PL194820B1 - Kompozycja kosmetyczna i sposób wytwarzania poliamidu - Google Patents

Abstract

1. Kompozycja kosmetyczna, znamienna tym, ze zawiera polaczenie (a) 0,5-80% wagowych w przeliczeniu na calkowity ciezar kompozycji co najmniej jednego poliamidu na bazie siloksanu; (b) 5-95% wagowych plynnego silikonu; oraz (c) jezeli (a) + (b) nie jest równe 100 procent, porcji rozpuszczalnika w uzupelnieniu do 100 %, przy czym poliamid na bazie siloksanu zbudowany jest z jednostek o wzorze A w którym: (1) n oznacza liczbe wybrana z grupy obejmujacej 1-500, gdzie n jest liczba jednostek w poliamidzie; (2) DP jest srednia wartoscia stopnia polimeryzacji fragmentu siloksanowego poliamidu i jest wybrane z grupy obejmuja- cej 1-700; (3) X jest liniowym lub rozgalezionym lancuchem alkilenowym zawierajacym 1-30 atomów wegla; (4) kazdy R 1 -R 4 jest niezaleznie wybrany z grupy obejmujacej metyl, etyl, propyl, izopropyl, lancuch siloksanowy i fenyl, przy czym fenyl moze byc ewentualnie podstawiony przez 1 do 3 elementów z grupy obejmujacej metyl i etyl; i (5) Y jest wybrany z grupy obejmujacej liniowy lub rozgaleziony lancuch alkilenowy zawierajacy od 1-40 atomów wegla, przy czym sama grupa alkilenowa moze ewentualnie byc podstawiona co najmniej jednym elementem wybranym z grupy obejmujacej: (i) grupe hydroksy; (ii) cykloalkan C3-C8; (iii) 1-3 elementów wybranych niezaleznie z grupy obejmujacej C1-C3 alkile, fenyl ewentualnie podstawiony przez 1-3 ele- mentów wybranych niezaleznie z grupy obejmujacej C1-C3 alkile; ………………………………………………………………………. PL PL PL PL

Description

Opis wynalazku

Stan techniki

Niniejszy wynalazek jest ukierunkowany na nowe poliamidowe środki żelujące, sposoby wytwarzania takich środków i środków kosmetycznych z nich uzyskanych.

Podczas gdy szereg odsyłaczy ujawniło poliamidy jako klasę związków, stwierdzono, że pewne grupy poliamidów zawierające części siloksanowe są nowe i przydatne w wytwarzaniu znakomitych produktów kosmetycznych, zwłaszcza antyperspirantów i dezodorantów.

Kompozycje kosmetyczne (np. stała kompozycja kosmetyczna, taka jak żel, miękka substancja stała lub substancja półstała (krem), lub sztyft), składają się z kompozycji podstawowej, zawierającej co najmniej jeden płyn silikonowy (np. ciecze silikonowe, takie jak oleje silikonowe), które są zagęszczane stosując oparty na siloksanie poliamid jako środek żelujący; nośniki, w które są włączone substancje aktywne kosmetycznie; i co najmniej jeden składnik aktywny, by zapewnić aktywność takiej kompozycji kosmetycznej. Szczególne wykonania niniejszego wynalazku obejmują kompozycje dezodorantowe i antyperspiracyjne (i kompozycje podstawowe dla nich), w których składnik aktywny kosmetycznie jest substancją aktywną dezodorantu i/lub substancją aktywną antyperspirantu. Wykonania niniejszego wynalazku nie są jednak ograniczone do takich kompozycji antyperspiracyjnych i/lub dezodorantowych, i są także ukierunkowane na inne kompozycje kosmetyczne zawierające inne składniki aktywne kosmetycznie, takie jak kompozycje ochrony przeciwsłonecznej zawierające środki przeciwsłoneczne jako substancję aktywną.

Korzystne wykonania opracowanych produktów kosmetycznych są ukierunkowane na kompozycje kosmetyczne, które są przeźroczyste (klarowne), włączając w to przeźroczyste (klarowne) kompozycje stałe, zwłaszcza przeźroczyste (klarowne) kompozycje dezodorantowe i/lub antyperspiracyjne, które są sztyftami lub żelami. Podczas gdy wykonania kompozycji kosmetycznych wytworzone z opisanych poliamidów są korzystnie klarowne lub przeźroczyste, kompozycje kosmetyczne nie muszą jednak być klarowne lub przeźroczyste i mogą być półprzeźroczyste lub nieprzeźroczyste.

Związki tu opisane i stosowane jako środki żelujące w niniejszym wynalazku są wybranymi opartymi na siloksanie poliamidami i ich mieszaninami. Korzystnie kompozycje wykonane przy użyciu opartych na siloksanie poliamidów wykazują lepsze właściwości użytkowe i kosmetyczne (włączając w to zmniejszoną kleistość i lepkość), i w szczególności, wykazują lepsze właściwości odnośnie klarowności i tworzenia nieznacznej pozostałości.

Produkty antyperspiracyjne są dobrze znane ze stanu techniki. Produkty antyperspiracyjne pojawiły się na rynku w różnych formach dawkowania, takich jak sztyfty, żele, typu „roll-on”, aerozole i kremy. Zasadniczo te formy dawkowania obejmują roztwór składnika aktywnego w rozpuszczalniku, zawiesinę składnika aktywnego w substancji nie będącej rozpuszczalnikiem lub wielofazową dyspersję lub emulsję, w której roztwór składnika aktywnego jest dyspergowany w pewnej fazie ciągłej lub w którym solubilizowany składnik aktywny tworzy fazę ciągłą.

Spośród wyżej wymienionych form dawkowania, typ „roll-on” stanowi przykład kompozycji w postaci ciekłej, forma sztyftu jest przykładem stałej formy kompozycji, forma żelu jest zagęszczoną formą, która może lub może nie być substancją stałą (np. w pewnych warunkach żele mogą płynąć). Formę w postaci sztyftu można rozróżnić od żelu na tej podstawie, że na sztyfcie opracowany produkt może utrzymać swój kształt przez dłuższe okresy czasu poza opakowaniem (pozwalając na pewne kurczenie się wskutek odparowania rozpuszczalnika), podczas gdy żel nie może zachować swego kształtu. Aby utworzyć żel lub sztyft można stosować dobór ilości środków żelujących lub zagęszczających, takich jak kaoliny (bentony), krzemionka koloidalna, polietylen, alkohol stearylowy lub wosk rycynowy.

Żele, pasty i kremy (które są także znane jako substancje miękkie stałe lub półstałe) można dogodnie pakować w pojemniki, które mają wygląd sztyftu, lecz które dozuje się przez otwory (np. szczeliny lub pory) na powierzchni szczytowej opakowania. Produkty te nazwano miękkimi sztyftami lub typu „smooth-on”. Produkty te są dalej rodzajowo zwane „żelami”. Można się odwołać do opisu patentowego USA nr 5102656 (dla Kasata), Nr 5069897 (dla Orra) i Nr 4937069 (dla Shina), z których każdy ujawnia takie żele, włączając w to ich charakterystykę fizyczną, taką jak lepkość i twardość. Zawartość każdego z tych trzech Opisów patentowych USA stanowi w całości odnośnik do niniejszego zgłoszenia.

Przykładową kompozycją, którą można dozować przez otwory przedstawiono w opisie patentowym USA nr 5102656 (dla Kasata). Ta ujawniona kompozycja jest heterogennym bezwodnym produktem antyperspiracyjnym w postaci kremu zawierającym w procentach wagowych całkowitego ciężaru

PL 194 820 B1 kompozycji, 30%-70% lotnego silikonu jako nośnik, 7-30% odpowiedniego środka (lub środków) żelującego i około 12-30% fizjologicznie dopuszczalnego środka antyperspiracyjnego. Ten opis patentowy ujawnia, że środek żelujący może stanowić dowolna liczba substancji, włączając np. uwodorniony olej roślinny, kwasy tłuszczowe o od 14 do 36 atomów węgla, wosk pszczeli, parafina, alkohole tłuszczowe o od 14 do 24 atomów węgla, polietylen itp.

Ostatnio stwierdzono znaczną aktywność w opracowywaniu klarownych lub półprzeźroczystych sztyftów i żeli antyperspiracyjnych. Ujawniono klarowne lub półprzeźroczyste sztyfty składające się zasadniczo z roztworu aktywnej substancji antyperspiracyjnej w zaróbce z alkoholu wielowodorotlenowego, żelowanego przez dibenzylidenomonosorbitoloacetal. Ponieważ środek żelujący jest z natury rzeczy nietrwały w środowisku kwasowym, i ponieważ typowe aktywne substancje antyperspiracyjne są kwasowe, wiele pracy włożono w odkrycie odpowiednich środków stabilizujących lub buforujących, by zapobiec lub spowolnić atak kwasu na acetalowy środek żelujący. Praca taka nie była w pełni pomyślna. Ponadto, te klarowne lub półprzeźroczyste sztyfty antyperspiracyjne zawierające acetalowy środek żelujący włączający solubilizowaną aktywną substancję antyperspiracyjną, wykazują wadę polegającą na tym, że są z natury kleiste. Zatem opracowywanie tych klarownych lub przeźroczystych sztyftów antyperspiracyjnych zawierających acetalowy środek żelujący było skoncentrowane także na odkryciu odpowiednich środków przeciw przylepności dla tej formy dawkowania. Jednak ponieważ hydroliza kwasowa środka żelującego następuje szybciej w roztworach wodnych, opracowujący recepturę byli zmuszeni do unikania stosowania wody w preparatach. To poważnie ogranicza zdolność układającego recepturę do opracowywania kosmetycznie eleganckich preparatów, które są równocześnie trwałe chemicznie, klarowne optycznie, o niskiej pozostałości, wykazują niską przylepność i mają akceptowalne cechy estetyczne.

Sprzedawano klarowne lub przeźroczyste żele antyperspiracyjne (które dozowano z pojemników o wyglądzie sztyftu), składające się z lepkich emulsji o znacznej fazie wewnętrznej.

Żele te wykazują pewne korzyści w porównaniu z wyżej wspomnianymi klarownymi sztyftami opartymi na acetalu, pod tym względem, że wybór składników jest mniej ograniczony (np. można stosować wodę) i często znacząco można zmniejszyć przylepność. Lecz te emulsje mają rozmaite wady, włączając częsty wymóg stosowania etanolu, by osiągnąć żądaną estetykę. Co się tyczy tych emulsji por.: opis patentowy USA nr 4673570 (dla Soldatiego) i publikacja międzynarodowego zgłoszenia PCT nr WO 92/05767.

Opis patentowy USA nr 5120531 (udzielony Wellsowi i in.) ujawnia kompozycje odżywek do spłukiwania i do kształtowania włosów dostarczające zagęszczoną siecią żelową zaróbkę dla kształtowania polimeru i rozpuszczalnika. Opis patentowy ujawnia różne siloksany jako środek odżywczy obejmujący polidiorganosiloksany mające grupy podstawione czwartorzędową grupą amoniową przyłączoną do krzemu i polidiorganosiloksany mające podstawniki związane z krzemem, które są grupami węglowodorowymi podstawionymi grupą aminową.

Opis patentowy USA 5500209, którego treść w całości stanowi odnośnik do niniejszego tekstu, ujawnia żel lub sztyft, który obejmuje aktywne składniki dezodorantowe i/lub antyperspiracyjne, poliamidowy środek żelujący i rozpuszczalnik dla poliamidowego środka żelującego, którego kompozycja żelowa lub sztyftowa może być klarowna lub półprzeźroczysta. Opis ten ujawnia, że poliamidowy środek żelujący jest rozpuszczalny w rozpuszczalniku dopuszczalnym kosmetycznie w podwyższonych temperaturach, i zestala się (żeluje) w wyniku chłodzenia; dopuszczalne rozpuszczalniki ujawniono jako obejmujące różne alkohole, włączając w to różne glikole. Podczas gdy zawierający poliamid sztyft lub żel ujawniony w wyżej wspomnianym patencie zawiera pożądane właściwości w związku z trwałością kompozycji (szczególnie w obecności kwasowych antyperspiracyjnych substancji aktywnych, i przy zapewnieniu kompozycji w postaci klarownego lub półprzeźroczystego żelu lub sztyftu) formuły takie mogą prowadzić do kleistości i lepkości zarówno przy jak i po nanoszeniu na skórę.

Problemu kleistości i lepkości w związku z kompozycjami kosmetycznymi stosującymi poliamidowy środek żelujący dotyczy zgłoszenia patentowego USA o nr ser. 08/426 672, zgłoszonego 21 kwietnia 1995, którego treść stanowi w całości odnośnik, ujawniającego stosowanie szczególnego układu rozpuszczalnikowego dla stałej kompozycji zawierającej aktywną substancję antyperspiracyjną i poliamidowy środek żelujący. Ten układ rozpuszczalnikowy jest pozbawiony glikolu, zawiera niejonowy środek powierzchniowo czynny oraz rozpuszczalnik polarny. Woda jest rozpuszczalnikiem polarnym i wraz z niejonowym środkiem powierzchniowo czynnym działa jako ośrodek dyspergujący dla antyperspiracyjnej substancji aktywnej, w której stosuje się wystarczającą ilość wody, by dać klarowny lub półprzeźroczysty roztwór/emulsję antyperspiracyjnej substancji aktywnej.

PL 194 820 B1

Typową techniką dla zmniejszenia kleistości np. preparatów antyperspiracyjnych jest włączenie cyklometikonu (tetra- penta- lub heksacyklodimetylo-siloksany lub ich mieszaniny). Ten cyklometikon jest cieczą o bardzo niskiej lepkości, która daje doskonałą smarowność i nie pozostawia plam na skórze i/lub ubraniu. Ponad 50% wag. cyklometikonu włączono w preparaty antyperspiracyjne w postaci stałych sztyftów, np., stosując środek zestalający wosk. Jednak cyklometikon nie jest rozpuszczalnikiem dla opartych na dimerze poliamidów opisanych jako środki żelujące w opisie patentowym USA 5500209. Ponadto jedynie ograniczone ilości cyklometikonu mogą być włączone do kompozycji stałych żelowanych przy użyciu takiego poliamidowego środka żelującego bez zniszczenia klarowności zżelowanej kompozycji. Poza tym, zżelowana kompozycja staje się zamglona wskutek nadmiernej krystalizacji poliamidu lub niemieszalności cyklometikonu w mieszaninie.

Opis patentowy USA nr 5243010 (dla Choi i in.) ujawnia aromatyczne żywice poliamidowe zawierające „wiszące” grupy sililowe.

Opis patentowy USA nr 5272241 (dla Lucarelli i in.) ujawnia siloksany z organicznymi grupami funkcyjnymi przydatne zarówno w pielęgnacji osobistej jak i w przemyśle tworzyw sztucznych, przy czym siloksany są silikonami funkcjonalizowanymi przez aminokwasy.

Zgłoszenie patentowe USA o nr ser. 08/790351 zgłoszone 24 stycznia 1997, przypisane Mennen Company opisuje w ogólności użycie poliamidów jako środków żelujących dla kompozycji kosmetycznych.

Pomimo tego istnieje wciąż potrzeba ulepszonych opartych na siloksanach poliamidowych środków żelujących i otrzymywanych z nich kompozycji kosmetycznych, zwłaszcza gdy kompozycje podstawowe wykonane z poliamidów są zdolne do tworzenia produktów kosmetycznych mających ulepszoną klarowność. Ponadto jest pożądane dostarczenie takich kompozycji podstawowych, zagęszczonych stosując taki środek żelujący, które są przeźroczyste i klarowne i mogą być ukształtowane w produkty mające różne stopnie sztywności, takie jak od kremu do sztyftu, zależnie od ilości środka zagęszczającego zawartego w kompozycji.

Zatem celem niniejszego wynalazku jest dostarczenie kompozycji podstawowej, w którą może być włączona substancja aktywna kosmetycznie tworząc kompozycję kosmetyczną np. antyperspirantu i/lub dezodorantu, w której kompozycja podstawowa jest zagęszczana stosując wybrany oparty na siloksanie poliamidowy środek żelujący.

Dalszym celem niniejszego wynalazku jest dostarczenie kompozycji podstawowej, która jest zdolna do wykazywania ulepszonej estetyki, takiej jak klarowność i która korzystnie nie pozostawia widzialnej (białej) pozostałości po naniesieniu i po suszeniu.

Ogólnym celem niniejszego wynalazku jest dostarczenie opartych na siloksanach polimerów poliamidowych, które można użyć jako środki żelujące, by zagęścić kompozycje kosmetyczne, których polimery są zgodne z lotnymi i/lub nielotnymi cieczami silikonowymi.

Cele niniejszego wynalazku obejmują także dostarczenie kompozycji kosmetycznej włączając kompozycję podstawową i substancje kosmetycznie aktywne oraz sposoby stosowania tej kompozycji kosmetycznej.

Streszczenie wynalazku

Przedmiotem wynalazku jest kompozycja kosmetyczna, charakteryzująca się tym, że zawiera połączenie (a) 0,5-80% wagowych w przeliczeniu na całkowity ciężar co najmniej jednego poliamidu na bazie siloksanu;

(b) 5-95% wagowych płynnego silikonu; oraz (c) jeżeli (a) + (b) nie jest równe 100 procent, porcji rozpuszczalnika w uzupełnieniu do 100%, przy czym poliamid na bazie siloksanu zbudowany jest z jednostek o wzorze A

R¹ R2

I I

[C (O) -X- [Sio] dpSi-X-C (O) NH-Y-NH] _nI I

R3 r4

Wzór A

PL 194 820 B1 w którym:

(1) n oznaczał i czbę wyyranąz grupyobejmującejl -500,gdzien jest I i czbąjednostekw poliamidzie;

(2) DP jmst średnią wy-tobcią stozoia pylimusyyzcji fracmusOu siloSkacawysd poliamidz i jmst wybrcae z grupy zbejmujczej 1-700;

(3) X jett liaizwym lub rzzgcłęzizaym łcńzuzhem clkileazwym zcwiercjczym 1-30 ctzmów węglc;

(4) kkcddR¹-R⁴jeet niedbledniewyyranoz g rupy obęjrrιujączjmujyl, eeyl, prozyl, izbzrozyl, łaCzuzh ailzkacazwy i reayl, przy zzym reayl mzże być eweatpclaie yznatcwizay przez 1 dz 3 elemeatów z grupy zbejmujczej metyl i etyl; i (0) Y jestwyyrana zg grup ι^πίmj^czjljniowylup robbdłęęiobałanńepealkilesowy zbwiekającz zd 1-40 ctzmów węglc, przy zzym tcmc grupc clkileazwc mzże eweatuclaie być pzdatcwizac zz acjmaiej jedaym elemeatem wybrcaym z grupy zbejmujczej:

(i) grupę hydrokty;

(ii) zyklzclkca C3-C8;

(iii) — elemuetów wyyranoceniedbledżiez gruppobęjmujączjC1-C3 alkile,fesolewystupłnie pzdatcwizay przez 1-3 elemeatów wybrcayzh aiebcleżaie z grupy zbejmujczej C1-C3 clkile;

(iv) C1-C3 clkilzhydrzkay; i (v) C1-C6 clkilzcmiay;

^lu^b Y mzże zzaczzc^{ć gd}zⁱe Z = T(R²⁰)(R²¹ )(R²²), w ^któr^ym ^kcż^dy R^20, R^{21 i} R²² jea^t atezcteżaie wybrcay z grupy zbejmujczej liaizwe i rzzgcłęzizae grupy C1-C10 clkilzwe lub clkileazwe; i T jett wybrcae z grupy zbejmujczej CR, gdzie R jett wybrcae z grupy zbejmujczej: ctzm wzdzru, grupę złzżzac z grupy bderiaizwcaej dlc R1-R⁴; i trójwcrtzCzizwy ctzm wybrcay z N, P i Al; i w którym kcżde ze zaczzeń X, Y, PP i R1-R4 mzże być tckie tcmz lub różae dlc kcżdej jedazatki pzlicmidu.

W kzmpzzyzji kzrbyataie kcżde PP w pzlicmidzie jett lizzbc z bckreau 10-000.

W kzmpzzyzji kzrbyataie kcżde PP w pzlicmidzie jett lizzbc z bckreau 10-40.

W kzmpzzyzji kzrbyataie wcrtzcć a w pzlicmidzie jett lizzbc z bckreau 1-100.

