KR20010022502A

KR20010022502A - 증점제로서 실록산-기본 폴리아미드를 함유하는 화장품조성물

Info

Publication number: KR20010022502A
Application number: KR1020007001088A
Authority: KR
Inventors: 바모튼엘.; 케이헝; 에스포시토앤쏘니; 프로인들리히조엘; 킹더글러스더블유.; 멘돌리아마이클; 모그발찬드라; 펫로프레닌제임스; 샴퍼토머스; 스키너마이클워드; 빈센티폴조지프; 우칭-민키미; 지머맨케네스에드워드; 콜웰데니스제이.
Original assignee: 스콧 톰슨; 콜게이트-파아므올리브캄파니; 맥켈러 로버트 루이스; 다우 코닝 코포레이션
Priority date: 1997-08-01
Filing date: 1998-07-30
Publication date: 2001-03-15
Also published as: DE69813826T2; HUP0002543A1; US6353076B1; HUP0002543A3; DE69813826D1; CO4990924A1; EP1000112B1; CA2298703C; HU229575B1; ATE238371T1; CA2298703A1; NZ502604A; BR9811064A; JP4868375B2; AU730357B2; PL194820B1; ZA986823B; ES2198738T3; PL338438A1; CN1268151A

Abstract

화장품 제품용 겔화제로서 실록산-기본 폴리아미드를 포함하는 발명, 이러한 제제의 제조방법, 이의 제형 및 화장품 제형이 기재된다. 이러한 폴리아미드는 주쇄에 실록산 그룹을 함유하고 휘발성 및/또는 비-휘발성 실리콘 유체를 함유하는 조성물을 증점화시키는 역할을 한다. 화장품 조성물은 항발한제와 같은 적어도 하나의 활성성분을 첨가함으로써 제조될 수 있다.

Description

증점제로서 실록산-기본 폴리아미드를 함유하는 화장품 조성물{COSMETIC COMPOSITION CONTAINING SILOXANE-BASED POLYAMIDES AS THICKENING AGENTS}

다수의 문헌이 화합물 부류로서 폴리아미드를 기재하고 있지만, 실록산 부분을 함유하는 폴리아미드의 특정 그룹이 신규하고 우수한 화장품, 특히 항발한제 및 탈취제의 제조에 유용하다.

화장품 조성물(예를 들면, 겔, 연질 고체 또는 반고체(크림), 또는 스틱 같은 고형 화장품 조성물)은 겔화제로서 실록산-기본 폴리아미드를 사용하여 증점되는 적어도 하나의 실리콘 유체(예를 들면, 실리콘 오일과 같은 실리콘액); 화장용 활성물질이 혼입되는 담체; 및 이러한 화장품 조성물에 활성을 제공하기 위한 적어도 하나의 활성 성분을 함유하는 기초 조성물로 구성된다. 본 발명의 특정 양태는 탈취 및 항발한제 조성물(및 이를 위한 기초 조성물)이 포함되며, 여기에서 화장용 활성 성분은 탈취 활성물질 및/또는 항발한 활성물질이다. 본 발명의 양태는 이러한 항발한 및/또는 탈취제 조성물에 제한되지 않으며, 또한 활성물질로서 선스크린제를 함유하는 햇빛 보호 조성물 같은 기타 화장용 활성 성분을 함유하는 기타 화장품 조성물에 관한 것이다.

제형된 화장품의 바람직한 양태는 스틱 또는 겔인 고형 투명 조성물, 특히 투명 탈취 및/또는 항발한제 조성물을 포함한 투명한 화장품 조성물에 관한 것이다. 전술한 폴리아미드로 제조된 화장품 조성물의 선택된 양태는 바람직하게는 투명하지만, 화장품 조성물이 투명하여야 할 필요는 없으며, 반투명 또는 불투명할 수도 있다.

본원에서 기술되고 본 발명에서 겔화제로 사용되는 화합물로는 실록산-기본 폴리아미드 및 이의 혼합물이 선택된다. 바람직하게는, 실록산-기본 폴리아미드로 제조된 조성물은 향상된 적용 및 화장성(감소된 점착성 및 고착성 포함)을 지니며, 더욱 바람직하게는 향상된 투명도/낮은 잔류성을 보유한다.

항발한 제품은 당분야에 익히 공지되어 있다. 항발한 제품은 스틱, 겔, 롤-온(roll-on), 에어로졸 및 크림 같은 다양한 용량형으로 시장에 나와있다. 일반적으로, 이러한 용량형으로는 용매 중의 활성성분 용액, 비-용매 중의 활성성분 현탁액, 또는 활성성분 용액이 일부 연속상으로 분산되거나 가용화된 활성성분이 연속상을 구성하는 다상 분산액 또는 에멀션이 있다.

전술한 용량형 중, 롤-온은 액체형 조성물의 일례이고, 스틱형은 고형 조성물의 일례이며 겔형은 고체일 수도 있고 아닐 수도 있는(예를 들면, 일부 상황에서는 겔이 유동할 수 있다) 증점형이다. 스틱의 경우 제형된 제품은 패키지 밖에서 장기간 동안 자체 형상을 유지할 수 있는 반면에(용매 증발에 따른 약간의 수축 허용), 겔은 자체 형상을 유지할 수 없다는 점을 기준으로 스틱형은 겔과 구별될 수 있다. 벤톤, 발연 실리카, 폴리에틸렌, 스테아릴 알콜 또는 캐스터 왁스와 같은 겔화제 또는 증점제의 양을 조정하여 겔 또는 스틱을 형성시킬 수 있다.

겔, 페이스트 및 크림(또한 연질 고체 또는 반고체로도 알려져 있다)은 스틱 외형을 지니지만, 패키지 상부면 위의 개구부(예를 들면, 슬롯 또는 세공)를 통해 분산되는 용기에 적당히 포장될 수 있다. 이러한 제품은 이하에서 "겔"로 총칭한다. 점도 및 경도와 같은 물리적 특징을 포함하여 그러한 겔을 각각 기재하고 있는 Kasat의 미국 특허 제5,102,656호, Orr의 제5,069,897호 및 Shin의 제4,937,069호를 참조한다. 이들 세 미국 특허 각각의 내용은 전부 본원에서 참조로 인용된다.

개구부를 통해 분산될 수 있는 대표적인 조성물은 Kasat의 미국 특허 제5,102,656호에 기재되어 있다. 이러한 기재 조성물은 조성물의 총 중량을 기준으로, 담체로서 휘발성 실리콘 30 내지 70 중량%, 적당한 겔화제 7 내지 30 중량%, 및 생리학적으로 허용되는 항발한제 약 12 내지 30 중량%를 함유하는 크림성의 불균질 무수 항발한 제품이다. 상기 특허에는 겔화제가 예를 들면, 수소화 식물성 오일, 수소화 피마자유, 14 내지 36개의 탄소원자를 갖는 지방산, 밀랍, 파라핀 왁스, 14 내지 24개의 탄소원자를 갖는 지방 알콜, 폴리에틸렌 등을 포함한 다수의 물질일 수 있음이 기재되어 있다.

최근에는, 투명 또는 반투명 항발한제 스틱 및 겔의 개발에 매우 활발하였다. 본질적으로 디벤질리덴 모노솔비톨 아세탈에 의해 겔화된, 다가 알콜 비히클 중의 활성 항발한물질 용액으로 이루어진 투명 또는 반투명 스틱이 기재되었다. 겔화제가 산성 환경에서 본질적으로 불안정하고, 통상적인 활성 항발한 물질이 산성을 띠므로, 아세탈 겔화제에 대한 산의 공격을 방지하거나 느리게 하기 위한 적당한 안정제 또는 완충제의 발견에 많은 작업이 투여되었다. 이러한 작업은 완전히 성공하지는 못하였다. 더욱이, 아세탈 겔화제를 함유하고 가용화된 활성 항발한 물질을 포함하는 이러한 투명하거나 반투명한 항발한제 스틱은 본질적으로 점착성이라는 단점이 있다. 따라서, 아세탈 겔화제를 함유하는 투명하거나 반투명한 항발한제 스틱과 관련한 개발 작업은 이러한 용량형을 위한 적당한 항-점착제의 발견에 역점을 두고 있다. 그러나, 겔화제의 산 가수분해가 수용액에서 더 신속하게 일어나므로, 제형자는 제형에 물의 사용을 피하도록 압박을 받아왔다. 이러한 점은 동시에 화학적으로 안정하고, 광학적으로 투명하며, 점착성이 낮고, 잔류물이 낮으며 허용할 수 있는 적용 미학을 지니는 화장품으로 우아한 제형의 개발을 위한 제형자의 역량을 제한한다.

점성을 띠고 높은 분산상 에멀션으로 이루어진 투명하거나 반투명한 항발한제 겔(스틱 외형을 지닌 용기로부터 분배됨)이 시판되고 있다. 이러한 겔은 제형 성분의 선택이 덜 제한받고(예를 들면, 물이 사용될 수 있다), 종종 점착성이 상당히 감소될 수 있다는 점에서, 전술한 아세탈-기본 투명 스틱에 비해 약간 나은 점을 보인다. 그러나, 이러한 에멀션은 종종 목적하는 미학 달성에 에탄올의 사용을 요하는 것을 포함하여 다양한 단점을 안고 있다. 이러한 에멀션과 관련하여, Soldati의 미국 특허 제4,673,570호 및 PCT(국제 출원) 공개버호 WO 92/05767를 참조한다.

Wells 등의 미국 특허 제5,120,531호는 스타일링 중합체 및 용매를 위한 겔-네트웍 증점 비히클을 제공하는 린스-오프 헤어 컨디셔너 및 스타일링 조성물에 대해 기재하고 있다. 이 특허는 실리콘에 부착된 4급 암모늄-치환 그룹을 지닌 폴리디오가노실록산, 및 아미노-치환 탄화수소 그룹인 실리콘-결합 치환체를 지닌 폴리디오가노실록산을 포함한 각종 실록산을 컨디셔닝제로 기재하고 있다.

본원에서 참조로 내용이 완전히 인용되는 미국 특허 제5,500,209호는 활성 탈취 및/또는 항발한 성분, 폴리아미드 겔화제, 및 폴리아미드 겔화제를 위한 용매를 포함하는 겔 또는 스틱을 개시하고 있으며, 이러한 겔 또는 스틱 조성물은 투명하거나 반투명할 수 있다. 이 특허에는 폴리아미드 겔화제가 고온에서 화장용으로 허용되는 용매에 가용성이며, 냉각시 고화되며(겔); 허용될 수 있는 용매가 각종 글리콜을 포함한 다양한 알콜을 포함하는 것으로 기재하고 있다. 전술한 특허에 기재된 폴리아미드-함유 스틱 또는 겔은 조성물의 안정성과 관련하여 바람직한 성질을 지니고 있지만, (특히 산성을 띠는 항발한 활성물질의 존재하, 및 투명 또는 반투명 겔 또는 스틱 조성물 제공시), 이러한 제형은 피부에 적용시 및 적용 후 모두 점착성 및 고착성이 될 수 있다.

폴리아미드 겔화제를 이용하는 화장품 조성물과 관련하여 이러한 점착성 및 고착성 문제에 역점을 두어 다루고 있는, 본원에서 참조로 완전히 인용되는 미국 특허출원 제08/426,672호(1995년 4월 21일 출원)는 항발한 활성물질 및 폴리아미드 겔화제를 함유하는 고체 조성물을 위한 특정 용매 시스템의 사용에 대해 기재하고 있다. 이러한 용매 시스템은 글리콜-비함유이고 비이온 계면활성제 및 극성 용매를 함유한다. 물은 극성 용매이며, 비이온 계면활성제와 함께 항발한 활성물질을 위한 분산매질로 작용하며, 여기에서 항발한 활성물질의 투명 또는 반투명 용액 에멀션을 수득하기 위해서 충분량의 물이 사용된다.

예를 들면, 항발한 제형의 점착성을 감소시키기 위한 전형적인 기술은 사이클로메티콘(테트라-, 펜타- 또는 헥사사이클로디메틸-실록산 또는 이들의 혼합물)의 혼입이다. 이러한 사이클로메티콘은 우수한 윤활성을 제공하고 피부 및/또는 의류에 얼룩을 남기지 않는 매우 점도가 낮은 액체이다. 사이클로메티콘 50 중량% 이상이 예를 들면, 왁스 고화제를 사용하여 고형 스틱 항발한 제형 중으로 혼입된다. 그러나, 사이클로메티콘은 미국 특허 제5,500,209호에 겔화제로 기술된 이량체 기본 폴리아미드에 대한 비용매이다. 더욱이, 제한된 양의 사이클로메티콘만이 이러한 폴리아미드 겔화제를 사용하여 겔화된 조성물의 투명도를 파괴하지 않으면서, 겔화된 고형 조성물에 혼입될 수 있다. 그 지점을 지나면, 겔화된 조성물은 혼탁해지는 데 이유는 폴리아미드의 과도한 결정화 또는 혼합물 중의 사이클로메티콘의 불혼화성 때문이다.

Choi 등의 미국 특허 제5,243,010호는 펜던트 실릴 그룹이 달린 방향족 폴리아미드 수지를 기재하고 있다.

Lucarelli 등의 미국 특허 제5,272,241호는 개인적인 용도 및 플라스틱 산업 모두에 유용한 유기 작용성 실록산에 대해 기재하고 있으며, 여기에서 실록산은 아미노산 작용화 실리콘이다.

The Mennen Company에 양도된 미국 특허출원 제08/790,351호(1997년 1월 24일 출원)는 일반적으로 화장품 조성물용 겔화제로서 폴리아미드의 사용을 기술하고 있다.

이와 같은 상황에도 불구하고, 특히 폴리아미드로 제조된 기초 조성물이 투명도가 향상된 화장품을 형성할 수 있을 때, 향상된 실록산-기본 폴리아미드 겔화제 및 이로부터 제조된 화장품 조성물이 여전히 필요하다. 더욱이, 이러한 겔화제를 이용하여 증점되고, 투명하며, 조성물에 함유된 증점제의 양에 따라, 크림에서 스틱까지와 같이 견고도가 다양한 제품으로 형성시킬 수 있는 이러한 기초 조성물을 제공하는 것이다.

따라서, 본 발명의 목적은 화장용 활성물질을 혼입시켜 화장품 조성물, 예를 들면, 항발한제 및/또는 탈취제를 형성할 수 있고, 선택된 실록산-기본 폴리아미드 겔화제를 사용하여 증점되는 기초 조성물을 제공하는 것이다.

본 발명의 목적은 투명도와 같은 향상된 미학을 보일 수 있고 바람직하게는 적용시 및 건조 후 가시적인(백색) 잔류물을 남기지 않는 기초 조성물을 제공하는 것이다.

본 발명의 목적은 화장품 조성물의 증점을 위한 겔화제로 사용될 수 있고, 휘발성 및/또는 비-휘발성 실리콘액과 상용성인 실록산-기본 폴리아미드를 제공하는 것이다.

본 발명의 목적은 또한, 이러한 기초 조성물과 화장 활성물질을 포함하는 화장품 조성물 및 이러한 화장품 조성물의 사용방법을 포함한다.

