JPS61204227A - ポリシロキサン−ポリアミド系マルチブロツク共重合体及びその製造方法 - Google Patents

ポリシロキサン−ポリアミド系マルチブロツク共重合体及びその製造方法

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JPS61204227A
JPS61204227A JP4469585A JP4469585A JPS61204227A JP S61204227 A JPS61204227 A JP S61204227A JP 4469585 A JP4469585 A JP 4469585A JP 4469585 A JP4469585 A JP 4469585A JP S61204227 A JPS61204227 A JP S61204227A
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淑夫 今井
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雅明 柿本
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はポリシロキサン−ポリアミド系マルチブロック
共重合体及びその製造方法に関し、更に詳しくは、特に
機械的な強度が大きく、耐熱性が優れ、更にはガス選択
透過性が優れた成形膜を与える新規なポリシロキサン−
ポリアミド系マルチブロック共重合体及びその製造方法
に関する。
(従来の技術) ポリシロキサンは柔軟な分子構造を有し、ポリシロキサ
ン−ポリカーボネートブロック共重合体によって代表さ
れるポリシロキサン系のブロック共重合体は優れたガス
透過膜として知られている。
このようなポリシロキサン系のブロック共重合体におい
ては、ポリシロキサン成分がガス透過性を発現するため
に重要な役割を果たし、ポリカーボネート成分が膜の機
械的特性を分担する役割を果たしていると考えられる。
しかし、ポリカーボネートの分子間力は必ずしも強いも
のではなく。
その機械的特性には問題がある。     ゛ポリシロ
キサンーポリアミド乃至ポリシロキサン−ポリイミド系
のブロック共重合体を得る方法としては1例えば、(1
)ピロリドン及びカプロラクタム等のラクタムを開環重
合させた後、アミノ基含有ポリシロキサンと反応させる
方法(特開昭48−8147号公報) 、 (2)上記
のラクタム及び同様のラクタム構造か、ラクタムの開環
を開始乃至促進する要素を含むポリシロキサンを、アニ
オン重合触媒の存在下に共重合させる方法(特開昭48
−8目8号公報) 、 (3)テトラカルボン酸残基を
有する芳香族ポリエーテルと7ミノ基を含有するジシロ
キサン又はシルフェニレンを反応させる方法、(4)芳
香族ジアミノアミド化合物と7ミノ基含有ポリシロキサ
ン、ジアミン及び芳香族テトラカルボン酸を反応させる
方法(特開昭57−42731号公報、 57−427
32号公報及び58−27722号公報)が知られてい
る。
しかし、上記(1)及び(2)はガラスに対するポリア
ミドの接着性を改善することを主目的としたものであり
、ポリアミド部分が脂肪族系であるために、優れた耐熱
性を期待することができないという問題点を有している
。又、(3)の方法は液晶配向膜を目的としたものであ
り、開環、完全硬化には 260℃又はそれ以上の高温
を必要とする。更に、シロキサン鎖が短いので、ガス透
過膜としてポリシロキサン共重合体の特徴を発揮するこ
とが期待できない、(0の方法は、接着性、耐熱性及び
耐摩耗性が優れた被膜をガラス基板上に形成することが
可能であるが、共重合体を得るのに300℃の高温を必
要とし、反応も複雑で制御しにくく、ガス透過膜のよう
に制御された構造の共重合体を得るには適していないと
いう問題点を有している。
(発明の目的) 上記のように、ポリシロキサン膜は、優れたガス選択透
過性を示すが1機械的特性が十分に高いものはなく、こ
