JP7200475B2 - ３次元構造形成用組成物及び３次元構造形成方法 - Google Patents
３次元構造形成用組成物及び３次元構造形成方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7200475B2 JP7200475B2 JP2017230401A JP2017230401A JP7200475B2 JP 7200475 B2 JP7200475 B2 JP 7200475B2 JP 2017230401 A JP2017230401 A JP 2017230401A JP 2017230401 A JP2017230401 A JP 2017230401A JP 7200475 B2 JP7200475 B2 JP 7200475B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- solvent
- component
- dimensional structure
- forming
- composition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Description
本発明は、凹凸構造などの３次元構造を表面に形成することができる３次元構造形成用組成物、及び当該組成物を用いた３次元構造形成方法に関する。
凹凸構造などの３次元構造を表面に形成する方法としては、例えば特許文献１（特開２００４－２７７５３４号公報）において、粘着剤と、この粘着剤の良溶媒及び貧溶媒からなる混合溶剤とを含有する塗布液を、シート基材上に塗布し、混合溶剤を蒸発させるとともに、粘着剤を相分離させて点状物を形成する方法が開示されている。
特許文献２（ＷＯ２０１５／１５２３５２号公報）には、基材上に粘着性を有する樹脂層を設けた粘着フィルムであり、樹脂層に微粒子を含有することで不定形の凹部が自己形成されていることが開示されている。
特許文献３（特開２０１６－１８８３４４号公報）には、炭素数４～１８のアルキル基を有するアルキル化メラミン樹脂（Ａ）を主成分として含む硬化性材料を基材に塗布して硬化することで、その硬化膜表面に、粗面化効果が高く、かつランダムなパターンの凹凸を形成する方法が開示されている。
本発明は、微粒子などを添加しないでも、不規則形状からなる凹凸構造を表面に備えた３次元構造を自己形成することができ、凹凸の大きさを適宜調整することができる、新たな３次元構造形成用組成物及びそれを用いた３次元構造形成を提案せんとするものである。
本発明は、ポリマー又はオリゴマーからなる互いに非相溶な成分Ａ及びＢは、成分Ｂの溶解性パラメーター（ＳＰ（Ｂ））が成分Ａの溶解性パラメーター（ＳＰ（Ａ））よりも０．０１以上低く、以下を満たす溶剤Ｘ及び溶剤Ｙを含有し、溶剤Ｘと溶剤Ｙを５４：４６～９９．９：０．１の質量割合で配合した混合溶剤Ｚに溶解又は懸濁分散してなる３次元構造形成用組成物を提案する。
溶剤Ｘ：成分Ａ及び成分Ｂに対して良溶媒である。
溶剤Ｙ：成分Ａに対して良溶媒であるが、成分Ｂに対して不溶性又は膨潤する。
溶剤Ｘの沸点よりも溶剤Ｙの沸点の方が２℃以上高い。
溶剤Ｘ：成分Ａ及び成分Ｂに対して良溶媒である。
溶剤Ｙ：成分Ａに対して良溶媒であるが、成分Ｂに対して不溶性又は膨潤する。
溶剤Ｘの沸点よりも溶剤Ｙの沸点の方が２℃以上高い。
本発明はまた、上記の３次元構造形成用組成物を用いて、当該３次元構造形成用組成物を基材の表面に塗布し、加熱して溶剤Ｙよりも先に溶剤Ｘを揮発させ、溶剤Ｙに溶け難い成分Ｂを析出させて凸部を形成することを特徴とする、３次元構造形成方法を提案する。
本発明が提案する３次元構造形成用組成物は、基材の表面に塗布し、加熱して溶剤Ｙよりも先に溶剤Ｘを揮発させるだけで、不規則形状からなる凹凸構造を表面に備えた３次元構造を自己形成することができる。すなわち、切削加工装置や型等を用いること無く、組成物が有している性質により形成することができる。しかも、成分Ａ、成分Ｂ、溶剤Ｘ及びＹの材料の選択や配合量を調整することにより、前記凹凸構造における凹凸の深さを適宜調整することができる。
次に、実施の形態例に基づいて本発明を説明する。但し、本発明が次に説明する実施形態に限定されるものではない。
＜本３次元構造形成用組成物＞
本発明の実施形態の一例に係る３次元構造形成用組成物（「本３次元構造形成用組成物」と称する）は、ポリマー又はオリゴマー（これらをまとめて「ポリマー等」とも称する）からなる、互いに非相溶な成分Ａ及びＢが、所定の溶剤Ｘ及び溶剤Ｙを含有する混合溶剤Ｚに溶解又は懸濁分散してなる３次元構造形成用組成物である。
本発明の実施形態の一例に係る３次元構造形成用組成物（「本３次元構造形成用組成物」と称する）は、ポリマー又はオリゴマー（これらをまとめて「ポリマー等」とも称する）からなる、互いに非相溶な成分Ａ及びＢが、所定の溶剤Ｘ及び溶剤Ｙを含有する混合溶剤Ｚに溶解又は懸濁分散してなる３次元構造形成用組成物である。
本３次元構造形成用組成物によれば、当該３次元構造形成用組成物を基材の表面に塗布し、加熱して溶剤Ｙよりも先に溶剤Ｘを揮発させることで、成分Ａ，Ｂ間の相分離性を利用して不規則形状からなる凹凸構造を表面に備えた３次元構造を自己形成することができる。よって、切削加工装置や、型等を用いること無く簡便に３次元構造を形成することができる。ここで、本３次元構造形成用組成物を用いて形成した３次元構造を「本３次元構造」と称する。
しかも、このように成分Ａ，Ｂ間の相分離性を利用すれば、数μｍ～数ｍｍオーダーの相分離構造に基づく凹凸構造を形成することができる。
また、溶媒に溶解した状態から溶媒を留去する過程で相分離を生じる方法を用いる場合は、後述する通り、２種以上の溶媒を混合して用いるとともに、ポリマー等の溶解性の差を利用して凹凸構造を形成することにより、特定のポリマー等と特定の溶媒を選択するだけで、前記凹凸構造における凹凸の深さを適宜調整することができる。
しかも、このように成分Ａ，Ｂ間の相分離性を利用すれば、数μｍ～数ｍｍオーダーの相分離構造に基づく凹凸構造を形成することができる。
また、溶媒に溶解した状態から溶媒を留去する過程で相分離を生じる方法を用いる場合は、後述する通り、２種以上の溶媒を混合して用いるとともに、ポリマー等の溶解性の差を利用して凹凸構造を形成することにより、特定のポリマー等と特定の溶媒を選択するだけで、前記凹凸構造における凹凸の深さを適宜調整することができる。
本３次元構造形成用組成物を用いて形成した本３次元構造においては、凹部を形成する成分のうちで最も多くを占める成分が成分Ａとなり、凸部を形成する成分のうちで最も多くを占める成分が成分Ｂとなる。
（成分Ａ，Ｂ）
成分Ａと成分Ｂは非相溶であるのが好ましい。
かかる観点から、成分ＡのＳＰ値と成分ＢのＳＰ値は、凸部の主要成分となる成分ＢのＳＰ値の方が、成分ＡのＳＰ値よりも０．０１～１０だけ低い方が好ましく、中でも０．０５以上低い或いは７以下の範囲で低い、その中でも０．１以上低い或いは４以下の範囲で低い方が好ましい。
但し、異なるポリマー等間の相分離性を利用して凹凸構造が形成させる場合、成分Ｂの溶解性パラメーター（ＳＰ（Ｂ））が、成分Ａの溶解性パラメーター（ＳＰ（Ａ））よりも０．０１～１０高くなっていてもよい。
なお、成分Ａと成分ＢのＳＰ値の差が０．０１あれば、非相溶になり得る。例えば成分Ａ及びＢがブロックポリマー(グラフトポリマー)の場合、ＳＰ値差０．０１程度で非相溶になる。
成分Ａ，Ｂは、従来公知の方法によって得ることができる。
成分Ａと成分Ｂは非相溶であるのが好ましい。
かかる観点から、成分ＡのＳＰ値と成分ＢのＳＰ値は、凸部の主要成分となる成分ＢのＳＰ値の方が、成分ＡのＳＰ値よりも０．０１～１０だけ低い方が好ましく、中でも０．０５以上低い或いは７以下の範囲で低い、その中でも０．１以上低い或いは４以下の範囲で低い方が好ましい。
但し、異なるポリマー等間の相分離性を利用して凹凸構造が形成させる場合、成分Ｂの溶解性パラメーター（ＳＰ（Ｂ））が、成分Ａの溶解性パラメーター（ＳＰ（Ａ））よりも０．０１～１０高くなっていてもよい。
なお、成分Ａと成分ＢのＳＰ値の差が０．０１あれば、非相溶になり得る。例えば成分Ａ及びＢがブロックポリマー(グラフトポリマー)の場合、ＳＰ値差０．０１程度で非相溶になる。
成分Ａ，Ｂは、従来公知の方法によって得ることができる。
（成分Ａ）
凹部の主要成分となることになる成分Ａは、所定のＳＰ値、所定の質量平均分子量（Ｍｗ）を有するポリマー等であるのが好ましい。
凹部の主要成分となることになる成分Ａは、所定のＳＰ値、所定の質量平均分子量（Ｍｗ）を有するポリマー等であるのが好ましい。
成分Ａは、成分Ｂと非相溶であり、塗工後に主として凹凸形状の凹部を形成する観点から、溶解性パラメーター（ＳＰ（Ａ））が８～２１であるのが好ましく、中でも１０以上或いは２０以下、その中でも１２以上或いは１９以下であるのがさらに好ましい。
また、塗布液の塗工性を良好なものとするための粘度とする観点から、質量平均分子量（Ｍｗ）が３００～３００，０００であるのが好ましく、中でも２，０００以上或いは２００，０００以下、その中でも５，０００以上或いは１００，０００以下であるのがさらに好ましい。
また、塗布液の塗工性を良好なものとするための粘度とする観点から、質量平均分子量（Ｍｗ）が３００～３００，０００であるのが好ましく、中でも２，０００以上或いは２００，０００以下、その中でも５，０００以上或いは１００，０００以下であるのがさらに好ましい。
上記成分Ａとしては、例えばポリ（メタ）アクリレート等のアクリル系ポリマー類、ポリエステル類、ポリウレタン類、ポリオレフィン類、ポリエーテル類、ポリスチレン類、ポリカーボネート類、ポリアクリロニトリル類、ポリアミド類、ポリイミド類などを挙げることができ、中でも、分子量やＳＰ値を調整しやすく、凹凸形状を制御しやすい観点から、ポリ（メタ）アクリレート類であるのが好ましい。これらの成分Ａは１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
例えば成分Ａがアクリル系ポリマーである場合、そのＳＰ値をより高くするためには、例えば、アクリル系ポリマーの樹脂の側鎖に極性が高い官能基を多く含むように設計すればよく、より具体的には、例えばヒドロキシル基を有するヒドロキシ（メタ）アクリレート、カルボキシル基を有する（メタ）アクリル酸、グリシジル基を有するグリシジル（メタ）アクリレート等の構造単位を含有する単独重合体又は共重合体が挙げることができる。
（成分Ｂ）
凸部の主要成分となることになる成分Ｂは、上述のように、所定のＳＰ値、所定の質量平均分子量（Ｍｗ）を有するポリマー等であるのが好ましい。
例えば成分Ｂの配合量を多くしたり、成分Ｂの分子量を大きくしたりすることによって、前記凹凸構造における凸部の面積を大きくすることができる。但し、このような方法に限定するものではない。
凸部の主要成分となることになる成分Ｂは、上述のように、所定のＳＰ値、所定の質量平均分子量（Ｍｗ）を有するポリマー等であるのが好ましい。
例えば成分Ｂの配合量を多くしたり、成分Ｂの分子量を大きくしたりすることによって、前記凹凸構造における凸部の面積を大きくすることができる。但し、このような方法に限定するものではない。
成分Ｂの溶解性パラメーター（ＳＰ（Ｂ））は、成分Ａと非相溶であり、塗工後に主として凹凸形状の凸部を形成する観点から、成分Ａの溶解性パラメーター（ＳＰ（Ａ））よりも０．０１～１０低い方が好ましく、中でも０．０５以上低い或いは７以下の範囲で低い、その中でも０．１以上低い或いは４以下の範囲で低い方が好ましい。
かかる観点から、成分Ｂの溶解性パラメーター（ＳＰ（Ｂ））は、７～２０であるのが好ましく、中でも８以上或いは１８以下、その中でも９以上或いは１７以下であるのがさらに好ましい。
