KR101489618B1 - 성형체, 그 제조 방법, 전자 디바이스 부재 및 전자 디바이스 - Google Patents

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Families Citing this family (51)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102159395B (zh) 2008-08-19 2014-09-10 琳得科株式会社 成型制品、其制备方法、电子设备构件以及电子设备
JP5379530B2 (ja) 2009-03-26 2013-12-25 リンテック株式会社 成形体、その製造方法、電子デバイス用部材および電子デバイス
KR101489551B1 (ko) * 2009-05-22 2015-02-03 린텍 가부시키가이샤 성형체, 그 제조 방법, 전자 디바이스용 부재 및 전자 디바이스
JP5609885B2 (ja) * 2009-10-05 2014-10-22 コニカミノルタ株式会社 ガスバリア性フィルム、ガスバリア性フィルムの製造方法、該ガスバリア性フィルムを有する有機光電変換素子及び該有機光電変換素子を有する太陽電池
WO2011062100A1 (ja) * 2009-11-19 2011-05-26 コニカミノルタホールディングス株式会社 ガスバリア性フィルム、その製造方法、それを用いた有機光電変換素子及び有機エレクトロルミネッセンス素子
JP5389255B2 (ja) * 2010-03-29 2014-01-15 リンテック株式会社 成形体、その製造方法、電子デバイス用部材及び電子デバイス
JP5697230B2 (ja) 2010-03-31 2015-04-08 リンテック株式会社 成形体、その製造方法、電子デバイス用部材及び電子デバイス
EP2556954B1 (de) * 2010-03-31 2019-09-25 Lintec Corporation Transparenter leitender film und elektronische vorrichtung mit dem transparenten leitenden film
EP2607412A4 (de) 2010-08-20 2014-04-30 Lintec Corp Form, herstellungsverfahren dafür, komponente für elektronische vorrichtungen und elektronische vorrichtung
WO2012032907A1 (ja) * 2010-09-07 2012-03-15 リンテック株式会社 粘着シート、及び電子デバイス
TWI457235B (zh) * 2010-09-21 2014-10-21 Lintec Corp A gas barrier film, a manufacturing method thereof, an electronic device element, and an electronic device
TWI535561B (zh) 2010-09-21 2016-06-01 Lintec Corp A molded body, a manufacturing method thereof, an electronic device element, and an electronic device
JP5635360B2 (ja) * 2010-10-15 2014-12-03 リンテック株式会社 透明導電性フィルム、その製造方法、電子デバイス用部材及び電子デバイス
JP5691457B2 (ja) * 2010-12-06 2015-04-01 コニカミノルタ株式会社 ガスバリア性フィルム、ガスバリア性フィルムの製造方法
JP5798747B2 (ja) * 2011-01-14 2015-10-21 三井化学株式会社 積層体の製造方法
JP5734675B2 (ja) * 2011-01-17 2015-06-17 三井化学株式会社 積層体およびその製造方法
JP5781350B2 (ja) * 2011-03-30 2015-09-24 リンテック株式会社 ガスバリア積層体、その製造方法、電子デバイス用部材及び電子デバイス
WO2013011872A1 (ja) * 2011-07-15 2013-01-24 コニカミノルタホールディングス株式会社 ガスバリア性フィルム及びその製造方法
EP3650512A1 (de) 2011-08-03 2020-05-13 LINTEC Corporation Gasbarrieren-klebefolie, verfahren zur herstellung davon, elektronisches element und optisches element
WO2013035432A1 (ja) * 2011-09-08 2013-03-14 リンテック株式会社 変性ポリシラザンフィルム、および、ガスバリアフィルムの製造方法
FR2980394B1 (fr) * 2011-09-26 2013-10-18 Commissariat Energie Atomique Structure multicouche offrant une etancheite aux gaz amelioree
WO2013054823A1 (en) * 2011-10-14 2013-04-18 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and manufacturing method thereof
