JP2685726B2 - Ｘ線分析装置 - Google Patents
Ｘ線分析装置Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、試料から発生する波長
の異なる複数の２次Ｘ線について、同時に正確な測定が
可能なＸ線分析装置に関するものである。
の異なる複数の２次Ｘ線について、同時に正確な測定が
可能なＸ線分析装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】例えば、蛍光Ｘ線分析装置において、試
料に含まれる元素から発生する特性Ｘ線から、この特性
Ｘ線に近い波長のバックグラウンドの影響を取り除きた
い場合に、従来は、単一の検出器を両者の回折角の差に
相当する角度だけ移動させて、両者の強度を測定し、前
者の強度から後者の強度を差し引いている。しかし、両
者の強度の測定において検出器が移動し、時間も経過し
ているので正確な測定ができない。そこで、単一の検出
器の前に、適切な微小距離を隔てて隣接する２つの受光
スリットを設け、この２つの受光スリットを交互に開放
することにより、試料に含まれる元素から発生する特性
Ｘ線と、この特性Ｘ線に近い波長のバックグラウンドと
を、同時に測定しようとする装置がある（特願昭４４−
７５８５４号）。
料に含まれる元素から発生する特性Ｘ線から、この特性
Ｘ線に近い波長のバックグラウンドの影響を取り除きた
い場合に、従来は、単一の検出器を両者の回折角の差に
相当する角度だけ移動させて、両者の強度を測定し、前
者の強度から後者の強度を差し引いている。しかし、両
者の強度の測定において検出器が移動し、時間も経過し
ているので正確な測定ができない。そこで、単一の検出
器の前に、適切な微小距離を隔てて隣接する２つの受光
スリットを設け、この２つの受光スリットを交互に開放
することにより、試料に含まれる元素から発生する特性
Ｘ線と、この特性Ｘ線に近い波長のバックグラウンドと
を、同時に測定しようとする装置がある（特願昭４４−
７５８５４号）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところが、この従来の
技術による装置では、試料から発生した２次Ｘ線を通過
させ弯曲分光素子に向けて発散させる発散スリットに、
通常の線状の間隙のものを１つ用いただけである。弯曲
分光素子には、ヨハン型、ヨハンソン型およびログスパ
イラル型があるが、どの型の弯曲分光素子を用いてもそ
の分光特性から、発散スリットが通常の線状の間隙のも
の１つだけでは、試料の特性Ｘ線とこの特性Ｘ線に近い
波長のバックグラウンドとをそれぞれ対応する受光スリ
ットに焦点を結ばせることはできない。
技術による装置では、試料から発生した２次Ｘ線を通過
させ弯曲分光素子に向けて発散させる発散スリットに、
通常の線状の間隙のものを１つ用いただけである。弯曲
分光素子には、ヨハン型、ヨハンソン型およびログスパ
イラル型があるが、どの型の弯曲分光素子を用いてもそ
の分光特性から、発散スリットが通常の線状の間隙のも
の１つだけでは、試料の特性Ｘ線とこの特性Ｘ線に近い
波長のバックグラウンドとをそれぞれ対応する受光スリ
ットに焦点を結ばせることはできない。
【０００４】本発明は、前記従来の問題に鑑みてなされ
たもので、試料から発生する波長の異なる複数の２次Ｘ
線について、同時に正確な測定が可能なＸ線分析装置を
提供することを目的とする。
たもので、試料から発生する波長の異なる複数の２次Ｘ
線について、同時に正確な測定が可能なＸ線分析装置を
提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、請求項１のＸ線分析装置は、１次Ｘ線を発生するＸ
線源と、１次Ｘ線を照射された試料から発生する２次Ｘ
線を通過させる発散スリットを有する発散スリット部材
と、前記発散スリット部材を通過した発散２次Ｘ線が入
射されるログスパイラル型の弯曲分光素子と、前記弯曲
分光素子で回折された分光２次Ｘ線を通過させる受光ス
リット装置と、前記受光スリット装置を通過した受光２
次Ｘ線が入射される単一の検出器とを備えている。
に、請求項１のＸ線分析装置は、１次Ｘ線を発生するＸ