かかる観点から、成分Ｂの溶解性パラメーター（ＳＰ（Ｂ））は、７～２０であるのが好ましく、中でも８以上或いは１８以下、その中でも９以上或いは１７以下であるのがさらに好ましい。
また、塗布液の塗工性を良好なものとするための粘度とする観点から、成分Ｂの質量平均分子量（Ｍｗ）は、前記成分Ａの質量平均分子量（Ｍｗ）より１０００以上大きく、且つ、１３００～４００，０００であるのが好ましく、中でも２，０００以上或いは３００，０００以下、その中でも１０，０００以上或いは２５０，０００以下であるのがさらに好ましい。
成分Ｂとしては、例えばポリ（メタ）アクリレート等のアクリル系ポリマー類、ポリエステル類、ポリウレタン類、ポリオレフィン類、ポリエーテル類、ポリスチレン類、ポリカーボネート類、ポリアクリロニトリル類、ポリアミド類、ポリイミド類などを挙げることができ、中でも、分子量やＳＰ値を調整しやすく、凹凸形状を制御しやすい観点から、ポリ（メタ）アクリレート類であるのが好ましい。これらの成分Ｂは１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
例えば成分Ｂがアクリル系ポリマーである場合、そのＳＰ値をより低くするためには、例えば、アクリル系ポリマーにおいて、１個以上の（メタ）アクリロイル基を含有するモノマー及び／又はオリゴマーとしてＳＰ値の低いものを選択すればよい。具体的には、例えば脂肪族炭化水素基を有するアルキル（メタ）アクリレート、脂環族炭化水素基を有するシクロアルキル（メタ）アクリレート等の構造単位を含有する単独重合体又は共重合体が挙げることができる。
成分Ｂは、凹凸構造を形成する際の乾燥温度に十分に耐えることができ、形状を保持する観点から、成分Ｂのガラス転移温度は４０℃以上であるのが好ましく、中でも５０℃以上、その中でも６０℃以上であるのがさらに好ましい。
なお、上記溶解性パラメーター（ＳＰ値）は、Ｓｏｌｕｂｉｌｉｔｙ Ｐａｒａｍｅｔｅｒであり、溶解性の尺度となるものである。溶解性パラメーターは、その値が大きいほど極性が高く、逆に数値が小さいほど極性が低いことを示す。
成分Ａ、成分Ｂ及び光架橋開始剤Ｃの溶解性パラメーター（ＳＰ値）は、濁度法、Ｆｅｄｏｒｓの推算法などの方法によって測定することができる。
成分Ａ、成分Ｂ及び光架橋開始剤Ｃの溶解性パラメーター（ＳＰ値）は、濁度法、Ｆｅｄｏｒｓの推算法などの方法によって測定することができる。
成分Ａと成分Ｂの配合質量割合は、１：９９～９９：１とするのが好ましく、中でも５：９５～９５：５、その中でも９０：１０～１０：９０であるのが好ましい。
なお、成分Ａ又は成分Ｂが２種以上用いられる場合は、合計した質量割合とする。
なお、成分Ａ又は成分Ｂが２種以上用いられる場合は、合計した質量割合とする。
（架橋開始剤Ｃ）
本３次元構造形成用組成物は、上記成分Ａ及びＢに加えてさらに架橋開始剤Ｃが混合溶剤Ｚに溶解又は懸濁分散していてもよい。
架橋開始剤Ｃを配合して３次元構造を架橋することで、当該３次元構造の耐熱性を高めることができる。
本３次元構造形成用組成物は、上記成分Ａ及びＢに加えてさらに架橋開始剤Ｃが混合溶剤Ｚに溶解又は懸濁分散していてもよい。
架橋開始剤Ｃを配合して３次元構造を架橋することで、当該３次元構造の耐熱性を高めることができる。
架橋開始剤Ｃとしては、光架橋開始剤、熱架橋開始剤などを挙げることができる。中でも、乾燥工程で形成した凹凸形状の保持の観点から、速硬化性を有する硬化系が好ましく、かかる観点から光架橋開始剤が好ましい。
光架橋開始剤としては、例えば 活性エネルギー線として紫外線照射を応用する場合、光架橋開始剤は必須であり、ベンゾイン系、アセトフェノン系、チオキサントン系、フォスフィンオキシド系及びパーオキシド系等の光架橋性開始剤を使用することができる。
具体例としては、例えば２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オン、１－ヒドロキシ－シクロヘキシル－フェニル－ケトン、２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルフォリノプロパン－１－オン、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタンノン－１等を挙げることができる。これらの架橋開始剤は１種を単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。中でも、紫外線硬化する多官能アクリレートが好ましい。
具体例としては、例えば２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オン、１－ヒドロキシ－シクロヘキシル－フェニル－ケトン、２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルフォリノプロパン－１－オン、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタンノン－１等を挙げることができる。これらの架橋開始剤は１種を単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。中でも、紫外線硬化する多官能アクリレートが好ましい。
他方、熱架橋開始剤としては、例えばアゾ系開始剤、過酸化物系開始剤を挙げることができる。
架橋開始剤Ｃの配合量は、成分Ａ及びＢの合計量１００質量部に対して０．０１～２０質量部とするのが好ましく、中でも０．１質量部以上或いは１０質量部以下、その中でも１質量部以上とするのがより好ましい。
なお、成分Ａ又は成分Ｂ又はこれら両方が、架橋性能を有する樹脂又は樹脂組成物であってもよい。その場合には、架橋開始剤Ｃを配合しなくても架橋することができる。
例えば光架橋性化合物としては、架橋性不飽和結合を有する化合物、具体的にはエチレン性不飽和結合を有するモノマー又はオリゴマーを挙げることができる。
また、熱硬化性樹脂としては、例えば、ウレタン樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂及びアクリル樹脂や、透明ポリイミド前駆体ワニスなどを挙げることができる。
例えば光架橋性化合物としては、架橋性不飽和結合を有する化合物、具体的にはエチレン性不飽和結合を有するモノマー又はオリゴマーを挙げることができる。
また、熱硬化性樹脂としては、例えば、ウレタン樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂及びアクリル樹脂や、透明ポリイミド前駆体ワニスなどを挙げることができる。
（その他の成分）
本３次元構造形成用組成物は、上記成分Ａ、成分Ｂ及び上記架橋開始剤Ｃに加えてさらにその他の成分が混合溶剤Ｚに溶解又は懸濁分散していてもよい。
その他の成分として、例えば剥離成分、レベリング剤、紫外線吸収剤、有機若しくは無機微粒子などを挙げることができる。
本３次元構造形成用組成物は、上記成分Ａ、成分Ｂ及び上記架橋開始剤Ｃに加えてさらにその他の成分が混合溶剤Ｚに溶解又は懸濁分散していてもよい。
その他の成分として、例えば剥離成分、レベリング剤、紫外線吸収剤、有機若しくは無機微粒子などを挙げることができる。
上記剥離成分すなわち剥離性を有する成分としては、例えばシリコーン系化合物の他、フッ素化合物、オレフィン化合物、長鎖アルキル基含有化合物等の化合物を挙げることができる。これらはポリマーであっても低分子量化合物であってもよく、これらのうちの一種又は二種以上を含有していてもよい。
剥離成分の含有量は、０．５質量％～９０質量％であるのが好ましく、中でも１．０質量％以上或いは８５質量％以下、その中でも２．０質量％以上或いは８０質量％以下であるのが好ましい。
（溶剤Ｘ）
上記溶剤Ｘは、成分Ａ、成分Ｂ及び架橋開始剤Ｃに対して良溶媒であるのが好ましい。すなわち、成分Ａ、成分Ｂ及び架橋開始剤Ｃを全て溶解することができる溶剤であるのが好ましい。
上記溶剤Ｘは、成分Ａ、成分Ｂ及び架橋開始剤Ｃに対して良溶媒であるのが好ましい。すなわち、成分Ａ、成分Ｂ及び架橋開始剤Ｃを全て溶解することができる溶剤であるのが好ましい。
溶剤Ｘの沸点は５０℃～２００℃であるのが好ましく、中でも６０℃以上或いは１４０℃以下、その中でも７０℃以上或いは１２０℃以下であるのが好ましい。
溶剤Ｘとしては、例えばアセトン,メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン 、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノンジアセトンアルコール等のケトン系溶媒；ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール等のアルコール系溶媒；エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエーテル系溶媒；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸メトキシブチル、酢酸アミル、酢酸プロピル、乳酸エチル、乳酸メチル、乳酸ブチル等のエステル系溶媒；トルエン、キシレン、ソルベントナフサ、ヘキサン、シクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン等の炭化水素系溶媒等の有機溶媒を挙げることができる。これらの有機溶媒は１種のみを用いても２種以上を組み合わせて用いてもよい。
（溶剤Ｙ）
他方の溶剤Ｙは、成分Ａ及び架橋開始剤Ｃに対しては良溶媒であり、成分Ｂに対しては貧溶媒であるのが好ましい。すなわち、成分Ａ及び架橋開始剤Ｃは溶解することができるが、成分Ｂに対する溶解性が低い溶媒であるのが好ましい。
なお、成分Ｂの「溶解性が低い」とは、成分Ｂに対して不溶性（insolble）又は膨潤（swelling）に分類される場合を包含する意味である。
他方の溶剤Ｙは、成分Ａ及び架橋開始剤Ｃに対しては良溶媒であり、成分Ｂに対しては貧溶媒であるのが好ましい。すなわち、成分Ａ及び架橋開始剤Ｃは溶解することができるが、成分Ｂに対する溶解性が低い溶媒であるのが好ましい。
なお、成分Ｂの「溶解性が低い」とは、成分Ｂに対して不溶性（insolble）又は膨潤（swelling）に分類される場合を包含する意味である。
溶剤Ｙの沸点は、５１℃～２０１℃であるのが好ましく、中でも６１℃以上或いは１４１℃以下、その中でも７１℃以上或いは１２１℃以下であるのが好ましい。
但し、溶剤Ｙの沸点は、溶剤Ｘを溶剤Ｙよりも先に揮発させることができる観点から、溶剤Ｘの沸点よりも高いことが好ましく、中でも１～８０℃高いことが好ましく、その中でも２℃以上、その中でも５℃以上高いことがさらに好ましい。
溶剤Ｙが溶剤Ｘよりも沸点が高い溶剤を用いることで、溶剤Ｘが溶剤Ｙよりも先に揮発され、溶剤Ｙに溶けにくい成分Ｂが析出して主に凸部を形成しやすくなる。
但し、溶剤Ｙの沸点は、溶剤Ｘを溶剤Ｙよりも先に揮発させることができる観点から、溶剤Ｘの沸点よりも高いことが好ましく、中でも１～８０℃高いことが好ましく、その中でも２℃以上、その中でも５℃以上高いことがさらに好ましい。
溶剤Ｙが溶剤Ｘよりも沸点が高い溶剤を用いることで、溶剤Ｘが溶剤Ｙよりも先に揮発され、溶剤Ｙに溶けにくい成分Ｂが析出して主に凸部を形成しやすくなる。
なお、沸点の差によって、用いる前記溶剤Ｘおよび溶剤Ｙを選択できる。但し、他の特性の差異によって選択することもできる。具体的な特性としては、相対蒸発速度、所定温度および圧力下での蒸気圧、成分Ａまたは成分Ｂの親和性が挙げられる。
