멜라민계 화합물인 공정 시트.
  6. 제5항에 있어서, 상기 가교제의 멜라민계 화합물이 헥사메톡시메틸멜라민 또는 그의 중합체인 공정 시트.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 입자 함유 이형층의 산술 평균 표면 거칠기(Ra)가 0.25 내지 1.50㎛인 공정 시트.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 입자 함유 이형층의 최대 산 높이(Rp)가 1.50 내지 8.00㎛인 공정 시트.
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