JPH0676977B2 - クロメ−ト処理液組成の分析方法およびその装置 - Google Patents
クロメ−ト処理液組成の分析方法およびその装置Info
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- JPH0676977B2 JPH0676977B2 JP60153261A JP15326185A JPH0676977B2 JP H0676977 B2 JPH0676977 B2 JP H0676977B2 JP 60153261 A JP60153261 A JP 60153261A JP 15326185 A JP15326185 A JP 15326185A JP H0676977 B2 JPH0676977 B2 JP H0676977B2
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- treatment liquid
- ion
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Description
【発明の詳細な説明】 ＜産業上の利用分野＞ 本発明は、Cr6+イオンを主成分とするクロメート処理液
中の全Cr濃度Cr3+およびCr6+イオン濃度並びにクロメー
ト処理液中の組成元素濃度を蛍光Ｘ線分析法により分析
する方法およびその装置に関するものである。
中の全Cr濃度Cr3+およびCr6+イオン濃度並びにクロメー
ト処理液中の組成元素濃度を蛍光Ｘ線分析法により分析
する方法およびその装置に関するものである。
＜従来技術とその問題点＞ 通常、Znめっき鋼板などの製造に際しては、白錆の発生
を防止して耐食性を向上させるためと、塗装した場合、
塗料との密着性を向上させるための下地処理としてクロ
メート処理が施されている。
を防止して耐食性を向上させるためと、塗装した場合、
塗料との密着性を向上させるための下地処理としてクロ
メート処理が施されている。
このクロメート処理とは、めっきを施した鋼板をクロメ
ート処理液中に通して、めっき層の表面にクロミウムク
ロメート（Cr2O3・CrO3・xH2OまたはCr（OH）３・Cr（O
H）・CrO4）と呼ばれる非晶質のクロメート被膜を形成
させて、前述のように耐食性と二次密着性を向上させる
ものである。
ート処理液中に通して、めっき層の表面にクロミウムク
ロメート（Cr2O3・CrO3・xH2OまたはCr（OH）３・Cr（O
H）・CrO4）と呼ばれる非晶質のクロメート被膜を形成
させて、前述のように耐食性と二次密着性を向上させる
ものである。
しかしながら、このクロメート処理行程に於ては次のよ
うな問題がある。すなわち、めっきを施した鋼板を通板
中にクロメート処理液中にめっき層からめっき元素、例
えばZnめっき鋼板ではZn2+イオンが溶出してきて、それ
がCr6+イオンに対して還元剤として作用することであ
る。
うな問題がある。すなわち、めっきを施した鋼板を通板
中にクロメート処理液中にめっき層からめっき元素、例
えばZnめっき鋼板ではZn2+イオンが溶出してきて、それ
がCr6+イオンに対して還元剤として作用することであ
る。
このため、操業中には、クロメート処理液中に順次めっ
き元素であるZn2+イオンが増加してきて、それに伴なっ
てCr6+イオンが減少してCr3+イオンが増加する。
き元素であるZn2+イオンが増加してきて、それに伴なっ
てCr6+イオンが減少してCr3+イオンが増加する。
このようにめっき元素とCr3+イオンの濃度が増加してく
ると、クロメート被膜の形成反応が十分でなくなり、良
好なクロメート被膜が形成されないため、表面特性は著
しく劣化する。
ると、クロメート被膜の形成反応が十分でなくなり、良
好なクロメート被膜が形成されないため、表面特性は著
しく劣化する。
以上のことから常にクロメート処理液中のCr3+イオン、
Cr6+イオンおよびめっき元素などの濃度を分析して監視
し、それらのイオンの濃度を常に規定量以下になるよう
に管理する必要がある。
Cr6+イオンおよびめっき元素などの濃度を分析して監視
し、それらのイオンの濃度を常に規定量以下になるよう
に管理する必要がある。
このクロメート処理液の管理には、従来は作業員が試料
を採取してこれを化学分析するという方法がとられてい
たが、この方法では分析に長時間を要するので１日に数