例えば、同様の観点、すなわち溶剤Ｘを溶剤Ｙよりも先に揮発させることができる観点から、溶剤Ｘの相対蒸発速度は、溶剤Ｙの相対蒸発速度よりも高いことが好ましい。中でも、溶剤Ｘの相対蒸発速度は１以上であるか、若しくは、酢酸ブチルの相対蒸発速度以上であることが好ましく、且つ、溶剤Ｙの相対蒸発速度は１未満であるか、若しくは、酢酸ブチルの相対蒸発速度未満であることが好ましい。
この際、「相対蒸発速度」は、２５℃、大気圧下における酢酸ブチルの蒸発速度を１と定めた場合の比蒸発速度と定義される。例えば、各種溶剤の相対蒸発速度としては、酢酸ブチル：１、ＭＥＫ：４．５２、シクロヘキサン：２．９、トルエン：２．６６、メトキシプロパノール：０．７１、ｎブタノール：０．３９である。
例えば、同様の観点、すなわち溶剤Ｘを溶剤Ｙよりも先に揮発させることができる観点から、溶剤Ｘの相対蒸発速度は、溶剤Ｙの相対蒸発速度よりも高いことが好ましい。中でも、溶剤Ｘの相対蒸発速度は１以上であるか、若しくは、酢酸ブチルの相対蒸発速度以上であることが好ましく、且つ、溶剤Ｙの相対蒸発速度は１未満であるか、若しくは、酢酸ブチルの相対蒸発速度未満であることが好ましい。
この際、「相対蒸発速度」は、２５℃、大気圧下における酢酸ブチルの蒸発速度を１と定めた場合の比蒸発速度と定義される。例えば、各種溶剤の相対蒸発速度としては、酢酸ブチル：１、ＭＥＫ：４．５２、シクロヘキサン：２．９、トルエン：２．６６、メトキシプロパノール：０．７１、ｎブタノール：０．３９である。
溶剤Ｙとしては、例えばメタノール、エタノール、ブタノール、イソブタノール、プロピルアルコール等のアルコール系溶媒；アセトン,メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノンジアセトンアルコール等のケトン系溶媒；ノルマルプロピルアルコールジエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル系溶媒；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸メトキシブチル、酢酸アミル、酢酸プロピル、乳酸エチル、乳酸メチル、乳酸ブチル等のエステル系溶媒；トルエン、キシレン、ソルベントナフサ、ヘキサン、シクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン等の炭化水素系溶媒を挙げることができる。これらの溶媒は１種のみを用いても２種以上を組み合わせて用いてもよい。
（溶剤Ｚ）
溶剤Ｚは、溶剤Ｘと溶剤Ｙを０．１：９９．９～９９．９：０．１の質量割合で配合するのが好ましく、中でも１：９９～９９：1、その中でも１０：９０～９０：１０、その中でも１５：８５～８５：１５、その中でも８０：２０～２０：８０の質量割合で含有するのがさらに好ましい。
なお、溶剤Ｘ又は溶剤Ｙが２種以上用いられる場合は、合計した質量割合とする。
溶剤Ｚは、溶剤Ｘと溶剤Ｙを０．１：９９．９～９９．９：０．１の質量割合で配合するのが好ましく、中でも１：９９～９９：1、その中でも１０：９０～９０：１０、その中でも１５：８５～８５：１５、その中でも８０：２０～２０：８０の質量割合で含有するのがさらに好ましい。
なお、溶剤Ｘ又は溶剤Ｙが２種以上用いられる場合は、合計した質量割合とする。
＜本３次元構造形成方法＞
本３次元構造形成用組成物を用いて３次元構造を形成する方法として、例えば、本３次元構造形成用組成物を基材の表面に塗布し、加熱して溶剤Ｙよりも先に溶剤Ｘを揮発させ、溶剤Ｙに溶け難い成分Ｂを析出させて凸部を形成することで、凹凸構造などの３次元構造を表面に形成する方法（「本３次元構造形成方法」と称する）を挙げることができる。
このような本３次元構造形成方法によれば、不規則な形状からなる凸部を備えた凹凸構造を形成することができ、しかも、成分Ａ、成分Ｂ、架橋開始剤Ｃ、溶剤Ｘ及びＹの材料の選択や配合量の調整により、凹凸の大きさを制御することができる。
このように本３次元構造形成用組成物を用いて、当該３次元構造形成用組成物の３次元構造の硬化物、当該硬化物を備えた成形体、又は、当該硬化物を備えた積層体などを形成することができる。
本３次元構造形成用組成物を用いて３次元構造を形成する方法として、例えば、本３次元構造形成用組成物を基材の表面に塗布し、加熱して溶剤Ｙよりも先に溶剤Ｘを揮発させ、溶剤Ｙに溶け難い成分Ｂを析出させて凸部を形成することで、凹凸構造などの３次元構造を表面に形成する方法（「本３次元構造形成方法」と称する）を挙げることができる。
このような本３次元構造形成方法によれば、不規則な形状からなる凸部を備えた凹凸構造を形成することができ、しかも、成分Ａ、成分Ｂ、架橋開始剤Ｃ、溶剤Ｘ及びＹの材料の選択や配合量の調整により、凹凸の大きさを制御することができる。
このように本３次元構造形成用組成物を用いて、当該３次元構造形成用組成物の３次元構造の硬化物、当該硬化物を備えた成形体、又は、当該硬化物を備えた積層体などを形成することができる。
上記のように、基材の少なくとも一方の表面側に、本３次元構造を表面に有する凹凸層を備えた離型フィルムを形成すれば、当該凹凸層上に、例えば粘着フィルムを剥離可能に積層することで、当該粘着フィルムに前記凹凸構造を転写することができる。
以下、本３次元構造形成方法のより具体的な実施形態の一例について説明する。
前記成分Ａと、前記成分Ｂと、必要に応じて架橋開始剤Ｃとの混合樹脂を、所定の混合溶剤Ｚ、例えば、成分Ａ、成分Ｂ及び架橋開始剤Ｃに対して良溶媒である溶剤Ｘと、成分Ａ及び架橋開始剤Ｃに対して良溶媒（すなわちこれらに対して共溶媒）であり、成分Ｂに対しては貧溶媒であり、かつ沸点が溶剤Ｘよりも高い溶剤Ｙとの混合溶剤Ｚに加えて溶かして本３次元構造形成用組成物を調製し、この本３次元構造形成用組成物を基材の表面に塗布する。混合溶剤Ｚが乾燥する過程で、相対的に溶剤Ｘが早く揮発して、溶剤Ｙの占める割合が増えるため、溶剤Ｙに溶解し難い成分Ｂを析出させ凸部を形成する。さらに乾燥することで成分Ａにより凹部が形成して凹凸構造を形成する。或いはさらに、例えば光照射するなどして架橋開始剤Ｃを励起させて硬化させて前記凹凸構造を形成するようにすればよい。
前記成分Ａと、前記成分Ｂと、必要に応じて架橋開始剤Ｃとの混合樹脂を、所定の混合溶剤Ｚ、例えば、成分Ａ、成分Ｂ及び架橋開始剤Ｃに対して良溶媒である溶剤Ｘと、成分Ａ及び架橋開始剤Ｃに対して良溶媒（すなわちこれらに対して共溶媒）であり、成分Ｂに対しては貧溶媒であり、かつ沸点が溶剤Ｘよりも高い溶剤Ｙとの混合溶剤Ｚに加えて溶かして本３次元構造形成用組成物を調製し、この本３次元構造形成用組成物を基材の表面に塗布する。混合溶剤Ｚが乾燥する過程で、相対的に溶剤Ｘが早く揮発して、溶剤Ｙの占める割合が増えるため、溶剤Ｙに溶解し難い成分Ｂを析出させ凸部を形成する。さらに乾燥することで成分Ａにより凹部が形成して凹凸構造を形成する。或いはさらに、例えば光照射するなどして架橋開始剤Ｃを励起させて硬化させて前記凹凸構造を形成するようにすればよい。
上記作製方法において、凹凸層が形成される原理としては、上記３次元構造形成用組成物は、塗布後に乾燥する過程で、溶剤Ｚが減少するのに伴って溶剤中の環境が変化していき、相溶性の悪い成分Ａと成分Ｂが相分離し、両方の溶剤に溶けられる成分はより乾燥が進むまで溶剤中に溶解するため、片方の溶剤Ｙに溶けにくい成分Ｂが析出して主に凸部を形成し、両方の溶剤に溶けられる成分Ａが主に凹部を形成し、自発的に凹凸構造が形成されるものと推定される。
（基材）
基材としては、例えば紙、各種樹脂フィルム、紙基材を樹脂でラミネートした基材、ガラス、金属箔からなる基材、金属箔を樹脂でラミネートした基材等を使用することができる。但し、これらに限定するものではない。
基材としては、例えば紙、各種樹脂フィルム、紙基材を樹脂でラミネートした基材、ガラス、金属箔からなる基材、金属箔を樹脂でラミネートした基材等を使用することができる。但し、これらに限定するものではない。
上記紙基材としては、例えば薄葉紙、中質紙、上質紙、含浸紙、コート紙、アート紙、硫酸紙、グラシン紙等を挙げることができる。
上記樹脂フィルムとしては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリ酢酸ビニル、ポリスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルイミド、ポリイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリウレタン、アクリル樹脂等の各種樹脂を主成分樹脂とする樹脂フィルムを挙げることができる。樹脂フィルムは、無延伸フィルム（シート）であっても延伸フィルムであってもよい。中でも、延伸フィルムであることが好ましく、二軸延伸フィルムであることがより好ましい。
上記紙基材を樹脂でラミネートした基材としては、例えば上記の紙基材をポリエチレン等の熱可塑性樹脂でラミネートしたラミネート紙等を挙げることができる。
また、上記金属箔からなる基材としては、アルミフォイル等を挙げることができる。
また、上記金属箔からなる基材としては、アルミフォイル等を挙げることができる。
これらの中でも、切断時に紙粉が発生せず、また凹凸構造を転写する粘着フィルム等にも紙粉の付着が生じないことから、上記樹脂フィルムが好ましく、加工のしやすさ、耐久性、耐熱性、コスト等の観点から、ポリエステルを主成分樹脂とする樹脂フィルムであるのがより好ましく、特にポリエチレンテレフタレートを主成分樹脂とする樹脂フィルムであるのがさらに好ましい。
ここで、「主成分樹脂」とは、基材を構成する樹脂の中でも最も含有量の多い樹脂を意味し、具体的には５０質量％以上、中でも７０質量％以上、その中でも８０質量％以上、その中でも９０質量％以上（１００質量％を含む）を占める樹脂を言う。
ここで、「主成分樹脂」とは、基材を構成する樹脂の中でも最も含有量の多い樹脂を意味し、具体的には５０質量％以上、中でも７０質量％以上、その中でも８０質量％以上、その中でも９０質量％以上（１００質量％を含む）を占める樹脂を言う。
基材は、単層構成のものであってもよいし、同種又は異種の樹脂を主成分とする２層以上の複層構成のものであってもよい。
基材の厚さは、用途に応じて適時選択するのが好ましい。一般的には５μｍ～５００μｍであるのが好ましく、中でも１０μｍ以上或いは３００μｍ以下、その中でも１５μｍ以上或いは２００μｍ以下であるのがさらに好ましい。
基材として樹脂フィルムを用いる場合、易滑性の付与を主たる目的として、粒子を含有させることも可能である。
基材に含有させる粒子の種類は、易滑性付与可能な粒子であれば特に限定されるものではない。例えばシリカ、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、硫酸カルシウム、リン酸カルシウム、リン酸マグネシウム、カオリン、酸化アルミニウム、酸化チタン等の無機粒子のほか、アクリル樹脂、スチレン樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ベンゾグアナミン樹脂等の有機粒子等を挙げることができる。
基材に含有させる粒子の種類は、易滑性付与可能な粒子であれば特に限定されるものではない。例えばシリカ、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、硫酸カルシウム、リン酸カルシウム、リン酸マグネシウム、カオリン、酸化アルミニウム、酸化チタン等の無機粒子のほか、アクリル樹脂、スチレン樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ベンゾグアナミン樹脂等の有機粒子等を挙げることができる。
当該粒子の形状に関しても特に限定されるわけではない。例えば球状、塊状、棒状、扁平状等のいずれであってもよい。