線源と、１次Ｘ線を照射された試料から発生する２次Ｘ
線を通過させる発散スリットを有する発散スリット部材
と、前記発散スリット部材を通過した発散２次Ｘ線が入
射されるログスパイラル型の弯曲分光素子と、前記弯曲
分光素子で回折された分光２次Ｘ線を通過させる受光ス
リット装置と、前記受光スリット装置を通過した受光２
次Ｘ線が入射される単一の検出器とを備えている。
【０００６】ここで、前記受光スリット装置は、前記分
光２次Ｘ線をいずれか一つの波長について通過させる受
光スリットを複数開口した受光スリット部材と、前記複
数の受光スリットのいずれか一つを選択的に開放して、
前記受光２次Ｘ線を前記検出器に入射させる選択開放手
段とを備えている。さらに、前記発散スリットにおいて
発散２次Ｘ線の束が発散する発散角を決定するスリット
幅は、検出しようとする複数の波長の前記発散２次Ｘ線
が、前記弯曲分光素子で回折されて、対応する前記受光
スリットでそれぞれ焦点を結ぶ大きさに設定されてい
る。
光２次Ｘ線をいずれか一つの波長について通過させる受
光スリットを複数開口した受光スリット部材と、前記複
数の受光スリットのいずれか一つを選択的に開放して、
前記受光２次Ｘ線を前記検出器に入射させる選択開放手
段とを備えている。さらに、前記発散スリットにおいて
発散２次Ｘ線の束が発散する発散角を決定するスリット
幅は、検出しようとする複数の波長の前記発散２次Ｘ線
が、前記弯曲分光素子で回折されて、対応する前記受光
スリットでそれぞれ焦点を結ぶ大きさに設定されてい
る。
【０００７】前記目的を達成するために、請求項２のＸ
線分析装置は、１次Ｘ線を発生するＸ線源と、１次Ｘ線
を照射された試料から発生する２次Ｘ線を通過させる発
散スリットを有する発散スリット部材と、前記発散スリ
ット部材を通過した発散２次Ｘ線が入射されるヨハンソ
ン型の弯曲分光素子と、前記弯曲分光素子で回折された
分光２次Ｘ線を通過させる受光スリット装置と、前記受
光スリット装置を通過した受光２次Ｘ線が入射される単
一の検出器とを備えている。
線分析装置は、１次Ｘ線を発生するＸ線源と、１次Ｘ線
を照射された試料から発生する２次Ｘ線を通過させる発
散スリットを有する発散スリット部材と、前記発散スリ
ット部材を通過した発散２次Ｘ線が入射されるヨハンソ
ン型の弯曲分光素子と、前記弯曲分光素子で回折された
分光２次Ｘ線を通過させる受光スリット装置と、前記受
光スリット装置を通過した受光２次Ｘ線が入射される単
一の検出器とを備えている。
【０００８】ここで、前記受光スリット装置は、前記分
光２次Ｘ線をいずれか一つの波長について通過させる受
光スリットを複数開口した受光スリット部材と、前記複
数の受光スリットのいずれか一つを選択的に開放して、
前記受光２次Ｘ線を前記検出器に入射させる選択開放手
段とを備えている。さらに、前記発散スリット部材にお
いて前記発散スリットが複数設けられ、発散スリット間
の距離は、検出しようとする波長の前記発散２次Ｘ線
が、前記弯曲分光素子で回折されて、対応する前記受光
スリットで焦点を結ぶ大きさに設定されている。
光２次Ｘ線をいずれか一つの波長について通過させる受
光スリットを複数開口した受光スリット部材と、前記複
数の受光スリットのいずれか一つを選択的に開放して、
前記受光２次Ｘ線を前記検出器に入射させる選択開放手
段とを備えている。さらに、前記発散スリット部材にお
いて前記発散スリットが複数設けられ、発散スリット間
の距離は、検出しようとする波長の前記発散２次Ｘ線
が、前記弯曲分光素子で回折されて、対応する前記受光
スリットで焦点を結ぶ大きさに設定されている。
【０００９】
【作用】請求項１のＸ線分析装置では、弯曲分光素子に
ログスパイラル型のものを用い、かつ、発散スリットに
おいては、発散２次Ｘ線の束が発散する発散角を決定す
るスリット幅は、検出しようとする波長の前記発散２次
Ｘ線が前記弯曲分光素子で回折されて対応する受光スリ
ットで焦点を結ぶ大きさに設定されているので、単一の
検出器を用いて、試料から発生する波長の異なる複数の
２次Ｘ線について同時に正確な測定が可能である。
ログスパイラル型のものを用い、かつ、発散スリットに
おいては、発散２次Ｘ線の束が発散する発散角を決定す
るスリット幅は、検出しようとする波長の前記発散２次