발명의 요약

상기 목적은 신규 실록산-기본 폴리아미드를 형성시키고 폴리아미드를 겔화제로 사용하여 탈취제 및 항발한제와 같은 화장품 조성물을 제형하는 단계를 포함하는 본 발명에 의해 달성된다. 본원에서 기술된 선택된 폴리아미드는 화장품 조성물의 형성에 사용될 때 우수한 성능을 보인다. 본 발명의 폴리아미드는 화학식 A로 표현되는 단위의 배수체이다.

화학식 A

상기식에서,

(1)DP는 1 내지 700, 바람직하게는 15 내지 500, 더욱 바람직하게는 15 내지 45로 이루어진 그룹에서 선택된다. DP는 표시된 DP 값 부근에 집중된 더 크거나 더 작은 DP 값을 지닌 중합체내 실록산 단위의 중합도에 대한 평균치를 나타낸다.

(2)n은 1 내지 500, 특히 1 내지 100, 더욱 특히 4 내지 25로 이루어진 그룹 중에서 선택된 수이다.

(3)X는 1 내지 30 개, 특히 3 내지 10 개, 좀더 특히 10개의 탄소를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬렌이다.

(4)Y는 1 내지 40개, 특히 1 내지 20개, 좀더 특히 2 내지 6개, 특히 6 개의 탄소를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬렌으로 이루어진 그룹 중에서 선택되며,

(a)알킬렌 그룹은 알킬렌 부위에 임의로 및 추가로 (i)1 내지 3 개의 아미드 결합, (ii)C5 또는 C6 사이클로알칸; 및 (iii)C1-C3 알킬로 이루어진 그룹 중에서 독립적으로 선택된 1 내지 3 개의 멤버에 의해 임의로 치환된 페닐렌 중 적어도 하나를 함유할 수 있고;

(b)알킬렌 그룹 자체는 (i)하이드록시; (ii)C3-C8 사이클로알칸; (iii)C1-C3 알킬; C1-C3 알킬로 이루어진 그룹 중에서 독립적으로 선택된 1 내지 3 개의 멤버; C1-C3 알킬로 이루어진 그룹 중에서 독립적으로 선택된 1 내지 3 개의 멤버에 의해 임의로 치환된 페닐; (iv)C1-C3 알킬 하이드록시; 및 (v)C1-C6 알킬 아민으로 이루어진 그룹 중에서 선택된 적어도 하나의 멤버에 의치 임의로 치환될 수 있거나;

Y = Z이고 Z = T(R²⁰)(R²¹)(R²²)이고 여기에서 R²⁰, R²¹및 R²²각각은 직쇄 및 측쇄 C1-C10 알킬렌으로 이루어진 그룹 중에서 독립적으로 선택되며; T는 CR로 이루어진 그룹 중에서 선택되며, R은 수소, R¹내지 R⁴에 대해 정의된 그룹으로 이루어진 그룹, 및 N, P 및 Al 중에서 선택된 3가 원자 중에서 선택된다.

(5)R¹내지 R⁴(총괄해서 "R") 각각은 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 실록산 쇄 및 페닐로 이루어진 그룹 중에서 독립적으로 선택되며, 여기에서 페닐은 메틸 및 에틸로 이루어진 그룹으로부터의 1 내지 3 개의 멤버에 의해 임의로 치환될 수 있다. 특히, R¹내지 R⁴에 대한 값은 메틸 및 에틸 중에서 선택되며 특히 메틸이다.

X, Y, DP, 및 R¹내지 R⁴에 대한 값은 폴리아미드의 각 단위에 대하여 동일하거나 상이할 수 있다.

본 발명자가 의미하는 실록산 그룹은 하기 실록산 단위를 갖는 그룹이다:

(예를 들면,)

상기에서, R³⁰및 R³¹은 유기 잔기로 이루어진 그룹 중에서 각각 독립적으로 선택되며, R³⁰및 R³¹각각은 탄소-실리콘 결합에 의하여 실리콘에 연결된다.

알킬렌 쇄에서의 탄소수는 여분의 분절 또는 치환에서의 탄소를 포함하지 않는다. 또한, 폴리아미드는 백본에 실록산 부위를 지녀야 하고 임의로 펜던트 또는 측쇄 부위에 실록산 부위를 가질 수도 있다.

정의된 변수에서 변화없이 반복되면, 화학식 A는 직쇄 단독중합체를 나타낸다. 본 발명의 허용할 수 있는 변화는: (1)DP, X, Y의 다중 값, 및 R¹내지 R⁴가 하나의 중합체 분자에서 일어나고, 이러한 단위의 순서가 교번, 랜덤 또는 블록일 수 있는 폴리아미드; (2)트리스(2-아미노에틸)아민 같은 유기 트리아민 또는 고급 아민이 유기 디아민을 부분적으로 치환시켜 측쇄 또는 가교결합된 분자를 생성하는 폴리아미드; 및 (3)(1) 및 (2)의 물리적 블렌드 및/또는 직쇄 단독중합체를 포함한다.

본 발명은 신규 폴리아미드 겔화제, 이의 제조방법 및 이로부터 제조된 화장제에 관한 것이다.

화학식 A 화합물의 특정 예로는 하기의 것들이 포함된다:

1)화학식 I의 폴리아미드:

상기식에서, X, Y, n, R¹내지 R⁴, 및 DP는 화학식 A에 대해 정의한 바와 같다. 화학식 I의 특정 아그룹은 R¹, R², R³및 R⁴각각이 메틸인 화합물이다. 화학식 I의 바람직한 폴리아미드는 하기의 화합물이다:

화학식

상기식에서, DP는 15 내지 500, 특히 15 내지 45에서 선택되며, 좀더 구체적으로는 29이다.

다른 특정 그룹은 X, Y, DP 및 R¹내지 R⁴가 중합체의 각 단위에서 동일한 화학식 I의 폴리아미드를 포함한다.

2)다중 실록산 블록 길이를 함유하는 화학식 II의 폴리아미드:

상기식에서, X, Y, n, 및 R¹내지 R⁴는 화학식 A에 대해 전술한 의미를 가지며; m은 n에 대해 정의한 바와 동일한 그룹으로부터 선택되고, n 및 m은 괄호안에 싸인 단위의 총수를 의미하며, 개별단위는 규칙, 교번, 블록 또는 랜덤 순서로 배열되며; R⁵내지 R⁸은 R¹내지 R⁴에 대해 정의 바와 동일한 그룹에서 선택되며; DP1 및 DP2는 동일하거나 상이하며 DP에 대해 정의한 바와 동일한 그룹으로부터 각각 독립적으로 선택되며; n 및 m으로 표시된 단위는 구조를 이루어 블록(규칙적인 순서) 또는 랜덤 공중합체를 형성할 수 있다. 화학식 II의 화합물에 대한 특정 아그룹은 메틸이도록 선택된 R 그룹 모두를 갖는다. 화학식 II의 화합물의 다른 특정 아그룹은 DP1 = DP2이다. 제 3 특정 아그룹은 메틸이도록 선택된 R 그룹 모두를 가지며 DP1 = DP2이다.

다수의 디아민으로부터 합성된 화학식 III의 폴리아미드:

상기식에서, X, Y, m, n, 및 R¹내지 R⁸, DP1, DP2는 화학식 A 및 화학식 II에 대해 전술한 바와 동일한 의미를 갖고; Y¹는 Y에 대해 정의한 바와 동일한 그룹에서 독립적으로 선택되며; n 및 m으로 표시된 단위는 구조를 이루어 블록(규칙 순서) 또는 랜덤 공중합체를 형성할 수 있다. 화학식 III의 화합물의 특정 아그룹은 DP1 = DP2를 갖는다. 화학식 III의 화합물의 다른 특정 아그룹은 메틸이도록 선택된 R 그룹 전부를 갖는다. 제 3 특정 아그룹은 메틸이도록 선택된 R 그룹 전부 및 DP1 = DP2를 갖는다.

4)삼작용성 아민으로 합성된 화학식 IV의 폴리아미드:

상기식에서, X, Y, Y′, R¹내지 R¹², m, n, DP1, DP2는 상기 정의한 바와 동일한 값을 가지며, R¹내지 R¹²는 R¹내지 R⁸에 대해 정의한 바와 동일한 그룹으로부터 선택되며, DP3는 DP에 대해 정의한 바와 동일한 그룹으로부터 선택되며 p는 m과 n에 대해 정의한 바와 동일한 그룹으로부터 선택되며;

Z = T(R²⁰)(R²¹)(R²²)이고 R²⁰, R²¹및 R²²각각은 직쇄 및 측쇄 C1-C10 알킬렌으로 이루어진 그룹 중에서 선택되며, T는 CR(여기에서, R은 수소 및 R¹내지 R⁴에 정의한 바와 동일한 그룹으로부터 선택된다), 및 N, P 및 Al 중에서 선택된 삼가 원자로 이루어진 그룹 중에서 선택된다. p에 대한 바람직한 값은 1 내지 25이고 더욱 바람직한 값은 1 내지 7이다. R¹내지 R¹²에 대한 바람직한 값은 메틸이다. T에 대한 바람직한 값은 N이다. DP1 내지 DP3 각각에 대한 특정 값은 15 내지 500이고 특히 15 내지 45이다. R²⁰, R²¹및 R²²각각에 대한 바람직한 값은 에틸렌이다. Z에 대한 바람직한 값은 (-CH₂CH₂)₃N이다.

화학식 IV의 화합물의 특정 그룹은 다음과 같다.

화학식 IV

상기식에서, X = -(CH₂)₁₀-, Y = -(CH₂)-; DP = 15 -45; m = m+n-p의 5-20%; 및 Z = (-CH₂CH₂)₃N.

일반적으로, 실록산-기본 폴리아미드(1)는 실리콘 유체(휘발성 및/또는 비-휘발성 실리콘 유체)를 함유하는 조성물을 증점하도록 실록산 그룹 및 아미드 그룹 모두를 하며; (2)실온에서 비-유동성 고체이며; (3)25 내지 160℃의 온도에서 반투명 또는 투명 용액을 형성하도록 이러한 범위의 온도에서 실리콘을 함유하는 유체에 용해된다.

실록산-기본 폴리아미드내 실록산 단위에서, 실록산 단위는 주쇄 또는 백본 쇄에 있어야 하지만 임의로는 측쇄 또는 펜던트 쇄에 존재할 수도 있다. 주쇄에서 실록산 단위는 전술한 바와 같은 단편에 발생한다. 측쇄 또는 펜던트 쇄에서 실록산 단위는 개별적으로 또는 단편으로 발생할 수 있다.

실록산-기본 폴리아미드의 특정 그룹으로는

(a)DP가 15 내지 50인 화학식 I의 폴리아미드;

(b)적어도 하나의 폴리아미드가 15 내지 50 범위의 DP 값을 가지고 적어도 하나의 폴리아미드가 30 내지 500 범위의 DP 값을 가지며;

(c)(1)DP1 값 = 15-50 및 DP2 값 = 30-500이고 (2)DP1을 갖는 폴리아미드 부분이 전체 폴리아미드 함량의 중량을 기준으로 약 1 내지 99 중량%이고 DP2를 갖는 폴리아미드 부분이 약 1 내지 99 중량%인 화학식 II의 화합물;

(d)n = 2-10, 특히 N = 3-6인 폴리아미드 80 내지 99 중량%, 및 (2)n = 5-500, 특히 N = 6-100인 폴리아미드 1 내지 20 중량%를 배합하여 제조한 화학식 I 폴리아미드의 물리적 블렌드;

(e)Y 및 Y¹중 적어도 하나가 적어도 하나의 하이드록실 치환을 함유하는 화학식 III의 폴리아미드;

(f)이산 대신에 활성화된 이산(이산 클로라이드, 이무수물 또는 디에스테르) 적어도 일부로 합성한 화학식 A의 폴리아미드;

(g)X = -(CH₂)₃-인 화학식 A의 폴리아미드;

(h)X = -(CH₂)₁₀-인 화학식 A의 폴리아미드;

(i)폴리아미드가 지방산, 지방 알콜 및 지방산 아민(예를 들면, 옥틸아민), 옥탄올, 스테아르산 및 스테아릴 알콜을 포함한, 일작용성 아민, 일작용성 산, 일작용성 알콜로 이루어진 그룹 중에서 선택된 일작용성 쇄 스토퍼로 제조되는 화학식 A의 폴리아미드가 포함된다.

일반적으로, 화학식 A의 폴리아미드는 이산이 디아민과 반응되고 물이 제거되는 축합반응을 통해 생성될 수 있다. 이 경우 이산은 실록산 그룹을 함유한다. 예를 들면, 카복시데실-말단 폴리디메틸실록산은 이산으로 사용될 수 있다. 다른 유기 이산, 디아민 및 일작용성 제제도 변성된 성질 수득을 위해 이산 및 디아민과 함께 사용될 수 있음을 주지하라. 또한, 이산 클로라이드, 이무수물 및 디에스테르는 이산 대신 사용될 수 있다. 하나의 방법으로는 디아민 및 이산의 대략 동몰량을 사용하는 것을 포함한다.

화학식 I의 폴리아미드 제조를 위한 바람직한 반응 전략은 하기와 같이 실록산 이산과 유기 디아민의 축합반응을 수반한다:

(1)목적하는 DP 값 달성을 위해 적정수의 실록산 단위를 함유하는 디메틸 하이드라이드 말단 블록 폴리디메틸실록산을 제조한다.

(2)운데실렌산의 카복실산 그룹을 헥사메틸디실라잔과의 반응을 통해 보호시킨다.

(3)디메틸하이드라이드 말단블록 폴리디메틸실록산 및 보호된 운데실렌산(단계(1)과 (2)의 산물)을 반응시켜 실록산 이산(카복시데실 말단 폴리디메틸실록산)을 생성시킨다. 이러한 반응은 클로로플래틴산 같은 백금 촉매의 존재하에 달성되며, 산물은 메탄올로 세척하여 트리메틸실릴 보호그룹을 제거한다.

(4)실록산 이산(단계(3)의 산물)을 유기 디아민과 반응시켜 실록산-기본 폴리아미드를 생성시킨다. 이러한 반응은 톨루엔 또는 자일렌 같은 반응 용매의 사용을 수반할 수 있다.

최적의 중합체는 DP =1-500, 특히 15-45인 실록산 이산과 유기 다작용성 아민과의 반응으로부터 형성된다. 분자량이 3,000 내지 200,000 범위, 특히 5,000 내지 50,000 범위인 중합체가 생성될 수 있다. 분자의 실록산 부위의 길이("DP")의 최적화는 다양한 고려사항의 균형을 수반한다. 긴 실록산 쇄를 지닌 폴리아미드(예를 들면, DP ＞ 50)는 사이클로메티콘에서 연질 겔을 형성하는 경향이 있다. 겔화제의 효율은 실록산 단위의 길이를 감소시킴으로써(즉, DP ＜ 50인 분자를 선택 및 제조) 향상되지만, 사이클로메티콘과의 상용성이 DP가 감소함에 따라 타협될 수 있다. 예를 들면, DP = 15인 실록산 이산 및 헥사메틸렌 디아민으로부터 합성된 폴리아미드는 사이클로메티콘에서 투명한 겔을 생성하지 않는다. 그러나, PPG-3 미리스틸 에테르 또는 이소세틸 알콜 같은 유기 연화제가 다양한 수준으로 실리콘 유체와 블렌딩되면 투명한 겔이 수득될 수 있다. 결과적으로, DP = 30인 중합체가 바람직하여, 생성되는 화장품 조성물에 대한 제형은 실리콘 유체와의 상용성 및 양호한 겔화 효율을 겸비하게 된다.