W kzmpzzyzji kzrbyataie wcrtzcć a w pzlicmidzie jett lizzbc z bckreau 4-20.

W kzmpzzyzji kzrbyataie X mc 3-10 ctzmów węglc.

W kzmpzzyzji kzrbyataie X mc 10 ctzmów węglc.

Kzrbyataie w kzmpzbyeii kcżdy Y w pzlicmidzie mzże być tcki tcm lub różay i mc 2-6 ctzmów węglc.

Kzrbyataie w kzmpzzyzji kcżdy R¹-FR4 jett wybrcay apzCród metylu i etylu.

Kzrnyataie w kzmpzzyzji kcżdy R1-R4 jett metylem.

Kzrnyataie w kzmpzzyzji pzlicmid mc tekturę z wzzrze I:

Rl R²

[C(O)-X-[SiO]_DpSi-X-C(O)Nra-Y-NH]n

I I

R3 r4

Wzór I w którym zaczzeaic X, Y, PP i R1-R4 w kcżdej jedazatze pzlicmidu pzbzatcjc tckie tcme. W pzwyżabej kzmpzzyzji kzrbyataie kcżdy r1 R², R³ i r4 jett metylem.

Kzmpzzyzjc kzrbyataie zcwierc pzlicmid z acttępujczym wzzrze:

CH3 CH3 O

II II I (C(CH2)i₀[SiO]DpSiC^H2)ioCN(CH2)₆N}_n

CH3 CH3 H H gdzie PP = 10-000.

PL 194 820 B1

Kompozycji korzystnie DP=15-45.

Kompozycja korzystnie zawiera poliamid mający wielokrotne długości bloków siloksanowych jak podano we wzorze II:

[C (O) -X- [SiO]_DP1Si-X-C(O) -IHi-Y-NHl n [C (O) -X- [SiO]_DP₂Si-X-C (O) -NH-Y^l-NH]_m

Wzór II gdzie DPI i DP2 są niezależnie wybrane z grupy zdefiniowanej dla DP; m jest wybrane z takiej samej grupy jak zdefiniowana dla n, przy czym n i m oznaczają całkowitą liczbę jednostek objętych nawiasami, pojedyncze jednostki są umieszczone w regularnej, naprzemiennej, blokowej lub statystycznej kolejności; a R⁵-R⁸ każdy niezależnie jest wybrany z takiej samej grupy zdefiniowanej dla R¹-R⁴.

W kompozycji korzystnie każdy R¹-R⁸ jest metylem.

W kompozycji korzystnie DP1=DP2.

W kompozycji korzystnie każdy R¹-R⁸ jest metylem i DP1=DP2.

W kompozycji korzystnie poliamid ma strukturę jak przedstawiono we wzorze III:

[c(O) -X- [SiO]_Dpisi-X-C(O) --ra-Y-NH]_n[C(O)-X- [Sio] _Dp2Si-X-C(O) --H-Y¹-^]_m

Wzór III w którym Y¹ jest wybrany z takiej samej grupy jak zdefiniowano dla Y, a DPI i DP2 są niezależnie wybrane z grupy zdefiniowanej dla DP.

W kompozycji korzystnie każdy Ri-R8 jest metylem.

W powyższej kompozycji korzystnie każdy DP1=DP2.

Korzystnie w kompozycji każdy R1-R8 jest metylem i DP1=DP2.

Kompozycja korzystnie charakteryzuje się tym, że poliamid ma strukturę jak przedstawiono we wzorze IV:

w którym każdy R⁵-R¹²jest niezależnie wybrany z grupy zdefiniowanej dla R1-R⁴, Z=T(R^2O-(R²¹-(R²²-, gdzie każdy r2°, R²1 i r22 są niezależnie wybrane z grupy obejmującej liniowe i rozgałęzione C1-C10 alkileny; i T jest wybrany z grupy obejmującej CR, gdzie R jest wybrany z grupy obejmującej wodór, grupę zdefiniowaną dla R1-R⁴; i trójwartościowy atom wybrany spośród N, P i Al; DP1, DP2 i DP3 są niezależnie wybrane z grupy zdefiniowanej dla DP, natomiast m i p mają wartość taką jak n.

PL 194 820 B1

W kompozycji korzystnie każdy DP1-DP3 jest niezależnie wybrany z zakresu 15-45. W kompozycji korzystnie m = 5-20% m+n+p.

W kompozycji korzystnie każdy z R¹-R¹² jest metylem.

W kompozycji korzystnie T oznacza N.

Korzystnie w kompozycji każdy R , R i R jest etylenem.

Korzystnie w kompozycji Z=(-CH2CH2)3N.

Kompozycja korzystnie zawiera poliamid o wzorze

w którym X = -(CH2)10-, Y = -(CH)-; DP = 15-45; m = 5-20% m+n+p, a Z = -(CH2CH2hN.

Korzystnie kompozycja ma postać sztyftu lub żelu i zawiera połączenie:

(a) 0,5-80% waaowyyhw przzlicczniu na ccłkowity ciężżr komppozcji cc najmniejjeeneeo ppliamidu na bazie siloksanu;

(b) 5-95% wagowych płynnego silikonu; oraz (c) jeżeli (a)+(b) nie jest równe 100%, porcji rozpuszczalnika w uzupełnieniu do 100%.

Korzystnie kompozycja zawiera dodatkowo co najmniej jeden składnik wybrany z grupy obejmującej kosmetycznie aktywne dodatki i kosmetycznie dopuszczalne rozpuszczalniki, przy czym całkowita ilość dodatkowych składników mieści się w przedziale 0,1-05% wagowych w przeliczeniu na całkowity ciężar kompozycji kosmetycznej.

Korzystnie kompozycja jest żelem i zawiera ilość poliamidu na bazie siloksanu mieszczącą się w przedziale 0,5-0%.

Korzystnie kompozycja jest sztyftem i zawiera ilość poliamidu na bazie siloksanu mieszczącą się w przedziale 5-30%.

Kompozycja zawiera korzystnie kosmetyczną substancję aktywną wybraną z grupy obejmującej chlorohydrat glinu, chlorek glinu, seskwichlorohydrat glinu, hydroksychlorek cyrkonylu, kompleks glicyny glinowo-cyrkonowej, chlorohydreks PG glinu, chlorohydreks PEG glinu, dichlorohydreks PG glinu, dichlorohydreks PEG glinu, azotanohydrat glinu i jego połączenie z hydroksychlorkami i azotanami cyrkonylu oraz chlorohydraty glinowo-cynowe.

Kompozycja korzystnie dodatkowo zawiera ewentualnie do 40% wagowych co najmniej jednego rozpuszczalnika; i

0,1-05% wagowych co najmniej jednego dodatkowego składnika wybranego z grupy obejmującej:

(i) 0,1-30% aktywnego antyperspirantu;

(ii) 0,5-3,0% wagowych środka zapachowego;

(iii) 0,2-1,0% wagowych środka bakteriostatycznego;

(iv) 0-15% wagowych środka powierzchniowo czynnego;

(v) skuteczną ilość środka przeciwsłonecznego;

(vi) skuteczną ilość środka odstraszającego owady; i (vii) wodę.

W kompozycji korzystnie ilość poliamidu na bazie siloksanu mieści się w przedziale 0,5-0% wagowych.

W kompozycji korzystnie ilość poliamidu na bazie siloksanu mieści się w przedziale 6-20% wagowych.

W kompozycji korzystnie płynny silikon wybrane są z grupy obejmującej lotne silikony, nielotne silikony i ich mieszaniny.

PL 194 820 B1

W kompozycji korzystnie płynny silikon wybrany jest z grupy obejmującej dimetikony, fenylotrimetikon i cykliczne siloksany zawierające 4-6 jednostek siloksanowych w pierścieniu ewentualnie podstawionych C1-C6 alkilem lub fenylem.

W kompozycji korzystnie środek bakteriostatyczny wybrany jest z grupy obejmującej 2-amino-2-metylo-1-propanol, bromek cetylotrimetyloamoniowy, chlorek cetylopirydyniowy, 2,4,4'-trichloro-2'-hydroksydifenyloeter, N-(4-chlorofenylo)-N'-(3, 4-dichlorofenylo)mocznik i sole cynku.

Kompozycja korzystnie zawiera połączenie następujących składników, gdzie zawartość wszystkich składników wyrażona jest w procentach wagowych w przeliczeniu na całkowity ciężar kompozycji:

Faza olejowa (50-70%)

Poliamid na bazie siloksanu 0,5-8,0%

Płynny silikon 20-60%

Dodatek(ki) kosmetyczne i/lub rozpuszczalniki 0-20%

Środek powierzchniowo czynny 0-10%

Środek zapachowy 0-3%

Faza polarna (50-30%)

Woda i/lub mieszalny z wodą rozpuszczalnik 5-40%

Aktywny antyperspirant 10-25%

Środek powierzchniowo czynny 0-5%

Kompozycja kosmetyczna korzystnie zawiera połączenie następujących składników:

Faza olejowa w ilości 50-70%

Poliamid na bazie siloksanu 2-6%

Płynny silikon 35-45%

Dodatek(ki) kosmetyczny(ne) i/lub rozpuszczalniki 7-15%

Środek powierzchniowo czynny 3-7%

Środek zapachowy 1-2%

Faza polarna w ilości 50-30%

Woda i/lub mieszalny z wodą rozpuszczalnik 15-25%

Aktywny antyperspirant 15-25%

Środek powierzchniowo czynny 1-2%

Kompozycja kosmetyczna korzystnie zawiera połączenie następujących składników, gdzie zawartość wszystkich składników wyrażona jest w procentach wagowych w przeliczeniu na całkowity ciężar kompozycji:

Faza olejowa

Poliamid na bazie siloksanu 6-20%

Płynny silikon 10-90%

Dodatek(ki) kosmetyczny(ne) i/lub rozpuszczalniki 0-40%

Środek zapachowy, barwnik wuzueełnieniu do100%

Faza polarna

Woda i/lub mieszalny z wodą rozpuszczalnik 10-40%

Aktywny antyperspirant 5-30%

Środek powierzchniowo czynny 0-10%

Ogółem 100%

Korzystnie kompozycja zawiera połączenie następujących składników:

Faza olejowa

Poliamid na bazie siloksanu Płynny silikon

10-15%

20-50%

PL 194 820 B1

Dodatek(ki) kosmetyczny(ne) i/lub rozpuszczalniki 5522^ %

Środek zapachowy, barwnik wuuueełnieniudo100%

Faza polarna

Woda i/lub mieszalny z wodą rozpuszczalnik 15-25%

Aktywny antyperspirant 15-25%

Środek powierzchniowo czynny 0,5-3%

Ogółem 100%

Korzystnie kompozycja zawiera silikonowy poliamid z co najmniej jedną powtarzającą się jednostką o wzorze:

0 li	CH3 |	CH3 0 I ll
II -c-x-	I -Si-O—	I II —Si-X-C-N-Y-N— I I I
	JCH3	I I I CH3 Η H DP _

w którym X jest liniowym lub rozgałęzionym łańcuchem alkilenowym C1-C30, Y jest liniowym lub rozgałęzionym łańcuchem alkilenowym C1-C20, DP jest liczbą całkowitą o wartości od 15 do 500, n jest liczbą całkowitą o wartości od 1 do 500;

pod warunkiem że Y może oznaczać także

dla zapewnienia wiązania z inną powtarzającą się jednostką, przy czym w tym przypadku R', R i R''' są liniowymi lub rozgałęzionymi grupami C₁-C₁₀ alkilowymi lub alkilenowymi, a T oznacza ech, N, P lubAl.

W kompozycji korzystnie silikonowy poliamid ma liczbowo średni ciężar cząsteczkowy od 4000 do 200000 oznaczony metodą chromatografii żelowej stosując polidimetylosiloksan jako wzorzec.

W kompozycji korzystnie silikonowy poliamid ma liczbowo średni ciężar cząsteczkowy od 5000 do 50000 oznaczony metodą chromatografii żelowej stosując polidimetylosiloksan jako wzorzec.

Kompozycja korzystnie zawiera płynny silikon wybrany z grupy obejmującej cyklometikony, dimetikony i fenylotrimetikony.

PL 194 820 B1

Kompozycja korzystnie zawiera powtarzającą się jednostkę poliamidu na bazie siloksanu mającą wzór

—		—		—	r —
0	'CH3	CH3 0		0	CH3	CH3	0
II	I -Si-O— |	I II		II	I -Si-O— I	I —Si-XI	II
-c-x—	--Si-X-C-N-Y-N I I I		' c- x—	-C-N-Yl-N— I 1
	CH3	I I I CH3 Η H			I CH3	I CH3	1 1 Η H
—	—	DPI -1	n	-		DP2	_

0	Γ°Η3 -η	CH3 0			-
II	1	1 II		0	CH3	CH3 0 · 1
-c-x—	-Si-O-	—Si-X-C-N-Y-N		II	1 --Si-O—-	1 II
	1	1 1 1		c-x-	-Si-X-C-N-	Z-N—
	CH3	CH3 Η H			1	1 1	1
—	_ -	DPI	n		CH3 _	CH3 H	H

DP2

0 II	CH3 ' I	CH3 0 1 il
II N-Y2-N-C-X— | |	1 -Si—0|	I II -Si-X-C-N- I I
1 1 Η H	CH3	1 1 CH3 H
—		DP2 _

w którym X jest liniowym lub rozgałęzionym łańcuchem alkilenowym C1-C30, Y, Y1 i Y2 są liniowymi lub rozgałęzionymi łańcuchami alkilenowymi C1-C20, DP1, DP2 i DP3 są liczbami całkowitymi o wartościach od 15 do 500, n, m i p są liczbami całkowitymi o wartościach od 1 do 500; Z ma wzór

-R'-T-R''/ 9 9 w którym R', R i R' są liniowymi lub rozgałęzionymi grupami C₁-C₁₀ alkilowymi lub alkilenowymi, a T oznacza hCH, N, P lub Al; pod warunkiem że n nie jest takie samo jak m lub Y nie jest taki sam jak Y' lub DP1 nie jest takie samo jak DP2.

Przedmiotem wynalazku jest również sposób wytwarzania poliamidu na bazie siloksanu zbudowanego z jednostek o wzorze A

R1 R²

- [C (O) -X- [Sio] DpSi-Χ-Ο (O)NH-Y-NH] _nR3 r4

Wzór A

PL 194 820 B1 w którym:

(1) n oznacza liczbę wybraną z grupy obejmującej 1 -500, gdzie n jest liczbą jednostek w poliamidzie;

(2) DP jest średnią wartością stopnia polimeryzacji fragmentu siioksanowego poliamidu i jest wybrane z grupy obejmującej 1-700;

(3) X jest iiniowym iub rozgałęzionym łańcuchem aikiienowym zawierającym 1-30 atomów węgia;

(4) każdy R¹-R⁴ jeet niezależnie wybrannz grupy obejmującej meeyL eeyh ppopyL izopropyl łańcuch siioksanowy i fenyi, przy czym fenyi może być ewentuainie podttawiony przez 1 do 3 eiementów z grupy obejmującej metyi i etyi; i (5) Y j eet wybrann z grupy obejmującej I iniowy I ub rozga-ęziony jańcuch alkiienowy zawierający od 1-40 atomów węgia, przy czym tama grupa aikiienowa może ewentuainie być podstawiona co najmniej jednym eiementem wybranym z grupy obejmującej:

(i) grupę hydrokty;

(ii) cykioaikan C3-C8;

(iii) 1-:3 elementów wybranych niezależnie z grupy obejmującej C1-C3 alkNe, fenyl eweniualnie podttawiony przez 1-3 eiementów wybranych niezaieżnie z grupy obejmującej C1-C3 aikiie;

(iv) C1-C3 aikiiohydrokty; i (v) C1-C6 aikiioaminy;

ⁱu^b Y mo^że ^być Z^{, gd}zⁱe Z=T(R^2CI)(R²¹)(R²²)^{, gd}zⁱe ^ka^żdy R^20, R^{21 i} R²² t^ą niezależnie w^ybrane z grupy obejmującej iiniowe i rozgałęzione grupy C1-C10 aikiiowe iub aikiienowe; i T jett wybrane z grupy obejmującej CR, gdzie R jett wybrane z grupy obejmującej: atom wodoru, grupę złożoną z grupy zdefiniowanej dia R1-R⁴; i trójwartościowy atom wybrany z N, P i AI; i w którym każde ze znaczeń X, Y, DP i R1-R4 może być takie tamo iub różne dia każdej jednottki poiiamidu, charakteryzujący tię tym, że obejmuje ogrzewanie jednorodnej mietzaniny reakcyjnej zawierającej dikwat tiiikonowy, dietter iub di-bezwodnik iub chiorek dikwatowy oraz organiczną poiiaminę w temperaturze wyżtzej od 100°C, utuwanie wody z mietzaniny reakcyjnej i nattępnie odzytkiwanie i wyodrębnianie z mietzaniny reakcyjnej poiiamidu tiiikonowego;

przy czym tiiikonowy dikwat jett poiimerem organotiiikonowym o wzorze Y'(CH2)nSiR2O-(R2SiO)_mR2Si(CH2)nY' w którym R jett niezaieżnie wybrany z grupy obejmującej metyi, etyi, propyi, izopropyi, fenyi i grupę fenyiową podttawioną 1-3 grupą metyiową iub etyiową; Y' oznacza -CO2H, n' jett iiczbą całkowitą o wartości w przedziaie 1-30 a m jett iiczbą całkowitą o wartości w przedziaie 15-500.

W tpotobie korzyttnie ttotuje tię organiczną diaminę o wzorze X-R'-X w którym X oznacza NH2; R' jett łańcuchem aikiienowym zawierającym 1-40 atomów węgia iub łańcuchem aikiiowym zawierającym 1-40 atomów węgia, który jett podttawiony grupami C1-C4 aikiiowymi, fenyiem, hydroktyiem, karboktyiem iub grupami aminowymi.

W tpotobie korzyttnie organiczną poiiaminę wybiera tię z grupy obejmującej hektametyienodiaminę, etyienodiaminę, piperyzynę, fenyienodiaminę, dekametyienodiaminę, ktyienodiaminę i diaminę giikoiu poiietyienowego.

W tpotobie korzyttnie ttotuje tię tiiikonowy dikwat otrzymany tię w procetie obejmującym reakcję poiidimetyiotiioktanu zakończonego atomem wodorkowym z nienatyconym kwatem karboktyiowym zawierającym grupę zabezpieczającą grupę kwatową; utworzenie produktu przejściowego hydrotiiiiowania zawierającego grupę zabezpieczającą grupę kwatową, utuwanie grupy zabezpieczającej grupę kwatową z produktu hydrotiiiiowania w ceiu utworzenia niezabezpieczonego dikwatu tiiikonowego.

Korzyttnie w tpotobie grupą zabezpieczającą grupę kwatową jett grupa trimetyiotiiiiowa (CH3)3Si- dottarczona w reakcji nienatyconego kwatu karboktyiowego z tiiazanem.

Korzyttnie w tpotobie wytwarza tię tiiikonowy poiiamid o iiczbowo średnim ciężarze czątteczkowym od 4000 do 200000 oznaczonym metodą chromatografii żeiowej ttotując poiidimetyiotiioktan jako wzorzec.

Korzyttnie w tpotobie wytwarza tię tiiikonowy poiiamid o Iiczbowo średnim ciężarze czątteczkowym od 5000 do 50000 oznaczonym metodą chromatografii żeiowej z zattotowaniem poiidimetyiotiioktanu jako wzorca.