Ｘ線が前記弯曲分光素子で回折されて対応する受光スリ
ットで焦点を結ぶ大きさに設定されているので、単一の
検出器を用いて、試料から発生する波長の異なる複数の
２次Ｘ線について同時に正確な測定が可能である。
【００１０】請求項２のＸ線分析装置では、弯曲分光素
子にヨハンソン型のものを用い、かつ、発散スリットを
複数設け、発散スリット間の距離は、検出しようとする
波長の発散２次Ｘ線が弯曲分光素子で回折されて対応す
る受光スリットで焦点を結ぶ大きさに設定されているの
で、単一の検出器を用いて、試料から発生する波長の異
なる複数の２次Ｘ線について同時に正確な測定が可能で
ある。
子にヨハンソン型のものを用い、かつ、発散スリットを
複数設け、発散スリット間の距離は、検出しようとする
波長の発散２次Ｘ線が弯曲分光素子で回折されて対応す
る受光スリットで焦点を結ぶ大きさに設定されているの
で、単一の検出器を用いて、試料から発生する波長の異
なる複数の２次Ｘ線について同時に正確な測定が可能で
ある。
【００１１】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面にしたがって説
明する。まず、第１実施例の構成について説明する。図
１において、第１実施例のＸ線分析装置は、まず、１次
Ｘ線１を発生するＸ線源２と、試料台３に取り付けられ
１次Ｘ線１を照射された試料４から発生する２次Ｘ線
５，６を通過させる発散スリット７を有する発散スリッ
ト部材８とを備えている。この発散スリット７は、２次
Ｘ線５，６の進む方向から見て長方形の間隙で、その幅
はｗである。また、前記発散スリット部材８を通過した
発散２次Ｘ線９，１０が入射されるログスパイラル型の
弯曲分光素子１１と、前記弯曲分光素子１１で回折され
た分光２次Ｘ線１２，１３を通過させる受光スリット装
置１４と、前記受光スリット装置１４を通過した受光２
次Ｘ線１５が入射される単一の検出器１７とを備えてい
る。
明する。まず、第１実施例の構成について説明する。図
１において、第１実施例のＸ線分析装置は、まず、１次
Ｘ線１を発生するＸ線源２と、試料台３に取り付けられ
１次Ｘ線１を照射された試料４から発生する２次Ｘ線
５，６を通過させる発散スリット７を有する発散スリッ
ト部材８とを備えている。この発散スリット７は、２次
Ｘ線５，６の進む方向から見て長方形の間隙で、その幅
はｗである。また、前記発散スリット部材８を通過した
発散２次Ｘ線９，１０が入射されるログスパイラル型の
弯曲分光素子１１と、前記弯曲分光素子１１で回折され
た分光２次Ｘ線１２，１３を通過させる受光スリット装
置１４と、前記受光スリット装置１４を通過した受光２
次Ｘ線１５が入射される単一の検出器１７とを備えてい
る。
【００１２】ここで、前記受光スリット装置１４は、前
記分光２次Ｘ線１２，１３をいずれか一つの波長につい
て通過させる２つの受光スリット１８，１９を開口した
受光スリット部材２０と、前記２つの受光スリット１
８，１９のいずれか一つを選択的に開放して、前記受光
２次Ｘ線１５を前記検出器１７に入射させる移動スリッ
ト２１を開口した移動スリット部材２２を備えている。
前記受光スリット１８，１９は、分光２次Ｘ線１２，１
３の進む方向から見て線状の間隙である。さらに、前記
発散スリット７において発散２次Ｘ線９、１０の束が発
散する発散角φを決定するスリット幅ｗは、検出しよう
とする複数の波長の前記発散２次Ｘ線９、１０が、前記
弯曲分光素子１１で回折されて、対応する前記受光スリ
ット１８，１９でそれぞれ焦点を結ぶ大きさに設定され
ている。
記分光２次Ｘ線１２，１３をいずれか一つの波長につい
て通過させる２つの受光スリット１８，１９を開口した
受光スリット部材２０と、前記２つの受光スリット１
８，１９のいずれか一つを選択的に開放して、前記受光
２次Ｘ線１５を前記検出器１７に入射させる移動スリッ
ト２１を開口した移動スリット部材２２を備えている。
前記受光スリット１８，１９は、分光２次Ｘ線１２，１
３の進む方向から見て線状の間隙である。さらに、前記
発散スリット７において発散２次Ｘ線９、１０の束が発
散する発散角φを決定するスリット幅ｗは、検出しよう
とする複数の波長の前記発散２次Ｘ線９、１０が、前記