바람직한 유기 아민으로는 (1)헥사메틸렌 디아민 및 에틸렌 디아민 및이들의 혼합물 같은 직쇄 알킬 디아민; (2)페닐렌 디아민; 및 (3)피페리진, 데카메틸렌, 자일렌 디아민, 및 폴리에틸렌 글리콜 디아민 같은 기타 아민이 있다.

이러한 과정의 허용될 수 있는 변형은

(a)개개 실록산 부위의 길이의 변형(실록산 이산의 DP), 주:높은 DP 값은 실록산 유체와의 더 양호한 중합체 상용성을 이끌지만, 겔화 효율을 저하시키고, 따라서 겔을 더 연질이 되게 한다;

(b)분자량의 선택된 범위, 예를 들면 더 높은 분자량을 촉진하도록 반응 조건의 최적화. 고분자량 중합체는 더 양호한 기계적 성질을 갖는 겔을 제공하고; 이러한 더 높은 분자량 분포는 시약 불순물을 최소화하고, 반응 시간과 온도 등을 최적화함으로써 수득될 수 있음이 추정된다. 불순물 제거의 예로는 카복시 실리콘에서의 것들과 같은 일작용성 불순물의 제거가 포함된다.

(c)생성 겔의 강성 변형에 사용된 디아민의 변형. 트리메틸 헥실렌 디아민 같은 치환 디아민은 유사 비치환 디아민(예를 들면 헥사메틸렌 디아민) 기본 중합체보다 겔화 효율이 낮은 중합체를 생성한다. 입체 장해를 지닌 디아민은 중합체의 분자간 회합을 방해하는 작용을 하고 따라서 연질 겔을 초래하는 것으로 추정된다.

(d)반응 용매로 사용될 톨루엔 또는 자일렌 외 용매의 선택. 용매는 이의 비점, 물과의 공비물 형성능, 및 이의 안전성 프로필에 기초하여 선택되어야 한다. 최적의 용매는 고분자 산물을 선호하도록 반응 용기로부터 물의 제거를 촉진할 것이다. 이와 달리, 사이클로메티콘은 겔 시스템이 직접 현장에서 생성되도록 반응 용매로서 사용될 수 있다.

(e)효율 향상을 위해 실록산 이산(또는 실리콘 이산으로도 불림) 시약을 에틸 디에스테르, 이산 클로라이드 또는 이무수물 같은 유사한 활성화 종으로 치환.

(f)측쇄 또는 가교결합된 폴리아미드 생성을 위해 유기 디아민을 부분적으로 유기 트리아민 또는 고급 아민으로 치환.

이러한 일반적인 반응 도식의 특정 예는 운데실렌산(10-운데카노산, CAS # 112-38-9) 및 운데실렌산에 대한 보호 그룹으로서 디(트리메틸실릴)아민의 사용이다.

전체 공정의 좀더 상세한 설명은 다음과 같다. 제 1 단계는 산 촉매를 사용하는 디메틸하이드라이드 말단블록 폴리디메틸 실록산 중합체의 제조를 수반한다. 디하이드리도 테트라메틸디실록산, 디메틸사이클로실록산 및 트리플루오로메탄 설폰산을 함께 혼합하고 80℃로 가열하여 디메틸수소 말단블록 폴리디메틸 실록산 중합체 및 디메틸사이클로실록산을 형성하는 평형 반응을 허용한다. 80℃에서 중합 4 시간 후, 80℃에서 최소 2 시간 동안 탄산칼슘 또는 중탄산나트륨을 사용하여 실록산을 중화시킨다. 일단 중화시킨 다음 중합체를 여과하여 분리해낸다(산물 A).

운데실렌산의 카복실산 그룹을, 운데실렌산을 헥사메틸디실라잔과 반응시켜 수득되는 트리메틸실릴 그룹으로 보호시킨다. 운데실렌산 및 톨루엔을 플라스크에 가하고 헥사메틸디실라잔을 첨가 깔때기에 가하고 물질을 혼합하면서 적가한다. 헥사메틸디실라잔이 완전히 첨가되면, 반응 용기의 온도를 110℃로 증가시키고 혼합물을 4 시간 반응시킨다. 이어서, 플라스크를 수은 5 내지 20 mm 범위의 진공하에서 150℃로 가열하여 톨루엔을 제거한다. 톨루엔을 완전히 제거한 후, 증류 칼럼을 사용하여 보호된 운데실렌산을 정제한다. 증류는 대략 150℃ 및 10 mm Hg에서 수행된다. 오버헤드 산물을 분리해낸다(산물 B).

적당한 백금 또는 로듐 촉매를 사용하여 하이드로실릴화 반응을 통해 산물 A를 산물 B와 반응시킨다. 산물 A를 백금 촉매와 함께 플라스크에 넣고 물질을 혼합한 다음 80℃로 가열한다. 적당한 촉매의 예와 관련하여, 백금 클로라이드 및 디비닐 테트라메틸 디실록산의 중화 복합체(예를 들면, 미국 특허 제5,175,325호에 기술된 바와 같이) 충분량이 전체 조성물당 Pt 금속 5 내지 15 ppm을 제공하기 위한 농도로 사용될 수 있다. 산물 B를 첨가 깔때기에 넣고 일어나는 발열반응을 조절하기 위하여 조절된 속도로 산물 A에 적가한다. 발열반응이 일어나서 산물 B의 첨가를 모니터하는 데 중요하다. 산물 B의 첨가가 완료된 후, 혼합물을 그 온도에서 추가 시간 동안 반응시킨다. 이어서, 혼합물을 진공하에(예를 들면, 수은 5 내지 20 mm 범위) 150℃로 가열하여 디메틸사이클로실록산 및 미반응 운데실렌산을 제거한다. 이어서, 혼합물을 60℃로 냉각하고 메탄올을 가하여 운데실렌산을 탈보호시킨다. 이러한 반응으로 카복실산 말단블록 실록산 및 트리메틸메톡시 실란이 형성된다. 물질을 적어도 1 시간 동안 60℃에서 반응시키고 이어서 플라스크를 진공하에(예를 들면, 수은 5 내지 20 mm 범위) 150℃로 가열하여 잔류 메탄올과 트리메틸메톡시 실란을 제거한다. 이어서, 디카복실산 작용성 실록산을 분리해낸다(산물 C).

산물 C를 아미드화 반응에서 헥사메틸렌디아민과 반응시킨다. 산물 C 및 톨루엔을 플라스크에 넣고 실온에서 혼합한다. 헥사메틸렌디아민을 산물 C에 가하고 플라스크의 온도를 150℃로 증가시킨다. 플라스크에 딘 스타크 트랩 및 질소 퍼지를 장착하여 물의 제거를 도와 아미드 결합을 형성시킨다. 일단 150℃에서, 반응을 3 내지 4 시간 진행시키고; 톨루엔 및 물을 딘 스타크 트랩으로부터 주기적으로 제거한다. 반응 완료 후, 산물을 용융 상태에서 반응 용기에서 제거한다. 냉각시 실리콘 폴리아미드는 투명한 경질 열가소성 수지를 형성한다(산물 D).

화학식 I의 화합물은 단일 평균 DP 값을 갖는 실록산 이산(또는 산 유도체)를 사용하여 제조될 수 있다.

화학식 II의 화합물은 둘 이상의 디메틸수소 말단블록 실록산을 사용하여 제조될 수 있으며, 이는 제조된 다음 혼합되어 카복실레이트로 전환된 다음, 랜덤 서열의 폴리아미드로 전환된다. 임의로, 두(또는 그 이상) 디메틸수소 말단블록 실록산을 순차적으로 가하여 블록 공중합체를 형성시킬 수 있다.

화학식 III의 화합물은 특정 공정 설명에서 전술한 바와 같이 제조될 수 있지만, 디아민을 혼합한 다음 실록산 이산(또는 산 유도체)에 가하여 폴리아미드를 형성시킨다. 임의로, 이들을 순차적으로 가하여 상이한 블록을 형성시킬 수도 있다.

화학식 IV의 화합물은 특정 공정 설명에서 전술한 바와 같이 제조될 수 있지만, 폴리아민을 디아민과 혼합한 다음 이산(또는 전술한 바와 같이 산 유도체)에 가한다.

폴리디메틸실록산을 표준으로 사용하여 겔 투과 크로마토그래피(GPC)로 측정하여 4,000 달톤 이상의 분자량(수 평균)의 폴리아미드 겔화제로 최적의 겔화가 일어나는 것으로 밝혀졌다. 분자량이 극히 높은(예를 들면, 200,000 달톤 이상) 중합체는 고무질의 탄성 겔을 생성하는 경향이 있고 이는 덜 바람직하며 1차 겔화제에 대한 분자량 최적 범위는 4,000 내지 50,000 달톤, 특히 5,000 내지 50,000 달톤이어야 한다. 그러나, 이러한 고분자량 종의 저수준 혼입, 예를 들면, 20,000 내지 200,000 범위의 분자량을 갖는 고분자량 폴리아미드 0.5 중량% 혼입은 이로부터 제조된 기초 조성물 및 화장품 조성물에 향상된 기계적 성질을 부여하는 것으로 추정된다.

임의로, 폴리아미드 겔화제는 또한 말단 캡핑될 수 있다. 말단 캡핑은 C1-C20 지방족 일가 알콜, C1-C20 지방족 1급 아민, C1-C6 지방족 화합물, C1-C20 지방족 산 및 C1-C20 지방족 산 클로라이드 중에서 선택된 1 내지 3 개의 멤버에 의해 임의로 치환된 페닐 1급 아민으로 이루어진 그룹 중에서 선택된 제제를 사용하여 달성될 수 있다.

주지되는 바와 같이, 본 발명의 기초 및 화장품 조성물에 증점제로서 사용된 실록산-기본 폴리아미드는 실록산 단위 및 아미드 결합 모두를 함유한다. 실록산 단위는 실리콘 유체(예를 들면, 사이클로메티콘)와의 상용성을 제공하는 반면에, 아미드 결합 및 아미드 결합의 스페이싱과 위치 선택은 겔화 및 화장산물의 형성을 촉진한다. 불투명 및 투명 조성물이 형성될 수 있지만, 형성되는 화장품 조성물은 투명하고 실리콘 유체 중의 실록산 중합체 용액 냉각시 잔류물을 남기지 않아야 바람직하다.

본 발명의 폴리아미드 및 실리콘 유체(휘발성 및 비-휘발성 실리콘 유체 포함)(임의로, 다른 용매 및/또는 다른 화장품 첨가제의 첨가)로부터 형성된 기초 조성물은 겔, 연질 고체 및 스틱 같은 형태의 제조 및 각종 활성 성분을 함유하는 화장품 제조를 위한 당분야의 숙련인에 공지된 혼합 및 가열 기술에 의해 제조될 수 있다.

본 발명에 따른 기초 조성물은 (1)적어도 하나의 실리콘 유체; (2)실리콘 유체에 가용성이고 실리콘 유체 중의 용액으로부터 겔을 형성할 수 있는 중합체인 백본에 실록산 부위를 함유하는 실록산-기본 폴리아미드 겔화제; 및 (3)임의로, 적어도 하나의 부가 용매(예를 들면, 즉 선택된 실리콘 유체에 혼화성인 용매)를 포함한다.

실리콘 유체란 화장품 조성물에 통상적으로 사용되는 물질을 의미한다. 적당한 실리콘 유체는 휘발성, 비-휘발성 또는 이들 둘의 혼합물일 수 있다. 이러한 것들로는 디메티콘으로 알려진 직쇄 실록산, 페닐 트리메티콘 같은 방향족 치환을 함유하는 직쇄 실록산 및 C1-C6 알킬 또는 페닐로 임의로 치환된 환에 4 내지 6 개의 실록산 단위를 갖는 각종 사이클릭 실록산, 특히 사이클로메티콘 같은 사이클릭 디메틸 실록산이 있다. 이러한 실리콘 유체의 혼합물도 사용될 수 있다. 적당한 휘발성 실리콘액이 전술한 Kasat의 미국 특허 제5,102,656호에 기재되어 있다. 화장품 조성물에 사용하기 위한 기타 공지의 실리콘 유체의 예는 전술한 Orr의 미국 특허 제4,853,214호에 기재되어 있고 본 발명의 사용에 적합하다. 기타 특정 예로는 직쇄 휘발성 실리콘 유체, 예를 들면, 화장품 조성물에 통용되는 실리콘액이 포함된다.

실리콘 유체에서 가용성이란 중합체가 적어도 고온에서, 그러나 실리콘 유체의 비점 이하에서 실리콘 유체에 용해될 수 있음을 의미한다.

이어서, 기초 조성물을 적어도 하나의 활성 성분(이 자체는 기초 조성물 중으로 혼입되기 위해서는 추가의 비히클을 요할 수 있다) 및 방향제, 연화제(특히, 실리콘-혼화성 연화제), 착색제, 충진제, 항균제(항미생물제) 및 화장품 조성물 형성을 위해 이러한 제품의 제형을 위한 당업자에 공지된 기타 통상적인 성분과 배합한다.

본 발명에 따른 화장품 조성물은 적어도 하나의 실리콘 유체와 실록산-함유 중합체 및 기능적 효과를 갖기에 충분한 양으로 조성물에 혼입되는 적어도 하나의 화장용 활성물질을 포함한다. 이러한 활성물질은 방향제, 선스크린, 항발한제, 탈취제 및 항균제(항미생물제)를 포함하며 이에 한정되지 않는다. 예를 들면, 조성물이 태양으로부터 피부 보호용 조성물일 경우, 조성물이 피부에 적용될 때, 피부가 태양의 유해 효과로부터 보호되도록(예를 들면, 태양의 자외선으로부터 보호) 조성물에 충분량의 선스크린제가 제공된다.

본 발명의 조성물은 극성(예를 들면, 물)상(항발한성 활성물질 포함) 및 오일상(실리콘 유체 및 실록산 중합체 포함)을 갖는 다상 시스템 같은, 다상 시스템을 갖는 투명한 항발한제 조성물의 형성에도 사용될 수 있다. 투명한 다상 시스템을 제공하기 위하여, 오일상과 극성상의 굴절률은 바람직하게는 당업계에서 통상적으로 행하는 바와 같이 매치시켜야 한다.