Powyżtze ceie otiąga tię więc przez niniejtzy wynaiazek, który obejmuje tworzenie nowych opartych na tiioktanie poiiamidów i ttotowanie poiiamidów jako środków żeiujących dia zettawienia kompozycji kotmetycznych, takich jak dezodoranty i antypertpiranty. Wybrane poiiamidy opitane

PL 194 820 B1 w niniejszym zgłoszeniu wykazują lepszą charakterystykę przy stosowaniu do tworzenia kompozycji kosmetycznych. Poliamidy dla niniejszego wynalazku są wielokrotnościami jednostki przedstawionej następującym wzorem A:

r1 R²

[C (O) -X- [SiO] _DpSi-X-C (O) NH-Y-NH] _nI I

R³ R⁴

Wzór A gdzie:

(1) DP jest wybrany z grupy składającej się z 1-700, korzystnie 15-500, a zwłaszcza 15-45. DP oznacza średnią wartość stopnia polimeryzacji jednostek siloksanu w polimerze z większymi lub mniejszymi wartościami DP ześrodkowanymi wokół wskazanej wartości DP;

(2) n oznacza liczbę wybraną z grupy składającej się z 1-500, korzystnie 1-100, a zwłaszcza 4-25;

(3) X oonaacz a Ikilen o li niowym lubroozgłęęionym łańcuchh o 1 -:33 atomaahwęęla, koorzstnie 3 -10 atomach węgla, a zwłaszcza 10 atomach węgla;

(4) Y j eet wyyraka z gruup oOejmającej alkilena o prontym I uu roozgłęęionam łakchbhn o 1-44 atomach węgla, zwłaszcza 1-20 atomach węgla, w szczególności 2-6 atomach węgla, a zwłaszcza o 6 atomach węgla, w którym (a) grubPalkilenawymaOe ewyntublnie i dd0dłkowyzzwieraa w cczścialkilenawęjcc nałmaiej jedno z (i) 1-3 wiązań amidowych; (ii) C5 lub C6 cykloalkan; i (iii) fenylen ewentualnie podstawiony przez 1-3 człony wybrane niezależnie z grupy obejmującej C1-C3 alkile; i (b) samm o^up olkilenawy mmóż Obś owyntublnie pp0stawiona prrze oc załmaiej 1 jede ocłon wybrany z grupy obejmującej (i) hydroksy; (ii) C3-C8 cykloalkan; (iii) 1-3 człony wybrane niezależnie z grupy obejmującej C1-C3 alkile; fenyl ewentualnie podstawiony przez 1-3 człony wybrane niezależnie z grupy obejmującej C1-C3 alkile; (iv) C1-C3 alkilohydroksy; i (v) C1-C6 alkiloaminę; lub

Y=Z^{, gd}zⁱe Z=^t(^r20)(^r21)(^r22), ^gdzⁱe ^ka^żde z ^{r20, r21 i r22} jes^t mezate^e w^ybrane z ^gru^py obejmującej liniowe i rozgałęzione C1-C10 alkileny; a T jest wybrane z grupy obejmującej CR, gdzie R jest wybrane z grupy obejmującej atom wodoru, grupę składająca się z grupy określonej dla R--R₄, i trójwartościowego atomu wybranego spośród N, P i Al;

(5) Kaażdz FO'-R.i (zZio1cczoonaaczkaprzzeii R”) jentnieezleeniewyyraka z grubpoObjmajeccj metyl, etyl, propyl, izopropyl, łaccuch siloksanowy i fenyl, w którym fenyl może być ewentualnie podstawiony przez 1-3 człony z grupy obejmującej metyl i etyl. W szczególności, wartości dla R--R₄ są wybrane z grupy obejmującej metyl i etyl, a zwłaszcza metyl.

Wartości dla X, Y, DP i R--R₄ mogą być takie same lub różne dla każdej jednostki poliamidu.

Przez grupy siloksanowe rozumie się grupy o jednostkach siloksanowych:

_R30 (np. -SiO-),

I ”3 0

31 gdzie każdy z R i R jest niezależnie wybrany z grupy obejmującej ugrupowania organiczne, i każdy z R i R jest połączony z atomem krzemu przez wiązanie węgiel-krzem.

Liczby atomów w łaccuchu alkilenowym nie obejmują węgli w dodatkowych segmentach lub podstawieniach. Także poliamidy muszą mieć część siloksanową w łaccuchu głównym i ewentualnie mogą mieć część siloksanową w części wiszącej lub rozgałęzionej.

Jeśli występują powtórzenia bez zmian w określonych zmiennych, wzór A jest przykładem homopolimeru liniowego. Dopuszczalne odmiany obejmują: (1) poliamidy, w których wielokrotne wartości DP, X, Y i Ri-R4 występują w jednej cząsteczce polimerowej, w której sekwencjonowanie tych jednostek może być naprzemienne, losowe lub blokowe; (2) poliamidy, w których organiczna triamina lub

PL 194 820 B1 wyższa amina, taka jak tris(2-aminoetylo)amina zastępuje w części diaminę organiczną, by wytworzyć cząsteczkę rozgałęzioną lub usieciowaną; i (3) mieszanki fizyczne któregokolwiek z (1) i (2) i/lub homopolimery liniowe.

Szczegółowy opis wynalazku

Szczególne przykłady związków o wzorze A obejmują następujące:

1) Poliamidy o wzorze I:

r1 r²

I I

[C (O) -X- [Sio] _DpSi-X-C (O)NH-Y-NH] _n

I I

R³ R⁴

Wzór I gdzie wartości X, Y, n, R¹-R⁴ oraz DP są takie jak określono dla wzoru A. Szczególną podgrupą o wzorze I są związki, w których każde z R1 R², R³ i r4 oznacza metyl.

Korzystnymi poliamidami o wzorze I są:

O CH₃ CH₃ O

II I I II {C(CH2) 10 [SiO]_DpSiC^H2) 1qCN(CH2 ) ₆N}_n ch₃ ch₃ gdzie DP jest wybrane z 15-500, w szczególności 15-45, a zwłaszcza wynosi 29.

Inna szczególna grupa zawiera poliamidy o wzorze I, gdzie wartości X, Y, DP i R1-R4 pozostają te same w każdej jednostce polimeru.

2) Poliamidy zawierające wielokrotne długości bloków siloksanowych jak podano we wzorze II:

[C(O)-X-[Sio]_DplSi-X-C(O)-iH-Y-NH]n[C(O)-X-[Sio] _DP2Si-X-C(O)-iffi-Y-NH]_m

Wzór II

4 gdzie X, Y, n i R -R mają podane wyżej znaczenia dla wzoru A, m jest wybrane spośród tych samych grup jak określono dla n, a n i m oznaczają całkowitą liczbę jednostek ujętych w nawiasy, przy czym poszczególne jednostki są ustawione przy sekwencjonowaniu regularnym, naprzemiennym, blokowym lub losowym; R⁵-R⁸ jest wybrane z tej samej grupy jak określono dla R1-R4; DP1 i DP2 mogą być te same lub różne i każde z nich jest niezależnie wybrane z tej samej grupy jak określono dla DP, a jednostki oznaczone przez n i m mogą mieć nadaną strukturę, tak by utworzyć kopolimery blokowe (regularnie sekwencjonowane) lub losowe. W szczególnej podgrupie związków o wzorze II wszystkie grupy R są wybrane jako metyl. W innej szczególnej podgrupie związków o wzorze II DP1=DP2. W trzeciej szczególnej podgrupie wszystkie grupy R są wybrane jako metyl, a DP1=DP2.

3) Poliamidy zsyntetyzowane z wielokrotnych diamin jak podano we wzorze III:

[C (O)-X- [SiO]DPiSi-X-C)O) -HH-Y-1H] _n [C (O) -X- [Sio] D_P2Si-X-C (O) -NH-Y^NHJm

Wzór III

PL 194 820 B1 gdzie X, Y, m, n i R¹-R⁸, DP1, DP2 mają te same znaczenia jak opisano powyżej w przypadku wzoru A i wzoru II.

Y1 jest niezależnie wybrane z tej samej grupy jak określono dla Y; a jednostki oznaczone przez n i m mogą mieć nadaną strukturę, tak by utworzyć kopolimery blokowe (regularnie sekwencjonowane) lub losowe. W szczególnej podgrupie związków o wzorze III DP1=DP2. W innej szczególnej podgrupie związków o wzorze III wszystkie grupy R są wybrane jako metyl. W trzeciej szczególnej podgrupie wszystkie grupy R są wybrane jako metyl, a DP1=DP2.

4) Poliamidy zsyntetyzowane przy użyciu aminy trójfunkcyjnej jak przedstawiono we wzorze IV:

R¹ r² r⁵ r⁶

II II

[C(O) -X- [Sio] _DP1Si-X-C (O) -NH-Y^NH] _n [C (O) -X- [S±O] _Dp2Si-X-C(O) -NH-Z-NH]_m

II II r3 r4 r⁷ r8 r9 R¹⁰

I I

[NH-Y--ra-C(O)-X-[Sio]DP3S1-X-C(op p-H

I I

R¹¹ R¹²

Wzór IV ^gdzⁱe X ^Y, ^{Y1, r1}-^r8, m^, n, ^{DP1, DP2} maj^ą te same znaczente ja^k o^kre^ślono ^pow^yżej^{; r9}-^r12 s^ą w^ybrane z tej samej ^gru^py ja^k o^kre^ślono ^dla ^r1-^r8, D^p3 jes^t w^ybrane z tej samej ^gru^py ja^k o^kre^ślono dla DP, a p jest wybrane z tych samych grup jak określono dla m i n;

^^^⁰)^²¹)^²²) ^gdzⁱe ^ka^żde z ^{r20, r21 i r22} jes^t niezależnie w^ybrane z ^gru^py o^bejmuj^ącej Πniowy lub rozgałęziony C1-C10 alkilen, a T jest wybrane z grupy obejmującej CR, gdzie R jest wybran^y z ^gru^py o^bejmuj^ącej atem wo^doru ^{i tę} sam^{ą g}ru^pę ja^k o^kre^ślono ^dla ^r1-^r4, a atem Uójwarto^owy wybrany spośród N, P i Al.

Korzystnymi wartościami dla p są 1-25 przy bardziej korzystnych wartościach 1-7. Korzystne znaczente ^dla ^r1-^r12 te metyl· ^Korz^yste^ym znaczentem ^dla ^T jes^{t N}. Szcze^góln^ymⁱ warto^ścⁱam^{i dl}a ^ka^żde^go z ^Dp1-D^p3 są ¹⁵-^500, a zwteszcza ¹⁵-⁴⁵. ^Korz^yste^ym znaczentem ^dla ^ka^żde^go z ^{r20, r21 i r22} jes^t etyten. ^Korz^yste^ym znaczentem ^dla Z= (-^CH2^CH2-^3N·

Szczególną grupą związków o wzorze IV są związki o wzorze:

0 ch3	CH-	0
. II I. [SiO]£p I	I Si X I	11 CN I	Y N>n I
I CH-	I CH-	1 Η	H

o II	CH- |	CH- I	O
II {c X	1 [SiO]dp 1	I Si X I	II CN I	2 Nfm I
	1 CH3	1 CH-	1 H	1 H

{n Y N

I I

Η H

O CH, CH- O

II I Γ ll

C X [SiO]dp Si X C}p N

I I

CH- CH- _H

Wzór IV gdzie X=-(CH2-1₀-, Y=-(CH2--; DP=15-45; m=5-20% wartości m+n+p; a Z=(-CH2CH2-3N. Zasadniczo poliamidy (1) oparte na siloksanach zawierają zarówno grupy siloksanowe jak i grupy amidowe, by zagęścić kompozycje zawierające płyny silikonowe (lotne i/lub nielotne płyny silikonowe); (2) są niepłynnymi substancjami stałymi w temperaturze pokojowej; i (3) rozpuszczają się w płynie, który zawiera silikon w temperaturze 25-160°C tworząc półprzeźroczysty lub klarowny roztwór w temperaturze w tym zakresie.

PL 194 820 B1

Co się tyczy jednostek siloksanowych w poliamidach opartych na siloksanach, jednostki siloksanowe muszą być w łańcuchu głównym, lecz mogą być także ewentualnie obecne w łańcuchach rozgałęzionych lub wiszących. W łańcuchu głównym jednostki siloksanowe występują w segmentach jak opisano powyżej. W przypadkach łańcuchów rozgałęzionych lub wiszących, jednostki siloksanowe mogą występować indywidualnie lub w segmentach.

Szczególne grupy opartych na siloksanach poliamidów obejmują:

(a) poliamidy o wzorze 1, w którym DP wynosi 15-50;

(b) mieszanki fizyczne dwóch lub więcej pollamidów, w których co najmniej jeden pollamid ma wartość DP w zakresie 15-50, a co najmniej jeden poliamid ma wartość DP w zakresie 30-500;

(c) związki o wzorze II, gdzie (11 wartość DP1=15-50, a wartość DP2=30-500 i (2) część pollamidu o DP1 wynosi około 1-99% wag. w oparciu o ciężar całkowitej zawartości poliamidu, i część poliamidu o DP2 wynosi około 1-99% wag.;

(d) mieszanki fizyczne pollamidów o wzorze i wykonaneprzez kombinację (11 80-99% wag. poliamidu, gdzie n=2-10, a zwłaszcza gdzie n=3-6, a (2) 1-20% wag. poliamidu, gdzie n=5-500, zwłaszcza gdzie n=6-100;

(e) poNamidy o wzorze III, gdzie co najmniej jeden z Y i Y¹ zawiera co najmnńej jedno podstawienie hydroksylowe;

(f) poNamidy o wzorze A z^ynt^^1^^:z<^\^^n^ przy użyciu co najmniej części aktywowanego dikwasu (chlorek dikwasowy, dibezwodnik lub diester) zamiast dikwasu;

(g) poliamidy o wzorze A, gdzie X=-(CH))3-;

(h) poliamidy o wzorze A, gdzie X=-(CH))₁₀-;

(i) poHamidy o wzorze A, gdzie pohamidy są wykonane przy użyciu monofunkcyjnego stopera łańcucha wybranego z grupy obejmującej aminy jednofunkcyjne, kwasy jednofunkcyjne, alkohole jednofunkcyjne, włączając w to kwasy tłuszczowe, alkohole tłuszczowe i aminy tłuszczowe, takie jak np. oktylamina, oktanol, kwas stearynowy i alkohol stearylowy. Zasadniczo poliamidy o wzorze A można wytworzyć przez reakcję kondensacji, w której dikwas jest poddany reakcji z diaminą i jest usuwana woda. W tym przypadku dikwas zawiera grupy siloksanowe. Np. jako dikwas można użyć polidimetylosiloksan zakończony przez karboksydecyl. Należy zauważyć, że inne dikwasy organiczne, diaminy i środki jednofunkcyjne mogą być stosowane w połączeniu z dikwasem i diaminą, by uzyskać zmodyfikowane właściwości. Także chlorki dikwasowe, dibezwodniki kwasowe oraz diestry można użyć zamiast dikwasów. Jeden sposób obejmuje stosowanie w przybliżeniu w równych ilościach molowych diaminy i dikwasu.

Korzystny schemat reakcji otrzymywania poliamidów o wzorze (I) obejmuje kondensację dikwasu siloksanowego z diaminą organiczną jak następuje:

(1) Jest wytwarzany polidimetylosiloksan zablokowany na końcu przez wodorek dimetylu, zawierający odpowiednią ilość jednostek siloksanowych, by uzyskać żądaną wartość DP.

(2) Grupa karboksylowa kwasu jesS chroniona przez reakccę z h^i^^^r^^1^^lc^<di^ silazanem (dimetylotrimetylosililoaminosililo)metanem).

(3) Pohdimejylosiioksan zablokowany na końcu przez dimetylu i zabezpieczony kwas undecylenowy (produkty etapów (1) i (2)) są poddane reakcji, by wytworzyć dikwas siloksanowy (polidimetylosiloksan zakończony karboksydecylem). Reakcja zachodzi w obecności katalizatora platynowego, takiego jak kwas chloroplatynowy, i produkt jest przemywany metanolem, by usunąć trimetylosililową grupę zabezpieczającą.

(4) Dikwas siiok^^n<^'^y (produkt etapu (3)) jest poddany reakcci z diaminą organiczną, by wytworzyć poliamid oparty na siloksanie. Reakcja może się wiązać z użyciem rozpuszczalnika reakcji, takiego jak toluen lub ksylen.

Optymalne polimery tworzy się w reakcji dikwasu siloksanowego o DP=1-500, zwłaszcza 15-45, i organicznej aminy wielofunkcyjnej. Można wytworzyć polimery o ciężarach cząsteczkowych w zakresie 3000-200000, zwłaszcza te w zakresie 5000-50000. Optymalizacja długości części siloksanowych cząsteczki (DP) wiąże się z równoważeniem różnych aspektów. Poliamidy o długich łańcuchach siloksanowych (np., DP>50) mają tendencje do wytworzenia miękkich żeli w cyklometikonie. Skuteczność żelanta jest zwiększona przez obniżenie długości jednostek siloksanowych (tzn. wybranie i wykonanie cząsteczki o DP<50) lecz zgodność z cyklometikonem może ulec pogorszeniu w miarę jak obniża się DP. Np. poliamid zsyntetyzowany z dikwasu siloksanowego o DP=15 i heksametylenodiamina nie wytwarzają klarownych żeli w cyklometikonie. Jednak przeźroczyste żele można otrzymać, gdy organiczny środek zmiękczający, taki jak eter mirystylowy PPG-3 (eter mirystylowy PPG-3, który jest eterem

PL 194 820 B1 alkoholu mirystylowego glikolu polipropylenowego odpowiadającego zasadniczo wzorowi CH3(CH2)i2CH2(OCH(CH3)CH2)dOH, gdzie d ma wartość średnią 3), lub alkohol izocetylowy jest zmieszany na różnych poziomach z płynami silikonowymi. W wyniku tego korzystne są polimery o DP=30, tak że preparat uzyskanej kompozycji kosmetycznej charakteryzuje połączenie zgodności z płynami silikonowymi i dobrej skuteczności żelowania.

Korzystne aminy organiczne obejmują (1) liniowe alkilodiaminy, takie jak heksametylenodiamina i etylenodiamina i ich mieszaniny; (2) fenylenodiaminę i (3) inne aminy, takie jak piperyzyna, dekametylen, ksylenodiamina i diamina glikolu polietylenowego.

Dopuszczalne odmiany tego procesu można stosować przez:

(a) Zmianę długości indywidualnej części siloksanowej (DP dikwasu siloksanowego), biorąc pod uwagę, że wyższe wartości DP prowadzą do lepszej zgodności polimeru z płynami silikonowymi, lecz obniżonej skuteczności żelowania, i stąd do bardziej miękkich żeli;

(b) Optymalizację warunków reakcji, by sprzyjać wybranemu zakresowi ciężarów cząsteczkowych, np., wyższych ciężarów cząsteczkowych. Uważa się, że polimery o wyższych ciężarach cząsteczkowych dają żele o lepszych właściwościach mechanicznych; takie rozkłady wyższego ciężaru cząsteczkowego można otrzymać przez zminimalizowanie zanieczyszczeń reagentów, optymalizowanie czasów reakcji i temperatur itp. Przykłady usuwania zanieczyszczeń obejmują usuwanie zanieczyszczeń jednofunkcyjnych, takich jak te w karboksysilikonach.

(c) Zmianędiaminy użytej dozmianyszzywności wytwarzanychżell· Podstawione di^rmrn^, takie jak trimetyloheksylenodiamina, wytwarzają polimery o niższej skuteczności żelowania niż polimery oparte na analogicznych diaminach niepodstawionych (takich jak heksametylenodiamina). Uważa się, że diaminy z zawadą steryczną działają tak by przerwać połączenia międzycząsteczkowe polimeru i tym samym prowadzą do bardziej miękkich żeli.

(d) Wybranie rozpuszczalnika innego niż toluen lub ksylen do jako rozpuszczalnik reakcji. Rozpuszczalnik powinien być wybrany w oparciu o jego temperaturę wrzenia, zdolność do tworzenia azeotropów z wodą i jego profil bezpieczeństwa. Optymalne rozpuszczalniki ułatwią eliminację wody z naczynia reakcji sprzyjając produktom o wyższym ciężarze cząsteczkowym. Alternatywnie można zastosować cyklometikon jako rozpuszczalnik reakcji, tak że układ żelu jest tworzony bezpośrednio in situ.

(e) Zassąpienie reagenta - dikwasu siioksanowego (zwanego także dikwasem siilkonowym) analogicznymi związkami aktywowanymi, takimi jak diester etylowy, chlorek dikwasowy lub di-bezwodnik, by poprawić skuteczność.

(f) ZasSąpienie diaminy organicznee w części triaminą organiczną lub wyższą aminą, by wytworzyć rozgałęziony lub usieciowany poliamid.

Szczególnym przykładem tego ogólnego schematu reakcji jest użycie kwasu undecylenowego (kwas undeka-10-enowy, CAS nr 112-38-9) i di(trimetylosililo)aminy jako grupy zabezpieczającej kwas undecylenowy.