のことがこの膜の商業的利用の上で大きな問題点である
。従って、本発明の目的は、ガス選択透過性が優れ、且
つ、機械的特性が優れた成形膜を与えるポリシロキサン
−ポリアミド系マルチブロック共重合体及びその製造方
法を提供することにある。
(発明の要旨) 本発明者らは、ポリアミドが強い分子間力を有すること
に着目し、ポリシロキサン−ポリアミド系マルチブロッ
ク共重合体を骨格とする新規な重合体を設計し、合成す
ることによって本発明を完成するに到ったものである。
即ち1本発明のポリシロキサン−ポリアミド系マルチブ
ロック共重合体は1両末端にカルボキシル基を有するポ
リシロキサンと両末端にアミノアリール基を有するポリ
アミドから製造されることを特徴とするものである。
又、本発明のポリシロキサン−ポリアミド系マルチブロ
ック共重合体の製造方法は、両末端にカルボキシル基を
有するポリシロキサンと両末端にアミノアリール基を有
するポリアミドとを、芳香族亜リン酸エステルとピリジ
ン又はピリジン誘導体の存在下に重縮合させることを特
徴とするものである。
以下において1本発明を更に詳しく説明する。
本発明のポリシロキサン−ポリアミド系マルチブロック
共重合体は1両末端にカルボキシル基を有するポリシロ
キサンと両末端にアミノアリール基を有するポリアミド
とを、芳香族亜リン酸エステルとピリジン又はピリジン
誘導体の存在下に重縮合させて得られるものである0本
発明のポリシロキサン−ポリアミド系マルチブロック共
重合体の代表例としては、次記一般式 [I]又は [
11で示されるものが挙げられる。
(式中、R1は1価の置換又は非置換の炭化水素基 R
2は2価の炭化水素基、RAは炭化水素基及び互いにエ
ーテル結合、チオエーテル結合、カルボニル基又はスル
ホニル基を介して互いに結合した2個の炭化水素基より
構成される基から成る群より選ばれた2価の基、R4は
芳香族炭化水素基、及びアルキレン基、エーテル結合、
チオエーテル結合、カルボニル基又はスルホニル結合を
介して互いに結合した2個の芳香族炭化水素基より構成
される基から成る群より選ばれた2価の芳香族性基、1
%及びR6はそれぞれ2価の炭化(式中、Hl、1%及
びR6は前記と同意義であり、mは平均1〜200.q
は1−10の数をそれぞれ表わす、) で示される基を表わし1mは前記と同意義であり、nは
平均1〜100.pは平均2〜50の数をそれぞれ表わ
す、) 上記式中、pは平均2〜50が好ましく、10〜30の
間がさらに好ましい、pが平均2未満ではマルチブロッ
ク共重合体の特徴が得られず、また機械的性質や皮膜形
成性が十分ではない、またpが平均50を越すものは合
成しに<<、かつ溶媒に対する溶解性が悪くなるので、
取扱いに不便である。
本発明のポリシロキサン−ポリアミド系マルチブロック
共重合体の製造に用いられる両末端にカルボキシル基を
有するポリシロキサンとしては。
次記一般式 [m]及び [rV]で示されるものが代
表的であり、且つ、合成の容易さからこれらの少なくと
も一種を使用することが好ましい。
(式中、)11.1li2及びmは前記と同意義である
。) 、1 (式中、R1,R’、R@、Y及びmは前記と同意義で
ある。) 上記式中 R1としては、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基
、デシル基等のアルキル基;ビニル基、アリル基等のフ
ルケニル基;フェニル基等の7リール基; 2−フェニ
ルエチル基、2−フェニルプロピル基等の7ラルキル基
;及びクロロメチル基、 3,3.3− トリフルオロ
プロピル基。
クロロフェニル基等のハロゲン原子置換炭化水素基が例
示されるが、合成の容易さ並びに得られたポリマーの耐
熱性1機械的性質及びガス透過性が良好であること等か
らメチル基が好ましい。
R2及びRもとしては、メチレン基、エチレン基、トリ
メチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基、デ
