KR20130043108A - 적셔진　오염된 기질을　폴리머 입자로　세정하는 방법 - Google Patents

적셔진　오염된 기질을　폴리머 입자로　세정하는 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 적셔진 기질을 다수의 폴리머 입자로 구성되는 제제로 처리하는 것으로 구성되는, 오염된 기질을 세정하는 방법을 제공하며, 상기 폴리머 입자는 세제 제제와 결합되어 적용되고, 상기 방법은 상기 세제 제제가 별개의 화학적 성분들로 분리되어, 이들 화학적 성분들이 세정 주기 동안 서로 다른 시간에 첨가되는 것을 특징으로 한다. 상기 방법은 전체적인 화학물질 로딩은 감소하면서 세정은 개선되도록 하며, 상기 제제의 더 값비싼 성분들이 세정 성능상 가장 효과적인 때에 첨가되는 것을 용이하게 함으로써, 종래의 올-인-원(all-in-one) 세제 제제에 비하여 상당한 비용 절감을 제공하게 된다. 또한, 상기 폴리머 입자들을 세정하는 방법도 제공된다.

Description

적셔진　오염된 기질을　폴리머 입자로　세정하는 방법{METHOD TO CLEAN A MOISTENED SOILED SUBSTRATE WITH POLYMERIC PARTICLES}
본 발명은 기질(substrates)의 처리에 관한 것이다. 좀 더 구체적으로, 본 발명은 폴리머 입자에 기초하여 세정 처리를 이용하는 것에 관련된 기질의 세정 방법에 관한 것으로, 상기 방법에서 세제는 그 구성 화학적 성분들로 분리되고, 이들 화학적 성분들이 세정 주기 동안 서로 다른 시간에 첨가되는 신규의 투여 방법에 의하여 세정 시스템에 첨가된다.
전통적인 습식 세정(wet cleaning)은 직물에 대하여 매우 중요한 공정이며, 이는 보통 적절한 세제 제제와 결합하여 비교적 다량의 물에 의해 제공되는 세탁 작용에 의존한다. 상기 제제는 그 구성에 있어 매우 복잡하지만, 색상이 짙은 얼룩을 중화시키기 위한 산화 또는 표백 성분들과 그것의 관련 활성화제와 함께, 특정 얼룩의 제거시 생물학적 작용을 제공하는 일련의 효소들을 갖거나 갖지 않는, 계면활성제의 조합으로 보통 구성된다. 또한, 상기 제제는 보통 물의 경도(hardness)를 조절하기 위한 빌더(builders), 제거된 얼룩이 직물 표면에 다시 정착하는 것을 막기 위한 재부착 방지 첨가제, 기대 수준의 향기를 제공하기 위한 향료, 및 재부착 효과(- 특히 흰색 옷에서)를 더 차단하기 위한 광학 증백제(optical brighteners)를 포함한다.
종래의 습식 세정 공정에서, 상기 세제 제제는 보통 올-인-원 주입(all-in-one dosing)으로서 첨가되거나, 또는 예비 세탁 및 주 세탁으로 분리되어 유연제 또는 다른 제제화된 첨가제가 별도로 이용될 수 있다. 그러나, 세탁이 진행됨에 따라 직물 표면에 상기 세제 제제의 특정 화학적 성분들(chemical parts)이 상당히 희석되어, 그 결과 우수한 세탁이 재부착 방지 첨가제, 향료 및 광학 증백제가 세정된 직물로부터 제거되는 댓가를 치르고 발생하는 문제가 생긴다. 특히, 상기 세제 제제의 이러한 세 성분은 세탁 품질을 평가할 때 소비자 요구를 충족시키는 면에서 중요하다. 따라서, 종래의 습식 세정 공정에서, 올-인-원 세제 제제는 이들 화학물질들이 최종 세정된 직물의 표면에 충분한 양으로 잔존하도록 하기 위해 이들 화학물질들로 효과적으로 오버로드되었다(overloaded). 자연스럽게, 이 공정은 세탁 공정에서 전체 화학물질 로딩(loading)을 증가시키고, 물론 상기 세제 제제 자체의 비용도 증가시킨다.
WO-A-2007/128962에 개시된 방법에서, 세정 방법은 유기 용매가 본질적으로 없는 세정 제제를 사용하며 단지 제한된 양의 물을 이용할 것을 요하여 상당한 환경적 이익을 제공한다. 따라서, 발명자들은 적셔진 기질을 다수의 폴리머 입자로 구성되며 유기 용매가 없는 제제로 처리하는 것으로 구성되는, 오염된 기질을 세정하는 방법을 개시한다.
그러나, 이러한 방법이 선행 기술에 비하여 상당한 잇점을 제공하는 반면, 상기 공정에서 채택된 세제 제제와 상기 폴리머 입자들 사이의 상호 작용의 결과 문제가 발생할 수 있다. 따라서, 폴리머 입자에 의해 제제 성분들 중 일부를 너무 이르게 제거하는 것은 그렇지 않을 경우 달성될 수 있는 것 보다 더 빈약한 세정 성능 및 재부착 성능을 일으킬 수 있다는 것이 밝혀졌다. 본 발명이 다루고자 하는 문제가 이런 것들이다.
WO-A-2007/128962의 방법은 보통 종래의 습식 세정 공정과 매우 유사한 세제 제제를 이용하지만, 발생 가능한 부적절한 세정 및 재부착의 문제를 다루기 위해서 높은 화학물질 로딩을 하는 개념은, 실제적으로나 경제적으로나, 현실적인 선택은 아니다. 결과적으로, 본 발명의 발명자들은 상기 세제 제제를 그것의 구성 화학적 성분들로 분할하고, 이들이 세탁 주기 동안 서로 다른 시간에 첨가되는 세제 투여 방법을 제공함으로써, 상기의 문제점을 다루는 변화된 공정을 고안하였다. 이러한 방식으로, 전체 화학물질 로딩은 감소할 뿐만 아니라, 상기 제제의 더 값비싼 성분들이 세탁 성능상 가장 효과적일 것 같은 때에 첨가될 수 있다. 그 결과, 종래의 올-인-원 세제 제제에 비하여 상당한 비용 절감이 달성될 수 있다.