CN107953623A (zh) * 2011-11-04 2018-04-24 琳得科株式会社 阻气膜及其制造方法、阻气膜层叠体、电子装置用构件、以及电子装置
WO2013069402A1 (ja) * 2011-11-07 2013-05-16 リンテック株式会社 ガスバリアフィルムおよびガスバリアフィルムの製造方法
JP5989002B2 (ja) * 2011-11-30 2016-09-07 リンテック株式会社 ガスバリア性フィルムの製造方法、およびガスバリア性フィルムを備える電子部材又は光学部材
JP2013119567A (ja) * 2011-12-06 2013-06-17 Lintec Corp ガスバリアフィルム用中間層形成用組成物、ガスバリアフィルム及びその製造方法、並びに電子部材又は光学部材
JP5339655B1 (ja) * 2012-01-20 2013-11-13 リンテック株式会社 ガスバリアフィルムおよびガスバリアフィルムの製造方法
JP5408818B1 (ja) * 2012-02-21 2014-02-05 リンテック株式会社 ガスバリア構造体、およびガスバリア構造体の形成方法
CN104137649B (zh) 2012-02-21 2016-05-11 琳得科株式会社 有机电子元件和有机电子元件的制造方法
EP2823961B1 (de) 2012-03-06 2019-05-01 LINTEC Corporation Gassperrfilmlaminat, haftfilm und elektronisches bauteil
WO2013141318A1 (ja) * 2012-03-22 2013-09-26 リンテック株式会社 透明導電性積層体及び電子デバイス又はモジュール
FR2988520B1 (fr) * 2012-03-23 2014-03-14 Arkema France Utilisation d'une structure multicouche a base de polymere halogene comme feuille de protection de module photovoltaique
TWI576247B (zh) * 2012-03-30 2017-04-01 Lintec Corp A gas barrier film laminate, an electronic device element, and an electronic device
JP5953921B2 (ja) * 2012-05-15 2016-07-20 東レ株式会社 ガスバリア性フィルム
WO2013175910A1 (ja) * 2012-05-21 2013-11-28 リンテック株式会社 ガスバリア積層体、およびガスバリア積層体の製造方法
WO2013175911A1 (ja) * 2012-05-21 2013-11-28 リンテック株式会社 ガスバリアシートおよびガスバリアシートの製造方法
JP6045265B2 (ja) * 2012-09-18 2016-12-14 リンテック株式会社 イオン注入装置
JP6045266B2 (ja) * 2012-09-18 2016-12-14 リンテック株式会社 イオン注入装置
JP6295864B2 (ja) * 2014-07-16 2018-03-20 コニカミノルタ株式会社 ガスバリア性フィルムおよびその製造方法、ならびにこれを用いた電子デバイス
JP6402518B2 (ja) * 2014-07-16 2018-10-10 コニカミノルタ株式会社 ガスバリア性フィルムおよびその製造方法、ならびにこれを用いた電子デバイス
EP3287274A4 (de) * 2015-04-22 2018-09-05 LINTEC Corporation Gassperrschicht, element einer elektronischen vorrichtung und elektronische vorrichtung
CN108883605A (zh) * 2016-03-29 2018-11-23 琳得科株式会社 阻气性层叠体、电子设备用构件以及电子设备
JP7133904B2 (ja) 2016-03-31 2022-09-09 住友化学株式会社 積層フィルム及びその製造方法
JP6723051B2 (ja) 2016-03-31 2020-07-15 住友化学株式会社 積層フィルム及びその製造方法、並びに、積層フィルムの分析方法
JP6691803B2 (ja) 2016-03-31 2020-05-13 住友化学株式会社 積層フィルム及びその製造方法
JPWO2018168671A1 (ja) * 2017-03-17 2020-01-16 コニカミノルタ株式会社 ガスバリア膜、ガスバリア性フィルム、ガスバリア膜の製造方法、及び、ガスバリア性フィルムの製造方法
KR102572921B1 (ko) 2017-03-28 2023-08-30 린텍 가부시키가이샤 가스 배리어성 적층체
JP7137282B2 (ja) 2017-10-20 2022-09-14 リンテック株式会社 ガスバリアフィルム用基材、ガスバリアフィルム、電子デバイス用部材、及び電子デバイス
WO2019105534A1 (en) * 2017-11-28 2019-06-06 Applied Materials, Inc. Deposition apparatus, method of coating a flexible substrate and flexible substrate having a coating
KR102238878B1 (ko) * 2018-04-25 2021-04-12 주식회사 엘지화학 배리어 필름
JP2023114815A (ja) * 2022-02-07 2023-08-18 日新電機株式会社 プラズマ処理装置