カメチレン基及びフェニレン基等が例示されるが、R2
においては合成の容易さから、ケイ素原子とカルボキシ
ル基の間に2個以上の炭素原子が存在する2価の炭化水
素基が好ましい。
R5としては、エチレン基、テトラメチレン基、ヘキサ
メチレン基、オクタメチレン基及びフェニレン基等が例
示される。
mは平均1〜200の範囲が好ましく、1〜100の範
囲がさらに好ましい0mが200を越えると、マルチブ
ロー2り共重合体から得られる皮膜の強度が低下する。
qは1−10の間が好ましく、1〜3の間がさらに好ま
しい。
このようなポリシロキサンとしては、次のようなものが
例示される。尚、記述を簡単にするため、以下1次のよ
うな略号を用いる。
Me:メチル基、Ph:フェニル基。
q=0.1.2 q=O,l、2 (式中、mは平均1〜200の数を表わす、)本発明に
用いられる両末端にアミノアリール基を有するポリアミ
ドは、一般式 [V]で示されるものが代表的であり、
又1合成が容易なことからこれを使用することが有利で
ある。
(式中、R3,R’及びnは前記と同意義である。) nが100を越えると、マルチブロック共重合体の成形
性が低下する。
このようなポリアミドは、例えば、一般式[mlで示さ
れる芳香族ジアミンの過剰量と、一般式 【■]で示さ
れるジカルボン酸又はその誘導体とを反応させることに
よって得られる。
H2NR’ NH2 (式中、Xはヒドロキシ基、アルコキシ基。
アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基又
はハロゲン原子を表わし、R3及びR4は前記と同意義
である。) 上記式中、R3は炭化水素基及び互いにエーテル結合、
チオエーテル結合、カルボニル基又はスルホニル基を介
して互いに結合した2個の炭化水素基より構成される基
から成る群より選ばれた2価の基であり、例えば、エチ
レン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメ
チレン基及びオクタメチレン基等のアルキレン基;シク
ロヘキシレン基等のシクロアルキレン基;フェニレン基
、ジフェニレン基及びナフチレン基等の芳香族炭化水素
基;並びにメチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメ
チレン基及びエチレン基等のアルキレン基若しくはエー
テル結合、チオエーテル結合、カルボニル基又はスルホ
ニル基を介して互いに結合した2個の、フェニレン基等
の芳香族炭化水素基等が挙げられる。
又、R4は本発明のマルチブロック共重合体においてハ
ードセグメントを形成するとともに、該共重合体に優れ
た耐熱性及び機械的性質を付与するものである。このよ
うなR4としては、フェニレ7基、ジフェニレン基、ト
リフェニレン基及ヒナフチレン基等の芳香族炭化水素基
;メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基
及びエチレン基等のアルキレン基若しくはエーテル結合
、チオエーテル結合、カルボニル基又はスルホニル基を
介して互いに結合した2個の、フェニレン基等の芳香族
炭化水素基が例示される。
Xとしては、ヒドロキシ基;メトキシ基、エトキシ基等
のフルコキシ基:フェノキシ基等の7リールオキシ基、
エチルチオ基等のフルキルチオ基:フェニルチオ基等の
アリールチオ基:及び塩素等のハロゲン原子が例示され
る。
上記式[VI]で示される芳香族ジアミンとしては、例
えば、メタフェニレンジアミン、パラフェニレンジアミ
ン、4,4”−ジアミノビフェニル、3.3”−メチレ
ンジアニリン、4,4°−メチレンジアニリン、4,4
゛−エチレンジアニリン、4,4°−イソプロピリデン
ジアニリン。
3.4°−オキシジアニリン、4,4°−オキシジアニ
リン、4,4°−チオジアニリン、3゜3”−カルボニ
ルジアニリン、4.4’−カルボニルジアニリン、3.