본 발명에 따른 기초 및 화장품 조성물은 공지의 혼합 절차를 사용하는 것과 같이 당업자에 공지된 방법에 의해 용이하게 제조될 수 있다. 본 발명에 따른 기초 조성물은 각종 성분을 고온에서 혼합하고(즉, 각종 성분을 가열 및 혼합) 이어서 냉각시켜 겔화(고화) 조성물, 예를 들면 겔 또는 스틱으로서 형성시킴으로써 제조될 수 있다. 화장품 조성물의 경우, 첨가 성분은 기술 및 때때로 당업자에 공지된 제조공정으로 혼합물에 첨가된다. 바람직하게는, 휘발 성분의 휘발을 제한하기 이하여, 휘발 성분(예를 들면, 방향제)이 혼합의 비교적 늦은 단계에서 혼합물에 첨가된다.

일반적으로, 용매 및 증점제(예를 들면, 폴리아미드 겔화제)를 혼합하고 가열하여 증점제를 용매에 완전히 용해시킨다. 활성 성분(예: 예를 들면, 건조 형태 또는 용액의 일부로서 항발한 활성물질)은 증점제가 완전히 용해된 후 첨가될 수 있으며, 이어서 혼합이 일어난다. 혼합은 예를 들면, 착색제 및 방향제를 첨가하면서 냉각하에 지속된다. 이어서, 여전히 액체상태인 생성 조성물을 캐니스터, 예를 들면, 분배 패키지에 부어 통상적인 스틱 및 겔 조성물로서 고화시킨다.

본 발명의 예시적이고 비 제한적인 실시예는 다음과 같다. 실리콘-기본 폴리아미드 중합체는 실리콘 유체에, 예를 들면, 고온(예를 들면, 160℃ 이하)에서 용해시켜 용액을 형성하며, 이어서 냉각시켜 겔을 형성한다. 용액은 지나치게 오래 또는 지나치게 높은 온도로 가열하지 않는 것이 바람직한 데, 이유는 이러한 단점은 겔이 (무색이라기 보다는) 착색이 되도록 하기 때문이다. 화장용 활성 성분은 실리콘 유체와 중합체 겔화제의 용액에 첨가하여 산물에 균질하게 분포되도록 혼합된다.

예를 들면, 실리콘 유체 및 실록산-함유 중합체는 고온에서 혼합시켜 중합체를 실리콘 유체에 용해시킬 수 있으며, 화장용 활성 성분은 실리콘 유체 및 중합체의 혼합물에 첨가된다. 혼합물 냉각시, 중합체는 혼합물로터 겔을 형성하여, 목적 산물을 성취한다. 수성상이 포함되는 경우, 에멀션이 생성된다. 본 발명의 기초 조성물은 열 가역성 겔이고; 즉 이들은 냉각시 겔을 형성하며 가열시 액화된다.

제품이 스틱 제품인 경우, 용융 산물은 고온에서 분배 용기에 부어 냉각시켜 그 안에서 경화시킬 수 있다. 산물이 연질 고체 또는 크림인 경우, 산물은 당업계에서 통상적으로 행하는 바와 같이, 다공성 상부면을 지닌 통상적인 분배 용기에 포장될 수 있다.

본 발명에 따른 화장품 조성물이 스틱 제품 형태인 경우, 조성물은 스틱 끝이 노출되도록 패키지 밖으로 스틱을 들어 올리고, 이어서 스틱 끝을 피부에 문질러 피부에 스틱 물질(항발한 활성물질 같은 화장용 활성물질 포함)을 피복함으로써 적용될 수 있다. 본 발명에 따른 조성물은 구멍이 나있는 상부면을 갖는 분배 용기에 포장된 겔 조성물 형태인 경우, 겔은 분배 용기로부터 세공을 통해 압출되며 용기 상부면을 통해 압출된 겔 물질을 피부에 문지름으로써 피부에 적용된다. 따라서, 항발한제의 경우, 피부상의 활성 물질은 신체의 악취 감소 및/또는 예를 들면, 신체의 겨드랑이 지역으로부터의 땀의 흐름 감소에 이용될 수 있다.

본 발명의 폴리아미드는 실리콘 유체 함유 조성물에 증점제로서 사용되어 크림(예를 들면, 반고체 또는 연질 고체), 겔 및 스틱을 형성할 수 있으며; 따라서, 연질(및 죽같은) 또는 견고한(및 경질) 조성물 모두가 형성될 수 있다. 산물의 견고성은 사용된 겔화제의 양에 좌우될 것이다.

명도 및 투명성이 다양한 산물이 형성될 수 있다. 특정 화장품 조성물의 모든 성분이 상호 가용성이면 투명한 화장품 조성물이 형성될 수 있어, 단일상 산물이 생성된다. 각각의 상이 개별적으로 투명하고 각 상의 굴절률이 매치되면, 투명한 화장품 조성물은 또한 다상 조성물, 예를 들면 에멀션 또는 현탁액으로부터도 제조될 수 있다. 아울러, 분산상의 소적(입자) 크기가 0.5 마이크론 이하로 충분히 작을 경우, 투명한 화장품 조성물은 다상 조성물로부터 제조될 수 있다. 이의 예는 마이크로에멀션 및 현탁액 중의 극미립자이다. 전술한 조건이 충족되지 않을 경우, 화장품 조성물은 다양한 정도의 투명 및 불투명성을 보이게 된다.

첨가제를 기초 조성물에 첨가하여 활성성분을 첨가하고, 기계적 성질을 향상시키며, 미학적 성질을 향상시키며, 투명한 산물을 제조하며, 색이 있는 산물을 제조할 수 있다. 따라서, 화장품 조성물은 이어서, 기초 조성물을 하나 이상의 추가 성분, 활성 성분, 하나 이상의 비히클과 배합하여 활성성분을 기초 조성물, 및 방향제, 연화제, 항균제, 경화제, 강화제, 킬레이트화제, 착색제, 유화제 및 실리카, 실리카-기본 수지, 옥수수 전분, 알루미나, 발연 실리카, 탄산칼슘, 점토, 활석, 고분자 중합체(예를 들면, 실리콘 검, 엘라스토머, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 및 폴리테트라플루오로에틸렌) 같은 기타 첨가제를 포함한 화장품용으로 허용되는 산물의 제형화에 당업자에 의해 사용되는 기타 성분과 더욱 용이하게 배합되도록 할 수 있다.

항발한제 에멀션 또는 현탁액 제형의 경우, 외부 겔화 오일상 및 항발한제 활성 성분을 함유하는 분산상이 존재한다. 외부 겔화 오일상은 실리콘 유체와 실록산-기본 폴리아미드 겔화제, 및 연화제, 계면활성제, 방향제 등과 같은 항발한제품을 위한 임의 첨가제를 함유한다.

현탁액에 있어서, 내부의 항발한 활성상은 고체 입자로 이루어진다. 이러한 입자는 항발한성 염 분말(예를 들면, 알루미늄 클로로하이드레이트 또는 알루미늄 지르코늄 테트라클로로하이드렉스 글라이신)일 수 있고 0 내지 75 중량% 수준의 물을 함유할 수 있다. 더 높은 물 수준에서(예를 들면, ＞ 50% 물) 이러한 수적에 강성을 제공하기 위해 약간의 겔화 촉진제(예를 들면, 암모늄 아세테이트)가 요구될 수도 있다.

에멀션의 경우, 분산상은 용해된 항발한성 염을 함유하는 액체 용액으로 이루어지며, 전형적으로 물, 프로필렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜, 트리프로필렌 글리콜, 에탄올 등과 같은 용매를 수반한다.

마이크로에멀션은 또한 투명한 산물의 달성에 사용될 수 있다.

본 발명의 특정 일면에서. 고 효율, 매력적인 외관(예를 들면, 투명하거나 적어도 반투명할 수 있다), 및 바람직하게는 적용시 또는 건조시 실질적으로 어떠한 가시적인(백색) 잔류물도 남기지 않도록 제조되는, 크림(연질 고체 및 반고체 포함), 겔 및 또한 스틱 형태의 탈취제 및/또는 항발한제 조성물이 달성될 수 있다.

기초 조성물에 있어서, 폴리아미드 겔화제는 0.5 내지 80 중량%, 특히 1 내지 30 중량%, 가장 특히 2 내지 20 중량%의 양으로 사용될 수 있다. 겔화제는 기초 조성물의 50 중량%를 초과하지 않는 것이 바람직하다. 실리콘 유체의 비율은 5 내지 95 중량%, 특히 10 내지 80 중량%, 더욱 특히 20 내지 80 중량%이다. 임의로, 부가적인 용매, 용매 혼합물 또는 화장용 첨가제가 기초 조성물에 첨가될 수 있다. 적당한 부가 용매는 그 자체 또는 초기 선택된 실리콘 유체에 혼화성인 기타 용매(예를 들면, C14-C20 지방 알콜, 이소프로필 미리스테이트, 및 PPG-3 미리스틸 에테르)와의 혼합물 형태의 것들이다.

따라서, 겔의 경우, 화장품 조성물의 총 중량을 기준으로 0.5 내지 8 중량%, 바람직하게는 2 내지 6 중량%의 첨가 수준이 사용될 수 있다.

스틱의 경우, 조성물의 총 중량을 기준으로 5 내지 30, 특히 6 내지 20, 더욱 특히 10 내지 15 중량% 범위와 같이 더 높은 수준의 실리콘-기본 폴리아미드가 사용될 것이다.

실록산-기본 폴리아미드 겔화제는 단독 겔화제로서 전술한 바와 같은 하나 이상의 폴리아미드로 이루어질 수 있거나, 다른 증점제(통상적인 겔화제 포함)와 혼합된 폴리아미드를 함유할 수 있다. 실록산 단위는 실리콘 유체와의 상용성을 제공한다. 아미드 부분은 겔 형을 위한 가교결합 목적으로 가역적으로 사용된다.

본 발명에 따른 조성물은 열가역성 겔이며; 즉, 겔은 실리콘 유체 중의 중합체 용액을 냉각시켜 형성되지만, 겔은 이를 가열함으로써 파괴시킬 수 있다(다시 액체 형성).

본 발명의 겔은 실리콘 유체를 포함한다. 이러한 유체는 휘발성 또는 비-휘발성일 수 있고 예를 들면(및 제한 의도가 아닌) 페닐 트리메티콘, 사이클로메티콘 및 /또는 디메티콘을 포함한다. 바람직하게는, 실리콘 유체는 사이클로메티콘을 포함한다. 사용된 사이클로메티콘(즉, 사이클로메티콘의 환 크기)은 형성된 겔의 경도에 영향을 미친다. 즉, 5 개의 실록산 단위를 갖는 사이클로메티콘은 6 개의 실록산 단위를 갖는 물질을 사용하여 생성된 것보다 더 연질의 겔을 생성한다. 사이클로메티콘의 환 크기가 증가함에 따라, 형성된 겔 시스템의 강성도 증가한다. 전술한 바와 같이, 적당한 사이클로메티콘의 예에는 4 내지 6 개의 실록산 단위를 갖는 것들이 포함된다.

이어서, 기초 조성물을 다른 곳에서 수록한 타 성분과 혼합하여 최종 화장품 조성물이 제조될 수 있게 한다. 이러한 부가 성분은 전체 조성물을 100 중량%로 하여 0.1 내지 85 중량%, 특히 0.1 내지 75 중량%, 좀더 특히 0.1 내지 55 중량%의 양으로 사용될 수 있다. 좀더 낮은 % 범위는 방향제 또는 항미생물제만이 사용되는 제형을 포함하며, 좀더 높은 범위는 활성 항발한 성분을 함유하는 제형을 포함한다. 항발한 활성성분 자체는(활성 성분을 제형에 첨가하기 위한 비히클은 제외) 5 내지 30 %의 양으로 최종 화장품 제형에 존재할 수 있다.

본 발명에 따른 화장품 조성물은 또한, 계면활성제 및/또는 화장용 활성물질용 용매를 포함할 수 있다. 예를 들면, 조성물이 항발한 활성물질을 함유하는 항발한제 조성물인 경우, 항발한 활성 물질은 실리콘 유체와 혼화성이 아닐 수 있는, 예를 들면, 물, 에탄올 및/또는 프로필렌 글리콜 중의 용액 형태의 조성물에 포함될 수 있으며, 조성물은 또한 항발한 활성물질의 용액이 조성물에 분산되도록 계면활성제도 포함할 수 있다. 본 발명에 따른 조성물이 탈취제 조성물인 경우, 조성물은 탈취 활성물질로서 통상적인 방향제 및/또는 항균제(항미생물제)를 포함할 수 있다.

화장품 조성물에 혼입된 각종 화장용 활성물질은 내용이 본원에서 완전히 인용되는 Yuhas의 미극 특허 제4,322,400호에 기재되어 있다.

본 명세서 전반에 걸쳐서. "항발한 활성" 및 "탈취 활성" 물질이 논의된다. 두 유형의 물질 모두 신체의 악취, 예를 들면, 겨드랑이 악취의 감소에 기여한다. 신체의 악취 감소란, 일반적으로 조성물을 적용하지 않은 개인의 악취에 비하여, 조성물을 개인의 피부에 적용한 후 신체 악취가 더 적음을 의미한다. 이러한 감소는 악취물질의 악취 은폐, 흡수 및/또는 화학 반응, 예를 들면, 땀으로부터 악취물질을 생성하는 박테리아 수준의 감소, 땀의 감소 등에 기인할 수 있다. 항발한 활성물질은 적당량으로 사용될 경우, 주로 땀을 감소시킴으로써 악취를 감소시키는 작용을 하며; 항발한 활성물질은 또한 예를 들면, 항미생물제 또는 항균제로서의 탈취기능이 있다. 탈취 활성물질은 실질적으로 땀을 감소시키지는 않지만, 다른 방식으로 악취를 감소시킨다. 예를 들면, 악취를 은폐하거나 악취 강도를 감소시키는 방향제; 흡수제; 항미생물제(제균제); 또는 악취성 물질과 화학적으로 작용하는 제제로서.

조성물이 항발한제 활성물질을 함유할 경우, 공지의 항발한 활성물질이 사용될 수 있다. 이러한 것들에는 예를 들면(제한되지 않음), 알루미늄 클로로하이드레이트, 알루미늄 클로라이드, 알루미늄 세스퀴클로로하이드레이트, 지르코닐 하이드록시클로라이드, 알루미늄-지르코늄 글라이신 복합체(예를 들면, 알루미늄 지르코늄 트리클로로하이드렉스 글라이, 알루미늄 지르코늄 펜타클로로하이드렉스 글라이, 알루미늄 지르코늄 테트라클로로하이드렉스 글라이 및 알루미늄 지르코늄 옥토클로로하이드렉스 글라이), 알루미늄 클로로하이드렉스 PG, 알루미늄 클로로하이드렉스 PEG, 알루미늄 디클로로하이드렉스 PG, 및 알루미늄 디클로로하이드렉스 PEG가 포함된다. 알루미늄-함유 물질은 항발한 활성 알루미늄 염으로 통칭될 수 있다. 일반적으로, 전술한 금속 항발한 활성물질은 항발한 활성물질이다. 본 발명에 따른 항발한제 조성물인 양태에서, 이러한 조성물은 알루미늄-함유 금속 염을 포함할 필요가 없으며, 다른 항발한 활성 금속염을 포함한 기타 항발한 활성물질을 포함할 수 있다. 일반적으로, 의사의 처방 없이 팔리는 인간 사용용 항발한 약품에 대한 미국 식품의약국 모노그래프에 수록된 카테고리 I의 활성 항발한 성분이 사용될 수 있다. 또한, 알루미늄 니트라토하이드레이트 및 지르코닐 하이드록시클로라이드 및 니트레이트와의 이의 배합물, 또는 알루미늄-주석 클로로하이드레이트 같이 모노그래프에 수록되지 않은 신약도 본 발명에 따른 항발한제 조성물에 항발한 활성 성분으로 혼입될 수 있다.