Bardziej szczególny opis całkowitego procesu jest następujący. Pierwszy etap wiąże się z wytworzeniem polimeru polidimetylosiloksanowego zablokowanego na końcu przez dimetylowodorek stosując katalizę kwasową. Dihydrotetrametylodisiloksan, dimetylocyklosiloksany i kwas trifluorometanosiarkowy miesza się razem i ogrzewa do 80°C, by umożliwić reakcję zrównoważenia, która tworzy polimer polidimetylosiloksanowy zablokowany na końcu przez dimetylowodór i dimetylocyklosiloksany. Po 4 godz. polimeryzacji w 80°C, siloksan jest neutralizowany stosując węglan wapnia lub wodorowęglan sodu w 80°C przez minimum 2 godz. Po zobojętnieniu polimer jest przesączony i wyodrębniony (Produkt A).

Grupa karboksylowa kwasu undecylenowego jest zabezpieczona grupą trimetylosililową, którą otrzymuje się przez poddanie reakcji kwasu undecylenowego z heksametylodisilazanem. Do kolby dodaje się kwas undecylenowy i toluen, heksametylodisilazan dodaje się do lejka do dodawania i jest on dodawany kroplami podczas mieszania substancji. Po całkowitym dodaniu heksametylodisilazanu, temperatura naczynia reakcyjnego wzrasta do 110°C i mieszaninę pozostawia się do przereagowania przez cztery godziny. Następnie kolbę ogrzewa się do 150°C pod obniżonym ciśnieniem w zakresie 6,65-10² Pa - 26,60-10² Pa (5-20 mm Hg) i toluen usuwa się. Po całkowitym usunięciu toluenu, stosuje się kolumnę destylacyjną do oczyszczenia zabezpieczonego kwasu undecylenowego. Destylację wykonuje się przy około 150°C i 13,3-102 p- (10 mm Hg). Produkt szczytowy wyodrębnia się (Produkt B).

Produkt A poddaje się reakcji z Produktem B przez reakcję hydrosililowania stosując dowolny odpowiedni katalizator platynowy lub rodowy. Produkt A umieszcza się w kolbie z katalizatorem platynowym,

PL 194 820 B1 substancje miesza się i ogrzewa do 80°C. Co się tyczy przykładu odpowiedniego katalizatora, można stosować wystarczającą ilość zneutralizowanego kompleksu chlorku platynawego i diwinylotetrametylodisiloksanu (np. jak przedstawiono w opisie patentowym USA 5175325) w stężeniu takim, by dostarczyć 5-15 części na milion (ppm) Pt (metal) na całość kompozycji. Produkt B umieszcza się w lejku do dodawania i dodaje kroplami do produktu A przy kontrolowanej szybkości, by kontrolować powstające zjawisko egzotermiczne. Ze względu na występowanie reakcji egzotermicznej jest ważne by monitorować dodawanie Produktu B. Po zakończeniu dodawania Produktu B, mieszaninę pozostawia się do przereagowania w temperaturze przez dodatkową godzinę. Następnie mieszaninę ogrzewa się do 150°C pod obniżonym ciśnieniem (np. w zakresie 6,65-10² Pa - 26,60-10² Pa (5-20 mm Hg), by usunąć dimetylocyklosiloksany i jakikolwiek nieprzereagowany kwas undecylenowy. Następnie mieszaninę ochładza się do poniżej 60°C i dodaje etanol, by odbezpieczyć kwas undecylenowy. Reakcja ta tworzy siloksan blokowany na końcu przez kwas karboksylowy i trimetylometoksysilan. Substancje pozostawia się do przereagowania przez co najmniej jedną godz. w 60°C, a następnie kolbę ogrzewa się do 150°C pod obniżonym ciśnieniem (np. w zakresie 6,65-10 Pa - 26,60-10 Pa (5-20 mm Hg), by usunąć resztkowy metanol i trimetylometoksysilan. Następnie wyodrębnia się siloksan z grupą funkcyjną kwasu dikarboksylowego (Produkt C).

Produkt C poddaje się reakcji z heksametylenodiaminą (reakcja amidyzacji). Produkt C i toluen umieszcza się w kolbie i pozostawia do mieszania w temperaturze pokojowej. Do Produktu C dodaje się heksametylenodiaminę i temperatura kolby wzrasta do 150°C. Kolba jest wyposażona w nasadkę Deana-Starka i urządzenie do przedmuchiwania azotu, by wspomagać usuwanie wody tworząc wiązanie amidowe. Po osiągnięciu 150°C reakcję pozostawia się do przebiegania przez 3-4 godz.; toluen i wodę okresowo usuwa się z nasadki Deana-Starka. Po całkowitej reakcji produkt jeszcze w stanie stopionym usuwa się z naczynia reakcyjnego. Po ochłodzeniu poliamid silikonowy tworzy klarowne sztywne tworzywo termoplastyczne (Produkt D).

Związki o wzorze 1 można wytworzyć stosując dikwas siloksanowy (lub pochodną kwasową) o pojedynczej średniej wartości DP.

Związki o wzorze II można wytworzyć stosując dwa lub więcej siloksanów blokowanych na końcu dimetylowodorem, które wytwarza się, następnie miesza i przekształca w karboksylan, a następnie przekształca w poliamid o sekwencji losowej. Ewentualnie, dwa (lub więcej) siloksany blokowane na końcu dimetylowodorem mogą być dodawane sekwencyjnie tworząc kopolimer blokowy.

Związki o wzorze III można wytworzyć jak opisano powyżej w szczególnym opisie procesu, lecz diaminy są mieszane, a następnie dodawane do dikwasu siloksanowego (lub pochodnej kwasowej) tworząc poliamid. Ewentualnie mogą być dodane sekwencyjnie tworząc różne bloki.

Związki o wzorze IV można wykonać jak opisano powyżej w szczególnym opisie procesu, lecz poliamina jest mieszana z diaminą, a następnie dodawana do dikwasu (lub pochodnej kwasowej jak opisano powyżej).

Stwierdzono, że optymalne żelowanie występuje w przypadku żelantów poliamidów o ciężarze cząsteczkowym (średnia liczbowa) większym niż 4000 (daltonów) jak określono za pomocą chromatografii żelowej (GPC) stosując polidimetylosiloksan jako wzorzec. Polimery o skrajnie dużym ciężarze cząsteczkowym (np. wyższym niż 200000) mają tendencję do tworzenia gumowatych, elastycznych żeli i są mniej pożądane i optymalny zakres ciężarów cząsteczkowych dla pierwotnego żelanta powinien wynieść od 4000-50000, zwłaszcza 5000-50000. Uważa się jednak, że włączenie niskich ilości związków o tak wysokich ciężarach cząsteczkowych, np. 0,5% wag. poliamidu o wysokim ciężarze cząsteczkowym (w zakresie 20000-200000) może dać kompozycję podstawową, z której wykonane kompozycje kosmetyczne będą wykazywały ulepszone właściwości mechaniczne.

Ewentualnie poliamidowy środek żelujący może także być „przykryty na końcu”. „Przykrycie” można wykonać przy użyciu środka wybranego z grupy obejmującej C1-C20 alifatyczne alkohole jednowodorotlenowe, C1-C20 alifatyczne aminy pierwszorzędowe, fenylowe aminy pierwszorzędowe ewentualnie podstawione przez 1-3 człony wybrane z grupy obejmującej związki C1-C6 alifatyczne, kwasy C1-C20 alifatyczne i chlorki kwasów C1-C20 alifatycznych.

Jak zaznaczono powyżej, oparte na siloksanie poliamidy stosowane jako środki zagęszczające w podstawie i kompozycje kosmetyczne według niniejszego wynalazku zawierają zarówno jednostki siloksanowe jak i wiązania amidowe. Jednostki siloksanowe zapewniają zgodność z płynem silikonowym (np. z cyklometikonami), podczas gdy wiązania amidowe i odstęp oraz wybór umiejscowienia wiązań amidowych ułatwia żelowanie i tworzenie produktów kosmetycznych. Podczas gdy można utworzyć kompozycje nieprzeźroczyste jak i klarowne, korzystne jest by utworzone kompozycje kosmetyczne

PL 194 820 B1 były klarowne i nie pozostawiały pozostałości po chłodzeniu roztworu polimeru siloksanowego w płynie silikonowym.

Kompozycję podstawową utworzoną z poliamidów zgodnie z niniejszym wynalazkiem i płynów silikonowych (włączając w to lotne i nielotne płyny silikonowe) (ewentualnie przy dodaniu innych rozpuszczalników i/lub innych dodatków kosmetycznych) można wykonać technikami mieszania i ogrzewania znanymi biegłym w sztuce dla wykonywania takich form jako żele, miękkie substancje stałe i sztyfty jak również wykonywania produktów kosmetycznych, które zawierają różne składniki aktywne.

Kompozycje podstawowe według niniejszego wynalazku obejmują (1) co najmniej jeden płyn silikonowy; (2) oparty na siloksanie poliamidowy środek żelujący zawierający część siloksanową w łańcuchu głównym, która jest polimerem rozpuszczalnym w płynie silikonowym i może tworzyć żel z roztworu w płynie silikonowym; i (3) ewentualnie co najmniej jeden dodatkowy rozpuszczalnik (np. taki, który jest mieszalny w wybranym płynie silikonowym).

Przez płyn silikonowy należy rozumieć substancje typowo stosowane w kompozycjach kosmetycznych. Odpowiednie płyny silikonowe mogą być lotne, nielotne lub być ich mieszaniną. Obejmują one liniowe siloksany znane jako dimetikony, liniowe siloksany zawierające podstawienie aromatyczne, takie jak fenylotrimetikon [trimetylo(fenylo-bis-(trimetylosililoksy)-sililo)oksy-silan] i różne cykliczne siloksany o 4-6 jednostkach siloksanowych w pierścieniu ewentualnie podstawionym przez C1-C6 alkil lub fenyl, w szczególności cykliczne dimetylosiloksany, takie jak cyklometikony. Można stosować mieszaniny takich płynów silikonowych. Odpowiednie lotne płyny silikonowe przedstawione w opisie patentowym USA 5102656 (dla Kasata), cytowanym powyżej. Przykłady innych znanych płynów silikonowych dla stosowania w kompozycjach kosmetycznych ujawniono w opisie patentowym USA nr 4853214 (dla Orra) cytowanym powyżej i są odpowiednie do stosowania w tym wynalazku. Inne szczególne przykłady obejmują liniowe lotne płyny silikonowe, np. ciecze silikonowe typowo stosowane w kompozycjach kosmetycznych.

Przez określenie - rozpuszczalny w płynie silikonowym - rozumie się, że polimer może być rozpuszczony w płynie silikonowym co najmniej w podwyższonych temperaturach lecz poniżej temperatury topnienia płynu silikonowego.

Następnie kompozycja podstawowa jest łączona z co najmniej jednym składnikiem aktywnym (który sam może potrzebować dalszej zaróbki do włączenia w kompozycję podstawową) i mogą być dodane inne ewentualne składniki, takie jak aromaty, środki zmiękczające (zwłaszcza środki zmiękczające mieszalne z silikonem), barwniki, wypełniacze, środki antybakteryjne (środki do zwalczania drobnoustrojów) i inne typowe składniki znane specjalistom dla sporządzania receptur takich produktów, by tworzyć kompozycje kosmetyczne.

Kompozycje kosmetyczne według niniejszego wynalazku obejmują co najmniej jeden płyn silikonowy i polimer zawierający siloksan jak również co najmniej jedną substancję aktywną kosmetycznie, włączoną do kompozycji w ilości wystarczającej do uzyskania efektu funkcjonalnego. Takie składniki aktywne obejmują (lecz nie są ograniczone do): aromaty, środki przeciwsłoneczne, antyperspiranty, dezodoranty i środki przeciwbakteryjne (środki do zwalczania drobnoustrojów). Np. gdy kompozycja jest kompozycją do ochrony skóry od słońca, w kompozycji jest dostarczona wystarczająca ilość środka przeciwsłonecznego, tak że gdy kompozycję nanosi się na skórę, skóra jest chroniona od szkodliwych efektów słońca (np. jest chroniona od promieni ultrafioletowych ze słońca).

Kompozycje według niniejszego wynalazku można także wykorzystywać do tworzenia klarownych kompozycji antyperspiracyjnych mających systemy wielofazowe, przy czym takie systemy wielofazowe mają fazę polarną (np. wodę) (włączając w to aktywną substancję antyperspiracyjną) i fazę oleistą (włączając w to płyny silikonowe i polimer siloksanowy). Aby dostarczyć klarowny system wielofazowy, pożądane jest, by współczynniki załamania faz oleistej i polarnej były dopasowane do siebie, jak to typowo ma miejsce w dziedzinie techniki.

Kompozycje podstawowe i kosmetyczne według niniejszego wynalazku można łatwo wytwarzać sposobami znanymi biegłym w sztuce, takimi jak przez stosowanie znanych procedur mieszania. Kompozycje podstawowe według niniejszego wynalazku można wytworzyć przez zmieszanie różnych składników w podwyższonej temperaturze (tzn. przez ogrzewanie i mieszanie różnych składników), a następnie chłodzenie, aby utworzyć zżelowaną (zestaloną) kompozycję, np. jako żel lub sztyft. W przypadku kompozycji kosmetycznych, dodaje się dodatkowe składniki stosując techniki i niekiedy w procesie wytwarzania, takie jakie są znane w dziedzinie techniki. Pożądane jest, by jakiekolwiek składniki lotne (takie jak aromaty) były dodawane do mieszaniny w stosunkowo późnym etapie mieszania, tak by ograniczyć ulatnianie się składników lotnych.

PL 194 820 B1

Zasadniczo rozpuszczalnik i środek zagęszczający (np. poliamidowy środek żelujący) są mieszane i ogrzewane tak, by w pełni rozpuszczać środek zagęszczający w rozpuszczalniku. Składnik aktywny (np. antyperspiracyjna substancja aktywna, np. w postaci suchej lub jako część roztworu) może być dodana po tym jak środek zagęszczający w pełni się rozpuści, a następnie odbywa się mieszanie. Mieszanie trwa przy ochładzaniu, przy czym następnie np. dodaje się barwnik i aromat. Następnie uzyskaną kompozycję, wciąż ciekłą, wlewa się do kanistrów, np. dozowników, i zestala, jak w przypadku typowych kompozycji sztyftów i żeli.

Ilustracyjny i nieograniczający przykład niniejszego wynalazku jest następujący:

Oparty na silikonie polimer poliamidowy może być rozpuszczony w płynie silikonowym, np., w podwyższonych temperaturach (np. do 160°C), tak by utworzyć roztwór, przy czym następnie wykonuje się chłodzenie tworząc żel. Korzystne jest by roztwór nie był ogrzewany zbyt długo lub w zbyt wysokiej temperaturze, ponieważ to może niekorzystnie spowodować, że żel będzie zabarwiony (a nie bezbarwny). Kosmetyczną substancję aktywną można dodać do roztworu płynu silikonowego i środka żelującego polimer i zaraz po tym mieszać, tak by była jednorodnie rozmieszczona w produkcie.

Np. płyny silikonowe i zawierające siloksan polimery mogą być zmieszane w podwyższonych temperaturach, tak by rozpuścić polimer w płynach silikonowych, z dodanymi substancjami kosmetycznie aktywnymi do mieszaniny płynów silikonowych i polimeru. Po ochłodzeniu mieszaniny polimer tworzy żel z mieszaniny osiągając żądany produkt. W przypadku, gdy jest włączona faza wodna, wynikiem jest emulsja. Kompozycje podstawowe według niniejszego wynalazku są żelami odwracalnymi termicznie; tzn. tworzą one żele po ochłodzeniu i są upłynniane przy ogrzewaniu.

Gdy produkt jest produktem w postaci sztyftu, produkt stopiony w podwyższonych temperaturach może być wlany do dozowników i pozostawiony do ochłodzenia i utwardzenia w nim. W przypadku gdy produkt jest miękką substancją stałą lub kremem, produkt może być pakowany w typowe pojemniki mające porowatą powierzchnię szczytową, jak to typowo ma miejsce według stanu techniki.

Gdy kompozycja kosmetyczna według niniejszego wynalazku jest w postaci produktu w postaci sztyftu, kompozycję można nanosić przez wysunięcie sztyftu z opakowania, tak by eksponować koniec sztyftu, a następnie potarcie końcem sztyftu o skórę, aby osadzić materiał sztyftu (włączając w to substancję kosmetycznie aktywną, taką jak antyperspiracyjna substancja aktywna) na skórę. Gdy kompozycja według niniejszego wynalazku jest w postaci kompozycji żelowej pakowanej w dozownik mający powierzchnię szczytową zawierającą pory, żel jest wytłaczany z dozownika przez pory i nanoszony na skórę przez pocieranie substancji żelu, który wytłoczono przez powierzchnię szczytową pojemnika na skórę. Zatem w przypadku antyperspirantu, substancja aktywna na skórze jest dostępna, by zmniejszyć przykry zapach ciała i/lub zmniejszyć przepływ pocenia się z np. obszarów pachowych ciała.

Poliamidy zgodnie z wynalazkiem można stosować jako środek zagęszczający w kompozycjach zawierających płyny silikonowe do tworzenia kremów (np. półstałe lub miękkie stałe), żele i sztyfty; zatem mogą być utworzone zarówno miękkie (i pulpowate) jak i stałe (i twarde) kompozycje. Konsystencja produktu będzie zależeć od ilości użytego środka żelującego (środków żelujących).

Można utworzyć produkty o rozmaitej klarowności i przeźroczystości. Można utworzyć klarowne kompozycje kosmetyczne, jeśli wszystkie składniki szczególnej kompozycji kosmetycznej są rozpuszczalne wzajemnie, prowadząc do produktu jednofazowego.

Klarowne kompozycje farmaceutyczne można także wytworzyć z kompozycji wielofazowych, np. emulsji lub zawiesiny, jeśli każda poszczególna faza jest klarowna i współczynnik załamania światła każdej fazy zgadza się. Ponadto klarowne kompozycje kosmetyczne można otrzymać z wielofazowych kompozycji jeśli wielkość kropelki (cząstki) wewnętrznej fazy (faz) jest dość mała, mniejsza niż 0,5 mikrometra. Przykładami tego są mikroemulsje i bardzo drobne cząstki w zawiesinie. Jeśli nie są spełnione powyższe warunki, kompozycje kosmetyczne będą wykazywać różne stopnie przeźroczystości i nieprzeźroczystości.

Do kompozycji podstawowej można dodać dodatki w celu dodania składników aktywnych, poprawy właściwości mechanicznych, poprawy właściwości estetycznych, wytworzenia klarownego produktu, wytworzenia produktu o określonym kolorze itp. Zatem kompozycje kosmetyczne można następnie wykonać przez połączenia kompozycji podstawowej z jednym lub więcej dodatkowymi składnikami, składnikami aktywnymi, jedną lub więcej zaróbkami, by umożliwić, by składnik aktywny łatwiej łączył się (lub też przy korzystniejszych właściwościach) z kompozycją podstawową i innymi składnikami stosowanymi przez specjalistów z dziedziny techniki przy tworzeniu receptury produktów akceptowalnych kosmetycznie włączając aromaty, środki zmiękczające, środki przeciwbakteryjne, utwardzacze, wzmacniacze, środki chelatujące, barwniki, emulgatory i inne składniki, takie jak krzemionki, żywice

PL 194 820 B1 oparte na krzemionce, skrobia kukurydziana, tlenek glinu, krzemionka koloidalna, węglan wapnia, glinka, talk, polimery o dużym ciężarze cząsteczkowym (np. żywice silikonowe, elastomery, polimetylometakrylan, polietylen, polipropylen i politetrafluoroetylen).

W przypadku preparatów emulsji lub zawiesiny antyperspiracyjnej, istnieje zewnętrzna zżelowana faza oleista i wewnętrzna faza, która zawiera antyperspiracyjną substancję aktywną. Zewnętrzna zżelowana faza oleista zawiera płyny silikonowe i oparty na siloksanie żelant poliamidowy, jak również ewentualne dodatki do produktu antyperspiracyjnego, takie jak środki zmiękczające, środki powierzchniowo czynne, aromaty itp.