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20060102506A (ko) * 2005-03-22 2006-09-27 후지 샤신 필름 가부시기가이샤 가스 배리어성 필름, 기재 필름 및 유기일렉트로루미네선스 소자
JP2007237588A (ja) * 2006-03-09 2007-09-20 Kyodo Printing Co Ltd ガスバリア性フィルム及びその製造方法
JP2009018569A (ja) * 2007-06-11 2009-01-29 Fujifilm Corp ガスバリアフィルムおよびこれを用いた有機デバイス

Family Cites Families (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60145903A (ja) 1983-12-29 1985-08-01 Toa Nenryo Kogyo Kk 無機ポリシラザン及びその合成方法
JPH0618885B2 (ja) 1986-02-12 1994-03-16 東燃株式会社 ポリシロキサザンおよびその製法
JP2507714B2 (ja) 1986-09-24 1996-06-19 東然株式会社 新規ポリチタノシラザン及びその製造方法
JPH0823063B2 (ja) * 1986-10-30 1996-03-06 日本板硝子株式会社 無機質薄膜で被覆されたプラスチツク物品の製法
JP2613787B2 (ja) 1987-08-13 1997-05-28 財団法人石油産業活性化センター 無機シラザン高重合体、その製造方法及びその用途
JP2760555B2 (ja) 1988-03-24 1998-06-04 東燃株式会社 ポリボロシラザン及びその製造方法
JP2700233B2 (ja) 1988-12-26 1998-01-19 財団法人石油産業活性化センター 共重合シラザンおよびその製造法
JP2870003B2 (ja) * 1989-03-23 1999-03-10 凸版印刷株式会社 蒸着フィルムの製造方法
JP3042537B2 (ja) 1990-06-30 2000-05-15 東燃株式会社 改質ポリシラザン及びその製造方法
JP3283276B2 (ja) 1991-12-04 2002-05-20 東燃ゼネラル石油株式会社 改質ポリシラザン及びその製造方法
JPH05238827A (ja) 1992-02-26 1993-09-17 Tonen Corp コーティング用組成物及びコーティング方法
JPH06122852A (ja) 1992-10-09 1994-05-06 Tonen Corp コーティング用組成物及びコーティング方法
JP3307471B2 (ja) 1993-02-24 2002-07-24 東燃ゼネラル石油株式会社 セラミックコーティング用組成物及びコーティング方法
JP3385060B2 (ja) 1993-04-20 2003-03-10 東燃ゼネラル石油株式会社 珪素−窒素−酸素−（炭素）−金属系セラミックス被覆膜の形成方法
JP3449798B2 (ja) * 1994-10-14 2003-09-22 東燃ゼネラル石油株式会社 ＳｉＯ２被覆プラスチックフィルムの製造方法
US5747623A (en) 1994-10-14 1998-05-05 Tonen Corporation Method and composition for forming ceramics and article coated with the ceramics
JP4070828B2 (ja) 1995-07-13 2008-04-02 Ａｚエレクトロニックマテリアルズ株式会社 シリカ質セラミックス形成用組成物、同セラミックスの形成方法及び同セラミックス膜
JP2794088B2 (ja) 1995-11-20 1998-09-03 工業技術院長 プラスチック成形体の劣化防止方法
JP3729566B2 (ja) * 1996-07-24 2005-12-21 三井化学株式会社 積層体
JPH10212114A (ja) 1996-11-26 1998-08-11 Tonen Corp ＳｉＯ２系セラミックス膜の形成方法
JPH10279362A (ja) * 1997-03-31 1998-10-20 Tonen Corp ＳｉＯ２系セラミックス膜の形成方法
JP3484094B2 (ja) * 1999-02-26 2004-01-06 グンゼ株式会社 シリカ被覆プラスティックフィルム及びその製造方法
JP2000338901A (ja) 1999-06-01 2000-12-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd フレキシブルディスプレイ基板の製造方法
JP3555928B2 (ja) 1999-07-12 2004-08-18 独立行政法人産業技術総合研究所 表面改質方法及び表面改質装置
JP3517749B2 (ja) 1999-11-26 2004-04-12 独立行政法人産業技術総合研究所 表面改質装置
JP2002100469A (ja) * 2000-09-25 2002-04-05 Pioneer Electronic Corp 有機エレクトロルミネッセンス表示パネル
JP4029620B2 (ja) * 2002-01-18 2008-01-09 凸版印刷株式会社 積層体及び透明導電性ガスバリアフィルム及び透明導電性ガスバリアフィルムの製造方法
JP4349078B2 (ja) * 2003-10-29 2009-10-21 凸版印刷株式会社 強密着蒸着フィルムの製造方法および強密着蒸着フィルム
CN101080282B (zh) * 2004-12-17 2010-05-12 国立大学法人德岛大学 基材表面的改性方法、具有改性表面的基材及其制造方法
US7906217B2 (en) * 2005-02-22 2011-03-15 Toyo Seikan Kaisha, Ltd. Vapor deposited film by plasma CVD method
JP2007283726A (ja) * 2006-04-20 2007-11-01 Bridgestone Corp 成形体及びその製造方法
TW200903710A (en) * 2007-07-11 2009-01-16 Promos Technologies Inc Manufacturing method for shallow trench isolation
TWI491500B (zh) * 2009-02-16 2015-07-11 Lintec Corp A manufacturing method of a laminated body, a structure for an electronic device, and an electronic device

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20060102506A (ko) * 2005-03-22 2006-09-27 후지 샤신 필름 가부시기가이샤 가스 배리어성 필름, 기재 필름 및 유기일렉트로루미네선스 소자
JP2007237588A (ja) * 2006-03-09 2007-09-20 Kyodo Printing Co Ltd ガスバリア性フィルム及びその製造方法
JP2009018569A (ja) * 2007-06-11 2009-01-29 Fujifilm Corp ガスバリアフィルムおよびこれを用いた有機デバイス

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