JP4908119B2 - 蛍光x線分析装置 - Google Patents
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Description
Y.Gohshi et al., "Advaces in X-ray analysis" (USA) 1975, vol.18, p.406-414
1A 標準試料
1B 分析対象試料
1C モニター試料
1a クロメート表面処理膜
1b 鋼板または亜鉛めっき鋼板
3 1次X線
4 X線源
5 試料から発生した蛍光X線
6A,6B 分光素子
7 分光素子で分光された蛍光X線
8A,8B 検出器
10 連動手段
11A,11B 発散スリット
13 発散スリットを通過した蛍光X線
18 定量分析手段
20A,20B 受光スリット
22 受光スリットを通過した蛍光X線
23A,23B 検出手段
2θ 分光角
Claims (6)
- 試料に1次X線を照射するX線源と、
試料から発生した蛍光X線を通過させる発散スリットと、
その発散スリットを通過した蛍光X線を分光する分光素子と、
その分光素子で分光された蛍光X線を通過させる受光スリットと、
その受光スリットを通過した蛍光X線の強度を測定する検出器と、
前記分光素子での分光角を変えて分光される蛍光X線の波長を変えながら、その分光された蛍光X線が前記受光スリットおよび検出器に入射するように、前記分光素子と受光スリットおよび検出器とを連動させる連動手段と、
前記検出器の測定結果に基づいて定量分析を行う定量分析手段とを備えた蛍光X線分析装置であって、
前記定量分析手段が、Cr −Kα線において強度が最大となるピーク分光角が6価クロムの含有率または強度対クロム全体の含有率または強度の比に応じて変化することに基づいて、6価クロムの含有率または付着量を算出し、
前記発散スリット、分光素子および受光スリットのうち少なくともいずれかを択一的に複数備えることにより、前記発散スリット、分光素子、受光スリットおよび検出器の組合せとして分解能が相異なる複数の検出手段を構成し、前記ピーク分光角の変化を検出する際に、クロム全体の含有率または強度を求める際に選択される検出手段よりも分解能が高い検出手段が選択される蛍光X線分析装置。 - 請求項1において、
前記定量分析手段が、標準試料を用いてあらかじめ求められた、Cr −Kα線におけるピークよりも低角度側の所定分光角での強度対ピークよりも高角度側の所定分光角での強度の比と、6価クロムの含有率対クロム全体の含有率の比との相関を記憶しており、分析対象試料について、前記強度の比を求めて前記相関に適用し、得られた前記含有率の比に求めたクロム全体の含有率を適用して6価クロムの含有率を算出し、
前記受光スリットを択一的に複数備え、前記強度の比を求める際に、クロム全体の含有率を求める際に選択される受光スリットよりも分解能が高い受光スリットが選択される蛍光X線分析装置。 - 請求項1において、
試料がクロメート表面処理膜とその下地の鋼板または亜鉛めっき鋼板とからなり、
前記定量分析手段が、標準試料を用いてあらかじめ求められた、Cr −Kα線におけるピークよりも低角度側の所定分光角での強度対ピークよりも高角度側の所定分光角での強度の比すなわち第1の強度比と、6価クロムからの強度対クロム全体からの強度の比すなわち第2の強度比との相関を記憶するとともに、標準試料を用いてあらかじめ求められた、クロム全体からの強度とクロメート表面処理膜中のクロムの付着量の検量線を記憶しており、分析対象試料について、前記第1の強度比を求めて前記相関に適用し、得られた前記第2の強度比に求めたクロム全体からの強度を適用して6価クロムからの強度を算出し、その6価クロムからの強度に前記検量線の勾配を乗じてクロメート表面処理膜中の6価クロムの付着量を算出し、
前記受光スリットを択一的に複数備え、前記第1の強度比を求める際に、クロム全体からの強度を求める際に選択される受光スリットよりも分解能が高い受光スリットが選択される蛍光X線分析装置。 - 請求項2または3において、
標準試料および分析対象試料における前記各所定分光角での強度に代えて、その強度とモニター試料における同分光角での強度との比が用いられる蛍光X線分析装置。 - 請求項2から4までのいずれか一項において、
あらかじめ、純粋なメタルクロムおよび3価クロムを試料としてCr −Kα線が測定され、面積強度で規格化されたピークプロファイルが求められ、Cr −Kα1線のピーク分光角の前後で両ピークプロファイルの強度が一致する分光角が求められて、その2つの分光角を前記低角度側および高角度側の所定分光角として前記定量分析手段が記憶する蛍光X線分析装置。 - 請求項1から5までのいずれか一項において、
前記定量分析手段が、クロム全体の含有率または強度を求める際に、前記検出器の測定結果に基づいて定性分析を行い、その定性分析結果に基づいて定量分析を行い、その定量分析結果におけるクロム分析値をクロム全体の含有率または強度とする蛍光X線分析装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006241760A JP4908119B2 (ja) | 2005-10-19 | 2006-09-06 | 蛍光x線分析装置 |
