JP7456231B2

JP7456231B2 - 積層フィルム

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Publication number: JP7456231B2
Application number: JP2020055596A
Authority: JP
Inventors: 伸明佐々木
Original assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Current assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Priority date: 2020-03-26
Filing date: 2020-03-26
Publication date: 2024-03-27
Anticipated expiration: 2040-03-26
Also published as: JP2021154551A

Description

本発明は、例えば、液晶パネルなどのディスプレイパネルの光源側に配置するなど、ディスプレイの構成部材として使用することができる積層フィルムに関する。

フラットパネルディスプレイ等のディスプレイ画面において、ディスプレイパネルと他の部材を密着して配置すると、干渉縞（ニュートンリング）が発生し、視認性を低下させることがある。このような干渉縞（ニュートンリング）は、平滑面同士が重なることにより生じるため、ディスプレイパネルと他の部材との間に一定以上の隙間を確保することによって、その発生を抑制することができる。そのため、ディスプレイパネルと他の部材との間に、表面に凹凸を形成したニュートンリング防止シートを介在させる技術が知られている。

例えば特許文献１には、透明なフィルム上に微粒子を含有するエネルギー線硬化型樹脂組成物の硬化皮膜からなる微細な凹凸を有する層を設けたニュートンリング防止シートであって、該干渉縞解消シートのヘーズが１～５％で、かつ写像性測定器における光学くし幅０．０５ｍｍにおける透過像鮮明度が４０％以上であることを特徴とするニュートンリング防止シートが開示されている。

しかし、フラットパネルディスプレイ等のカラー化が進むと共に、各種ディスプレイのカラーの高精細化が進んだ結果、従来のニュートンリング防止シートをタッチパネルに使用すると、ニュートンリング防止層に含有されている微粒子が輝点となってギラツキ現象が発生し、高精細化されたカラー画面がギラついて視認性が低下するという問題が生じることが分かった。

そこで、特許文献２には、ニュートンリング防止性に優れ、かつ高精細化されたカラーディスプレイを用いたタッチパネルに使用した際にも、スパークル（ギラツキ現象）が発生しにくいニュートンリング防止シートとして、透明支持体の一方の面に電離放射線硬化型樹脂組成物および平均粒子径が０．５μｍ～３．０μｍ、粒子径分布の変動係数が２０％～８０％である微粒子から形成されてなるニュートンリング防止層を有するニュートンリング防止シートが開示されている。

特開平１０－２８２３１２号公報特開２００５－２６５８６４号公報

前記特許文献２に開示されているように、干渉縞（ニュートンリング）の発生を、表面層の粒子のみで抑制しようとすると、光源からの光によるギラツキ現象の発生を抑制できない場合があることが分かってきた。

そこで本発明は、液晶パネルなどの光学用パネル乃至シートの光源側に配置することによって、干渉縞（ニュートンリング）の発生を抑制することができ、しかも、ギラツキ現象の発生を効果的に抑制することができる、新たな積層フィルムを提供せんとするものである。

本発明は、無機粒子及び／又は有機粒子を含有するフィルム（「基材フィルム」と称する）の少なくとも片面側に、無機粒子及び有機粒子を含有しない表面層を備えた積層フィルムであり、基材フィルムの内部ヘーズが２０．０％以上であり、表面層側表面の最大山高さ（Ｓｐ、ＩＳＯ２５１７８）が０．５μｍ以上である積層フィルムを提案する。

本発明が提案する積層フィルムは、液晶パネルなどの光学用パネル乃至シートの光源側に配置することによって、干渉縞（ニュートンリング）の発生を抑制することができ、しかも、ギラツキ現象の発生を効果的に抑制することができる。

次に、実施の形態例に基づいて本発明を説明する。但し、本発明が次に説明する実施形態に限定されるものではない。

＜＜本積層フィルム＞＞
本発明の実施形態の一例に係る積層フィルム（「本積層フィルム」）は、無機粒子及び／又は有機粒子（「粒子Ｄ」とも称する）を含有する基材フィルムの片面側、例えば視認側（光源とは反対側）に、表面層を備えた積層フィルムである。

（最大山高さ（Ｓｐ））
本積層フィルムの表面層側表面、例えば視認側表面の最大山高さ（Ｓｐ、ＩＳＯ２５１７８）は０．５μｍ以上であるのが好ましい。
本積層フィルムの視認側表面の最大山高さ（Ｓｐ）が０．５μｍ以上であれば、アンチニュートンリング性が良好となり好ましい。
その一方、最大山高さ（Ｓｐ）の上限値は、ギラツキの発生を抑える観点から、５．０μｍ以下であるのが好ましく、中でも４．０μｍ以下、その中でも３．０μｍ以下であるのがさらに好ましい。

なお、最大山高さ（Ｓｐ、ＩＳＯ２５１７８の測定方法に準拠）は、定義された領域における最大ピークの高さを表す数値である。

（算術平均粗さ（Ｓａ））
本積層フィルムの表面層側表面、例えば視認側表面の算術平均粗さ（Ｓａ、ＩＳＯ２５１７８）は１００ｎｍ以上、２００ｎｍ以下であるのが好ましい。
本積層フィルムの視認側表面の算術平均粗さ（Ｓａ）が１００ｎｍ以上であれば、裏面平滑な光学シート乃至部材の裏面側すなわち光源側に本積層フィルムを積層しても、干渉縞（ニュートンリング）の発生を効果的に抑制することができる。その一方、当該算術平均粗さ（Ｓａ）が２００ｎｍ以下であれば、ギラツキの発生を抑えられるため好ましい。
かかる観点から、本積層フィルムの視認側表面の算術平均粗さ（Ｓａ）は１００ｎｍ以上であるのが好ましく、中でも１１０ｎｍ以上、その中でも１２０ｎｍ以上であるのがさらに好ましい。その一方、２００ｎｍ以下であるのが好ましく、中でも１９０ｎｍ以下、その中でも１８０ｎｍ以下であるのがさらに好ましい。

なお、算術平均粗さ（Ｓａ、ＩＳＯ２５１７８表面性状）は、算術平均粗さＲａを三次元に拡張したパラメーターであり、表面の平均面に対して、各点の高さの差の絶対値の平均を表す数値である。

本積層フィルムにおいて、本積層フィルムの視認側表面の算術平均粗さ（Ｓａ）又は最大山高さ（Ｓｐ）を前記範囲とするには、ニュートンリング発生の抑制と共にギラツキ現象を防止する観点から、基材フィルムに粒子を含有させて基材フィルムの内部で光を拡散させ、表面層を相分離によって凹凸を形成させて、これら２層によって表面層表面、すなわち本積層フィルムの表面の算術平均粗さ（Ｓａ）又は最大山高さ（Ｓｐ）を前記範囲に調整するのが好ましい。但し、かかる方法に限定するものではない。

（ヘーズ）
本積層フィルムのヘーズは、２０．０％～９５．０％であるのが好ましい。
本積層フィルムのヘーズが２０．０％以上であれば、ディスプレイ用途で好適に使用できる拡散性を得られるため好ましい。その一方、９５．０％以下であれば、ディスプレイ用途で好適に使用できる光線透過率となるため好ましい。
かかる観点から、本積層フィルムのヘーズは２０．０％以上であるのが好ましく、中でも３０．０％以上、その中でも５０．０％以上であるのがさらに好ましい。その一方、９５．０％以下であるのが好ましく、中でも９０．０％以下、その中でも８５．０％以下であるのがさらに好ましい。

本積層フィルムのヘーズと基材フィルムの内部ヘーズとの差は、ギラツキ発生抑制の観点から、５．０％以下であるのが好ましく、中でも４．０％以下、その中でも３．０％以下であるのがさらに好ましい。