따라서, 본 발명의 일 측면에 의하면, 적셔진 기질을 다수의 폴리머 입자로 구성되는 제제로 처리하는 것으로 구성되는, 오염된 기질을 세정하는 방법이 제공되며, 상기 폴리머 입자는 세제 제제와 결합하여 적용되고, 상기 방법은 상기 세제 제제가 별개의 화학적 성분들로 분리되어, 상기 화학적 성분들이 세정 주기 동안 서로 다른 시간에 첨가되는 것을 특징으로 한다.
구체적으로, 상기 제제의 세정 성분들은 요구되는 얼룩 제거 정도를 제공하기 위해 주 세정 주기(main wash cycle) 전 또는 주기 동안 첨가되는 반면, 상기 제제의 나머지, 더 비싼- 따라서 더 부가 가치되는(value adding)- 성분들은, 세정 공정으로부터 상기 폴리머 입자를 제거한 다음에 후-처리(post-treatment)로서 첨가될 것이 요구된다. 보통, 상기 세정 성분들은 계면활성제, 효소 및 산화제 또는 표백제로 구성되며, 상기 후처리 성분들은 예를 들어 재부착 방지 첨가제, 향료 및 광학 증백제를 포함한다.
본 발명의 방법에 의해 세정되는 기질은 예를 들어 플라스틱 재료, 가죽, 종이, 카드보드, 금속, 유리 또는 나무를 포함하는 광범위한 기질로 구성될 수 있다. 그러나 실제로, 상기 기질은 가장 바람직하게 직물 섬유로 구성되며, 이는 면과 같은 천연 섬유, 또는 예를 들어 나일론 6,6 또는 폴리에스테르와 같은 합성 직물 섬유일 수 있다.
상기 폴리머 입자는 임의의 광범위한 서로 다른 폴리머로 구성될 수 있다. 구체적으로, 폴리에틸렌 및 폴리프로필렌과 같은 폴리알켄, 폴리에스테르 및 폴리우레탄이 언급될 수 있으며, 이는 선형 또는 가교된 것일 수 있고 발포 또는 미발포된 것일 수 있다. 그러나, 바람직하게, 상기 폴리머 입자는 폴리아미드 또는 폴리에스테르 입자, 가장 바람직하게 나일론, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 또는 폴리부틸렌 테레프탈레이트의 입자, 가장 바람직하게는 비드(beads) 형태의 입자로 구성된다. 상기 폴리아미드 및 폴리에스테르는 수성 얼룩/오염 제거에 특히 효과적인 것으로 밝혀졌으며, 폴리알켄은 오일-기재 얼룩의 제거에 특히 유용하다. 선택적으로, 상기 폴리머 물질들의 공중합체가 본 발명의 목적상 이용될 수 있다.
Nylon 6, Nylon 6,6, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 및 폴리부틸렌 테레프탈레이트를 포함하지만 이에 한하지 않는, 다양한 나일론 또는 폴리에스테르 호모- 또는 코-폴리머들이 사용될 수 있다. 바람직하게, 상기 나일론은 5000 내지 30000 달톤(Dalton), 바람직하게 10000 내지 20000 달톤, 가장 바람직하게 15000 내지 16000 달톤 범위의 분자량을 갖는 Nylon 6,6 호모폴리머로 구성된다. 상기 폴리에스테르는 ASTM D-4603과 같은 용액 기법에 의해 측정할 때, 0.3 - 1.5 dl/g 범위의 고유 점도 측정치에 대응하는 분자량을 보통 가질 것이다.
상기 폴리머 입자는 우수한 유동성 및 직물 섬유와의 긴밀한 접촉을 가능하게 할 형상과 크기를 갖는다. 원통형, 구형 또는 장방형과 같은 다양한 형상의 입자들이 이용될 수 있으며; 예를 들어 환형 고리, 도그-본(dog-bone) 및 원형을 포함하는 적절한 단면 형상이 이용될 수 있다. 상기 입자들은 매끄럽거나 불규칙한 표면 구조를 가질 수 있고 속이 꽉 차거나 속이 빈 구성일 수 있다. 입자들은 바람직하게 5 내지 500 mg, 바람직하게 10 내지 100 mg, 가장 바람직하게 10 내지 30 mg 범위의 평균 질량을 가질 수 있는 크기를 갖는다. 원통형 비드의 경우, 바람직한 입자 직경은 1.0 내지 6.0 mm, 더 바람직하게 1.5 내지 4.0 mm, 가장 바람직하게 2.0 내지 3.0 mm 범위이며, 상기 비드의 길이는 바람직하게 1.0 내지 4.0 mm, 좀 더 바람직하게 1.5 내지 3.5 mm, 가장 바람직하게 2.0 내지 3.0 mm 범위이다.
보통, 구형 비드의 경우, 구의 바람직한 직경은 1.0 내지 6.0 mm, 더 바람직하게 2.0 내지 4.5 mm, 가장 바람직하게 2.5 내지 3.5 mm 범위이다.
본 발명의 방법은 앞서 말한 바와 같이 광범위하게 다양한 기질에 적용될 수 있다. 좀 더 구체적으로, 천연 및 합성 직물 섬유의 범위에 걸쳐 적용가능하지만, 나일론 6,6, 폴리에스테르 및 면 섬유에 대하여 특히 적용된다.
상기 세정 시스템에 추가 윤활(lubrication)을 제공하고, 그럼으로써 상기 시스템내 이동 특성을 개선하기 위해서, 물이 상기 시스템에 첨가된다. 따라서, 상기 시스템에 첨가된 후에, 상기 세제 제제의 세정 성분들(보통 계면활성제, 효소 및 산화제 또는 표백제)이 상기 기질로 더 효율적으로 이동하게 되며, 상기 기질로부터 오염 및 얼룩의 제거가 더 용이하게 일어난다. 선택적으로, 오염된 기질은 세정 장치에 로딩되기 전에 메인(mains) 또는 수돗물로 적심으로써 적셔질 수 있다. 어떤 경우이든, 물은 세정 처리가 실행되도록 공정에 첨가되어 물 대 기질의 비율이 바람직하게 2.5:1 내지 0.1:1 중량비가 되도록, 좀 더 바람직하게는 2.0:1 내지 0.8:1이 되도록 하며, 특히 바람직한 결과는 1.5:1, 1.2:1 및 1.1:1과 같은 비율에서 얻어졌다.