弯曲分光素子１１で回折されて、対応する前記受光スリ
ット１８，１９でそれぞれ焦点を結ぶ大きさに設定され
ている。
【００１３】次に、第１実施例の作用について説明す
る。今、この装置を用いて試料に含まれるある物質の特
性Ｘ線の強度Ｉを測定するものとする。Ｘ線源２から発
生した１次Ｘ線１が試料４に照射され、試料４から発生
した２次Ｘ線５は発散スリット７によって発散角φで発
散され、ログスパイラル型の弯曲分光素子１１に入射さ
れて、所望の特性Ｘ線１２に分光され、受光スリット１
８で焦点を結び、移動スリット２１を通過して、検出器
１７へ入射され、その強度Ｉm が測定される。この測定
強度Ｉm には、実際には求めようとする特性Ｘ線の真の
強度Ｉの他に、バックグラウンド強度Ｉb が含まれてい
る。
る。今、この装置を用いて試料に含まれるある物質の特
性Ｘ線の強度Ｉを測定するものとする。Ｘ線源２から発
生した１次Ｘ線１が試料４に照射され、試料４から発生
した２次Ｘ線５は発散スリット７によって発散角φで発
散され、ログスパイラル型の弯曲分光素子１１に入射さ
れて、所望の特性Ｘ線１２に分光され、受光スリット１
８で焦点を結び、移動スリット２１を通過して、検出器
１７へ入射され、その強度Ｉm が測定される。この測定
強度Ｉm には、実際には求めようとする特性Ｘ線の真の
強度Ｉの他に、バックグラウンド強度Ｉb が含まれてい
る。
【００１４】一方、特性Ｘ線１２とわずかに波長の異な
るバックグラウンドの２次Ｘ線１３が、特性Ｘ線１２と
同様に、試料４から発生し発散スリット７によって発散
角φで発散され、ログスパイラル型の弯曲分光素子１１
で分光され、受光スリット１９で焦点を結んでいるが、
移動スリット部材２２によって検出器１７への入射を遮
断されている。ここで、移動スリット２１が受光スリッ
ト１９の背後にくるよう移動スリット部材２２を移動さ
せると、バックグラウンドの２次Ｘ線１３が検出器１７
へ入射されてその強度Ｉb が測定され、特性Ｘ線１２は
遮断される。前記特性Ｘ線１２の測定強度Ｉm から、こ
のバックグラウンド強度Ｉb を差し引くことにより、特
性Ｘ線の真の強度Ｉが求められる。ここで、検出器１７
を単一としたのは、２つにしてそれぞれで特性Ｘ線１２
の測定強度Ｉm とバックグラウンド強度Ｉb とを測定す
ると、検出器の検出特性の差によって正確な特性Ｘ線の
真の強度Ｉが求められないからである。
るバックグラウンドの２次Ｘ線１３が、特性Ｘ線１２と
同様に、試料４から発生し発散スリット７によって発散
角φで発散され、ログスパイラル型の弯曲分光素子１１
で分光され、受光スリット１９で焦点を結んでいるが、
移動スリット部材２２によって検出器１７への入射を遮
断されている。ここで、移動スリット２１が受光スリッ
ト１９の背後にくるよう移動スリット部材２２を移動さ
せると、バックグラウンドの２次Ｘ線１３が検出器１７
へ入射されてその強度Ｉb が測定され、特性Ｘ線１２は
遮断される。前記特性Ｘ線１２の測定強度Ｉm から、こ
のバックグラウンド強度Ｉb を差し引くことにより、特
性Ｘ線の真の強度Ｉが求められる。ここで、検出器１７
を単一としたのは、２つにしてそれぞれで特性Ｘ線１２
の測定強度Ｉm とバックグラウンド強度Ｉb とを測定す
ると、検出器の検出特性の差によって正確な特性Ｘ線の
真の強度Ｉが求められないからである。
【００１５】ところで、第１実施例において、特性Ｘ線
１２およびバックグラウンドの２次Ｘ線１３をそれぞれ
受光スリット１８，１９で焦点を結ばせることができる
のは、以下の理由による。第１実施例で用いるログスパ
イラル型の弯曲分光素子１１においては、発散側または
受光側の一方で線焦点を結ぶが他方では広がりをもつと
いう分光特性がある。これを考慮して、まず、受光スリ
ット１８，１９で線焦点を結ばせるために、発散スリッ
ト７にスリット幅ｗをもたせる。さらに、このスリット
幅ｗが発散２次Ｘ線９、１０の束が発散する発散角φを
決定するので、このスリット幅ｗを、検出しようとする
特性Ｘ線１２およびバックグラウンドの２次Ｘ線１３の
もととなる発散２次Ｘ線９、１０が弯曲分光素子１１で
回折されて対応する受光スリット１８，１９で焦点を結
ぶ大きさに設定する。
１２およびバックグラウンドの２次Ｘ線１３をそれぞれ
