JP6574959B2 - 波長分散型蛍光x線分析装置およびそれを用いる蛍光x線分析方法 - Google Patents
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Description
IB=k(IB1+IB2) …(2)
Inet:測定対象の蛍光X線の算出されたネット強度
IP:ピーク領域にある検出素子(第123番から第129番の検出素子)の検出強度を積算したピーク強度
IB:ピーク領域のバックグラウンド強度
IB1:第1バックグラウンド領域にある検出素子(第106番から第112番の検出素子)の検出強度を積算したバックグラウンド強度
IB2:第2バックグラウンド領域にある検出素子(第140番から第146番の検出素子)の検出強度を積算したバックグラウンド強度
k:バックグラウンド補正係数
IB B:ブランク試料についてピーク領域にある検出素子(第123番から第129番の検出素子)の検出強度を積算したピーク強度
IB1 B:ブランク試料について第1バックグラウンド領域にある検出素子(第106番から第112番の検出素子)の検出強度を積算したバックグラウンド強度
IB2 B:ブランク試料について第2バックグラウンド領域にある検出素子(第140番から第146番の検出素子)の検出強度を積算したバックグラウンド強度
W:試料中の測定対象元素の含有率
A、B:検量線定数
k2=0.5×IB B/IB2 B …(6)
k1:第1バックグラウンド領域のバックグラウンド補正係数
k2:第2バックグラウンド領域のバックグラウンド補正係数
2 X線源
4 2次X線
5 発散スリット
6 分光素子
7 検出素子
10 位置敏感型検出器(一次元検出器)
10a 受光面
10a1,10a2,10a3 受光領域
14 測定スペクトル表示手段
15 表示器
16 検出領域設定手段
17 定量手段
41 相異なる分光角度の2次X線
42 集光2次X線
AS 補正スペクトル
BA1,BA2 バックグラウンド領域
BS,MS,PS 測定スペクトル
PA ピーク領域
S 試料、検出領域設定用試料、係数算出用試料、ブランク試料
Claims (7)
- 試料に1次X線を照射するX線源と、
試料から発生した2次X線を通過させる発散スリットと、
前記発散スリットを通過した2次X線を分光して集光する分光素子と、
前記分光素子における分光角度方向に配列された複数の検出素子を有し、2次X線が前記分光素子で集光された集光2次X線について、集光2次X線を構成する相異なる分光角度の2次X線の各強度を対応する前記検出素子で検出する位置敏感型検出器とを備え、
前記発散スリット、前記分光素子および前記位置敏感型検出器が固定されている集中光学系の波長分散型蛍光X線分析装置であって、
前記検出素子の配列方向における位置と前記検出素子の検出強度との関係を測定スペクトルとして表示器に表示する測定スペクトル表示手段と、
前記検出素子の配列方向において、測定対象の蛍光X線に対応する前記検出素子の領域であるピーク領域と、測定対象の蛍光X線のバックグラウンドに対応する前記検出素子の領域であるバックグラウンド領域とが操作者により設定される検出領域設定手段と、
前記ピーク領域にある前記検出素子の検出強度を積算したピーク強度と、前記バックグラウンド領域にある前記検出素子の検出強度を積算したバックグラウンド強度と、あらかじめ算出されたバックグラウンド補正係数とに基づいて、ネット強度として測定対象の蛍光X線の強度を算出して定量分析を行う定量手段とを備えた波長分散型蛍光X線分析装置。 - 請求項1に記載の波長分散型蛍光X線分析装置を用いて定量分析を行う蛍光X線分析方法であって、
前記測定スペクトル表示手段により表示される測定スペクトルにおける測定対象の蛍光X線のバックグラウンドのプロファイルが相似である分析対象品種の試料について、
所定の検出領域設定用試料における測定スペクトルに基づいて、前記検出領域設定手段により前記ピーク領域および前記バックグラウンド領域を設定し、
所定の係数算出用試料におけるバックグラウンド強度に基づいて、単一のバックグラウンド補正係数を算出する蛍光X線分析方法。 - 請求項1に記載の波長分散型蛍光X線分析装置を用いて定量分析を行う蛍光X線分析方法であって、
前記測定スペクトル表示手段により表示される測定スペクトルにおける測定対象の蛍光X線のバックグラウンドのプロファイルが相異なる分析対象品種の試料について、
所定の検出領域設定用試料における測定スペクトルに基づいて、前記検出領域設定手段により前記ピーク領域およびその両側に1つずつの前記バックグラウンド領域を、前記検出素子の配列方向において前記ピーク領域の中心から各バックグラウンド領域の中心までの距離が等しくなるように設定し、
所定の係数算出用試料におけるバックグラウンド強度に基づいて、2つのバックグラウンド補正係数を算出する蛍光X線分析方法。 - 請求項1に記載の波長分散型蛍光X線分析装置において、
前記測定スペクトル表示手段が、
所定のブランク試料における測定スペクトルに基づいて、前記検出素子へ入射するバックグラウンドの強度が前記検出素子の配列方向において一定であると仮定することにより、各検出素子について検出強度に対する入射強度の比として感度係数を算出し、
前記測定スペクトルに代えてまたは前記測定スペクトルとともに、前記検出素子の配列方向における位置と前記検出素子の検出強度に前記感度係数を乗じた補正検出強度との関係を補正スペクトルとして表示器に表示する波長分散型蛍光X線分析装置。 - 請求項4に記載の波長分散型蛍光X線分析装置を用いて定量分析を行う蛍光X線分析方法であって、
前記測定スペクトル表示手段により表示される補正スペクトルにおける測定対象の蛍光X線のバックグラウンドのプロファイルが相似である分析対象品種の試料について、
所定の検出領域設定用試料における補正スペクトルに基づいて、前記検出領域設定手段により前記ピーク領域および前記バックグラウンド領域を設定し、
所定の係数算出用試料におけるバックグラウンド強度に基づいて、単一のバックグラウンド補正係数を算出する蛍光X線分析方法。 - 請求項4に記載の波長分散型蛍光X線分析装置を用いて定量分析を行う蛍光X線分析方法であって、
前記測定スペクトル表示手段により表示される補正スペクトルにおける測定対象の蛍光X線のバックグラウンドのプロファイルが相異なる分析対象品種の試料について、
所定の検出領域設定用試料における補正スペクトルに基づいて、前記検出領域設定手段により前記ピーク領域およびその両側に1つずつの前記バックグラウンド領域を、前記検出素子の配列方向において前記ピーク領域の中心から各バックグラウンド領域の中心までの距離が等しくなるように設定し、
所定の係数算出用試料におけるバックグラウンド強度に基づいて、2つのバックグラウンド補正係数を算出する蛍光X線分析方法。 - 請求項1または4に記載の波長分散型蛍光X線分析装置において、
前記位置敏感型検出器の受光面に、前記検出素子の配列方向に並ぶ複数の受光領域が設定され、前記位置敏感型検出器が前記検出素子の配列方向に移動されることにより、測定対象の分光角度範囲に対応して使用される受光領域が変更される波長分散型蛍光X線分析装置。
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