回しか分析できず、品質の安定した良質のクロメート被
膜の製造管理が困難であり、また長時間の無人運転には
適さない。
を採取してこれを化学分析するという方法がとられてい
たが、この方法では分析に長時間を要するので１日に数
回しか分析できず、品質の安定した良質のクロメート被
膜の製造管理が困難であり、また長時間の無人運転には
適さない。
このようなことから何よりもオンラインで分析できる方
法の開発が望まれてきて、近年、吸光光度法によりCr3+
とCr6+イオン濃度を分析する方法が開示されている（特
開昭53−95695号や特開昭54−128783号）。
法の開発が望まれてきて、近年、吸光光度法によりCr3+
とCr6+イオン濃度を分析する方法が開示されている（特
開昭53−95695号や特開昭54−128783号）。
この方法は、ポンプで吸引されたクロメート処理液を一
旦ろ過器に送り込んで試料中の沈澱物や浮遊物質をろ別
除去し、恒温槽で一定温度にした後脱気槽で気泡を除去
して光学ガラス製の試料セルに流入する。その試料セル
にタングステンランプからの白色光をあて、Cr3+、Cr6+
イオンにより吸収され減光した光をハーフミラーにより
二光路に分け、その一方はCr3+、Cr6+イオンの吸収を受
ける波長540nm付近の吸光度を測定して、Cr3+、Cr6+両
イオンの合量濃度を求める。他方の光は、Cr3+イオンの
みの吸収を受ける波長630nm付近の吸光度を測定してCr
3+イオン濃度を求める。そしてCr6+イオン濃度は先に求
めたCr3+、Cr6+両イオン合量濃度からこのCr3+イオン濃
度を差し引いて求めるというものがあるが、これではZn
2+イオンなどのめっき元素の濃度が同時に分析できない
という欠点がある。
旦ろ過器に送り込んで試料中の沈澱物や浮遊物質をろ別
除去し、恒温槽で一定温度にした後脱気槽で気泡を除去
して光学ガラス製の試料セルに流入する。その試料セル
にタングステンランプからの白色光をあて、Cr3+、Cr6+
イオンにより吸収され減光した光をハーフミラーにより
二光路に分け、その一方はCr3+、Cr6+イオンの吸収を受
ける波長540nm付近の吸光度を測定して、Cr3+、Cr6+両
イオンの合量濃度を求める。他方の光は、Cr3+イオンの
みの吸収を受ける波長630nm付近の吸光度を測定してCr
3+イオン濃度を求める。そしてCr6+イオン濃度は先に求
めたCr3+、Cr6+両イオン合量濃度からこのCr3+イオン濃
度を差し引いて求めるというものがあるが、これではZn
2+イオンなどのめっき元素の濃度が同時に分析できない
という欠点がある。
＜発明の目的＞ 本発明はこの問題点を解消させ、クロメート処理液中の
Cr3+イオン農どおよびCr6+イオン濃度並びにめっき元素
のようなクロメート処理液中の組成元素濃度を自動的に
簡単に定量することができるクロメート処理液組成の分
析方法およびその装置を提供することを目的とする。
Cr3+イオン農どおよびCr6+イオン濃度並びにめっき元素
のようなクロメート処理液中の組成元素濃度を自動的に
簡単に定量することができるクロメート処理液組成の分
析方法およびその装置を提供することを目的とする。
本発明は、クロメート処理液中の少なくともCr3+イオン
およびCr6+イオン濃度を蛍光Ｘ線分析法により分析する
にあたり、 （ａ）クロメート処理液のpHを６〜７に調整し、かつエ
チレンジアミン四酢酸およびBa2+イオンを添加する化学
的前処理によりクロメート処理液中のCr3+イオンおよび
めっき元素は沈澱させず、Cr6+イオンを沈澱分離させ、
沈澱を分離した残液中の組成を分析して少なくともCr3+
イオン濃度を求め、 （ｂ）クロメート処理液原液を分析して少なくとも全Cr
濃度を求め、 （ｃ）（ｂ）で求めた全Cr濃度から（ａ）で求めたCr3+
イオン濃度を差し引いてCr6+イオン濃度を求める ことを特徴とするクロメート処理液組成の分析方法を提
供するものである。
およびCr6+イオン濃度を蛍光Ｘ線分析法により分析する
にあたり、 （ａ）クロメート処理液のpHを６〜７に調整し、かつエ
チレンジアミン四酢酸およびBa2+イオンを添加する化学
的前処理によりクロメート処理液中のCr3+イオンおよび
めっき元素は沈澱させず、Cr6+イオンを沈澱分離させ、
沈澱を分離した残液中の組成を分析して少なくともCr3+
