JP3731207B2 - X線分析装置 - Google Patents
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Description
電荷転送のパルス信号は周波数「f」で、転送電荷はCCDセンサとは逆方向に移動しているとする。
CCDセンサの1つの画素幅を「d」とする。
このとき、
v=f×d
の関係を満足するように、CCDセンサの移動速度と電荷転送処理とを同期させる。
図1に示した実施形態のようにTDI動作を行う2次元CCDセンサ27を用いたX線分析装置16では、図2に示すような回折プロファイルF及び2次元回折像Kを求めることができる。しかしながら、図1において試料Sから非常に強度の高い回折X線が発生すると、この回折線を受光したCCDセンサ27内の画素がエネルギ的に飽和する可能性がある。こうなると、強度の高い回折線データを正確な値で検出することができなくなる。この場合、CCDセンサ27の移動速度を速くして回折線の全体的な測定レベルを下げれば、画素の飽和を防ぐことができる。しかしながら、そのときには、回折線の強度が低いところで検出感度が悪くなるおそれがある。
以上、好ましい実施形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。
7.蓄積部,垂直シフトレジスタ、 8.水平シフトレジスタ、 9.出力部、
11.転送ゲート、 16.X線回折装置、 17.ゴニオメータ、
18.X線焦点(X線源)、 19.X線発生装置、 21.発散規制スリット、
22.θ回転駆動装置、 23.2θ回転駆動装置(検出器移動手段)、
24.θ回転系、 26.2θ回転系、
27.2次元CCDセンサ(半導体X線検出手段)、 31.制御装置、
K.2次元回折像、 F.回折プロファイル
Claims (7)
- X線源から放射されたX線を試料に照射すると共に該試料で回折したX線を半導体X線検出手段によって検出するX線分析装置において、
前記半導体X線検出手段を前記試料を中心として前記X線の読み取りのために移動させる検出器移動手段と、
前記半導体X線検出手段が前記半導体X線検出手段の構成要素である画素の1つの幅に相当する距離を移動する毎に、同期させて前記半導体X線検出手段における電荷転送信号を発生させる電荷転送信号発生手段と
を有することを特徴とするX線分析装置。 - 請求項1において、前記半導体X線検出手段は、複数のポテンシャルウエルに集められた信号電荷を半導体中で転送するデバイスであるCCD(Charge Coupled Device)を有し、前記複数のポテンシャルウエルはX線の受光面に2次元的に配置されてそれぞれが画素を構成することを特徴とするX線分析装置。
- 請求項2において、前記半導体X線検出手段は、
X線の受光面に2次元的に配置された複数の画素から成るパラレルシフトレジスタと、
該パラレルシフトレジスタの1ライン画素列の電荷が転送されるシリアルレジスタと
を有することを特徴とするX線分析装置。 - 請求項1から請求項3のいずれか1つにおいて、
前記試料へ入射するX線の入射角度を変化させるために前記X線源又は前記試料を回転させるθ回転手段と、
前記試料で回折したX線を検出するために前記半導体X線検出手段を前記試料を中心として回転させる2θ回転手段とを有し、
前記電荷転送信号発生手段は、前記2θ回転手段が前記半導体X線検出手段を前記半導体X線検出手段の構成要素である画素の1つの幅に相当する距離移動させる毎に、同期させて前記半導体X線検出手段における電荷転送信号を発生させる
ことを特徴とするX線分析装置。 - 請求項1から請求項4のいずれか1つにおいて、前記半導体X線検出手段の出力信号に基づいて帯状の2次元回折像データを演算する演算手段を有することを特徴とするX線分析装置。
- 請求項5において、前記半導体X線検出手段の出力信号に基づいて回折プロファイルデータを演算する演算手段を有することを特徴とするX線分析装置。
- 請求項6において、前記2次元回折像と前記回折プロファイルとを表示面上に同時に表示する表示手段を有することを特徴とするX線分析装置。
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