KR20060048139A - 탄성표면파 장치 및 통신기기 - Google Patents
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- 238000010897 surface acoustic wave method Methods 0.000 title claims abstract description 97
- 238000004891 communication Methods 0.000 title description 31
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 203
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims abstract description 89
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 27
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 5
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 5
- WSMQKESQZFQMFW-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-pyrazole-3-carboxylic acid Chemical compound CC1=CC(C(O)=O)=NN1 WSMQKESQZFQMFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 3
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 3
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005219 brazing Methods 0.000 description 2
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 2
- 230000001413 cellular effect Effects 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N lithium niobate Chemical compound [Li+].[O-][Nb](=O)=O GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRVKEZKWTRTGIK-UHFFFAOYSA-N OB(O)O.OB(O)O.OB(O)O.OB(O)O.OB(O)O Chemical compound OB(O)O.OB(O)O.OB(O)O.OB(O)O.OB(O)O QRVKEZKWTRTGIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000006071 cream Substances 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- -1 for example Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000010295 mobile communication Methods 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic elements; Electromechanical resonators
- H03H9/70—Multiple-port networks for connecting several sources or loads, working on different frequencies or frequency bands, to a common load or source
- H03H9/72—Networks using surface acoustic waves
- H03H9/725—Duplexers
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- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic elements; Electromechanical resonators
- H03H9/70—Multiple-port networks for connecting several sources or loads, working on different frequencies or frequency bands, to a common load or source
- H03H9/72—Networks using surface acoustic waves
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic elements; Electromechanical resonators
- H03H9/46—Filters
- H03H9/64—Filters using surface acoustic waves
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- Acoustics & Sound (AREA)
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Abstract
Description
Claims (14)
- 압전기판;상기 압전기판의 한쪽 주면에 형성되고, 제1입출력전극, 제1접지전극 및 제1IDT전극을 포함하는 제1필터소자;상기 압전기판의 같은 면에 형성되고, 제2입출력전극, 제2접지전극 및 제2IDT전극을 포함하며, 상기 제1필터소자와 주파수대역이 다른 제2필터소자; 및상기 압전기판의 상기 제1, 제2필터소자가 형성된 면을 실장하기 위한 회로기판을 구비하고,상기 압전기판의 상기 제1, 제2필터소자가 형성된 면에 있어서, 상기 제1접지전극과, 상기 제2접지전극이 전기적으로 분리되어 형성되고,상기 회로기판의 상기 압전기판을 실장하는 면에 있어서, 상기 제1접지전극이 접속되는 제1접지용 도체단자와, 상기 제2접지전극에 접속되는 제2접지용 도체단자가 분리되어 형성되고,상기 회로기판의 상기 압전기판을 실장하는 면과 반대측의 면 또는 상기 회로기판 중 어느 하나의 내층면에서 제3접지전극이 형성되고,상기 제1접지용 도체단자 및 상기 제2접지용 도체단자에 접속되고, 상기 회로기판을, 상기 제3접지전극의 위치까지 각각 관통하는 제1 및 제2관통도체가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 탄성표면파 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 제1필터소자의 통과 주파수대역이, 상기 제2필터소자의 통과 주파수대역보다도 낮고,상기 제1접지전극, 상기 제1접지용 도체단자 및 상기 제1관통도체의 직렬 인덕턴스가 상기 제2접지전극, 상기 제2접지용 도체단자 및 상기 제2관통도체의 직렬 인덕턴스보다 높은 것을 특징으로 하는 탄성표면파 장치.
- 제2항에 있어서, 상기 제1접지전극의 압전기판상의 면적이 상기 제2접지전극의 압전기판상의 면적보다 작은 것을 특징으로 하는 탄성표면파 장치.
- 제2항에 있어서, 상기 제1관통도체의 개수가 상기 제2관통도체의 개수보다 적은 것을 특징으로 하는 탄성표면파 장치.
- 제2항에 있어서, 상기 제1관통도체가 크랭크형상을 갖는 것을 특징으로 하는 탄성표면파 장치.
- 제5항에 있어서, 상기 제2관통도체는 직선형상을 갖는 것을 특징으로 하는 탄성표면파 장치.