このように、本積層フィルムのヘーズと基材フィルムの内部ヘーズとの差を前記範囲内に調整するには、基材フィルム以外の層、例えば表面層のヘーズを低くすればよい。例えば表面層のヘーズが低くなるように、粒子を含有させないようにするのが好ましい。

（全光線透過率）
本積層フィルムの全光線透過率は、８２．０％以上であるのが好ましい。
本積層フィルムの全光線透過率が８２．０％以上であれば、光源の光を効率よく活用する観点から好ましい。
かかる観点から、本積層フィルムの全光線透過率は８２．０％以上であるのが好ましく、中でも８３．０％以上、その中でも８４．０％以上であるのがさらに好ましい。

＜基材フィルム＞
基材フィルムは、ポリエステル樹脂層中に粒子Ｄを含有する層であるのが好ましい。
基材フィルムが粒子Ｄを含有することにより、光拡散機能を得ることができ、ギラツキ現象の防止に効果を発揮することができる。

基材フィルムは、例えば、粒子Ｄを含有するポリエステルフィルムから形成することができる。
この際、該ポリエステルフィルムは、無延伸フィルム（シート）であっても延伸フィルムであってもよい。中でも、一軸方向又は二軸方向に延伸された延伸フィルムであるのが好ましい。その中でも、反射特性、力学特性のバランス及び平面性に優れる点で、二軸延伸フィルムであるのが好ましい。

（主成分樹脂）
基材フィルムは、ポリエステルを主成分樹脂とする層であるのが好ましい。
ここで、「主成分樹脂」とは、基材フィルムを構成する樹脂成分のうち最も含有割合の多い樹脂の意味である。

（ポリエステル）
基材フィルムの主成分樹脂としてのポリエステルは、芳香族ジカルボン酸と脂肪族グリコールとを重縮合させて得られるものであればよい。
前記芳香族ジカルボン酸としては、例えばテレフタル酸、２，６－ナフタレンジカルボン酸などを挙げることができ、他方の脂肪族グリコールとしては、例えばエチレングリコール、ジエチレングリコール、１，４－シクロヘキサンジメタノール等を挙げることができる。

上記ポリエステルは、ホモポリエステルであっても共重合ポリエステルであってもよい。
かかる共重合ポリエステルのジカルボン酸成分として、例えばイソフタル酸、フタル酸、テレフタル酸、２，６－ナフタレンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸及びオキシカルボン酸等から選ばれる一種または二種以上を挙げることができ、他方のグリコール成分として、例えばエチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、１，４－シクロヘキサンジメタノール及びネオペンチルグリコール等から選ばれる一種または二種以上を挙げることができる。効果的にマット感を付与するという観点から、含有される第三成分がイソフタル酸であることが好ましい。
共重合ポリエステルは、含有される第三成分は３０モル％以下であるのが好ましく、中でも５モル％以上或いは３０モル％以下、その中でも２５モル％以下、その中でも特に７モル％以上或いは２２モル％以下であるのがさらに好ましい。この範囲にあることにより、製膜安定性を維持しつつ、効果的にマット感を付与することができる。

代表的なポリエステルとして、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレン－２，６－ナフタレンジカルボキシレート（ＰＥＮ）等を例示することができる。

（粒子Ｄ）
基材フィルムが含有する無機粒子及び／又は有機粒子、すなわち粒子Ｄは平均粒径０．５μｍ以上、５μｍ以下であるのが好ましい。
基材フィルムが平均粒径０．５μｍ以上の粒子Ｄを含有することにより、基材フィルムに光拡散性を付与することができる。他方、該平均粒径が５μｍ以下であれば、フィルム製造時のポリエステル押出工程におけるフィルターの圧力上昇が大きくなり生産性が低下する可能性を抑制することができ、また、粒子Ｄが基材フィルムから脱落するおそれも抑制することができる。
かかる観点から、粒子Ｄの平均粒径は０．５μｍ以上であるのが好ましく、中でも０．６μｍ以上、その中でも０．７μｍ以上であるのがさらに好ましい。その一方、５μｍ以下であるのが好ましく、中でも４μｍ以下、その中でも３μｍ以下であるのがさらに好ましい。

なお、粒子Ｄの平均粒径は、粒子が粉体の場合には、遠心沈降式粒度分布測定装置（例えば、株式会社島津製作所社製、ＳＡ－ＣＰ３型）を用いて粉体を測定した等価球形分布における積算体積分率５０％の粒径（ｄ５０）を平均粒径とすることができる。
他方、フィルム又は層中の粒子の平均粒径については、少なくとも任意の１０個以上の粒子Ｄを走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）観察して粒子Ｄの直径を測定し、その平均値として求めることができる。その際、非球状粒子の場合は、最長径と最短径の平均値を各粒子Ｄの直径として測定することができる。後述する粒子Ｂについても同様である。

基材フィルムにおける粒子Ｄの含有量は、基材フィルムに光拡散性を付与することができるなどの観点から、０．０００１質量％以上であるのが好ましく、その中でも０．００１質量％以上、その中でも０．０１質量％以上であるのがさらに好ましい。その一方、フィルム延伸時に破断等が生じないようにすることができるなどの観点から、１０質量％以下であるのが好ましく、その中でも５質量％以下、その中でも３質量％以下であるのがさらに好ましい。

粒子Ｄの形状は任意である。例えば球状、塊状、棒状、扁平状等のいずれでもよい。粒子Ｄの硬度、比重、色等については特に制限はないし、種類の異なる２種類以上を併用してもよい。

粒子Ｄは、無機粒子であっても、有機粒子であってもよく、これらのうちの一種であっても、二種以上の組み合わせであってもよい。

無機粒子としては、例えばシリカ、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、リン酸リチウム、リン酸カルシウム、リン酸マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、フッ化リチウム、フッ化カルシウム、フッ化リチウム、ゼオライト及び硫化モリブデンなどを挙げることができる。
なお、上記シリカ粒子は、二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）の他にも、例えば含水二酸化ケイ素などを含んでいてもよい。

有機粒子としては、例えばアクリル樹脂、スチレン樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂及びベンゾグアナミン樹脂等を挙げることができる。
中でも、メタクリル酸メチル又はスチレン又は両方を共重合成分とする樹脂からなる粒子は、特にＰＥＴフィルムとの相性が良いため、好ましい。

また、有機粒子として、架橋高分子粒子であってもよく、例えばジビニルベンゼン、スチレン、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸またはメタクリル酸のビニル系モノマーの単独または共重合体が挙げられる。その他ポリテトラフルオロエチレン、ベンゾグアナミン樹脂、熱硬化エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、熱硬化性尿素樹脂及び熱硬化性フェノール樹脂などの架橋性高分子粒子を用いてもよい。

以上の中でも、基材フィルムの光透過性を維持しつつ、光拡散性を向上させる観点から、粒子Ｄの屈折率は１．２以上２．０以下であるのが好ましく、中でも１．３以上、その中でも１．４以上であるのがさらに好ましい。その一方、中でも１．９以下であるのが好ましく、その中でも１．８以下であるのがさらに好ましい。
かかる観点から、粒子Ｄは、屈折率が１．４～１．６である有機粒子や、炭酸カルシム、シリカなどの無機粒子が好ましく、中でも炭酸カルシウム、シリカなどが特に好ましい。

（その他の成分）
基材フィルムは、必要に応じて従来公知の耐候剤、耐光剤、遮光剤、酸化防止剤、熱安定剤、潤滑剤、帯電防止剤、蛍光増白剤、染料及び顔料等を添加することができる。また用途によっては、紫外線吸収剤、特にベンゾオキサジノン系紫外線吸収剤等を含有させてもよい。