W przypadku stosowania zawiesiny, wewnętrzna antyperspiracyjna faza aktywna składa się z cząstek stałych. Cząstki te mogą być proszkami soli antyperspiracyjnej [takiej jak chlorohydrat glinu lub glicyna tetrachlorohydreks glinowo-cyrkonowy (kompleks tetrachlorohydrat glinowo-cyrkonowy)] i może mieć zawartość wody 0-75% wag. Przy wyższych zawartościach wody (np. >50% wody) może być wymagany pewien promotor żelowania (taki jak octan amonu), by zapewnić sztywność tym kropelkom wodnym.

W rozwiązaniu dotyczącym emulsji wewnętrzna faza składa się z roztworu ciekłego zawierającego rozpuszczoną sól antyperspirantu, i w typowym przypadku zawiera rozpuszczalnik, taki jak wodę, glikol propylenowy, glikol dipropylenowy, glikol tripropylenowy, etanol itp.

Można także stosować mikroemulsje, by osiągnąć klarowne produkty.

W jednym szczególnym aspekcie wynalazku, można osiągnąć kompozycje dezodorantowe i/lub antyperspiracyjne w postaci kremów (włączając miękkie substancje stałe i substancje półstałe), żele i także sztyfty, które mają wysoką skuteczność, atrakcyjny wygląd (np. który może być klarowny lub co najmniej półprzeźroczysty) i korzystnie, które są wykonane, tak by zasadniczo nie pozostawiać widzialnej (białej) pozostałości po naniesieniu ani po suszeniu.

W kompozycji podstawowej, poliamidowy środek żelujący może być użyty w ilości 0,5-80% wag., zwłaszcza 1-30% wag., a w szczególności 2-20% wag. Korzystne jest, by żelant nie przekraczał 50% wag. kompozycji podstawowej. Porcja płynu silikonowego jest w zakresie 5-95% wag., w szczególności 10-80% wag, a zwłaszcza 20-80% wag. Ewentualnie można dodać do kompozycji podstawowej dodatkowe rozpuszczalniki, mieszaniny rozpuszczalników lub dodatków kosmetycznych. Odpowiednimi dodatkowymi rozpuszczalnikami są te, które same lub w mieszaninach z innymi rozpuszczalnikami są mieszalne w oryginalnie wybranym płynie silikonowym [np. alkohole tłuszczowe C14-C20, mirystynian izopropylu i eter mirystylowy PPG-3 (eter mirystylowy PPG-3, który jest eterem alkoholu mirystylowego glikolu polipropylenowego odpowiadającego zasadniczo wzorowi CH3(CH2)12CH2(OCH(CH3)CH2)dOH gdzie d ma wartość średnią 3)].

Zatem w przypadku żeli można stosować poziom dodawania 0,5-8% wag., korzystnie 2-6%, w oparciu o całkowity ciężar kompozycji kosmetycznej.

W przypadku sztyftów będzie się stosować wyższe poziomy opartego na silikonie poliamidu, takie jak w zakresie 5-30, zwłaszcza 6-20, a w szczególności 10-15% wag. w oparciu o całkowity ciężar kompozycji.

Oparty na siloksanie poliamidowy środek żelujący może składać się z jednego lub więcej poliamidów jak opisano powyżej (lub z mieszaniny tych polimerów) jako jedynego środka żelującego, lub może zawierać poliamid zmieszany z innymi środkami zagęszczającymi (włączając w to typowe środki żelujące). Jednostki siloksanowe dostarczają zgodności z płynami silikonowymi. Części amidowe są wykorzystywane odwracalnie do celów sieciowania, tak by utworzyć żel.

Kompozycje według niniejszego wynalazku są żelami termoodwracalnymi, tzn. żele są tworzone przez chłodzenie roztworu polimeru w płynach silikonowych, lecz żel może ulec rozpadowi (przekształceniu z powrotem w ciecz) przez jego ogrzewanie.

Żele zgodnie z niniejszym wynalazkiem obejmują płyny silikonowe. Płyny te mogą być lotne lub nielotne i obejmują, dla zilustrowania (lecz nie w sposób ograniczający), fenylotrimetikon, cyklometikony ((tetra- penta lub heksacyklodimetylo-siloksany lub ich mieszaniny) i/lub dimetikony (heksametylodisiloksany lub trimetylo-trimetylosililoksy-silany). Korzystnie płyn silikonowy obejmuje cyklometikony. Zastosowany cyklometikon (tzn. wielkość pierścienia cyklometikonu) ma wpływ na twardość utworzonych żeli. Tzn. cyklometikon mający pięć jednostek siloksanowych wytwarza bardziej miękki żel niż ten wytworzony stosując substancję o 6 jednostkach siloksanowych. Ponieważ wielkość pierścienia cyklometikonu zwiększa się, wzrasta sztywność utworzonego układu żelowego. Jak opisano powyżej szczególne przykłady odpowiednich cyklometikonów obejmują cyklometikony mające pierścienie o 4-6 jednostkach siloksanowych.

PL 194 820 B1

Następnie kompozycja podstawowa jest mieszana z innymi składnikami wymienionymi w innym miejscu, tak że można wytworzyć końcową kompozycję kosmetyczną. Takie dodatkowe składniki można stosować w ilościach 0,1-85%, w szczególności 0,1-75%, a zwłaszcza 0,1-55%, gdzie procenty odnoszą się do ciężaru całej kompozycji jako 100%. Niższe zakresy procentowe obejmują preparaty, gdzie stosuje się jedynie aromaty lub środki do zwalczania drobnoustrojów, a górne zakresy obejmują preparaty zawierające aktywne składniki antyperspiracyjne. Sam antyperspiracyjny składnik aktywny (wyłączając jakąkolwiek zaróbkę dla dodania substancji aktywnej do preparatu) może być obecny w końcowym preparacie kosmetycznym w ilości od 5-30%.

Kompozycje kosmetyczne według niniejszego wynalazku mogą także obejmować środki powierzchniowo aktywne i/lub rozpuszczalniki dla substancji aktywnej kosmetycznie. Np. gdy kompozycja jest kompozycją antyperspiracyjną, zawierającą antyperspiracyjną substancję aktywną, antyperspiracyjna substancja aktywna może być włączona w kompozycję w roztworze w np. wodzie, etanolu i/lub glikolu propylenowym, które mogą nie być mieszalne z płynem silikonowym, a kompozycja może także obejmować środki powierzchniowo aktywne, tak by dyspergować roztwór antyperspiracyjnej substancji aktywnej w kompozycji. Gdy kompozycja według niniejszego wynalazku jest kompozycją dezodorantu, kompozycja może obejmować typowe aromaty i/lub środki przeciwbakteryjne (środki do zwalczania drobnoustrojów) jako substancje aktywne dezodorantu.

Różne substancje aktywne kosmetycznie włączone do kompozycji kosmetycznych ujawniono w opisie patentowym USA nr 4322400 (dla Yuhasa), którego zawartość stanowi w całości odnośnik do niniejszego zgłoszenia.

W niniejszym opisie omawia się „substancje aktywne antyperspirantu” i „aktywne dezodorantu”. Obydwa typy substancji przyczyniają się do zmniejszenia nieprzyjemnego zapachu ciała np. nieprzyjemnego zapachu podpachowego. Przez zmniejszenie nieprzyjemnego zapachu ciała rozumie się zasadniczo, że występuje mniej nieprzyjemnego zapachu ciała po naniesieniu kompozycji na skórę osoby, w porównaniu z nieprzyjemnym zapachem ciała osoby bez naniesienia kompozycji. Takie obniżenie może być wskutek maskowania nieprzyjemnego zapachu, absorpcji i/lub reakcji chemicznej substancji związanej z nieprzyjemnym zapachem, obniżenia poziomów bakterii wytwarzających substancje związane z nieprzyjemnym zapachem np. z pocenia się, wskutek zmniejszenia pocenia itp. Antyperspiracyjne substancje aktywne, gdy są stosowane w odpowiednich ilościach, w pierwszym rzędzie działają zmniejszając nieprzyjemny zapach przez obniżenie pocenia; antyperspiracyjne substancje aktywne mogą także mieć funkcję dezodorantu np. jako środek do zwalczania drobnoustrojów lub środek bakteriostatyczny. Substancje aktywne dezodorantu zasadniczo nie obniżają pocenia, lecz obniżają niekorzystny zapach innymi sposobami. Np. jako aromaty maskujące niekorzystny zapach lub obniżające intensywność niekorzystnego zapachu; absorbenty; środki do zwalczania drobnoustrojów (bakteriostatyczne); lub środki reagujące chemicznie z substancjami związanymi z nieprzyjemnym zapachem.

W przypadku, gdy kompozycja zawiera antyperspiracyjną substancję aktywną, może być użyta jakakolwiek ze znanych antyperspiracyjnych substancji aktywnych. Obejmują one, tytułem przykładu (w sposób nieograniczający) substancje aktywne: chlorohydrat glinu, chlorek glinu, seskwichlorohydrat glinu, hydroksylochlorek cyrkonylu, kompleks glicyna glinowo-cyrkonowa [np. trichlorohydreks gly glinowo-cyrkonowy, pentachlorohydreks gly glinowo-cyrkonowy, tetrachlorohydreks gly glinowo-cyrkonowy i kompleks glicyna oktochlorohydreks gly glinowo-cyrkonowy, kompleks chlorohydreks glinowy PG, kompleks chlorohydreks glinowy PEG, kompleks dichlorohydreks glinowy PG i kompleks dichlorohydreks glinowy PEG. Substancje zawierające glin mogą być potocznie zwane antyperspiracyjnymi aktywnymi solami glinowymi. Zasadniczo dotychczasowe antyperspiracyjne substancje aktywne zawierające metale są antyperspiracyjnymi substancjami aktywnymi zawierającymi sole metali. W wykonaniach, które są kompozycjami antyperspiracyjnymi według niniejszego wynalazku, takie kompozycje nie muszą zawierać soli metali zawierających glin i mogą zawierać inne antyperspiracyjne substancje aktywne, włączając inne antyperspiracyjne substancje aktywne - sole metali. Zasadniczo można stosować kategorię I antyperspiracyjnych składników aktywnych podanych w Food and Drug Administration's Monograph dotyczącej leków antyperspiracyjnych dla ludzi do sprzedaży bez recepty. Ponadto jakikolwiek nowy lek nie podany w Monografii, taki jak azotanohydrat glinu i jego kombinacja z hydroksychlorkami cyrkonylu i azotanami, lub chlorohydraty glinowo-cynawe mogą być włączone jako antyperspiracyjny składnik aktywny w kompozycjach antyperspiracyjnych według niniejszego wynalazku.

PL 194 820 B1

Antyperspiracyjne substancje aktywne mogą być włączone do kompozycji według niniejszego wynalazku w ilościach w zakresie 0,1-30%, korzystnie 15-25% wag. całkowitego ciężaru kompozycji. Użyta ilość będzie zależeć od receptury kompozycji. Np. przy ilościach w niższym końcu szerszego zakresu (np. 0,1-10%), antyperspiracyjna substancja aktywna nie będzie zasadniczo zmniejszać przepływu potu, lecz zmniejszy niekorzystny zapach np. przez działanie jako substancja zwalczająca mikroorganizmy.

Gdy dezodorantowe substancje aktywne są włączone w kompozycje według niniejszego wynalazku, tak by dostarczyć kompozycje dezodorantowe, typowe dezodorantowe aromaty i/lub środki przeciw drobnoustrojom mogą być włączone jako dezodorantowe substancje aktywne. Aromat mógłby być, przykładowo, włączony w ilości 0,5%-3,0% wag. całkowitego ciężaru kompozycji. Znane środki bakteriostatyczne obejmują czwartorzędowe związki amoniowe, takie jak 2-amino-2-metylo-1-propanol (AMP), bromek cetylo-trimetylamoniowy, chlorek cetylopyridiniowy, 2,4,4'-trichloro-2'-hydroksydifenyloeter (Triclosan), N-(4-chlorofenylo)-N'-(3,4-dichlorofenylo)-mocznik (Triclocarban) i różne sole cynku (np., rycynoleinian cynku). Środek bakteriostatyczny może, przykładowo, być włączony do kompozycji w ilości 0,1-1,0% wag. całkowitego ciężaru kompozycji. Triclosan, może przykładowo być włączony w ilości od 0,1% do około 0,5% wag. całkowitego ciężaru kompozycji.

Kompozycje według niniejszego wynalazku mogą obejmować inne dodatki kosmetyczne typowo włączane do kompozycji kosmetycznych, włączając (lecz nie ograniczając się do): środki zapachowe, pudry kosmetyczne, barwniki, emulgatory, środki zmiękczające, woski, organosilikony, estry kwasów tłuszczowych, alkohole tłuszczowe, wosk pszczeli, behenoksydimetikon, alkohol stearylowy itp. i inne środki kosmetyczne. Tak jak w przypadku różnych innych składników, które można włączyć, uwaga jest skierowana na ewentualne składniki takie jak barwniki, środki zapachowe i dodatki opisane w następujących opisach patentowych USA: 5019375 (dla Tannera i in.) (którego treść w całości stanowi odnośnik do niniejszego zgłoszenia); opis patentowy USA nr 4937069 (dla Shina) (którego treść w całości stanowi odnośnik do niniejszego zgłoszenia), opis patentowy USA nr 5102656 (dla Kasata) (którego treść w całości stanowi odnośnik do niniejszego zgłoszenia). Zastosowanie ewentualnych dodatków może oczywiście niekorzystnie wpływać na klarowność.

Gdy kompozycja jest kompozycją antyperspiracyjną, może także obejmować rozpuszczalnik dla antyperspiracyjnej substancji aktywnej. Rozpuszczalnik ten, który nie jest mieszalny z płynem silikonowym, może być przykładowo wodą, etanolem, glikolem propylenowym i/lub glikolem dipropylenowym. Gdy antyperspiracyjna substancja aktywna jest stosowana w roztworze może być konieczne dopasowanie współczynników załamania roztworu antyperspiracyjnej substancji aktywnej, by była zgodna z częścią oleistą kompozycji, aby osiągnąć kompozycję przeźroczystą lub klarowną. Gdy antyperspiracyjna substancja aktywna jest zawieszona w kompozycji podstawowej jako substancja w postaci cząstek, może być także niezbędne dopasowanie współczynników załamania substancji aktywnej i kompozycji podstawowej, aby uzyskać klarowną lub przeźroczystą kompozycję jak opisano powyżej. Takie dopasowywanie współczynników załamania jest techniką znaną w stanie techniki i jest przedstawione w publikacji Międzynarodowego Zgłoszenia PCT nr WO 92/05767, którego treść stanowi w całości odsyłacz dla niniejszego zgłoszenia. Rozpuszczalnik dla antyperspiracyjnej substancji aktywnej może być włączony do kompozycji w ilości w zakresie 0-73%, korzystnie 0-25% wag. całkowitego ciężaru kompozycji. Rozpuszczalnik środka zagęszczającego jest włączony do kompozycji w ilości wystarczającej, tak by środek zagęszczający mógł być w nim rozpuszczony i żelowany z niego, i obejmuje płyn silikonowy (np. olej silikonowy, taki jak cyklometikon i/lub dimetikon). Zatem środek zagęszczający może być rozpuszczony w rozpuszczalniku i z niego żelowany np. przy chłodzeniu kompozycji podczas wytwarzania. Rozpuszczalnik nie jest ograniczony do substancji zawierających jedynie płyn silikonowy, i może zawierać inne rozpuszczalniki środka zagęszczającego dopóki takie rozpuszczalniki są zgodne z np. aktywną substancją kosmetyczną i nie wpływają niekorzystnie na np. klarowność kompozycji, zwłaszcza gdy jest pożądane by dostarczyć klarowną kompozycję kosmetyczną. Przykładowo, i bez ograniczania się, rozpuszczalniki mogą obejmować estry (np. mirystynian izopropylu i mleczan C12-15 alkilu), płyny silikonowe (np. cyklometikon, dimetikon), alkohole gerbetowe o 8-30 atomach węgla, szczególnie 12-22 atomach węgla (np. alkohol izolaurylowy, alkohol isocetylowy, alkohol izostearylowy), alkohole tłuszczowe (np. alkohol stearylowy, alkohol mirystylowy, alkohol oleilowy), etanol, i alkohole etoksylowane i propoksylowane (np. eter alkoholu laurylowego glikolu polietylenowego, odpowiadający wzorowi CHa(CH2)1ciCH2(OCH2CH2)bOH, gdzie b ma wartość średnią 4 (także zwany laureth-4), eter butylowy PPG-14, gdzie część „PPG-14” stanowi polimer tlenku propylenu, odpowiadający zasadniczo wzorowi H(OCH2C(CHa)H)_cOH, gdzie c ma wartość średnią 14, lub

PL 194 820 B1 eter mirystylowy PPG-3, który jest eterem alkoholu mirystylowego glikolu polipropylenowego odpowiadającego zasadniczo wzorowi CH3(CH2)12CH2(OCH(CH3)CH2)dOH, gdzie d ma wartość średnią 3. Można także stosować mieszaniny rozpuszczalników. Oczywiście środek żelujący musi być rozpuszczalny w układzie rozpuszczalnika, przynajmniej w podwyższonych temperaturach jak przedstawiono w opisie patentowym USA 5500209.

Pożądane jest, by kompozycje według niniejszego wynalazku zawierały mieszalne z silikonem środki zmiękczające. Przykładowe środki zmiękczające, które nie ograniczają niniejszego wynalazku obejmowałyby: alkohole gerbetowe (takie jak alkohol isocetylowy lub alkohol izostearylowy); estry (takie jak palmitynian izopropylowy, izostearynian izopropylowy, stearynian oktylowy, laurynian heksylowy i mleczan izostearylowy); ciekłą mieszaninę węglowodorów, które są cieczami w temperaturach otoczenia (takich jak destylaty ropy naftowej i lekkie oleje mineralne); i etanol. Rozpuszczalniki mieszalne z silikonem (zwane także środkami zmiękczającymi) mogą być włączone do kompozycji według niniejszego wynalazku w ilościach w zakresie 0-70%, korzystnie 0-25% wag., całkowitego ciężaru kompozycji.

Gdy układ wielofazowy jest wykorzystywany jako kompozycja według niniejszego wynalazku, korzystnie kompozycja zawiera środek powierzchniowo czynny lub mieszankę środków powierzchniowo czynnych. Środki powierzchniowo czynne przykładowo zawierają alkanoloamidy (takie jak N-alkilopirolidon), etoksylowane amidy (np. amid glikolu polietylenowego kwasu pochodzącego z łoju odpowiadający w ogólnym przypadku wzorowi RC(O)-NH-(CH2CH2O)_nH, gdzie RC(O)- oznacza kwasy tłuszczowe pochodzące z łoju, a n ma wartość średnią 50 (zwany także amidem łojowym PEG-50); tlenki amin (np. tlenek kokoamidopropylaminy); etoksylowane kwasy karboksylowe (np. diester kwasu laurynowego glikolu polietylenowego, który w ogólnym przypadku odpowiada wzorowi CH3(CH2)1ciC(O)-(OCH2CH2)nO-C(O)(CH2)1ciCH3, gdzie n ma wartość średnią 8 (zwany także dilaurynianem PEG-8)); etoksylowane glicerydy (np. pochodna glikolu polietylenowego i oleju rycynowego przy średnio 4 molach tlenku etylenu (zwana także olejem rycynowym PEG-4)); estry glikolowe (np. rycynoleinian glikolu propylenowego); monoglicerydy (np. mirystynian glicerolu); estry poliglicerylowe (np. eter oleinowy poliglicerylu-4); estry i etery alkoholi wielowodorotlenowych (np. distearynian sacharozy): sorbitan/estry sorbitanu (np. seskwiizostearynian sorbitanu); triestry kwasu fosforowego (np. fosforan trioleth-8 (substancja, która stanowi głównie triester kwasu fosforowego i etoksylowanego alkoholu oleilowego przy średnio 8 molach tlenku etylenu); etoksylowane alkohole [np. laureth-4 (polioksyetylenowany średnio 4 molami tlenku etylenu eter laurylowy)]; etoksylowana lanolina (np. pochodna glikolu polietylenowanego lanoliny przy średnio 20 molach tlenku etylenu (zwana także lanoliną PEG-20)); etoksylowane polisiloksany (np. kopoliol dimetikonu); propoksylowane etery polioksyetylenowe (np. polioksypropylen, eter polioksyetylenu alkoholu cetylowego, który w ogólnym przypadku odpowiada wzorowi CH3(CH2)i4CH2(OCH(CH3)CH2)x(OCH2CH2)yOH' gdzie x ma wartość średnią 5, a y ma wartość średnią 20 (zwany także ceteth-20 PPG-5)); i alkilopoliglikozydy (np. lauryloglukoza). Środek powierzchniowo czynny (lub mieszanka środków powierzchniowo czynnych) zawiera związki niejonowe, i może także obejmować ich mieszanki z kationowymi (np. amina kwasu pochodzącego z łoju z glikolem polietylenowym, która odpowiada w ogólnym przypadku wzorowi R-NH-(CH2CH2O)nH (zwana także aminą łojową PEG-15)) lub anionowymi (np. izetionian lauroilowo-sodowy, który jest solą sodową estru kwasu laurynowego kwasu izetionowego) środkami powierzchniowo czynnymi.