- 제2항에 있어서, 상기 제1관통도체의 단면적이 상기 제2관통도체의 단면적보다 작은 것을 특징으로 하는 탄성표면파 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 제1IDT전극은, 상기 제1입출력전극간에 접속된 직렬 IDT전극과, 신호선로와 접지 사이에 연결된 병렬 IDT전극을 갖고,상기 제2IDT전극은, 상기 제2입출력전극간에 접속된 직렬 IDT전극과, 신호선로와 접지 사이에 연결된 병렬 IDT전극을 갖는 것을 특징으로 하는 탄성표면파 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 압전기판의 상기 제1, 제2필터소자가 형성된 면에, 상기 제1, 제2필터소자를 둘러싸는 환형 전극이 형성되고,상기 회로기판의 상기 압전기판을 실장하는 면에 있어서, 상기 환형 전극에 접속되는 환형 도체가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 탄성표면파 장치.
- 제9항에 있어서, 상기 환형 전극은, 상기 제1, 제2필터소자를 각각 둘러싸는 2개의 환형 전극이며,상기 환형 도체는, 상기 2개의 환형 전극에 각각 접속되는 것을 특징으로 하는 탄성표면파 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 제2접지전극은, 상기 압전기판의 상기 제1, 제2필터소자가 형성된 면에, 상기 제1, 제2필터소자를 둘러싸도록 해서 형성된 환형 전극에 접속되고,상기 제2접지용 도체단자는, 상기 회로기판의 상기 압전기판을 실장하는 면에 있어서, 상기 환형 전극에 접속되도록 형성된 환형 도체인 것을 특징으로 하는 탄성표면파 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 압전기판의 상기 제1, 제2필터소자가 형성된 면에, 상기 제1, 제2필터소자를 둘러싸는 환형 전극이 형성되고,상기 회로기판의 상기 압전기판을 실장하는 면에 있어서, 상기 환형 전극에 접속되도록 형성된 환형 도체가 설치되고,상기 제2접지용 도체단자는, 상기 회로기판의 상기 압전기판을 실장하는 면에 형성된 환형 도체에 접속되어 있으며,상기 제2관통도체 대신에, 또는 제2관통도체와 함께, 상기 환형 도체에 접속되어, 상기 회로기판을, 상기 제3접지전극의 위치까지 관통하는 제3관통도체가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 탄성표면파 장치.
- 제1항에 기재된 탄성표면파 장치와, 상기 탄성표면파 장치를 회로소자로 하는 송신회로를 구비하는 것을 특징으로 하는 통신기기.
- 제1항에 기재된 탄성표면파 장치와, 상기 탄성표면파 장치를 회로소자로 하는 수신회로를 구비하는 것을 특징으로 하는 통신기기.
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004158442 | 2004-05-27 | ||
JPJP-P-2004-00158442 | 2004-05-27 | ||
JPJP-P-2004-00190460 | 2004-06-28 | ||
JP2004190460A JP4443325B2 (ja) | 2004-06-28 | 2004-06-28 | 弾性表面波装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20060048139A true KR20060048139A (ko) | 2006-05-18 |
KR100712441B1 KR100712441B1 (ko) | 2007-04-27 |
Family
ID=35424572
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020050044925A KR100712441B1 (ko) | 2004-05-27 | 2005-05-27 | 탄성표면파 장치 및 통신기기 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7298231B2 (ko) |
KR (1) | KR100712441B1 (ko) |
CN (1) | CN1702961B (ko) |
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CN1702961A (zh) | 2005-11-30 |
CN1702961B (zh) | 2010-04-28 |
US7298231B2 (en) | 2007-11-20 |
US20050264375A1 (en) | 2005-12-01 |
KR100712441B1 (ko) | 2007-04-27 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20050527 |
|
A201 | Request for examination | ||
PA0201 | Request for examination |
Patent event code: PA02012R01D Patent event date: 20060509 Comment text: Request for Examination of Application Patent event code: PA02011R01I Patent event date: 20050527 Comment text: Patent Application |
|
PG1501 | Laying open of application | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20070327 |
|
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20070423 Patent event code: PR07011E01D |
|
PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20070424 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
PG1601 | Publication of registration | ||
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20100329 Start annual number: 4 End annual number: 4 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20110318 Start annual number: 5 End annual number: 5 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20120418 Start annual number: 6 End annual number: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130404 Year of fee payment: 7 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20130404 Start annual number: 7 End annual number: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140401 Year of fee payment: 8 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20140401 Start annual number: 8 End annual number: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160318 Year of fee payment: 10 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20160318 Start annual number: 10 End annual number: 10 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170322 Year of fee payment: 11 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20170322 Start annual number: 11 End annual number: 11 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180403 Year of fee payment: 12 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20180403 Start annual number: 12 End annual number: 12 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190328 Year of fee payment: 13 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20190328 Start annual number: 13 End annual number: 13 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20200401 Start annual number: 14 End annual number: 14 |
|
PC1903 | Unpaid annual fee |
Termination category: Default of registration fee Termination date: 20220204 |