（厚さ）
基材フィルムの厚さは任意である。一般的には５μｍ～５００μｍであるのが好ましく、中でも１０μｍ以上或いは３００μｍ以下、その中でも１５μｍ以上或いは２００μｍ以下であるのがさらに好ましい。

（内部ヘーズ）
基材フィルムの内部ヘーズは、２０．０％以上であるのが好ましい。
基材フィルムの内部ヘーズが２０．０％以上であれば、ディスプレイ用途で好適に使用できる拡散性を得られるため好ましい。かかる観点から、基材フィルムの内部ヘーズは２０．０％以上であるのが好ましく、中でも３０．０％以上、その中でも５０．０％以上であるのがさらに好ましい。
基材フィルムの内部ヘーズの上限値は、ディスプレイ用途で好適に使用できる光線透過率となるため、９５．０％以下であるのが好ましく、中でも９０．０％以下であるのがさらに好ましい。

基材フィルムの内部ヘーズを上記範囲に調整するには、基材フィルムに含有させる粒子Ｄの種類（屈折率）、大きさ（粒子径）及び含有量を調整すればよい。但し、それに限定するものではない。

＜表面層＞
本積層フィルムにおける表面層は、その表面に凹凸構造を有している。
表面層の表面に凹凸構造を有することにより、裏面平滑な光学シート乃至部材の裏面側すなわち光源側に本積層フィルムを積層しても、干渉縞（ニュートンリング）の発生を抑制することができ、それでいて、光源からの光によってギラツキ現象を発生するのも抑制することができる。また、傷つき防止のため、表面層としてある程度硬いことが好ましい。

また、本積層フィルムにおける表面層は、無機粒子及び有機粒子を含有しないことが好ましい。
但し、本発明において「粒子」とは、粒径（非球径の場合は最長径）が０．１μｍ以上の固形物の意味である。
また、製造過程で不可避的に含有される場合は許容するものである。かかる観点から、粒子の含有量が０．１質量％未満の場合は許容するものである。

表面層は、形成する材料を限定するものではない。
表面層は、例えば、２種類以上のポリマー、オリゴマー又はモノマー（これらをまとめて「ポリマー等」と称する）を含有するのが好ましく、２種類以上のポリマー等を含有する表面層形成組成物から形成されることが好ましい。
この際、後述する通り、異なるポリマー等間の相分離性を利用して表面層を形成する態様が好ましい。すなわち、表面層は、２種類以上のポリマー等が相分離構造を形成していることが好ましい。
なお、本発明においてポリマーとは、硬化性樹脂組成物の硬化物を包含する概念とする。また、モノマーは、重合や架橋反応の原料或いは硬化性樹脂組成物の原料としてのモノマーを包含する概念とする。

前記凹凸構造においては、凹部を形成する組成と、凸部を形成する組成が互いに異なる例を挙げることができる。例えば凹部を形成する成分のうちで多くの割合を占める成分が成分Ａであり、凸部を形成する成分のうちで多くの割合を占める成分が成分Ｂである場合に、成分Ａと成分Ｂとが異なる例を挙げることができる。

（成分Ａ）
凹部を形成する成分のうちで最も多くを占める成分Ａは、成分Ｂと非相溶であり、塗工後に主として凹凸形状の凹部を形成する観点から、溶解性パラメーター（ＳＰ（Ａ））が８～２１であるのが好ましく、中でも１０以上或いは２０以下、その中でも１２以上或いは１９以下であるのがさらに好ましい。
また、塗布液の塗工性を良好なものとするための粘度とする観点から、成分Ａの質量平均分子量（Ｍｗ）が３００～３００，０００のポリマー等であるのが好ましく、中でも２，０００以上或いは２００，０００以下、その中でも５，０００以上或いは１００，０００以下であるのがさらに好ましい。

上記成分Ａとしては、例えばポリ（メタ）アクリレート等のアクリル系ポリマー類、ポリエステル類、ポリウレタン類、ポリオレフィン類、ポリエーテル類、ポリスチレン類、ポリカーボネート類、ポリアクリロニトリル類、ポリアミド類及びポリイミド類などを挙げることができ、中でも、分子量やＳＰ値を調整しやすく、凹凸形状を制御しやすい観点から、ポリ（メタ）アクリレート類であるのが好ましい。これらの成分Ａは１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

例えば成分Ａがアクリル系ポリマー等である場合、そのＳＰ値をより高くするためには、例えば、アクリル系ポリマーの樹脂の側鎖に極性が高い官能基を多く含むように設計すればよく、より具体的には、例えばヒドロキシル基を有するヒドロキシ（メタ）アクリレート、カルボキシル基を有する（メタ）アクリル酸、グリシジル基を有するグリシジル（メタ）アクリレート等の構造単位を含有する単独重合体又は共重合体を挙げることができる。

（成分Ｂ）
他方、凸部を形成する成分のうちで最も多くを占める成分Ｂは、成分Ａと非相溶であり、塗工後に主として凹凸形状の凸部を形成する観点から、成分Ｂの溶解性パラメーター（ＳＰ（Ｂ））は、７～２０であるのが好ましく、中でも８以上或いは１８以下、その中でも９以上或いは１７以下であるのがさらに好ましい。

成分Ｂの溶解性パラメーター（ＳＰ（Ｂ））は、成分Ａの溶解性パラメーター（ＳＰ（Ａ））よりも０．０１～１０低い方が好ましく、中でも０．０５以上低い或いは７以下の範囲で低い、その中でも０．１以上低い或いは４以下の範囲で低い方が好ましい。
なお、本積層フィルムは、異なるポリマー等間の相分離性を利用して凹凸構造が形成させる場合、成分Ｂの溶解性パラメーター（ＳＰ（Ｂ））が、成分Ａの溶解性パラメーター（ＳＰ（Ａ））よりも０．０１～１０高くなっていてもよい。
表面層が３種類以上のポリマーによって形成され、成分Ａ、成分Ｂのうち少なくとも何れかが２種以上のポリマーで形成されている場合は、そのうち何れかの組合せにおいて上記の関係性を有していればよい。次に述べる質量平均分子量についても同様である。

また、表面層形成組成物の塗工性を良好なものとするための粘度とする観点から、成分Ｂの質量平均分子量（Ｍｗ）は、５００～４００，０００であるのが好ましく、中でも２，０００以上或いは３００，０００以下、その中でも１０，０００以上或いは２５０，０００以下であるのがさらに好ましい。
成分Ｂの質量平均分子量（Ｍｗ）は、前記成分Ａの質量平均分子量（Ｍｗ）よりも１０００以上大きいことがさらに好ましい。

凸部を主に形成する成分Ｂは、凹凸構造を形成する際の乾燥温度に十分に耐えることができ、形状を保持する観点から、成分Ｂのガラス転移温度は４０℃以上であるのが好ましく、中でも５０℃以上、その中でも６０℃以上であるのがさらに好ましい。

成分Ｂとしては、例えばポリ（メタ）アクリレート等のアクリル系ポリマー類、ポリエステル類、ポリウレタン類、ポリオレフィン類、ポリエーテル類、ポリスチレン類、ポリカーボネート類、ポリアクリロニトリル類、ポリアミド類及びポリイミド類などを挙げることができ、中でも、分子量やＳＰ値を調整しやすく、凹凸形状を制御しやすい観点から、ポリ（メタ）アクリレート類であるのが好ましい。これらの成分Ｂは１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