보통 재부착 방지 첨가제, 향료 및 광학 증백제로 구성되는, 상기 세제 제제 내 후처리 성분들은 헹굼 주기의 일부로서, 상기 세정 공정으로부터 폴리머 입자들을 제거한 후에 첨가된다. 이는 그들이 올-인-원 세제 투여를 통해 일상적으로 첨가되는 경우보다 더 낮은 농도에서 기질과 직접 상호작용하는 것을 촉진한다. 따라서, 이러한 투여 접근에 의해 비용 절감은 물론 화학물질 로딩의 전체적 감소가 얻어진다. 또한, 개선된 세정 성능이 관찰된다.
또한, 청구범위의 다성분(multi-component) 투여 시스템의 사용은 세정 화학물질의 더 넓은 범위의 이용을 제공하는데, 이는 종래의 세정 제품 제제에 있어, 세정 성분의 선택은 예를 들어, 효소와 결합하여 산화제 성분을 사용하는 것이나, 향료 성분이 염소-기재 표백제와 잠재적 상호작용하는 것과 같이, 결과 얻어지는 제제의 안정성 및 비상용성(incompatibility)으로 인하여 제한될 수 있기 때문이다. 전자의 경우, 공정에서 산화제가 효소를 너무 일찍 죽임으로써 세정이 악영향을 받을 수 있으며, 후자의 경우에는, 향료가 표백제 냄새에 의해 압도될 수 있다. 이들 성분의 분리 첨가를 채택함으로써, 그러한 곤란성은 회피된다.
특정의 실시예에서는, 상기 제제의 산화 또는 표백 성분을 주 세정과 별도로, 예를 들어 혼합 탱크에서, 예비 가열할 가능성이 용이해지며, 그럼으로써 이러한 성분이 세정 시스템에 첨가되기 전에 화학적으로 더 활성이 되도록 한다. 이러한 예비 혼합에 필요한 물의 양은 낮을 수 있으므로, 그러한 가열에 소모되는 전력은 거의 없으며, 따라서 매우 활성인 산화 또는 표백 화학물질이 전력 이용, 따라서 비용의 면에서 거의 불이익 없이 첨가될 수 있다. 따라서 이는 감소된 주 세정 주기 시간 또는 감소된 전력 소모로 인하여 추가의 잇점을 제공할 수 있으며, 이는 산화 또는 표백 화학물질의 화학적 활성이 동등해지도록 전체 워시로드(washload)를 가열할 것이 요구되어, 비교적 느리고 비용이 드는 공정이 될 수 있는 단일 투여 공정에 비하여 동등한 세정(parity cleaning)을 유지할 수 있을 것이다.
본 발명의 또 다른 실시예에서, 상기 산화 또는 표백 성분은, 편리하게 상기 세제 제제에 포함될 수 있는 화학적 활성화제에 의하여 활성화될 수 있다.
본 발명의 제 1 측면의 방법은 배치식(batchwise) 및 연속 변인식(continuous variety) 모두의 소규모 또는 대규모 공정에 이용될 수 있으며, 따라서 가정용 및 산업용 세정 공정 모두에 적용 가능하다.
본 발명은 또한 앞서 개시된 다성분 투여 접근에 따라 사용된 폴리머 입자를 세정하는 것도 고려하므로, 하나의 세정실 및, 상기 세제 제제의 적어도 하나의 성분을 함유하도록 구성된 적어도 하나의 투여실로 구성되는 장치가 이러한 목적으로 이용될 수 있다. 적당한 장치는 예를 들어 PCT 특허출원번호 PCT/GB2011/050243, PCT/GB2010/051960 및 PCT/GB2010/094959에 개시되어 있다. 다수의 세정 주기(보통 10 내지 12) 후에, 폴리머 세정 입자들은 오염되지만, 재사용될 수 있도록 세정 및 재활용될 수 있으며, 이는 명백히 상당한 경제적 잇점을 제공한다. 따라서, 본 발명의 제 3 측면에 의하면, 오염된 폴리머 입자를 세제 제제로 처리하는 것으로 구성되는 오염된 폴리머 입자의 세정 방법이 제공된다. 선택적으로, 상기 세제 제제는 그것의 별개 화학 성분들로 분리되어 상기 화학 성분들이 세정 공정 동안 서로 다른 시기에 첨가되도록 한다. 바람직하게, 상기 방법은 상기 장치를 이용하여 수행된다.
본 발명의 실시예는 첨부 도면을 참고로 아래에 더 상세히 기재된다.
도 1은 본 발명의 다성분 투여 접근을 이용하여 실행되는 세정 주기를 도시한다.
도 2는 오염된 샘플의 바탕 백색도 면에서 단일 투여 및 멀티-투여 세정 방법의 세정 성능을 비교한 것을 나타낸다.
도 3은 면 위의 피지/안료 얼룩의 세정을 위해 적용된 단일 투여 및 멀티-투여 세정 방법의 세정 성능을 비교한 것을 나타낸다.
도 4는 폴리에스테르/면 위의 피지/안료 얼룩의 세정을 위해 적용된 단일 투여 및 멀티-투여 세정 방법의 세정 성능을 비교한 것을 나타낸다.
본 발명의 제 1 측면에 따른 방법에서, 비드(beads) 대 기질의 비율은 일반적으로 30:1 내지 0.1:1 중량비, 바람직하게 10:1 내지 1:1 중량비이며, 특히 바람직한 결과는 5:1 내지 1:1 중량비, 가장 바람직하게는 약 2:1 중량비의 비율에서 얻어진다. 따라서, 예를 들어 섬유 5g의 세정을 위해 폴리머 입자 10g이 이용될 수 있을 것이다.
앞서 기재된 바와 같이, 본 발명의 방법은 직물 섬유의 세정에 특히 적용된다. 그러한 세정 시스템에서 이용된 조건들은 직물 섬유의 종래의 습식 세정에 적용되던 조건과 매우 일치하며, 따라서 섬유의 성질 및 오염의 정도에 의해 일반적으로 결정된다. 따라서, 전형적인 절차 및 조건은 당업계의 통상의 지식을 가진 자에게 잘 알려져 있는 것들에 의하며, 섬유는 일반적으로, 예를 들어 5 내지 95℃의 온도에서 10분 내지 1시간 동안 본 발명의 방법에 따라 처리되고, 물에서 헹굼하여 건조된다.
얻어진 결과는 직물 섬유로 종래의 습식 세정 공정을 실행할 때 관찰되는 것들과 매우 일치한다. 본 발명의 방법에 의해 처리된 섬유로 달성되는 세정 및 얼룩 제거 정도는 매우 우수한 것으로 보이며, 특히 뛰어난 결과는 흔히 제거하기 어려운 소수성 얼룩 및 수성 얼룩 및 오염에 대하여 얻어진다. 상기 방법은 또한 염색 공정 다음에 직물 섬유에 적용되는 워시-오프(wash-off) 절차, 및 방적(spinning) 및 직조(weaving)와 같은 공정 후에 존재할 수 있는 먼지, 땀, 기계 오일 및 기타의 오염원을 제거하기 위해 직물 공정에 사용되는 정련 공정에도 적용된다. 세정 공정의 종료시 섬유에 부착된 폴리머 입자로 인한 어떠한 문제도 관찰되지 않으며, 이들 입자는 이어서, 예를 들어 PCT 특허출원번호 PCT/GB2011/050243, PCT/GB2010/051960 및 PCT/GB2010/094959에 개시된 세정 장치를 이용하여, 워시로드로부터 제거될 수 있다.
또한, 앞서 기재된 바와 같이, 폴리머 입자의 재사용이 가능하고, 입자가 세정 공정에서 만족스럽게 재사용될 수 있음이 입증되었다.
앞서 논의된 바와 같이, 세제 조성물의 주요 성분은 세정 성분과 후처리 성분으로 구성된다. 보통, 상기 세정 성분은 계면활성제, 효소 및 산화제 또는 표백제로 구성되며, 상기 후처리 성분은 예를 들어 재부착 방지 첨가제, 향료 및 광학 증백제를 포함한다.
그러나, 상기 세제 제제는 선택적으로 하나 이상의 기타 첨가제, 예를 들어 빌더, 킬레이트제, 염료 이동 억제제(dye transfer inhibiting agents), 분산제, 효소 안정화제, 촉매 물질, 표백 또는 산화제 활성화제, 폴리머 분산제, 점성토 제거제(clay soil removal agents), 거품 억제제, 염료, 구조 탄성화제(structure elasticizing agents), 섬유 유연제, 전분, 담체, 친수제(hydrotropes), 가공 보조제 및/또는 안료를 포함할 수 있다.
적당한 계면활성제의 예는 비이온성 및/또는 음이온성 및/또는 양이온성 계면활성제 및/또는 양쪽성 및/또는 양성 이온성 및/또는 반극성 비이온성 계면활성제로부터 선택될 수 있다. 상기 계면활성제는 보통 상기 세정 조성물의 약 0.1 중량%, 약 1 중량%, 또는 약 5 중량%로부터 상기 세정 조성물의 약 99.9 중량%, 약 80 중량%, 약 35 중량%, 또는 약 30 중량%까지의 수준으로 존재한다.
상기 조성물은 세정 성능 및/또는 섬유 관리 혜택(fabric care benefits)을 제공하는 하나 이상의 세제 효소를 포함할 수 있다. 적당한 효소의 예는 헤미셀룰라아제, 퍼옥시다아제, 프로테아제, 기타 셀룰라아제, 기타 크실라나아제(xylanases), 리파아제, 포스포리파아제, 에스테라아제(esterases), 쿠티나아제(cutinases), 펙티나아제, 케라타나아제, 리덕타아제(reductases), 옥시다아제, 페놀옥시다아제, 리폭시제나아제(lipoxygenases), 리그니나아제(ligninases), 풀루라나아제(pullulanases), 탄나아제(tannases), 펜토사나아제, 말라나아제, [베타]-글루카나아제([beta]-glucanases), 아라비노시다아제(arabinosidases), 히알루로니다아제(hyaluronidase), 콘드로이티나아제(chondroitinase), 락카아제(laccase), 및 아밀라아제, 또는 이들의 혼합물을 포함하지만 이에 한하지 않는다. 전형적인 조합은 아밀라아제와 함께 프로테아제, 리파아제, 쿠티나아제 및/또는 셀룰라아제와 같은 효소의 혼합물로 구성될 수 있다.
선택적으로, 효소 안정화제가 또한 상기 세정 성분들 중에 포함될 수 있다. 이와 관련하여, 세제용 효소는 다양한 기술, 예를 들어 수용성 칼슘 및/또는 마그네슘 이온의 소스(sources)를 상기 조성물에 포함시킴으로써 안정화될 수 있다.
상기 조성물은 하나 이상의 표백 또는 산화 화합물 및 관련 활성화제를 포함할 수 있다. 그러한 표백 또는 산화 화합물의 예는 과산화수소를 포함하는 과산소 화합물(peroxygen compounds), 퍼보레이트(perborate), 퍼카보네이트, 퍼포스페이트, 퍼실리케이트, 및 모노 퍼설페이트 염과 같은 무기 퍼옥시 염(예를 들어 소듐 퍼보레이트 테트라하이드레이트 및 소듐 퍼카보네이트), 및 과아세트산, 모노퍼옥시프탈산, 디퍼옥시도데칸디온산(diperoxydodecanedioic acid), N,N'-테레프탈로일-디(6-아미노퍼옥시카프로산(N,N'-terephthaloyl-di(6-aminoperoxycaproic acid)), N,N'-프탈로일아미노퍼옥시카프로산 및 아미도퍼옥시산(amidoperoxyacid)과 같은 유기 퍼옥시 산을 포함하지만 이에 한하지 않는다.
표백 또는 산화 활성화제는 당업계에 잘 알려져 있으며, 특정의 예는 과가수분해가능한(perhydrolysable) N-아실 또는 O-아실 잔기를 함유하는 화합물을 포함한다. 이러한 화합물의 특정 예는 수불용성 화합물, 예를 들어 숙신산, 벤조산 및 프탈산 무수물, 테트라아세틸-글리콜루릴(TAGU; tetraacetyl-glycoluril), 및 카르복시산 에스테르, 예를 들어 N,N,N',N'-테트라아세틸에틸렌 디아민(TAED)은 물론, 수용성 유도체, 예를 들어 아세틸 살리실산, 글루코오스 펜타-아세테이트(GPA), 및 페놀 및 치환 페놀의 다양한 에스테르, 예를 들어 소듐 아세톡시 벤젠 설포네이트(SABS), 소듐 벤조일옥시 벤젠 설포네이트(SBOBS) 및 소듐 노나노일옥시벤젠 설포네이트(SNOBS)를 포함한다.
적당한 빌더가 상기 제제에 포함될 수 있으며, 이는 폴리포스페이트의 알칼리 금속, 암모늄 및 알칸올암모늄 염, 알칼리 금속 실리케이트, 알칼리 토금속 및 알칼리 금속 카보네이트, 알루미노실리케이트, 폴리카복실레이트 화합물, 에테르 히드록시폴리카복실레이트, 에틸렌 또는 비닐 메틸 에테르와 말레산 무수물의 공중합체, 1,3,5-트리히드록시벤젠-2,4,6-트리설폰산, 및 카르복시메틸-옥시숙신산, 에틸렌디아민 테트라아세트산 및 니트릴로트리아세트산과 같은 폴리아세트산의 다양한 알칼리 금속, 암모늄 및 치환 암모늄 염 뿐만 아니라, 폴리카복실레이트, 예를 들어 멜리트산(mellitic acid), 숙신산, 옥시디숙신산, 폴리말레산, 벤젠 1,3,5-트리카르복시산, 카르복시메틸옥시숙신산, 및 이들의 가용성 염을 포함하지만 이에 한하지 않는다.
상기 조성물은 또한 선택적으로 하나 이상의 구리, 철 및/또는 망간 킬레이트제 및/또는 하나 이상의 염료 이동 억제제를 함유할 수 있다.
적당한 폴리머 염료 이동 억제제는 폴리비닐피롤리돈 폴리머, 폴리아민 N-옥사이드 폴리머, N-비닐피롤리돈 및 N-비닐이미다졸의 공중합체, 폴리비닐옥사졸리돈 및 폴리비닐이미다졸 또는 이들의 혼합물을 포함하지만 이에 한하지 않는다.
선택적으로, 상기 세제 제제는 또한 분산제를 함유할 수 있다. 적당한 수용성 유기 물질은 호모- 또는 코-폴리머 산 또는 이들의 염이며, 여기서 폴리카르복시산은 2개 이하의 탄소 원자에 의해 서로 분리되는 적어도 2개의 카르복시 라디칼로 구성될 수 있다.
상기 재부착 방지 첨가제는 그 작용에 있어 물리화학적이며, 예를 들어 폴리에틸렌 글리콜, 폴리아크릴레이트 및 카르복시메틸셀룰로오스(CMC)와 같은 물질을 포함한다.
선택적으로, 상기 조성물은 향료를 또한 함유할 수 있다. 적당한 향료는 일반적으로 다성분 유기 화학 제제로서, 알코올, 케톤, 알데히드, 에스테르, 에테르 및 니트릴 알켄, 및 이들의 혼합물을 함유할 수 있다. 잔류 향기를 제공하기에 충분한 직접성(substantivity)을 제공하는 상업적으로 이용가능한 화합물은 Galaxolide (1,3,4,6,7,8-헥사히드로-4,6,6,7,8,8-헥사메틸시클로펜타(g)-2-벤조피란), Lyral (3- 및 4-(4-히드록시-4-메틸-펜틸) 시클로헥센-1-카르복스알데히드) 및 Ambroxan ((3aR,5aS,9aS,9bR)-3a,6,6,9a-테트라메틸-2,4,5,5a,7,8,9,9b-옥타히드로-1H-벤조[e][1]벤조푸란)을 포함한다. 상업적으로 이용가능한 완전히 제제화된 향료의 일 예는 Symrise? AG에 의해 공급되는 Amour Japonais 이다.
적당한 광학 증백제는 몇가지 유기 화학 분류에 속하고, 이들 중 가장 인기있는 것은 스틸벤 유도체이며, 다른 적당한 분류는 벤즈옥사졸, 벤즈이미다졸, 1,3-디페닐-2-피라졸린, 쿠마린, 1,3,5-트리아진-2-일(1,3,5-triazin-2-yls) 및 나프탈이미드를 포함한다. 그러한 화합물의 예는 4,4'-비스[[6-아닐리노-4(메틸아미노)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]스틸벤-2,2'-디설폰산, 4,4'-비스[[6-아닐리노-4-[(2-히드록시에틸)메틸아미노]-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]스틸벤-2,2'-디설폰산, 디소듐 염, 4,4'-비스[[2-아닐리노-4-[비스(2-히드록시에틸)아미노]-1,3,5-트리아진-6-일]아미노]스틸벤-2,2'-디설폰산, 디소듐 염, 4,4'-비스[(4,6-디아닐리노-1,3,5-트리아진-2-일)아미노]스틸벤-2,2'-디설폰산, 디소듐 염, 7-디에틸아미노-4-메틸쿠마린, 4,4'-비스[(2-아닐리노-4-모르폴리노-1,3,5-트리아진-6-일)아미노]-2,2'-스틸벤디설폰산, 디소듐 염, 및 2,5-비스(벤즈옥사졸-2-일)티오펜을 포함하지만 이에 한하지 않는다.
이제 도 1을 참고하면, 본 발명의 제 1 측면에 따른 세정 주기가 도시되어 있다. 처음에 옷을 세정 장치의 세정실로 로딩하고, 그 다음 폴리머 비드와 세정수를 첨가하고, 상기 세제 제제의 세정 성분들(계면활성제, 효소 및 산화제 또는 표백제 중 적어도 하나로 구성됨)의 분량을 상기 장치 내로 충진한다. 그 다음 세정 주기를 일으키고, 이어서 상기 비드를 세정 장치로부터 제거하고, 물 및 후처리 성분들, 예를 들어 재부착 방지 첨가제, 향료 및 광학 증백제의 존재하에 헹굼 작동한다. 그 다음 잔류 화학물질 및 액체(liquor)를 추출하고, 상기 장치로부터 세정된 옷을 꺼낸다. 도 1에 표시된 바와 같이 상기 폴리머 비드의 세정은 선택적으로 의류 세정 작동 사이에 수행될 수 있다.
보통 매 10-12회 세정 실행되는, 본 발명에 의한 비드 세정 공정은 상기 비드의 표면이 세정 공정에서 매우 활성으로 있도록 한다. 바람직하게, 비드 세정은 물 대 비드의 비율이 바람직하게 물 0.5-3 리터/비드(kg)이 되도록, 일정량의 물에 계면활성제(비이온성 및/또는 음이온성 및/또는 양이온성), 및 선택적으로 예를 들어 수산화나트륨/칼륨, 하이포염소산염(hypochlorates), 차아염소산염(hypochlorites) 또는 기타 산화제 또는 표백제 및 앞서 인용된 활성화제로부터 선택되는 기타의 더 공격적인 화학물질의 개별 분량을 첨가함으로써 실행된다.
본 발명은 이제 아래의 실시예 및 관련 예시를 참고로, 어떠한 경우에도 그 범위를 제한함이 없이, 더 예시될 것이다.
실시예
시험 및 대조 조건(표 1 참조)을 이용하여 시험 세정을 실행하였다. 상기 시험은 PCT 특허출원번호 PCT/GB2011/050243에 기재된 바람직한 세정 장치를 이용하였으며, 본 발명의 방법에 따라 실행하였고("Xeros Plus" 멀티 투여), 대조군은 동일한 장치에서 실행되었지만 단일 세제 투여를 이용하였으며, 상기 세제는 주 세탁이 개시될 때 첨가되었다("Xeros Plus" 단일 투여). 각각의 경우 워시로드는 동일한 조성의 총 12kg의 혼합 의류였다. 상기 세제 성분들은 다음과 같았다.
ㆍ계면활성제 - Christeyns가 공급하는 Mulan 200S;
ㆍ과산화수소(산화 성분) - Procter & Gamble이 공급하는 ACE B;
ㆍ테트라아세틸에틸렌디아민(TAED) (산화성분 활성화제) - Warwick Chemicals가 공급;
ㆍ광학 증백제 - Clariant가 공급하는 Leucophor BMB; 및
ㆍ향료 - Symrise?AG가 공급하는 Amour Japonais
세제를 강조하기 위해 워시로드에 얼룩을 첨가하였다 - 6 오프 WFK PCMS-55_05-05x05 표준 산업/상업용 세탁 얼룩 모니터, 및 12 오프 WFK SBL2004 모의 피지 기름 오염 시트(sheets). 후자는 약 8g/워시로드(kg)의 피지 수준을 생성하여 사용된 세제를 강조하기 위해 사용되었다.
Figure pct00001
Xeros Plus 멀티 투여 및 Xeros Plus 단일 투여 주기 모두 동일한 세탁 온도 28℃에서 진행되었다. Xeros Plus 멀티 투여 주기를 이용할 경우, 60℃의 혼합 탱크에서 주 세탁과는 별도로 상기 산화성분 및 그것의 활성화제를 가열하기 위한 시설이 이용가능하였으며, 이러한 접근은 상기 성분이 첨가되기 전에 화학적으로 더 활성이 되도록 하기 위해 이용되었다. 그러나 앞서 관찰된 바와 같이, 이 주기 동안만 세탁 온도는 28℃에 도달하였는데, 이는 소량의 60℃ 물이 첨가되더라도, 다른 세탁 성분들의 주변 온도가 전체 온도를 낮은 수준으로 유지되도록 하기 때문이다. 동일한 양의 60℃ 물이 상기 Xeros Plus 단일 투여 주기의 세탁 주기 동안 동일한 단계에서 첨가되지만, 산화성분 또는 활성화제는 없으며, 이는 표 1에 표시된 바와 같이, 주세탁의 시작시에 이미 첨가되었다. 따라서, Xeros Plus 단일 투여 주기에서 이러한 가열된 물을 첨가하는 목적은, 동일한 최종 세탁 온도 28℃에 이르기까지, Xeros Plus 멀티 투여의 경우에 적용되는 것과 동일한 온도 프로필을 세탁 공정 내내 보장하기 위한 것이었다. 따라서, 이들 2가지 주기 사이의 유일한 차이는 세제 첨가의 방법이었다(즉, 주기 전체를 통해 성분들을 멀티 투여하는 경우 대 주 세탁의 개시시에 모든 성분들을 단일 투여하는 경우). 두 가지 주기의 전체 주기 시간-세탁, 비드 분리 및 헹굼을 포함-는 90분으로 동일하였다. 3회 헹굼 프로그램이 양 절차에 대하여 이용되었으며, 광학 증백제 및 향료는 표 1에 표시된 바와 같이, Xeros Plus 멀티 투여 주기의 경우 최종 헹굼시 첨가되었다.
세정 정도는 색상 측정을 이용하여 평가하였다. WFK 얼룩 모니터의 반사값은, UV 성분은 포함하고 반사 성분은 배제한 광원 D65 하에 10°표준 관측자를 채택한, 개인용 컴퓨터에 인터페이스된 Datacolor Spectraflash SF600 분광 광도계를 이용하여 측정되었으며, 3cm 관찰 구멍(viewing aperture)이 사용되었다. 상기 얼룩 모니터 상의 각 얼룩에 대하여 CIE L* 색상 코디네이트를 취하였으며, 각 얼룩 유형에 대하여 이들 값을 평균하였다. L* 값이 높을수록 더 높은 세정을 나타냄을 유의해야 한다. 결과는 표 2에 개시된다.
Figure pct00002
표 2로부터 알 수 있는 바와 같이, Xeros Plus 멀티 투여 주기는 Xeros Plus 단일 투여 주기에 비하여 압도적으로 우월한 세정을 제공하였다. 테스트된 13개 얼룩 유형 중에서, 10개는 Xeros Plus 멀티 투여로 우월한 세정을 보여주었으며, 하나의 경우 양 주기에 대하여 동등한 세정이 관찰되었고, 단지 2개만이 Xeros Plus 단일 투여로 우월한 세정을 보였다.
그 다음, 바탕 백색도에 대하여 얼룩 모니터 기재(backing material)에 대한 분석, 및 얼룩 10D 및 20D에 대하여 피지 기름 제거에 대한 분석을 하여(표 1 참조) 가시 스펙트럼(400-700 nm)을 가로질러 이들의 파장 의존도를 확인하였다. 낮은 세탁 온도에서의 기름 제거는 폴리머 비드로 하는 세정의 주요 잇점인데, 특히 세정력에 대하여 이러한 다성분 투여 접근과 결합하였을 경우 그러하다. 앞서 기재된 동일한 분광 광도계 장치를 이용하여, 가시 파장의 함수로서 반사도를 측정하여 색상 강도 값(K/S)을 결정하였고, 이는 도 2-4에 도시된다. K/S 값이 낮을수록 임의의 주어진 파장에서 바탕 백색도 및 세정이 더 좋아짐을 나타내었다.
