|
JPS59168983A
(ja)
*
|
1983-03-17 |
1984-09-22 |
Seiko Epson Corp |
半導体記憶装置
|
|
JP2869339B2
(ja)
*
|
1993-08-09 |
1999-03-10 |
松下電器産業株式会社 |
ラインメモリ
|
|
JPH09101503A
(ja)
|
1995-10-04 |
1997-04-15 |
Semiconductor Energy Lab Co Ltd |
表示装置
|
|
TW522354B
(en)
|
1998-08-31 |
2003-03-01 |
Semiconductor Energy Lab |
Display device and method of driving the same
|
|
US6876339B2
(en)
|
1999-12-27 |
2005-04-05 |
Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. |
Semiconductor device and driving method thereof
|
|
JP2001273773A
(ja)
|
2000-03-27 |
2001-10-05 |
Sanyo Electric Co Ltd |
半導体メモリ装置
|
|
KR100387529B1
(ko)
|
2001-06-11 |
2003-06-18 |
삼성전자주식회사 |
랜덤 억세스 가능한 메모리 셀 어레이를 갖는 불휘발성반도체 메모리 장치
|
|
JP5138869B2
(ja)
|
2002-11-28 |
2013-02-06 |
ルネサスエレクトロニクス株式会社 |
メモリモジュール及びメモリシステム
|
|
JP4156985B2
(ja)
*
|
2003-06-30 |
2008-09-24 |
株式会社東芝 |
半導体記憶装置
|
|
JP2005309304A
(ja)
|
2004-04-26 |
2005-11-04 |
Seiko Epson Corp |
データ線駆動回路、電気光学装置および電子機器
|
|
JP4805696B2
(ja)
|
2006-03-09 |
2011-11-02 |
株式会社東芝 |
半導体集積回路装置およびそのデータ記録方式
|
|
US7586784B2
(en)
*
|
2006-06-09 |
2009-09-08 |
Micron Technology, Inc. |
Apparatus and methods for programming multilevel-cell NAND memory devices
|
|
US8095104B2
(en)
|
2006-06-30 |
2012-01-10 |
Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. |
Semiconductor device and electronic device having the same
|
|
KR101381359B1
(ko)
|
2006-08-31 |
2014-04-04 |
가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 |
클록 생성 회로 및 이 클록 생성 회로를 구비한 반도체장치
|
|
TWI481195B
(zh)
|
2006-10-31 |
2015-04-11 |
半導體能源研究所股份有限公司 |
振盪器電路及包含該振盪器電路的半導體裝置
|
|
KR101428787B1
(ko)
|
2007-02-08 |
2014-08-08 |
가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 |
클록 신호 생성 회로 및 반도체 장치
|
|
JP2010149654A
(ja)
|
2008-12-25 |
2010-07-08 |
Sanyo Electric Co Ltd |
車両用表示装置
|
|
US8649554B2
(en)
|
2009-05-01 |
2014-02-11 |
Microsoft Corporation |
Method to control perspective for a camera-controlled computer
|
|
KR101870119B1
(ko)
|
2009-12-25 |
2018-06-25 |
가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 |
반도체 장치
|
|
JP2011187794A
(ja)
|
2010-03-10 |
2011-09-22 |
Toshiba Corp |
半導体記憶装置及びその製造方法
|
|
JP5039168B2
(ja)
*
|
2010-03-24 |
2012-10-03 |
株式会社東芝 |
半導体記憶装置
|
|
JP5709197B2
(ja)
|
2010-05-21 |
2015-04-30 |
国立大学法人 東京大学 |
集積回路装置
|
|
KR101258327B1
(ko)
|
2010-10-13 |
2013-04-25 |
주식회사 팬택 |
플렉서블 디스플레이부를 구비한 장치 및 그 디스플레이 방법
|
|
JP2012146861A
(ja)
|
2011-01-13 |
2012-08-02 |
Toshiba Corp |
半導体記憶装置
|
|
KR20130011138A
(ko)
|
2011-07-20 |
2013-01-30 |
삼성전자주식회사 |
모노 랭크와 멀티 랭크로 호환 가능한 메모리 장치
|
|
WO2013080985A1
(ja)
|
2011-11-30 |
2013-06-06 |
シャープ株式会社 |
制御ユニット、該制御ユニットを含む表示装置、及び、制御方法
|
|
JP5842602B2
(ja)
|
2011-12-26 |
2016-01-13 |
株式会社Joled |
曲面ディスプレイ
|
|
KR102033618B1
(ko)
|
2012-12-18 |
2019-10-17 |
엘지디스플레이 주식회사 |
표시장치와 이의 구동방법
|
|
JP2014127220A
(ja)
*
|
2012-12-27 |
2014-07-07 |
Toshiba Corp |
半導体記憶装置
|
|
JP6405100B2
(ja)
|
2013-03-08 |
2018-10-17 |
株式会社半導体エネルギー研究所 |
半導体装置
|
|
KR102071573B1
(ko)
|
2013-06-13 |
2020-03-02 |
삼성전자주식회사 |
외부 클락 신호를 이용하여 오실레이터의 주파수를 조절할 수 있는 디스플레이 드라이버 ic, 이를 포함하는 장치, 및 이들의 동작 방법
|
|
JP2015004727A
(ja)
|
2013-06-19 |
2015-01-08 |
シャープ株式会社 |
表示装置および表示方法
|
|
JP2015056642A
(ja)
|
2013-09-13 |
2015-03-23 |
株式会社東芝 |
半導体記憶装置
|
|
US9973692B2
(en)
|
2013-10-03 |
2018-05-15 |
Flir Systems, Inc. |
Situational awareness by compressed display of panoramic views
|
|
JP2015075516A
(ja)
|
2013-10-07 |
2015-04-20 |
ソニー株式会社 |
画像処理装置、画像処理方法、および表示装置
|
|
US20150155039A1
(en)
|
2013-12-02 |
2015-06-04 |
Silicon Storage Technology, Inc. |
Three-Dimensional Flash NOR Memory System With Configurable Pins
|
|
DE112015001133T5
(de)
|
2014-03-07 |
2016-12-01 |
Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. |
Betriebsverfahren für eine Halbleitervorrichtung
|
|
JP6525421B2
(ja)
*
|
2014-03-13 |
2019-06-05 |
株式会社半導体エネルギー研究所 |
半導体装置
|
|
KR102172980B1
(ko)
|
2014-04-07 |
2020-11-02 |
삼성전자주식회사 |
타일드 디스플레이 시스템 및 그 화상 처리 방법
|
|
KR102321501B1
(ko)
*
|
2014-05-14 |
2021-11-05 |
삼성전자주식회사 |
불휘발성 메모리 장치 및 그것을 포함하는 스토리지 장치의 동작 방법
|
|
KR102247087B1
(ko)
*
|
2014-07-08 |
2021-05-03 |
삼성전자주식회사 |
스토리지 장치 및 스토리지 장치의 동작 방법
|
|
KR102238592B1
(ko)
*
|
2014-08-08 |
2021-04-09 |
삼성전자주식회사 |
비휘발성 메모리 장치의 디폴트 독출 전압 설정 방법 및 비휘발성 메모리 장치의 데이터 독출 방법
|
|
US9544994B2
(en)
|
2014-08-30 |
2017-01-10 |
Lg Display Co., Ltd. |
Flexible display device with side crack protection structure and manufacturing method for the same
|
|
US9543370B2
(en)
|
2014-09-24 |
2017-01-10 |
Apple Inc. |
Silicon and semiconducting oxide thin-film transistor displays
|
|
JP6615565B2
(ja)
|
2014-10-24 |
2019-12-04 |
株式会社半導体エネルギー研究所 |
半導体装置
|
|
US9634097B2
(en)
|
2014-11-25 |
2017-04-25 |
Sandisk Technologies Llc |
3D NAND with oxide semiconductor channel
|
|
US9847135B2
(en)
*
|
2015-01-30 |
2017-12-19 |
Toshiba Memory Corporation |
Memory device and method of reading data
|
|
US9761732B2
(en)
|
2015-02-25 |
2017-09-12 |
Snaptrack Inc. |
Tunnel thin film transistor with hetero-junction structure
|
|
JP6290124B2
(ja)
*
|
2015-03-12 |
2018-03-07 |
東芝メモリ株式会社 |
半導体記憶装置
|
|
KR102282196B1
(ko)
*
|
2015-04-28 |
2021-07-27 |
삼성전자 주식회사 |
비휘발성 메모리 장치, 메모리 시스템 및 그것의 동작 방법
|
|
JP2016225613A
(ja)
|
2015-05-26 |
2016-12-28 |
株式会社半導体エネルギー研究所 |
半導体装置及び半導体装置の駆動方法
|
|
JP6343256B2
(ja)
|
2015-05-29 |
2018-06-13 |
東芝メモリ株式会社 |
半導体装置及びその製造方法
|
|
KR102553553B1
(ko)
|
2015-06-12 |
2023-07-10 |
가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 |
촬상 장치, 및 그 동작 방법 및 전자 기기
|
|
KR20170008999A
(ko)
*
|
2015-07-15 |
2017-01-25 |
에스케이하이닉스 주식회사 |
메모리 시스템 및 메모리의 동작 방법
|
|
JP6400536B2
(ja)
|
2015-08-04 |
2018-10-03 |
東芝メモリ株式会社 |
半導体記憶装置
|
|
US10410599B2
(en)
|
2015-08-13 |
2019-09-10 |
Samsung Electronics Co., Ltd. |
Source driver integrated circuit for ompensating for display fan-out and display system including the same
|
|
JP6545587B2
(ja)
|
2015-09-15 |
2019-07-17 |
東芝メモリ株式会社 |
半導体装置
|
|
WO2017068478A1
(en)
*
|
2015-10-22 |
2017-04-27 |
Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. |
Semiconductor device or memory device including the semiconductor device
|
|
KR20180081732A
(ko)
|
2015-11-13 |
2018-07-17 |
가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 |
반도체 장치, 전자 부품, 및 전자 기기
|
|
JP2017111847A
(ja)
*
|
2015-12-17 |
2017-06-22 |
株式会社東芝 |
半導体記憶装置
|
|
KR102465169B1
(ko)
*
|
2015-12-21 |
2022-11-11 |
에스케이하이닉스 주식회사 |
전자 장치
|
|
US10475370B2
(en)
|
2016-02-17 |
2019-11-12 |
Google Llc |
Foveally-rendered display
|
|
JP6433933B2
(ja)
*
|
2016-03-14 |
2018-12-05 |
東芝メモリ株式会社 |
半導体記憶装置及びメモリシステム
|
|
KR102547795B1
(ko)
*
|
2016-05-04 |
2023-06-27 |
에스케이하이닉스 주식회사 |
데이터 처리 시스템 및 데이터 처리 시스템의 동작 방법
|
|
JP6940974B2
(ja)
|
2016-05-10 |
2021-09-29 |
株式会社半導体エネルギー研究所 |
移動体
|
|
JP2017207747A
(ja)
|
2016-05-17 |
2017-11-24 |
株式会社半導体エネルギー研究所 |
表示システムおよび移動体
|
|
US10930205B2
(en)
|
2016-05-19 |
2021-02-23 |
Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. |
Display system and moving object
|
|
US9859298B1
(en)
*
|
2016-06-23 |
2018-01-02 |
Sandisk Technologies Llc |
Amorphous silicon layer in memory device which reduces neighboring word line interference
|
|
KR102696801B1
(ko)
|
2016-07-27 |
2024-08-20 |
삼성전자주식회사 |
수직형 메모리 소자 및 이의 제조방법
|
|
JP6693907B2
(ja)
|
2017-06-08 |
2020-05-13 |
株式会社半導体エネルギー研究所 |
半導体装置、記憶装置、及び電子機器
|
|
US10593693B2
(en)
|
2017-06-16 |
2020-03-17 |
Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. |
Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device
|
|
JP7195068B2
(ja)
|
2017-06-26 |
2022-12-23 |
株式会社半導体エネルギー研究所 |
半導体装置、電子機器
|
|
US11682667B2
(en)
|
2017-06-27 |
2023-06-20 |
Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. |
Memory cell including cell transistor including control gate and charge accumulation layer
|
|
CN108733325B
(zh)
*
|
2018-05-25 |
2020-12-18 |
山东大学 |
一种基于非挥发性存储器的数据自毁方法及系统
|
|
TW202602212A
(zh)
|
2019-10-31 |
2026-01-01 |
日商半導體能源研究所股份有限公司 |
半導體裝置及電子裝置
|