Środek powierzchniowo czynny lub ich mieszanka dodawana do kompozycji według niniejszego wynalazku może, przykładowo, być włączona w ilościach 0-15%, korzystnie 1-10% wag., całkowitego ciężaru kompozycji.

Jak wskazano uprzednio, kompozycje według niniejszego wynalazku mogą być kremami (substancjami półstałymi lub miękkimi substancjami stałymi), żelami lub sztyftami, zależnie od ilości środka zagęszczającego włączonego do kompozycji. Trudno ilościowo rozróżnić między kosmetycznym „żelem” i kosmetycznym „sztyftem”. W ogólnym przypadku, żel jest bardziej lepki niż ciecz lub pasta, która nie zachowuje swojego kształtu; nie jest tak sztywny jak sztyft. W typowym przypadku należy rozumieć, że żele są miękkimi, deformowalnymi produktami, podczas gdy sztyfty są substancjami stałymi zachowującymi kształt. Np. dzięki analizie reologicznej określono, że dostępny handlowo sztyft dezodorantu ma wartość plateau składowej rzeczywistej modułu Θ'(ω) około 10⁵ Pa, a lepkość zespoloną 10⁶ Pa s (obydwie przy częstotliwości kątowej 0,1 rad/s). Z drugiej strony określono, że dostępny handlowo żel antyperspiracyjny ma wartość Θ'(ω) około 10³Pa i lepkość zespoloną 10⁴Pa s (przy 0,1 rad/s).

PL 194 820 B1

Kompozycje kosmetyczne według niniejszego wynalazku zawierają zarówno środek zagęszczający i rozpuszczalnik poliamidowego środka żelującego (w niniejszym zgłoszeniu poliamidowy środek żelujący i rozpuszczalnik środka żelującego dostarczają zaróbki dla aktywnej substancji kosmetycznej i są określane jako zaróbka).

W szeregu korzystnych wykonań kompozycje podstawowe i kompozycje kosmetyczne według niniejszego wynalazku zawierają wystarczającą ilość środka zagęszczającego, tak by końcowa kompozycja kosmetyczna była kompozycją stałą, np. żelem lub sztyftem.

Poniżej podano przykłady ilustrujące kompozycje w ramach zakresu niniejszego wynalazku. Przykłady te stanowią zilustrowanie niniejszego wynalazku i nie stanowią one jego ograniczenia. Ilości składników w tych przykładach wyrażono w procentach wagowych całkowitego ciężaru kompozycji.

Kompozycja kosmetyczna według niniejszego wynalazku może być pakowana w typowe pojemniki stosując typowe techniki. Np. gdy kompozycja jest kompozycją sztyftu, kompozycję, która wciąż jest w postaci ciekłej, można wprowadzić do opakowania dozownika jak to typowo stosuje się według stanu techniki, i ochłodzić w nim, tak by zagęścić w opakowaniu. Gdy wytwarza się kompozycję kosmetyczną w postaci żelu lub miękkiej substancji stałej, kompozycję można wprowadzić do dozownika (np. opakowania mającego powierzchnię szczytową z porami) jak to typowo stosuje się według stanu techniki. Następnie produkt może być dozowany z dozownika, jak to typowo stosuje się według stanu techniki, osadzając substancję aktywną, np. na skórze. Zapewnia to dobre osadzanie substancji aktywnej na skórze.

W ramach niniejszego opisu, gdy kompozycje opisuje się jako zawierające lub obejmujące szczególne składniki lub substancje, lub gdy sposoby opisuje się jako zawierające lub obejmujące szczególne etapy, wynalazcy rozpatrują także, że kompozycje według niniejszego wynalazku także składają się zasadniczo z lub składają się z, wymienionych składników lub substancji, i także składają się zasadniczo z lub składają się z, wymienionych etapów. Zgodnie z tym w ramach niniejszego ujawnienia jakakolwiek opisana kompozycja według niniejszego wynalazku może składać się zasadniczo z lub składać się z wymienionych składników lub substancji, i jakikolwiek opisany sposób według niniejszego wynalazku może składać się zasadniczo z lub składać się z wymienionych etapów.

W ramach niniejszego opisu i zastrzeżeń wszystkie procenty wyrażono w procentach wag. Pożądaną cechą niniejszego wynalazku jest to, by można było dostarczyć klarowną lub przeźroczystą kompozycję kosmetyczną (np. klarowną lub przeźroczystą kompozycję dezodorantową lub antyperspiracyjną). Określenie klarowny lub przeźroczysty w obecnym opisie w zamierzeniu oznacza zwykłą definicję słownikową; zatem np. klarowna kompozycja antyperspiracyjna w postaci sztyftu lub żelu według niniejszego wynalazku umożliwia łatwe oglądanie obiektów za nią. Natomiast kompozycja półprzeźroczysta kompozycja - chociaż umożliwia przepuszczanie światła przez nią - powoduje, że światło jest rozproszone, tak że będzie niemożliwe zobaczenie wyraźnie obiektów za kompozycją półprzeźroczystą. Kompozycja nieprzeźroczysta nie umożliwia przepuszczania światła przez nią. W kontekście niniejszego wynalazku, żel lub sztyft jest uważany za klarowny lub przeźroczysty, jeśli maksymalna przepuszczalność światła o dowolnej długości fali w zakresie 400-800 nm przez próbkę 1 cm grubości wynosi przynajmniej 35%, korzystnie 50%. Żel lub sztyft jest uważany za półprzeźroczysty, jeśli maksymalna przepuszczalność takiego światła przez próbkę wynosi między 2% i 35%. Żel lub sztyft jest uważany za nieprzeźroczysty, jeśli maksymalna przepuszczalność światła wynosi mniej niż 2%.

Przepuszczalność można zmierzyć przez umieszczenie próbki o wyżej wspomnianej grubości w wiązce światła spektrofotometru, którego zakres pracy zawiera widmo widzialne, takiego jak spektrofotometr Bausch & Lomb Spectronic 88. Odnośnie definicji klarowności - patrz publikacja europejskiego zgłoszenia patentowego Nr 291,334 A2. Zatem według niniejszego wynalazku, istnieją różnice między kompozycjami przeźroczystymi (klarownymi), półprzeźroczystymi i nieprzeźroczystymi.

W szczególnym wykonaniu wynalazku stosuje się poliamid do utworzenia stałej kompozycji według niniejszego wynalazku, który jest klarownym, lub przynajmniej półprzeźroczystym żelem lub sztyftem (np. kompozycją antyperspiracyjną w postaci żelu lub sztyftu).

Poniżej podano szczególne przykłady syntezy w celu tworzenia opartych na siloksanie poliamidów zgodnie z niniejszym wynalazkiem i szczególne przykłady kompozycji antyperspiracyjnych i dezodorantowych w ramach niniejszego wynalazku. Te szczególne przykłady syntezy i przykłady stanowią zilustrowanie w połączeniu z niniejszym wynalazkiem, i nie stanowią jego ograniczenia. Poniżej jak również w ramach niniejszego ujawnienia stosowane nazwy są nazwami CTFA (Cosmetics, Toiletry and Fragrance Association, Inc.), jak podano w CTFA International Cosmetic Ingredient Dictionary

PL 194 820 B1 (4 wyd. 1991), którego treść stanowi w całości odsyłacz dla niniejszego zgłoszenia. W ramach opisu niniejszego wynalazku skróty i symbole chemiczne mają swoje typowe znaczenia.

O ile nie wskazano inaczej, podciśnienia opisane w przykładach 1-5 są w zakresie 6,65-10² Pa 26,60-10² Pa (5-20 mm Hg). Podczas gdy w poniższych przykładach ujawniono lub użyto szczególne oparte na siloksanie poliamidy, należy rozumieć, że mogą być również użyte inne oparte na siloksanie poliamidy (np. wykonane przy użyciu oczyszczonego dikwasu siloksanowego, dibezwodnika, diestrów lub chlorku dikwasu) i rozwiązania te mieszczą się w ramach istoty i w zakresie wynalazku.

Przykłady 1-5: Wytwarzanie poliamidów opartych na siloksanie

P r z y k ł a d 1

Kolbę trójszyjną (3000 ml) wyposażoną w termometr, mieszadło elektryczne i chłodnicę załadowano 1427,2 g dimetylocyklosiloksanów, 172,8 g tetrametylodiwodorodisiloksanu i 1,3 g kwasu trifluorometanosulfonowego. Kolbę ogrzewano do 80°C i utrzymywano w tej temperaturze przez 4 godz. Po 4 godz. dodano 25 g wodorowęglanu sodu i zawartość kolby mieszano w 80°C jeszcze przez 2 godz. Produkt reakcji [polidimetylosiloksan 15 DP (DP średnia wartość stopnia polimeryzacji jednostek siloksanu) blokowany na końcu dimetylowodorem] przesączono stosując bibułę filtracyjną (0,8 mikrometra). Do kolby (2000 ml) wyposażonej w termometr, mieszadło elektryczne, chłodnicę i urządzenie do przedmuchiwania azotu dodano 800 g produktu (polidimetylosiloksan 15 DP blokowany na końcu dimetylowodorem) i dodano wystarczającą ilość zneutralizowanego kompleksu chlorku platynawego i diwinylotetrametylodisiloksanu, by zapewnić stężenie 5-15 ppm metalicznej Pt na całość kompozycji. Mieszaninę ogrzewano do 80°C mieszając. W lejku do dodawania umieszczono 325,0 g kwasu undecylanowego zabezpieczonego trimetylosililem; substancję dodawano kroplami do reaktora i stwierdzono reakcję egzotermiczną. Po zakończeniu dodawania temperaturę zwiększono do 110°C i mieszaninę pozostawiono do przereagowania jeszcze przez 1 godz. Następnie temperaturę podwyższono do 150°C pod obniżonym ciśnieniem przez około 1 godz. Ciśnienie doprowadzono do atmosferycznego i reaktor pozostawiono do ochłodzenia poniżej 60°C. Po osiągnięciu temperatury poniżej 60°C, dodano 110,0 g metanolu do reaktora i temperaturę ustawiono na 60°C. Po 2 godz. temperaturę zwiększono do 150°C pod obniżonym ciśnieniem, by usunąć resztkowy metanol i trimetylometoksysilan. Do kolby (500 ml) wyposażonej w termometr, mieszadło elektryczne, chłodnicę, urządzenie do przedmuchiwania azotu i nasadkę Deana-Starka dodano 100 g produktu (siloksan 15 DP blokowany na końcu kwasem karboksylowym), 20 g toluenu i 7,19 g heksametylenodiaminy. Temperaturę reaktora zwiększono do 150°C przez 4 godz. Podczas reakcji z nasadki Deana-Starka okresowo usuwano wodę i toluen. Końcowy poliamid silikonowy wylano w temperaturze około 150°C gdy był jeszcze w stanie stopionym.

P r z y k ł a d 2

Kolbę trójszyjną (3000 ml) wyposażoną w termometr, mieszadło elektryczne i chłodnicę załadowano 2000,0 g dimetylocyklosiloksanów, 129,9 g tetrametylodiwodorodisiloksanu i 1,6 g kwasu trifluorometanosulfonowego. Kolbę ogrzewano do 80°C i utrzymywano w tej temperaturze przez 4 godz. Po 4 godz. dodano 45 g węglanu wapnia i mieszano w 80°C jeszcze przez 2 godz. Produkt reakcji przesączono stosując bibułę filtracyjną (0,8 mikrometra). Do kolby (2000 ml) wyposażonej w termometr, mieszadło elektryczne, chłodnicę i urządzenie do przedmuchiwania azotu dodano 816 g produktu (polidimetylosiloksan 30 DP blokowany na końcu dimetylowodorem) i wystarczającą ilością katalizatora platynowego jak opisano w przykładzie 1. Mieszaninę ogrzewano do 80°C mieszając. W lejku do dodawania umieszczono 189,0 g kwasu undecylenowego zabezpieczonego trimetylosililem; substancję dodawano kroplami do reaktora i zaobserwowano reakcję egzotermiczną. Po całkowitym dodaniu temperaturę zwiększono do 110°C i pozostawiono do przereagowania jeszcze przez 1 godz. Następnie temperaturę podwyższono do 150°C pod obniżonym ciśnieniem przez około 1 godz. Ciśnienie doprowadzono do atmosferycznego i reaktor pozostawiono do ochłodzenia poniżej 60°C. Po osiągnięciu temperatury poniżej 60°C do reaktora dodano 57,1 g metanolu i temperaturę ustalono na 60°C. Po 2 godz. temperaturę zwiększono do 150°C pod obniżonym ciśnieniem, by usunąć resztkowy metanol i trimetylometoksysilan. Do kolby (500 ml) wyposażonej w termometr, mieszadło elektryczne, chłodnicę, urządzenie do przedmuchiwania azotu i nasadkę Deana-Starka dodano 250 g produktu (siloksan 30 DP blokowany na końcu kwasem karboksylowym), 40 g toluenu i 10,9 g heksametylenodiaminy. Temperaturę w reaktorze zwiększono do 150°C przez 4 godz. Podczas reakcji z nasadki Deana-Starka okresowo usuwano wodę i toluen. Końcowy poliamid silikonowy wylano w temperaturze około 150°C gdy był jeszcze w stanie stopionym.

PL 194 820 B1

P r zykła d 3

Kolbę trójszyjną (2000 ml) wyposażoną w termometr, mieszadło elektryczne i chłodnicę załadowano 1394,4 g dimetylocyklosiloksanów, 5,6 g tetrametylodiwodorodisiloksanu i 0,67 g kwasu trifluorometanosulfonowego. Kolbę ogrzewano do 80°C i utrzymywano w temperaturze przez 4 godz. Po 4 godz. dodano 35 g węglanu wapnia i mieszano w 80°C jeszcze przez 2 godz. Produkt reakcji przesączono stosując bibułę filtracyjną (0,8 mikrometra). Do kolby (2000 ml) wyposażonej w termometr, mieszadło elektryczne, chłodnicę i urządzenie do przedmuchiwania azotu dodano 1200 g produktu (polidimetylosiloksan 500 DP blokowany na końcu dimetylowodorem) i wystarczającą ilość katalizatora platynowego jak opisano w przykładzie 1. Mieszaninę ogrzewano do 80°C mieszając. W lejku do dodawania umieszczono 16,5 g kwasu undecylenowego zabezpieczonego trimetylosililem; substancję dodawano do reaktora kroplami; zaobserwowano reakcję egzotermiczną. Po całkowitym dodaniu temperaturę zwiększono do 110°C i pozostawiono do przereagowania jeszcze dodatkową 1 godz. Następnie temperaturę doprowadzono do 150°C pod obniżonym ciśnieniem przez około 1 godz. Ciśnienie doprowadzono do atmosferycznego i reaktor pozostawiono do ochłodzenia poniżej 60°C. Po osiągnięciu temperatury poniżej 60°C dodano 30,0 g metanolu do reaktora i temperaturę ustalono na 60°C. Po 2 godz. temperaturę zwiększono do 150°C pod obniżonym ciśnieniem, by usunąć resztkowy metanol i trimetylometoksysilan. Do kolby (2000 ml) wyposażonej w termometr, mieszadło elektryczne, chłodnicę, urządzenie do przedmuchiwania azotu i nasadkę Deana-Starka dodano 988,5 g produktu (siloksan 500 DP blokowany na końcu kwasem karboksylowym), 75 g toluenu i 3,07 g heksametylenodiaminy. Temperaturę reaktora zwiększono do 150°C przez 4 godz. Podczas reakcji z nasadki Deana-Starka okresowo usuwano wodę i toluen. Końcowy poliamid silikonowy wylano w temperaturze około 150°C gdy był jeszcze w stanie stopionym.

P r zykła d 4

Kolbę trójszyjną (2000 ml) wyposażoną w termometr, mieszadło elektryczne i chłodnicę załadowano 1536,0 g dimetylocyklosiloksanów, 64,0 g tetrametylodiwodorodisiloksanu i 1,3 g kwasu trifluorometanosulfonowego. Kolbę ogrzewano do 80°C i utrzymywano w tej temperaturze przez 4 godz. Po 4 godz. dodano 25 g wodorowęglanu sodu i mieszano w 80°C jeszcze przez 2 godz. Produkt reakcji przesączono stosując bibułę filtracyjną (0,8 mikrometra) (polidimetylosiloksan 45 DP blokowany na końcu dimetylowodorem). Kolbę (3000 ml) wyposażoną w termometr, mieszadło elektryczne i chłodnicę załadowano 2000,0 g dimetylocyklosiloksanów, 129,9 g tetrametylodiwodorodisiloksanu i 1,67 g kwasu trifluorometanosulfonowego. Kolbę ogrzewano do 80°C mieszając i utrzymywano w tej temperaturze przez 4 godz. Po 4 godz. dodano 43 g węglanu wapnia i mieszano w 80° jeszcze przez 2 godz. Produkt reakcji przesączono stosując bibułę filtracyjną (0,8 mikrometra) (polidimetylosiloksan 30 DP blokowany na końcu dimetylowodorem). Do kolby 2000 ml wyposażonej w termometr, mieszadło elektryczne, chłodnicę i urządzenie do przedmuchiwania azotu dodano 250 g produktu (polidimetylosiloksan 45 DP blokowany na końcu dimetylowodorem), 1250 g produktu II (polidimetylosiloksan 30 DP blokowany na końcu dimetylowodorem) i wystarczającą ilość katalizatora platynowego, jak opisano w przykładzie 1. Mieszaninę ogrzewano do 80°C mieszając. W lejku do dodawania umieszczono 334 g kwasu undecylenowego zabezpieczonego trimetylosililem; substancję dodawano do reaktora kroplami i zaobserwowano reakcję egzotermiczną. Po zakończeniu dodawania temperaturę zwiększono do 110°C i zawartość pozostawiono do przereagowania jeszcze przez godz. Następnie temperaturę doprowadzono do 150°C pod obniżonym ciśnieniem przez około 1 godz. Ciśnienie doprowadzono do atmosferycznego i reaktor ochłodzono do poniżej 60°C. Po osiągnięciu temperatury poniżej 60°C, dodano 85,0 g metanolu do reaktora i temperaturę ustawiono na 60°C. Po 2 godz. temperaturę zwiększono do 150°C pod obniżonym ciśnieniem, by usunąć resztkowy metanol i trimetylometoksysilan. Do kolby (2000 ml) wyposażonej w termometr, mieszadło elektryczne, chłodnicę, urządzenie do przedmuchiwania azotu i nasadkę Deana-Starka dodano 1485,1 g produktu (siloksan 45 DP i 30 DP blokowany na końcu kwasem karboksylowym), 100 g toluenu i 63 g heksametylenodiaminy. Temperaturę reaktora zwiększono do 150°C przez 4 godz. Podczas reakcji z nasadki Deana-Starka okresowo usuwano wodę i toluen. Końcowy poliamid silikonowy wylano w temperaturze około 150°C gdy był jeszcze w stanie stopionym.