また、当該粒子の硬度、比重、色等についても特に制限はない。これら一連の粒子は、必要に応じて２種類以上を併用してもよい。
また、当該粒子の硬度、比重、色等についても特に制限はない。これら一連の粒子は、必要に応じて２種類以上を併用してもよい。
上記粒子の平均粒径は、５μｍ以下であるのが好ましく、中でも０．１μｍ以上或いは３μｍ以下であるのがさらに好ましい。上記粒子の平均粒径が当該範囲であれば、基材に適度な表面粗度を与えることができ、良好な滑り性と平滑性を付与することができる。
また、上記基材は、上述の粒子以外に必要に応じて従来公知の酸化防止剤、熱安定剤、潤滑剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、軟化剤、結晶核剤、染料、顔料等を含有してもよい。
必要に応じて上記基材の片面又は両面に、各種機能を備えた層（「機能層」と称する）を設けることができる。例えば、上記基材と上記凹凸層の間に機能層を設けることができる。
当該機能層としては、例えば易接着層、帯電防止層、易滑層、水蒸気等の気体バリア層、基材含有物の析出防止層、紫外線吸収層、傷つき防止層、防汚層、抗菌層、反射防止層、光沢層、マット層、インク受容層、着色層、印刷層等の各種機能を備えた層を挙げることができる。
当該機能層としては、例えば易接着層、帯電防止層、易滑層、水蒸気等の気体バリア層、基材含有物の析出防止層、紫外線吸収層、傷つき防止層、防汚層、抗菌層、反射防止層、光沢層、マット層、インク受容層、着色層、印刷層等の各種機能を備えた層を挙げることができる。
（３次元構造形成用組成物の塗布）
上記３次元構造形成用組成物を基材の表面に塗布する方法としては、例えばキスロールコーター、ビードコーター、ロッドコーター、マイヤーバーコーター、ダイコーター、グラビアコーターなど公知慣用の方法を採用することができる。
上記３次元構造形成用組成物を基材の表面に塗布する方法としては、例えばキスロールコーター、ビードコーター、ロッドコーター、マイヤーバーコーター、ダイコーター、グラビアコーターなど公知慣用の方法を採用することができる。
（乾燥）
本３次元構造形成用組成物を塗布した後、溶剤Ｘを溶剤Ｙよりも優先させて揮発させるため、乾燥時の温度は、溶剤Ｘ、Ｙの沸点との関係から、１０℃～１５０℃に設定するのが好ましく、中でも２０℃以上或いは１４０℃以下に設定するのがより好ましく、その中でも４０℃以上或いは１２５℃以下に設定するのがさらに好ましい。なお、常温で乾燥させてもよい。
加熱温度を調整することによって、凹凸の最大高低差を調整することができ、加熱温度が低いほど、凹凸の最大高低差が大きくなる傾向がある。一般に溶剤は沸点以下の温度で揮発性を有しており、また沸点のみならず蒸気圧特性やポリマー等との親和性等によっても揮発特性は変化する。このため、凹凸層に使用するポリマー等の種類や配合質量割合、目的とする凹凸構造の形状等に応じて、加熱温度を設定すればよい。
本３次元構造形成用組成物を塗布した後、溶剤Ｘを溶剤Ｙよりも優先させて揮発させるため、乾燥時の温度は、溶剤Ｘ、Ｙの沸点との関係から、１０℃～１５０℃に設定するのが好ましく、中でも２０℃以上或いは１４０℃以下に設定するのがより好ましく、その中でも４０℃以上或いは１２５℃以下に設定するのがさらに好ましい。なお、常温で乾燥させてもよい。
加熱温度を調整することによって、凹凸の最大高低差を調整することができ、加熱温度が低いほど、凹凸の最大高低差が大きくなる傾向がある。一般に溶剤は沸点以下の温度で揮発性を有しており、また沸点のみならず蒸気圧特性やポリマー等との親和性等によっても揮発特性は変化する。このため、凹凸層に使用するポリマー等の種類や配合質量割合、目的とする凹凸構造の形状等に応じて、加熱温度を設定すればよい。
（架橋）
上記加熱により凹凸構造を形成した後、必要に応じて、例えば光照射するなどして架橋開始剤Ｃを励起させて硬化させて前記凹凸構造を形成するようにしてもよい。
例えば成分Ａ又はＢが加熱架橋性を有していれば、その加熱架橋性を励起する温度まで加熱すればよい。
また、架橋開始剤Ｃとして光架橋開始剤を含有する場合、当該光架橋開始剤が励起する波長の光を照射すればよい。
上記加熱により凹凸構造を形成した後、必要に応じて、例えば光照射するなどして架橋開始剤Ｃを励起させて硬化させて前記凹凸構造を形成するようにしてもよい。
例えば成分Ａ又はＢが加熱架橋性を有していれば、その加熱架橋性を励起する温度まで加熱すればよい。
また、架橋開始剤Ｃとして光架橋開始剤を含有する場合、当該光架橋開始剤が励起する波長の光を照射すればよい。
（本３次元構造）
本３次元構造形成方法によれば、基材の少なくとも一方の表面側に、凸部と該凸部以外の部分（「凹部」と称する）とを有する凹凸構造を表面に有する凹凸層かららなる本３次元構造を形成することができる。
本３次元構造形成方法によれば、基材の少なくとも一方の表面側に、凸部と該凸部以外の部分（「凹部」と称する）とを有する凹凸構造を表面に有する凹凸層かららなる本３次元構造を形成することができる。
本３次元構造としては、例えば図１～９に示すように、その表面を平面視した際、前記凸部が不規則な形状を形成してなる構成を形成することが好ましい。なお、図１～９においては、白い部分が凸部に相当する。
ここで、「不規則な形状」とは、一定の規則及び周期を有さない形状を意味する。具体的には、直線のみで形成される形状や、同一パターンの直線で形成される形状や、これらを組み合わせた形状等は、不規則な形状には該当しない。また、例えばエンボスロールで転写される形状のように、一定間隔で同一形状（模様）が繰り返される形状は、不規則な形状には該当しない。不規則な形状としては、典型的には、図１～９で示される様な、非相溶なポリマー等を混合した際に自然に形成される海島構造による形状を挙げることができる。但し、このような形状に限定されるものではない。
このように前記凸部が不規則な形状を形成することにより、上述したように当該粘着フィルムに転写される凹凸構造においても不規則な形状が形成され、粘着後に当該凹凸構造を見え難くすることができる。
ここで、「不規則な形状」とは、一定の規則及び周期を有さない形状を意味する。具体的には、直線のみで形成される形状や、同一パターンの直線で形成される形状や、これらを組み合わせた形状等は、不規則な形状には該当しない。また、例えばエンボスロールで転写される形状のように、一定間隔で同一形状（模様）が繰り返される形状は、不規則な形状には該当しない。不規則な形状としては、典型的には、図１～９で示される様な、非相溶なポリマー等を混合した際に自然に形成される海島構造による形状を挙げることができる。但し、このような形状に限定されるものではない。
このように前記凸部が不規則な形状を形成することにより、上述したように当該粘着フィルムに転写される凹凸構造においても不規則な形状が形成され、粘着後に当該凹凸構造を見え難くすることができる。
また、本３次元構造として、その表面を平面視した際、前記凸部によって、不規則な形状が周囲方向、例えば上下左右方向に連続して不規則な模様、例えば網目模様を形成してなる構成を備えていてもよい。
不規則な形状が周囲方向に連続する場合には、不規則な形状の大きさや形状が一定でなく、形状の繰り返しがなく、不規則であることが好ましく、また、不規則な形状の配置も不規則であるのが好ましい。
不規則な形状が周囲方向に連続する場合には、不規則な形状の大きさや形状が一定でなく、形状の繰り返しがなく、不規則であることが好ましく、また、不規則な形状の配置も不規則であるのが好ましい。
また、本３次元構造における凸部は、平面視した際に、適宜面積を有する塊として散在しても、断続的に存在していても、連続的に連なっていてもよい。
この際、個々の凸部のＸ座標の中心とＹ座標の中心を通る径のうち最大のものを最長径とし、当該最長径のうち、測定領域中で最大値を示す径を最大最長径とする。
凸部の最大最長径は、凹凸形状を転写した粘着フィルムを貼着する際に空気の抜けを良好にすることができ、且つ、粘着後に当該凹凸構造を見え難くすることができるという観点から、１μｍ～１５００μｍであるのが好ましく、中でも１０μｍ以上或いは１２００μｍ以下、その中でも１００μｍ以上或いは１０００μｍ以下、その中でも３００μｍ以上或いは８００μｍであるのがさらに好ましい。
この際、個々の凸部のＸ座標の中心とＹ座標の中心を通る径のうち最大のものを最長径とし、当該最長径のうち、測定領域中で最大値を示す径を最大最長径とする。
凸部の最大最長径は、凹凸形状を転写した粘着フィルムを貼着する際に空気の抜けを良好にすることができ、且つ、粘着後に当該凹凸構造を見え難くすることができるという観点から、１μｍ～１５００μｍであるのが好ましく、中でも１０μｍ以上或いは１２００μｍ以下、その中でも１００μｍ以上或いは１０００μｍ以下、その中でも３００μｍ以上或いは８００μｍであるのがさらに好ましい。
また、本３次元構造における凸部は、平面視した際に、適宜長さ連続した線状を呈していてもよい。凹凸構造を転写した粘着シートを貼着する際の空気抜けをより良好にする観点からすると、中でも、フィルム周端縁部まで連続していることが好ましい。前記凹凸構造における凸部は、本離型フィルムによって凹凸構造を転写された粘着フィルム等においては凹部を形成することとなるため、本離型フィルムの凸部が上記の如く連続していると、粘着フィルム等において空気の抜け道も連続することとなる。但し、この場合、凸部の一部に不連続する箇所があってもよい。
一例として、フィルム周端縁部まで連続する凸部によって、不規則な形状が連続して網目模様を形成している場合を一例として挙げることができる。
一例として、フィルム周端縁部まで連続する凸部によって、不規則な形状が連続して網目模様を形成している場合を一例として挙げることができる。
前記凹凸構造に存在する凸部の個数は、例えば、上述したように凹凸構造を転写してなる粘着フィルムにおいて、当該粘着フィルムを貼着する際に空気の抜けを良好にすることができ、且つ、粘着後に当該凹凸構造を見え難くすることができるという観点からすると、７０３．１２μｍ×９３７．４２μｍの領域当たり１個～１０００個であるのが好ましく、中でも５００個以下、その中でも１００個以下、その中でも１０個以下であるのが好ましい。
なお、前記凹凸構造に存在する凸部の上記個数は、例えば画像解析ソフトを用いて、単位面積における離型フィルム表面に現れる凸部の個数をカウントして求めることができる。
なお、前記凹凸構造に存在する凸部の上記個数は、例えば画像解析ソフトを用いて、単位面積における離型フィルム表面に現れる凸部の個数をカウントして求めることができる。
本３次元構造は、その表面を平面視した際、表面に占める凸部の面積割合の下限を１０％以上とすることができ、中でも１５％以上、その中でも２０％以上、特に２５％以上、中でも３０％以上とすることができる。一方、凸部の面積割合の上限は、９０％以下とすることができ、中でも８５％以下、更に８０％以下、特に７５％以下、その中でも７０％以下とすることができる。
本３次元構造に占める凸部の面積割合は、前記凹凸構造の表面を画像分析によって、凹部と凸部の２つの領域に２値化することで分析することができる。
なお、前記凹凸構造の表面を、このように画像分析によって、凹部と凸部の２つの領域に２値化する際、凹凸構造の表面全体を２値化してもよいし、凹凸構造の表面の一部を複数個所において２値化して、その平均を求めてもよい。その際、少なくとも任意の３か所、中でも５か所、その中でも１０か所の平均を求めるのが好ましい。
本３次元構造に占める凸部の面積割合は、前記凹凸構造の表面を画像分析によって、凹部と凸部の２つの領域に２値化することで分析することができる。