イオン濃度を求め、 （ｂ）クロメート処理液原液を分析して少なくとも全Cr
濃度を求め、 （ｃ）（ｂ）で求めた全Cr濃度から（ａ）で求めたCr3+
イオン濃度を差し引いてCr6+イオン濃度を求める ことを特徴とするクロメート処理液組成の分析方法を提
供するものである。
本発明は、また、クロメート処理液のpHを６〜７に調整
し、かつエチレンジアミン四酢酸およびBa2+イオンを添
加することにより、Cr6+イオンを沈澱させ、Cr3+イオン
およびめっき元素をキレート化させる化学的前処理を施
す反応槽と、 この前記処理を施されたクロメート処理液からCr6+イオ
ンに基づく沈澱物を分離する分離器と、 この分離器によりCr6+イオンに基づく沈澱物を分離され
た、前処理クロメート処理液およびクロメート処理液原
液の試料を別個に注入する点滴器と、 この点滴器により前記試料を点滴されるシート材と、 このシート材上に点滴された試料の溶媒を乾燥させる乾
燥器と、 この乾燥されたシート材の蛍光Ｘ線分析装置とを具える
ことを特徴とするクロメート処理液組成の分析装置を提
供するものである。
し、かつエチレンジアミン四酢酸およびBa2+イオンを添
加することにより、Cr6+イオンを沈澱させ、Cr3+イオン
およびめっき元素をキレート化させる化学的前処理を施
す反応槽と、 この前記処理を施されたクロメート処理液からCr6+イオ
ンに基づく沈澱物を分離する分離器と、 この分離器によりCr6+イオンに基づく沈澱物を分離され
た、前処理クロメート処理液およびクロメート処理液原
液の試料を別個に注入する点滴器と、 この点滴器により前記試料を点滴されるシート材と、 このシート材上に点滴された試料の溶媒を乾燥させる乾
燥器と、 この乾燥されたシート材の蛍光Ｘ線分析装置とを具える
ことを特徴とするクロメート処理液組成の分析装置を提
供するものである。
以下に本発明を更に詳細に説明する。
最近、Znめっき、Snめっき、Zn−Niめっき、Zn−Feめっ
きなど各種めっき液および各種化成処理液中の各成分の
濃度を定量するために点滴蛍光Ｘ線分析法（特願昭58−
30742号）が開発されている。本発明はこの点滴蛍光Ｘ
線分析法を応用改良し、Crの形態別分析を可能にしたも
のである。点滴蛍光Ｘ線分析法とは、溶液試料の一定量
を薄い多孔質シート剤（例えばろ紙）に点滴して含浸さ
せて、そのシート材を乾燥することにより溶媒を除去し
たのち、前記シート材を真空中に配置して蛍光Ｘ線分析
するもので、前述のような各種めっき液や各種化成処理
液中のZn、Sn、Ni,Fe、Cr、Ｓ、Cl、Naなどの各組成成
分の分析に使用されている。この装置で、Crの形態別分
析ができれば、前述の問題点は解消でき、しかもCr3+、
Cr6+イオン濃度測定だけのための吸光光度法分析装置を
購入する必要がなくなるので、その付加価値は一層高ま
ることになる。
きなど各種めっき液および各種化成処理液中の各成分の
濃度を定量するために点滴蛍光Ｘ線分析法（特願昭58−
30742号）が開発されている。本発明はこの点滴蛍光Ｘ
線分析法を応用改良し、Crの形態別分析を可能にしたも
のである。点滴蛍光Ｘ線分析法とは、溶液試料の一定量
を薄い多孔質シート剤（例えばろ紙）に点滴して含浸さ
せて、そのシート材を乾燥することにより溶媒を除去し
たのち、前記シート材を真空中に配置して蛍光Ｘ線分析
するもので、前述のような各種めっき液や各種化成処理
液中のZn、Sn、Ni,Fe、Cr、Ｓ、Cl、Naなどの各組成成
分の分析に使用されている。この装置で、Crの形態別分
析ができれば、前述の問題点は解消でき、しかもCr3+、
Cr6+イオン濃度測定だけのための吸光光度法分析装置を
購入する必要がなくなるので、その付加価値は一層高ま
ることになる。
しかし、蛍光Ｘ線分析法は、その原理上、Crを形態別に
分析することができず、Cr3+、Cr6+両イオン濃度の合量
すなわち全Cr濃度が定量されてしまうという問題点があ
った。
分析することができず、Cr3+、Cr6+両イオン濃度の合量
すなわち全Cr濃度が定量されてしまうという問題点があ
った。
したがって、Cr3+イオンとCr6+イオンを分別定量するた
めには、何らかの方法で両イオンを完全に分離して、そ
の一方のみを点滴して分析する必要がある。そこで、そ
の分離のための化学的前処理法を種々検討した。
めには、何らかの方法で両イオンを完全に分離して、そ