항발한 활성물질은 조성물 총 중량의 0.1 내지 30 중량%, 바람직하게는 15 내지 25 중량%의 양으로 본 발명에 따른 조성물에 혼입될 수 있다. 사용되는 양은 조성물의 제형에 따라 좌우될 것이다. 예를 들면, 좀더 넓은 범위의 하한의 양에서(예를 들면, 0.1 내지 10%), 항발한 활성물질은 땀의 흐름을 실질적으로 감소시키지 않겠지만, 예를 들면, 항미생물 물질로서 작용함으로써 악취는 감소시킬 것이다.

탈취제 조성물 제공을 위하여 탈취 활성물질이 본 발명에 따른 조성물에 혼입될 경우, 통상적인 탈취성 방향제 및/또는 항미생물제는 탈취 활성물질로서 혼입될 수 있다. 방향제는 예를 들면, 조성물 총 중량의 0.5 내지 3.0 중량%의 양으로 혼입될 것이다. 공지의 제균제는 2-아미노-2-메틸-1-프로판올(AMP), 세틸-트리메틸암모늄 브로마이드, 세틸 피리디늄 클로라이드, 2,4,4′-트리클로로-2′-하이드록시디페닐에테르(트리클로산 Triclosan), N-(4-클로로페닐)-N′-(3,4-디클로로페닐)우레아(트리클로카반 Triclocarban) 및 각종 아연 염(예를 들면, 아연 리신올리에이트) 같은 제균성 4급 암모늄 화합물을 포함한다. 제균제는 예를 들면, 조성물 총 중량의 0.1 내지 1.0 중량%의 양으로 조성물에 포함될 수 있다. 트리클로산은 예를 들면, 조성물의 총 중량을 기준으로 0.1 내지 약 0.5 중량%의 양으로 포함될 수 있다.

본 발명에 따른 조성물은 방향제, 화장용 파우더, 착색제, 유화제, 연화제, 왁스, 유기실리콘, 지방산 에스테르, 지방 알콜, 밀랍, 베헤녹시 디메티콘, 스테아릴 알콜 등을 포함한(이에 한정되지 않음) 화장품 조성물에 통상적으로 혼입되는 기타 화장용 첨가제, 및 기타 화장용 제제를 포함할 수 있다. 혼입될 수 있는 각종 기타 성분의 경우, Tanner 등의 미국 특허 제5,019,375호(이의 내용은 전부 본원에서 참조로 인용됨); Shin의 미국 특허 제4,937,069호(이의 내용은 전부 본원에서 참조로 인용됨); 및 Kasat의 미국 특허 제5,102,656호(이의 내용은 전부 본원에서 참조로 인용됨)에 기재된 착색제, 방향제 및 첨가제와 같은 임의 성분이 주목된다. 임의 첨가제의 사용은 물론 투명도에 악영향을 미칠 수도 있다.

조성물이 항발한제 조성물인 경우, 조성물은 또한 항발한 활성물질을 위한 용매를 포함할 수 있다. 이러한 용매는 실리콘 유체와 혼화성이 아니며, 예를 들면, 물, 에탄올, 프로필렌 글리콜 및/또는 디프로필렌 글리콜일 수 있다. 항발한 활성물질이 용매 중의 용액에 사용될 경우, 투명한 조성물 성취를 위해, 항발한 활성용액의 굴절률과 조성물의 오일 부분의 굴절률을 매치시키는 것이 필요할 수 있다. 항발한 활성물질이 입상물질로서 기초 조성물에 현탁될 경우, 전술한 바와 같은 투명한 조성물 수득을 위해 활성물질 및 기초 조성물의 굴절률을 매치시키는 것이 필요할 수도 있다. 이러한 굴절률 매칭은 당업계에 공지된 기술이며, 앞서 내용이 전부 본원에서 참조로 인용된 PCT(국제 출원) 공개 번호 WO 92/05767에 실려있다. 항발한 활성물질용 용매는 조성물에 이의 총 중량의 0 내지 75 중량%, 바람직하게는 0 내지 25 중량%의 양으로 포함될 수 있다.

증점제의 용매는 증점제가 용매에 용해될 수 있고 그것으로부터 겔이 형성될 수 있도록 충분한 양으로 조성물에 포함되 있어야 하고 실리콘 유체(예를 들면 사이클로메티콘 및/또는 디메티콘같은 실리콘 오일)를 포함한다. 그래서 증점제가 용매에 용해될 수 있고 예를 들면 그것을 제조하는 동안 조성물을 냉각시켜, 그것으로부터 겔이 형성된다. 용매는 오직 실리콘 유체를 포함하는 물질에 제한하지 않고, 다른 용매가 상용성일 때 ,예를 들면, 활성 화장품 물질과 그리고 불리하게 영향을 끼치지 않는 한, 예를 들면, 조성의 투명도에, 특히 투명한 화장품 조성물을 제공하는 것이 바람직할 때는 증점제에 대한 다른 용매를 포함할 수 있다. 용매로는 에스테르(예를 들면, 이소프로필 미리스테이트 및 C12-C15 알킬 락테이트), 실리콘 유체(예를 들면, 사이클로메티콘, 디메티콘), 탄소수가 8 내지 30 개, 특히 탄소수가 12 내지 22 개인 구어벳 알콜(예를 들면 이소라우릴 알콜, 이소세틸 알콜, 이소스테아릴 알콜), 지방 알콜(예를 들면 스테아릴 알콜, 미리스틸 알콜, 올레일 알콜), 에탄올 및 에톡실화되고 프로폭실화된 알콜(예를 들면, 화학식 CH₃(CH₂)₁₀CH₂(OCH₂CH₂)_bOH를 따르는 라우릴 알콜의 폴리에틸렌 글리콜 에테르, 여기에서 b는 4의 평균가를 갖는다) (또한 라우레스-4로도 불린다), PPG-14 부틸 에테르(여기에서, "PPG-14" 부분은 일반적으로 화학식 H(OCH₂C(CH₃)H)_cOH를 따르는 프로필렌 옥사이드의 중합체이다. 여기에서 c는 14 평균가를 갖는다), 또는 화학식 CH₃(CH₂)₁₂CH₂(OCH(CH₃)CH₂)_dOH를 따르는 미리스틸 알콜의 폴리프로필렌 글리콜 에테르인 PPG-3 미리스틸 에테르(여기에서 d는 3dml 평균가를 갖는다)가 포함되며 이에 한정되지는 않는다. 용매의 혼합물도 사용될 수 있다. 물론, 겔화제는 미국 특허 제5,500,209호에 기재되어 있는 것처럼 적어도 고온에서는 용매 시스템에 용해되야 한다.

본 발명에 따른 조성물은 바람직하게 실리콘 혼화성 연화제를 포함한다. 본 발명에 제한을 두지 않고, 실례가 되는 연화제는 구어벳 알콜(예를 들면, 이소세틸 알콜 또는 이소스테아릴 알콜); 에스테르(예를 들면, 이소프로필 팔미테이트, 이소프로필 이소스테아레이트, 옥틸 스테아레이트, 헥실 라우레이트 및 이소스테아릴 락테이트); 주위 온도에서 액체인 탄화수소의 액체 혼합물(예를 들면, 석유 증류액 및 가벼운 미네럴 오일); 및 에탄올을 포함한다. 실리콘 환화성 용매(또는 연화제로도 불린다)는 조성물 총 중량의 0 내지 70 중량%, 바람직하게는 0 내지 25 중량% 범위내에서 본 발명의 조성물에 포함될 수 있다.

다상 시스템이 본 발명의 조성물로써 이용될 경우 바람직하게는 조성물은 계면활성제 또는 계면활성제 블렌드를 포함한다. 계면활성제는 실례로 알카놀아미드(예를 들면, N-알킬 피롤리돈), 에톡실화 아미드(예를 들면, 일반적으로 화학식 RC(O)-NH-(CH₂CH₂O)_nH를 따르는 탈로우산의 폴리에틸렌 글리콜 아미드, 여기에서, RCO-는 탈로우로부터 유도된 지방산을 나타내고, n은 50의 평균가를 갖는다). (PEG-50 탈로우 아미드로도 불린다)); 아민 옥사이드(예를 들면, 코카미도프로필아민 옥사이드); 에톡실화된 카복실산(예를 들면, 일반적으로 화학식 CH₃(CH₂)₁₀C(O)-(OCH₂CH₂)_nO-C(O)(CH₂)₁₀CH₃을 따르는 라우르산의 폴리에틸렌 글리콜 디에스테르. 여기에서 n은 8 평균가를 갖는다(또한 PEG-8 디라우레이트로도 불린다)); 에톡실화된 글리세라이드(예를 들면, 에틸렌 옥사이드를 평균 4몰 함유한 피마자유의 폴리에틸렌 글리콜 유도체(또한 PEG-4 카스터 오일로도 불린다)); 글리콜 에스테르(예를 들면, 폴리글리세릴 에스테르 리시놀레이트); 모노글리세라이드(예를 들면, 글리세롤 미리스테이트); 폴리글리세릴 에스테르(예를 들면, 폴리글리세릴-4 올레일 에테르); 다가 알콜 에스테르 및 에테르(예를 들면, 슈크로스 디스테아레이트); 소르비탄/소르비탄 에스테르(예를 들면, 소르비탄 세스퀴이소스테아레이트); 인산의 트리에스테르(예를 들면, 트리올레스-8 포스페이트(주로 에틸렌 옥사이드 평균 8몰을 갖는 인산과 에톡실화된 올레일 알콜의 트리에스테르인 물질) ); 에톡실화된 알콜(예를 들면, 라우레스-4); 에톡실화된 라놀린(예를 들면, 에틸렌 옥사이드를 평균 20몰 함유하고 있는 라놀린의 폴리에틸렌 글리콜 유도체(또한 PEG-20 라놀린으로도 불린다)); 에톡실화된 폴리실록산(예를 들면, 디메티콘 코폴리올); 프로폭실화된 폴리옥시에틸렌 에테르(일반적으로 화학식 CH₃(CH₂)₁₄CH₂(OCH(CH₃)CH₂)_x(OCH₂CH₂)_yOH를 따르는 세틸 알콜의 폴리옥시에틸렌 에테르인 폴리옥시프로필렌. 여기에서 x는 5의 평균가를 갖고 y는 20의 평균가를 갖는다.(또한 PPG-5 세테스-20로도 불린다)); 및 알킬폴리글리코사이드(예를 들면, 라우릴 글루코스)을 포함한다. 계면활성제(또는 계면활성제 블렌드)는 비-이온 화합물을 포함하고, 또한 양이온(예를 들면, 일반적으로 화학식 R-NH-(CH₂CH₂O)_nH를 따르는 탈로우산의 폴리에틸렌 글리콜 아민(또한 PEG-15 탈로우 아민으로도 불린다)) 또는 음이온(예를 들면, 이세티온산의 라우르산 에스테르의 나트륨 염인 나트륨 라우로일 이세티오네이트)계면활성제와 그것의 블렌드를 포함한다.

본 발명에 따른 조성물에 인용된 계면활성제 또는 그것의 블렌드는 실례로 조성물 총 중량의 0 내지 15 중량%, 바람직하게는 1 내지 10 중량%로 포함될 수 있다.

앞에서 지적했던 것처럼 본 발명에 따른 조성물은 조성물에 인용된 증점제의 양에 따라 크림(반-고체 또는 연질-고체), 겔 또는 스틱일 수 있다. 화장품 "겔"과 화장품 "스틱"을 양으로 구별하기는 어렵다. 일반적으로 겔은 액체보다, 또는 형태를 유지하기 어려운 페이스트보다 더 점착성을 띤다. 그러나 스틱만큼 단단하지는 않다. 전형적으로 겔은 부드럽고 변형될 수 있는 산물인 반면 스틱은 자유 자립성고체인 것으로 이해된다. 예를 들면, 유동학적인 분석에 의해 시판 탈취 스틱은 고원 저장 계수 G`(ω)가 약 10⁵Pa이고 복합 점도가 10⁶Pa 초(둘 다 0.1 rad-sec 각 도수에서)인 것으로 측정된다. 반면 시판 항발한제 겔은 G`(ω)가 약 10³Pa이고 복합 점도가 10⁴Pa 초(0.1 rad-sec에서) 인것으로 측정된다.

본 발명에 따른 화장품 조성물은 증점제와 폴리아미드 겔화제에 대한 용매를 포함한다(본 특허에서 폴리아미드 겔화제와 겔화제에 대한 용매는 활성 화장품 물질에 대한 매개물을 제공하고 매개물로써 지정되어 왔다).

이련의 바람직한 양태에서, 본 발명에 따른 기초 조성물과 화장품 조성물은 최종 화장품 조성물이 고체 조성물, 예를 들면 겔 또는 스틱이도록 충분한 양의 증점제를 포함한다.

다음에는 본 발명 범위내의 조성물 예가 진술되어 있다. 이 예들은 본 발명의 예들이고 제한하는 것은 아니다. 이 예들에서 조성물의 양은 조성물 총 중량의 중량 퍼센트이다.

본 발명에 따른 화장품 조성물은 통상적인 기술을 사용해서 통상적인 용기에 담을 수 있다. 예를 들면 조성물이 스틱 조성물일 경우 조성물은 여전히 액체 형태인 반면 당 분야에서 통상적으로 실시해온대로 분배용기에 담을 수 있고 거기에서 진해지도록 냉각한다. 겔이나 연질-고체 화장품 조성물이 생산될 경우 당분야에서 통상적으로 실시해온대로 조성물은 분배 용기에 담을 수 있다(예를 들면, 상부 표면이 다공성인 용기). 그 후에 산물은 당 분야에서 통상적으로 실시해온대로 분배 용기로부터 분배되고 활성물질, 예를 들면 피부에 침착시킨다. 이것은 피부에 활성물질의 훌륭한 침착을 제공한다.

조성물이 특정 성분이나 물질을 포함하거나, 또는 방법이 특정 단계를 포함 하는 것으로 기재되는 본 명세서 전반에 걸쳐서, 본 발명의 조성물은 또한 인용된 조성물이나 물질로 필수적으로 구성되거나, 또는 구성되고 인용된 단계로 필수적으로 구성되거나, 또는 구성된다는 것이 본 발명자에 의해 관찰되었다. 따라서, 본 명세서를 통하여 본 발명에 기재된 어떤 조성물도 인용된 조성물이나 물질로 필수적으로 구성되고, 또는 구성되고 본 발명에 기재된 어떤 단계도 인용된 단계로 필수적으로 구성되고, 또는 구성된다.