なお、前記凹凸構造の表面を、このように画像分析によって、凹部と凸部の２つの領域に２値化する際、凹凸構造の表面全体を２値化してもよいし、凹凸構造の表面の一部を複数個所において２値化して、その平均を求めてもよい。その際、少なくとも任意の３か所、中でも５か所、その中でも１０か所の平均を求めるのが好ましい。
本３次元構造において、凸部の面積を大きくする方法としては、例えば凸部の主成分をなす成分Ｂの配合量を多くしたり、該成分Ｂの分子量を大きくしたりすることによって調整することができる。但し、このような方法に限定するものではない。
また、本３次元構造における凹凸の最大高低差の下限は０．５μｍ以上とすることができ、中でも１．０μｍ以上、特に１．５μｍ以上、中でも２．０μｍ以上、特に３．０μｍ以上、その中でも特に４．０μｍ以上とすることができる。
他方、本３次元構造における最大高低差の上限は、通常は４０μｍ以下であり、中でも３５μｍ以下、その中でも３０μｍ以下、その中でも２５μｍ以下、その中でも２０μｍ以下、その中でも１５μｍ以下とすることができる。
中でも、本３次元構造の凹凸の最大高低差が０．５～１５μｍ又は１５～４０μｍであるのが好ましい。
他方、本３次元構造における最大高低差の上限は、通常は４０μｍ以下であり、中でも３５μｍ以下、その中でも３０μｍ以下、その中でも２５μｍ以下、その中でも２０μｍ以下、その中でも１５μｍ以下とすることができる。
中でも、本３次元構造の凹凸の最大高低差が０．５～１５μｍ又は１５～４０μｍであるのが好ましい。
なお、凹凸の最大高低差は、例えば凹凸層を形成する際の塗布厚さを調整することで、調整することができる。但し、これに限定されるものではない。
また、凹凸の最大高低差は、凹部の極小値と凹部周辺の極大値の差、又は、凸部の極大値と凸部周辺の極小値の差の中での最大値として求めることができる。
このような凹凸の最大高低差を形成するための具体的な方法については後述する。
また、凹凸の最大高低差は、凹部の極小値と凹部周辺の極大値の差、又は、凸部の極大値と凸部周辺の極小値の差の中での最大値として求めることができる。
このような凹凸の最大高低差を形成するための具体的な方法については後述する。
本３次元構造形成組成物が架橋開始剤Ｃを含有する場合、本３次元構造は、成分Ａ又は成分Ｂ又はそれら両方が架橋してそれらの硬化物を含有することになる。
架橋しているか否かは、各部位のゲル分率を測定し、当該値が０％より大きい、特に５％以上、中でも１０％以上であるのが好ましい。
架橋しているか否かは、各部位のゲル分率を測定し、当該値が０％より大きい、特に５％以上、中でも１０％以上であるのが好ましい。
＜本３次元構造の用途＞
本３次元構造を形成する一例として、基材の少なくとも一方の表面側に、本３次元構造を表面に有する凹凸層を備えた離型フィルムを挙げることができる。但し、このような用途に限定するものではない。
本３次元構造を形成する一例として、基材の少なくとも一方の表面側に、本３次元構造を表面に有する凹凸層を備えた離型フィルムを挙げることができる。但し、このような用途に限定するものではない。
この離型フィルムは、前記凹凸構造を備えた凹凸層上に、例えば粘着フィルムを剥離可能に積層することで、当該粘着フィルムに前記凹凸構造を転写することができる。
この際、本３次元構造を、平面視した際、当該凹凸構造の凸部が不規則な形状を形成してなる構成を備えており、且つ、前記凹凸構造の表面に占める凸部の面積割合が１０～９０％であり、且つ、前記凹凸構造の最大高低差が０．５μｍ以上となるように作製すれば、前記粘着フィルムは、被着体に貼着する際、空気の抜けを良好にすることができ、粘着後に当該凹凸構造を見え難くすることができる。
よって、例えば建物の壁や窓、自動車の装飾や窓、携帯電話やパーソナルコンピューターの画像表示部などに貼り付ける、例えば装飾フィルム、紫外線遮断フィルム、ブルーライト遮断フィルム、耐擦傷フィルム、耐熱フィルム、飛散防止フィルム、指紋や皮脂付着防止フィルムなど、各種機能を備えた粘着フィルムを作製するための離型フィルムとして利用することができる。
この際、本３次元構造を、平面視した際、当該凹凸構造の凸部が不規則な形状を形成してなる構成を備えており、且つ、前記凹凸構造の表面に占める凸部の面積割合が１０～９０％であり、且つ、前記凹凸構造の最大高低差が０．５μｍ以上となるように作製すれば、前記粘着フィルムは、被着体に貼着する際、空気の抜けを良好にすることができ、粘着後に当該凹凸構造を見え難くすることができる。
よって、例えば建物の壁や窓、自動車の装飾や窓、携帯電話やパーソナルコンピューターの画像表示部などに貼り付ける、例えば装飾フィルム、紫外線遮断フィルム、ブルーライト遮断フィルム、耐擦傷フィルム、耐熱フィルム、飛散防止フィルム、指紋や皮脂付着防止フィルムなど、各種機能を備えた粘着フィルムを作製するための離型フィルムとして利用することができる。
＜語句の説明＞
本明細書において「Ｘ～Ｙ」（Ｘ，Ｙは任意の数字）と表現する場合、特にことわらない限り「Ｘ以上Ｙ以下」の意と共に、「好ましくはＸより大きい」或いは「好ましくはＹより小さい」の意も包含する。
また、「Ｘ以上」（Ｘは任意の数字）或いは「Ｙ以下」（Ｙは任意の数字）と表現した場合、「Ｘより大きいことが好ましい」或いは「Ｙ未満であることが好ましい」旨の意図も包含する。
本明細書において「Ｘ～Ｙ」（Ｘ，Ｙは任意の数字）と表現する場合、特にことわらない限り「Ｘ以上Ｙ以下」の意と共に、「好ましくはＸより大きい」或いは「好ましくはＹより小さい」の意も包含する。
また、「Ｘ以上」（Ｘは任意の数字）或いは「Ｙ以下」（Ｙは任意の数字）と表現した場合、「Ｘより大きいことが好ましい」或いは「Ｙ未満であることが好ましい」旨の意図も包含する。
一般的に「シート」とは、ＪＩＳにおける定義上、薄く、その厚さが長さと幅のわりには小さく平らな製品をいい、一般的に「フィルム」とは、長さ及び幅に比べて厚さが極めて小さく、最大厚さが任意に限定されている薄い平らな製品で、通常、ロールの形で供給されるものをいう（日本工業規格ＪＩＳＫ６９００）。しかし、シートとフィルムの境界は定かでなく、本発明において文言上両者を区別する必要がないので、本発明においては、「フィルム」と称する場合でも「シート」を含むものとし、「シート」と称する場合でも「フィルム」を含むものとする。
以下、本発明を下記実施例及び比較例に基づいてさらに詳述する。
＜質量平均分子量（Ｍｗ）＞
各成分の質量平均分子量（Ｍｗ）は、ＧＰＣ法により次の条件により測定した値である。
機器 ：東ソー株式会社製「ＨＬＣ－８１２０ＧＰＣ」
カラム：東ソー株式会社製「ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ Ｈ３０００＋Ｈ４０００＋Ｈ６０００」
検出器：示差屈折率検出器（ＲＩ検出器／内蔵）
溶媒 ：テトラヒドロフラン
温度 ：４０℃
流速 ：０．５ｍｌ／分
注入量：１０μＬ
濃度 ：０．２質量％
較正試料：単分散ポリスチレン
較正法：ポリスチレン換算
各成分の質量平均分子量（Ｍｗ）は、ＧＰＣ法により次の条件により測定した値である。
機器 ：東ソー株式会社製「ＨＬＣ－８１２０ＧＰＣ」
カラム：東ソー株式会社製「ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ Ｈ３０００＋Ｈ４０００＋Ｈ６０００」
検出器：示差屈折率検出器（ＲＩ検出器／内蔵）
溶媒 ：テトラヒドロフラン
温度 ：４０℃
流速 ：０．５ｍｌ／分
注入量：１０μＬ
濃度 ：０．２質量％
較正試料：単分散ポリスチレン
較正法：ポリスチレン換算
＜ＳＰ値＞
成分Ａ、成分Ｂ及び光架橋開始剤Ｃの溶解性パラメーター（ＳＰ値）は、Ｆｅｄｏｒｓらが提案した方法によって推算した。具体的には、「ＳＰ値の基礎・応用と計算方法」（山本秀樹著、株式会社情報機構）に基づいて、高分子の溶解度パラメーターの推算方法のうち、Ｆｅｄｏｒｓの推算法を参考に各ポリマー成分に含まれる各置換基の凝集エネルギー密度:Ｅ(J/mol)とモル分子容:Ｖ(cm3/mol)から下式に基づいて計算を行い、ＳＰ値（σ(cal/cm3)1/2）を求めた。
σ((J/cm3)1/2)＝（ΣＥｃｏｈ／ΣＶ）1/2
σ(cal/cm3)1/2＝σ(J/cm3)1/2／２．０４５５
成分Ａ、成分Ｂ及び光架橋開始剤Ｃの溶解性パラメーター（ＳＰ値）は、Ｆｅｄｏｒｓらが提案した方法によって推算した。具体的には、「ＳＰ値の基礎・応用と計算方法」（山本秀樹著、株式会社情報機構）に基づいて、高分子の溶解度パラメーターの推算方法のうち、Ｆｅｄｏｒｓの推算法を参考に各ポリマー成分に含まれる各置換基の凝集エネルギー密度:Ｅ(J/mol)とモル分子容:Ｖ(cm3/mol)から下式に基づいて計算を行い、ＳＰ値（σ(cal/cm3)1/2）を求めた。
σ((J/cm3)1/2)＝（ΣＥｃｏｈ／ΣＶ）1/2
σ(cal/cm3)1/2＝σ(J/cm3)1/2／２．０４５５
＜凹凸の最大高低差、凸部の面積割合、凸部の個数、及び凹凸形状の最大最長径＞
表面形状計測システム（株式会社日立ハイテクサイエンスの「ＶｅｒｔＳｃａｎ」（登録商標）Ｒ５５００）を用いて、離型フィルム（サンプル）表面において、７０３．１２μｍ×９３７．４２μｍの領域における表面の凹凸形状を、光干渉法にて測定し、補完およびベースライン補正を行い、データを読み取った。なお、測定時における対物レンズの倍率は５倍に設定した。
表面形状計測システム（株式会社日立ハイテクサイエンスの「ＶｅｒｔＳｃａｎ」（登録商標）Ｒ５５００）を用いて、離型フィルム（サンプル）表面において、７０３．１２μｍ×９３７．４２μｍの領域における表面の凹凸形状を、光干渉法にて測定し、補完およびベースライン補正を行い、データを読み取った。なお、測定時における対物レンズの倍率は５倍に設定した。
凹凸の最大高低差は、凹部の極小値と凹部周辺の極大値の差、又は、凸部の極大値と凸部周辺の極小値の差の中の最大値を求めた。
凸部の面積割合は、ベアリング機能を使用し、山側高さ閾値および谷側高さ閾値をともに０．０μｍに設定して２値化を行い、凸部の面積割合を求めた。
凸部の個数、及び凹凸形状の最大最長径は、粒子解析機能により以下の測定条件で算出した。検出した最長径のうち、最も値が大きいものを最大最長径とした。
凸部の面積割合は、ベアリング機能を使用し、山側高さ閾値および谷側高さ閾値をともに０．０μｍに設定して２値化を行い、凸部の面積割合を求めた。
凸部の個数、及び凹凸形状の最大最長径は、粒子解析機能により以下の測定条件で算出した。検出した最長径のうち、最も値が大きいものを最大最長径とした。
（粒子解析）
・曲面補正：しない
・解析：突解析
・二値化閾値：１００ｎｍ
・粒子成形：しない
・対象判定
高さベース：曲面
高さ：上限 １０００００ｎｍ、下限 ０ｎｍ
最長径：上限 １０００μｍ、下限 ０μｍ
体積：下限 ０．０μｍ３
アスペクト比：下限 ０．０
・曲面補正：しない
・解析：突解析
・二値化閾値：１００ｎｍ
・粒子成形：しない
・対象判定
高さベース：曲面
高さ：上限 １０００００ｎｍ、下限 ０ｎｍ
最長径：上限 １０００μｍ、下限 ０μｍ
体積：下限 ０．０μｍ３
アスペクト比：下限 ０．０
＜凸部規則性及び凸部連続性＞
離型フィルム（サンプル）の表面を上記の表面形状計測システムにより観察し、凸部の形状に一定の規則性又は周期性を有しているか否かを評価し、規則性も周期性も有していない場合、凸部規則性を「不規則」と評価した。
また、離型フィルム（サンプル）の表面を上記同様に観察し、凸部（白色部分）が拡大画像の１つの端縁部から向かい側にあたる端縁部まで（上辺から下辺まで、或いは右辺から左辺まで）連続して繋がっているか否かを評価した。凸部が連続して繋がっている場合は凸部連続性を「有」、凸部が散在したり、断続的に存在したりする場合は凸部連続性を「無」と評価した。