3°−スルホニルジアニリン、4,4°−スルホニルジ
アニリン、l、4−ナフタレンジアミン、1.5−ナフ
タレンジアミン、2,6−ナフタレンジアミン等を挙げ
ることができる。これらのうち、共重合体中のポリアミ
ド部分の融点が200℃前後のものが得られ、耐熱性と
成形性の兼ね合いが良いことから、3,4゜−オキシジ
アニリンが好ましい。
上記式 [[]で示されるジカルボン酸及びその誘導体
としては、脂肪族、脂環族、芳香族等のいかなるジカル
ボン酸でも差支えないいが、例えば、コハク酸、フマル
酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スペリン酸
、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカンニ酸、ドデカ
ンニ酸、1゜3−シクロへ午サンジカルボン酸、1.4
−シクロヘキサンジカルボン酸、イソフタル酸、テレフ
タル酸、4.4°−ビフェニルジカルボン酸、3.3゛
−メチレンニ安息香酸、4.4°−メチレンニ安息香酸
、4.4′−オキシニ安息香酸。
4.4゛−チオ二安息香酸、3,3°−カルポニルニ安
息香酸、4.4′−カルポニルニ安息香酸、4,4゛−
スルホニルニ安息香酸、1.4−ナフタレンジカルボン
酸、1.5−ナフタレンジカルボン酸及び2,6−ナフ
タレンジカルボン酸等のジカルボン酸及びその誘導体を
例示することができる。
上記式 [rlで示される芳香族ジアミンの過剰量と、
上記式[’1lfflで示されるジカルボン酸又はその
誘導体の反応による上記式[V]で示される両末端にア
ミノアリール基を有するポリアミドの製造は、既知のい
かなる方法によっても差支えない、ここで、これらの両
反応成分の組合せから製造される上記式 [V]で示さ
れるポリアミドの平均重合度nは1通常、l−100が
好ましく、l〜30が更に好ましい、nが100を越え
ると、マルチブロック共重合体の成形性が低下する。
本発明において使用する芳香族亜リン酸エステルとして
は1例えば、亜リン酸トリフェニル、亜リン酸ジフェニ
ル、亜リン酸トリ−o−トリル。
亜リン酸ジ−0−トリル、亜リン酸トリ−m−トリル、
亜リン酸ジ−m−トリル、亜リン酸トリ−p−トリル、
亜リン酸ジ−P−トリル、亜リン酸トリ−〇−クロロフ
ェニル、亜リン酸ジ−0−りaロフェニル、亜リン酸ト
リ−p−クロロフェニル及び亜リン酸ジ−P−クロロフ
ェニル等を挙げることができる。
本発明において使用するピリジン又はその誘導体として
は1例えば、ピリジン、2−ピコリン。
3.3−ピコリン、4−ピコリン、2.4−ルチジン、
2.6−ルチジン、3.5−ルチジン等を挙げることが
できる。
本発明においては、上記式 [II[]及び/又は[I
V] によって示される両末端にカルボキシル基を有す
るポリシロキサンと上記式[V]によって示される両末
端にアミノアリール基を有するポリアミドとを芳香族亜
リン酸エステルとピリジン又はその誘導体の存在下に重
縮合を行なわせるが。
この反応に際しては、通常の場合、ピリジン又はその誘
導体を含む混合溶媒を用いる溶液重合法を採用すること
が好ましい、ここで使用する有機溶媒は、両成分や芳香
族亜リン酸エステルと実質的に反応しない溶媒という点
で制限を受けるが、このほかに両反応成分に対する良溶
媒であって、しかも反応生成物のマルチブロック共重合
体に対する良溶媒であることが望ましい、このような有
機溶媒として代表的なものとしては、N−メチルピロリ
ドンやN、N−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒
が挙げられる。
ここで、重合度が大きいマルチブロック共重合体を得る
ために、塩化リチウムや塩化カルシウム等の無機塩類や
、トリエチルアミン塩酸塩、テトラブチルアンモニウム
クロリド、セチルトリメチルアンモニウムクロリド等の
有機塩類をこの反応系に添加することも可能である。
本発明によるマルチブロック共重合体の製造方法を更に
詳細に説明する0重縮合反応は、例えば、上記式[11
11及び/又は [1’V]によって示される両末端に
カルボキシル基を有するポリシロキサンと上記式[V]
 によって示される両末端にアミノアリール基を有する
ポリアミドの等モル量を、芳香族亜リン酸エステルとピ
リジン又はその誘導体の存在下に、N−メチルピロリド
ンによって代表される有機溶媒を含む混合溶媒中で、窒
素等の不活性雰囲気下で加熱撹拌することにより容易に
行なわれる。ここで使用する芳香族亜リン酸エステルの
量は、通常上記式 [II[1及び/又は[IV] に