명세서와 청구항의 모든 퍼센트는 중량에 의한 퍼센트이다.

본 발명의 바람직한 특징은 깨끗하고 투명한 화장품 조성물(예를 들면, 깨끗하거나 투명한 탈취제 또는 항발한제 조성물)이 제공될 수 있다는 것이다. 본 발명에 따른 깨끗하거나 투명하다는 말은 통상 사전적인 정의를 의미하고자 한다. 그래서 예를 들면 본 발명의 깨끗한 스틱 또는 겔 항발한제 조성물은 그것 뒤의 사물이 보이도록 하는 것이다. 반대로 반투명의 조성물은 빛이 통과함에도 불구하고 빛이 분산되어서 반투명의 조성물 뒤의 사물을 확실하게 보는 것은 불가능할 것이다. 불투명한 조성물은 빛이 그것을 통과하지 못한다. 본 발명의 배경내에서 겔 또는 스틱은 400 내지 800 nm 범위의 어느 파장의 빛이 1cm 샘플을 통과하는 최대 투과율이 최소 35%, 바람직하게는 최소 50%일 때 투명하거나 깨끗하다고 간주한다. 그런 샘플을 통과하는 그런 빛의 최대 투과율이 2% 내지 35%일 때 겔이나 스틱은 반투명이라고 간주된다. 빛의 최대 투과율이 2% 이하일 때 겔이나 스틱은 불투명하다고 간주된다. 투과율은 앞서 말한 두께의 샘플을 가시 스펙트럼을 포함하는 범위에서 작동하는 분광광도계, 예를 들면 Bausch & Lomb Spectronic 88 Spectro-Photometer의 광선에 위치시킴으로써 측정될 수 있다. 깨끗하다라는 용어의 정의에 관하여는 유럽 특허 출원 공개 제291,334 A2를 보라. 그래서 본 발명에 관하여 투명(깨끗)과 반투명과 불투명 조성물 사이에는 차이점이 있다.

본 발명의 특정 양태는 폴리아미드를 사용해서 깨끗하고, 최소한 반투명한 겔이나 스틱(예를 들면 항발한제 겔 또는 스틱 조성물)인 본 발명의 고체 조성물을 제조한다.

다음에는 본 발명의 실록산-기본 폴리아미드를 제조하는 특정 합성 실시예가 기재되어 있고, 본 발명의 범위내에서 항발한제나 탈취제 조성물의 특정 실시예가 기재되어 있다. 이 특정 합성 실시예와 실시예는 본 발명과 관련된 예이고 제한하지 않는다. 본 설명서뿐만 아니라 다음에 사용된 명칭은 CTFA International Cosmetic Ingredient Dictionary(4th Ed, 1991)에서 기재되어 있는 것처럼 CTFA(Cosmetics, Toiletry and Fragrance Association,Inc.) 명칭이다. 사전의 목차는 참조문헌에 전체 인용되었다. 본 발명의 설명중 화학 축약어와 기호는 통상적이고 관습적인 의미를 가진다.

달리 언급되지 않으면, 실시예 1 내지 5에 기재된 진공은 수은 5 내지 20 mm 범위이다. 특정한 실록산-기본 폴리아미드가 다음 실시예에서 기재되고 사용된다면 그것은 다른 실록산-기본 폴리아미드(예를 들면, 정제된 실록산 이산, 이무수물, 디에스테르, 또는 이산 클로라이드)가 또한 사용되고 본 발명의 범위와 취지내에 있다고 이해된다.

실시예 1-5: 실록산-기본 폴리아미드의 제조

실시예1

온도계, 전기 교반기 및 응축 장치가 장치된 3000ml의 3-목 플라스크에 디메틸사이클로실록산 1427.2g, 테트라메틸이수소 디실록산 172.8g 및 트리플루오르메탄 황산 1.3g을 넣는다. 플라스크는 80℃까지 가열되고, 이 온도에서 4시간 동안 유지된다. 4시간 후에 중탄산나트륨 25g이 첨가되고 플라스크의 내용물은 80℃에서 2시간 동안 혼합된다. 반응산물(15DP 디메틸수소 말단블록 폴리디메틸 실록산)은 0.8 마이크론 여과지를 사용해서 여과한다. 온도계, 전기 교반기, 응축 장치 및 질소 퍼지가 장치된 2000ml 플라스크에 산물(15DP 디메틸수소 말단블록 폴리디메틸 실록산) 800g과 충분한 양의 중화된 백금 염소 복합제가 첨가되고 디비닐 테트라메틸 디실록산을 전체 조성물 당 5 내지 15 ppm Pt 금속의 농도가 되도록 첨가한다. 혼합물은 혼합되면서 80℃까지 가열된다. 게다가 깔때기에 트리메틸실릴로 보호된 운데실렌산 325.0g을 둔다. 그 물질을 반응물에 방울로 떨어뜨려 첨가하면 발열이 관찰된다. 첨가가 완전히 이루어지면 온도는 110℃까지 올라가고 혼합물은 좀 더 반응하도록 한다. 온도는 약 1시간 동안 진공하에서 150℃까지 올라간다. 진공상태를 제거하고 반응물을 60℃ 이하로 냉각한다. 일단 60℃ 이하로 떨어지면 메탄올 110.0g이 반응물에 첨가되고 온도는 60℃로 세팅한다. 2시간 후에 진공하에 온도를 150℃까지 올려서 나머지 메탄올과 트리메틸메톡시실란을 제거한다. 온도계, 전기 교반기, 응축 장치, 질소 퍼지 및 딘 스타크 트랩이 장치된 500ml 플라스크에 산물(15DP 카복실산 말단블록 실록산) 100g, 톨루엔 20g, 헥사메틸렌디아민 7.19g을 첨가한다. 반응 온도는 4시간 동안 150℃까지 올라간다. 반응 동안 물과 톨루엔은 주기적으로 딘 스타크 트랩으로부터 제거된다. 최종 실리콘 폴리아미드는 여전히 녹은 상태로 약 150℃에서 붓는다.

실시예 2

온도계, 전기 교반기 및 응축 장치가 장치된 3000ml의 3-목 플라스크에 디메틸사이클로실록산 2000.0g, 테트라메틸디수소 디실록산 129.9g 및 트리플루오르메탄 황산 1.6g을 넣는다. 플라스크는 80℃까지 가열되고, 이 온도에서 4시간 동안 유지된다. 4시간 후에 탄산칼슘 45g이 첨가되고 플라스크의 내용물은 80℃에서 2시간 동안 혼합된다. 반응산물은 0.8 마이크론 여과지를 사용해서 여과한다. 온도계, 전기 교반기, 응축 장치 및 질소 퍼지가 장치된 2000ml 플라스크에 산물(30DP 디메틸수소 말단블록 폴리디메틸 실록산) 816g과 실시예 1에서 기재된 것처럼 충분한 양의 백금 촉매가 첨가된다. 혼합물은 혼합되면서 80℃까지 가열된다. 게다가 깔때기에 트리메틸실릴로 보호된 운데실렌산 189.0g을 둔다. 그 물질을 반응물에 방울로 떨어뜨려 첨가하면 발열이 관찰된다. 첨가가 완전히 이루어지면 온도는 110℃까지 올라가고 혼합물은 좀 더 반응하도록 한다. 온도는 약 1시간 동안 진공하에서 150℃까지 올라간다. 진공상태를 제거하고 반응물을 60℃ 이하로 냉각한다. 일단 60℃ 이하로 떨어지면 메탄올 57.1g이 반응물에 첨가되고 온도는 60℃로 세팅한다. 2시간 후에 진공하에 온도를 150℃까지 올려서 나머지 메탄올과 트리메틸메톡시실란을 제거한다. 온도계, 전기 교반기, 응축 장치, 질소 퍼지 및 딘 스타크 트랩이 장치된 500ml 플라스크에 산물(30DP 카르복실산 말단블록 실록산) 250g, 톨루엔 40g, 헥사메틸렌디아민 10.9g을 첨가한다. 반응 온도는 4시간 동안 150℃까지 올라간다. 반응동안 물과 톨루엔은 주기적으로 딘 스타크 트랩으로부터 제거된다. 최종 실리콘 폴리아미드는 여전히 녹은 상태로 약 150℃에서 붓는다.

실시예 3

온도계, 전기 교반기 및 응축 장치가 장치된 2000ml의 3-목 플라스크에 디메틸사이클로실록산 1394.4g, 테트라메틸디수소 디실록산 5.6g 및 트리플루오르메탄 황산 0.67g을 넣는다. 플라스크는 80℃까지 가열되고, 이 온도에서 4시간 동안 유지된다. 4시간 후에 탄산칼슘 35g이 첨가되고 플라스크의 내용물은 80℃에서 2시간 동안 혼합된다. 반응산물은 0.8 마이크론 여과지를 사용해서 여과한다. 온도계, 전기 교반기, 응축 장치 및 질소 퍼지가 장치된 2000ml 플라스크에 산물(500DP 디메틸수소 말단블록 폴리디메틸 실록산) 1200g과 실시예 1에서 기재된 것처럼 충분한 양의 백금 촉매가 첨가된다. 혼합물은 혼합되면서 80℃까지 가열된다. 게다가 깔때기에 트리메틸실릴로 보호된 운데실렌산 16.5g을 둔다. 그 물질을 반응물에 방울로 떨어뜨려 첨가하면 발열이 관찰된다. 첨가가 완전히 이루어지면 온도는 110℃까지 올라가고 혼합물은 좀 더 반응하도록 한다. 온도는 약 1시간 동안 진공하에서 150℃까지 올라간다. 진공상태를 제거하고 반응물은 60℃ 이하로 냉각된다. 일단 60℃ 이하로 떨어지면 메탄올 30.0g이 반응물에 첨가되고 온도는 60℃로 세팅한다. 2시간 후에 진공하에 온도를 150℃까지 올려서 나머지 메탄올과 트리메틸메톡시실란을 제거한다. 온도계, 전기 교반기, 응축 장치, 질소 퍼지 및 딘 스타크 트랩이 장치된 2000ml 플라스크에 산물(500DP 카복실산 말단블록 실록산) 988.5g, 톨루엔 75g, 헥사메틸렌디아민 3.07g을 첨가한다. 반응 온도는 4시간 동안 150℃까지 올라간다. 반응 동안 물과 톨루엔은 주기적으로 딘 스타크 트랩으로부터 제거된다. 최종 실리콘 폴리아미드는 여전히 녹은 상태로 약 150℃에서 붓는다.

실시예 4

온도계, 전기 교반기 및 응축 장치가 장치된 2000ml의 3-목 플라스크에 디메틸사이클로실록산 1536.0g, 테트라메틸디수소 디실록산 64.0g 및 트리플루오르메탄 황산 1.3g을 넣는다. 플라스크는 80℃까지 가열되고, 이 온도에서 4시간 동안 유지된다. 4시간 후에 중탄산나트륨 25g이 첨가되고 플라스크의 내용물은 80℃에서 2시간 동안 혼합된다. 반응산물은 0.8 마이크론 여과지를 사용해서 여과한다(45DP 디메틸수소 말단블록 폴리디메틸 실록산). 온도계, 전기 교반기 및 응축 장치가 장치된 3000ml 플라스크에 디메틸사이클로실록산 2000.0g, 테트라메틸디수소 디실록산 129.9g 및 트리플루오르메탄 황산 1.67g을 넣는다. 플라스크는 혼합되면서 80℃까지 가열되고, 이 온도에서 4시간 동안 유지된다. 4시간 후에 탄산칼슘 45g이 첨가되고 플라스크의 내용물은 80℃에서 2시간 동안 혼합된다. 반응산물은 0.8 마이크론 여과지를 사용해서 여과한다(30DP 디메틸수소로 말단블록 폴리디메틸 실록산). 온도계, 전기 교반기, 응축 장치,질소 퍼지가 장치된 2000ml 플라스크에 산물(45DP 디메틸수소 말단블록 폴리디메틸 실록산) 250g과 산물 Ⅱ(30DP 디메틸수소 말단블록 폴리디메틸 실록산) 1250g과 실시예 1에서 기재된 것처럼 충분한 양의 백금 촉매가 첨가된다. 혼합물은 혼합되면서 80℃까지 가열된다. 게다가 깔때기에 트리메틸실릴 보호된 운데실렌산 334g을 둔다. 물질을 반응물에 방울로 첨가하면 발열이 관찰된다. 첨가가 완전히 이루어지면 온도는 110℃까지 올라가고 혼합물은 좀 더 반응하도록 한다. 온도는 약 1시간 동안 진공하에서 150℃까지 올라간다. 진공상태가 사라지고 반응물은 60℃ 이하로 냉각된다. 일단 60℃ 이하로 떨어지면 메탄올 85.0g이 반응물에 첨가되고 온도는 60℃로 세팅한다. 2 시간 후에 진공하에 온도를 150℃까지 올려서 나머지 메탄올과 트리메틸메톡시실란을 제거한다. 온도계, 전기 교반기, 응축 장치, 질소 퍼지 및 딘 스타크 트랩이 장치된 2000ml 플라스크에 산물(45DP 및 30DP 카복실산 말단블록 실록산) 1485.1g, 톨루엔 100g, 헥사메틸렌디아민 63.0g을 첨가한다. 반응 온도는 4 시간 동안 150℃까지 올라간다. 반응 동안 물과 톨루엔은 주기적으로 딘 스타크 트랩으로부터 제거된다. 최종 실리콘 폴리아미드는 여전히 녹은 상태로 약 150℃에서 붓는다.

실시예 5

온도계, 전기 교반기 및 응축 장치가 장치된 3000ml의 3-목 플라스크에 디메틸사이클로실록산 2000.0g, 테트라메틸디수소 디실록산 129.9g 및 트리플루오르메탄 황산 1.6g을 넣는다. 플라스크는 80℃까지 가열되고, 이 온도에서 4 시간 동안 유지된다. 4 시간 후에 탄산칼슘 45g이 첨가되고 플라스크의 내용물은 80℃에서 2 시간 동안 혼합된다. 반응산물은 0.8 마이크론 여과지를 사용해서 여과한다. 온도계, 전기 교반기, 응축 장치, 질소 퍼지가 장치된 2000ml 플라스크에 산물(30DP 디메틸수소 말단블록 폴리디메틸 실록산) 816g과 실시예 1에서 기재된 것처럼 충분한 양의 백금 촉매가 첨가된다. 혼합물은 혼합되면서 80℃까지 가열된다. 게다가 깔때기에 트리메틸실릴 보호된 운데실렌산 189.0g을 둔다. 그 물질을 반응물에 방울로 첨가하면 발열이 관찰된다. 첨가가 완전히 이루어지면 온도는 약 1 시간 동안 진공하에서 150℃까지 올라간다. 진공상태가 사라지고 반응물은 60℃ 이하로 냉각된다. 일단 60℃ 이하로 떨어지면 메탄올 57.1g이 반응물에 첨가되고 온도는 60℃로 세팅한다. 2 시간 후에 진공하에 온도를 150℃까지 올려서 나머지 메탄올과 트리메틸메톡시실란을 제거한다. 온도계, 전기 교반기, 응축 장치, 질소 퍼지 및 딘 스타크 트랩이 장치된 500ml 플라스크에 산물(30DP 카복실산 말단블록 실록산) 150g, 톨루엔 39.1g, 헥사메틸렌디아민 5.71g 및 트리스(2-아미노에틸)아민 72g을 첨가한다. 반응 온도는 4 시간 동안 150℃까지 올라간다. 반응 동안 물과 톨루엔은 주기적으로 딘 스타크 트랩으로부터 제거된다. 최종 실리콘 폴리아미드는 여전히 녹은 상태로 약 150℃에서 붓는다.