상기 얼룩 모니터의 기재의 바탕 백색도가 Xeros Plus 멀티 투여 주기로 개선되었음은 도 2로부터 명백해졌다. 이는 최종 헹굼시 광학 증백제를 늦게 첨가한 효과이다(표 1 참조). 여기서 임계적으로, 420-480 nm 범위에 대한 K/S 값은 개선되며, 그럼으로써 더 푸른 색상(이것이 상기 가시 스펙트럼의 푸른색 말단에 있기 때문임)을 물질에 부여하게 되며, 사용자는 보통 이를 상당한 성능 향상으로 보게 된다. 그것은 또한 단일 투여와는 반대로, 세정력에 대한 다성분 투여 접근을 이용함으로써 광학 증백제의 레벨을 감소시키는 범위가 있다는 것을 명백히 보여준다. 또한 시각 평가 시험을 수행하였으며, 6명의 자원자가 이러한 효과를 평가하였다. 편견 방지를 위해 시험 얼룩 모니터에서 모든 코드를 다루었으며, 6명의 자원자 모두가 Xeros Plus 멀티 투여 주기를 이용하여 세탁시 얼룩 모니터의 기재에 대하여 우월한 바탕 백색도를 표시하였다.
Xeros Plus 멀티 투여 주기를 이용한 피지/안료에 대한 세정 성능(도 3 및 4 참조)도 또한, 면(얼룩 10D) 및 폴리에스테르/면 기질(얼룩 20D)에 대하여 우월한 것으로 나타났다. 이 얼룩은 그것의 저온 제거가 세탁 적용에 대하여 중요한 추진요인(key driver)이기 때문에 특히 관심을 끄는데, 이는 본 발명에 따라 경험되는 바와 같이, 저온 세탁 온도에서 성공적인 제거를 이루는 것이 매우 중요하지만 매우 어렵기 때문이다. 따라서 그러한 성능 개선은 세정력에 대한 다성분 투여의 잇점을 다시 한번 명백히 보여준다.
마지막으로, 양쪽 주기에 사용된 얼룩 모니터의 상쾌함(freshness)/향기를 평가하기 위해 상기에서와 동일한 6명의 자원자에게 관능 시험을 수행하였다. 편견 방지를 위해 시험 얼룩 모니터에서 모든 코드를 다루었으며, 4명의 자원자는 Xeros Plus 멀티 투여 주기가 이들 모니터에 더 상쾌한 냄새를 생성한다고 생각했고, 또 다른 한명의 자원자는 둘 사이의 어떠한 차이도 가릴 수 없었으며, 나머지 한 자원자는 Xeros Plus 단일 투여 주기가 더 상쾌한 냄새를 생성한다고 믿었다. 따라서 여기서도, 증거는 세정력에 대한 다성분 투여 접근을 강하게 지지하였다.
본 발명의 상세한 설명 및 청구범위를 통하여, "구성된다" 및 "함유한다"라는 단어 및 이들의 변형은 "포함하지만 이에 한하지 않음"을 의미하며, 이들은 기타의 부분, 첨가제, 성분, 인티저(integers) 또는 단계를 배제하는 것이 의도되지 않는다(또한 배제하지 않는다). 본 명세서의 상세한 설명 및 청구범위를 통하여, 단수는 문맥상 달리 요구되지 않는 한 복수도 포함한다. 특히, 부정 관사가 사용된 경우, 본 명세서는 문맥상 달리 요구되지 않는 한 단수 뿐만 아니라 복수도 고려하는 것으로 이해되어야 한다.
본 발명의 특정 측면, 실시예 또는 예와 결합하여 기재된 특성, 인티저, 특징, 화합물, 화학 성분 또는 기(groups)는 양립불능이지 않는 한 여기 기재된 다른 측면, 실시예 또는 예에 적용가능한 것으로 이해되어야 한다. (첨부된 특허청구범위, 요약서 및 도면을 포함하여) 본 명세서에 개시된 모든 특성, 및/또는 그렇게 개시된 임의의 방법 또는 공정의 모든 단계들은, 그러한 특징 및/또는 단계들 중 적어도 일부가 상호 배타성인 조합을 제외하고, 임의의 조합으로 결합될 수 있다. 본 발명은 임의의 상기 실시예의 세부 내용에 제약받지 않는다. 본 발명은 (첨부된 특허청구범위, 요약서 및 도면을 포함하여) 본 명세서에 개시된 특성들 중 임의의 신규한 것, 또는 임의의 신규 조합, 또는 그렇게 개시된 임의의 방법 또는 공정의 단계들의 임의의 신규한 것, 또는 임의의 신규 조합에도 미친다.
본 출원과 관련하여 본 명세서와 동시에 또는 그 이전에 출원되고 본 명세서와 함께 공중의 열람에 개방된 모든 문서 및 논문(그러한 모든 문서 및 논문의 내용은 여기에 참고로 포함됨)을 관심있게 읽을 수 있다.

Claims (37)

  1. 적셔진 기질을 다수의 폴리머 입자로 구성되는 제제로 처리하는 것으로 구성되는, 오염된 기질을 세정하는 방법으로서, 상기 폴리머 입자는 세제 제제와 결합하여 적용되고, 상기 세제 제제는 별개의 화학적 성분들로 분리되어, 상기 화학적 성분들이 세정 주기 동안 서로 다른 시간에 첨가되는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제제의 세정 성분들은 주 세정 주기 전 또는 주기 동안 첨가되고, 상기 제제의 나머지 성분들은, 세정 공정으로부터 상기 폴리머 입자를 제거한 다음 후처리로서 첨가되는, 세정 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 세정 성분들은 계면활성제, 효소, 산화제 및 표백제로부터 선택되는 하나 이상의 성분으로 구성되는, 세정 방법.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 계면활성제는 비이온성 및/또는 음이온성 및/또는 양이온성 계면활성제 및/또는 양쪽성 및/또는 양성 이온성 및/또는 반극성 비이온성 계면활성제로부터 선택되는, 세정 방법.
  5. 제3항 또는 제4항에 있어서,
    상기 효소는 헤미셀룰라아제, 퍼옥시다아제, 프로테아제, 기타 셀룰라아제, 기타 크실라나아제(xylanases), 리파아제, 포스포리파아제, 에스테라아제(esterases), 쿠티나아제(cutinases), 펙티나아제, 케라타나아제, 리덕타아제(reductases), 옥시다아제, 페놀옥시다아제, 리폭시제나아제(lipoxygenases), 리그니나아제(ligninases), 풀루라나아제(pullulanases), 탄나아제(tannases), 펜토사나아제, 말라나아제, [베타]-글루카나아제([beta]-glucanases), 아라비노시다아제(arabinosidases), 히알루로니다아제(hyaluronidase), 콘드로이티나아제(chondroitinase), 락카아제(laccase), 및 아밀라아제, 또는 이들의 혼합물로부터 선택되는, 세정 방법.
  6. 제3항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 산화제 또는 표백제는 과산소 화합물로부터 선택되는, 세정 방법.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 과산소 화합물은 과산화수소, 무기 퍼옥시 염 및 유기 퍼옥시 산으로부터 선택되는, 세정 방법.
  8. 제3항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 산화제 또는 표백제는 화학적 활성화제에 의하여 활성화되는, 세정 방법.
  9. 제3항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 산화제 또는 표백제는 첨가되기 전 상기 주 세정으로부터 별도로 가열함으로써 활성화되는, 세정 방법.
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 후처리 성분들은 재부착 방지 첨가제, 향료 및 광학 증백제로부터 선택된 하나 이상의 성분으로 구성되는, 세정 방법.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 재부착 방지 첨가제는 폴리에틸렌 글리콜, 폴리아크릴레이트 및 카르복시메틸셀룰로오스로부터 선택되는, 세정 방법.
  12. 제10항 또는 제11항에 있어서,
    상기 향료는 알코올, 케톤, 알데히드, 에스테르, 에테르 및 니트릴 알켄, 및 이들의 혼합물 중 하나 이상으로 구성되는, 세정 방법.
  13. 제10항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광학 증백제는 스틸벤 유도체, 벤즈옥사졸, 벤즈이미다졸, 1,3-디페닐-2-피라졸린, 쿠마린, 1,3,5-트리아진-2-일 및 나프탈이미드로부터 선택되는, 세정 방법.
  14. 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 세제 제제는 빌더, 킬레이트제, 염료 이동 억제제, 분산제, 효소 안정화제, 촉매 물질, 산화제 또는 표백 활성화제, 폴리머 분산제, 점성토 제거제(clay soil removal agents), 거품 억제제, 염료, 구조 탄성화제(structure elasticizing agents), 섬유 유연제, 전분, 담체, 친수제(hydrotropes), 가공 보조제 및 안료로부터 선택되는 하나 이상의 성분으로 더 구성되는, 세정 방법.
  15. 제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서,
    효소 및 표백제/산화제로 구성되는 화학적 성분들은 상기 세정 주기 동안 서로 다른 시간에 첨가되는, 세정 방법.
  16. 제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서,
    향료 및 표백제로 구성되는 화학적 성분들은 상기 세정 주기 동안 서로 다른 시간에 첨가되는, 세정 방법.
  17. 제1항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기질은 플라스틱 재료, 가죽, 종이, 카드보드, 금속, 유리 또는 나무로 구성되는, 세정 방법.
  18. 제1항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기질은 직물 섬유로 구성되는, 세정 방법.
  19. 제1항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 폴리머 입자는 폴리알켄, 폴리아미드, 폴리에스테르 또는 폴리우레탄으로 구성되는, 세정 방법.
  20. 제19항에 있어서,
    상기 폴리아미드 입자는 Nylon 6 또는 Nylon 6,6의 비드로 구성되는, 세정 방법.
  21. 제19항에 있어서,
    상기 폴리에스테르 입자는 폴리에틸렌 테레프탈레이트 또는 폴리부틸렌 테레프탈레이트의 비드로 구성되는, 세정 방법.
  22. 제1항 내지 제22항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 폴리머 입자는 선형 또는 가교된 것을 특징으로 하는 세정 방법.
  23. 제19항에 있어서,
    상기 폴리머 입자는 발포 또는 미발포된 것을 특징으로 하는 세정 방법.
  24. 제1항 내지 제23항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 폴리머 입자는 속이 꽉 차거나 속이 빈 것을 특징으로 하는 세정 방법.
  25. 제1항 내지 제24항 중 어느 한 항에 있어서,
    물 대 기질의 비율이 2.5:1 내지 0.1:1 중량비가 되도록 물이 시스템에 첨가되는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
  26. 제1항 내지 제25항 중 어느 한 항에 있어서,
    폴리머 입자 대 기질의 비율은 30:1 내지 0.1:1 중량비의 범위에 있는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
  27. 제1항 내지 제26항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 방법의 세정 단계는 5 내지 95℃의 온도에서 실행되는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
  28. 제1항 내지 제27항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 방법의 세정 단계는 10분 내지 1시간 동안 실행되는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
  29. 제1항 내지 제28항 중 어느 한 항에 있어서,
    배치식 공정으로 구성되는 세정 방법.
  30. 제1항 내지 제28항 중 어느 한 항에 있어서,
    연속 공정으로 구성되는 세정 방법.
  31. 오염된 폴리머 입자를 세제 제제로 처리하는 것으로 구성되는, 오염된 폴리머 입자의 세정 방법.
  32. 제31항에 있어서,
    상기 세제 제제는 별개의 화학적 성분들로 분리되어, 상기 화학적 성분들이 세정 주기 동안 서로 다른 시간에 첨가되는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
  33. 제31항 또는 제32항에 있어서,
    상기 폴리머 입자를 계면활성제로 처리하는 것으로 구성되는 세정 방법.
  34. 제33항에 있어서,
    상기 폴리머 입자를 수산화나트륨 및 수산화칼륨, 하이포염소산염(hypochlorates), 차아염소산염(hypochlorites), 과산화수소, 무기 퍼옥시 염 및 유기 퍼옥시 산으로부터 선택되는 추가 물질로 처리하는 것으로 구성되는 세정 방법.
  35. 제31항 내지 제34항 중 어느 한 항에 있어서,
    세정실 및 하나 이상의 투여실로 구성되는 오염된 기질 세정용 장치로서, 상기 하나 이상의 투여실은 상기 세제 제제의 하나 이상의 성분을 함유하고 상기 하나 이상의 성분을 세정 주기 동안 소정의 시간에 상기 세정실로 분배하도록 구성된 상기 세정용 장치에서 실행되는, 세정 방법.
  36. 제1항 내지 제30항 중 어느 한 항의 방법에 의하여 항상 얻어지는 세정된 의류.
  37. 제31항 내지 제35항 중 어느 한 항의 방법에 의하여 항상 얻어지는 세정된 폴리머 입자.
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