離型フィルム（サンプル）の表面を上記の表面形状計測システムにより観察し、凸部の形状に一定の規則性又は周期性を有しているか否かを評価し、規則性も周期性も有していない場合、凸部規則性を「不規則」と評価した。
また、離型フィルム（サンプル）の表面を上記同様に観察し、凸部（白色部分）が拡大画像の１つの端縁部から向かい側にあたる端縁部まで（上辺から下辺まで、或いは右辺から左辺まで）連続して繋がっているか否かを評価した。凸部が連続して繋がっている場合は凸部連続性を「有」、凸部が散在したり、断続的に存在したりする場合は凸部連続性を「無」と評価した。
［実施例１］
＜基材の原料＞
ポリエステルＡ：ポリエチレンテレフタレートホモポリマーのチップ（固有粘度：０．６６ｄｌ／ｇ）
ポリエステルＢ：平均粒径２μｍの非晶質シリカを１０００ｐｐｍ含有するポリエチレンテレフタレートホモポリマーのチップ（固有粘度：０．６２ｄｌ／ｇ）
＜基材の原料＞
ポリエステルＡ：ポリエチレンテレフタレートホモポリマーのチップ（固有粘度：０．６６ｄｌ／ｇ）
ポリエステルＢ：平均粒径２μｍの非晶質シリカを１０００ｐｐｍ含有するポリエチレンテレフタレートホモポリマーのチップ（固有粘度：０．６２ｄｌ／ｇ）
＜機能層用塗布液の原料＞
カルボキシル基を有する水分散型ポリカーボネートポリウレタン樹脂（Ｔｇ：３５℃）を６０質量部、オキサゾリン基がアクリル系樹脂にブランチされたポリマー型架橋剤を３０質量部、シリカゾル水分散体（平均粒径：０．０７μｍ）を６質量部混合して機能層用塗布液とした。
カルボキシル基を有する水分散型ポリカーボネートポリウレタン樹脂（Ｔｇ：３５℃）を６０質量部、オキサゾリン基がアクリル系樹脂にブランチされたポリマー型架橋剤を３０質量部、シリカゾル水分散体（平均粒径：０．０７μｍ）を６質量部混合して機能層用塗布液とした。
＜３次元構造形成用組成物の原料＞
アクリル系ポリマーＡ１：グリシジルメタクリレート、メチルメタクリレート及びエチルアクリレートを９８：１：１のモル比率で共重合してなるアクリル酸変性物（質量平均分子量（Ｍｗ）：２０，０００、ＳＰ値：１２．６、Ｔｇ：３２℃）
アクリル系ポリマーＢ１：メチルメタクリレート及びメチルアクリレートを９９：１のモル比率で共重合してなる共重合体（質量平均分子量（Ｍｗ）：９５，０００、ＳＰ値：９．９、Ｔｇ：１０５℃）
光重合性化合物：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（分子量：５７８、ＳＰ値：１０．４）
光架橋開始剤Ｃ１：ＩＧＭレジン社製、Ｏｍｎｉｒａｄ１２７
溶剤Ｘ：メチルエチルケトン（アクリル系ポリマーＡ１及びＢ１を溶解することができる溶剤であり、沸点は８０℃）
溶剤Ｙ：メトキシプロパノール（アクリル系ポリマーＡ１を溶解し、Ｂ１は溶解しない溶剤であり、沸点は１２０℃）
アクリル系ポリマーＡ１：グリシジルメタクリレート、メチルメタクリレート及びエチルアクリレートを９８：１：１のモル比率で共重合してなるアクリル酸変性物（質量平均分子量（Ｍｗ）：２０，０００、ＳＰ値：１２．６、Ｔｇ：３２℃）
アクリル系ポリマーＢ１：メチルメタクリレート及びメチルアクリレートを９９：１のモル比率で共重合してなる共重合体（質量平均分子量（Ｍｗ）：９５，０００、ＳＰ値：９．９、Ｔｇ：１０５℃）
光重合性化合物：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（分子量：５７８、ＳＰ値：１０．４）
光架橋開始剤Ｃ１：ＩＧＭレジン社製、Ｏｍｎｉｒａｄ１２７
溶剤Ｘ：メチルエチルケトン（アクリル系ポリマーＡ１及びＢ１を溶解することができる溶剤であり、沸点は８０℃）
溶剤Ｙ：メトキシプロパノール（アクリル系ポリマーＡ１を溶解し、Ｂ１は溶解しない溶剤であり、沸点は１２０℃）
（基材の作製）
前記ポリエステルＡを中間層用の原料とし、前記ポリエステルＢを表層用の原料とし、各原料をそれぞれ別個の溶融押出機により溶融押出して、表層／中間層／表層の２種３層積層の無定形シートを得た。ついで、冷却したキャスティングドラム上に、シートを共押出し冷却固化させて無配向シートを得た。
次いで、機械方向（縦方向）に９０℃で３．５倍に延伸した。その後、前記機能層用塗布液を乾燥後の厚みが０．０５μｍとなるように塗布した後にテンターへ導き、さらにテンター内で予熱工程を経て１２０℃で横方向に４．３倍に延伸を行い、２３０℃で２秒間の熱処理を行い、基材としてのポリエステルフィルムを得た。得られたポリエステルフィルムの厚さは５０μｍであり、表層／中間層／表層の厚み構成は５μｍ／４０μｍ／５μｍであった。
前記ポリエステルＡを中間層用の原料とし、前記ポリエステルＢを表層用の原料とし、各原料をそれぞれ別個の溶融押出機により溶融押出して、表層／中間層／表層の２種３層積層の無定形シートを得た。ついで、冷却したキャスティングドラム上に、シートを共押出し冷却固化させて無配向シートを得た。
次いで、機械方向（縦方向）に９０℃で３．５倍に延伸した。その後、前記機能層用塗布液を乾燥後の厚みが０．０５μｍとなるように塗布した後にテンターへ導き、さらにテンター内で予熱工程を経て１２０℃で横方向に４．３倍に延伸を行い、２３０℃で２秒間の熱処理を行い、基材としてのポリエステルフィルムを得た。得られたポリエステルフィルムの厚さは５０μｍであり、表層／中間層／表層の厚み構成は５μｍ／４０μｍ／５μｍであった。
（凹凸層の形成）
凹凸層の形成に用いる塗布液として、成分Ａとしてのアクリル系ポリマーＡ１を４５質量部と、成分Ｂとしてのアクリル系ポリマーＢ１を２７．５質量部と、光重合性化合物としてのジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを２７．５質量部と、光架橋開始剤Ｃ１を５質量部とを含むアクリル系ポリマー混合物を、溶剤Ｘとしてのメチルエチルケトンと、溶剤Ｙとしてのメトキシプロパノールとを７２：２８の質量割合で混合して得た混合溶媒Ｚに溶解させて、アクリル系ポリマー混合物濃度が３０質量％である３次元構造形成用組成物を調製した。
凹凸層の形成に用いる塗布液として、成分Ａとしてのアクリル系ポリマーＡ１を４５質量部と、成分Ｂとしてのアクリル系ポリマーＢ１を２７．５質量部と、光重合性化合物としてのジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを２７．５質量部と、光架橋開始剤Ｃ１を５質量部とを含むアクリル系ポリマー混合物を、溶剤Ｘとしてのメチルエチルケトンと、溶剤Ｙとしてのメトキシプロパノールとを７２：２８の質量割合で混合して得た混合溶媒Ｚに溶解させて、アクリル系ポリマー混合物濃度が３０質量％である３次元構造形成用組成物を調製した。
前記基材としてのポリエステルフィルムの機能層表面に、前記３次元構造形成用組成物をマイヤーバーにより塗布し、７０℃で溶剤Ｘおよび溶剤Ｙを揮発させた後、紫外線照射装置で紫外線を照射して光硬化させて、基材の一方の表面側に、凹凸構造を表面に有する凹凸層を形成してなる、凹凸層付フィルムを作製した。
（剥離層の形成）
剥離層に用いる塗布液として、硬化型シリコーン樹脂（信越化学社製、KS-847H）１００質量部及び硬化剤（信越化学社製、PL-50T）１質量部を、メチルエチルケトン／トルエン混合溶媒（混合比率は１：１）で希釈して、シリコーン樹脂濃度が４質量％である剥離層用塗布液を作製した。
前記凹凸層付フィルムの凹凸層の表面に、前記剥離層用塗布液をマイヤーバーにより塗布し、１２０℃に加熱して乾燥及び硬化させることで剥離層を設け、離型フィルム１（サンプル）を作製した。
剥離層に用いる塗布液として、硬化型シリコーン樹脂（信越化学社製、KS-847H）１００質量部及び硬化剤（信越化学社製、PL-50T）１質量部を、メチルエチルケトン／トルエン混合溶媒（混合比率は１：１）で希釈して、シリコーン樹脂濃度が４質量％である剥離層用塗布液を作製した。
前記凹凸層付フィルムの凹凸層の表面に、前記剥離層用塗布液をマイヤーバーにより塗布し、１２０℃に加熱して乾燥及び硬化させることで剥離層を設け、離型フィルム１（サンプル）を作製した。
［実施例２］
マイヤーバーの線数を変更して凹凸層の厚みを変化させて凸部の最大凹凸高低差を８μｍとした以外、実施例１と同様の方法で離型フィルム２（サンプル）を作製した。
マイヤーバーの線数を変更して凹凸層の厚みを変化させて凸部の最大凹凸高低差を８μｍとした以外、実施例１と同様の方法で離型フィルム２（サンプル）を作製した。
［実施例３］
剥離層を設ける代わりに、３次元構造形成用組成物にシリコーン変性アクリルポリマー（共栄社化学社製、ＧＬ０４Ｒ）３質量％をさらに加えた以外は、実施例１と同様の方法で離型フィルム３（サンプル）を作製した。
剥離層を設ける代わりに、３次元構造形成用組成物にシリコーン変性アクリルポリマー（共栄社化学社製、ＧＬ０４Ｒ）３質量％をさらに加えた以外は、実施例１と同様の方法で離型フィルム３（サンプル）を作製した。
［実施例４］
３次元構造形成用組成物を作製する際、上記アクリル系ポリマーＡ１と上記アクリル系ポリマーＢ１と光重合性化合物としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（質量平均分子量（Ｍｗ）：５７８、ＳＰ値：１０．４）との混合比を質量部が６０：２０：２０で混合させたアクリル系ポリマー混合物を、溶剤Ｘとしてのメチルエチルケトンと、溶剤Ｙとしてのメトキシプロパノールとを６３：３７の質量割合で混合して得た混合溶媒Ｚに溶解させた以外は、実施例１と同様の方法で離型フィルム４（サンプル）を作製した。
３次元構造形成用組成物を作製する際、上記アクリル系ポリマーＡ１と上記アクリル系ポリマーＢ１と光重合性化合物としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（質量平均分子量（Ｍｗ）：５７８、ＳＰ値：１０．４）との混合比を質量部が６０：２０：２０で混合させたアクリル系ポリマー混合物を、溶剤Ｘとしてのメチルエチルケトンと、溶剤Ｙとしてのメトキシプロパノールとを６３：３７の質量割合で混合して得た混合溶媒Ｚに溶解させた以外は、実施例１と同様の方法で離型フィルム４（サンプル）を作製した。
［実施例５］
次のように調製した３次元構造形成用組成物を用いて凹凸層を形成した以外は、実施例１と同様にして離型フィルム５（サンプル）を作製した。
すなわち、凹凸層の形成に用いる塗布液として、ポリジメチルシロキサンを枝ポリマーとし、アクリル系モノマーを幹ポリマーとする成分Ｂとしてのグラフト共重合体Ｂ２（質量平均分子量（Ｍｗ）：１６，０００、ＳＰ値：１０．９）６５質量部と、成分Ａとしてのアクリル系ポリマーＢ１（質量平均分子量（Ｍｗ）：９５，０００、ＳＰ値：９．９）３５質量部と、光架橋開始剤Ｃ（IGM resin社製、Ominirad127）５質量部とを含むアクリル系モノマー混合物を、溶剤Ｘとしてのメチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン及び溶剤Ｙとしてのメトキシプロパノールとを、２８：２６:４６の質量割合で混合して得た混合溶媒Ｚに溶解させて、前記アクリル系ポリマー混合物濃度が１６質量％である３次元構造形成用組成物を調製した。
次のように調製した３次元構造形成用組成物を用いて凹凸層を形成した以外は、実施例１と同様にして離型フィルム５（サンプル）を作製した。