の一方のみを点滴して分析する必要がある。そこで、そ
の分離のための化学的前処理法を種々検討した。
その結果、クロメータ処理液中のCr6+イオンがCrO4 2-イ
オンとして溶液中に存在するようにpHを調整し、それに
Ba2+イオンを加えれば、Cr6+イオンはBaCrO4となって沈
澱するので、Cr3+イオンだけが溶液中に残るという化学
反応を利用した分離方法を利用すれば、上述した点滴蛍
光Ｘ線分析法によりCrの形態別分析が行えることを見い
出した。
オンとして溶液中に存在するようにpHを調整し、それに
Ba2+イオンを加えれば、Cr6+イオンはBaCrO4となって沈
澱するので、Cr3+イオンだけが溶液中に残るという化学
反応を利用した分離方法を利用すれば、上述した点滴蛍
光Ｘ線分析法によりCrの形態別分析が行えることを見い
出した。
ここで大切な事は、使用する試薬の種類と量を化学反応
に見合って適切に調整しなければならないことである。
また、めっき元素は金属単味あるいは合金でもよく、そ
の種類は問わない。
に見合って適切に調整しなければならないことである。
また、めっき元素は金属単味あるいは合金でもよく、そ
の種類は問わない。
クロメータ処理液中のCr6+イオンをCrO4 2-イオンとし
て、溶液中に存在させるには、pHを６付近以上に調整し
なければならず、そのための緩衝液としては、pH調整が
容易でしかも蛍光Ｘ線分析時に妨害する元素を含まない
酢酸アンモニウムあるいは、酢酸ナトリウム、クエン
酸、リン酸、ホウ酸溶液などが良い。
て、溶液中に存在させるには、pHを６付近以上に調整し
なければならず、そのための緩衝液としては、pH調整が
容易でしかも蛍光Ｘ線分析時に妨害する元素を含まない
酢酸アンモニウムあるいは、酢酸ナトリウム、クエン
酸、リン酸、ホウ酸溶液などが良い。
しかしこのpHでは、クロメート処理液中にめっき鋼板か
ら溶出しためっき元素（Zn2+、Fe3+イオンなど）のほと
んどが水酸化物となって沈澱するので、めっき元素の分
析は不可能であり、またこの沈澱物にCr3+イオンが吸着
されたり、Cr3+イオンがCr（OH）３となって沈澱するの
で、Cr3+イオンとCr6+イオンの完全分離はできない。
ら溶出しためっき元素（Zn2+、Fe3+イオンなど）のほと
んどが水酸化物となって沈澱するので、めっき元素の分
析は不可能であり、またこの沈澱物にCr3+イオンが吸着
されたり、Cr3+イオンがCr（OH）３となって沈澱するの
で、Cr3+イオンとCr6+イオンの完全分離はできない。
そこでめっき元素およびCr3+イオンを沈澱させることな
く、すべて溶液中に存在させるために、それらのイオン
のキレートを生成させる方法を考えた。種々検討の結
果、エチレンジアミン四酢酸（以下EDTAと略記する）が
めっき元素とのキレート反応が速く、しかもCr3+イオン
とはキレートを生成するが、Cr6+イオンとはキレートを
生成しないという長所のあることを見い出した。
く、すべて溶液中に存在させるために、それらのイオン
のキレートを生成させる方法を考えた。種々検討の結
果、エチレンジアミン四酢酸（以下EDTAと略記する）が
めっき元素とのキレート反応が速く、しかもCr3+イオン
とはキレートを生成するが、Cr6+イオンとはキレートを
生成しないという長所のあることを見い出した。
また、CrO4 2-イオンが存在する溶液にBa2+イオンを加え
てBaCrO4の沈澱を生成させるための試薬としては、塩化
バリウム、炭酸バリウム、水酸化バリウム、硝酸バリウ
ムなどがある。
てBaCrO4の沈澱を生成させるための試薬としては、塩化
バリウム、炭酸バリウム、水酸化バリウム、硝酸バリウ
ムなどがある。
さらに、使用する試薬の量はクロメート処理液のサンプ
リング量、めっき元素、Cr3+イオンおよびCr6+イオンの
分析濃度範囲が決まれば、各試薬とも一定量の添加で十
分な化学反応が進行することがわかった。このことは、
操作が簡単で、自動化が容易になるという大きな特長に
なる。
リング量、めっき元素、Cr3+イオンおよびCr6+イオンの
分析濃度範囲が決まれば、各試薬とも一定量の添加で十
分な化学反応が進行することがわかった。このことは、
操作が簡単で、自動化が容易になるという大きな特長に
なる。
以上詳述した化学的前処理によって、溶液中にめっき元
素とCr3+イオンを残存させ、Cr6+イオンのみを沈澱させ