よって示されるポリシロキサンのカルボキシル基に対し
て等モル量以上使用されるが、30倍モル量以上の使用
は経済的に見て得策ではない、又、ここで使用するピリ
ジン又はその誘導体の量は、上記[ml及び/又は [
ff+で示されるポリシロキサンのカルボキシル基に対
して等モル量以上であるとこが必要であるが、実際には
反応溶媒としての役割を含めて大過剰で使用されるこト
カ好ましい0反応におハては、ピリジン又はその誘導体
とN−メチルピロリドンによって代表される有機溶媒か
ら成る混合溶媒が好ましく使用されるが、混合溶媒の使
用量は1通常、反応成分を5〜30重量%含むことにな
るだけの量が使用されることが好ましい0反応温度は通
常の場合、60〜140℃が好ましい0反応時間は反応
温度により大きく影響されるが、いかなる場合にも最高
の重合度を意味する最大粘度が得られるまで反応系を撹
拌するのが好ましく、多くの場合、数分から20時間で
ある。生成する上記式 [I]又は [II]によって
示されるマルチブロック共重合体の平均重合度pは、上
記式 [m]又は [rV] によって示される両末端
にカルボキシル基を有するポリシロキサンと上記式 [
VIによって示される両末端にアミノアリール基を有す
るポリアミドの仕込量によって制限される。上記反応条
件下で、両反応成分を等モル量使用すると平均重合度p
が10内外のマルチブロック共重合体を製造することが
できる0反応成分のいずれか一方を過剰に使用すると平
均重合度が制限されるため、通常の目的には好ましくな
いが、特定の目的のためにはいずれか一方を過剰に使用
して平均重合度を小さくすることも可能である0反応終
了後は、反応混合物をメタノール、ヘキサン等のマルチ
ブロック共重合体を溶解しない溶媒中に投じて生成重合
体を分離し、さらに再沈澱法により精製を行って副生成
物や塩類等を除去することにより、精製重合体を得るこ
とができる。
(発明の実施例) 以下1本発明を実施例によって説明する。実施例中、部
はすべて重量部を表わす0本発明はこれらの実施例によ
って限定されるものではない。
実施例中に用いた、両末端にカルボキシル基を有するポ
リシロキサンの平均分子式は、下記のとおりである。
U       Ml!      Me      
 U        υ実施例1 4.4部の3,4°−オキシジアニリン、3.50部の
イソフタル酸、14.2部の亜リン酸トリフェニル。
11.7部のピリジン及び2.4部のセチルトリメチル
アンモニウムクロリドをフラスコに入れ、窒素気流下に
おいて100 ”0で2時間撹拌しながら反応を行なっ
た。得られた溶液に、 12.4部のジオキサン及び1
.34部のポリシロキサンS−1を加え、更に100℃
に保ちつつ4時間撹拌して重合を行ない、無色透明の重
合体を得た。この重合体溶液を4QO部のメタノール中
に注ぎ込み、沈澱した重合体を濾過によって分離した0
次いで、熱メタノールで洗浄して、白色フレーク状の重
合体11を得た。
重合体11のジメチルアセトアミド中(濃度0.5g/
di) 、 30℃における固有粘度は0.44であっ
た。
同様にして、第1表に示した如く、原料及び溶媒の混合
比を変えて1重合体12〜15を得た0重合体!1〜1
5について、原料、溶媒の配合比と、得られた重合体の
固有粘度及びガラス転移点は第1表のとおりである0重
合体11及び13の比重は、それぞれ、1.260及び
1.235であった。
重合体11について、赤外分光分析を行なったところ、
その特性吸収は次のとおりであった。尚、重合体11の
赤外分光分析図を@1図に示す。
3300cm″’    (N−H)    1081
08O”    (Si−0−Si)1855cm′4
   (C=0)    101101O’    (
Si−0−9i)1250cm’  (Si−C) 更に、重合体11について熱重量測定を行ったところ、
空気中で350℃までほとんど重量減少を示さなかった
。また、重合体11のジメチルアセトアミド溶液を流延
して得られたフィルムについて機械的性質を測定した結
果1次のような結果を得た。
引張強さ    1113 MPa 破断伸び    9% 引張弾性率  810 NPa 尚、このようにして得られた重合体11〜15は。
次のような示性式で示されるものであり、重合体11〜
15のnの値はそれぞれ第1表のとおりである。
はパラ位である。実施例2〜5の示性式も同様である。
) 実施例2 ポリシロキサンS−1の代わりにポリシロキサンS−2
を用いた他は実施例1と同様にして、第2表に示したよ
うに原料及び溶媒の配合比を変えて、重合体21〜25
を得た。原料及び溶媒の配合比と、得られた重合体の固
有粘度を第2表に示す。
このようにして得られた重合体21〜25は1次のよう
な示性式で示されるものであり、重合体21〜25のn
の値はそれぞれ第2表のとおりである。
実施例3 イソフタル酸のかわりにアジピン酸を用いた他は実施例
1と同様にして、第3表に示したように原料及び溶媒の
配合比を変えて、重合体31〜35を得た。原料及び溶
媒の配合比と、得られた重合体の固有粘度、ガラス転移
点及びポリアミド部の融点を第3表に示す0重合体32
及び34の比重は、それぞれ、1.218及び1−21
0であった。尚、上記重合体31.32及び33の赤外
分光分析図を第2図に示   惰す・  −の このようにして得られた重合体31〜35は、次の  
 派ような示性式で示されるものであり、重合体31〜
35のnの値はそれぞれ第3表のとおりである。
実施例4 ポリシロキサンS−1の代わりにポリシロキサンS−2
を用いた他は実施例3と同様にして、第4表に示したよ
うに原料及び溶媒の配合比を変えて1重合体41〜45
を得た。原料及び溶媒の配合比と、得られた重合体の固
有粘度を第4表に示す。
このようにして得られた重合体41−45は、次のよう
な示性式で示されるものであり、重合体41〜45のn
の値はそれぞれ第4表のとおりである。    嶌呻 実施例5 ポリシロキサンS−tの代わりに3.12部のポリシロ
キサンS−3を用いた他は実施例3の重合体31の合成
と同様にして1重合体51を得た0重合体51の固有粘
度(測定法は実施例1と同じ)は0.37であった・ このようにして得られた重合体51は1次のような示性
式で示される。
(発明の効果) 本発明の方法によれば、重縮合反応が低温で進行するの
で高温を必要とせず、アミド交換反応やポリシロキサン
鎖の分解反応を避けることができる。又、不安定なカル
ボン酸クロリドの代わりに取扱いが容易なカルボン酸を
そのまま使用することが可能なため、構造が制御された
マルチプロ。
り共重合体を容易に製造することができる。それに対し
て、カルボン酸りaリドを用いる方法では、酸クロリド
の加水分解等により官能基が減少し、又、副反応が生ず
るため、制御された構造のブロック共重合体を得ること
ができない。
更に、本発明によって得られるポリシロキサン−ポリア
ミド系マルチブロック共重合体は1両反応成分の分子構
造、分子量等を選択することにより1弾性体から強靭な
樹脂状物まで、幅広い物性を有する重合体として得るこ
とができ、繊維やフィルム用の素材としての有用性を有
している。
又、耐熱性と耐溶剤性が優れ、ポリシロキサンとポリア
ミドの構成比を制御することにより機械的性質とガス透
過性を任意に設定可能であるため、ガス選択透過膜等と
して有用性が大きいものであ”る。
【図面の簡単な説明】
第1図は1重合体11の、第2図は、重合体31゜32
及び33の、それぞれ、赤外分光分析図を示すものであ
る。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)両末端にカルボキシル基を有するポリシロキサン
    と両末端にアミノアリール基を有するポリアミドから製
    造されることを特徴とするポリシロキサン−ポリアミド
    系マルチブロック共重合体。 (2)ポリシロキサンが、一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1は1価の置換又は非置換の炭化水素基、
    R^2は2価の炭化水素基、及びmは平均1〜200の
    数を表わす。) 及び/又は ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1は1価の置換又は非置換の炭化水素基、
    R^5及びR^6はそれぞれ2価の炭化水素基、Yは、
    ▲数式、化学式、表等があります▼又は ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^5及びR^6は前記と同意義であ
    り、mは平均1〜200、qは1〜10の数をそれぞれ
    表わす。) で示される基を表わし、mは前記と同意義である。) で示されるものである特許請求の範囲第1項記載のマル
    チブロック共重合体。 (3)ポリアミドが一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^3は炭化水素基及び互いにエーテル結合、
    チオエーテル結合、カルボニル基又はスルホニル基を介
    して互いに結合した2個の炭化水素基より構成される基
    から成る群より選ばれた2価の基、R^4は芳香族炭化
    水素基、及びアルキレン基、エーテル結合、チオエーテ
    ル結合、カルボニル基又はスルホニル結合を介して互い
    に結合した2個の芳香族炭化水素基より構成される基か
    ら成る群より選ばれた2価の芳香族性基、及びnは平均
    1〜100の数を表わす。) で示されるものである特許請求の範囲第1項又は第2項
    記載のマルチブロック共重合体。 (4)一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1は1価の置換又は非置換の炭化水素基、
    R^2は2価の炭化水素基、R^3は炭化水素基及び互
    いにエーテル結合、チオエーテル結合、カルボニル基又
    はスルホニル基を介して互いに結合した2個の炭化水素
    基より構成される基から成る群より選ばれた2価の基、
    R^4は芳香族炭化水素基、及びアルキレン基、エーテ
    ル結合、チオエーテル結合、カルボニル基又はスルホニ
    ル結合を介して互いに結合した2個の芳香族性基より構
    成される基から成る群より選ばれた2価の芳香族性炭化
    水素基、mは平均1〜200、nは平均1〜100、p
    は平均2〜50の数を表わす。)で示される、特許請求
    の範囲第1項記載のブロック共重合体。 (5)R^1がメチル基である特許請求の範囲第4項記
    載のマルチブロック共重合体。 (8)R^2が炭素数2〜20のアルキレン基である特
    許請求の範囲第4項記載のマルチブロック共重合体。 (7)R^4がビスフェニレンエーテル基である特許請
    求の範囲第4項記載のマルチブロック共重合体。 (8)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1は1価の置換又は非置換の炭化水素基、
    R^2は2価の炭化水素基、R^3は炭化水素基及び互
    いにエーテル結合、チオエーテル結合、カルボニル基又
    はスルホニル基を介して互いに結合した2個の炭化水素
    基より構成される基から成る群より選ばれた2価の基、
    R^4は芳香族炭化水素基、及びアルキレン基、エーテ
    ル結合、チオエーテル結合、カルボニル基又はスルホニ
    ル結合を介して互いに結合した2個の芳香族炭化水素基
    より構成される基から成る群より選ばれた2価の芳香族
    性基、R^5及びR^6はそれぞれ2価の炭化水素基、
    Yは、▲数式、化学式、表等があります▼又は ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^5及びR^6は前記と同意義であ
    り、mは平均1〜200、qは1〜10の数をそれぞれ
    表わす。) で示される基を表わし、mは前記と同意義であり、nは
    平均1〜100、pは平均2〜50の数をそれぞれ表わ
    す。) で表わされる、特許請求の範囲第1項記載のマルチブロ
    ック共重合体。 (9)R^1がメチル基である特許請求の範囲第8項記
    載のマルチブロック共重合体。 (10)R^6がメチレン基である特許請求の範囲第8
    項記載のマルチブロック共重合体。 (11)R^4がビスフェニレンエーテル基である特許
    請求の範囲第8項記載のマルチブロック共重合体。 (12)両末端にカルボキシル基を有するポリシロキサ
    ンと両末端にアミノアリール基を有するポリアミドとを
    芳香族亜リン酸エステルとピリジン又はピリジン誘導体
    の存在下に重縮合させることを特徴とするポリシロキサ
    ン−ポリアミド系マルチブロック共重合体の製造方法。 (13)ポリシロキサンが、一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1は1価の置換又は非置換の炭化水素基、
    R^2は2価の炭化水素基、及びmは平均1〜200の
    数を表わす。) 及び/又は ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1は1価の置換又は非置換の炭化水素基、
    R^5及びR^6はそれぞれ2価の炭化水素基、Yは、
    ▲数式、化学式、表等があります▼又は ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、R^1、R^5及びR^6は前記と同意義であり
    、mは平均1〜200、qは1〜10の数をそれぞれ表
    わす。 で示される基を表わし、mは前記と同意義である。) で示されるものである特許請求の範囲第12項記載のマ
    ルチブロック共重合体の製造方法。 (14)ポリアミドが一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^3は炭化水素基及び互いにエーテル結合、
    チオエーテル結合、カルボニル基又はスルホニル基を介
    して互いに結合した2個の炭化水素基より構成される基
    から成る群より選ばれた2価の基、R^4は芳香族炭化
    水素基、及びアルキレン基、エーテル結合、チオエーテ
    ル結合、カルボニル基又はスルホニル結合を介して互い
    に結合した2個の芳香族炭化水素基より構成される基か
    ら成る群より選ばれた2価の芳香族性基、及びnは平均
    1〜100の数を表わす。) で示されるものである特許請求の範囲第12項又は第1
    3項記載のマルチブロック共重合体の製造方法。 (15)芳香族亜リン酸エステルが、亜リン酸トリフェ
    ニル、亜リン酸ジフェニル、亜リン酸トリ−o−トリル
    、亜リン酸ジ−o−トリル、亜リン酸トリ−m−トリル
    、亜リン酸ジ−m−トリル、亜リン酸トリ−p−トリル
    、亜リン酸ジ−p−トリル、亜リン酸トリ−o−クロロ
    フェニル、亜リン酸ジ−o−クロロフェニル、亜リン酸
    トリ−p−クロロフェニル及び亜リン酸ジ−p−クロロ
    フェニルから成る群より選ばれたものである特許請求の
    範囲第12項記載のマルチブロック共重合体の製造方法
    。 (18)ピリジン又はピリジン誘導体が、ピリジン、2
    −ピコリン、3,3−ピコリン、4−ピコリン、2,4
    −ルチジン、2,6−ルチジン及び3,5−ルチジンか
    ら成る群より選ばれたものである特許請求の範囲第12
    項記載のマルチブロック共重合体の製造方法。 (17)重縮合が、有機溶媒の存在下、60〜120℃
    の範囲で行なわれる特許請求の範囲第12項記載のマル
    チブロック共重合体の製造方法。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61258837A (ja) * 1985-03-29 1986-11-17 ゼネラル・エレクトリツク・カンパニイ オルガノポリシロキサン―ポリアミドブロック重合体の製造法
JPH06329791A (ja) * 1993-05-21 1994-11-29 Tomoegawa Paper Co Ltd ポリシロキサン−芳香族ポリアミド系共重合体の製造方法
JP2001512164A (ja) * 1997-08-01 2001-08-21 コルゲート・パーモリブ・カンパニー 増粘剤としてのシロキサン−ベースのポリアミド類を含有する化粧品組成物
JP2005522551A (ja) * 2002-04-12 2005-07-28 ダウ・コーニング・コーポレイション 熱伝導性相転移材料
JP4990616B2 (ja) * 2004-03-17 2012-08-01 株式会社コーセー 油性クレンジング料

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61258837A (ja) * 1985-03-29 1986-11-17 ゼネラル・エレクトリツク・カンパニイ オルガノポリシロキサン―ポリアミドブロック重合体の製造法
JPH06329791A (ja) * 1993-05-21 1994-11-29 Tomoegawa Paper Co Ltd ポリシロキサン−芳香族ポリアミド系共重合体の製造方法
JP2001512164A (ja) * 1997-08-01 2001-08-21 コルゲート・パーモリブ・カンパニー 増粘剤としてのシロキサン−ベースのポリアミド類を含有する化粧品組成物
JP4868375B2 (ja) * 1997-08-01 2012-02-01 ダウ・コーニング・コーポレイション 増粘剤としてのシロキサン−ベースのポリアミド類を含有する化粧品組成物
JP2005522551A (ja) * 2002-04-12 2005-07-28 ダウ・コーニング・コーポレイション 熱伝導性相転移材料
JP4990616B2 (ja) * 2004-03-17 2012-08-01 株式会社コーセー 油性クレンジング料

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