すなわち、凹凸層の形成に用いる塗布液として、ポリジメチルシロキサンを枝ポリマーとし、アクリル系モノマーを幹ポリマーとする成分Ｂとしてのグラフト共重合体Ｂ２（質量平均分子量（Ｍｗ）：１６，０００、ＳＰ値：１０．９）６５質量部と、成分Ａとしてのアクリル系ポリマーＢ１（質量平均分子量（Ｍｗ）：９５，０００、ＳＰ値：９．９）３５質量部と、光架橋開始剤Ｃ（IGM resin社製、Ominirad127）５質量部とを含むアクリル系モノマー混合物を、溶剤Ｘとしてのメチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン及び溶剤Ｙとしてのメトキシプロパノールとを、２８：２６:４６の質量割合で混合して得た混合溶媒Ｚに溶解させて、前記アクリル系ポリマー混合物濃度が１６質量％である３次元構造形成用組成物を調製した。
上記アクリル系モノマーを幹ポリマーとするグラフト共重合体Ｂ２は、メチルメタクリレートと、ステアリルメタクリレートと、分子量５０００の末端メタアクリロイル基を有するシリコンマクロマーと、グリシジルメタクリレートとを、１０：１０：２０：６０のモル比率で共重合してなるアクリル酸変性物であった。
溶剤Ｘとしてのメチルイソブチルケトン及びメチルエチルケトンは、グラフト共重合体Ｂ２及びアクリル系ポリマーＡ１を溶解することができる溶剤であり、その沸点はメチルイソブチルケトンが１１６℃、メチルエチルケトンが８０℃であった。
他方、溶剤Ｙとしてのメトキシプロパノールは、グラフト共重合体Ｂ２及びアクリル系ポリマーＡ１のうちＡ１のみを溶解することができる溶剤であり、その沸点は１２０℃であった。
溶剤Ｘとしてのメチルイソブチルケトン及びメチルエチルケトンは、グラフト共重合体Ｂ２及びアクリル系ポリマーＡ１を溶解することができる溶剤であり、その沸点はメチルイソブチルケトンが１１６℃、メチルエチルケトンが８０℃であった。
他方、溶剤Ｙとしてのメトキシプロパノールは、グラフト共重合体Ｂ２及びアクリル系ポリマーＡ１のうちＡ１のみを溶解することができる溶剤であり、その沸点は１２０℃であった。
［実施例６］
マイヤーバーを調整して凹凸層の厚みを変化させて最大凹凸高低差を１μｍとした以外、実施例５と同様の方法で離型フィルム６（サンプル）を作製した。
マイヤーバーを調整して凹凸層の厚みを変化させて最大凹凸高低差を１μｍとした以外、実施例５と同様の方法で離型フィルム６（サンプル）を作製した。
［実施例７］
次のように調製した３次元構造形成用組成物を用いると共に、４０℃で加熱乾燥させて凹凸層を形成した以外は、実施例２と同様にして離型フィルム７（サンプル）を作製した。
すなわち、凹凸層の形成に用いる塗布液として、成分Ａとしてのジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（質量平均分子量（Ｍｗ）：５７８、ＳＰ値：１０．４）５０質量部、成分Ｂとしてのポリプロピレン（出光興産社製「Ｓ４００」、質量平均分子量（Ｍｗ）：４５，０００（カタログ値）、ＳＰ値：８．２、Ｔｇ：５０℃）５０質量部および光架橋開始剤（２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オン）３質量部を含む混合物を、溶剤Ｘとしてのシクロヘキサン、トルエンと溶剤Ｙとしてのメトキシプロパノールとを４９：４９：２の質量割合で配合して得た混合溶媒（溶剤Ｚ）に溶解させて、前記混合物濃度が１５質量％である３次元構造形成用組成物を調製した。
溶剤Ｘとしてのシクロヘキサン、トルエンは、成分Ａ及びＢを溶解することができる溶剤であり、その沸点はそれぞれ８１℃、１１１℃であった。
他方、溶剤Ｙとしてのメトキシプロパノールは、成分Ａ及びＢのうち成分Ａのみを溶解することができる溶剤であり、その沸点は１２０℃であった。
次のように調製した３次元構造形成用組成物を用いると共に、４０℃で加熱乾燥させて凹凸層を形成した以外は、実施例２と同様にして離型フィルム７（サンプル）を作製した。
すなわち、凹凸層の形成に用いる塗布液として、成分Ａとしてのジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（質量平均分子量（Ｍｗ）：５７８、ＳＰ値：１０．４）５０質量部、成分Ｂとしてのポリプロピレン（出光興産社製「Ｓ４００」、質量平均分子量（Ｍｗ）：４５，０００（カタログ値）、ＳＰ値：８．２、Ｔｇ：５０℃）５０質量部および光架橋開始剤（２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オン）３質量部を含む混合物を、溶剤Ｘとしてのシクロヘキサン、トルエンと溶剤Ｙとしてのメトキシプロパノールとを４９：４９：２の質量割合で配合して得た混合溶媒（溶剤Ｚ）に溶解させて、前記混合物濃度が１５質量％である３次元構造形成用組成物を調製した。
溶剤Ｘとしてのシクロヘキサン、トルエンは、成分Ａ及びＢを溶解することができる溶剤であり、その沸点はそれぞれ８１℃、１１１℃であった。
他方、溶剤Ｙとしてのメトキシプロパノールは、成分Ａ及びＢのうち成分Ａのみを溶解することができる溶剤であり、その沸点は１２０℃であった。
［実施例８］
次のように調製した３次元構造形成用組成物を用いると共に、５０℃で加熱乾燥させて凹凸層を形成した以外は、実施例７と同様にして離型フィルム８（サンプル）を作製した。
すなわち、凹凸層の形成に用いる塗布液として、成分Ａとしてのウレタンアクリレート（新中村化学工業社製「商品名：Ｕ－１５ＨＡ」、質量平均分子量（Ｍｗ）：２２０５、ＳＰ値：１１．２）５０質量部、成分Ｂとしてのポリプロピレン（出光興産社製「Ｓ４００」、質量平均分子量（Ｍｗ）：４５，０００（カタログ値）、ＳＰ値：８．２、Ｔｇ：５０℃）５０質量部および光架橋開始剤（２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オン）３質量部を含む混合物を、溶剤Ｘとしてのシクロヘキサン、トルエンと溶剤Ｙとしてのメトキシプロパノールとを４９：４９：２の質量割合で配合して得た混合溶媒（溶剤Ｚ）に溶解させて、前記混合物濃度が１５質量％である３次元構造形成用組成物を調製した。
次のように調製した３次元構造形成用組成物を用いると共に、５０℃で加熱乾燥させて凹凸層を形成した以外は、実施例７と同様にして離型フィルム８（サンプル）を作製した。
すなわち、凹凸層の形成に用いる塗布液として、成分Ａとしてのウレタンアクリレート（新中村化学工業社製「商品名：Ｕ－１５ＨＡ」、質量平均分子量（Ｍｗ）：２２０５、ＳＰ値：１１．２）５０質量部、成分Ｂとしてのポリプロピレン（出光興産社製「Ｓ４００」、質量平均分子量（Ｍｗ）：４５，０００（カタログ値）、ＳＰ値：８．２、Ｔｇ：５０℃）５０質量部および光架橋開始剤（２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オン）３質量部を含む混合物を、溶剤Ｘとしてのシクロヘキサン、トルエンと溶剤Ｙとしてのメトキシプロパノールとを４９：４９：２の質量割合で配合して得た混合溶媒（溶剤Ｚ）に溶解させて、前記混合物濃度が１５質量％である３次元構造形成用組成物を調製した。
［実施例９］
次のように調製した３次元構造形成用組成物を用いると共に、５０℃で加熱乾燥させて凹凸層を形成した以外は、実施例７と同様にして離型フィルム９（サンプル）を作製した。
すなわち、凹凸層の形成に用いる塗布液として、成分Ａとしてのアクリル系ポリマーＡ１（質量平均分子量（Ｍｗ）：２０，０００、ＳＰ値：１２．６、Ｔｇ：３２℃）５０質量部、成分Ｂとしての水添末端アクリレートポリブタジエン（日本曹達社製「ＴＥＡＩ－１０００」、質量平均分子量（Ｍｗ）：２，０００（カタログ値）、ＳＰ値：９．９、Ｔｇ：－１４℃（カタログ値））２５質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（質量平均分子量（Ｍｗ）：５７８、ＳＰ値：１０．４）２５質量部および光架橋開始剤（２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オン）５質量部を含む混合物を、溶剤Ｘとしてのシクロヘキサンとトルエンとメチルエチルケトン、溶剤Ｙとしてのメトキシプロパノールとｎ－ブタノールを６：２５:３２：３１：６の質量割合で配合して得た混合溶媒に溶解させて、前混合物濃度が１５質量％である３次元構造形成用組成物を調製した。
次のように調製した３次元構造形成用組成物を用いると共に、５０℃で加熱乾燥させて凹凸層を形成した以外は、実施例７と同様にして離型フィルム９（サンプル）を作製した。
すなわち、凹凸層の形成に用いる塗布液として、成分Ａとしてのアクリル系ポリマーＡ１（質量平均分子量（Ｍｗ）：２０，０００、ＳＰ値：１２．６、Ｔｇ：３２℃）５０質量部、成分Ｂとしての水添末端アクリレートポリブタジエン（日本曹達社製「ＴＥＡＩ－１０００」、質量平均分子量（Ｍｗ）：２，０００（カタログ値）、ＳＰ値：９．９、Ｔｇ：－１４℃（カタログ値））２５質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（質量平均分子量（Ｍｗ）：５７８、ＳＰ値：１０．４）２５質量部および光架橋開始剤（２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オン）５質量部を含む混合物を、溶剤Ｘとしてのシクロヘキサンとトルエンとメチルエチルケトン、溶剤Ｙとしてのメトキシプロパノールとｎ－ブタノールを６：２５:３２：３１：６の質量割合で配合して得た混合溶媒に溶解させて、前混合物濃度が１５質量％である３次元構造形成用組成物を調製した。
［比較例１］
実施例１で用いた前記基材フィルムとしてのポリエステルフィルムの表面に、凹凸層を形成することなく、実施例１と同様に離型層を設けた以外は、実施例１と同様にして離型フィルム１０（サンプル）を作製した。
実施例１で用いた前記基材フィルムとしてのポリエステルフィルムの表面に、凹凸層を形成することなく、実施例１と同様に離型層を設けた以外は、実施例１と同様にして離型フィルム１０（サンプル）を作製した。
［比較例２］
ポリエチレンがラミネートされており、最大高低差が８．２μｍ、凸部幅が４０μｍ、ピッチが３１０μｍ周期で、凸部が格子状の形状を有し、表面にシリコーン剥離層が設けられている離型紙を用いた。
ポリエチレンがラミネートされており、最大高低差が８．２μｍ、凸部幅が４０μｍ、ピッチが３１０μｍ周期で、凸部が格子状の形状を有し、表面にシリコーン剥離層が設けられている離型紙を用いた。
（考察）
上記実施例・比較例の結果並びに本発明者がこれまで行ってきた試験結果などから、所定の成分Ａ及び成分Ｂを、成分Ａ及び成分Ｂに対して良溶媒である溶剤Ｘと、成分Ａに対して良溶媒（すなわちこれらに対して共溶媒）であり、成分Ｂに対しては貧溶媒であり、かつ沸点が溶剤Ｘよりも高い溶剤Ｙとの混合溶剤Ｚに加えて溶かして３次元構造形成用組成物を調製し、この３次元構造形成用組成物を基材の表面に塗布し、加熱して溶剤Ｘを溶剤Ｙよりも優先させて揮発させて、溶剤Ｙに溶け難い成分Ｂを析出させて凸部を形成するようにすれば、不規則形状からなる凹凸構造を表面に備えた３次元構造を自己形成することができ、しかも、成分Ａ、成分Ｂ、溶剤Ｘ及びＹの材料の選択や配合量を調整することにより、前記凹凸構造における凹凸の深さを適宜調整することができることが分かった。
上記実施例・比較例の結果並びに本発明者がこれまで行ってきた試験結果などから、所定の成分Ａ及び成分Ｂを、成分Ａ及び成分Ｂに対して良溶媒である溶剤Ｘと、成分Ａに対して良溶媒（すなわちこれらに対して共溶媒）であり、成分Ｂに対しては貧溶媒であり、かつ沸点が溶剤Ｘよりも高い溶剤Ｙとの混合溶剤Ｚに加えて溶かして３次元構造形成用組成物を調製し、この３次元構造形成用組成物を基材の表面に塗布し、加熱して溶剤Ｘを溶剤Ｙよりも優先させて揮発させて、溶剤Ｙに溶け難い成分Ｂを析出させて凸部を形成するようにすれば、不規則形状からなる凹凸構造を表面に備えた３次元構造を自己形成することができ、しかも、成分Ａ、成分Ｂ、溶剤Ｘ及びＹの材料の選択や配合量を調整することにより、前記凹凸構造における凹凸の深さを適宜調整することができることが分かった。