例えば成分Ｂがアクリル系ポリマー等である場合、そのＳＰ値をより低くするためには、例えば、アクリル系ポリマーにおいて、１個以上の（メタ）アクリロイル基を含有するモノマー及び／又はオリゴマーとしてＳＰ値の低いものを選択すればよい。具体的には、例えば脂肪族炭化水素基を有するアルキル（メタ）アクリレート、脂環族炭化水素基を有するシクロアルキル（メタ）アクリレート、芳香族炭化水素基を有するフェニルアルキル（メタ）アクリレート等の構造単位を含有する単独重合体又は共重合体が挙げることができる。

なお、上記溶解性パラメーター（ＳＰ値）は、ＳｏｌｕｂｉｌｉｔｙＰａｒａｍｅｔｅｒであり、溶解性の尺度となるものである。溶解性パラメーターは、その値が大きいほど極性が高く、逆に数値が小さいほど極性が低いことを示す。
ＳＰ値は、濁度法、Ｆｅｄｏｒｓの推算法などの方法によって測定することができる。

前記表面層において、凹部及び凸部のいずれも、中でも特に凸部は、形状を維持するため、耐熱性および耐溶剤性を高める観点から架橋していること、すなわち架橋構造を有することが好ましい。
架橋しているか否かは、各部位のゲル分率を測定し、当該値が０％より大きい、特に５％以上、中でも１０％以上であるのが好ましい。

この際、前記２種類以上のポリマー等のうち少なくとも何れか一方が、架橋性構造を有する熱可塑性樹脂、又は、硬化性樹脂組成物、又は、架橋性構造を有する熱可塑性樹脂を含む硬化性樹脂組成物であるのが好ましい。これらの場合、前記表面層を架橋乃至硬化することにより、前記表面層は、硬化物を含有することになり、耐熱性および耐溶剤性を高めることができる。
ここで、前記硬化物とは、架橋性構造を有する上記熱可塑性樹脂、又は、硬化性樹脂組成物が硬化したものの意味である。
なお、架橋性構造とは、架橋する性質を有する構造を言い、架橋構造とは、架橋してなる構造をいう。

熱可塑性樹脂に架橋性構造を導入する方法は限定するものではない。例えば成分Ａ、成分Ｂ、或いはその他の熱可塑性樹脂に架橋性構造を導入する方法を挙げることができる。
この際、架橋性構造を限定するものではない。例えば、炭素－炭素二重結合のような架橋性不飽和結合や、化学結合が可能な官能基、例えば水酸基、カルボキシル基、アミノ基、イソシアネート基、グリシジル基、オキサゾリン基、酸無水物基、アルデヒド基、メルカプト基、エポキシ基及びカルボジイミド基等を挙げることができる。これらに例示される架橋性構造は、成分Ａ、成分Ｂ、或いはその他の熱可塑性樹脂に共重合や高分子反応によって導入することができる。
なお、ここで云う架橋構造とは、共有結合に限定されるものではなく、イオン結合や配位結合、水素結合の様な疑似架橋も包含する。

硬化性樹脂組成物としては、例えば二液性硬化樹脂組成物、常温硬化樹脂組成物、光硬化樹脂組成物及び熱硬化樹脂組成物などを挙げることができ、中でも光エネルギー又は熱エネルギーを与えることにより組成物が反応して硬化（架橋）する光硬化樹脂組成物又は熱硬化樹脂組成物が好ましい。

硬化性樹脂組成物の硬化物が、成分Ａ或いは成分Ｂ自体を構成してもよいし、表面層を形成する成分Ａ、成分Ｂ以外の他の成分として硬化性樹脂組成物を用いることもできる。成分Ａ或いは成分Ｂ自体が硬化性樹脂組成物である場合は、これらの成分を構成するモノマーを表面層の原料として使用し、硬化反応によって成分Ａ或いは成分Ｂとすることで凹凸構造を形成することができる。

光又は熱硬化樹脂組成物は、例えば光架橋性化合物、光架橋開始剤を含有してなる光硬化性組成物や、熱硬化性樹脂組成物などを挙げることができる。
光架橋性化合物としては、架橋性不飽和結合を有する化合物、具体的にはエチレン性不飽和結合を有するモノマー又はオリゴマーを挙げることができる。
光架橋開始剤としては、例えば活性エネルギー線として紫外線照射を応用する場合、ベンゾイン系、アセトフェノン系、チオキサントン系、フォスフィンオキシド系及びパーオキシド系等の光架橋性開始剤を使用することができる。
熱硬化性樹脂としては、例えば、ウレタン樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂及びアクリル樹脂や、透明ポリイミド前駆体ワニスなどを挙げることができる。

以上を総括すると、２種類以上のポリマーが寄与する表面層を形成する形成方法としては、例えば、以下のような形成例に類別される。但し、これらの組合せに限定されるものではない。また、以下の記載は成分Ａ、成分Ｂ以外の付加的な任意成分の含有を排除するものではない。
（ａ）２種類以上の熱可塑性ポリマーによって表面層を形成。
（ｂ）２種類以上の熱可塑性ポリマーと架橋剤とを原料とし、架橋剤を硬化させることによって表面層を形成。
（ｃ）２種類以上の熱可塑性ポリマーのうち、少なくとも１種類以上の熱可塑性ポリマーに架橋性構造を有しており、当該架橋性構造を架橋させることによって表面層を形成。
（ｄ）２種類以上の熱可塑性ポリマーのうち、少なくとも１種類以上の熱可塑性ポリマーに架橋性構造を有しており、さらに架橋剤を含有する原料に対し、当該架橋性構造と架橋剤との間で架橋及び硬化させることによって表面層を形成。
（ｅ）１種類以上の熱可塑性ポリマーと、重合性モノマーと架橋剤とを原料とし、重合性モノマーと架橋剤を重合・硬化させることによって表面層を形成。
（ｆ）少なくとも１種以上のポリマーに架橋性構造を有しており、さらに重合性モノマーと架橋剤を含有する原料に対し、当該架橋性構造と重合性モノマーと架橋剤との間で重合・架橋及び硬化させることによって表面層を形成。
（ｇ）上記（ａ）～（ｆ）のうち少なくとも２種以上を併用する。

（その他の成分）
表面層は、上述した成分Ａ、Ｂ以外の成分を必要に応じて含有していてもよい。具体的には、消泡剤、塗布性改良剤、増粘剤、潤滑剤、酸化防止剤、熱安定剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、光線遮断剤、発泡剤、蛍光増白剤、染料、顔料及び耐候剤等などを挙げることができる。

表面層の厚さは、表面層の硬化性の観点から０．５μｍ以上であるのが好ましく、中でも１．０μｍ以上、その中でも１．５μｍ以上であるのがさらに好ましい。その一方、表面層の厚み均一性の観点から、１０μｍ以下であるのが好ましく、中でも７μｍ以下、その中でも４μｍ以下であるのがさらに好ましい。

＜積層構成＞
本積層フィルムは、前記基材フィルム及び表面層以外の層を備えていてもよい。例えば、基材フィルムの裏面側に、易接着剤層、帯電防止層、易滑層、水蒸気等の気体バリア層、基材含有物の析出防止層、紫外線吸収層、傷つき防止層、防汚層、抗菌層、反射防止層、光沢層、マット層、インク受容層、着色層及び印刷層等の各種機能を備えた層を備えていてもよい。

＜本積層フィルムの製造方法＞
以下、本積層フィルムの製造方法の一例について説明する。但し、本積層フィルムの製造方法が、次に説明する方法に限定されるものではない。

本積層フィルムの製造方法の一例として、基材フィルム上に前記表面層形成用組成物をコートして表面層を形成する方法を挙げることができる。但し、本積層フィルムの製造方法をこの製造方法に限定するものではない。

（基材フィルムの作製）
基材フィルムの作製方法の一例について説明する。但し、基材フィルムの作製方法を次の方法に限定するものではない。
先ず、公知の手法により、基材フィルムの原料を調製し、溶融押出装置に供給し、ポリエステル樹脂組成物の融点以上である温度に加熱して溶融混練し、次いで、該溶融したポリエステル樹脂組成物を、マルチマニホールドまたはフィードブロックを経てダイへ導き、次に、ダイから押出された溶融シートを、回転冷却ドラム上でガラス転移温度以下の温度になるように急冷固化し、実質的に非晶状態の未配向基材フィルムを得る。この場合、基材フィルムの平面性を向上させるため、基材フィルムと回転冷却ドラムとの密着性を高めることが好ましく、静電印加密着法および／または液体塗布密着法が好ましく採用される。

（表面層の形成）
基材フィルムに表面層を形成する方法の一例について説明する。但し、基材フィルムに表面層を形成する方法を限定するものではない。
例えば、物理的な切削加工、レーザー照射等による切削、型による転写等の方法、レジスト材料等に用いるフォトマスキング、印刷、異なるポリマー等間の相分離性を利用して表面層を形成する方法などの態様を挙げることができる。中でも、異なるポリマー等間の相分離性を利用して表面層を形成する方法が好ましい。
異なるポリマー等間の相分離性を利用すれば、数μｍ～数ｍｍオーダーの相分離構造に基づく凹凸構造が形成されるため、この凹凸構造を有する表面層を備えたフィルムは、液晶パネルなどの光学用パネル乃至シートの光源側に配置することによって、干渉縞（ニュートンリング）の発生を抑制することが可能となる。また、異なるポリマー等間の相分離性を利用すれば、使用するポリマー等の選択や配合割合の最適化等によって、凹凸構造の凸部形状の不規則性や連続性、凸部の面積割合、凹凸構造の最大高低差などを制御することが可能であるため、本発明を達成するための具体的な手段の１つとして好ましい。

異なるポリマー等間の相分離性を利用して表面層を形成する場合、２種類以上のポリマー等を用いる限り、その具体的な方法は限定されない。具体的には以下の（１）～（５）などの態様を挙げることができる。また、これらの方法を複数組み合わせてもよい。

（１）２種以上の熱可塑性樹脂（ポリマー）を使用し、溶媒に溶解した状態から溶媒を留去する過程で相分離するか、或いは溶融状態からの冷却固化過程で相分離することによって凹凸構造を形成する方法。
（２）熱可塑性樹脂と硬化性樹脂組成物と配合しておき、硬化性樹脂組成物の硬化過程で、熱可塑性ポリマーを排除することによって相分離させ、凹凸構造を形成する方法。
（３）硬化性樹脂組成物を配合しておき、硬化性樹脂組成物の硬化過程で、高分子量体となった硬化性樹脂組成物が、未反応の硬化性樹脂組成物から追い出されるかたちで突起を形成させることで、凹凸構造を形成する方法。
（４）上記（１）において、少なくとも１種の熱可塑性樹脂を架橋可能な構造としておき、相分離による凹凸構造を形成後に架橋反応を行い、凹凸構造を固定化する方法。
（５）上記（１）において、２種以上の熱可塑性樹脂とともに硬化性樹脂組成物を混合しておき、熱可塑性樹脂の相分離によって凹凸構造を形成した後、硬化性樹脂組成物を硬化させることによって凹凸構造を固定化する方法。

また、溶媒に溶解した状態から溶媒を留去する過程で相分離を生じる方法を用いる場合は、後述する通り、２種以上の溶媒を混合して用いるとともに、ポリマー等の溶解性の差を利用して凹凸構造を形成させる方法が好ましい。この方法を採用すれば、特定のポリマー等と特定の溶媒を選択するだけで、目的とする凹凸構造を形成することができる。

以下、上述した種々の態様のうち、（５）の態様を例に、光硬化性樹脂組成物を用いた場合について具体的に説明する。
前記成分Ａと、前記成分Ｂと、必要に応じて架橋開始剤Ｃとの混合樹脂を、所定の混合溶剤Ｚ、例えば、成分Ａ、成分Ｂ及び架橋開始剤Ｃに対して良溶媒である溶剤Ｘと、成分Ａ及び架橋開始剤Ｃに対して良溶媒（すなわちこれらに対して共溶媒）であり、成分Ｂに対しては貧溶媒であり、かつ沸点が溶剤Ｘよりも高い溶剤Ｙとの混合溶剤Ｚに加えて溶かして表面層形成組成物を調製し、この表面層形成組成物を基材フィルムの表面に塗布する。混合溶剤Ｚを乾燥する過程で、相対的に溶剤Ｘが早く揮発して、溶剤Ｙの占める割合が増えるため、溶剤Ｙに溶解し難い成分Ｂを析出させ凸部を形成する。さらに乾燥することで成分Ａにより凹部が形成して凹凸構造を形成する。或いはさらに、例えば光照射するなどして架橋開始剤Ｃを励起させて硬化させて前記凹凸構造を形成するようにすればよい。
このような作製方法によれば、不規則な形状からなる凸部を備えた凹凸構造を形成することができ、しかも、成分Ａ、成分Ｂ、架橋開始剤Ｃ、溶剤Ｘ及びＹの材料の選択や配合量の調整により、凹凸の大きさを制御することができる。
但し、このような製造方法に限定するものではない。
上記架橋開始剤Ｃは、必ず配合しなければならない訳ではない。また、上記混合溶剤Ｚは溶剤Ｘおよび溶剤Ｙが混和することが好ましい。但し、必ずしも均一に混合している必要はなく、懸濁液でもよい。

上記作製方法において、表面層が形成される原理としては、上記表面層形成組成物は、塗布後に乾燥する過程で、混合溶剤Ｚが減少するのに伴って溶剤中の環境が変化していき、相溶性の悪い成分Ａと成分Ｂが相分離し、両方の溶剤に溶けられる成分はより乾燥が進むまで溶剤中に溶解するため、片方の溶剤Ｙに溶けにくい成分Ｂが析出して主に凸部を形成し、両方の溶剤に溶けられる成分Ａが主に凹部を形成し、自発的に凹凸構造が形成されるものと推定される。

成分Ａと成分Ｂは非相溶であるのが好ましい。
かかる観点から、凸部の主要成分となる成分ＢのＳＰ値の方が、成分ＡのＳＰ値よりも０．０１～１０低い方が好ましく、中でも０．０５以上低い或いは７以下の範囲で低い、その中でも０．１以上低い或いは４以下の範囲で低い方が好ましい。

（成分Ａ，Ｂ）
凹部を形成する成分のうちで最も多くを占める成分Ａは、上述のように、所定の質量平均分子量（Ｍｗ）、所定のＳＰ値を有するポリマー等であるのが好ましい。
他方、凸部を形成する成分のうちで最も多くを占める成分Ｂは、上述のように、所定の質量平均分子量（Ｍｗ）、所定のＳＰ値を有するポリマー等であるのが好ましい。
例えば凸部の主成分をなす成分Ｂの配合量を多くしたり、成分Ｂの分子量を大きくしたりすることによって、前記凹凸構造における凸部の面積を大きくしたり、凸部の形状を変えたりすることができる。また、該成分Ｂの結晶性を制御することによって、凸部の極大値、すなわち凹凸の最大高低差を調整することができる。但し、このような方法に限定するものではない。

成分Ａと成分Ｂの配合質量割合は、１：９９～９９：１とするのが好ましく、中でも５：９５～９５：５、その中でも９０：１０～１０：９０であるのが好ましい。
なお、成分Ａ又は成分Ｂが２種以上用いられる場合は、それぞれ２種以上の成分を合計した質量割合とする。
凹凸構造における凸部の面積割合を前記の範囲とするための制御因子の１つとしては、成分Ａと成分Ｂの配合質量割合を最適化する方法が挙げられる。なお、凸部、凹部はそれぞれ成分Ｂ、成分Ａのみで構成されるとは限らないため、上記の配合質量割合と凸部の面積割合とは同義ではない。

（架橋開始剤Ｃ）
架橋開始剤Ｃとしては、光架橋開始剤、熱架橋開始剤などを挙げることができる。中でも、乾燥工程で形成した凹凸形状の保持の観点から、速硬化性を有する硬化系が好ましく、かかる観点から光架橋開始剤が好ましい。

光架橋開始剤としては、例えば２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オン、１－ヒドロキシ－シクロヘキシル－フェニル－ケトン、２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルフォリノプロパン－１－オン、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン及び２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタンノン－１等を挙げることができる。これらの架橋開始剤は１種を単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。中でも、紫外線硬化する多官能アクリレートが好ましい。

架橋開始剤の配合量は、成分Ａ及びＢの合計量１００質量部に対して０．０１～２０質量部とするのが好ましく、中でも０．１質量部以上或いは１０質量部以下、その中でも１質量部以上とするのがより好ましい。

（溶剤Ｘ）
上記溶剤Ｘは、成分Ａ、成分Ｂ及び架橋開始剤Ｃに対して良溶媒であるのが好ましい。すなわち、成分Ａ、成分Ｂ及び架橋開始剤Ｃを全て溶解することができる溶剤であるのが好ましい。

溶剤Ｘの沸点は５０℃～２００℃であるのが好ましく、中でも６０℃以上或いは１４０℃以下、その中でも７０℃以上或いは１２０℃以下であるのが好ましい。

溶剤Ｘとしては、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びジアセトンアルコール等のケトン系溶媒；ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール及びオクタノール等のアルコール系溶媒；エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエーテル系溶媒；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸メトキシブチル、酢酸アミル、酢酸プロピル、乳酸エチル、乳酸メチル及び乳酸ブチル等のエステル系溶媒；トルエン、キシレン、ソルベントナフサ、ヘキサン、シクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ヘプタン、オクタン及びデカン等の炭化水素系溶媒等の有機溶媒を挙げることができる。これらの有機溶媒は１種のみを用いても２種以上を組み合わせて用いてもよい。

（溶剤Ｙ）
他方の溶剤Ｙは、成分Ａ及び架橋開始剤Ｃに対しては良溶媒であり、成分Ｂに対しては貧溶媒であるのが好ましい。すなわち、成分Ａ及び架橋開始剤Ｃは溶解することができるが、成分Ｂに対する溶解性が低い溶媒であるのが好ましい。この際、成分Ｂの溶解性が低いとは、成分Ｂに対して不溶性（insolble）又は膨潤（swelling）に分類される場合を包含する。

溶剤Ｙの沸点は、５１℃～２０１℃であるのが好ましく、中でも６１℃以上或いは１４１℃以下、その中でも７１℃以上或いは１２１℃以下であるのが好ましい。
但し、溶剤Ｙの沸点は、溶剤Ｘを溶剤Ｙよりも先に揮発させることができる観点から、溶剤Ｘの沸点よりも高いことが好ましく、中でも１～８０℃高いことが好ましく、その中でも２℃以上、その中でも５℃以上高いことがさらに好ましい。
溶剤Ｙが溶剤Ｘよりも沸点が高い溶剤を用いることで、溶剤Ｘが溶剤Ｙよりも先に揮発され、溶剤Ｙに溶けにくい成分Ｂが析出して主に凸部を形成しやすくなる。

なお、沸点の差によって、用いる前記溶剤Ｘおよび溶剤Ｙを選択できる。但し、他の特性の差異によって選択することもできる。具体的な特性としては、相対蒸発速度、所定温度および圧力下での蒸気圧、成分Ａまたは成分Ｂの親和性が挙げられる。
例えば、同様の観点、すなわち溶剤Ｘを溶剤Ｙよりも先に揮発させることができる観点から、溶剤Ｘの相対蒸発速度は、溶剤Ｙの相対蒸発速度よりも高いことが好ましい。中でも、溶剤Ｘの相対蒸発速度は１以上であるか、若しくは、酢酸ブチルの相対蒸発速度以上であることが好ましく、且つ、溶剤Ｙの相対蒸発速度は１未満であるか、若しくは、酢酸ブチルの相対蒸発速度未満であることが好ましい。
この際、「相対蒸発速度」は、２５℃、大気圧下における酢酸ブチルの蒸発速度を１と定めた場合の比蒸発速度と定義される。例えば、各種溶剤の相対蒸発速度としては、酢酸ブチル：１、ＭＥＫ：４．５２、シクロヘキサン：２．９、トルエン：２．６６、メトキシプロパノール：０．７１、ｎブタノール：０．３９である。

溶剤Ｙとしては、例えばメタノール、エタノール、ブタノール、イソブタノール及びプロピルアルコール等のアルコール系溶媒；アセトン,メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン及びシクロヘキサノンジアセトンアルコール等のケトン系溶媒；ノルマルプロピルアルコールジエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル系溶媒；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸メトキシブチル、酢酸アミル、酢酸プロピル、乳酸エチル、乳酸メチル及び乳酸ブチル等のエステル系溶媒；トルエン、キシレン、ソルベントナフサ、ヘキサン、シクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ヘプタン、オクタン及びデカン等の炭化水素系溶媒や水を挙げることができる。これらの溶媒は１種のみを用いても２種以上を組み合わせて用いてもよい。

（混合溶剤Ｚ）
混合溶剤Ｚは、溶剤Ｘと溶剤Ｙを０．１：９９．９～９９．９：０．１の質量割合で配合するのが好ましく、中でも１：９９～９９：１、その中でも１０：９０～９０：１０、その中でも１５：８５～８５：１５、その中でも８０：２０～２０：８０の質量割合で含有するのがさらに好ましい。なお、溶剤Ｘ又は溶剤Ｙが２種以上用いられる場合は、それぞれ２種以上の溶剤の合計した質量割合とする。

（表面層形成組成物の塗布）
上記表面層形成組成物を基材フィルムの表面に塗布する方法としては、例えばキスロールコーター、ビードコーター、ロッドコーター、マイヤーバーコーター、ダイコーター及びグラビアコーターなど公知慣用の方法を採用することができる。

（乾燥）
塗布した後の乾燥温度は、塗布した後、溶剤Ｘを溶剤Ｙよりも優先させて揮発させるために、溶剤Ｘ、Ｙの沸点との関係から、１０℃～１５０℃に設定するのが好ましく、中でも２０℃以上或いは１４０℃以下に設定するのがより好ましく、その中でも４０℃以上或いは１２５℃以下に設定するのがさらに好ましい。なお、常温で乾燥させてもよい。
加熱（乾燥）温度を調整することによって、凹凸の最大高低差を調整することができ、乾燥温度が低いほど、凹凸の最大高低差が大きくなる傾向がある。一般に溶剤は沸点以下の温度で揮発性を有しており、また沸点のみならず蒸気圧特性やポリマー等との親和性等によっても揮発特性は変化する。このため、表面層に使用するポリマー等の種類や配合質量割合、目的とする凹凸構造の形状等に応じて、乾燥温度を設定すればよい。