受光スリット１８，１９で焦点を結ばせることができる
のは、以下の理由による。第１実施例で用いるログスパ
イラル型の弯曲分光素子１１においては、発散側または
受光側の一方で線焦点を結ぶが他方では広がりをもつと
いう分光特性がある。これを考慮して、まず、受光スリ
ット１８，１９で線焦点を結ばせるために、発散スリッ
ト７にスリット幅ｗをもたせる。さらに、このスリット
幅ｗが発散２次Ｘ線９、１０の束が発散する発散角φを
決定するので、このスリット幅ｗを、検出しようとする
特性Ｘ線１２およびバックグラウンドの２次Ｘ線１３の
もととなる発散２次Ｘ線９、１０が弯曲分光素子１１で
回折されて対応する受光スリット１８，１９で焦点を結
ぶ大きさに設定する。
【００１６】これによって、特性Ｘ線１２およびバック
グラウンドの２次Ｘ線１３をそれぞれ受光スリット１
８，１９で焦点を結ばせることができる。従来技術のよ
うに発散スリットが通常の線状の間隙のもの１つだけで
は、特性Ｘ線およびバックグラウンドの２次Ｘ線をそれ
ぞれ受光スリット１８，１９で焦点を結ばせることがで
きない。
グラウンドの２次Ｘ線１３をそれぞれ受光スリット１
８，１９で焦点を結ばせることができる。従来技術のよ
うに発散スリットが通常の線状の間隙のもの１つだけで
は、特性Ｘ線およびバックグラウンドの２次Ｘ線をそれ
ぞれ受光スリット１８，１９で焦点を結ばせることがで
きない。
【００１７】次に、第２実施例の構成について説明す
る。図２に示すように、第２実施例のＸ線分析装置にお
いては、発散スリット部材８Ａが２つの発散スリット７
Ａ，７Ｂを有している点、および弯曲分光素子１１Ａに
ヨハンソン型のものを用いた点が第１実施例と異なって
おり、他の同一の構成部分については第１実施例と同一
の番号を付す。ここで、発散スリット７Ａ，７Ｂは、２
次Ｘ線５，６の進む方向から見て線状の間隙である。第
２実施例で用いるヨハンソン型の弯曲分光素子１１Ａ
は、発散側および受光側の両方で、弯曲分光素子１１Ａ
の表面を延長したローランド円２３上に線焦点を結ぶの
で、発散スリット７Ａ，７Ｂおよび受光スリット１８，
１９はすべてローランド円２３上にある。また、発散ス
リット７Ａ，７Ｂ間の距離は、検出しようとする波長の
発散２次Ｘ線９、１０が、前記弯曲分光素子１１Ａで回
折されて、対応する前記受光スリット１８，１９で焦点
を結ぶ大きさに設定されている。
る。図２に示すように、第２実施例のＸ線分析装置にお
いては、発散スリット部材８Ａが２つの発散スリット７
Ａ，７Ｂを有している点、および弯曲分光素子１１Ａに
ヨハンソン型のものを用いた点が第１実施例と異なって
おり、他の同一の構成部分については第１実施例と同一
の番号を付す。ここで、発散スリット７Ａ，７Ｂは、２
次Ｘ線５，６の進む方向から見て線状の間隙である。第
２実施例で用いるヨハンソン型の弯曲分光素子１１Ａ
は、発散側および受光側の両方で、弯曲分光素子１１Ａ
の表面を延長したローランド円２３上に線焦点を結ぶの
で、発散スリット７Ａ，７Ｂおよび受光スリット１８，
１９はすべてローランド円２３上にある。また、発散ス
リット７Ａ，７Ｂ間の距離は、検出しようとする波長の
発散２次Ｘ線９、１０が、前記弯曲分光素子１１Ａで回
折されて、対応する前記受光スリット１８，１９で焦点
を結ぶ大きさに設定されている。
【００１８】このような構成により、第２実施例におい
ても、前述した第１実施例と同様に、特性Ｘ線１２の測
定強度Ｉm から、バックグラウンド強度Ｉb を差し引く
ことにより、特性Ｘ線の真の強度Ｉを求めることができ
る。ここで、第２実施例において、特性Ｘ線１２および
バックグラウンドの２次Ｘ線１３をそれぞれ受光スリッ
ト１８，１９で焦点を結ばせることができるのは、以下
の理由による。第２実施例で用いるヨハンソン型の弯曲
分光素子１１Ａにおいては、発散側および受光側の両方
で線焦点を結ぶという分光特性がある。これを考慮し
て、まず、２つの受光スリット１８，１９で線焦点を結
ばせるために、発散スリット７Ａ，７Ｂも２つとする。
さらに、この２つの発散スリット７Ａ，７Ｂ間の距離
を、検出しようとする特性Ｘ線１２およびバックグラウ
ンドの２次Ｘ線１３のもととなる発散２次Ｘ線９、１０
が弯曲分光素子１１Ａで回折されて対応する受光スリッ