US11/581,487 US7450685B2 (en) | 2005-10-19 | 2006-10-17 | X-ray fluorescence spectrometer and program for use therewith |
CN2006101528157A CN1952652B (zh) | 2005-10-19 | 2006-10-18 | 荧光x射线分析装置 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005304664 | 2005-10-19 | ||
JP2005304664 | 2005-10-19 | ||
JP2006241760A JP4908119B2 (ja) | 2005-10-19 | 2006-09-06 | 蛍光x線分析装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007139754A JP2007139754A (ja) | 2007-06-07 |
JP2007139754A5 JP2007139754A5 (ja) | 2009-04-23 |
JP4908119B2 true JP4908119B2 (ja) | 2012-04-04 |
Family
ID=37948151
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006241760A Expired - Fee Related JP4908119B2 (ja) | 2005-10-19 | 2006-09-06 | 蛍光x線分析装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7450685B2 (ja) |
JP (1) | JP4908119B2 (ja) |
CN (1) | CN1952652B (ja) |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101520423B (zh) * | 2003-03-27 | 2011-01-19 | 株式会社理学 | 荧光x射线分析装置 |
WO2007034570A1 (ja) * | 2005-09-22 | 2007-03-29 | Jfe Steel Corporation | 亜鉛系めっき鋼板のプレス成形性評価方法 |
DE102008060070B4 (de) * | 2008-12-02 | 2010-10-14 | Bruker Axs Gmbh | Röntgenoptisches Element und Diffraktometer mit einer Sollerblende |
US7972062B2 (en) * | 2009-07-16 | 2011-07-05 | Edax, Inc. | Optical positioner design in X-ray analyzer for coaxial micro-viewing and analysis |
BRPI1005172B8 (pt) * | 2009-09-07 | 2020-09-08 | Rigaku Denki Co Ltd | método de analisar fluorescência de raio-x |
CN102411011A (zh) * | 2010-09-21 | 2012-04-11 | 上海宝钢工业检测公司 | 镀锡板表面铬量的快速测定方法 |
JP4880077B1 (ja) * | 2011-02-16 | 2012-02-22 | 株式会社リガク | X線検出信号処理装置および方法 |
JP5971763B2 (ja) * | 2013-04-17 | 2016-08-17 | 株式会社リガク | X線光学部品装置及びx線分析装置 |
CN107110798B (zh) * | 2014-12-25 | 2019-08-16 | 株式会社理学 | 掠入射荧光x射线分析装置和方法 |
JP6232568B2 (ja) * | 2015-08-28 | 2017-11-22 | 株式会社リガク | 蛍光x線分析装置 |
KR102056556B1 (ko) * | 2016-09-30 | 2019-12-16 | 가부시키가이샤 리가쿠 | 파장 분산형 형광 x선 분석 장치, 및 그것을 사용하는 형광 x선 분석 방법 |
JP6467600B2 (ja) | 2016-09-30 | 2019-02-13 | 株式会社リガク | 波長分散型蛍光x線分析装置 |
EP3553507A1 (en) * | 2018-04-13 | 2019-10-16 | Malvern Panalytical B.V. | X-ray analysis apparatus |
JP6871629B2 (ja) * | 2018-06-29 | 2021-05-12 | 株式会社リガク | X線分析装置及びその光軸調整方法 |
JP7350571B2 (ja) | 2019-08-30 | 2023-09-26 | Hoya株式会社 | 導電膜付基板、反射型マスクブランク及び反射型マスク、並びに半導体デバイスの製造方法 |