Claims (9)
- ポリマー又はオリゴマーからなる互いに非相溶な成分Ａ及びＢは、成分Ｂの溶解性パラメーター（ＳＰ（Ｂ））が成分Ａの溶解性パラメーター（ＳＰ（Ａ））よりも０．０１以上低く、以下を満たす溶剤Ｘ及び溶剤Ｙを含有し、溶剤Ｘと溶剤Ｙを５４：４６～９９．９：０．１の質量割合で配合した混合溶剤Ｚに溶解又は懸濁分散してなる３次元構造形成用組成物。
溶剤Ｘ：成分Ａ及び成分Ｂに対して良溶媒である。
溶剤Ｙ：成分Ａに対して良溶媒であるが、成分Ｂに対して不溶性又は膨潤する。
溶剤Ｘの沸点よりも溶剤Ｙの沸点の方が２℃以上高い。 - 前記成分Ａ及びＢに加えてさらに架橋開始剤Ｃが混合溶剤Ｚに溶解又は懸濁分散しており、前記溶剤Ｘは架橋開始剤Ｃを溶解し、前記溶剤Ｙは架橋開始剤Ｃを溶解することを特徴とする、請求項１に記載の３次元構造形成用組成物。
- 前記成分ＡのＳＰ値（Ａ）は８～２１であり、成分ＢのＳＰ値（Ｂ）は７～２０であり、且つ、前記ＳＰ値（Ａ）－前記ＳＰ値（Ｂ）＝０．０１～１０であることを特徴とする請求項１又は２に記載の３次元構造形成用組成物。
- 前記成分Ａの質量平均分子量（Ｍｗ）は３００～３００，０００であり、前記成分Ｂの質量平均分子量（Ｍｗ）は、前記成分Ａの質量平均分子量（Ｍｗ）より１０００以上大きく、且つ、１３００～４００，０００であることを特徴とする請求項１～３の何れかに記載の３次元構造形成用組成物。
- 請求項１～４の何れかに記載の３次元構造形成用組成物の硬化物。
- 請求項１～４の何れかに記載の３次元構造形成用組成物の硬化物を備えた成形体。
- 請求項１～４の何れかに記載の３次元構造形成用組成物の硬化物を備えた積層体。
- 請求項１～４の何れかに記載の３次元構造形成用組成物を基材の表面に塗布し、加熱して溶剤Ｙよりも先に溶剤Ｘを揮発させ、溶剤Ｙに溶け難い成分Ｂを析出させて凸部を形成することを特徴とする、３次元構造形成方法。
- 溶剤Ｘを揮発させて凸部を形成した後、架橋開始剤Ｃを励起させて架橋反応させて前記凸部を硬化させることを特徴とする、請求項８に記載の３次元構造形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017230401A JP7200475B2 (ja) | 2017-11-30 | 2017-11-30 | ３次元構造形成用組成物及び３次元構造形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017230401A JP7200475B2 (ja) | 2017-11-30 | 2017-11-30 | ３次元構造形成用組成物及び３次元構造形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2019099649A JP2019099649A (ja) | 2019-06-24 |
| JP7200475B2 true JP7200475B2 (ja) | 2023-01-10 |
Family
ID=66976063
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2017230401A Active JP7200475B2 (ja) | 2017-11-30 | 2017-11-30 | ３次元構造形成用組成物及び３次元構造形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7200475B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112996827B (zh) * | 2018-11-07 | 2023-10-27 | 长濑化成株式会社 | 光固化性树脂组合物及树脂固化物 |
| US11931987B2 (en) | 2020-02-21 | 2024-03-19 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Decorative material, laminate, and method for manufacturing decorative material |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004126495A (ja) | 2001-12-17 | 2004-04-22 | Daicel Chem Ind Ltd | 防眩性フィルム、それを用いた光学部材及び液晶表示装置 |
| JP2009120817A (ja) | 2007-10-26 | 2009-06-04 | Nippon Bee Chemical Co Ltd | 耐候性防眩性コーティング組成物、耐候性防眩フィルムおよびその製造方法 |
| JP2009256609A (ja) | 2008-03-28 | 2009-11-05 | Lintec Corp | 粘着シート及びその製造方法 |
| JP2010066469A (ja) | 2008-09-10 | 2010-03-25 | Daicel Chem Ind Ltd | 防眩性フィルムおよびその製造方法 |
| JP2016049748A (ja) | 2014-09-02 | 2016-04-11 | 日油株式会社 | インサート成形用防眩性フィルム及びこれを用いた樹脂成形品 |
-
2017
- 2017-11-30 JP JP2017230401A patent/JP7200475B2/ja active Active
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004126495A (ja) | 2001-12-17 | 2004-04-22 | Daicel Chem Ind Ltd | 防眩性フィルム、それを用いた光学部材及び液晶表示装置 |
| JP2009120817A (ja) | 2007-10-26 | 2009-06-04 | Nippon Bee Chemical Co Ltd | 耐候性防眩性コーティング組成物、耐候性防眩フィルムおよびその製造方法 |
| JP2009256609A (ja) | 2008-03-28 | 2009-11-05 | Lintec Corp | 粘着シート及びその製造方法 |
| JP2010066469A (ja) | 2008-09-10 | 2010-03-25 | Daicel Chem Ind Ltd | 防眩性フィルムおよびその製造方法 |
| JP2016049748A (ja) | 2014-09-02 | 2016-04-11 | 日油株式会社 | インサート成形用防眩性フィルム及びこれを用いた樹脂成形品 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2019099649A (ja) | 2019-06-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI798300B (zh) | 離型膜及積層體之製造方法 | |
| WO2013051712A1 (ja) | 基材レス両面粘着シート | |
| WO2006135776A2 (en) | Printing method for making a lenticular lens material | |
| TW200306911A (en) | Laminated film for optical use | |
| KR20160068773A (ko) | 공정 시트 | |
| TW201000969A (en) | Optical film having non-spherical particles | |
| JP7188029B2 (ja) | 離型フィルム | |
| KR101113598B1 (ko) | 항블록킹 하드코팅 필름 및 이의 제조방법 | |
| KR101821257B1 (ko) | 무기재 양면 점착 시트 | |
| KR20200010331A (ko) | 조성물, 광학 필름, 편광판, 표시 장치, 및 조성물의 제조 방법 | |
| WO2011105594A1 (ja) | ハードコートフィルムおよびその製造方法 | |
| JP7200475B2 (ja) | ３次元構造形成用組成物及び３次元構造形成方法 | |
| WO2008146935A1 (ja) | 防眩性光透過性ハードコートフィルム | |
| TW201819515A (zh) | 具有高滑動特性以及阻絕uv光絕佳特性的光學膜以及包含此光學膜的偏光板 | |
| JP2022172161A (ja) | 積層体 | |
| JP6777396B2 (ja) | ハードコートフィルム | |
| JP2012128157A (ja) | ハードコートフィルムおよびその製造方法 | |
| JP7255151B2 (ja) | 離型フィルム | |
| JP7230466B2 (ja) | 積層体の製造方法、およびロール状の積層体 | |
| CN115443302A (zh) | 聚酯离型膜及其制备方法 | |
| JP7456231B2 (ja) | 積層フィルム | |
| JP2021155624A (ja) | 離型フィルム及び積層体の製造方法 | |
| JP2013156458A (ja) | 光学基材用粘着シート | |
| JP7363546B2 (ja) | 積層体及びエポキシ樹脂シートの製造方法 | |
| KR20090104592A (ko) | 폴리에스테르 필름 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20201118 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210810 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210817 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20211012 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20211210 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220426 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20220620 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220822 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220906 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20221024 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20221122 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20221205 |
|
| R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 7200475 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |