JPWO2017038702A1 - 蛍光x線分析装置 - Google Patents
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- 238000004876 x-ray fluorescence Methods 0.000 title claims abstract description 24
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 471
- 238000004445 quantitative analysis Methods 0.000 claims abstract description 98
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims abstract description 48
- 238000004451 qualitative analysis Methods 0.000 claims abstract description 36
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 claims description 8
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims description 8
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 5
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 4
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012764 semi-quantitative analysis Methods 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
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- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/223—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material by irradiating the sample with X-rays or gamma-rays and by measuring X-ray fluorescence
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- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/20—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
- G01N23/207—Diffractometry using detectors, e.g. using a probe in a central position and one or more displaceable detectors in circumferential positions
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- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/20—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
- G01N23/207—Diffractometry using detectors, e.g. using a probe in a central position and one or more displaceable detectors in circumferential positions
- G01N23/2076—Diffractometry using detectors, e.g. using a probe in a central position and one or more displaceable detectors in circumferential positions for spectrometry, i.e. using an analysing crystal, e.g. for measuring X-ray fluorescence spectrum of a sample with wavelength-dispersion, i.e. WDXFS
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- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
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- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
- G01N2223/07—Investigating materials by wave or particle radiation secondary emission
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
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Abstract
Description
3 1次X線
5 2次X線
13,23 定量分析条件設定手段
14 標準試料
Claims (5)
- 試料に1次X線を照射して発生する2次X線の強度を測定する走査型の蛍光X線分析装置であって、
分析対象試料に対応する検量線を作成するための複数の標準試料と、
定量分析条件として、あらかじめ、分析対象試料における測定線および測定線のピークプロファイルの半値幅ならびに各標準試料における試料構成元素およびその含有率が設定される定量分析条件設定手段とを備え、
前記定量分析条件設定手段が、
複数の標準試料について定性分析を行い、各標準試料で同定された各測定線について、ピーク検索によるピーク角度、そのピーク角度およびあらかじめ設定されたピークプロファイルの半値幅に基づくバックグラウンド角度、ならびに、前記ピーク角度におけるピーク強度および前記バックグラウンド角度におけるバックグラウンド強度に基づくネット強度を求め、
測定線ごとに、測定線を中心とする所定の角度範囲に妨害線が同定されておらずかつピーク強度が最大である標準試料のピーク角度を、定量分析条件において分析対象試料における測定線のピーク測定角度として設定するとともに、
測定線ごとに、定性分析された複数の標準試料のピークプロファイルを合成して単一の仮想プロファイルを求め、測定線に対する低角度側および高角度側のそれぞれにおいて、仮想プロファイルおよびあらかじめ設定されたピークプロファイルの半値幅に基づくバックグラウンド角度を、定量分析条件において分析対象試料における測定線のバックグラウンド測定角度として設定する蛍光X線分析装置。 - 試料に1次X線を照射して発生する2次X線の強度を測定する走査型の蛍光X線分析装置であって、
分析対象試料に対応する検量線を作成するための複数の標準試料と、
定量分析条件として、あらかじめ、分析対象試料における測定線および測定線のピークプロファイルの半値幅ならびに各標準試料における試料構成元素およびその含有率が設定される定量分析条件設定手段とを備え、
前記定量分析条件設定手段が、
複数の標準試料について定性分析を行い、各標準試料で同定された各測定線について、ピーク検索によるピーク角度、そのピーク角度およびあらかじめ設定されたピークプロファイルの半値幅に基づくバックグラウンド角度、ならびに、前記ピーク角度におけるピーク強度および前記バックグラウンド角度におけるバックグラウンド強度に基づくネット強度を求め、
測定線ごとに、測定線を中心とする所定の角度範囲に妨害線が同定されておらずかつピーク強度が最大である標準試料のピーク角度を、定量分析条件において分析対象試料における測定線のピーク測定角度として設定するとともに、
測定線ごとに、各標準試料のピークプロファイルおよびあらかじめ設定されたピークプロファイルの半値幅に基づいてバックグラウンド測定角度範囲を求め、測定線に対する低角度側および高角度側のそれぞれにおいて、定性分析された複数の標準試料に共通するバックグラウンド測定角度範囲にあって最も測定線に近い角度を、定量分析条件において分析対象試料における測定線のバックグラウンド測定角度として設定する蛍光X線分析装置。 - 請求項1に記載の蛍光X線分析装置において、
前記定量分析条件設定手段が、
前記仮想プロファイルにおいて、測定線に対する低角度側および高角度側において設定した測定線のバックグラウンド測定角度を、所定の角度範囲においてかつ所定の角度ステップで、交互に測定線に近づけ、測定線のピーク測定角度におけるバックグラウンド強度が最小となるバックグラウンド測定角度を、新たに定量分析条件において分析対象試料における測定線のバックグラウンド測定角度として設定する蛍光X線分析装置。 - 請求項2に記載の蛍光X線分析装置において、
前記定量分析条件設定手段が、
各標準試料のピークプロファイルにおいて、測定線に対する低角度側および高角度側において設定した測定線のバックグラウンド測定角度を、所定の角度範囲においてかつ所定の角度ステップで、交互に測定線に近づけ、測定線のピーク測定角度におけるバックグラウンド強度が最小となるバックグラウンド測定角度を、各標準試料における新たな測定線のバックグラウンド測定角度とし、測定線に対する低角度側および高角度側のそれぞれにおいて、定性分析された複数の標準試料における新たな測定線のバックグラウンド測定角度のうち、測定線のピーク測定角度から最も離れた測定線のバックグラウンド測定角度を、新たに定量分析条件において分析対象試料における測定線のバックグラウンド測定角度として設定する蛍光X線分析装置。 - 請求項1または3に記載の蛍光X線分析装置において、
前記定量分析条件設定手段が、
測定線ごとに、定性分析された複数の標準試料について、設定した測定線のバックグラウンド測定角度に基づくネット強度を求め、
求めたネット強度が負になり、かつ求めたネット強度の絶対値がネット強度の理論的標準偏差を超える標準試料が1つでもある場合に、測定線に対する低角度側および高角度側において設定した測定線のバックグラウンド測定角度のうち、前記仮想プロファイルにおいてバックグラウンド強度が大きい方のバックグラウンド測定角度を設定から除外する蛍光X線分析装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015169543 | 2015-08-28 | ||
JP2015169543 | 2015-08-28 | ||
PCT/JP2016/075034 WO2017038702A1 (ja) | 2015-08-28 | 2016-08-26 | 蛍光x線分析装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2017038702A1 true JPWO2017038702A1 (ja) | 2018-06-07 |
JP6340604B2 JP6340604B2 (ja) | 2018-06-13 |
Family
ID=58187491
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017537853A Active JP6232568B2 (ja) | 2015-08-28 | 2016-08-26 | 蛍光x線分析装置 |
JP2017537854A Active JP6340604B2 (ja) | 2015-08-28 | 2016-08-26 | 蛍光x線分析装置 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017537853A Active JP6232568B2 (ja) | 2015-08-28 | 2016-08-26 | 蛍光x線分析装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US10082475B2 (ja) |
EP (2) | EP3343211B1 (ja) |
JP (2) | JP6232568B2 (ja) |
CN (2) | CN107209132B (ja) |
WO (2) | WO2017038702A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3598116B1 (en) * | 2017-03-15 | 2021-07-21 | Rigaku Corporation | X-ray fluorescence analysis method, x-ray fluorescence analysis program, and x-ray fluorescence spectrometer |
JP6797421B2 (ja) * | 2018-08-09 | 2020-12-09 | 株式会社リガク | 蛍光x線分析装置 |
JP6998608B2 (ja) * | 2019-09-20 | 2022-01-18 | 株式会社リガク | 定量分析方法、定量分析プログラム、及び、蛍光x線分析装置 |
JP6838754B1 (ja) * | 2019-09-26 | 2021-03-03 | 株式会社リガク | 蛍光x線分析装置 |
JP7190749B2 (ja) | 2020-05-18 | 2022-12-16 | 株式会社リガク | 蛍光x線分析装置 |
JP7190751B2 (ja) * | 2020-10-30 | 2022-12-16 | 株式会社リガク | 蛍光x線分析装置 |
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JP2013205080A (ja) * | 2012-03-27 | 2013-10-07 | Rigaku Corp | 蛍光x線分析装置 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2853261B2 (ja) * | 1989-05-16 | 1999-02-03 | 三菱マテリアル株式会社 | 金属分析方法および分析装置 |
WO1997006430A1 (en) * | 1995-08-09 | 1997-02-20 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Method and apparatus for total reflection x-ray fluorescence spectroscopy |
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JP3567177B2 (ja) * | 2000-04-11 | 2004-09-22 | 理学電機工業株式会社 | 蛍光x線分析装置 |
DE10159828B4 (de) | 2001-12-06 | 2007-09-20 | Rigaku Industrial Corporation, Takatsuki | Röntgenfluoreszenzspektrometer |
US6845147B2 (en) | 2002-06-17 | 2005-01-18 | Edax Inc. | Scatter spectra method for x-ray fluorescent analysis with optical components |
JP4908119B2 (ja) * | 2005-10-19 | 2012-04-04 | 株式会社リガク | 蛍光x線分析装置 |
EP2333529B1 (en) * | 2009-09-07 | 2013-10-16 | Rigaku Corporation | X-ray fluorescence analyzing method |
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US9784699B2 (en) * | 2015-03-03 | 2017-10-10 | Panalytical B.V. | Quantitative X-ray analysis—matrix thickness correction |
-
2016
- 2016-08-26 EP EP16841734.3A patent/EP3343211B1/en active Active
- 2016-08-26 US US15/544,896 patent/US10082475B2/en active Active
- 2016-08-26 CN CN201680006771.9A patent/CN107209132B/zh active Active
- 2016-08-26 WO PCT/JP2016/075034 patent/WO2017038702A1/ja active Application Filing
- 2016-08-26 JP JP2017537853A patent/JP6232568B2/ja active Active
- 2016-08-26 CN CN201680049794.8A patent/CN107923859B/zh active Active
- 2016-08-26 JP JP2017537854A patent/JP6340604B2/ja active Active
- 2016-08-26 EP EP16841733.5A patent/EP3239702B1/en active Active
- 2016-08-26 WO PCT/JP2016/075033 patent/WO2017038701A1/ja active Application Filing
-
2018
- 2018-02-21 US US15/901,244 patent/US10161889B2/en active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002340822A (ja) * | 2001-05-16 | 2002-11-27 | Rigaku Industrial Co | 蛍光x線分析装置 |
JP2013205080A (ja) * | 2012-03-27 | 2013-10-07 | Rigaku Corp | 蛍光x線分析装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN107923859B (zh) | 2018-12-21 |
CN107923859A (zh) | 2018-04-17 |
WO2017038702A1 (ja) | 2017-03-09 |
WO2017038702A8 (ja) | 2018-02-01 |
CN107209132A (zh) | 2017-09-26 |
EP3239702A1 (en) | 2017-11-01 |
WO2017038701A8 (ja) | 2017-06-15 |
WO2017038701A1 (ja) | 2017-03-09 |
EP3343211A1 (en) | 2018-07-04 |
JP6232568B2 (ja) | 2017-11-22 |
EP3343211A4 (en) | 2019-08-07 |
US20180180563A1 (en) | 2018-06-28 |
JPWO2017038701A1 (ja) | 2017-10-12 |
EP3239702B1 (en) | 2019-03-27 |
US10161889B2 (en) | 2018-12-25 |
CN107209132B (zh) | 2019-06-21 |
EP3343211B1 (en) | 2020-07-29 |
JP6340604B2 (ja) | 2018-06-13 |
US20180106736A1 (en) | 2018-04-19 |
EP3239702A4 (en) | 2018-01-03 |
US10082475B2 (en) | 2018-09-25 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180214 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20180214 |
|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20180404 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180410 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6340604 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
SG99 | Written request for registration of restore |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R316G99 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
SG99 | Written request for registration of restore |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R316G99 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
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