ることができ、その溶液の一定量を薄い多孔質のシート
に点滴して含浸させ、乾燥後蛍光Ｘ線分析することによ
って、めっき元素とCr3+イオンならびに他の組成元素の
濃度が定量できる。
素とCr3+イオンを残存させ、Cr6+イオンのみを沈澱させ
ることができ、その溶液の一定量を薄い多孔質のシート
に点滴して含浸させ、乾燥後蛍光Ｘ線分析することによ
って、めっき元素とCr3+イオンならびに他の組成元素の
濃度が定量できる。
そして、この前処理とは別に並行してこの前処理をしな
い、すなわちクロメート処理液の一定量を直接点滴して
蛍光Ｘ線分析する通常の方法で、全Cr濃度を分析してい
るので、この分析値から上述のCr3+イオン濃度を差し引
くとCr6+イオン濃度を求めることができる。
い、すなわちクロメート処理液の一定量を直接点滴して
蛍光Ｘ線分析する通常の方法で、全Cr濃度を分析してい
るので、この分析値から上述のCr3+イオン濃度を差し引
くとCr6+イオン濃度を求めることができる。
めっき元素などクロメート処理液中の他の組成元素の分
析については、前処理した溶液あるいは前処理しない溶
液いずれの試料からでも分析が可能である。
析については、前処理した溶液あるいは前処理しない溶
液いずれの試料からでも分析が可能である。
次に、本発明のクロメート処理液組成の分析装置につい
て第１図の構成図をもとに説明する。
て第１図の構成図をもとに説明する。
第１図は本発明の好適実施例を示し、この図を参照し
て、鋼板上にZnめっきを施したZnめっき鋼板にクロメー
ト処理するクロメート液の分析に本発明方法を適用した
例につき説明する。
て、鋼板上にZnめっきを施したZnめっき鋼板にクロメー
ト処理するクロメート液の分析に本発明方法を適用した
例につき説明する。
この図において、Znめっき槽１でめっきされたZnめっき
鋼板２は矢印Ａ方向に搬送されてクロメート処理槽３で
クロメート処理されている。
鋼板２は矢印Ａ方向に搬送されてクロメート処理槽３で
クロメート処理されている。
このクロメート処理槽３からクロメート処理液を試料採
取カップ４に注入し、その一定量を点滴器５に注入し
て、シート材供給器６からシート材保持器７上に１枚ず
つ供給されるろ紙のような多孔質のシート材に滴下させ
る。そのシート材を乾燥器８に送り込んで乾燥する。こ
こで溶媒が蒸発して除去され、溶液中に含まれる各種組
成元素のような溶質のみが上記シート材上に付着した状
態で残留する。
取カップ４に注入し、その一定量を点滴器５に注入し
て、シート材供給器６からシート材保持器７上に１枚ず
つ供給されるろ紙のような多孔質のシート材に滴下させ
る。そのシート材を乾燥器８に送り込んで乾燥する。こ
こで溶媒が蒸発して除去され、溶液中に含まれる各種組
成元素のような溶質のみが上記シート材上に付着した状
態で残留する。
このシート材が蛍光Ｘ線分析装置９に送り込まれ、真空
中に設置されて一次Ｘ線で照射され、該シート材に付着
した前記溶質の蛍光Ｘ線が検出され、クロメート処理液
中に含有されている軽元素を含む各成分の濃度が分析さ
れる。このとき、Crはその形態に関係なく、全Cr濃度が
分析される。
中に設置されて一次Ｘ線で照射され、該シート材に付着
した前記溶質の蛍光Ｘ線が検出され、クロメート処理液
中に含有されている軽元素を含む各成分の濃度が分析さ
れる。このとき、Crはその形態に関係なく、全Cr濃度が
分析される。
一方、クロメート処理液の一定量が反応槽10に採取さ
れ、この槽10にタンク11い貯蔵されている、例えば酢酸
アンモニウムのような緩衝液を注入してpHを６〜７に調
整する。
れ、この槽10にタンク11い貯蔵されている、例えば酢酸
アンモニウムのような緩衝液を注入してpHを６〜７に調
整する。
次にタンク12に貯蔵されているキレート剤を反応槽10に
注入して、Zn2+イオンおよびCr3+イオンとのキレートを
生成させる。
注入して、Zn2+イオンおよびCr3+イオンとのキレートを
生成させる。
その後、タンク13に貯蔵されているCr6+イオンの例えば
塩化バリウムのような沈澱剤を注入して撹拌し、Cr6+イ
オンを沈澱させる。
塩化バリウムのような沈澱剤を注入して撹拌し、Cr6+イ
オンを沈澱させる。
以上のようにCr6+イオンを沈澱せしめた溶液試料を分離
器14により沈澱物と溶液とを完全に分離し、その溶液の
一定量を前と同じようにろ紙のような多孔質シート材に