제형 실시예

다음 제형 실시예는 본 발명의 예이다. 제형 실시예에 관하여, 실시예 2의 실록산-기본 폴리아미드는 그런 물질의 합성에서 상기에 기재된 물질이다.

실시예 A: 탈취제 스틱

다음 물질이 결합된다. 제시된 양은 조성물 총 중량에 기초한 중량의 퍼센트이다.

실시예 2의 실록산-기본 폴리아미드(겔화제) 20%

사이클로메티콘(실리콘 유체) 79%

방향제(탈취 활성물질) 1%

총량 100%

실시예 B

다음은 투명한 항발한제 스틱의 일반적인 포뮬러이다.

성분 범위 바람직한 범위

w/w % w/w %

오일상

실록산-기본 폴리아미드 겔화제 6 내지 20 10 내지 15

실리콘 유체 10 내지 90 20 내지 50

화장품 첨가제 0 내지 40 5 내지 21

및/또는 용매

방향제, 착색제 충분량 충분량

극성상

물 및/또는 수-혼화성 용매 10 내지 40 15 내지 25

항발한 활성물질 5 내지 30 15 내지 25

계면활성제 0 내지 10 0.5 내지 3

총량 100 100

일반적인 제조 과정:

1)방향제를 제외하고 모든 오일상 조성물을 케틀로 무게를 달고 혼합해서 투명해질 때까지 가열하고 70 내지 80℃까지 냉각시킨다.

2)계면활성제를 제외하고 모든 극성상 조성물을 분리된 케틀로 무게를 달고 혼합하고 투명해질 때까지 가열한다. 투명해졌을 때 염 용액에 계면활성제를 첨가한다. 극성상이 70 내지 80℃가 될 때까지 계속 가열한다.

3)공기 혼입을 막기 위해서 적당한 교반을 하면서 뜨거운 극성상을 뜨거운 오일상에 첨가한다.

4)계속 혼합을 하고 55 내지 65℃까지 냉각시킨 다음 방향제를 첨가한다.

5)겔이 형성되는 온도 이상인 5 내지 10℃까지 냉각을 계속하고 용기에 붓는다.

실시예 C

뛰어난 미학의 다음의 투명한 항발한제 스틱은 실시예 B에서 기재된 일반적인 제조 과정으로 제조된다.

성분 w/w %

오일상

실시예 2의 실록산-기본 폴리아미드 12.00

트리메틸화된 실리카(Dow Corning^R749) 2.50

비헤녹시 디메티콘(Abil^RWax 2440) 2.50

사이클로메티콘(Dow Corning^R245) 29.37

페닐 트리메티콘(Dow Corning^R556) 10.00

이소스테아릴 알콜(Prisorine^R3515) 0.50

극성상

탈이온수 22.13

Al Zr 테트라클로로하이드렉스 글리(Rezal^R36 GP) 20.00

폴리소르베이트 20 1.00

실시예 D - E

실시예 D 및 E는 아래에 기재된 조성물을 사용해서 실시예 B에서 기재된 방법으로 만들어졌다. 실시예 D 및 E는 독립된 훈련된 심사위원단에 의해 검사를 받았고 우수한 시판 투명한 항발한제 스틱보다도 아주 뛰어난 미감(점성 및 습기)을 갖는 것으로 판명되었다: 우수한 시판 투명한 탈취제보다도 뛰어난 미감(점성); 그리고 우수한 시판 현탁 항발한제 스틱과 비슷한 미감(점성).

성분 실시예 D 실시예 E

% w/w % w/w

오일상

사이클로메티콘(Dow Corning^R245) 23.35 28.29

실시예 2의 실록산-기본 폴리아미드 12.00 15.00

PPG-3 미리스틸 에테르(Witconol^RAPM) 16.30 ---

비헤녹시 디메티콘(Abil^Rwax 2440) 2.00 1.50

이소스테아릴 알콜(Prisorine^R3515) 0.50 0.50

페닐 트리메티콘(Dow Corning^R556) 5.00 10.00

트리메틸화된 실리카(Dow Corning^R749) --- 1.50

극성상

탈이온수 18.85 21.21

Al Zr 테트라클로로하이드렉스 글리 20.00 20.00

(Rezal^R36 GP)

디메티콘 코폴리올(Dow Corning^R193) 2.00 2.00

실시예 F - G

실시예 F 및 G의 다음 조성물은 아래에 기재된 조성물을 사용해서 실시예 B에 기재된 방법으로 제조된다. 이 조성물을 항발한제 성질을 검사했고 우수한 시판 현탁 항발한제 스틱과 동등한 효과를 나타냈다.

성분 실시예 F 실시예 G

% w/w % w/w

오일상

사이클로메티콘(Dow Corning^R245) 23.60 22.42

실시예 2의 실록산-기본 폴리아미드 12.00 12.00

PPG-3 미리스틸 에테르(Witconol^RAPM) 16.30 16.30

비헤녹시 디메티콘(Abil^Rwax 2440) 2.00 2.00

이소스테아릴 알콜(Prisorine^R3515) 0.50 0.50

페닐 트리메티콘(Dow Corning^R556) 5.00 5.00

극성 상

탈이온수 19.60 16.78

Al Zr 테트라클로로하이드렉스 글리 20.00 20.00

(Rezal^R36 GP)

디메티콘 코폴리올(Dow Corning^R193) 1.00 5.00

겔 실시예

겔 실시예 1

다음 겔 실시예는 아래 표에 기재된 조성물을 사용해서 다음 방법으로 제조된다. 모든 퍼센트는 조성물의 총 중량에 기초한 중량이다. 사이클로메티콘같은 실리콘 유체와 겔화제(본 발명의 실록산-기본 폴리아미드 겔화제)는 무게를 측정하고 모든 겔화제가 용융될 때까지 유리 비커에 넣어서 가열하고 교반한다(1분에 250회 ). 전형적으로 이것은 100℃에서 일어난다. 오일상의 조성물의 나머지는 모든 겔화제가 완전히 용해된 후에 배치에 첨가하고 10분동안 계속 혼합한다. 극성상 조성물은 1분에 300회 회전을 하는 속도로 교반하면서 10분 동안 천천히 첨가한다. 혼합은 온도를 85℃로 유지하면서 1분에 400회 회전하는 속도로 15분간 계속된다. 그리고 나서 배치는 가열된 균질기로 옮겨지고 2분 동안 균질화한다. 방향제(사용된다면)는 그 후 첨가되고 혼합은 계속된다. 배치는 여전히 뜨겁고 그렇게 세팅된 용기로 옮겨진다. (특정 교반 속도가 상기에 기재된 것을 주시하라. 다른 낮은 교반 속도는 250rpm이 될 수도 있다; 일반적인 교반 속도는 300 내지 400rpm으로 대치될 수도 있다). 일반적으로 조성물에 대한 적당한 범위는 다음과 같다.

오일상 (50 내지 70%)

실록산-기본 폴리아미드 0.5 내지 8.0% 바람직하게 2 내지 6%

실리콘 유체 20 내지 60% 바람직하게 35 내지 45%

화장품 첨가제(들)

및/또는 용매 0 내지 20% 바람직하게 7 내지 15%

계면활성제 0 내지 10% 바람직하게 3 내지 7%

방향제 0 내지 3% 바람직하게 1 내지 2%

극성상(50 내지 30%)

물(및/또는 물에 용해되는 5 내지 40% 바람직하게 15 내지 25%

용매)

항발한제 활성 10 내지 25% 바람직하게 15 내지 25%

계면활성제 0 내지 5% 바람직하게 1 내지 2%

겔 실시예 2

오일상 중량 퍼센트

성분 %

사이클로메티콘(Dow Corning^R245) 41.15

실시예 2의 실록산-기본 폴리아미드 2.35

사이클로메티콘 및 디메티콘 코폴리올 6.00

(Dow Corning^R3225C)

이소프로필 미리스테이트 4.50

PPG-3 미리스틸 에테르 4.50

방향제 1.00

옥틸메톡시 신나메이트 0.50

총량 60.0000

극성상

성분 %

알루미늄 클로로하이드레이트 40.00

(50% 수용액)

40.000

총계 100.00

겔 실시예 3

오일상

조성물 %

사이클로메티콘(Dow Corning^R245) 38.00

실시예 2의 실록산-기본 폴리아미드 6.00

사이클로메티콘 및 디메티콘 코폴리올 6.00

(Dow Corning^R3225C)

이소프로필 미리스테이트 4.50

PPG-3 미리스틸 에테르 4.50

방향제 1.00

총계

60.0000

극성 상

조성물 %

알루미늄 클로로하이드레이트 40.00

(50% 수용액)

총량

40.000

겔 실시예 4: 투명한 겔

겔 실시예 1에 기재된 방법이 다음 조성물로 목록에 있는 중량 퍼센트 양으로 반복된다.

오일상

사이클로메티콘 41.15%

실시예 2의 실록산-기본 폴리아미드 2.35%

사이클로메티콘/디메티콘 코폴리올 6.0%

이소프로필 미리스테이트 4.5%

PPG-3 미리스틸 에테르 4.5%

방향제 1.0%

옥틸 메톡시 신나메이트 0.5%

극성상

알루미늄 클로로하이드레이트 40.0%

(50% 수용액)

현탁 스틱 실시예 1:

실시예 2의 실록산-기본 폴리아미드(최종 조성물의 20 중량 퍼센트)를 사이클로메티콘(55중량 퍼센트)에 넣고 혼합물을 95℃까지 가열하고 교반해서 용해시킨다. 모든 겔화제가 용해되면 혼합물은 75℃까지 냉각된다. Al/Zr 테트라클로로하이드렉스 글리(24 중량 퍼센트, Reach^R908)을 교반하면서 첨가한다. 혼합물은 70℃까지 냉각되고 방향제(1중량 퍼센트)를 교반하면서 넣어준다. 혼합물을 적절한 용기에 부어서 냉각한다.

Claims

화학식 A 단위로부터 형성된 실록산-기본 폴리아미드.

화학식 A

상기식에서,

(1)n은 1 내지 500으로 이루어진 그룹에서 선택된 수이며, 여기에서 n은 폴리아미드내 단위의 수이고;

(2)DP는 폴리아미드의 실록산 부위의 중합도에 대한 평균값이며 1 내지 700으로 이루어진 그룹에서 선택되며;

(3)X는 1 내지 30 개의 탄소를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬렌이며;

(4)R¹내지 R⁴각각은 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 실록산 쇄 및 페닐로 이루어진 그룹 중에서 독립적으로 선택되며, 여기에서 페닐은 메틸 및 에틸로 이루어진 그룹으로부터의 1 내지 3 개의 멤버에 의해 임의로 치환될 수 있으며;

(5)Y는 1 내지 40 개의 탄소를 갖는 직쇄 또는 측쇄 알킬렌으로 이루어진 그룹 중에서 선택되며,

(a)알킬렌 그룹은 알킬렌 부위에 임의로 및 추가로 (i)1 내지 3 개의 아미드 결합, (ii)C5 및 C6 사이클로알칸; 및 (iii)C1-C3 알킬로 이루어진 그룹 중에서 독립적으로 선택된 1 내지 3 개의 멤버에 의해 임의로 치환된 페닐렌으로 이루어진 그룹으로부터의 적어도 하나의 멤버를 함유할 수 있고;

(b)알킬렌 그룹 자체는 (i)하이드록시; (ii)C3-C8 사이클로알칸; (iii)C1-C3 알킬로 이루어진 그룹 중에서 독립적으로 선택된 1 내지 3 개의 멤버; C1-C3 알킬로 이루어진 그룹 중에서 독립적으로 선택된 1 내지 3 개의 멤버에 의해 임의로 치환된 페닐; (iv)C1-C3 알킬 하이드록시; 및 (v)C1-C6 알킬 아민으로 이루어진 그룹 중에서 선택된 적어도 하나의 멤버에 의치 임의로 치환될 수 있거나;

Y는 Z일 수 있고 Z = T(R²⁰)(R²¹)(R²²)이고 여기에서 R²⁰, R²¹및 R²²각각은 직쇄 및 측쇄 C1-C10 알킬렌으로 이루어진 그룹 중에서 독립적으로 선택되며; T는 CR(여기에서, R은 수소, R¹내지 R⁴에 대해 정의된 그룹으로 이루어진 그룹으로 이루어진 그룹 중에서 선택된다), 및 N, P 및 Al 중에서 선택된 3가 원자로 이루어진 그룹 중에서 선택되며;

X, Y, DP, 및 R¹내지 R⁴에 대한 각각의 값은 폴리아미드내 각 단위에 대하여 동일하거나 상이할 수 있다.
제 1 항에 있어서, 폴리아미드 중의 각각의 DP가 15 내지 500 범위의 수인 폴리아미드.
제 1 항에 있어서, 폴리아미드 중의 각각의 DP가 15 내지 45 범위의 수인 폴리아미드.
제 1 항에 있어서, 폴리아미드 중의 n 값이 1 내지 100 범위의 수인 폴리아미드.
제 1 항에 있어서, 폴리아미드 중의 n 값이 4 내지 25 범위의 수인 폴리아미드.
제 1 항에 있어서, X가 3 내지 10 개의 탄소를 갖는 폴리아미드.
제 1 항에 있어서, X가 10 개의 탄소를 갖는 폴리아미드.
제 1 항에 있어서, 폴리아미드 중의 각각의 Y가 동일하거나 상이할 수 있고 2 내지 6 개의 탄소를 갖는 폴리아미드.
제 1 항에 있어서, R¹내지 R⁴각각이 메틸 및 에틸 중에서 선택되는 폴리아미드.
제 1 항에 있어서, R¹내지 R⁴각각이 메틸인 폴리아미드.
제 1 항에 있어서, 폴리아미드가 화학식 I의 구조를 갖는 폴리아미드.

화학식 I

상기식에서,

폴리아미드의 각 단위내 X, Y, DP, 및 R¹내지 R⁴의 값은 제 1 항에서 정의한 바와 같다.
제 11 항에 있어서, R¹, R², R³및 R⁴각각이 메틸인 폴리아미드.
제 12 항에 있어서, 하기 화학식을 갖는 폴리아미드.

화학식

상기식에서,

DP는 15 내지 500이다.
제 13 항에 있어서, DP가 15 내지 45인 폴리아미드.
제 1 항에 있어서, 폴리아미드가 화학식 II로 나타낸 바와 같은 다중 실록산 블록 길이를 포함하는 폴리아미드.