P r zykła d 5

Kolbę trójszyjną (3000 ml) wyposażoną w termometr, mieszadło elektryczne i chłodnicę załadowano 2000,0 g dimetylocyklosiloksanów, 129,9 g tetrametylodiwodorodisiloksanu i 1,6 g kwasu trifluorometanosulfonowego. Kolbę ogrzewano do 80°C i utrzymywano w temperaturze przez 4 godz. Po 4 godz. dodano 45 g węglanu wapnia i mieszano w 80°C jeszcze przez 2 godz. Produkt reakcji przesączono stosując bibułę filtracyjną (0,8 mikrometra). Do kolby (2000 ml) wyposażonej w termometr,

PL 194 820 B1 mieszadło elektryczne, chłodnicę i urządzenie do przedmuchiwania azotu dodano 816 g produktu (polidimetylosiloksan 30 DP blokowany na końcu dimetylowodorem) i wystarczającą ilość katalizatora platynowego jak opisano w przykładzie 1. Mieszaninę ogrzewano do 80°C mieszając. W lejku do dodawania umieszczono 189,0 g kwasu undecylenowego zabezpieczonego trimetylosililem; substancję dodawano do reaktora kroplami i zaobserwowano reakcję egzotermiczną. Po zakończeniu dodawania temperaturę doprowadzono do 150°C pod obniżonym ciśnieniem przez około 1 godz. Następnie ciśnienie doprowadzono do atmosferycznego i reaktor pozostawiono do ochłodzenia do temperatury poniżej 60°C. Po osiągnięciu temperatury poniżej 60°C, dodano 57,1 g metanolu do reaktora i temperaturę ustawiono na 60°C. Po 2 godz. temperaturę zwiększono do 150°C pod obniżonym ciśnieniem, by usunąć resztkowy metanol i trimetylometoksysilan. Do kolby (500 ml) wyposażonej w termometr, mieszadło elektryczne, chłodnicę, urządzenie do przedmuchiwania azotu i nasadkę Deana-Starka dodano 150 g produktu (siloksan 30 DP blokowany na końcu kwasem karboksylowym), 39,1 g toluenu i 5,71 g heksametylenodiaminy i 72 g tris(2-aminoetylo)aminy. Temperaturę reaktora zwiększono do 150°C przez 4 godz. Podczas reakcji z nasadki Deana-Starka okresowo usuwano wodę i toluen. Końcowy poliamid silikonowy wylano w temperaturze około 150°C gdy był jeszcze w stanie stopionym.

Przykłady preparatów

Następujące przykłady preparatów ilustrują wynalazek. Jak podano w przykładach preparatów poliamid na bazie siloksanu z przykładu 2 jest substancją opisaną powyżej w sposobie syntezy takiej substancji.

P r z y k ł a d A: Sztyft dezodorantowy

Następujące substancje są łączone. Podane ilości wyrażone są w procentach wagowych w odniesieniu do całkowitego ciężaru kompozycji.

poliamid z przykładu 2 na bazie siloksanu (żelant)	20%
cyklometikon (płynny silikon)	79%
aromat (aktywny dezodorant)	1%
Ogółem	100%

P r zykła d B

Ogólny przepis na klarowny sztyft antyperspiracyjny

Składnik	Zakres w/w %	Korzystnie w/w %
Faza oleju
Żelant poliamidowy na bazie siloksanu	6-20	10-15
Płyny silikonowe	10-90	20-50
Dodatki kosmetyczne i/lub rozpuszczalniki	0-40	5-21
Aromat, barwnik	QS	QS
Faza polarna
Woda i/lub mieszalny z wodą rozpuszczalnik	10-40	15-25
Aktywny antyperspirant	5-30	15-25
Środek powierzchniowo czynny	0-10	0,5-3
Ogółem	100	100

PL 194 820 B1

Uogólniony sposób wytwarzania

1) Odwaayywsszytkies Słaanikifaaz o łojowej zwyjytkiem aromatud okotła, miesszai o orzzwaa aż zawartość stanio się klarowna, ochłodzić Oo 70-80°C,

2) OdwaażywsszytkiesSłaanikifaaz pplaarejz wajątkiem śroOnoppwierzzCniowaccyr^neogdo oOOziolnogo kotła, mieszać i ogrzewać aż zawartość stanio się klarowna. Dodać śroOsO powierzchniowo czynny Oo roztworu soli. Kontynuować ogrzowanio fazy polarnoj Oo 70-80°C.

3) DooOag goącątaaz pplaarndOg goąccjZaaz o lejowajprzz u miarkowanem miesszniudlauuiknięcia wnikania powiotrza.

4) Kontynuować mioszanio i ochłoOzić Oo 55-65°C, OoOać aromat.

5) Kontynuować chłoOzonio Oo 5-10°C powyżoj punktu żolowania i wylać Oo pojomników.

P r z y k ł a O C

Następujący klarowny sztyft antyporspiracyjny o Oobroj ostotyco przygotowano woOług uogólnionogo sposobu wytwarzania opisanogo w przykłaOzio B.

SkłaOnik	w/w %
Faza oloju
PoliamiO z przykłaOu 2 na bazio siloksanu	12,00
Trimotylowana krzomionka (Dow Corning® 749)	2,50
BohonoksyOimotikon (Abil® Wax 2440)	2,50
Cyklomotikon (Dow Corning® 245) (cyklopontaOimotylo-siloksan)	29,37
Fonylotrimotikon (Dow Corning® 556) (trimotylo(fonylo-bis(trimotylosililoksy)oksy-silan	10,00
Alkohol izostoarylowy (Prisorino® 3515)	0,50
Faza polarna
WoOa Oojonizowana	22,13
Al Zr totrachlorofiyOroks gly (Rozal® 36 GP) (komploks glicyna totrachlorofiyOroks glinowo-cyrkonowy)	20,00
Polisorbat 20 (monolaurynian polioksyotylono(20)sorbitolu	1,00

P r z y k ł a O y D-E

PrzykłaOy D i E wykonano w sposób opisany w przykłaOzio B stosując skłaOniki opisano poniżoj. Kompozycjo D i E były baOano przoz niozalożny przoszkolony zospół spocjalistów i stwiorOzono, żo miały ono znacząco lopszą ostotykę (przylopność i zwilżalność) w porównaniu z wioOccym hanOlowym sztyftom antyporspiracyjnym; lopszą ostotykę (przylopność) w porównaniu z wioOccym hanOlowym klarownym OozoOorantom i poOobnc ostotykę (przylopność) Oo wioOccogo hanOlowogo zawiosinowogo sztyftu antyporspiracyjnogo.

PL 194 820 B1

Składnik	Przykład D % w/w	Przykład E % w/w
Faza oleju
Cyklometikon (Dow Corning® 245)	23,35	28,29
Poliamid z przykładu 2 na bazie siloksanu	12,00	15,00
Eter mirystylowy PPG-3 (Witconol® APM)	16,30	—
Behenoksydimetikon (Abil® Wax 2440)	2,00	1,50
Alkohol izostearylowy (Prisorine® 3515)	0,50	0,50
Fenylotrimetikon (Dow Corning® 556)	5,00	10,00
Trimetylowana krzemionka (Dow Corning® 749)	—	1,50
Faza polarna
Woda dejonizowana	18,85	21,21
Al Zr tetrachlorohydreks gly (Rezal® 36 GP) (kompleks-glicyna tetrachlorohydreks glinowo-cyrkonowy)	20,00	20,00
Kopoliol dimetikonu (Dow Corning® 193) (dimetikon PEG 12)	2,00	2,00

P r z y k ł a d y F-G

Następujące przykłady F i G wykonano w sposób opisany w przykładzie B stosując składniki opisane poniżej. Kompozycje te były badane pod kontem antyperspiracji i wykazały parytet skuteczności w porównaniu z wiodącym handlowym zawiesinowym sztyftem antyperspiracyjnym.

Składnik	Przykład F % w/w	Przykład G % w/w
Faza oleju
Cyklometikon (Dow Corning® 245)	23,60	22,42
Poliamid z przykładu 2 na bazie siloksanu	12,00	12,00
Eter mirystylowy PPG-3 (Witconol® APM)	16,30	16,30
Behenoksydimetikon (Abil® Wax 2440)	2,00	2,00
Alkohol izostearylowy (Prisorine® 3515)	0,50	0,50
Fenylotrimetikon (Dow Corning® 556)	5,00	5,00
Faza polarna
Woda dejonizowana	19,60	16,78
Al Zr tetrachlorohydreks gly (Rezal® 36 GP) (kompleks glicyna tetrachlorohydreks glinowo-cyrkonowy)	20,00	20,00
Kopoliol dimetikonu (Dow Corning® 193)	1,00	5,00

PL 194 820 B1

Przykłady żel u

Przykład I żel u

Przykłady żelu wykonano według następującego sposobu stosując składniki opisane w poniższej tabeli. Wszystkie procenty są procentami wagowymi w odniesieniu do całkowitej kompozycji. Odważa się płynny silikon taki jak cyklometikon i żelant (poliamidowy żelant zgodny z wynalazkiem na bazie siloksanu), umieszcza w szklanej zlewce, ogrzewa i miesza (250 obrotów na minutę) do chwili stopienia żelanta. W typowym przypadku następuje to w temperaturze około 100°C. Pozostałe składniki fazy olejowej dodaje się do wsadu po całkowitym rozpuszczeniu żelanta, po czym kontynuuje się mieszanie przez 10 minut. Składniki fazy polarnej dodaje się wolno porcjami w czasie 10 minut mieszając zawartość z szybkością 300 obrotów na minutę. Mieszanie kontynuuje się przez 15 minut z szybkością 400 obrotów na minutę, utrzymując temp. 85°C. Następnie wsad przenosi się do ogrzewanego homogenizatora i homogenizuje przez 2 minuty. Dodaje się aromat (jeśli jest stosowany) i miesza zawartość przez jedną minutę. Jeszcze gorący wsad przenosi się do opakowania, gdzie ulega zestaleniu. (Należy zauważyć, że jeśli opisano powyżej specyficzne szybkości mieszania, to inne wolne szybkości mieszania mogą być stosowane zamiast 250 obr/min.; i umiarkowane szybkości mieszania mogą zastąpić 300-400 obr/min.). Zasadniczo korzystne zakresy składników są następujące:

Faza olejowa (50-70%)

Poliamid na bazie siloksanu	0,5-8,0%	korzystnie 2-6%
Płynny silikon	20-60%	korzystnie 35-45%
Dodatek(ki) kosmetyczny(Ne) i /lub rozpuszczalniki	0-20%	korzystnie 7-15%
Środek powierzchniowo czynny	0-10%	korzystnie 3-7%
Aromat	0-3%	korzystnie 1-2%

Faza polarna (50-30%)

Woda (i/lub mieszalny z wodą rozpuszczalnik)	5-40%	korzystnie 15-25%
Aktywny antyperspirant	10-25%	korzystnie 15-25%
Środek powierzchniowo czynny	0-5%	korzystnie 1-2%

P r z y k ł a d II ż e l u

Faza oleju Składnik	Procent wagowy %
Cyklometikon (Dow Corning® 245)	41,15
Poliamid na bazie siloksanu z przykładu 2	2,35
Cyklometikon i kopoliol dimetikonu (Dow Corning® 3225C)	6,00
Mirystynian izopropylowy	4,50
Eter mirystylowy PPG-3	4,50
Aromat	1,00
Cynamonian oktylometoksylowy	0,50
Ogółem	60,0000
Faza polarna Składnik	%
Chlorohydrat glinu (50% wodny roztwór)	40,00
	40,000
Ogółem	100,000

PL 194 820 B1

P r z y k ł a d III ż e l u

Faza oleju Składnik	%
Cyklometikon (Dow Corning® 245)	38,00
Poliamid na bazie siloksanu z przykładu 2	6,00
Cyklometikon i kopoliol dimetikonu (Dow Corning® 3225C)	6,00
Mirystynian izopropylowy	4,50
Eter mirystylowy PPG-3	4,50
Aromat	1,00
Ogółem	60,0000
Faza polarna Składnik	%
Chlorohydrat glinu (50% wodny roztwór)	40,00
Ogółem	40,000

P r z y k ł a d IV ż e l u: Żel klarowny

Sposób opisany wyżej dla przykładu żelu I powtórzono z następującymi składnikami, przy czym wymienione ilości określone są w % wag.:

Faza olejowa
Cyklometikon	41,15%
Poliamid na bazie siloksanu z przykładu 2	2,35%
Cyklometikon i kopoliol dimetikonu	6,0%
Mirystynian izopropylowy	4,5%
Eter mirystylowy PPG-3	4,5%
Aromat	1,0%
Cynamonian oktylometoksylowy	0,5%
Faza polarna
Chlorohydrat glinu (50% wodny roztwór)	40,0%

Przykład Isztyftu zawi esi nowego

Poliamid na bazie siloksanu z przykładu 2 (20% wag. końcowej kompozycji) rozpuszcza się w cyklometikonie (55% wag.) ogrzewając mieszaninę do 95°C z jednoczesnym mieszaniem. Po rozpuszczeniu żelanta, mieszaninę ochładza się do 75°C. Mieszając dodaje się Al/Zr tetrachlorohydreks gly (kompleks glicyna tetrachlorohydrat glinowo-cyrkonowy) (24% wag., Reach® 908). Mieszaninę ochładza się do 70°C i dodaje się mieszając aromat (1% wag.). Mieszaninę wylewa się do odpowiednich pojemników i pozostawia do ochłodzenia.

Claims (4)

1. Zastrzeżenia patentowe

   1. Kompozycja kosmetyczna, znamienna tym, że zawiera połączenie (a) 0,5-80% wagowych w przeliczeniu na całkowity ciężar kompozycji co najmniej jednego poliamidu na bazie siloksanu;

   (b) 5-95% wagowych płynnego silikonu; oraz (c) jeżeli (a) + (b) nie jest równe 100 procent, porcji rozpuszczalnika w uzupełnieniu do 100 %, przy czym poliamid na bazie siloksanu zbudowany jest z jednostek o wzorze A w którym:

   (1) n oonaccz I lccbę wybraną z grupp obejmująąej 1 -500, ggdie n j est I lccbą j eenostek w pollamidzie;
2. (2) DP jess średnią wartością 3^ρηΐ3 poNmeryzacji fι^^(^ιm^ιΊtLj siioksanowego poHamidu i jess wybrane z grupy obejmującej 1-700;
3. (3) X jest liniowym lub rozgałęzionym łańcuchem alkilenowym zawierającym 1-30 atomów węgla;
4. (4) kaażd R¹-R⁴j j^^s nieezleenie wybranoz grupp obejmującej ιηβ^Ι, β^Ι, prcjpaprl, I łańcuch siloksanowy i fenyl, przy czym fenyl może być ewentualnie podstawiony przez 1 do 3 elementów z grupy obejmującej metyl i etyl; i (5) Y j wybrano z gruppgό^ΓΐΊ^ο^Ιliiowy I ub 10ozałaęieso łańcuch glkiiemwy gzwierający od 1-40 atomów węgla, przy czym sama grupa alkilenowa może ewentualnie być podstawiona co najmniej jednym elementem wybranym z grupy obejmującej:

   (i) grupę hydroksy;

   (ii) cykloalkan C3-C8;

   (iii) 1-3 el^m^ntć^\y wybranocjΊ ηϊβζ3ΐβζηϊθ z grupy obejmującej C1-C3 alkiie, fennl ewentualnóe podstawiony przez 1-3 elementów wybranych niezależnie z grupy obejmującej C1-C3 alkile;

   (iv) C1-C3 alkilohydroksy; i (v) C1-C6 alkiloaminy;

   ^lu^b Y może oznaczać; Z^, ^zte Z = T (R²⁰)(R²¹)(R²²), w ^któr^ym ^ka^żdy R^20, R^{21 i} R²² jes^t ntezate^ nie wybrany z grupy obejmującej liniowe i rozgałęzione grupy C1-C10 alkilowe lub alkilenowe; i T jest wybrane z grupy obejmującej CR, gdzie R jest wybrane z grupy obejmującej: atom wodoru, grupę złożoną z grupy zdefiniowanej dla R1-R⁴; i trójwartościowy atom wybrany z N, P i Al; i w którym każde ze znaczeń X, Y, DP i R1-R4 może być takie samo lub różne dla każdej jednostki poliamidu.

   2. Kompozycje według z^^st^. 1, znam lenna tym, że kaide DP w pc^ll«^mic^^j<^ j ess I lczbą z zakresu 15-500.

   3. Kompozyncj według z^^st^. 1, znam lenna tym, że kaicle DP w pollamiezje I ess I lczbą z zakresu 15-45.

   4. Kompooycje weełup: ζθϋτζ I, znamienna tym, że wartooś n w poNamiezie I <^^s I lccbą z zakresu 1-100.

   5. Kompozy^j według za^rz. 1, znam lenna tym, że wć^rrc^i^ć; n w ponamidzże I ess I lczbą z zakresu 4-25.

   6. Kompozycja według zastrz. 1, znamienna tym, że X ma 3-10 atomów węgla.

   7. Kompozycja według zastrz. 1, znamienna tym, że X ma 10 atomów węgla.

   8. Kompoozyje we^c^ług gzntrn. I, mamierinn tym, Iż IkażdY w goliemidz:ie moóż Iyć Iam Iam lub różny i ma 2-6 atomów węgla.

   PL 194 820 B1

   9. Kompozycjawedługz astrz. 1 , znamiennatym, ż e każdyR¹-R⁴jest wybranys pośród metylu i stylu.

   10. Ozmozascjs wsyług asrtra. 1, nnmminnnm tym, ds każdy R,-R⁴ jsrt mstylsm.

   11. Ozmozascjs wsyług asrtra. 1, nnmminnnm tym, ds poliamid ms strukturę z wazras I:

   Rl R² [C(O)-X-[SiO]_DpSi-X-C(O)NH-Y-NH]n

   I I

   R3 r4

   Wzór I w ktdrsm ayscasyis X, Y, DP i R1-R4 w ksdysj jsyyzrtcs ozlismidu ozazrtsją tskis rsms.

   12. Kompośasjiawedługzanrrz. . 1.Znnmmennntyni, że kasdyR¹, rR rR| RRjest ιτ^Ιθιπ.

   13. Kompośysjawedług zastrz. . 2, żnnmΊiennn tymi, ,e sawiera s oliamid y z nntęęujgcym e/wozze:

   o ch₃ ch₃ o {C(CH2) 10 [SiO] DpSiC^H2)ioCN(CH2)₆N}_n

   II II ch₃ ch₃ h h gyais DP = 15-500.

   14. Ozmozascjs wsyług asrtra. 13, nnmminnnm tym, ds DP=15-45.

   15. Ozmozascjs wsyług asrtra. 1, nnmminnnm tym, ds aswisrs ozlismiy msjącs wislzkrztys yługzrci blzkdw rilzkrsyzwsch jsk ozysyz ws wazras II:

   [C(O) -X- [Sizl dp1Sl-^X^C (O) -NH-Y-NH] _n [C (O) -X- [SiO] do2Sl-^X^C O) -ΝΗ-γ1-ΝΗ]ρ

   Wzór II gyais DP1 i DP2 rą yisaslsdyis wsbrsys a gruos aysfiyizwsysj yls DP; m jsrt wsbrsys a tskisj rsmsj gruos jsk aysfiyizwsys yls y, oraj casm y i m zayscasją csłkzwitą licabę jsyyzrtsa zbjętsch yswisrsmi, ozjsysycas jsyyzrtki rą umisracazys w rsgulsrysj, ysorasmisyysj, blzkzwsj lub rtstsrtscaysj kzlsjyzrci; s R⁵-R⁸ ksdys yisaslsdyis jsrt wsbrsys a tskisj rsmsj gruos aysfiyizwsysj yls R1-R4.

   16. Ozmozascjs wsyług asrtra. 15, nnmminnnm tym, ds ksdys R1-R8jsrt mstslsm.

   17. Ozmozascjs wsyług asrtra. 15, nnmminnnm tym, ds DP1=DP2.

   18. Ozmozascjs wsyług asrtra. 15, nnmminnnm tym, ds ksdys R1-R8jsrt mstslsm i DP1=DP2.

   19. Kompośasjawedług z anPtr.1, znamiennatyy^. ż ż p oliamidme srrugturęjaż przedsrawιośn ws wazras III:

   Rl r2 r5 r6

   II II [C(OO -X- -SiO]_DplSi-X-C(O) -NH-Y-ΝΉ] y [C (O) -X- [Siz] _Dp2Si-X-C(O) -^-γ1-Ν^]ρ

   Wzór III

   PL 194 820 B1 w którym Y¹ jest wybrany z takiej samej grupy jak zdefiniowano dla Y, a DPI i DP2 są niezależnie wybrane z grupy zdefiniowanej dla DP.