滴下し、乾燥後、蛍光Ｘ線分析装置９でZn2+イオンとCr
3+イオンの濃度を分析する。
器14により沈澱物と溶液とを完全に分離し、その溶液の
一定量を前と同じようにろ紙のような多孔質シート材に
滴下し、乾燥後、蛍光Ｘ線分析装置９でZn2+イオンとCr
3+イオンの濃度を分析する。
このようにして、先に得られた全Cr濃度から、Cr3+イオ
ン濃度をさしひいて、Cr6+イオン濃度が定量され、Crの
形態分析を行なう。
ン濃度をさしひいて、Cr6+イオン濃度が定量され、Crの
形態分析を行なう。
分離器14に沈澱したBaCrO4の沈澱は、測定終了後タンク
16より導かれた洗浄液（例えばHCl）で沈澱を溶解洗浄
後、タンク17より導かれたH2Oで洗浄され、連続使用が
可能になる。
16より導かれた洗浄液（例えばHCl）で沈澱を溶解洗浄
後、タンク17より導かれたH2Oで洗浄され、連続使用が
可能になる。
また、上述したCr6+、Cr3+およびめっき金属であるZn2+
以外のクロメート処理液中の組成元素はクロメート処理
液そのままあるいはCr6+を沈澱せしめるなどの前処理を
施したクロメート処理液の点滴蛍光Ｘ線分析のいずれか
らも求めることができる。
以外のクロメート処理液中の組成元素はクロメート処理
液そのままあるいはCr6+を沈澱せしめるなどの前処理を
施したクロメート処理液の点滴蛍光Ｘ線分析のいずれか
らも求めることができる。
なおオンラインシステムにおいて、例えば上述の蛍光Ｘ
線分析の結果によりクロメート処理液等の濃度を自動調
整しようとする場合には、クロメート処理槽３の溶液濃
度を自動制御する装置15を設けて、この装置15に分析装
置９の出力信号を加えることにより、分析結果に応じて
例えば薬剤等を添加し、クロメート処理液の組成を自動
的に管理することによりこれをクロメート処理槽３に供
給する。
線分析の結果によりクロメート処理液等の濃度を自動調
整しようとする場合には、クロメート処理槽３の溶液濃
度を自動制御する装置15を設けて、この装置15に分析装
置９の出力信号を加えることにより、分析結果に応じて
例えば薬剤等を添加し、クロメート処理液の組成を自動
的に管理することによりこれをクロメート処理槽３に供
給する。
＜実施例＞ 本実施例は、鋼板上にZnめっきを施したZnめっき鋼板に
クロメート処理するクロメート処理液の分析に本発明を
適用したものであるが、本発明はこれに限定されること
はない。
クロメート処理するクロメート処理液の分析に本発明を
適用したものであるが、本発明はこれに限定されること
はない。
タンク11から5M酢酸アンモニウム25mlを反応槽10に注入
し、次にタンク12から0.1MEDTAを15mlを反応槽10に注入
した。さらにクロメート処理槽３からクロメート処理液
5mlを反応槽10に注入したあと、タンク13から0.58M Bac
l2 15mlを反応槽10に注入して撹拌し、Cr6+イオンを沈
澱させた。以上のように沈澱が生成した溶液試料を分離
器14に注入し、沈澱物と溶液とを完全に分離し、その溶
液の一定量をシート材供給器６から供給された保持器７
上のろ紙のような多孔質シート材に点滴器５により滴下
し、乾燥器８により乾燥後、蛍光Ｘ線分析装置９でCr3+
イオンの濃度を分析した。
し、次にタンク12から0.1MEDTAを15mlを反応槽10に注入
した。さらにクロメート処理槽３からクロメート処理液
5mlを反応槽10に注入したあと、タンク13から0.58M Bac
l2 15mlを反応槽10に注入して撹拌し、Cr6+イオンを沈
澱させた。以上のように沈澱が生成した溶液試料を分離
器14に注入し、沈澱物と溶液とを完全に分離し、その溶
液の一定量をシート材供給器６から供給された保持器７
上のろ紙のような多孔質シート材に点滴器５により滴下
し、乾燥器８により乾燥後、蛍光Ｘ線分析装置９でCr3+
イオンの濃度を分析した。
第２図及び第３図は、前記方法によって求めたZn2+イオ
ンと、Cr3+イオンの検量線の一例である。このように両
者とも良好な直線性を示した。
ンと、Cr3+イオンの検量線の一例である。このように両
者とも良好な直線性を示した。
この検量線を用いて、実際のクロメート処理液を、同様
に前記方法により分析した結果（ｎ＝30）を第４図、第
５図に示す。
に前記方法により分析した結果（ｎ＝30）を第４図、第
５図に示す。
第４図は、Zn2+イオンの分析結果、第５図はCr3+イオン