ト１８，１９で焦点を結ぶ大きさに設定する。
ても、前述した第１実施例と同様に、特性Ｘ線１２の測
定強度Ｉm から、バックグラウンド強度Ｉb を差し引く
ことにより、特性Ｘ線の真の強度Ｉを求めることができ
る。ここで、第２実施例において、特性Ｘ線１２および
バックグラウンドの２次Ｘ線１３をそれぞれ受光スリッ
ト１８，１９で焦点を結ばせることができるのは、以下
の理由による。第２実施例で用いるヨハンソン型の弯曲
分光素子１１Ａにおいては、発散側および受光側の両方
で線焦点を結ぶという分光特性がある。これを考慮し
て、まず、２つの受光スリット１８，１９で線焦点を結
ばせるために、発散スリット７Ａ，７Ｂも２つとする。
さらに、この２つの発散スリット７Ａ，７Ｂ間の距離
を、検出しようとする特性Ｘ線１２およびバックグラウ
ンドの２次Ｘ線１３のもととなる発散２次Ｘ線９、１０
が弯曲分光素子１１Ａで回折されて対応する受光スリッ
ト１８，１９で焦点を結ぶ大きさに設定する。
【００１９】これによって、特性Ｘ線１２およびバック
グラウンドの２次Ｘ線１３をそれぞれ受光スリット１
８，１９で焦点を結ばせることができる。従来技術のよ
うに発散スリットが通常の線状の間隙のもの１つだけで
は、特性Ｘ線およびバックグラウンドの２次Ｘ線をそれ
ぞれ受光スリット１８，１９で焦点を結ばせることがで
きない。
グラウンドの２次Ｘ線１３をそれぞれ受光スリット１
８，１９で焦点を結ばせることができる。従来技術のよ
うに発散スリットが通常の線状の間隙のもの１つだけで
は、特性Ｘ線およびバックグラウンドの２次Ｘ線をそれ
ぞれ受光スリット１８，１９で焦点を結ばせることがで
きない。
【００２０】さて、以上の第１および第２実施例には、
２つの受光スリット１８，１９を用いて、試料４から発
生する特性Ｘ線１２およびバックグラウンドの２次Ｘ線
１３のそれぞれの強度を測定する場合について説明した
が、これに限らず、本発明の装置によれば、波長におい
て近接する２つの２次Ｘ線、例えば、２つの特性Ｘ線、
または２つのコンプトン散乱線等のそれぞれの強度を同
一の位置における単一の検出器によって同時に測定する
こともできる。
２つの受光スリット１８，１９を用いて、試料４から発
生する特性Ｘ線１２およびバックグラウンドの２次Ｘ線
１３のそれぞれの強度を測定する場合について説明した
が、これに限らず、本発明の装置によれば、波長におい
て近接する２つの２次Ｘ線、例えば、２つの特性Ｘ線、
または２つのコンプトン散乱線等のそれぞれの強度を同
一の位置における単一の検出器によって同時に測定する
こともできる。
【００２１】さらに、３つ以上の受光スリットを用い
て、試料から発生する３つ以上の波長の相異なる２次Ｘ
線について、それぞれの強度を同一の位置における単一
の検出器によって同時に測定し、その３つ以上の強度か
ら２次Ｘ線の積分強度を算出することも可能である。こ
の場合には、用いる弯曲分光素子の型により、発散スリ
ットのスリット幅、または発散スリットの数および発散
スリット間の距離を、検出すべき３つ以上の相異なる２
次Ｘ線の波長に応じて設定する。これによれば、例え
ば、有機膜である試料から発生するコンプトン散乱線の
積分強度を算出し、有機膜の膜厚を求めることが可能と
なる。
て、試料から発生する３つ以上の波長の相異なる２次Ｘ
線について、それぞれの強度を同一の位置における単一
の検出器によって同時に測定し、その３つ以上の強度か
ら２次Ｘ線の積分強度を算出することも可能である。こ
の場合には、用いる弯曲分光素子の型により、発散スリ
ットのスリット幅、または発散スリットの数および発散
スリット間の距離を、検出すべき３つ以上の相異なる２
次Ｘ線の波長に応じて設定する。これによれば、例え
ば、有機膜である試料から発生するコンプトン散乱線の
積分強度を算出し、有機膜の膜厚を求めることが可能と
なる。
【００２２】
【発明の効果】以上のように、本発明の装置によれば、
試料から発生する波長の異なる複数の２次Ｘ線、例え
ば、特性Ｘ線およびバックグラウンドの２次Ｘ線につい
て、同一の位置における単一の検出器によって同時にそ
れぞれの強度を測定するので、正確に特性Ｘ線の真の強
度が求められる。従来の技術では、特性Ｘ線およびバッ