JP6838754B1 (ja) * | 2019-09-26 | 2021-03-03 | 株式会社リガク | 蛍光x線分析装置 |
JP7380421B2 (ja) * | 2020-05-27 | 2023-11-15 | 株式会社島津製作所 | X線分析装置およびx線分析方法 |
JP7325849B2 (ja) * | 2021-10-28 | 2023-08-15 | 株式会社リガク | ピーク同定解析プログラム及び蛍光x線分析装置 |
CN114185038B (zh) * | 2021-11-29 | 2022-08-12 | 珠海安自达科技有限公司 | 一种基于毫米波雷达网实现超高角度分辨力的方法及系统 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0676977B2 (ja) * | 1985-07-11 | 1994-09-28 | 川崎製鉄株式会社 | クロメ−ト処理液組成の分析方法およびその装置 |
JPS6287840A (ja) * | 1985-10-12 | 1987-04-22 | Kawasaki Steel Corp | クロメ−ト処理液組成の分析方法およびその装置 |
JPS63163154A (ja) * | 1986-12-25 | 1988-07-06 | Kawasaki Steel Corp | 金属イオン形態の分析法 |
US5067111A (en) * | 1988-10-28 | 1991-11-19 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor memory device having a majority logic for determining data to be read out |
JPH05164710A (ja) * | 1991-12-11 | 1993-06-29 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 皮膜中の3価クロムと6価クロムとの強度比の測定法 |
JPH1038823A (ja) * | 1996-07-19 | 1998-02-13 | Rigaku Ind Co | 蛍光x線分析装置 |
JP2000137008A (ja) * | 1998-08-26 | 2000-05-16 | Nkk Corp | 鉄鋼製品および関連する原材料に含まれる元素の化学結合状態分析方法 |
JP3531098B2 (ja) * | 1998-12-28 | 2004-05-24 | 理学電機工業株式会社 | 蛍光x線分析装置 |
JP3567176B2 (ja) * | 1998-12-28 | 2004-09-22 | 理学電機工業株式会社 | 蛍光x線分析装置 |
JP2000329714A (ja) * | 1999-05-24 | 2000-11-30 | Rigaku Industrial Co | 蛍光x線分析装置 |
JP4723487B2 (ja) * | 2003-06-02 | 2011-07-13 | エックス−レイ オプティカル システムズ インコーポレーテッド | X線吸収端近傍構造解析を実行するためのxanes解析システム及びその方法 |
JP3731207B2 (ja) * | 2003-09-17 | 2006-01-05 | 株式会社リガク | X線分析装置 |
JP2006313132A (ja) * | 2005-05-09 | 2006-11-16 | Fujitsu Ltd | 試料分析方法およびx線分析装置 |
-
2006
- 2006-09-06 JP JP2006241760A patent/JP4908119B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2006-10-17 US US11/581,487 patent/US7450685B2/en not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7450685B2 (en) | 2008-11-11 |
US20070086567A1 (en) | 2007-04-19 |
CN1952652A (zh) | 2007-04-25 |
CN1952652B (zh) | 2011-08-24 |
JP2007139754A (ja) | 2007-06-07 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20090113 |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090311 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090311 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110401 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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