の分析結果で、いずれも横軸は化学分析値、縦軸は本法
による分析値で、正確さ（σｄ）はそれぞれ0.12、0.02
4である。
の分析結果で、いずれも横軸は化学分析値、縦軸は本法
による分析値で、正確さ（σｄ）はそれぞれ0.12、0.02
4である。
このように、本発明方法と化学分析方法との間に分析値
の差がなく、精度よく分析できることがわかる。
の差がなく、精度よく分析できることがわかる。
＜発明の効果＞ 以上詳述したように本発明はめっき液や化成処理液の分
析に用いられる点滴蛍光Ｘ線分析装置に簡単な化学的前
処理装置を追加することにより、高価な専用分積装置を
購入することなくCrの形態別定量が精度よく実施できる
ものである。
析に用いられる点滴蛍光Ｘ線分析装置に簡単な化学的前
処理装置を追加することにより、高価な専用分積装置を
購入することなくCrの形態別定量が精度よく実施できる
ものである。
また本法では、溶液試料の全成分の分析がオンラインで
自動的に迅速にできるのでクロメート処理液の組成の自
動管理が極めて容易であり、経済的に工程管理が実施で
き、品質の安定した生産ができるのでその効果は非常に
大きい。
自動的に迅速にできるのでクロメート処理液の組成の自
動管理が極めて容易であり、経済的に工程管理が実施で
き、品質の安定した生産ができるのでその効果は非常に
大きい。
さらに分析する試料の量が数十μと極めて微量である
等の優れた作用効果がある。
等の優れた作用効果がある。
第１図は本発明のクロメート処理液組成の分析装置の線
図である。 第２図および第３図はそれぞれ本発明方法によるZn2+イ
オンおよびCr3+イオンの検量線を示す図である。 第４図および第５図はそれぞれ本発明方法によるZn2+イ
オンおよびCr3+イオンの分析結果と手分析（化学分析
法）による同分析結果との相関関係を示す図である。 符号の説明 １……Znめっき槽、２……Znめっき鋼板、３……クロメ
ート処理槽、４……試料採取カップ、５……点滴器、６
……シート材供給器、７……シート材保持器、８……乾
燥器、９……蛍光Ｘ線分析装置、10……反応槽、11……
緩衝液タンク、12……キレート剤タンク、13……Cr6+沈
澱剤タンク、14……分離器、15……濃度自動制御装置、
16……洗浄液タンク、17……水タンク
図である。 第２図および第３図はそれぞれ本発明方法によるZn2+イ
オンおよびCr3+イオンの検量線を示す図である。 第４図および第５図はそれぞれ本発明方法によるZn2+イ
オンおよびCr3+イオンの分析結果と手分析（化学分析
法）による同分析結果との相関関係を示す図である。 符号の説明 １……Znめっき槽、２……Znめっき鋼板、３……クロメ
ート処理槽、４……試料採取カップ、５……点滴器、６
……シート材供給器、７……シート材保持器、８……乾
燥器、９……蛍光Ｘ線分析装置、10……反応槽、11……
緩衝液タンク、12……キレート剤タンク、13……Cr6+沈
澱剤タンク、14……分離器、15……濃度自動制御装置、
16……洗浄液タンク、17……水タンク
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 今村 太久次 千葉県千葉市川崎町１番地 川崎製鉄株式 会社技術研究本部内 (72)発明者 針間矢 宣一 千葉県千葉市川崎町１番地 川崎製鉄株式 会社第３別館内 (56)参考文献 特開 昭52−26286（ＪＰ，Ａ)
Claims (2)
- 【請求項１】クロメート処理液中の少なくともCr3+イオ
ンおよびCr6+イオン濃度を蛍光Ｘ線分析法により分析す
るにあたり、 （ａ）クロメート処理液のpHを６〜７に調整し、かつエ
チレンジアミン四酢酸およびBa2+イオンを添加する化学
的前処理によりクロメート処理液中のCr3+イオンおよび
めっき元素は沈澱させず、Cr6+イオンを沈澱分離させ、
沈澱を分離した残液中の組成を分析して少なくともCr3+
イオン濃度を求め、 （ｂ）クロメート処理液原液を分析して少なくとも全Cr
濃度を求め、 （ｃ）（ｂ）で求めた全Cr濃度から（ａ）で求めたCr3+
イオン濃度を差し引いてCr6+イオン濃度を求める ことを特徴とするクロメート処理液組成の分析方法。 - 【請求項２】クロメート処理液のpHを６〜７に調整し、
かつエチレンジアミン四酢酸およびBa2+イオンを添加す
ることにより、Cr6+イオンを沈澱させ、Cr3+イオンおよ
びめっき元素をキレート化させる化学的前処理を施す反
応槽と、 この前処理を施されたクロメート処理液からCr6+イオン
に基づく沈澱物を分離する分離器と、 この分離器によりCr6+イオンに基づく沈澱物を分離され
た、前処理クロメート処理液およびクロメート処理液原
液の試料を別個に注入する点滴器と、 この点滴器により前記試料を点滴されるシート材と、 このシート材上に点滴された試料の溶媒を乾燥させる乾
燥器と、 この乾燥されたシート材の蛍光Ｘ線分析装置とを具える
ことを特徴とするクロメート処理液組成の分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60153261A JPH0676977B2 (ja) | 1985-07-11 | 1985-07-11 | クロメ−ト処理液組成の分析方法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60153261A JPH0676977B2 (ja) | 1985-07-11 | 1985-07-11 | クロメ−ト処理液組成の分析方法およびその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6214045A JPS6214045A (ja) | 1987-01-22 |
| JPH0676977B2 true JPH0676977B2 (ja) | 1994-09-28 |
Family
ID=15558587
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60153261A Expired - Lifetime JPH0676977B2 (ja) | 1985-07-11 | 1985-07-11 | クロメ−ト処理液組成の分析方法およびその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0676977B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006119108A (ja) * | 2004-09-24 | 2006-05-11 | Fujitsu Ltd | 分析装置及び検査方法 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4736440B2 (ja) * | 2005-01-25 | 2011-07-27 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 金属帯の表面処理皮膜付着量の測定装置及び測定方法 |
| JP2006313132A (ja) * | 2005-05-09 | 2006-11-16 | Fujitsu Ltd | 試料分析方法およびｘ線分析装置 |
| JP4908119B2 (ja) * | 2005-10-19 | 2012-04-04 | 株式会社リガク | 蛍光ｘ線分析装置 |
| CN115613018A (zh) * | 2022-09-26 | 2023-01-17 | 深圳惠科新材料有限公司 | 铜箔防氧化处理系统及处理方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5226286A (en) * | 1975-08-22 | 1977-02-26 | Sumitomo Chem Co Ltd | Method and apparatus for automatic measurement of ion concentration in water |
-
1985
- 1985-07-11 JP JP60153261A patent/JPH0676977B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006119108A (ja) * | 2004-09-24 | 2006-05-11 | Fujitsu Ltd | 分析装置及び検査方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6214045A (ja) | 1987-01-22 |
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