クグラウンドの２次Ｘ線について、単一の検出器によっ
て強度を測定する場合でも、それらの測定間の検出器の
移動に時間を要し、バックグラウンドの２次Ｘ線の強度
が時間的に変動している場合には、正確に特性Ｘ線の真
の強度を求めることができない。
試料から発生する波長の異なる複数の２次Ｘ線、例え
ば、特性Ｘ線およびバックグラウンドの２次Ｘ線につい
て、同一の位置における単一の検出器によって同時にそ
れぞれの強度を測定するので、正確に特性Ｘ線の真の強
度が求められる。従来の技術では、特性Ｘ線およびバッ
クグラウンドの２次Ｘ線について、単一の検出器によっ
て強度を測定する場合でも、それらの測定間の検出器の
移動に時間を要し、バックグラウンドの２次Ｘ線の強度
が時間的に変動している場合には、正確に特性Ｘ線の真
の強度を求めることができない。
【００２３】また、本発明の装置によれば、放射線を発
生する試料を測定する場合に、同一強度の放射線を含む
特性Ｘ線およびバックグラウンドの２次Ｘ線について、
特性Ｘ線の測定強度からバックグラウンド強度を差し引
いて特性Ｘ線の真の強度を求めるので、放射線の影響を
正確に除去できる。したがって、本発明の装置によれ
ば、バックグラウンド強度を差し引いた特性Ｘ線の真の
強度を用いて未知試料の成分含有率を算出するいわゆる
ファンダメンタルパラメーター法を有効に活用できる。
生する試料を測定する場合に、同一強度の放射線を含む
特性Ｘ線およびバックグラウンドの２次Ｘ線について、
特性Ｘ線の測定強度からバックグラウンド強度を差し引
いて特性Ｘ線の真の強度を求めるので、放射線の影響を
正確に除去できる。したがって、本発明の装置によれ
ば、バックグラウンド強度を差し引いた特性Ｘ線の真の
強度を用いて未知試料の成分含有率を算出するいわゆる
ファンダメンタルパラメーター法を有効に活用できる。
【図１】本発明の第１実施例の側面図である。
【図２】本発明の第２実施例の側面図である。
１…１次Ｘ線、２…Ｘ線源、４…試料、５，６…試料か
ら発生する２次Ｘ線、７，７Ａ，７Ｂ…発散スリット、
８，８Ａ…発散スリット部材、９，１０…発散２次Ｘ
線、１１，１１Ａ…弯曲分光素子、１２，１３…分光２
次Ｘ線、１４…受光スリット装置、１５…受光２次Ｘ
線、１７…検出器、１８，１９…受光スリット、２０…
受光スリット部材、２２…選択開放手段、ｗ…スリット
幅、φ…発散角。
ら発生する２次Ｘ線、７，７Ａ，７Ｂ…発散スリット、
８，８Ａ…発散スリット部材、９，１０…発散２次Ｘ
線、１１，１１Ａ…弯曲分光素子、１２，１３…分光２
次Ｘ線、１４…受光スリット装置、１５…受光２次Ｘ
線、１７…検出器、１８，１９…受光スリット、２０…
受光スリット部材、２２…選択開放手段、ｗ…スリット
幅、φ…発散角。
Claims (2)
- 【請求項１】 １次Ｘ線を発生するＸ線源と、 １次Ｘ線を照射された試料から発生する２次Ｘ線を通過
させる発散スリットを有する発散スリット部材と、 前記発散スリット部材を通過した発散２次Ｘ線が入射さ
れるログスパイラル型の弯曲分光素子と、 前記弯曲分光素子で回折された分光２次Ｘ線を通過させ
る受光スリット装置と、 前記受光スリット装置を通過した受光２次Ｘ線が入射さ
れる単一の検出器とを備え、 前記受光スリット装置は、前記分光２次Ｘ線をいずれか
一つの波長について通過させる受光スリットを複数開口
した受光スリット部材と、前記複数の受光スリットのい
ずれか一つを選択的に開放して、前記受光２次Ｘ線を前
記検出器に入射させる選択開放手段とを備え、 前記発散スリットにおいて発散２次Ｘ線の束が発散する
発散角を決定するスリット幅は、検出しようとする複数
の波長の前記発散２次Ｘ線が、前記弯曲分光素子で回折
されて、対応する前記受光スリットでそれぞれ焦点を結
ぶ大きさに設定されているＸ線分析装置。 - 【請求項２】 １次Ｘ線を発生するＸ線源と、 １次Ｘ線を照射された試料から発生する２次Ｘ線を通過
させる発散スリットを有する発散スリット部材と、 前記発散スリット部材を通過した発散２次Ｘ線が入射さ
れるヨハンソン型の弯曲分光素子と、 前記弯曲分光素子で回折された分光２次Ｘ線を通過させ
る受光スリット装置と、 前記受光スリット装置を通過した受光２次Ｘ線が入射さ