   20. Kompozycja według zastrz. 19, znamienna tym, że każdy R1-R⁸ jest metylem.

   21. Kompozycja według zastrz. 19, znamienna tym, że każdy DP1=DP2.

   22. Kompozycja według zastrz. 20, znamienna tym, że każdy R1-R⁸ jest metylem i DP1=DP2.

   23. Kompozycja według zastrz. 1, znamienna tym, że poliamid ma strukturę jak przedstawiono we wzorze IV:

   w którym każdy R⁵-R¹² jest niezależnie wybrany z grupy zdefiniowanej dla R1-R⁴, Z=T(R²⁰)(R²¹)(R²²), on o! 22 gdzie każdy R , R i R są niezależnie wybrane z grupy obejmującej liniowe i rozgałęzione C1-C10 alkileny; i T jest wybrany z grupy obejmującej CR, gdzie R jest wybrany z grupy obejmującej wodór, grupę zdefiniowaną dla R1-R⁴; i trójwartościowy atom wybrany spośród N, P i Al; DP1, DP2 i DP3 są niezależnie wybrane z grupy zdefiniowanej dla DP, natomiast m i p mają wartość taką jak n.

   24. Kompozycjawedług zastrz. 22, zzamieenatym, że każży DP1-DP3jest nieealeeżie wybrany z zakresu 15-45.

   25. Kompozycja według zastrz. 23, znamienna tym, że m = 5-20% m+n+p.

   26. Kompozycja według zastrz. 23, znamienna tym, że każdy z r1-r1² jest metylem.

   27. Kompozycja według zastrz. 24, znamienna tym, że T oznacza N.

   28. Kompozycja według zastrz. 23, znamienna tym, że każdy r20 R²1 i r22 jest etylenem.

   29. Kompozycja według zastrz. 23, znamienna tym, że Z=(-CH2CH2)3N.

   30. Kompozycja według zastrz. 23, znamienna tym, że zawiera poliamid o wzorze Kompozycja korzystnie zawiera poliamid o wzorze 0 CH3 ll 1 ch₃ 0 || 0 U ch₃ I ch₃ I O II II ι {c X [SiO]_Dp I S i X I II CN Υ | N}_n | ,1 {C X I [SiO] Dp | 1 , Si X | II : cn | 1 CHq 1 CH: 1 Η 1 H 1 ch₃ 1 CH3 1 H 0 CHt CH> O ll .J | | ' II {N | Y N | II C X I [SiO]dp | 1 Si X | II. C}p ^I Η H 1 ch₃ 1 ch₃ ^{Z N})m

   H

   N

   I h

   w którym X = -(CH)™-, Y = -(CH2)-; DP = 15-45; m = 5-20% m+n+p, a Z = -(CH2CH2)aN.

   31. Kompozycja kosmetyczna według zastrz. 1, znamienna tym, że ma postać sztyftu lub żelu i zawiera połączenie:

   (a) 0,5-88% weżowechw przaliccasiuna całkawitycięęerkampozacji co najmpiejjedyedopoliamidu na bazie siloksanu;

   (b) 5-95% wagowych płynnego silikonu; oraz (c) jeżeli (a)+(b) nie jest równe 100%, porcji rozpuszczalnika w uzupełnieniu do 100%.

   PL 194 820 B1

   32. Kompozycja kosmetyczna wedługzastrz. 1, znamienaa tym, że zawiera dodatkowoco najmniej jeden sOłsOniO ocbzsnc a gzuoc obejmującej Ozsmerconnie sOtyone OzOskOi i Ozsmerconnie dzousaonslne zzaousyoaslniOi, oznc oacm osłOzoiks ilzść dzdsrOzocoh sOłsdniOóo mieści się o ozaedaisle 0,1-85% osgzocoh o oznelioaenig ns osłOzoikc oięesz Ozmozacoji Ozsmetyoanej.

   33. Kompozacja kosmptyczyawoeługzastrz. 13, z namienna tym, żeń jes żelem i w którze i lozś ozlismidg ns bsaie silzOssnu mieśoi się o ozaedaisle 0,5-8%.

   34. Kompozacja kosmptkczya woeług zas^z. 33, znamienna tym, ze 1 jes szarAkm i w któroi ilzść ozlismidg ns bsaie silzOssnu mieśoi się o ozaedaisle 5-30%.

   35. Kompozycja kosmetyczna według zas^z. 32, znamienna tym, że zawieea kosmetyczną sgbsksnoję sOtyoną ocbzsną a gzuoc zbejmująoej ohlzzzhcdzsr glinu, ohlzzeO glinu, sesOoiohlzzzhcdzsk glinu, hcdzzOscohlzzeO oczOznclu, OzmoleOs gliocnc glinzoz-oczOznzoej, ohlzzzhcdzeOs PG glinu, ohlzzzhcdzeOs PEG glinu, diohlzzzhcdzeOs PG glinu, diohlzzzhcdzeOs PEG glinu, sazrsnzhcdzsr glinu i jegz ozłąoaenie a hcdzzOscohlzzOsmi i sazrsnsmi oczOznclu zzsa ohlzzzhcdzsrc glinzoz-ocnzoe.

   36. Ozmozacojs Ozsmercoans oedług assrza. 1, naaminaaa tym, że dzdsrOzoz asoiezs eoenruslnie dz 40% osgzocoh oz nsjmniej jednegz zzaousaoaslniOs; i

   0,1-85% osgzocoh oz nsjmniej jednegz dzdsrOzoegz sOłsdniOs ocbzsnegz a gzuoc zbejmująoej:

   (i) 0,1-30% sOrcwnegz sntyoezsoizsnru;

   (ii) 0,5-3,0% osgzocoh śzzdOs asosohzoegz;

   (iii) 0,2-1,0% osgzocoh śzzdOs bsOrezizsrsrcoanegz;

   (iv) 0-15% osgzocoh śzzdOs ozoiezaohnizoz oacnnegz;

   (v) sOureoaną ilzść śzzdOs ozneoiosłzneoanegz;

   (vi) sOureoaną ilzść śzzdOs zdsrzssasjąoegz zosdc; i (vii) ozdę.

   37. Kompozacja kosmptyczya woełuu zastkz. 33, znamienaa tym, że i leźć poliamidu cn bbsńe silzOssnu mieśoi się o ozaedaisle 0,5-8% osgzocoh.

   38. Kompozacja kosmptyczya woełuu zastkz. 33, znamienaa tym, że i ioSć poliamidł nn bbsńe silzOssnu mieśoi się o ozaedaisle 6-20% osgzocoh.

   39. Kompoza^ kosmetkczna weełuu zastkz. 36, znamienna tym, że płynAn sżilkon wobrzna jesr a gzuoc zbejmująoej lzrne siliOznc, nielzrne siliOznc i ioh miesasninc.

   40. Kompoza^ kosmetkczna weełuu zastkz. 39, znamienna tym, że p^nr^yc sżilkon wobrzna jesr a gzuoc zbejmująoej dimeriOznc, fenclzrzimeriOzn i ocOlioane silzOssnc asoiezsjąoe 4-6 jednzsreO silzOssnzocoh o oiezśoieniu eoenruslnie ozdsrsoizncoh C1-C6 slOilem lub fenclem.

   41. Κοπρί!^ kosmptyczya woełuu zastkz. ż3, znamienaa tym, że ^zzoI Zbktkriostktyczya ocbzsnc jesr a gzuoc zbejmująoej 2-sminz-2-merclz-1-ozzosnzl, bzzmeO oerclzrzimerclzsmznizoc, ohlzzeO oerclzoizcdcnizoc, 2,4,4'-rziohlzzz-2'-hcdzzOscdifenclzerez, N-(4-ohlzzzfenclz)-N'-(3,4-diohlzzzfenclz)mzoaniO i szle ocnOu.

   42. kosmptkczya woełuu zastkz. 3^, znamienna tym, ze zawi^z połącoanie nnsręoująocoh sOłsdniOóo, gdaie asosztzść osacsrOioh sOłsdniOóo oczsezns jesr o ozzoenrsoh osgzocoh o ozaelioaeniu ns osłOzoity oięesz Ozmozacoji:

   Fsas zlejzos (50-70%) Pzlismid ns bsaie silzOssnu 0,5-8,0% Płcnnc siliOzn 20-60% DzdsreO(Oi) Ozsmercoanc(ne) i/lub zzaousaoaslniOi 0-20% ŚzzdeO ozoiezaohnizoz oacnnc 0-10% ŚzzdeO asosohzoc 0-3% Fsas ozlszns (50-30%) Wzds i/lub miesaslnc a ozdą zzaousyoaslniO 5-40% AOtyonc snrcoezsoizsnr 10-25% ŚzzdeO ozoiezaohnizoz oacnnc 0-5% 43. Ozmozacojs Ozsmercoans oedług assrza. 42, naaminaaa yyi, ee asoiezs ozłąoaenie ns- sręoująocoh sOłsdniOóo: Fsas zlejzos o ilzśoi 50-70% Pzlismid ns bsaie silzOssnu 2-6%

   PL 194 820 B1 Płynny silikon 35-45% Dodatek(ki) kosmetyczny(ne) i/lub rozpuszczalniki 7-15% Środek powierzchniowo czynny 3-7% Środek zapachowy 1-2% Faza polarna w ilości 50-30% Woda i/lub mieszalny z wodą rozpuszczalnik 15-25% Aktywny antyperspirant 15-25% Środek powierzchniowo czynny 1-2% 44. Kompozycja kosmetyczna według zastrz. 36, znamienna tym, że zawiera połączenie na- stępujących składników, gdzie zawartość wszystkich składników wyrażona jest w procentach wago- wych w przeliczeniu na całkowity ciężar kompozycji: Faza olejowa Poliamid na bazie siloksanu 6-20% Płynny silikon 10-90% Dodatek(ki) kosmetyczny(ne) i/lub rozpuszczalniki 0-40% Środek zapachowy, barwnik w uzupełnieniu do 100% Faza polarna Woda i/lub mieszalny z wodą rozpuszczalnik 10-40% Aktywny antyperspirant 5-30% Środek powierzchniowo czynny 0-10% Ogółem 100% 45. Oompozycja według zastrz. 44, znamienna tym, że zawiera połączenie następujących składników:

   Faza olejowa

   Poliamid na bazie siloksanu

   Płynny silikon

   Dodatek(ki) kosmetyczny(ne) i/lub rozpuszczalniki Środek zapachowy, barwnik

   10-15%

   20-50%

   5-21% w uzupełnieniu do 100%

   Faza polarna

   Woda i/lub mieszalny z wodą rozpuszczalnik 15-25%

   Aktywny antyperspirant 15-25%

   Środek powierzchniowo czynny 0,5-3%

   Ogółem 100%

   46. Komppzycjc wedługgastrz. 1 a Ibb o 1,znamienna tym, ż e eawiera s ilikonowyp oliamidd cc najmniej jedną powtarzającą się jednostką o wzorze:

   0 II 11 CH3 1 CH3 0 1 II -c-x- -Si-O— -Si-X-C-N-Y-N— 1 1 1 CH3 1 1 1 CH3 Η H ^— DP —in w którym X jest liniowym lub rozgałęzionym łańcuchem alkilenowym C1-C30, Y jest liniowym lub rozgałęzionym łańcuchem alkilenowym C1-C20, DP jest liczbą całkowitą o wartości od 15 do 500, n jest liczbą całkowitą o wartości od 1 do 500;

   pod warunkiem że Y może oznaczać także

   -R -T-R ' PL 194 820 B1 dla zapewnienia wiązania z inną powtarzającą się jednostką, przy czym w tym przypadku R', R i R''' są liniowymi lub rozgałęzionymi grupami C₁-C₁₀ alkilowymi lub alkilenowymi, a T oznacza ech, N, P lub Al.

   47. Kompozycja według zastrz. 46, znamienna tym, że silikonowy poliamid ma liczbowo średni ciężar cząsteczkowy od 4000 do 200000 oznaczony metodą chromatografii żelowej stosując polidimetylosiloksan jako wzorzec.

   48. Kompozycja według zastrz. 47, znamienna tym, że silikonowy poliamid ma liczbowo średni ciężar cząsteczkowy od 5000 do 50000 oznaczony metodą chromatografii żelowej stosując polidimetylosiloksan jako wzorzec.

   49. Kompozycja według zastrz. 46, znamienna tym, że zawiera płynny silikon wybrany z grupy obejmującej cyklometikony, dimetikony i fenylotrimetikony.

   50. Kompozycja według zastrz. 46, znamienna tym, że zawiera powtarzającą się w niej jednostkę poliamidu mającą wzór — — - — 0 'CH3 CH3 0 0 CH3 CH3 0 II I -Si-O— | I --Si-X II II I -Si-O— I I —Si-XI il -C-X- -C-N-Y-N I | c— x— -C-N-Yl-N— | I CH3 CH3 1 1 Η H 1 CH3 1 CH3 1 1 Η H _ u — DPI — n - DP2 _ 0 Γ°Η3 -η CH3 0 _r II 1 1 II 0 CH3 CH3 0 -c-x— -Si-O- —Si-X- -C-N-Y-N II 1 1 ii 1 1 1 1 c-x- -Si-O-- -Si-X-C-N- Z-N— CH3 CH3 Η H 1 1 1 1 — — — DPI n CH3 _ CH3 H H

   DP2 0 II CH3 ' I CH3 0 1 il II N-Y2-N-C-XI | 1 -Si-O- I I 1 -Si-X-C-N- I i 1 1 Η H 1 CH3 1 1 CH3 H — L -J DP2 “ w którym X jest liniowym lub rozgałęzionym łańcuchem alkilenowym C1-C30, Y, Y¹ i Y² są liniowymi lub rozgałęzionymi łańcuchami alkilenowymi C1-C20, DP1, DP2 i DP3 są liczbami całkowitymi o wartościach od 15 do 500, n, m i p są liczbami całkowitymi o wartościach od 1 do 500; Z ma wzór

   -R'-T-R''R' , , w którym R', R i R ' są liniowymi lub rozgałęzionymi grupami C1-C10 alkilowymi lub alkilenowymi, a T oznacza eCH, N, P lub Al; pod warunkiem że n nie jest takie samo jak m lub Y nie jest taki sam jak Y' lub DP1 nie jest takie samo jak DP2.

   PL 194 820 B1

   51. Sposóbwytwarzaniapoliamidun a bazies iloksanuz budowanegoz jednosteko wzorzeA

   R- R²

   - [C(O) -X- [SiO]^DpSi-X-C(O)NH-Y-NH]^n-

   I I

   R3 r4

   Wzór A w którym:

   (1) n sauzcaz liczbę wybraną a grupy obejmującej 1-500, oUais n jest liczbą jednostek w oslizmiUais;

   (2) DP jeet śreenią wartokcią sóosnia polimesfyazji frazmesUu siioSsónawaeo poliamidu i jeet wybrane a grupy sbejmującej 1-700;

   (3) X jeat liniswym lub rsaozłęaisnym łańcuchem zlSilenswym azwierzjącym 1-30 ztsmbw węgla;

   (4) ksZdo R¹-R⁴j jet nieealeeniewayaana zgrruo okejmujecejmeSyl, eeyl, prosol. , zasrosol. łaZcuch óilsSaanswy i fenyl, oray caym fenyl msde być ewentualnie osOótzwisny otbea 1 Os 3 elementbw a gruoy sbejmującej metyl i etyl; i (5) Y j estwayaanaz grunookejmujecejl i niowal uU rekaoręęiokałanńunhalkilesawa zawiesajecc sO 1-40 ztsmbw węgla, oray caym tama gruoz zlSilenswz msde ewentualnie być osOótzwisnz cs najmniej jeOnym elementem wybranym a gruoy sbejmującej:

   (i) gruoę hyOrsSóy;

   (ii) cySlszlSzn C3-C8;

   (iii) -- RlemesUów wayaenayh Rieealeedie r R^uo c>kbjmujeccj C1--3 Rlkile, ϊθ,οΙ RwasUonlnie osOótzwisny oraea 1-3 elementbw wybranych nieazlednie a gruoy sbejmującej C1-C3 zlSile;

   (iv) C1-C3 zlSilshyOrsSóy; i (v) C1-C6 zlSilszminy;

   ^lu^b Y ms^de ^{być gO}aⁱe Z=T(^r20)(^r21)(^r22), ^gOaⁱe ^Sz^{dOy r20, r21 i r22} ó^ą meaz^me w^ybrzne a gruoy sbejmującej liniswe i rsagzłęaisne gruoy C1-C10 zlSilswe lub zlSilenswe; i T jeót wybrzne a gruoy sbejmującej CR, gOaie R jeót wybrzne a gruoy sbejmującej: ztsm wsOsru, gruoę ałsdsną a gruoy aOefiniswznej Olz R--R⁴; i trbjwzrtsCciswy ztsm wybrany a N, P i Al; i w Stbrym SzdOe ae anzcaeń X, Y, DP i R--R4 msde być tzSie ózms lub rbdne Olz SzdOej jeOnsótSi oslizmiOu, znamienny tym, de sbejmuje sgraewznie jeOnsrsOnej mieóazniny rezScyjnej azwierzjącej OiSwzó óiliSsnswy, Oieótet lub Oi-beawsOniS lub chlsreS OiSwzóswy srza srgznicaną oslizminę w temoerztufae wydóaej sO 100°C, uóuwznie wsOy a mieóazniny rezScyjnej i nzótęonie sOayóSiwznie i wysOrębniznie a mieóazniny rezScyjnej oslizmiOu óiliSsnswegs;

   oray caym óiliSsnswy OiSwzó jeót oslimerem srgznsóiliSsnswym s wakrbe Y'(CH2)eSiR2O-^S^r^S^C^nY' w Stbfym R jeót nieazlednie wybrany a gruoy sbejmującej metyl, etyl, orsoyl, iasorsoyl, fenyl i gruoę fenylswą osOótzwisną 1-3 gruoą metylswą lub etylswą; Y' sanzcaz -CO2H, n' jeót licabą człSswitą s wzrtsćci w ofaeOaizle 1-30 z m jeót licabą człSswitą s wzrtsćci w ofaeOaizle 15-500.

   52. Sposób waełun ζοζ^. 51, znnmiennn tym, żd stokaje εις; ο^οπιοζοο 0Ι£^ζ^Ιγ^ο? ⁰ waarea X-R'-X w Stbfym X sanzcaz NH2; R' jeót łańcuchem zlSilenswym azwierzjącym 1-40 ztsmbw węgla lub łańcuchem zlSilswym azwierzjącym 1-40 ztsmbw węgla, Story jeót osOótzwisny gruozmi C--C4 zlSilswymi, fenylem, hyOrsSóylem, SzrbsSóylem lub gruozmi zminswymi.

   53. Sposób waełun ζοζ^. 52, zznmieenn tym, że ο^οπιοζοο poliaminn wayiesa Rię z gren>y sbejmującej heSózmetylensOizminę, etylensOizminę, oioetyaynę, fenylensOizminę, OeSzmetylensOizminę, SóylensOizminę i Oizminę gliSslu oslietylenswegs.

   54. Sposób weeług ζοζ^. 5T znamienny tym, że stokane sii siilassawa dikwaz orreamann w orsceóie sbejmującym rezScję osliOimetylsóilsSóznu aaSsńcasnegs ztsmem wsOsrSswym a nienzóycsnym Swzóem SarbsSóylswym azwierzjącym gruoę azbeaoiecazjącą gruoę Swzóswą; utwsraenie orsOuStu otbejćcikwegk hyOrsóililswzniz aawierzjącegs gruoę azbeaoiecazjącą gruoę Swzóswą, uóuwznie gruoy azbeaoiecazjącej gruoę Swzóswą a orsOuStu hyOrsóililswzniz w celu utwsraeniz nieazbeaoiecasnegs OiSwzóu óiliSsnswegs.

   PL 194 820 B1

   55. Sposób według zastrz. 54, znamienny tym. że grupązabezpieczającą grupękwasową jest grupa rrimetylssililswa (CHa^Si- dostarczona w reakcji nienasycsnegs kwasu karbsksylswegs z silazanem.

   56. Sposób wedłuu zas^z. 51, znamienny tym i że wytwarzasię siilkonowypollamid o I lccbowo średnim ciężarze cząsteczkswym sd 4000 ds 200000 sznaczsnym metsdą chromatografii żelswej stosując pslidimerylssilsksan jaks wzsrzec.

   57. Sposób wedłuu zastrz. 55, znamienny tym, że wytwarzasię ιΗ^οηο\^^,ροΗ3Γηϊό o I lccbowo średnim ciężarze cząsteczkswym sd 5000 ds 50000 sznaczsnym metodą chromatografii żelswej z zasrssswaniem pslidimerylssilsksanu jaks wzsrca.