＜用途＞
本積層フィルムは、液晶パネルなどの光学用パネル乃至シートの光源側に積層することによって、干渉縞（ニュートンリング）の発生を効果的に抑制することができ、ディスプレイ用フィルムとして好適に用いることができる。

＜語句の説明＞
本発明において「Ｘ～Ｙ」（Ｘ，Ｙは任意の数字）と表現する場合、特にことわらない限り「Ｘ以上Ｙ以下」の意と共に、「好ましくはＸより大きい」或いは「好ましくはＹより小さい」の意も包含する。
また、「Ｘ以上」（Ｘは任意の数字）或いは「Ｙ以下」（Ｙは任意の数字）と表現した場合、「Ｘより大きいことが好ましい」或いは「Ｙ未満であることが好ましい」旨の意図も包含する。

一般的に「フィルム」とは、長さ及び幅に比べて厚みが極めて小さく、最大厚みが任意に限定されている薄い平らな製品で、通常、ロールの形で供給されるものをいい（日本工業規格ＪＩＳＫ６９００）、一般的に「シート」とは、ＪＩＳにおける定義上、薄く、一般にその厚みが長さと幅のわりには小さく平らな製品をいう。しかし、シートとフィルムの境界は定かでなく、本発明において文言上両者を区別する必要がないので、本発明においては、「フィルム」と称する場合でも「シート」を含むものとし、「シート」と称する場合でも「フィルム」を含むものとする。

以下の実施例により更に本発明について説明する。但し、実施例はいかなる方法でも本発明を限定することを意図するものではない。

次に、実施例および比較例において使用した材料について説明する。

＜基材フィルムの原料＞
ポリエステルＡ：ポリエチレンテレフタレートホモポリマー（固有粘度：０．６６ｄｌ／ｇ）
ポリエステルＢ：平均粒径０．７μｍの合成炭酸カルシウム粒子（屈折率：１．６）を３７００ｐｐｍ含有するポリエチレンテレフタレートホモポリマー（固有粘度：０．６２ｄｌ／ｇ）
ポリエステルＣ：平均粒径２μｍの非晶質シリカ粒子（屈折率：１．４）を１５０ｐｐｍ含有するポリエチレンテレフタレートホモポリマー（固有粘度：０．６２ｄｌ／ｇ）

＜易接着剤層用塗布液の原料＞
カルボキシル基を有する水分散型ポリカーボネートポリウレタン樹脂（ガラス転移温度（Ｔｇ）：３５℃）を６０質量部（固形分量）、オキサゾリン基がアクリル系樹脂にブランチされたポリマー型架橋剤を３０質量部（固形分量）、シリカゾル水分散体（平均粒径：０．０７μｍ）を６質量部（固形分量）混合して易接着剤層用塗布液とした。

＜表面層形成組成物の原料＞
アクリル系ポリマーＡ１：グリシジルメタクリレート、メチルメタクリレート及びエチルアクリレートを９８：１：１のモル比率で共重合してなるアクリル酸変性物（質量平均分子量（Ｍｗ）：２０，０００、ＳＰ値：１２．６、Ｔｇ：３２℃）
アクリル系ポリマーＢ１：メチルメタクリレート及びメチルアクリレートを９９：１のモル比率で共重合してなる共重合体（質量平均分子量（Ｍｗ）：９５，０００、ＳＰ値：９．９、Ｔｇ：１０５℃）
光重合性化合物：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）（分子量：５７８、ＳＰ値：１０．４）
光架橋開始剤Ｃ１：ＩＧＭレジン社製、Ｏｍｎｉｒａｄ１２７
溶剤Ｘ：メチルエチルケトン（アクリル系ポリマーＡ１及びＢ１を溶解することができる溶剤であり、沸点は８０℃）
溶剤Ｙ：１－メトキシ－２－プロパノール（アクリル系ポリマーＡ１を溶解し、Ｂ１は溶解しない溶剤であり、沸点は１２０℃）

［実施例１］
（基材フィルムの作製）
前記ポリエステルＡ５６．８質量部、前記ポリエステルＢ４３．２質量部の混合原料を基材フィルム原料とし、溶融押出機により溶融押出して、単層の無定形シートを冷却したキャスティングドラム上に、冷却固化させて無配向シートを得た。
次いで、機械方向（縦方向）に９０℃で３．２倍に延伸した。その後前記易接着剤層用塗布液を乾燥後の厚みが０．０５μｍとなるように塗布した後にテンターへ導き、さらにテンター内で予熱工程を経て１２０℃で横方向に３．６倍に延伸を行い、２３０℃で２秒間の熱処理を行い、易接着剤層付きの基材フィルムであるポリエステルフィルムＡを得た。得られた基材フィルムの厚さは１８８μｍであった。

（表面層形成組成物の調製）
表面層の形成に用いる塗布液として、成分Ａとしてのアクリル系ポリマーＡ１を２８．１質量部と、成分Ｂとしてのアクリル系ポリマーＢ１を１７．２質量部と、光重合性化合物としてのジペンタエリスリトールヘキサアクリレート５４．７質量部と、光架橋開始剤Ｃ１を５質量部とを含むアクリル系ポリマー混合物を、溶剤Ｘとしてのメチルエチルケトンと、溶剤Ｙとしての１－メトキシ－２－プロパノールとを４５：５５の質量割合で混合して得た混合溶媒Ｚに溶解させて、アクリル系ポリマー混合物濃度が３０質量％である表面層形成組成物を調製した。

（表面層の形成）
前記ポリエステルフィルムＡの易接着剤層表面に、前記表面層形成組成物をマイヤーバー（＃８）により塗布し、９０℃で溶剤Ｘおよび溶剤Ｙを揮発させた後、紫外線照射装置で紫外線を照射して光硬化させて、積層フィルム（サンプル）を作製した。

［実施例２］
基材フィルム原料を前記ポリエステルＢとした以外は、ポリエステルフィルムＡと同様にして易接着剤層付きの基材フィルムであるポリエステルフィルムＢを得た。得られた基材フィルムの厚さは１８８μｍであった。
ポリエステルフィルムＡに代えて、ポリエステルフィルムＢを使用したこと以外は、実施例１と同様の方法で、積層フィルム（サンプル）を作製した。

［比較例１］
表面層形成組成物を調製する際、上記アクリル系ポリマーＡ１と上記アクリル系ポリマーＢ１と光重合性化合物としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートと光架橋開始剤Ｃ１との混合比を質量部が２７．３：１６．７：５６．０：５で混合させたアクリル系ポリマー混合物を、溶剤Ｘとしてのメチルエチルケトンと、溶剤Ｙとしてのメトキシプロパノールとを４３．６：５６．４の質量割合で混合して得た混合溶媒Ｚに溶解させた以外は、実施例１と同様の方法で、積層フィルム（サンプル）を作製した。

［比較例２］
前記ポリエステルＡを中間層用の原料とし、前記ポリエステルＣを表層用の原料とし、各原料をそれぞれ別個の溶融押出機により溶融押出して、表層／中間層／表層の２種３層積層の無定形シートを冷却したキャスティングドラム上に、冷却固化させて無配向シートを得た。
次いで、機械方向（縦方向）に９０℃で３．４倍に延伸した。その後前記易接着剤層用塗布液を乾燥後の厚みが０．０５μｍとなるように塗布した後にテンターへ導き、さらにテンター内で予熱工程を経て１２０℃で横方向に３．９倍に延伸を行い、２３０℃で２秒間の熱処理を行い、易接着剤層付きの基材フィルムであるポリエステルフィルムＣを得た。得られた基材フィルムの厚さは１８８μｍであり、表層／中間層／表層の厚み構成は５μｍ／１７８μｍ／５μｍであった。