화학식 II

상기식에서,

DP1 및 DP2는 DP에 대해 정의한 그룹으로부터 각각 독립적으로 선택되고;

m은 n에 대해 정의한 바와 동일한 그룹으로부터 선택되며, n 및 m은 괄호안에 포함된 단위의 총수를 나타내며, 개별 단위는 규칙, 교번, 블록 또는 랜덤 순서로 배열되며;

R⁵내지 R⁸은 R¹내지 R⁴에 대해 정의한 동일 그룹으로부터 각각 독립적으로 선택된다.
제 15 항에 있어서, R¹내지 R⁸각각이 메틸인 폴리아미드.
제 15 항에 있어서, DP1이 DP2인 폴리아미드.
제 15 항에 있어서, R¹내지 R⁸각각이 메틸이고 DP1이 DP2인 폴리아미드.
제 1 항에 있어서, 폴리아미드가 화학식 III의 구조를 갖는 폴리아미드.

화학식 III

상기식에서,

Y¹은 Y에 대해 정의한 바와 동일한 그룹으로부터 선택된다.
제 19 항에 있어서, R¹내지 R⁸각각이 메틸인 폴리아미드.
제 19 항에 있어서, DP1이 DP2인 폴리아미드.
제 20 항에 있어서, R¹내지 R⁸각각이 메틸이고 DP1이 DP2인 폴리아미드.
제 1 항에 있어서, 폴리아미드가 화학식 IV의 구조를 갖는 폴리아미드.

화학식 IV

상기식에서,

R⁹내지 R¹²각각은 R¹내지 R⁴에 대해 정의한 그룹으로부터 독립적으로 선택되며;

Z = T(R²⁰)(R²¹)(R²²)이고 R²⁰, R²¹및 R²²각각은 직쇄 및 측쇄 C1-C10 알킬렌으로 이루어진 그룹 중에서 독립적으로 선택되며;

T는 CR(여기에서, R은 수소, R¹내지 R⁴에 정의한 그룹으로 이루어진 그룹 중에서 선택된다), 및 N, P 및 Al 중에서 선택된 삼가 원자로 이루어진 그룹 중에서 선택된다.
제 23 항에 있어서, DP1 내지 DP3 각각이 15 내지 45 범위에서 독립적으로 선택되는 폴리아미드.
제 23 항에 있어서, m이 m+n+p의 5 내지 20%인 폴리아미드.
제 23 항에 있어서, R¹내지 R¹²가 각각 메틸인 폴리아미드.
제 24 항에 있어서, T가 N인 폴리아미드.
제 23 항에 있어서, R²⁰, R²¹및 R²²각각이 에틸렌인 폴리아미드.
제 23 항에 있어서, Z가 (-CH₂CH₂)₃N인 폴리아미드.
제 23 항에 있어서, 화학식 IV를 갖는 폴리아미드.

화학식 IV

상기식에서,

X는 -(CH₂)₁₀-이고,

Y는 -(CH₂)-이며,

DP는 15 내지 45이며,

m은 m-n-p의 5 내지 20%이며,

Z는 (-CH₂CH₂)₃N이다.
(a)조성물의 총 중량을 기준으로 제 1 항에 따른 적어도 하나의 실록산-기본 폴리아미드 0.5 내지 80 중량%;

(b)실리콘 유체 5 내지 95 중량%; 및

(c)(a)+(b)가 100%가 아닐 경우, 용매로 이루어진 그룹에서 선택되는, 100%를 만들기에 충분한 분량의 용매를 배합하여 제조된 기초 조성물.
(a)(i)조성물의 총 중량을 기준으로 제 1 항에 따른 적어도 하나의 실록산-기본 폴리아미드 0.5 내지 80 중량%;

(ii)실리콘 유체 5 내지 95 중량%를 배합하여 제조된 기초 조성물; 및

(b)화장용 활성 첨가제 및 화장용으로 허용되는 용매로 이루어진 그룹 중에서 선택된 적어도 하나의 부가 성분(첨가된 부가 성분의 총량은 화장품 조성물의 총 중량을 기준으로 0.1 내지 85 중량% 범위이다)을 배합하여 제조된 화장품 조성물.
제 32 항에 있어서, 겔이고 실록산-기본 폴리아미드의 양이 0.5 내지 8% 범위인 화장품 조성물.
제 32 항에 있어서, 스틱이고 실록산-기본 폴리아미드의 양이 5 내지 30% 범위인 화장품 조성물.
조성물의 총 중량을 기준으로,

(a)(i)제 1 항에 따른 적어도 하나의 실록산-기본 폴리아미드 0.5 내지 80 중량%;

(ii)실리콘 유체 5 내지 95 중량%; 및

(iii)임의로, 적어도 하나의 용매 40 중량% 이하를 배합하여 제조된 기초 조성물; 및

(b)(i)항발한 활성물질 0.1 내지 30 중량%;

(ii)방향제 0.5 내지 3.0 중량%;

(iii)제균제 0.2 내지 1.0 중량%; 및

(iv)계면활성제 0 내지 15 중량%;

(v)유효량의 선스크린;

(vi)유효량의 곤충 기피제로 이루어진 그룹 중에서 선택된 적어도 하나의 부가 성분 0.1 내지 85 중량%; 및

(c)물 및 기타 화장용으로 허용되는 성분 중에서 선택된 적어도 하나의 부가 성분을 배합하여 제조된 화장품 조성물.
제 35 항에 있어서, 실록산-기본 폴리아미드의 양이 0.5 내지 8 중량% 범위인 화장품 조성물.
제 35 항에 있어서, 실록산-기본 폴리아미드의 양이 6 내지 20 중량% 범위인 화장품 조성물.
제 35 항에 있어서, 실리콘 유체가 휘발성 실리콘, 비-휘발성 실리콘 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 화장품 조성물.
제 38 항에 있어서, 실리콘 유체가 디메티콘, 페닐 트리메티콘, 및 C1-C6 알킬 또는 페닐에 의해 임의로 치환된 환에 4 내지 6 개의 실록산 단위를 갖는 사이클릭 실록산으로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 화장품 조성물.
제 32 항에 있어서, 화장 활성물질이 알루미늄 클로로하이드레이트, 알루미늄 클로라이드, 알루미늄 세스퀴클로로하이드레이트, 지르코닐 하이드록시클로라이드, 알루미늄-지르코늄 글라이신 복합체, 알루미늄 클로로하이드렉스 PG, 알루미늄 클로로하이드렉스 PEG, 알루미늄 디클로로하이드렉스 PG, 및 알루미늄 디클로로하이드렉스 PEG, 알루미늄 니트라토하이드레이트 및 이의 지르코닐 하이드록시클로라이드 및 니트레이트와의 배합물, 및 알루미늄-주석 클로로하이드레이트로 이루어진 그룹 중에서 선택된 항발한제인 화장품 조성물.
제 35 항에 있어서, 제균제가 2-아미노-2-메틸-1-프로판올(AMP), 세틸-트리메틸암모늄 브로마이드, 세틸 피리디늄 클로라이드, 2,4,4′-트리클로로-2′-하이드록시디페닐에테르, N-(4-클로로페닐)-N′-(3,4-디클로로페닐)우레아 및 아연 염으로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 화장품 조성물.
제 35 항에 있어서, 하기 성분으로 제조된 화장품 조성물(모든 성분은 조성물의 총 중량을 기준으로 한 중량%이다).

오일상(50-70%)

실록산-기본 폴리아미드 0.5-8.0%

실리콘 유체 20-60%

화장품 첨가제 및/또는 용매 0-20%

계면활성제 0-10%

방향제 0-3%

극성상(50-30%)

물(및/또는 수-혼화성 용매) 5-40%

항발한 활성물질 10-25%

계면활성제 0-5%
제 42 항에 있어서, 하기 성분으로 제조된 화장품 조성물.

오일상(50-70%)

실록산-기본 폴리아미드 2-6%

실리콘 유체 35-45%

화장품 첨가제 및/또는 용매 7-15%

계면활성제 3-7%

방향제 1-2%

극성상(50-30%)

물(및/또는 수-혼화성 용매) 15-25%

항발한 활성물질 15-25%

계면활성제 1-2%
제 35 항에 있어서, 하기 성분으로 제조된 화장품 조성물(성분은 조성물의 총 중량을 기준으로 한 중량%이다).

오일상

실록산-기본 폴리아미드 겔화제 6-20%

실리콘 유체 10-90%

화장품 첨가제 및/또는 용매 0-40%

방향제, 착색제 충분량

극성상

물 및/또는 수-혼화성 용매 10-40%

항발한 활성물질 5-30%

계면활성제 0-10%

총량 100
제 44 항에 있어서, 하기 성분으로 제조된 조성물.

오일상

실록산-기본 폴리아미드 겔화제 10-15%

실리콘 유체 20-50%

화장품 첨가제 및/또는 용매 5-21%

방향제, 착색제 충분량

극성상

물 및/또는 수-혼화성 용매 15-25%

항발한 활성물질 15-25%

계면활성제 0.5-3%

총량 100
실리콘 이산, 디에스테르, 이무수물 또는 이산 클로라이드, 및 유기 폴리아민을 함유하는 균질 반응 혼합물을 100℃ 이상의 온도에서 가열하고, 반응 혼합물로부터 물을 제거한 다음, 반응 혼합물을 회수하여 이로부터 실리콘 폴리아미드를 분리하는 단계를 포함하며, 실리콘 이산이 화학식 Y′(CH₂)_n′SiR₂O(R₂SiO)_mR₂Si(CH₂)_n′Y′의 유기 실리콘 중합체이고, 여기에서 R은 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 페닐, 및 1 내지 3 개의 메틸 또는 에틸 그룹으로 치환된 페닐 그룹으로 이루어진 그룹 중에서 독립적으로 선택된다); Y′가 -CO₂H이며; n′이 1 내지 30의 값을 갖는 정수이며; m이 15 내지 500의 값을 갖는 정수인, 하기 화학식으로 표현된 적어도 하나의 반복 단위를 포함하는 실리콘 폴리아미드의 제조방법.

화학식

상기식에서,

X는 직쇄 또는 측쇄 C₁-C₃₀알킬렌 쇄이고,

Y는 직쇄 또는 측쇄 C₁-C₂₀알킬렌 쇄이며,

DP는 15 내지 500의 값을 갖는 정수이며,

n은 1 내지 500의 값을 갖는 정수이며,

단, Y는 다른 반복 단위와의 결합을 제공하기 위한를 나타낼 수 있으며, 여기에서 R′, R″, 및 R″′는 직쇄 또는 측쇄 C₁-C₁₀알킬 또는 알킬렌 그룹이고, T는 ≡CH, N, P, 또는 Al이다.
제 46 항에 있어서, 유기 디아민이 화학식 X-R¹-X를 가지고 X가 -NH₂이며; R¹이 1 내지 40 개의 탄소원자를 갖는 알킬렌 쇄, 또는 C₁-C₄알킬 그룹, 페닐, 하이드록실, 카복실, 또는 아미노 그룹으로 치환되는 1 내지 40 개의 탄소원자를 갖는 알킬 쇄인 방법.
제 47 항에 있어서, 유기 폴리아민이 헥사메틸렌 디아민, 에틸렌 디아민, 피페리진, 페닐렌 디아민, 데카메틸렌 디아민, 자일렌 디아민, 및 폴리에틸렌 글리콜 디아민으로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 방법.
제 46 항에 있어서, 실리콘 이산이 하이드라이드-말단 폴리디메틸실록산을 산 보호 그룹을 함유하는 불포화 카복실산과 반응시키고; 산 보호 그룹을 함유하는 하이드로실화 중간 산물을 형성시키며; 하이드로실화 산물로부터 산 보호 그룹을 제거하여 비보호 실리콘 이산을 형성하는 단계를 포함하는 공정에 의해 제조되는 방법.
제 49 항에 있어서, 산 보호 그룹이 불포화 카복실산을 실라잔과 반응시켜 제공된 트리메틸실릴 그룹 (CH₃)₃Si-인 방법.
제 46 항에 있어서, 폴리디메틸실록산을 표준으로 사용하여 겔 투과 크로마토그래피로 측정하여 4,000 내지 200,000 달톤의 수평균 분자량을 갖는 제 46 항에 정의된 방법에 따라 제조된 실리콘 폴리아미드.
제 51 항에 있어서, 폴리디메틸실록산을 표준으로 사용하여 겔 투과 크로마토그래피로 측정하여 5,000 내지 50,000 달톤의 수평균 분자량을 갖는 제 51 항에 정의된 방법에 따라 제조된 실리콘 폴리아미드.
하기 화학식으로 표현된 적어도 하나의 반복 단위를 갖는 실리콘 폴리아미드를 포함하는 조성물.

화학식

상기식에서,

X는 직쇄 또는 측쇄 C₁-C₃₀알킬렌 쇄이고,

Y는 직쇄 또는 측쇄 C₁-C₂₀알킬렌 쇄이며,

DP는 15 내지 500의 값을 갖는 정수이며,

n은 1 내지 500의 값을 갖는 정수이며,

단, Y는 다른 반복 단위와의 결합을 제공하기 위한를 나타낼 수 있으며, 여기에서 R′, R″, 및 R″′는 직쇄 또는 측쇄 C₁-C₁₀알킬 또는 알킬렌 그룹이고, T는 ≡CH, N, P, 또는 Al이다.
제 53 항에 있어서, 실리콘 폴리아미드가 폴리디메틸실록산을 표준으로 사용하여 겔 투과 크로마토그래피로 측정하여 4,000 내지 200,000 달톤의 수평균 분자량을 갖는 조성물.
제 54 항에 있어서, 실리콘 폴리아미드가 폴리디메틸실록산을 표준으로 사용하여 겔 투과 크로마토그래피로 측정하여 5,000 내지 50,000 달톤의 수평균 분자량을 갖는 조성물.
제 53 항에 있어서, 사이클로메티콘, 디메티콘, 및 페닐트리메티콘으로 이루어진 그룹 중에서 선택된 실리콘 유체를 포함하는 조성물.
제 53 항에 있어서, 실리콘 폴리아미드의 반복 단위가 하기 식으로 표현되는 조성물.

화학식

화학식

상기식에서,

X는 직쇄 또는 측쇄 C₁-C₃₀알킬렌 쇄이고,

Y, Y¹, 및 Y²는 직쇄 또는 측쇄 C₁-C₂₀알킬렌 쇄이며,

DP1, DP2, 및 DP3는 각각 15 내지 500의 값을 갖는 정수이며,

n, m, 및 p는 각각 1 내지 500의 값을 갖는 정수이며,

Z는으로 표현되며, 여기에서 R′, R″, 및 R″′은 직쇄 또는 측쇄 C₁-C₁₀알킬 또는 알킬렌 그룹이며,

T는 ≡CH, N, P, 또는 Al이며, 단 n은 m과 동일하지 않거나, Y는 Y′과 동일하지 않거나, DP1은 DP2와 동일하지 않다.