れる単一の検出器とを備え、 前記受光スリット装置は、前記分光２次Ｘ線をいずれか
一つの波長について通過させる受光スリットを複数開口
した受光スリット部材と、前記複数の受光スリットのい
ずれか一つを選択的に開放して、前記受光２次Ｘ線を前
記検出器に入射させる選択開放手段とを備え、 前記発散スリット部材において前記発散スリットが複数
設けられ、発散スリット間の距離は、検出しようとする
波長の前記発散２次Ｘ線が、前記弯曲分光素子で回折さ
れて、対応する前記受光スリットで焦点を結ぶ大きさに
設定されているＸ線分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6292361A JP2685726B2 (ja) | 1994-10-31 | 1994-10-31 | Ｘ線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6292361A JP2685726B2 (ja) | 1994-10-31 | 1994-10-31 | Ｘ線分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08128975A JPH08128975A (ja) | 1996-05-21 |
| JP2685726B2 true JP2685726B2 (ja) | 1997-12-03 |
Family
ID=17780814
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6292361A Expired - Fee Related JP2685726B2 (ja) | 1994-10-31 | 1994-10-31 | Ｘ線分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2685726B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1739023B (zh) * | 2003-03-27 | 2012-01-04 | 株式会社理学 | 荧光x射线分析装置 |
| JP5907375B2 (ja) | 2011-12-28 | 2016-04-26 | 株式会社テクノエックス | 蛍光ｘ線分析装置及び蛍光ｘ線分析方法 |
| JP2016017759A (ja) * | 2014-07-04 | 2016-02-01 | 株式会社リガク | Ｘ線測定モジュールおよびそれを複数備える蛍光ｘ線分析装置 |
| DE102016014213A1 (de) | 2015-12-08 | 2017-07-06 | Shimadzu Corporation | Röntgenspektroskopische analysevorrichtung und elementaranalyseverfahren |
| JP6467600B2 (ja) | 2016-09-30 | 2019-02-13 | 株式会社リガク | 波長分散型蛍光ｘ線分析装置 |
| EP3521814B1 (en) | 2016-09-30 | 2022-08-03 | Rigaku Corporation | Wavelength-dispersive x-ray fluorescence spectrometer and x-ray fluorescence analysing method using the same |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS515316A (ja) * | 1974-07-02 | 1976-01-17 | Fukuoka Tokushu Garasu Kk | Saikihanshayokokutsusetsuritsugarasu |
-
1994
- 1994-10-31 JP JP6292361A patent/JP2685726B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08128975A (ja) | 1996-05-21 |
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