表面層形成組成物を調製する際、上記アクリル系ポリマーＡ１と光重合性化合物としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートと光架橋開始剤Ｃ１と架橋ポリメタクリル酸メチル真球状粒子（平均粒径：２．９μｍ）の混合比を質量部が５０：５０：５：０．４で混合させた混合物を、溶剤Ｘとしてのメチルエチルケトンと、溶剤Ｙとしてのメトキシプロパノールとを５０：５０の質量割合で混合して得た混合溶媒Ｗに溶解させ固形分濃度３０質量％の表面層形成組成物を調製し、前記基材フィルムＣにマイヤーバー（＃３）により塗布し、９０℃で溶剤Ｘおよび溶剤Ｙを揮発させた後、紫外線照射装置で紫外線を照射して光硬化させて、積層フィルム（サンプル）を作製した。

＜評価＞
実施例及び比較例で示した各物性値の測定方法及び評価の評価方法について説明する。

（１）粒子の平均粒径
株式会社島津製作所社製の遠心沈降式粒度分布測定装置、ＳＡ－ＣＰ３型を用いて沈降法によって粒子の大きさを測定した。測定により得られた粒子の等価球形分布における積算（体積基準）５０％の値を用いて平均粒径とした。

（２）質量平均分子量（Ｍｗ）
各成分の質量平均分子量（Ｍｗ）は、ＧｅｌＰｅｒｍｅａｔｉｏｎＣｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ（ＧＰＣ）法により次の条件により測定した。
測定装置：東ソー株式会社製「ＨＬＣ－８１２０ＧＰＣ」
カラム：東ソー株式会社製「ＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒＨ３０００＋Ｈ４０００＋Ｈ６０００」
検出器：示差屈折率検出器（ＲＩ検出器／内蔵）
溶媒：テトラヒドロフラン
温度：４０℃
流速：０．５ｍｌ／分
注入量：１０μＬ
濃度：０．２質量％
較正試料：単分散ポリスチレン
較正法：ポリスチレン換算

（３）ＳＰ値
成分Ａ、成分Ｂ及び光架橋開始剤Ｃの溶解性パラメーター（ＳＰ値）は、Ｆｅｄｏｒｓらが提案した方法によって推算した。具体的には、「ＳＰ値の基礎・応用と計算方法」（山本秀樹著、株式会社情報機構）に基づいて、高分子の溶解度パラメーターの推算方法のうち、Ｆｅｄｏｒｓの推算法を参考に各ポリマー成分に含まれる各置換基の凝集エネルギー密度:Ｅ(J/mol)とモル分子容:Ｖ(cm³/mol)から下式に基づいて計算を行い、ＳＰ値（σ(ｃａｌ/ｃｍ³)^1/2）を求めた。
σ((Ｊ/ｃｍ³)^1/2)＝（ΣＥｃｏｈ／ΣＶ）^1/2
σ(ｃａｌ/ｃｍ³)^1/2＝σ(Ｊ/ｃｍ³)^1/2／２．０４５５

（４）最大山高さ（Ｓｐ）、算術平均粗さ（Ｓａ）
表面形状計測システム（株式会社日立ハイテクサイエンスの「ＶｅｒｔＳｃａｎ」（登録商標）Ｒ５５００）を用いて、光学表面において７０３．１２μｍ×９３７．４２μｍの領域における表面の凹凸形状を光干渉法にて測定し、以下の条件で補正およびベースライン補正を行い、データを読み取った。なお、測定時における対物レンズの倍率は５倍に設定した。
（補正条件）
・補完補正：完全
・ベースライン補正：面補正（多項式近似４次）

（５）ヘーズ
ＪＩＳＫ７１３６に準拠し、株式会社村上色彩技術研究所製ヘーズメーター「ＨＭ－１５０」を使用して、サンプルのヘーズを測定した。

（６）内部ヘーズ
内部ヘーズは、スガ試験機製のヘーズメーター（ＨＺ－２）を用いて測定した。測定は、フィルムをガラスセルにセットし、セル中にエタノールを満たした状態で行った。
なお、易接着剤層付きの基材フィルムの内部ヘーズと基材フィルム自体の内部ヘーズを比較した結果、易接着剤層の厚みが基材フィルムに対して極めて薄いことから差異が見られなかったため、易接着剤層付き基材フィルムで測定した内部ヘーズを基材フィルムの内部ヘーズとした。

（７）全光線透過率
ＪＩＳＫ７１３６に準拠し、村上色彩技術研究所製ヘーズメーター「ＨＭ－１５０」を使用して、全光線透過率を測定した。

（８）ニュートンリング防止効果（ＡＮＲ性）の評価
ガラス板とサンプルのコート面を重ね、サンプルの背面から指で押さえ、ガラス板側から目視することでニュートンリングの発生を評価した。
ニュートンリングが発生しなかった場合、「○（good）」と評価し、ニュートンリングが発生した場合を「×（poor）」と評価した。

（９）ギラツキ現象防止効果の評価
画素密度１７６ｐｐiのディスプレイの前面にサンプルを設置して、ギラツキの発生を評価した。
ギラツキが発生しなかった場合、「○（good）」と評価し、ニュートンリングが発生した場合を「×（poor）」と評価した。

（考察）
上記実施例及びこれまで本発明者が行ってきた試験結果から、無機粒子及び／又は有機粒子を含有する基材フィルムを用いて、該基材フィルムの片面側に、無機粒子及び有機粒子を含有しない表面層を備えた積層フィルムにおいて、該基材フィルムの内部ヘーズを２０．０％以上とし、且つ、積層フィルムの表面層側表面の最大山高さ（Ｓｐ）を０．５μｍ以上に調整することにより、干渉縞（ニュートンリング）の発生を抑制することができ、しかも、ギラツキ現象の発生を効果的に抑制することができることが分かった。

Claims

無機粒子及び／又は有機粒子を含有するフィルム（「基材フィルム」と称する）の少なくとも片面側に、無機粒子及び有機粒子を含有しない表面層を備えた積層フィルムであり、
前記表面層が、少なくとも、互いに非相溶である２種類のポリマー、オリゴマー又はモノマー（「ポリマー等」と称する）を含有し、該ポリマー等の相分離構造による凹凸構造を備えており、
基材フィルムの内部ヘーズが２０．０％以上であり、
表面層側表面の最大山高さ（Ｓｐ、ＩＳＯ２５１７８）が０．５μｍ以上である積層フィルム。
表面層側表面の算術平均粗さ（Ｓａ、ＩＳＯ２５１７８）が１００ｎｍ以上、２００ｎｍ以下である請求項１に記載の積層フィルム。
全光線透過率が８２．０％以上である請求項１又は２に記載の積層フィルム。
積層フィルムのヘーズと、基材フィルムの内部ヘーズとの差が５．０％以下である請求項１～３のいずれかに記載の積層フィルム。
前記基材フィルムは、平均粒径０．５μｍ以上、５μｍ以下の無機粒子及び／又は有機粒子を０．０００１～１０質量％の割合で含有する請求項１～４のいずれかに記載の積層フィルム。
前記基材フィルムがポリエステルフィルムである請求項１～５のいずれかに記載の積層フィルム。
前記表面層が含有する前記２種類のポリマー等は、溶解性パラメータ（ＳＰ）の差が０．０１～１０である請求項１～６のいずれかに記載の積層フィルム。
ディスプレイ用フィルムである請求項１～７のいずれかに記載の積層フィルム。